セルロースエステルフィルム、偏光板および液晶表示装置
【課題】 光学性能が安定し、湿度安定性が高いと同時に、製膜時切り粉の発生等による異物故障がない生産性の高いセルロースフィルムをうることにあり、該セルロースエステルフィルムを用い耐久性の高い偏光板、液晶表示装置を得ることにある。
【解決手段】 下記に示す化合物（Ｊ）と、（Ｋ）または（Ｌ）で示される化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とするセルロースエステルフィルム。
（Ｊ）平均炭素数が２〜３．５であるグリコール類（ａ）と平均炭素数が４〜４．５である二塩基酸類（ｂ）との重縮合反応から得られる、数平均分子量Ｍｎが１５００以上１００００以下であるポリエステル、（Ｋ）多価アルコールエステル、（Ｌ）下記一般式（１）で表される、分子量が３００以上１５００未満である芳香族末端エステル
一般式（１） Ｂ−（Ｇ−Ａ）ｎ−Ｇ−Ｂ
【解決手段】 下記に示す化合物（Ｊ）と、（Ｋ）または（Ｌ）で示される化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とするセルロースエステルフィルム。
（Ｊ）平均炭素数が２〜３．５であるグリコール類（ａ）と平均炭素数が４〜４．５である二塩基酸類（ｂ）との重縮合反応から得られる、数平均分子量Ｍｎが１５００以上１００００以下であるポリエステル、（Ｋ）多価アルコールエステル、（Ｌ）下記一般式（１）で表される、分子量が３００以上１５００未満である芳香族末端エステル
一般式（１） Ｂ−（Ｇ−Ａ）ｎ−Ｇ−Ｂ
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学性能の湿度安定性が高いと同時に、製造時、スリッターによる切り粉の発生が少なく、異物故障が少ない、高生産性のセルロースエステルフィルムに関するものである。また該セルロースフィルムを用いた偏光板、液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は大型テレビへの活用が注目されている。大型液晶テレビは、これまでのノートパソコンや液晶モニターに比べて、使用環境や視野角、コントラストなど要求スペックも厳しくなっている。液晶表示装置に使用される偏光板、偏光板に使用されるセルロースエステルフィルムにも同様に厳しいスペックが要求されている。特に延伸セルロースエステルフィルムは、光学性能に大きな影響を与えるため、重要な部材として厳しいスペックが要求されている。
【０００３】
大型テレビに使用されることで厳しくなった性能に、光学性能の湿度安定性があり、今までのセルロースエステルフィルムは吸湿性が高いため、この湿度安定性が悪く問題であった。
【０００４】
これまでに、セルロースエステルにポリエステルを含有させることは、いくつか提案されていた（例えば、特許文献１〜４参照。）。それらは光学性能の湿度安定性の改善を示唆するものではなく、また１０％以上含有させようとすると、白濁したり、ブリードアウトしたりするものがほとんどであった。
【０００５】
本発明者は、特定のポリエステルを用いることで、セルロースエステルフィルムの光学性能の湿度安定性が改良されることを見出した。（２００４年８月２５日出願；特願２００４−２４４７７２号）
しかしながら、偏光板に加工して、長時間高温高湿下で耐久性テストを行うと、それでも偏光子が劣化し、偏光板の機能が著しく劣化することがわかった。
【０００６】
また、セルロースエステルにポリエステルを含有させると、スリッターでの切れが悪くなり、切り粉と呼ばれるセルロースエステルフィルムの細かい粉が多く発生する。この切り粉が製膜工程内に浮遊し、セルロースエステルフィルムに付着し、これが異物故障となり、フィルムの生産性を悪化させるため問題であった。
【特許文献１】特開２００２−２２９５６号公報
【特許文献２】特開２００２−２６７８４６号公報
【特許文献３】特開２００４−１７５９７１号公報
【特許文献４】特開２００４−１７５９７２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
