【課題】コンタクト部を広げなくても、電極層と導電膜パターンを確実に電気的に接続することのできる有機ＥＬ装置、および電子機器を提供すること。
【解決手段】トップエミッションタイプの有機ＥＬ装置１００において、支持基板１１０ｄには、第２電極層９ａと接する複数本の補助配線８ａが形成されている。絶縁膜１１５の下層側には、第２電極層９ａに電位を印加するための下層側導電パターン６ｓが形成され、絶縁膜１１５の上層側には、第２電極層９ａよりシート抵抗が小さい導電膜によって、第２電極層９ａを下層側導電パターン６ｓに接続するための上層側導電パターン７ｓが形成されている。上層側導電パターン７ｓのベタパターン部７ｐは、コンタクト部１１５ｓを介して下層側導電パターン６ｓに接し、補助配線８ａの端部は、ベタパターン部７ｐに重なってベタパターン部７ｐに接している。 （もっと読む）

【課題】本発明は有機EL装置及びその製造方法を提供する。本発明によれば、発光層の形成後に一つのカソード加飾層を作製し、それは化合物A_xB_yC_zを含み、該層の付加によって電子注入の能力が向上し、装置の性能が顕著に向上する。同時に、製造の過程において、該材料プロセスの実現可能性がよく、更に作製プロセスの過程において装置の歩留まりが高められる。
【解決手段】本発明の有機EL装置は、基板と、基板に形成されたアノード層と、アノード層に形成された有機機能層と、有機機能層に形成されたカソード層とを備え、有機機能層とカソード層の間には、化合物A_xB_yC_zを含むカソードインターフェース加飾層をさらに備え、Aは第１主族元素又は第２主族元素であり、Bは第３主族元素又は第５主族元素であり、Cは水素であり、1≦x≦2、y∈[0,1]、1≦z≦4である。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、支持基板上に形成した補助配線を大気と異なる雰囲気中でも確実に検査することができる有機ＥＬ装置、並びにその製造方法および製造装置を提供すること。
【解決手段】トップエミッションタイプの有機ＥＬ装置１００において、支持基板１１０ｄでは、第２電極層１７１と接する複数本の補助配線１７２が一方向に延在しているため、第２電極層１７１の電気的抵抗のばらつきを補助配線１７２によって解消することができる。また、補助配線１７２の両端の各々には、補助配線１７２の幅寸法よりも幅広の補助配線用端子１７２ａが電気的接続されているため、大気と異なる雰囲気とされたチャンバなどの内部で補助配線用端子１７２ａに検査端子を接触させて補助配線１７２の検査を行なうことできる。 （もっと読む）

【課題】補助配線層を形成する場合でも、隣接する画素で挟まれた領域の幅を広げる必要のない有機ＥＬ装置を提供すること。
【解決手段】有機ＥＬ装置１００において、第２電極層８３の下層側には第２電極層８３に対して接触する補助配線層８４が形成されている。補助配線層８４は、アルミニウムよりも導電率が高い銀層あるいは銀合金層からなり、略完全な透光性を発揮するほど、薄い膜厚で形成されている。従って、補助配線層８４については、複数の画素１００ａの各々において有機ＥＬ素子８０に平面視で少なくとも一部が重なるようにストライプ状に形成しても出射光量が低下することがない。 （もっと読む）

【課題】光の取り出しを向上させつつ、輝度斑を低減することができる有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ素子１は、基板２と、基板２上に形成され、光を透過可能な第１透明電極３と、第１透明電極３上に形成された有機発光層６と、有機発光層６上に形成された陰極７と、有機発光層６が形成された領域の第１透明電極３上に立設され、上面が陰極７よりも上方に位置する円管状に形成された絶縁性の陰極隔壁８と、陰極の上方に間隔を開けて配置されるとともに、有機発光層６の外側で第１透明電極３と接続された導電性スペーサ１０ａ及び封止板１２と、陰極隔壁８の内周側に配置され、導電性スペーサ１０ａ及び封止板１２と第１透明電極３とを接続する導電性スペーサ１０ｂとを備えている。 （もっと読む）

