【課題】
露光工程のタクトタイムを短縮することができる露光装置を提供する。
【解決手段】
搬送中に露光される基板Ｐが載置されるステージ１と、前記ステージ１の中間に設けられ、前記基板Ｐを露光する露光手段２と、前記露光手段２より基板１の搬送方向の手前側のステージ１２と奥側のステージ１３との間を往復し、前記手前側のステージ１２上に載置された基板Ｐを前記奥側のステージ１３上に搬送する搬送手段３と、を含んで構成され、前記搬送方向の手前側のステージ１２上には複数枚の基板Ｐが搬送方向と平行な列を成して載置され、前記搬送手段３は、前記手前側のステージ１２上に載置された複数枚の基板Ｐを同時に搬送し、前記露光手段２は、搬送手段３により搬送中の基板Ｐを露光する露光装置である。 （もっと読む）

【課題】基板を収納する端数カセットを減らし、カセットを格納するストッカー規模を縮小し、更に従来行われていたオペレーターによる端数カセットに収納されていた基板の集約混載、及び生産工程へ投入するロットの基板を集約混載されたカセットから選び出し事前準備することを可能とした在庫管理システム及び在庫管理方法を提供する。
【解決手段】予定管理部と、設定管理部と、ライン管理部と、実績管理部と、カセット情報管理部と、に基づいて端数カセットに格納されている基板を集約混載すると判断または集約混載されているカセットから当該工程へ投入予定の基板を事前準備して当該工程へ投入可能なカセットを用意すると判断する判断部と、カセット搬送指示をストッカー設備に通知するストッカー搬送管理部と、カセット搬送指示に従ってカセット内の基板のソート計画を作成するソート計画部と、を備えたことを特徴とする在庫管理システム。 （もっと読む）

【課題】バッチローダーを有する二本アーム基板取扱いロボットを用いた基板の改良した取り出し方法を提供する。
【解決手段】本発明の方法は、第一基板を保管場所から単一のパドルで取り出すステップを含む。一組の基板が保管場所から複数基板用バッチローダーを用いて取り出される。複数基板用バッチローダーが保持する基板数を示す真空信号が得られる。複数基板用バッチローダーの運動は、複数基板用バッチローダーが完全に装荷されていないことを真空信号が示したとき、変えられる。本方法はまた、保管場所にある基板数を判定するステップを含むこともある。個々の基板は保管場所から複数基板用バッチローダーの完全装荷を促進するよう取り出すことができる。 （もっと読む）

【課題】高速の薄板状ワーク搬送を安定して行うことができ、薄板状ワークがより薄くなった場合であったとしても、薄板状ワークの反りによる影響を受けることなく安定して搬送することが可能である薄板状ワーク搬送装置及び薄板状ワーク搬送方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板Ｗの下面に空気を吹き付けて非接触状態で支持するエア浮上ユニット２と、ガラス基板Ｗの下面に接触してワーク搬送方向の移動力を付与する搬送ローラ３７と、ガラス基板Ｗの搬送ローラ３７との接触部位Ｗｔを搬送ローラ３７側に引き寄せる吸引手段４を備え、ガラス基板Ｗの上面に向けて空気を噴出させて、ガラス基板Ｗを搬送ローラ３７に押し付けるエア押し付けユニット５を設けた。 （もっと読む）

【課題】小型で、基板の搬送ブロックにダウンフローを形成する際の消費エネルギーが少ない基板処理装置を提供する。
【解決手段】第１の基板処理部２に対して基板Ｗの搬送を行うための第１の搬送ブロック１４２ａの下方側には、第２の基板処理部２に対して基板Ｗの搬送を行うための第２の搬送ブロック１４２ｂが積層して設けられ、第１のファンフィルタユニット３１は、第１の搬送ブロック１４２ａ内に清浄気体のダウンフローを形成し、第２のファンフィルタユニット３２は第１の搬送ブロック１４２ａの底部の床板１５に設けられた排気口１５１から前記ダウンフローを取り込んで第２の搬送ブロック１４２ｂ内に清浄気体のダウンフローを形成する。 （もっと読む）

【課題】
各処理室間のゲートバルブ等を設けずに長尺の基板を搬送し、且つ、各処理室を真空に保持し、連続的に成膜処理することである
【解決手段】
基板連続処理装置は、第１組の前処理室，成膜処理室，後処理室の連結可能な連続体からなり、またこの連続体と合体でき得る第２組の前処理密封室，成膜処理密封室，後処理密封室の連結可能な連続体で構成される。また第２組の前処理密封室，成膜処理密封室，後処理密封室には、基板が通過でき得る溝が設けられ、前処理室密封，成膜処理密封室及び後処理密封室にはシールするために、１つ若しくは複数の密封材（Ｏリング等）を設置するための、密封材用取り付け溝を設置してなる構成により課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】移動時のエア消費量を抑え、安定して移動できる移動装置を提供する。
【解決手段】移動装置１は、ガイドレール３と、移動部材１０とを備える。ガイドレール３は、上面３Ｕと、上面３Ｕと反対側の下面３Ｌとを含む。移動部材１０は、ガイドレール３に沿って移動可能である。移動部材１０の第１対向面は、上面３Ｕと対向して配置され、ガスを噴出する複数の開口が形成される。第２対向面は、下面３Ｌと対向して配置され、ガスを噴出する複数の開口が形成される。 （もっと読む）

【課題】可撓性を有するワークを非接触で安定的にチャックすることができるチャック装置を提供する。
【解決手段】可撓性を有するワークＷを保持するチャック装置１であって、本体フレーム２と、本体フレーム２に設けられ、吸引力を作用させる吸引穴６をワークＷ表面に対向させて位置するとともに、吸引穴６の吸引力によってワークＷを非接触状態で吸引する複数のベルヌーイチャック機構４、４’と、ベルヌーイチャック機構４’に設けられ、吸引穴６’の角度を可変して当該吸引穴６’とワークＷ表面との対向方向を変位させる揺動機構１０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ワークの板厚が薄く形成されたとしても、簡易な構成で、ワークの利用部位を非接触状態に維持したまま安定してチャックできる。
【解決手段】チャック装置１は、ワークＷと対向する本体２と、本体に配され、ワークと接触する突出部３と、本体と突出部とワークとで囲繞される囲繞空間Ｎから気体を吸引する吸引手段５と、ワークまでの相対距離ｄを測定する測定センサ６と、相対距離に基づいて、相対距離が所定の目標値で安定化するように吸引手段の吸引力を制御する吸引制御部７と、を備える。 （もっと読む）

【課題】基板の液処理時に遮蔽扉に付着した処理液によって、基板の乾燥処理時にパーティクルが発生してしまうのを防止すること。
【解決手段】本発明では、基板処理装置（１）において、処理液で基板（６）の液処理を行う液処理槽（７）と、前記液処理槽（７）の上方に設けられ、前記基板（６）の乾燥処理を行う乾燥処理槽（２２）と、前記液処理槽（７）と乾燥処理槽（２２）との間に設けられ、前記液処理槽（７）と乾燥処理槽（２２）とを遮蔽可能な遮蔽扉（３３）と、前記液処理槽（７）と乾燥処理槽（２２）との間で前記基板（６）の搬送を行う基板搬送手段（５）と、前記遮蔽扉（３３）に洗浄液を供給する洗浄液供給手段（３６）とを設けることにした。 （もっと読む）