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国際特許分類[H05K3/42]の内容

国際特許分類[H05K3/42]に分類される特許

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【課題】ベース基板の両面にトレンチを形成することにより、両面に回路パターンを同時に形成することができるため、製造工程を単純化することができるとともに、微細回路パターンを実現することができるプリント基板の製造方法の提供。
【解決手段】ベース基板100の両面に絶縁層110を積層する段階と、絶縁層110にトレンチ120を加工する段階と、トレンチ120の内部を含む絶縁層110にメッキ工程によってメッキ層を形成する段階と、絶縁層110に過剰形成された前記メッキ層を除去して回路層140を形成する段階とを含んでなる。 (もっと読む)


【課題】めっき金属で充填されたスルーホールを有する多層プリント配線板、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態による多層プリント配線板90は、内層回路基材10と、絶縁層を介して内層回路基材10の表面に積層された外層回路基材40と、絶縁層を介して内層回路基材10の裏面に積層された外層回路基材50と、内層回路基材10および外層回路基材40,50を貫通するスルーホール61に、めっき金属68が充填されたフィルド貫通ビア71とを備え、スルーホール61は、外層回路基材40を貫通するビアホール67と、内層回路基材10を貫通する内層スルーホール5と、外層回路基材50を貫通するビアホール66と、が連通するように構成されており、ビアホール66及び67は内層スルーホール5の最大開口径よりも大きい最小開口径を有する。 (もっと読む)


【課題】 スルーホール導体の信頼性を低下させない多層プリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】 レーザにより、テーパ状の第1開口部28a、テーパ状の第2開口部28bとによりスルーホール用の貫通孔28が形成された後、更に、第1開口部28aと第2開口部28bとが連通する部分にCO2レーザが照射され直径が広げられるため、第1開口28Aと第2開口28Bの開口位置がコア基板をはさんでずれても、信頼性の高い貫通孔28の形成が可能である。 (もっと読む)


【課題】大きな直径のスルーホールにも小さな直径のスルーホールにも、空孔(ボイド)が発生することなく、充分に樹脂を充填することが可能なプリント配線板を提供する。
【解決手段】第1面と該第1面とは反対側の第2面とを有し、第1貫通孔と該第1貫通孔よりも径が大きい第2貫通孔とを有するコア基板と、該コア基板の第1面上に形成されている第1導体と、該コア基板の第2面上に形成されている第2導体と、前記第1貫通孔の内部に形成され、前記第1導体と前記第2導体とを接続する第1スルーホール導体と、前記第2貫通孔の内部に形成され、前記第1導体と前記第2導体とを接続する第2スルーホール導体と、を有するプリント配線板であって、前記第1貫通孔の内壁と前記第2貫通孔の内壁とは粗化されていて、前記第1貫通孔の内壁の算術平均粗さRa1は、前記第2貫通孔の内壁の算術平均粗さRa2よりも小さいことを特徴とするプリント配線板。 (もっと読む)


【課題】不飽和二重結合のない樹脂基板や無機材料基板等の下地基板に対して、粗化処理を施さずとも、その上に形成する配線パターンと下地基板との間で密着強度を確保する手段を提供すること。
【解決手段】基材1上に、pH3〜5の範囲で調整した前駆体溶液を用いるゾル-ゲル法により絶縁膜2を形成する工程と、シランカップリング剤を用いて有機層3を形成する工程と、有機層表面にイオン化させた金属触媒を吸着させる工程と、金属触媒を還元し還元された金属を核として無電解めっき層を形成する工程と、窒素雰囲気下で無電解めっき層等を所定の温度で所定の時間加熱する工程と、無電解めっき層4bを給電層として電気めっき層4aを形成する工程と、フォトリソグラフィ法を使用して電気めっき層をパタニングして所定の配線パターンを形成する工程と、露出している無電解めっき層を除去する工程と、をこの順で具備することを特徴とする配線基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】放熱性、絶縁耐圧、光反射性に優れた実装基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】実装基板10a−1の製造方法は、陽極酸化処理により陽極酸化層35(多孔質層40、バリア層30)を、アルミニウム基材20の第1の面に形成する第1の工程と、多孔質層上にシード層50を形成した後、所定の形状の開口部を有するレジストパタンをシード層上に形成して、開口部のシード層上に第1の導電層60、第2の導電層70をこの順に形成し配線領域を形成する第2の工程と、配線領域をマスクとして配線領域を除いた領域における多孔質層の少なくとも表面側の一部分を除去する第3の工程を有する。また、第3の工程に続いて、バリア層を除去し、アルミニウム基材が露出した領域を形成する第4の工程を有する。 (もっと読む)