従って、本発明の目的は、光学性能が安定し、湿度安定性が高いと同時に、製膜時切り粉の発生等による異物故障がない生産性の高いセルロースフィルムを得ることにあり、該セルロースエステルフィルムを用い耐久性の高い偏光板、液晶表示装置を得ることにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の上記目的は以下の手段により達成されるものである。
【０００９】
（請求項１）
下記に示す化合物（Ｊ）と、（Ｋ）または（Ｌ）で示される化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とするセルロースエステルフィルム。
（Ｊ）平均炭素数が２〜３．５であるグリコール類（ａ）と平均炭素数が４〜４．５である二塩基酸類（ｂ）との重縮合反応から得られる、数平均分子量Ｍｎが１５００以上１００００以下であるポリエステル
（Ｋ）多価アルコールエステル
（Ｌ）下記一般式（１）で表される、分子量が３００以上１５００未満である芳香族末端エステル
一般式（１）
Ｂ−（Ｇ−Ａ）ｎ−Ｇ−Ｂ
（式中Ｂはベンゼンモノカルボン酸残基を表す。Ｇは炭素数２〜１２のアルキレングリコール残基、アリールグリコール残基、または炭素数４〜１２のオキシアルキレングリコール残基を表す。Ａは炭素数４〜１２のアルキレンジカルボン酸残基、炭素数６〜１２のアリールジカルボン酸残基を表す。ｎは１〜５の整数である。）
（請求項２）
総アシル基置換度が２．４以上２．８未満であるセルロースエステルを用いたことを特徴とする請求項１記載のセルロースエステルフィルム。
【００１０】
（請求項３）
下記式（Ｉ）または（II）で定義されるレタデーション値Ｒｏが３０〜２００ｎｍ、Ｒｔが７０〜４００ｎｍであることを特徴とする請求項１または２記載のセルロースエステルフィルム。
【００１１】
式（Ｉ） Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（II） Ｒｔ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
（式中、ｎｘはフィルム面内の屈折率が最も大きい方向の屈折率、ｎｙはｎｘに直角な方向でのフィルム面内の屈折率、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率、ｄはフィルムの厚み（ｎｍ）をそれぞれ表す。）
（請求項４）
下記一般式（２）で表される紫外線吸収性モノマーから合成される紫外線吸収性共重合ポリマーを含有していることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項記載のセルロースエステルフィルム。
【００１２】
【化１】
【００１３】
（式中、ｎは０〜３の整数を表し、Ｒ1〜Ｒ5は水素原子、ハロゲン原子、又は置換基を表し、Ｘは−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＲ7−、−ＯＣＯ−、−ＮＲ7ＣＯ−、を表し、Ｒ6、Ｒ7は水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。但し、Ｒ6で表される基は重合性基を部分構造として有する。）
（請求項５）
請求項１〜４のいずれか１項記載のセルロースエステルフィルムを使用した偏光板。
【００１４】
（請求項６）
請求項１〜４のいずれか１項記載のセルロースエステルフィルムを使用した液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１５】
本発明により、異物故障が少なく光学性能が優れ、耐久性のよい生産性の高いセルロースエステルフィルムを得ることが出来、これを用い高温高湿下での機能低下がない偏光板、液晶表示装置を得ることが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下に、本発明を実施するための最良の形態について説明する。
【００１７】
これまで、偏光板の劣化は、フィルムの透湿性劣化によるものと考えられてきたが、我々の検討の結果、必ずしもフィルムの透湿性劣化とは相関しないことが判った。我々は種々の検討の結果、多価アルコールエステルや特定の構造をもつポリエステル系可塑剤を併用することで、偏光板の劣化がなくなることを見出した。