【課題】発光領域内における発光波長をより均一にした有機ＥＬ装置を提供すること。
【解決手段】均一な屈折率を有する基板部２１と、基板部２１上に形成されて発光領域Ａを区画する隔壁２７と、基板部２１上に形成された陽極層４５及び陰極層４７と、陽極層４５及び陰極層４７の間に配置された発光層４６とを備え、基板部２１の上面における発光領域Ａの外周縁よりも内側には、貫通孔４２Ａが形成されている。 （もっと読む）

【課題】端部同士が接続された複数の薄膜パターンを形成した際、その上方に大きな段差を発生させることのない固体装置、有機ＥＬ装置、およびそれらの製造方法を提供すること。
【解決手段】トップエミッションタイプの有機ＥＬ装置１００の補助配線層８４を形成するにあたっては、第１マスク蒸着工程において、補助配線層８４を形成するための第１薄膜パターン８４ａを形成した後、第２マスク蒸着工程において、補助配線層８４を形成するための第２薄膜パターン８４ｂを端部８４１ａ、８４１ｂ同士が平面視で重なるように蒸着し、第１薄膜パターン８４ａと第２薄膜パターン８４ｂとが繋げる。第１薄膜パターン８４ａおよび第２薄膜パターン８４ｂは、端部８４１ａに向けて膜厚が漸減しているため、端部８４１ａ、８４１ｂ同士の重なり部分８４ｅに大きな段差が発生しない。 （もっと読む）

【課題】光透過性が高く、且つ、表面抵抗率が低い可撓性に優れた電極部を有すると共に、１０ｋＨｚ以上の交流電源を使用することができ、システムの製品コストの低廉化をも図る。
【解決手段】支持体１２と、該支持体１２上に設けられ、且つ、導電性金属からなる細線構造部１４と透光性の透明導電膜１６とを有する第１電極部２２と、該第１電極部２２と対向して配された第２電極部２８と、第１電極部２２及び第２電極部２８間に配された発光層２６を有する表示部２４とを備えた自発光表示装置２０を有する発光システム６０であって、第１電極部２２に取出し電極５０が加熱圧着され、該取出し電極５０と第２電極部２８間に自発光表示装置２０を駆動する電源５２が接続され、電源５２として、１０ｋＨｚ以上の交流電源が用いられる。 （もっと読む）

【課題】
電解重合法において、被塗布部材表面全面にわたって均一な厚さ、平滑な表面及び高度な密着性を達成する高分子薄膜製造方法を提供する。
【解決手段】
電解液相（高分子膜形成サイト）の下部に、該電解液と非相溶性の相分離溶液を予め配置した系において、導電性を有する被塗布部材を作用電極として、該電解液中に設置した対極との間で電解重合を行ないつつ、電解液相から相分離溶液相に基板を一定速度で通過させることによって被塗布部材表面全面にわたって膜厚０．０１〜１０μｍで被覆され、表面粗さ０．５μｍ以下の平滑表面且つ密着強度が高い膜が得られることを特徴とする高分子薄膜製造方法。 （もっと読む）

【課題】光検出装置構造を提供する。
【解決手段】光検出装置構造であって、基材と、垂直駆動有機発光トランジスタと、光検出ユニットとを含み、垂直駆動有機発光トランジスタは基材の第１位置に設置され、光検出ユニットは基材の第２位置に設置され、且つ設計上の需要に応じて第１位置と第２位置に所定の距離を隔てることができる。本光検出装置構造は、垂直駆動有機発光トランジスタによって光線を物体に発射し、光検出ユニットが物体により反射された反射光線を受信し、受信した反射光線を分析し、光検出装置構造と物体との間の距離を計算することに用いることができ、物体の形状または組成成分を判読することに用いることができる。 （もっと読む）