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国際特許分類[H05H7/08]の内容

電気 (1,674,590) | 他に分類されない電気技術 (122,472) | プラズマ技術 (5,423) | グループ9/00から13/00によって包含される型の装置の細部 (205) | 粒子を軌道に入射させるための装置 (25)

国際特許分類[H05H7/08]に分類される特許

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【課題】高純度の多価イオンを取り出すことができるイオン源を提供する。
【解決手段】イオン源10は、レーザ13が照射されると電子と陽イオンに電離したプラズマ14を生成するターゲット12と、このターゲット12の電位を陽イオンの出射目標(加速チャンネル18)よりも高く設定する第1電源(第1電圧E1)と、この陽イオンがターゲット12から出射目標(加速チャンネル18)に至る経路上(フィルタ電極15)の電位をターゲット12の電位よりも高く設定する第2電源(第2電圧E2)と、を備える。 (もっと読む)


【課題】 不要なイオンの放出を抑制することができ、不要なイオンによる下流の線形加速器側の汚染を低減する。
【解決手段】 レーザ光の照射によりイオンを発生させるレーザ・イオン源であって、真空排気される容器10と、容器10内に配置され、レーザ光の照射により多価イオンを発生するターゲット21が収容された照射箱20と、照射箱20からイオンを静電的に引き出し、イオンビームとして容器10の外部に導くイオンビーム引き出し部12と、照射箱20から引き出されたイオンビームを静電力により収束する静電レンズ51と、静電レンズ51の下流側の位置に設けられ、該位置で収束されたイオンビームを通過させるアパーチャ52とを備えた。 (もっと読む)


【課題】サイクロトロンが用いられるイオンビーム生成装置を小型化する。
【解決手段】図1の右側には、中心軸方向の磁場の強度を、図1の左側に示された構成に対応させて示す。サイクロトロン50からECRイオン源(イオン源)20までの磁場の強度が連続的に一定値以上に保たれている(零とならない)点である。Wienフィルター30やECRイオン源20においては磁場が利用されるため、それぞれにはコイルが用いられているが、これらにおいて用いられる磁場は、これらのコイルによって生成された磁場とサイクロトロンの磁場が重畳した磁場となっている。すなわち、このイオンビーム生成方法においては、ECRイオン源20からサイクロトロン50に至るまでのイオンビームが通過する経路の中心軸方向において、連続的に分布する磁場を形成する。各構成要素における軸方向の磁場強度を微調整するためにもソレノイドコイル41は使用される。 (もっと読む)


【課題】高い価数のイオンを送ることができ、加速器無しで必要価数のイオン速度分布とイオン数を測定できる低コストなレーザイオン発生装置を提供する。
【解決手段】本発明のレーザイオン発生装置は、レーザ光を発生させるパルスレーザ光源11と、パルスレーザ光源11からのレーザ光を物質14に照射してプラズマを発生させるプラズマ発生手段15と、発生したプラズマ中の重粒子イオンを電界によって引き出すイオン引出手段16と、引き出された重粒子イオンのイオン速度分布を測定するイオン速度測定手段18と、イオン速度測定手段から各価数のイオン速度分布とイオン数を演算して出力するイオン速度分布演算手段とを有するものである。 (もっと読む)


【課題】重粒子線治療装置に必要な数の重粒子イオンを安定して生成することができる重粒子線治療用重粒子イオン発生装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る重粒子線治療用重粒子イオン発生装置は、レーザ光の照射によってプラズマを発生する物質と、物質を収納する容器と、レーザ光を発生するレーザ光源と、物質上に前記レーザ光の焦点が形成されるようにレーザ光を集光する集光手段と、物質から発生したプラズマから重粒子イオンをクーロン力によって引き出し、容器の外部に送り出す電極手段と、物質から発生するプラズマを観測し、物質に接する領域のプラズマ径からレーザ光の集光径を求める観測手段と、物質の位置または集光手段の位置を調節する位置調節手段と、観測手段で求めた集光径が所定の基準集光径となるように、位置調節手段による物質の位置調節を制御する制御部と、を備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】電子ビームの電流値の瞬時値を測定しなくても、所要のバケットに電子ビームを追加入射して電子ビームの電流値を略一定に維持可能なシンクロトロンのタイミング制御装置を提案する。
【解決手段】タイミング制御装置5は、トリガ信号tを受け取ると電子ビームを出力する電子銃6と、ビーム許可信号eおよびバケット信号bを受け取るとバケット信号bが指定するバケット番号へ電子ビームを出力するよう電子銃6へトリガ信号tを出力するトリガ発生装置11と、を備えるシンクロトロン1に接続し、予め定める時間間隔毎にビーム許可信号eおよびバケット信号bをトリガ発生装置11へ出力する。 (もっと読む)


【課題】電子ビームの時間幅を容易に変更することができる光陰極高周波電子銃、および、当該光陰極高周波電子銃を備えた電子線装置を提供する。
【解決手段】カソード部3と、前記カソード部3にレーザー光8を照射するレーザー照射口4と、前記カソード部3から放出された電子9を加速する加速空胴部5と、前記加速空胴部5の内部に高周波を導入する高周波導入部15とを備える光陰極高周波電子銃1において、前記加速空胴部5は、二以上の基本セル10と、前記基本セル10同士の間に設けられる基本アイリス12と、前記基本セル10の出口に最終アイリス13を挟んで連通された最終セル11とを有し、前記最終アイリス13の厚さは、前記第2アイリス12の厚さと異なることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、加速軌道に導入されるビームの広がりを抑えることができる加速器及びサイクロトロンを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のサイクロトロンは、イオン源から入射されるビームを通過させ加速軌道Tに導入するスパイラルインフレクタ21を備え、スパイラルインフレクタ21は、通過するビームBを収束させるビーム収束手段として、ビームの通過軌道Sに直交する断面においてギャップを不均一とした正電極23及び負電極27を有する。 (もっと読む)


【課題】直線加速器の運転周期に対する最短周期制限を維持したまま円形加速器に対する荷電粒子ビームの入射を任意のタイミングで行うことを可能として照射時間を短縮し、治療時間を短くする荷電粒子ビーム発生装置、荷電粒子ビーム照射装置及びそれらの運転方法を提供する。
【解決手段】加速器機器制御装置210はビーム利用系制御装置400からのビーム出射要求信号によりシンクロトロン200の運転を制御する。制御装置400はシンクロトロン200の出射完了後に次の運転サイクルの入射タイミングを知らせるタイミング信号を発生し、直線加速器111の運転タイミングを変更して入射タイミングに合致させる。 (もっと読む)


【課題】イオン源に流入させる種々のガスをできる限り迅速に切り替えることができるようにする。
【解決手段】とりわけ粒子線治療設備用の、ガス噴射システムであって、イオン源にガスを導き入れる第1の導管と、分離された2つのガス流のための第2および第3の導管と、多方切替弁とを有する。第2および第3の導管はそれぞれ多方切替弁の入口に開口しており、第1の導管は多方切替弁の出口に接続されており、多方切替弁は一方または他方の入口が出口と選択的に接続されるように形成されており、これにより第2または第3の導管は流体技術的に第1の導管と接続される。 (もっと読む)


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