【００１８】
また、セルロースエステルに特定のポリエステル系可塑剤を含有させると、スリッターでの切れが悪くなり、セルロースエステルフィルムの細かい粉（切り粉と呼ばれる）が多く発生し、この切り粉が製膜工程内に浮遊することで、セルロースエステルフィルムに付着し、異物故障となり、フィルムの生産性を低下させるという問題についても、前記多価アルコールエステルや特定の構造をもつエステル系可塑剤を併用することで、解決されることを見出した。
【００１９】
本発明に使用するセルロースエステルについて説明する。
【００２０】
本発明に係るセルロースエステルフィルムに使用するセルロースエステルは、リンターパルプ、ウッドパルプ及びケナフパルプから選ばれるセルロースを用い、それらに無水酢酸、無水プロピオン酸、または無水酪酸を常法により反応して得られるもので、セルロースの水酸基に対する総アシル基の置換度が２．４以上２．８未満のセルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、及びセルロースアセテートプロピオネートブチレートが好ましく用いられる。総アシル基の置換度が２．４未満であると、レターデーション値Ｒｏ、Ｒｔの発現性には好ましいが、透湿性の観点から湿度安定性が劣り、またアルカリケン化処理で接触角が低下しにくく、偏光子との接着性が劣る。総アシル基の置換度が２．８以上であるとポリエステルポリオールを含有させた場合に特にレターデーション値Ｒｏ、Ｒｔの発現性に乏しい。本発明の範囲内のレターデーション値を発現させるには、総アシル基の置換度が２．４以上２．８未満であることが好ましい。
【００２１】
本発明において、セルローストリアセテート（以降、略してＴＡＣとすることがある）及びセルロースアセテートプロピオネート（以降、略してＣＡＰとすることがある）が好ましい。特に、セルロースアセテートプロピオネートが好ましい。セルロースエステルのアシル基の置換度の測定方法としては、ＡＳＴＭのＤ−８１７−９１に準じて実施することが出来る。これらのセルロースエステルの分子量は数平均分子量（Ｍｎ）として、７００００〜３０００００の範囲が、フィルムに成形した場合の機械的強度が強く好ましい。更に８００００〜２０００００が好ましい。通常、セルロースエステルは反応後の水洗等処理後において、フレーク状となり、その形状で使用されるが、粒子サイズは粒径を０．０５〜２．０ｍｍの範囲とすることにより溶解性を早めることが出来好ましい。
【００２２】
なお、セルロースエステルの平均分子量は、高速液体クロマトグラフィーを用いて公知の方法で測定することが出来る（後述）。
【００２３】
セルロースエステルを有機溶媒に溶解した溶液をドープというが、ドープ中のセルロースエステルの濃度は１０〜３５質量％程度である。更に好ましくは、１５〜２５質量％である。
【００２４】
セルロースエステルに対する溶媒として、酢酸メチル、アセトン、塩化メチレン、エタノール等の有機溶媒が好ましく用いられドープは形成される。形成したセルロースエステルドープは金属支持体上に流延、剥離し、延伸・乾燥することでセルロースエステルフィルムが作製される。
【００２５】
本発明のセルロースエステルフィルムは偏光板用保護フィルムに好適であるが、その特徴は、セルロースエステルフィルムがポリエステルを主とするポリマーを含有することによって、フィルム中からの析出、揮発または蒸発するものをなくすことが出来、偏光板を形成した後に、白濁もブリードアウトせず、更に、光学性能の湿度安定性も改良出来ることである。また、セルロースエステルフィルムの製膜工程において、スリッターでの切り粉の発生等がないため生産性を低下させる異物故障が少ない。
【００２６】
本発明に有用なエステル系可塑剤はセルロースエステルドープ或いはセルロースエステルフィルム中で相分離が起こらないものが選ばれる。
【００２７】
以下、本発明のセルロースエステルフィルムに用いられるエステル系可塑剤について説明する。
【００２８】
（ポリエステル）
本発明において、可塑剤として有用なポリエステルの一つについて述べる。
【００２９】
