本発明は、簡単な構造で安定な整流特性を得ることができる整流素子を提供する。 基板上に第１電極層、有機半導体材料層、第２電極層の順に薄膜として形成され、有機半導体材料層を構成する有機半導体材料がキノメタン系化合物又はモノキノメタン系化合物である。第１電極と第２電極とが同じ材料であることが好ましく、アルミニウムであることがより好ましい。 （もっと読む）

本発明は、安定した双安定特性を持ち、遷移電圧が高く、かつ繰返し性能に優れたスイッチング素子を提供する。 電極間に印加される電圧に対して２種類の安定な抵抗値を持つスイッチング素子であって、基板上に第１電極層、有機双安定材料層、第２電極層の順に薄膜として形成されており、有機双安定材料層を構成する有機双安定材料がキノメタン系化合物又はモノキノメタン系化合物である。また、有機双安定材料層中に第２電極層を構成する金属が拡散している。第２電極層は蒸着により形成され、蒸着時の基板の温度が３０〜１５０℃であることが好ましい。 （もっと読む）

本発明は、有機双安定材料を２つの電極間に配置したスイッチング素子であって、オン電流とオフ電流との比が大きく、かつ、しきい電圧が高く、ばらつきが少ない素子を提供する。 少なくとも２つの電極間に、印加される電圧に対して２種類の安定な抵抗値を持つ有機双安定材料からなる有機双安定材料層を配置してなるスイッチング素子において、前記有機双安定材料層と、少なくとも一方の前記電極との間に、有機材料層を設ける。この有機材料層には、導電性の微粒子が分散されていることが好ましい。
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【課題】外部接続用配線の要素であるクロム層とＩＴＯ層との間のコンタクト抵抗を低く維持し、駆動用ＩＣが誤動作するのを防止する。
【解決手段】ＴＦＤ素子の第１金属膜及び外部接続用配線の第１導電層を夫々クロムにて形成し、次にその上に酸化タンタルを形成する。次に、アニール処理Ａを約３００℃（保持時間６０分）で実行する。次に、第２金属膜を形成し、その直後に、データ線及びＴＦＤ素子の上にオーバーレイヤーを形成する。これにより、ＴＦＤ素子の第２金属膜の表面及び外部接続用配線の第１導電層の表面に酸化膜が形成されるのを防止できる。 （もっと読む）

【課題】 ＴＦＤ素子、配線等のように複数の導電膜を積層して成る要素に関してそれらの導電膜間に導通不良が発生するのを防止することにより、安定した表示を行うことができる電気光学装置を安定して製造できる電気光学装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 基板上にＣｒ等で第１導電膜を形成する工程Ｑ５と、その第１導電膜上にＡｌ等で被覆膜を形成する工程Ｑ７と、その被覆膜を形成する工程の後にアニールを行う工程Ｑ８と、そのアニールの後に被覆膜を除去する工程Ｑ９と、被覆膜が除去された領域でＣｒ等の第１導電膜上にＩＴＯ等で第２導電膜を形成する工程Ｑ１１とを有する電気光学装置の製造方法である。アニールの際には第１導電膜が被覆膜によって覆われているので第１導電膜の表面が酸化することを防止できる。第１導電膜の表面の酸化を防止できれば、第２導電膜を第１導電膜上に良好に形成できる。 （もっと読む）

【課題】ドライエッチング時にチャージアップやレジスト焼けなどの不具合を生じさせずに、ラテラル構造の非線形素子の絶縁膜を厚膜化して液晶容量を減少させる。
【解決手段】ＴＦＤ素子の製造方法は、スパッタ法などの気相法にて下部電極６２ａ上にＴａＯ_ｘ膜からなる第１の絶縁膜６３ａを形成する。これにより、第１の絶縁膜６３ａの誘電率及び抵抗を小さくできる。次に、第１の絶縁膜６３ａと第１の金属膜をドライエッチングして下部電極６２ａ及び第１の絶縁膜６３ａを形成する。次に、露出した下部電極６２ａの側面に液相法で第２の絶縁膜６３ｂを形成し、第１の絶縁膜６３ａ等の上に上部電極６４ａを形成する。第１の絶縁膜６３ａを気相法で形成したことで、チャージアップやレジストが焦げるような不具合は生じさせずに第１の絶縁膜６３ａを厚膜化でき、ＴＦＤ素子容量を小さくできる。 （もっと読む）

【課題】 ＭＩＭ構造の非線形素子において、そのアニール処理による下部電極層の膨張を防止し、上部電極層の断線の危険を低減させる。また、製造プロセスの複雑化を招くことなしに、非線形素子の電気的特性の向上及び安定化を図る。さらに、非線形素子における素子特性の向上と、素子特性の経時変化の抑制とを両立できる構造及び方法を実現する。
【解決手段】 本発明の非線形素子１０は、酸素を含有する金属若しくは合金で構成された下部電極１３と、下部電極１３の表面に形成された酸化膜１４と、酸化膜１４を介して下部電極１３に接合された上部電極１５と、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 所定の電気配線構造を備えた電気光学装置における接触抵抗の上昇を防止して、表示不良の発生を少なくすることができる電気光学装置の製造方法及び検査方法を提供する。
【解決手段】 所定構造の二端子型非線形素子を含むオーバーレイヤー構造の電気光学装置の製造方法において、基板上に、二端子型非線型素子と同一のクロム層からなる第１の導電層と、コンタクトホールを有する層間絶縁膜と、当該コンタクトホールを介して第１の導電層と電気的に接続された、画素電極と同一の導電材料からなる第２の導電層と、を順次に積層して、検査用パターンを形成する工程と、当該検査用パターンにおける第１の導電層と、第２の導電層と、の間の接触抵抗を測定し、二端子型非線形素子と画素電極との間の接触抵抗を検証する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 所定の素子構造を備えた電気光学装置における接触抵抗の上昇を防止して、データ信号の書き込み速度が速くて、表示特性に優れた電気光学装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 所定の素子構造を備えたオーバーレイヤー構造の電気光学装置の製造方法において、基板上に、パターニングされたタンタル層を形成する工程と、タンタル層の表面を酸化させることにより、酸化タンタル層を形成する工程と、酸化タンタル層の一部と重なるように、パターニングされたクロム層を形成する工程と、クロム層が形成された基板に対して、不活性ガス中で熱処理を実施する工程と、クロム層と重なる位置にコンタクトホールが配置されるように層間絶縁膜を形成する工程と、クロム層と、コンタクトホールを介して電気的に接続されるように、導電層からなる画素電極を形成する工程と、を含む。 （もっと読む）

本発明は、ディスプレイの制御用のダイオードマトリックス、並びに、その製造方法に関しており、その際、ダイオードマトリックスは、少なくとも１つの（部分）有機ダイオードを有しており、少なくとも一部分プリント技術により製造可能である。 （もっと読む）