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国際特許分類[H05B33/10]の内容

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国際特許分類[H05B33/10]に分類される特許

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【課題】マイクロディスプレイであっても意図しない領域における発光を抑えることが可能な有機発光装置、有機発光装置の製造方法及び電子機器を提供する。
【解決手段】本発明の有機発光装置は、基板と、基板上に形成された複数の第1電極と、第1電極の端部を覆うとともに当該第1電極の一部を露出させる開口が設けられた絶縁層と、第1電極と対向して形成された第2電極と、第1電極と第2電極との間に形成された有機発光層と、を有し、絶縁層の第1電極の端部と重なる部分は、第1部分と、第1部分よりも基板に垂直な方向の厚さが薄い第2部分と、を有し、第2部分は、第1部分よりも開口側に形成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】透明性及び導電性に優れた透明電極の製造方法、その製造方法で製造された透明電極を提供する。また、該透明電極を用いた、大面積化にも対応し、低電圧で駆動可能な有機電子素子を提供する。
【解決手段】透明基板上に、金属ナノ粒子より形成された導電性の金属細線パターンと、該金属細線パターン上に少なくともπ共役系導電性高分子とポリ陰イオンとを含んでなる導電性ポリマー含有層とを有する透明電極の製造方法であって、該金属細線パターン上に該導電性ポリマー含有層を形成した後に、フラッシュ光照射により加熱焼成を行うことを特徴とする透明電極の製造方法。 (もっと読む)


【課題】大型の基板に蒸着を行うための防着板の取付け/取外しが容易で、メンテナンス作業の向上が可能となる真空成膜装置を提供する。
【解決手段】真空チャンバと、真空チャンバ内に設けられて蒸着材料を蒸発して供給する蒸着源と、真空チャンバ内に導入された基板を直立した状態でマスクの所定の位置に位置合わせするための機構と、位置合わせ機構により、直立した状態で前記マスクに対して位置合わせされた基板の蒸着表面に沿って、蒸着源を移動させる手段と、マスクと前記蒸着源との間に配置されたベースプレートとを備えた真空成膜装置において、真空チャンバ内において、蒸着源から供給されてマスクを介して前記基板の蒸着表面に蒸着されると共にその周囲にも飛散する蒸発した蒸着材料が付着する壁面に、薄膜状の防着膜100を着脱可能に取り付けるための手段を備える。 (もっと読む)


【課題】混色が低減されたパターン膜形成部材の製造方法を提供する。
【解決手段】パターン膜の材料を含む機能液を液滴として吐出する吐出ヘッドと基材とを相対的に移動させながら前記基材上に前記液滴を吐出するパスを所定回数行い、前記基材上に前記パターン膜を形成するパターン膜形成部材の製造方法であって、前記基材上に形成された区画部によって区画されたパターン膜形成領域に前記液滴の着弾を許可する着弾許可領域を設定する着弾許可領域設定工程と、設定された前記着弾許可領域に前記機能液を塗布する機能液塗布工程と、を含み、前記着弾許可領域設定工程では、前記パスの回数に応じて前記着弾許可領域の位置を設定する。 (もっと読む)


【課題】 金属等の導電性の基材を基板として使用する際に絶縁平滑層を設けた場合であっても、初期発光の安定性を向上させ、高温多湿の環境下での劣化を防ぐことのできる有機ELデバイスおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 導電性基板101を有する有機ELデバイス100であって、導電性基板101上に絶縁平滑層102を有し、絶縁平滑層102上にガスバリア層120を有し、ガスバリア層120上に有機EL素子110を有し、ガスバリア層120が、金属および半金属の少なくとも1種を含み、ガスバリア層120が、放電処理がされた放電処理層120bと、放電処理がされていない非放電処理層120aとを含んでいることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】隔壁で区画された領域に液滴吐出法により機能層を形成する電気光学装置の製造方法において、フッ素化合物を含有する有機材料により隔壁を形成する際に、画素電極上に当該有機材料の残渣が発生し、画素電極上の親液性が阻害される。
【解決手段】基体41上にフッ素化合物を含有する有機材料により画素電極24の一部に開口部67を有し、開口部67は、画素電極24の表面側の第一の開口径67aよりも、隔壁62の頂上部62a側に第二の開口径67bの方が大きい隔壁62を形成する工程と、隔壁62の頂上部62a側にマスク71を配置して、マスク71側から隔壁62の側面62b及び画素電極24の表面に紫外線光50を照射する工程と、機能層を形成する材料を含む機能液を液滴吐出法により開口部67に吐出する工程と、機能液を乾燥させて機能層を形成する工程と、機能層を覆うように基体41上に陰極を形成する工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】ラインバンク方式のような画素規定層を設けることなく、有機発光層の膜厚を均一化することができる表示パネルの製造方法等を提供する。
【解決手段】平坦化膜103上に2次元配置された複数の画素領域に、有機発光材料を含むインクを滴下して有機層を形成してなる表示パネルの製造方法は、平坦化膜103の上方に、画素領域と画素領域との間を第1の方向に延伸する第1隔壁111と、画素領域と画素領域との間を第1の方向と交差する第2の方向に延伸し且つ第1隔壁111の上端部よりも低い位置で第1の方向へのインクの流動を許容する流路を構成する第2隔壁121とを形成する隔壁形成工程と、滴下されたインクの上面が流路よりも高くなるように、第2の方向に隣り合う一組の第1隔壁111の間にインクを第1の方向に沿って間欠的に滴下する滴下工程とを具備する。 (もっと読む)


【課題】アニロックスロールの各領域のセル内に供給されたインキが、所定の時間間隔で必ず消費されるようにした凸版印刷装置を提供する。
【解決手段】凸版を印刷版とする凸版印刷装置において回転式の版胴と、被印刷基板を載置する基板定盤と、前記凸版にインキを供給するアニロックスロール、及びアニロックスロールをインキに浸漬してインキを供給する為のインキチャンバーと供給されたインキを一定膜厚となる様に掻き取る装置を具備した印刷装置であって、
アニロックスロールがその回転軸の方向にスライド可能で、被印刷基板の印刷毎に印刷用凸版の凸部がアニロックスロールに接触する位置を移動させて印刷出来る事を特徴とする凸版印刷装置。 (もっと読む)


【課題】表示不良が抑制され、かつ高精細の有機EL装置の作製を可能にするための有機EL装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板の上に有機物化合物層を形成する工程と、前記有機化合物層の上に中間層とレジスト層とを順次形成する工程と、フォトリソグラフィ法を用いて前記レジスト層の一部を除去する工程と、前記レジスト層が除去された領域の前記中間層及び前記有機化合物層をドライエッチングにて選択的に除去する工程と、を有しており、前記中間層が、少なくとも遮光層を含み、前記遮光層が、波長190nm以上360nm以下の光を遮光することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】抵抗層の表面の汚染を防止し、かつ、簡便な方法により第2電極を形成可能な表示装置およびその製造方法並びに電子機器を提供する
【解決手段】基板上に、第1電極、発光層を含む有機層、抵抗層および第2電極をこの順に有する有機電界発光素子および外部接続層を備え、前記第2電極は、前記抵抗層に接する保護電極層と、前記保護電極層の上層に設けられると共に前記外部接続層に電気的に接続された接続電極層とを有する表示装置。 (もっと読む)


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