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国際特許分類[H01L21/683]の内容

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機械的手段を使用するもの,例.チャック,クランプ,またはピンチ

国際特許分類[H01L21/683]に分類される特許

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【課題】簡便に蒸着を行うことができる蒸着用治具及び蒸着装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明にかかる蒸着用治具は、ウエハ4の非蒸着面を覆うハット2を有する。ハット2には、第1凸部2a及び第2凸部2bが設けられる。第1凸部2aは、ウエハ4側におけるハット2の外周部に設けられ、ウエハ4を保持する。第2凸部2bは、ウエハ4とは反対側におけるハット2の外周部に設けられる。このように、ハット2の両面に凸部を設けることにより、簡便に蒸着を行うことができる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、チップの割れや欠けの発生を抑制することができるチップ加工装置およびチップ加工方法を提供することを目的とする。
【解決手段】載置される基板2の分割線に対応して形成された分割溝と、吸着孔14を有し前記分離溝で画されたチップ吸着部と、を有する基板載置治具3と、前記吸着孔を減圧して前記基板を基板載置治具に真空吸着可能とするとともに、前記基板載置治具に載置された前記基板が前記分割線で分割されて形成されるチップごとに前記チップ吸着部への真空吸着を解除可能とする圧力制御部4と、前記チップごとに前記圧力制御部による前記真空吸着を解除させ、前記真空吸着が解除されたチップのピックアップを可能とする加工制御部5と、を備えたことを特徴とするチップ加工装置が提供される。 (もっと読む)


【課題】半導体ウエハ等の被着体に塵が落下して歩留まりが低下することを抑制でき、接着シートの剥離時に、接着シートと共に被着体が持ち上げられることを防止できるようにすること。
【解決手段】シート剥離装置10は、半導体ウエハWに貼付された接着シートSに剥離用テープPTを貼付する貼付手段16と、接着シートSに貼付された剥離用テープPTと半導体ウエハWとを反対方向に相対移動させることで接着シートSを半導体ウエハWから剥離する剥離手段15とを備えている。剥離手段15は、半導体ウエハWとの間に接着シートSを挟み込みつつ剥離姿勢を形成するローラ30と、このローラ30との間に接着シートSを挟み込み、半導体ウエハWから剥離された接着シートSが接着される剥離補助手段31とを備えている。 (もっと読む)


【課題】真空成膜装置のチャンバ内を真空に保ったままでワークの表裏両面に交互に繰り返し成膜することができるワーク反転ユニットを提案するものである。
【解決手段】真空成膜装置の中で回転するドームに複数のワーク反転ユニット30が装着される。ドームは減速ギヤ装置とモータとによって回転され、急激な加速と減速とが可能である。ドームの下部位置には成膜物質を飛翔させる成膜物質発生源が配置される。ワークホルダ32には成膜物質が堆積されるガラス板31が固定される。ワーク反転ユニット30は、ワークホルダ32を回転自在に軸支するとともにワークホルダ32とギヤ連結されたウエイト41を備える。ウエイト41はドームが急激に加速又は減速されたときに自身の慣性力で移動する。ワークホルダ32は、ウエイト41の移動によって回転し支持枠35に形成された2つのストッパによって180°異なる姿勢に保持される。 (もっと読む)


【課題】載置台からダイシングフレーム付きウエハを搬送する初期段階で載置台とシートの間で発生する剥離帯電を抑制することができるダイシングフレーム付きウエハの搬送方法を提供する。
【解決手段】本発明のダイシングフレーム付きウエハの搬送方法は、昇降駆動機構を用いて載置台11を一定の第1の速度で下降させることにより第1の作用体13を複数の支持体12に作用させて第1の速度でダイシングフレームDFを持ち上げてウエハWが固定されたシートFを載置台11から第1の位置まで離間させる第1の工程と、昇降駆動機構を用いて載置台11を第1の速度より速い一定の第2の速度で下降させることにより第1の作用体13を複数の支持体12に作用させて第2の速度でダイシングフレームDFを持ち上げてウエハが固定されたシートFを載置台から第2の位置まで離間させる第2の工程と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】半導体ウエハ等の被着体に塵が落下して歩留まりが低下することを抑制できるようにすること。
【解決手段】シート剥離装置10は、半導体ウエハWに貼付された接着シートSに剥離用テープPTを貼付する貼付手段16と、接着シートSに貼付された剥離用テープPTと半導体ウエハWとを相対移動させることで接着シートSを半導体ウエハWから剥離する剥離手段15とを備えている。剥離手段15は、半導体ウエハWとの間に接着シートSを挟み込みつつ剥離姿勢を形成するローラ30と、このローラ30による剥離によって発生する塵を除去する除塵手段31とを備えている。 (もっと読む)


【課題】基板ホルダに基板を移載する基板移載装置において、相対的な位置ずれ量が大きい場合に実行する基板を基板ホルダから剥離する動作は、例えばリフトピンを用いて基板を持ち上げて行われる。しかし、強制的な剥離動作を行うと、剥離時の衝撃により基板がリフトピン上で大きくずれてしまったり、場合によっては基板がリフトピンから落下することがあった。
【解決手段】基板ホルダに基板を移載する基板移載装置であって、基板ホルダを載置するステージと、ステージに載置された基板ホルダから基板ホルダの上方へ離間させて基板を支持するリフトピンと、ステージに載置された基板ホルダとリフトピンに支持された基板の位置を検出して、基板ホルダと基板との水平面に沿った相対的なずれ量を検出する検出部とを備える。 (もっと読む)


【課題】不良デバイスの発生を抑制でき、デバイスの生産性の低下を抑制できる基板処理方法を提供する。
【解決手段】保持部に搬送された基板に対して第1手順に対応した第1処理を実行する基板処理方法は、保持部に搬送された基板の歪みに関する情報を検出することと、歪みに関する情報に基づいて、基板に対して第1処理と異なる第2処理の要否を判断することと、を含む。 (もっと読む)


【課題】カーボンナノチューブを含む熱伝導体によって、被熱処理体に、熱を均一かつ安定して伝導すること。
【解決手段】金属触媒8が外周面に被覆された複数の円筒部T1〜T3と、金属触媒が非被覆の円筒部T4を、円板状基板1面に略垂直かつ同心円状かつ入れ子状に配置して熱伝導体用構造体を得た後、この熱伝導体用構造体を、CVD用真空チャンバ内に配置する。そして、CVD法によってカーボンナノチューブ前駆体である炭素材を前記金属触媒8上に形成し、それと同時に熱伝導体用構造体のラジアル方向に電場及び/又は磁場を印加する(参照符号9A、9Bが電極又は磁極を指す)。その結果、多数本のカーボンナノチューブCNTが、円筒部T1〜T3の外周からラジアル方向に向けて配向・成長し、かつ、鉛直方向に形成されたサセプタ10(熱伝導体)を得る。 (もっと読む)


【課題】簡素な構成で検査用ワークを適確に収納することができるとともに、検査用ワークの出し入れが容易なカセットを提供する。
【解決手段】1枚のウェーハ付きフレーム5を収納する複数のスロット114と、スロット114にオペレータがウェーハ付きフレーム5を出し入れするための開口部111と、スロット114に収納されるウェーハ付きフレーム5のスロット114への挿入方向の先端を係止する背面板104とを有するウェーハ収納部110の上部に、ウェーハ付きフレーム5を上方から出し入れ可能とする仮置き部120を設け、この仮置き部120に検査用ウェーハ1Aを有するウェーハ付きフレーム5を上方から出し入れする。 (もっと読む)


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