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国際特許分類[H05K3/42]の内容

国際特許分類[H05K3/42]に分類される特許

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【課題】ビアホールに形成したビア導体と隣接する配線層との電気的導通が確実に取れる配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】セラミックグリーンシート1の表面2と裏面3との間を貫通するビアホールを形成する工程を含み、該工程は、追ってレーザーLが照射されるグリーンシート1の表面2と反対側の裏面3に、厚さtが0.1mm以上で且つグリーンシート1以外の材料からなる裏添層5を配設する第1ステップと、グリーンシート1の表面2に対し、レーザーLを該グリーンシート1の厚み方向に沿って照射して、グリーンシート1の表面2と裏面3との間を貫通し、且つ裏添層5の内部に最低部8aが位置する凹部8を形成する第2ステップと、グリーンシート1の裏面3から凹部8の最低部8aを含む裏添層5を除去することにより、グリーンシート1の表面2と裏面3との間を貫通するビアホールを形成する第3ステップと、を備える、配線基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】半導体チップなどの電子部品が実装される配線基板の製造方法において、狭ピッチの配線層を信頼性よく形成すること。
【解決手段】第1配線層20の上に、絶縁樹脂層30を介してニッケル・銅合金層42が形成された積層体を形成する工程と、ニッケル・銅合金層42及び絶縁樹脂層30に、第1配線層20に到達するビアホールVHを形成する工程と、ビアホールVH内をデスミア処理する工程と、ニッケル・銅合金層42の上及びビアホールVHの内面にシード層44を形成する工程と、ビアホールVHを含む部分に開口部32aが設けられためっきレジスト32を形成する工程と、電解めっきによりめっきレジスト32の開口部32aに金属めっき層46を形成する工程と、めっきレジスト32を除去する工程と、金属めっき層46をマスクにしてシード層44及びニッケル・銅合金層42をエッチングして第2配線層40を形成する工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】ビアホール加工性に優れた回路基板、回路基板の製造方法および半導体装置を提供すること。
【解決手段】絶縁層21と、絶縁層21の一方の面側に第一金属層11と、他方の面側には第二金属層12および支持部材13とがこの順に積層されてなる支持部材付き金属層7とが設けられた積層板10を用意し、第一金属層11を選択的に除去した後、選択的に除去した部分にレーザを照射することにより絶縁層21に第二金属層12の表面に達する貫通孔を形成する工程と、無電解めっきにより第一金属層11表面および貫通孔19表面にめっきを形成する工程と、支持部材13を第二金属層12から剥離する工程と、を含むことを特徴とする回路基板の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】本発明は、電気的信頼性を向上させる要求に応え配線基板の製造方法及びその実装構造体の製造方法を提供するものである。
【解決手段】本発明の一形態にかかる配線基板の製造方法は、直流電解めっき法を用いて下地層13上に形成された第1層15aと、反転電解めっき法を用いて第1層15a上に形成された第2層15bと、直流電解めっき法を用いて第2層15b上に形成された最外層をなす第3層15cと、を有する、平面視で互いに離間した複数の電解めっき層14を下地層13上に形成する工程と、平面視で電解めっき層14同士の間に配された下地層13の一部をエッチングする工程と、第3層15c上に絶縁層10を形成する工程と、貫通孔Pの底面に第3層15cの一部を露出させるために、絶縁層10に貫通孔Pを形成する工程と、貫通孔Pの内壁面上および前記底面上にスパッタ層16を形成する工程と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】製造工程及び製造コストを増大させることなく製造することができる、放熱特性に優れたフレキシブルプリント配線板、該フレキシブルプリント配線板を備える電子機器及び前記フレキシブルプリント配線板の製造方法の提供を課題とする。
【解決手段】発熱性の電子部品20を実装するためのフレキシブルプリント配線板10であって、基材11の表裏の両面に設けられた導電層12の一部に、凹凸パターンによる放熱領域Rを設けてあるフレキシブルプリント配線板である。 (もっと読む)


【課題】スルーホールピッチが狭くスルーホール体積が大きいSIP製品群において、回路パターン部分とスルーホール部分の充填される銅メッキ層のメッキ厚さの偏差を減少させる。
【解決手段】CCL(COPPER CLAD LAMINATION)10にスルーホールを加工する段階と、スルーホールにシードメッキ層20を形成する段階と、CCL10とシードメッキ層20上にレジスト40を塗布する段階と、シードメッキ層20上にレジスト40を露光及び現像させる段階と、シードメッキ層20上に一次メッキ層50を形成する段階と、一次メッキ層50上に銅メッキ層60を形成する段階と、一次メッキ層50上に残存しているレジスト40とシードメッキ層20を除去して回路パターン61を形成する段階と、を含む。 (もっと読む)


【課題】ビアホール加工性に優れた回路基板、回路基板の製造方法および半導体装置を提供すること
【解決手段】絶縁層21と、絶縁層21の少なくとも一方の面側に厚さが2.0μmより大きく、12μm以下である金属層11とが積層された積層板を用意する工程と、 金属層11を選択的に除去した後、選択的に除去した部分にレーザを照射することにより絶縁層21に貫通孔19を形成する工程と、金属層11をエッチングにより所望の厚みを除去する工程と、金属層11および貫通孔19内壁面に導体層15を形成する工程と、を含むことを特徴とする回路基板1の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】洗浄および無電解銅めっき液などの表面処理において、微細化した貫通スルーホールおよび非貫通バイアホールに処理液を供給し処理液の供給不足による銅めっき欠損などの不具合発生を抑える。
【解決手段】本発明は、洗浄および無電解銅めっきなどの表面処理において、装置コストの安い洗浄および無電解銅めっきなどの表面処理を行なうバーチカル方式を使用し、処理液を微細な貫通スルーホール、非貫通バイアホールに処理液を供給するため、カゴに銅張り積層板と、処理液の流れを制御するための、取付け、取外し可能な整流板を配置し処理する。 (もっと読む)


【課題】セミアディティブ法により両面フレキシブルプリント基板に形成される差動伝送回路において、回路厚を一定にすると共に優れた差動インピーダンス特性及び耐ノイズ性を確保する。
【解決手段】差動信号伝送回路は、両面フレキシブルプリント基板100のベースフィルム1と、ベースフィルム1の両面に形成されたシード層2と、シード層2を介して、ベースフィルム1の一方の面側に形成された接地(GND)線3からなるGNDパターン及び一対の信号線4からなる信号伝送パターンと、他方の面側に形成されたベタパターン状のGNDパターン5とから構成される。差動信号伝送回路は、GND線3と信号線4との間の距離Dと信号線4間の距離Sとの関係がS>Dとなるように形成されている。 (もっと読む)


【課題】コア用の配線導体においても高密度な微細配線を有する配線基板およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】上下に貫通するスルーホール3を有する絶縁板1と、スルーホール3の内壁に被着されためっき導体から成るスルーホール導体4と、スルーホール3内を充填する孔埋め樹脂6と、スルーホール導体4と電気的に接続するようにスルーホール3周囲の絶縁板1上下面にサブトラクティブ法により形成された銅箔から成るスルーホールランド5と、孔埋め樹脂6およびスルーホールランド5および絶縁板1上に孔埋め樹脂6およびスルーホールランド5を覆うようにセミアディティブ法により形成されためっき導体から成る蓋めっき7および絶縁板1の上下面にセミアディティブ法により形成されためっき導体から成る配線導体8とを具備する配線基板である。 (もっと読む)


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