【課題】多層配線基板の表層から内層に到る有底ビアを電気的に接続するためのめっきを行う際に、内層とめっきとの接続信頼性を確保可能なめっき前処理装置及びめっき前処理方法を提供する。
【解決手段】被めっき体である前記多層配線基板の脱脂を行う脱脂槽と、脱脂に用いた脱脂液を前記多層配線基板から洗浄除去する水洗槽Aと、前記多層配線板の貫通ビアの内壁に露出した内層端面または有底ビアの底部に露出した内層表面に対してエッチングを行うソフトエッチング槽と、前記エッチングに用いたソフトエッチング液を前記多層配線基板から洗浄除去する水洗槽Bと、を備え、前記水洗槽Aの水洗水の実際の温度が、前記ソフトエッチング槽のソフトエッチング液の設定温度に対して、所定範囲に制御されるめっき前処理装置及びこれを用いためっき前処理方法。 (もっと読む)


【課題】電極配置の異なる二つのデバイスについて、互いの電極同士を、位置精度良く、電気的に接続した実装構造を製造することが可能な、デバイス実装構造の製造方法を提供する。
【解決手段】基板に、基板の一方の主面側において、第1のデバイスを構成する複数の電極と対向する複数の位置に、個々に、精度良く露呈する一端と、基板の他方の主面側において第2のデバイスを構成する複数の電極と対向する複数の位置に、個々に、精度良く露呈する他端とを有する複数の改質部を形成する工程A1と、改質部が形成された領域に貫通孔を形成する工程A2と、貫通孔に導体を充填又は成膜して貫通配線を形成する工程A3と、基板の一方の主面側から第1のデバイスの電極を貫通配線の一端に位置整合させて接合し、基板の他方の主面側から第2のデバイスの電極を貫通配線の他端に位置整合させて接合する工程A4とを有する。 (もっと読む)


【課題】下孔内に絶縁材を充填する際の垂下を防止するプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】プリント配線板の製造方法は、低熱膨張率の導電性の基材2の面部に下孔3を形成する工程と、下孔3の底面側の基材2の面部2Cに剥離フィルム12を張り合わせることで、張り合わされたフィルム12で下孔3の底面側を閉塞する底部8を形成する工程とを実行する。更に、製造方法は、下孔3に絶縁材4を充填する工程と、絶縁材4が充填された下孔3内に複数のスルーホール5を形成する工程と実行する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、形成される金属層の密着性およびパターンの高精細性に優れると共に、穴を介した金属層間の接続信頼性が高く、歩留りが良好な多層基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】絶縁層と第1の金属層とを少なくとも有するコア基材に対して、穴開け加工を施し、絶縁層の他方の面から第1の金属層に達する穴を絶縁層中に設ける穴形成工程および絶縁層の他方の面に所定の金属または金属イオンを付着させる金属付着工程の2つの工程を順不同で行う基材前処理工程と、基材前処理工程後に、プラズマエッチングによりデスミア処理を行うデスミア工程と、デスミア工程後に、酸性溶液を用いてコア基材を洗浄する洗浄工程と、絶縁層にめっき触媒またはその前駆体を付与して、めっき処理を行い、穴を介して第1の金属層と導通する第2の金属層を絶縁層上に形成するめっき工程と、を備えた多層基板の製造方法。 (もっと読む)


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