【課題】薄板状ワークがより薄くても、この薄板状ワークに移動力を確実に伝えて滞りなくそして蛇行なく安定して搬送することが可能である薄板状ワーク搬送装置及び薄板状ワーク搬送方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板Ｗの下面に空気を吹き付けて非接触状態で支持するエア浮上ユニット２と、ガラス基板Ｗの下面に接触してワーク搬送方向の移動力を付与する搬送ローラ３７を備え、エア浮上ユニット２は、ガラス基板Ｗの下面に向けて空気を噴出させる多数の空気噴出孔２４ａを有し、且つ、ワーク搬送方向と直交する断面形状が下方に凸の湾曲形状を成すワーク非接触支持板２４を具備し、搬送ローラ３７をワーク搬送方向と直交する方向の中央に配置して、エア浮上ユニット２のワーク非接触支持板２４から上方に突出する周縁部をガラス基板Ｗの下面に接触させてワーク搬送方向の移動力を付与する。 （もっと読む）

【課題】温度の高い比較的大型の搬送対象物を搬送する場合であっても、熱の影響による軸受の摩耗や損傷を抑制すること、熱の影響によるアームの変形を抑制すること、および、ハンドの重量を軽減することが可能な産業用ロボットを提供する。
【解決手段】この産業用ロボットは、搬送対象物が搭載される搭載部２７を有するハンド３と、その先端側でハンド３を保持するアームと、アームの基端側を保持する本体部と、搭載部２７の少なくとも上面を覆うカバー部材３０とを備えている。カバー部材３０における輻射熱の反射率は、搭載部２７における輻射熱の反射率よりも高く、カバー部材３０の熱伝導率は、搭載部２７の熱伝導率よりも低く、搭載部２７の比重は、カバー部材３０の比重よりも小さくなっている。 （もっと読む）

【課題】複数枚の基板を収容した搬送容器が載置されるロードポートと、搬送容器を保管する容器保管部と、を備えた基板処理装置において、ロードポートにおける搬送容器の受け渡し回数の増大を図ることができ、これにより基板を高いスループットで処理することのできる基板処理装置を提供する。
【解決手段】搬送路１０２、１０２Ｂに沿って、複数枚の基板を収容した搬送容器１０を搬送する搬送装置１０４Ａ、１０４Ｂを利用した搬送容器１０の受け渡しが行われる第１のロードポート２１と、この第１のロードポート２１に対して階段状に設けられた第２のロードポート２２とを備えている。 （もっと読む）

【課題】被処理基板の処理ステージ装置及びそれを用いる塗布処理装置において、処理動作のタクトタイムを短縮する。
【解決手段】基板搬入部２は、ガラス基板Ｇを水平に搬送可能な第１の基板搬送部５Ｂと、前記第１の基板搬送部を少なくとも基板搬送方向に沿って前後方向と斜め上下方向と垂直上下方向とのいずれかに移動させる第１の進退手段１０とを有し、前記基板処理部は、ステージ１５と、前記ステージの載置面に対し相対的に昇降可能に設けられ、上昇位置において前記基板を水平に搬送可能な第２の基板搬送部１６と、前記ステージの載置面に対し前記第２の基板搬送部を相対的に昇降させる第２の進退手段２４，２５とを有し、前記基板搬出部は、前記被処理基板を水平に搬送可能な第３の基板搬送部２９と、前記第３の基板搬送部を少なくとも基板搬送方向に沿って前後方向と斜め上下方向と垂直上下方向とのいずれかに移動させる第３の進退手段３０とを有する。 （もっと読む）

【課題】エネルギー線照射システムにおいて、異なる寸法のワークに効率的にエネルギー線を照射できるコンパクトで低コストの搬送機構を実現する。
【解決手段】異なる寸法のワークＷ１、Ｗ２がそれぞれ搭載される第１、第２ワークホルダ３１ａ、３２ａと、各々のワークホルダを各々のワーク授受領域とエネルギー線照射領域ＡＲ１との間で進退移動させる進退機構３３と、互いに異なる位置に設けられた第１及び第２ワーク収容部２１ａ、２２ａと、第１のワーク授受領域にある第１ワークホルダ３１ａと第１ワーク収容部２１ａとの間でワークＷ１を搬送する第１搬送アームと、第２のワーク授受領域にある第２ワークホルダ３２ａと第２ワーク収容部２２ａとの間でワークを搬送する第２搬送アームとを設けた。 （もっと読む）

【課題】自動ワーク取扱システムにおけるワーク用のカセットを位置合わせするための方法及び装置を得ることを目的とする。
【解決手段】この方法では、ワーク取扱システムにおいて、輪セットハンドラをロボットブレードに位置合わせする。カセットハンドラは、ワークを担持するための複数のスロットを有するワークカセットを支持するための支持面を有する。この方法は、フレームを前記カセットハンドラ支持面に配置するステップと、ロボットブレードによって担持されるワークを移動するステップと、フレームに対するロボットフレームによって担持されるワークの動作をマッピングするステップとを有する。 （もっと読む）

【課題】研磨装置において二枚以上の基板を監視する方法を提供する。
【解決手段】研磨装置において二枚以上の基板を監視する方法が、第１の方向に第１基板を移動させ、監視システムの隣りに配置されたバッファステーション内に当該第１基板を移動させるステップと、第１の方向に直角な第２の方向に前記第１基板を移動させて、第１基板に対して監視プロセスを行うステップと、第２基板を取り出してバッファステーション内に移動させるステップと、第１基板を前記バッファステーションから取り出すステップと、を備える。 （もっと読む）

【課題】製造プロセス中のウエハの反りを防止する。
【解決手段】基板処理装置は、ウエハにおける、サポートプレートが貼り付けられている面とは反対側の被支持面の内周部を支持する支持ピンにより支持された積層体を減圧環境下において搬送する搬送ユニット２０とを備え、製造プロセス中のウエハの反りを防止することを可能とした。 （もっと読む）

【課題】円板状板状物の中心がずれた状態の円板状板状物ユニットでも、搬送先のチャックテーブルに中心を位置合わせして搬送可能な搬送装置を提供する。
【解決手段】環状フレームＦに円板状板状物の貼着された円板状板状物ユニットを搬送先のチャックテーブルへ搬送する装置２は、前記円板状板状物ユニットの吸引保持と該チャックテーブルの中心位置合わせを行なう吸引保持位置合わせ機構と、該吸引保持位置合わせ機構の移動機構とを具備し、前記吸引保持位置合わせ機構は、環状フレームＦを吸引保持する吸引保持部４６と、前記円板状板状物ユニットの前記円板状板状物の外周側面に作用する複数の爪３０を待機位置と互いに半径方向に接近した作用位置との間で移動させることで、前記チャックテーブルの中心に位置付けする手段と、吸引保持部４６を吸引保持位置とその上方の退避位置とに位置付ける吸引保持部位置付け手段１８とを含む。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置においてウェーハの露光前の熱調整を改善または簡易化する。
【解決手段】 リソグラフィ装置は、基板を保持するように構築された基板テーブルと、基板テーブルを受けるように構成された区画と、露光対象の基板を受け取り、かつ該基板を熱調整するように配置された熱調整ユニットと、熱調整された基板を基板テーブルへ移送するように構成された移送システムと、を備え、基板テーブルおよび熱調整ユニットは、少なくとも熱調整された基板が熱調整ユニットから基板テーブルへ移送される間、リソグラフィ装置の前記区画内に配置される。 （もっと読む）