【課題】有機溶媒を含む現像液を用いた場合においてミッシングコンタクトホールの発生が抑制され、リソグラフィー特性に優れる感放射線性樹脂組成物の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、有機溶媒が８０質量％以上の現像液を用いるネガ型レジストパターン形成方法用の感放射線性樹脂組成物であって、［Ａ］酸解離性基を有するベース重合体、［Ｂ］［Ａ］重合体よりフッ素原子含有率が高い重合体、［Ｃ］感放射線性酸発生体、［Ｄ］溶媒、及び［Ｅ］［Ｄ］溶媒の比誘電率よりも１５以上大きい比誘電率を有する化合物を含有し、上記［Ａ］重合体が、下記式（１）で表される構造単位を有し、上記［Ｅ］化合物が、［Ａ］重合体１００質量部に対して、１０質量部以上２００質量部以下含有することを特徴とする。
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【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、液体を介して露光光で基板を露光する。露光装置は、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、射出面１２からの露光光が照射可能な照射位置を含む所定面内を移動可能な第１可動部材と、所定面内を移動可能な第２可動部材と、光学部材と第１可動部材及び第２可動部材の少なくとも一方との間で移動可能な第３可動部材１０と、射出面側に液体を供給する供給口と、射出面側に液体の液浸空間ＬＳが形成され続けるように、射出面と対向する位置に第１可動部材、第２可動部材、及び第３可動部材の少なくとも一つを配置する駆動システム５０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】より検査時間の短いレジストパターンの検査方法を提供する。
【解決手段】本発明にかかるレジストパターンの検査方法は、半導体基板の表面にフォトレジスト１２を形成し、フォトレジスト１２に、半導体素子を形成するためのレジストパターンを形成するのと同時に、半導体素子が形成される領域以外の領域に、レジストパターンの寸法の公差の幅を有するフォトマスクを用いて、凸型レジストパターン１６及び凹型レジストパターン１７をテストレジストパターンとして形成し、テストレジストパターンを検査することにより、レジストパターンの寸法が許容範囲内であるか否か判定する。 （もっと読む）

【課題】露光前に基板の裏面洗浄を行う機能を備えた基板処理システムにおいて、基板処理の歩留まりを向上させる。
【解決手段】露光装置で露光処理を行う前に、露光装置における基板のフォーカスの状態を検査する検査ユニット１００であって、ウェハＷを、露光装置で露光処理される際と同じ条件で裏面から吸着保持するウェハ保持台１４１と、ウェハ保持台１４１に吸着保持されたウェハＷにおける厚み方向の高さを測定する高さ測定機構１５０と、を有している。 （もっと読む）

【課題】変形が生じる部材からの所定方向の応力の静電偏向器の電極支持部などへの伝達を抑制し、複数の荷電粒子ビームの偏向ばらつき等を低減することができる荷電粒子光学系を提供する。
【解決手段】荷電粒子光学系は、熱による変形が生じる可能性がある第１の部材１１２と、第１の部材を通過した荷電粒子ビーム１を偏向する静電偏向器１１３と、を含む。静電偏向器は、第１の部材に固定された固定部７を介して第１の部材と組み立てられ、静電偏向器は、電極支持部５と、電極支持部に支持される第一の電極と２第二の電極３を有する。第一及び第二の電極間には、第１の部材を通過した荷電粒子ビーム１を偏向するための電界を発生させるギャップ１１が形成されている。電極支持部５は、第１の部材１１２からの電界方向の変形応力の固定部７を介する電極支持部５への伝達が低減されるように、固定部７に取り付けられている。 （もっと読む）

【課題】外乱音波による振動の影響を抑えるのに有利なリソグラフィー装置を提供する。
【解決手段】リソグラフィー装置１は、基板６上にパターンを形成するためのパターニング手段５と、パターニング手段５を支持する支持構造体１１とを備える。さらに、このリソグラフィー装置１は、支持構造体１１と、基板６を保持し移動可能とする基板保持部７を載置する定盤１０とに囲まれた第１領域Ｒ１に温度調節された気体を放出する第１吹き出し口１７を、支持構造体１１に対して第１領域Ｒ１の側に含む空調装置１５と、支持構造体１１を基準として第１領域Ｒ１とは反対側に存在する第２領域Ｒ２にて、第１吹き出し口１７から発生する第１音波Ｓ１と同位相である第２音波Ｓ２を発生させる音波発生部２１とを備える。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、基板に所定パターンの薄膜を精細に塗布することができる薄膜塗布装置を提供することにある。
【解決手段】
ｘｙｚ直交座標系を定義したとき、ｚ方向に向けて薄膜材料を吐出する複数のノズルがｙ方向に配列するノズル列を含む複数のノズルヘッドと、前記複数のノズルヘッドを保持するホルダと、を含み、前記ホルダは、前記複数のノズルヘッドを取り付ける際に、前記複数のノズルヘッド各々のｙ方向に対する配置位置を規定することができる位置決め機構を有する。 （もっと読む）

【課題】より少ない作業工数でウエハ面内の半導体装置の特性のばらつきを抑制できる半導体装置の製造方法及び半導体製造装置を提供する。
【解決手段】電子ビームを照射してパターンの露光を行う電子ビーム露光装置を用いた半導体装置の製造方法であって、ウエハ上に前記電子ビーム露光装置によるパターン形成を含む加工を行い（ステップＳ１１〜Ｓ１３）、それによって製造された半導体装置の電気特性を半導体試験装置で測定する（ステップＳ１４）。そして、電気特性の測定結果に基づいて、ウエハ面内での半導体装置の特性のばらつきが減少するように、電子ビーム露光装置に用いる電子ビーム露光データを修正する（ステップＳ１５）。 （もっと読む）

【課題】均一な微細パターン形状の形成を実現できる積層体、及びこの積層体を用いたモールドの製造方法を提供すること。
【解決手段】積層体（１０）は、基材（３）上に設けられた反応防止層（２）と、反応防止層（２）上に設けられた熱反応型レジスト層（１）とを具備し、反応防止層（２）は、ニッケル（Ｎｉ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、亜鉛（Ｚｎ）、スズ（Ｓｎ）及びルテニウム（Ｒｕ）並びにこれらの酸化物及び窒化物並びに炭素（Ｃ）、炭化ホウ素（Ｂ_４Ｃ）、窒化ホウ素炭素（ＢＣＮ）及び窒化炭素（ＣＮ）からなる群より少なくとも１つ以上選ばれる材料で構成され、熱反応型レジスト層（１）は、酸化鉛からなる材料で構成される。 （もっと読む）

【課題】回折格子を用いて計測を行う際に、相対位置を予め定められた相対位置からの絶対位置として容易に計測する。
【解決手段】エンコーダ１０Ｘは、第１部材６に設けられ、格子パターン１２Ｘａ及び基準パターン１３ＸＡが形成された回折格子１２Ｘと、計測光ＭＸ１，ＭＸ２を供給するレーザ光源１６と、第２部材７に設けられ、計測光ＭＸ１，ＭＸ２を格子パターン面１２Ｘｂにθｙ方向（Ｘ方向）に対称な角度で傾斜させて入射させる傾斜ミラー３２Ｘ，３４Ｘと、計測光ＭＸ１，ＭＸ２の回折格子１２Ｘによる回折光ＤＸ２，ＥＸ２を受光する光電センサ４０ＸＡ，４０ＸＢと、を有する。 （もっと読む）