【課題】ＳＥＭにおいて、同心円状パターンの異常、欠損等を自動で検出することができる。
【解決手段】同心円状のパターンを有する試料のＳＥＭ画像を撮像する画像撮像部と、前記画像からドット状パターンの重心点または線状パターンの中心線を求め、求めた重心点または中心線から所定の値を算出し、該所定の値と理論値との差分値を求め、該差分値と所定の閾値とを比較する位置測定部と、前記比較結果を表示装置に出力する出力部とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子ビーム装置の分解能を高める。
【解決手段】荷電粒子ビームを光軸に沿って放出するエミッタ組立体が提供される。ガンチャンバ（２０）内に収納されたエミッタ組立体は、エミッタ先端部（１５）を備えたエミッタ（５）を含み、エミッタ先端部は、光軸に垂直な第１の平面のところに位置決めされ、エミッタは、第１の電位まで付勢されるよう構成され、エミッタ組立体は、開口部を備えたエクストラクタ（１１２）を更に有し、開口部は、光軸に垂直な第２の平面のところに位置決めされ、エクストラクタは、第２の電位まで付勢されるよう構成され、第２の平面は、第１の平面から２．２５ｍｍ以上の第１の距離を有する。 （もっと読む）

【課題】所定パターンが繰り返し配列された試料の検査に適用される検査装置において、電子線のドリフト等の理由により、電子線を照射すべき位置と実際に照射された位置とに誤差が生じる。前記検査装置においてはこの誤差を小さくする必要がある。本発明の目的は、電子線の走査位置をリアルタイムに正確に制御することができる検査装置を提供することにある。
【解決手段】所定パターンが所定周期で配列された試料の検査に適用される検査装置において、検出信号から得られるパターンの位置と、既知の前記パターンの位置を含む前記パターンの位置情報とから、一次電子線が照射された位置と当該照射の目標位置とのずれ量を求めることを特徴とする。さらに、前記ずれ量を用いて前記一次電子線の照射位置の補正値を出力することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】走査用偏向器を有するイオンビームシステムにおいて、イオンビームの高エネルギー動作モード及び低エネルギー動作モードの両方において、高偏向周波数（高速）で、かつ偏向電圧のダイナミックレンジを広くすることなく高精度に偏向できるようにする。
【解決手段】偏向器３９をイオンビーム１９の光軸５の方向に隙間を設けて配設された第１偏向電極５１ａ、５１ｂ、５１ｃ及びこれに対向する第２偏向電極５２ａ、５２ｂ、５２ｃからなる３つの偏向電極対によって構成し、コントローラ７からスイッチ６１を介して各偏向電極に異なる電位を印加できるようにする。第１動作モード（例えば、３０ｋｅＶのイオンビームエネルギー）においては、矢印５５で示すように全部の偏向電極対に偏向電場を発生させる。第２動作モード（例えば、１ｋｅＶのイオンビームエネルギー）においては、偏向電極対５１ａ、５２ａのみに偏向電場を発生させる。 （もっと読む）

【課題】本発明はＸ線分析方法及び装置に関し、ステージ走査でも良好なドリフト補正を行うことができるＸ線分析方法及び装置を提供する。
【解決手段】試料上の面分析領域の内部を複数のブロックに分けて、ブロック内での各ラインのステージ走査に基づく特性Ｘ線の測定が第１ブロックから各ブロック毎に順次行うようにされており、各ブロックにおいて最初に走査が行われるラインについてのステージ走査の開始前に、試料の電子線走査画像を取得し、第２ブロック以降における特性Ｘ線の測定開始時においては、当該ブロックにおいて取得された電子線走査画像と、その直前のブロックにおいて取得された電子線走査画像との照合を行って、ステージのドリフト量を求め、該ドリフト量に基づいて電子線のビームシフトを行うことにより、試料上での電子線の照射位置を補正してから当該ブロック内での特性Ｘ線測定を開始するように構成する。 （もっと読む）

【課題】本発明が解決しようとする課題は、特別な検出手段を要せず顕微鏡観察しながらマニピュレータを操作するだけで微小な試料へプローブが確実に且つソフトに接触するようにアプローチ出来る手法を提示すると共に、それを実行する装置を提供することにある。
【解決手段】プローブ１をチルトさせてその先端部を試料５の目標位置に接近させながら、プローブ１先端部と前記目標位置の距離を荷電粒子ビーム顕微鏡で観察しつつ、観察画面上で前記目標位置にてプローブ１とプローブ１の影との先端部が一致する方向へ、プローブ１を移動させる。 （もっと読む）

【課題】気体電界イオン源を用いたイオン顕微鏡に於いて、試料表面でスポットサイズ１０ｎｍ以下のイオンビームを実現する。
【解決手段】イオン源の導電性電極先端１８６の材料と形状を最適化して表面に三量体の原子層を形成し、極低温状体で動作させることにより気体ヘリウムとのイオン化効率を向上する。又、電極先端の移動機構２０８や絞り開口径２２４の選択によりビーム径と電流量を制御し、試料１８０上で１０ｎｍ以下のスポットを実現する。 （もっと読む）

【課題】試料表面に異物が付着することを極力防止することができる電子線検査装置を提供する。
【解決手段】試料２００を配置したステージ１００が真空排気可能な真空チャンバ１１２の内部に設置されており、該試料２００の周囲を包囲する位置に集塵電極１２２が配置されている。集塵電極１２２には、試料２００に印加される電圧と同じ極性で絶対値が等しいかそれ以上の電圧が印加される。これにより、集塵電極１２２にパーティクル等の異物が付着するので、試料表面への異物付着を低減することができる。集塵電極を用いる代わりに、ステージを包含する真空チャンバの壁面に凹みを形成するか、又は、所定の電圧が印加されるメッシュ構造の金属製平板を壁面に敷設してもよい。また、中央に貫通孔１２４ａを有する隙間制御板１２４を試料２００及び集塵電極１２２の上方に間隙制御板１２４を配置することにより、異物付着をより低減することができる。 （もっと読む）

【課題】帯電粒子ビームの角状変位を判断し、高い側壁角度均一性の側壁を含むテストオブジェクトの複数の測定値に基づく帯電粒子ビームシステムを較正する為のシステムおよび方法を提供する。
【解決手段】帯電粒子ビームの経路は、複数のビーム制御パラメータにより制御される。方法は、角状変位を実質的に減少させるパラメータを判断し、これらを適用して帯電粒子ビームシステムを較正する。 （もっと読む）

【課題】試料の表面に生じている電荷分布をミクロンオーダーの高分解能で測定することを可能とする。
【解決手段】試料２３の表面電荷分布の測定方法。試料２３をスポット状に帯電する帯電工程と、電位鞍点の電位の実測値を求める工程と、構造体モデルとそれに対応する仮の空間電荷分布とを選択する工程と、構造体モデルと仮の空間電荷分布から電位鞍点の空間電位ポテンシャルを算出する工程と、空間電位ポテンシャルと実測値とを比較し、誤差が所定の範囲内であるとき仮の空間電荷分布を試料２３の空間電荷分布であると判定する工程と、判定された空間電位分布に基づき電磁場解析により試料２３の表面電荷分布を算出する工程と、を備える。 （もっと読む）