【課題】本発明は収差補正装置（１００）を提供する。
【解決手段】この収差補正装置はウイーンフィルタエレメント（１１０）と、ウイーンフィルタエレメント（１１０）の集束特性を補償するための４極子（３１０）と、球面収差補正のための少なくとも１つの多極子（４１０）とを含む。ウイーンフィルタエレメント（１１０）及び前記４極子（３１０）は組み合わされて非点隔差の画像を生成するようになっている。更に、少なくとも１つの多極子（４１０）はその非点隔差の画像の緯線方向若しくは経線方向の収差の平面内において、実質的に作用する。これにより球面収差が修正されうるのと同様に、色収差が低減される。

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本発明は、荷電粒子ビーム装置に関する。本装置は、荷電粒子を放出するためのエミッタ（１２）と、放出された荷電粒子を少なくとも２つの独立した荷電粒子ビームに分離するための少なくとも２つのアパーチャ（３６）を有するアパーチャ構成（２６；８６）と、少なくとも２つの独立した荷電粒子ビームを合焦するための対物レンズ（１８）とを備え、独立した荷電粒子ビームが焦点面内の同じ位置上に合焦される。 （もっと読む）

本発明は、荷電粒子ビーム（７）を所定のランディング角度（４２；４２′；４２）で試料上に集束させる集束レンズ（１００）に関し、この集束レンズは、荷電粒子ビーム（７）を試料（３）上に集束させる集束電場（１１０）を発生させる第１のアパーチュア（１０６）を備えた少なくとも１つの第１の電極（２６，１０５，１０５ａ）と、試料（３）により引き起こされる集束電場（１１０）のランディング角度依存性ディストーションを補償する湾曲面（１１５）を備えた修正電極とを有する。修正電極の湾曲面（１１５）により、垂直ランディング角度とは異なるランディング角度での荷電粒子ビームの集束具合を向上させることが可能である。 （もっと読む）

荷電粒子ビームを発生させる荷電粒子源と、前記荷電粒子ビームのビーム経路中に配置された多孔プレートとを備えた粒子光学装置である。前記多孔プレートは、所定の第１のアレイパターン状に形成された複数の開孔を有し、前記多孔プレートの下流側で前記荷電粒子ビームから複数の荷電粒子小ビームが形成され、前記複数の小ビームにより、第２のアレイパターン状に配置された複数のビームスポットが前記粒子光学装置の像平面に形成される。前記粒子光学装置は、前記荷電粒子ビーム及び／又は前記複数の小ビームを操作するための粒子光学素子をさらに備える。前記第１のアレイパターンは、第１の方向に第１のパターン規則性を有し、前記第２のアレイパターンは、前記第１の方向に電子光学的に対応する第２の方向に第２のパターン規則性を有する。前記第２のパターン規則性は、前記第１のパターン規則性よりも高い。 （もっと読む）

本発明は、例えば、光軸に沿ったｚ軸ならびに第１および第２の面を伴う荷電粒子ビーム用の荷電粒子ビームエネルギー幅低減系に関するものである。この系は、集束的かつ分散的に作用する第１および第２の要素１１０，１１２と、第１の４極子要素（動作時、この場と集束的かつ分散的に作用する第１の要素の場が重なるように位置決めされる）４１０と、第２の４極子要素（動作時、この場と集束的かつ分散的に作用する第２の要素の場が重なるように位置決めされる）４１２と、ビーム方向に、集束的かつ分散的に作用する第１の要素の前で位置決めされた第１の荷電粒子選択要素６１８と、ビーム方向に、集束的かつ分散的に作用する第１の要素の後で位置決めされた第２の荷電粒子選択要素６１６、７１６とを備える。それによって、本来の分散制限なしに、仮想分散源とみなせる場所を実現することができる。 （もっと読む）

本発明は、荷電粒子ビームエネルギー幅低減系を提供する。この系は、ｘ−ｚ面内で集束的かつ分散的に作用する第１の要素（１１０）と、ｘ−ｚ面面内で集束的かつ分散的に作用する第２の要素（１１２）と、集束的かつ分散的に作用する第１の要素と第２の要素の間に位置決めされた荷電粒子選択要素（１１６、１１６ａ、１１６ｂ）と、集束的かつ分散的に作用する第１の要素と第２の要素の間に位置決めされた集束要素（１１４、３１４、７１２、７１４）とを備える。 （もっと読む）