本発明で使用されるポリエステルの一つは、炭素数の平均が２〜３．５であるグリコール（ａ）と炭素数の平均が４〜５．５である二塩基酸（ｂ）との脱水縮合反応、又は該グリコール（ａ）と炭素数の平均が４〜５．５である無水二塩基酸（ｂ）の付加及び脱水縮合反応による常法により製造されるものである。
【００３０】
かかるポリエステルに用いられるグリコール（ａ）としては、例えばエチレングリコール、ジエチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，４−ブチレングリコール、ネオペンチルグリコール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオールなどが挙げられ、これらを単独又は２種以上を併用して用いられ、例えばエチレングリコール、またはエチレングリコールとジエチレングリコールの混合物などが特に好ましく用いられる。
【００３１】
また、上記したグリコール（ａ）に関しては、グリコール（ａ）の炭素数の平均が、２〜３．５の範囲内にあることが重要である。かかるグリコール（ａ）の炭素数の平均が２より小さいとポリエステルの製造が困難であるし、３．５より大きいとセルロースとの相溶性の劣ったセルロースエステル用改質剤、透明性等の物性が劣ったセルロースフィルムとなる。かかるグリコール（ａ）としては、好ましくは炭素数の平均が２．１〜２．８、又は３．２〜３．５であり、かかる範囲のグリコール（ａ）を用いることで、該ポリエステルの結晶性及び融点が従来汎用のものに近く、それ自体の生産性も良好となる。
【００３２】
上記グリコール（ａ）としてエチレングリコールとジエチレングリコールの混合物が用いられる場合、そのエチレングリコール／ジエチレングリコールのモル比率としては、好ましくは２５〜１００／７５〜０で用いられ、セルロースエステルとの相溶性の優れたセルロースエステル用改質剤を得ることが出来る。更に、より好ましくは２５〜４０／７５〜６０、及び６０〜９５／４０〜５であり、かかる範囲に調製することで、該ポリエステルの結晶性及び融点が従来汎用のものに近く、それ自体の生産性も良好となる。
【００３３】
次に本発明に用いられるこれらポリエステルを構成する二塩基酸（ｂ）としては、例えばコハク酸、グルタル酸、アジピン酸、セバチン酸等を挙げることが出来、これらを単独又は２種以上を併用して用いられ、例えばコハク酸、またはコハク酸とテレフタル酸の混合物等が特に好ましく用いられる。
【００３４】
また、上記した二塩基酸（ｂ）に関しては、二塩基酸（ｂ）の炭素数の平均が４〜５．５の範囲内であることが重要である。かかる二塩基酸（ｂ）の炭素数の平均が４よりも小さいとポリエステルの製造が困難であるし、５．５よりも大きいとセルロースとの相溶性の劣ったセルロースエステル用改質剤、透明性等の物性が劣ったセルロースフィルムとなる。かかる二塩基酸（ｂ）としては、好ましくは炭素数の平均が４．１〜４．８，又は５．２〜５．５であり、かかる範囲の二塩基酸（ｂ）を用いることで、該ポリエステルの結晶性及び融点が従来汎用のものに近く、それ自体の生産性、保存安定性等も良好となる。
【００３５】
上記二塩基酸（ｂ）としてコハク酸とテレフタル酸の混合物が用いられる場合、そのコハク酸／テレフタル酸のモル比率としては、好ましくは２５〜１００／７５〜０で用いられ、セルロースエステルとの相溶性の優れたセルロースエステル用改質剤を得ることが出来る。更に、より好ましくは２５〜４０／７５〜６０、及び６０〜９５／４０〜５であり、かかる範囲に調整することで、該ポリエステルの結晶性及び融点が従来汎用のものに近く、それ自体の生産性も良好となる。
【００３６】
本発明に用いられる前記ポリエステルを構成するグリコール（ａ）と二塩基酸（ｂ）としては、上記以外の組み合わせも含むものであるが、グリコール（ａ）の炭素数の平均と二塩基酸（ｂ）の炭素数の平均との合計が、６〜７．５である組み合わせが好ましい。
【００３７】
上記グリコール（ａ）及び二塩基酸（ｂ）から得られるポリエステルは、数平均分子量が１５００以上２０００００以下の範囲であればよく、より好ましくは１５００〜５０００の基本的に水酸基末端のポリエステルが用いられ、数平均分子量１５００〜４０００のものが特に好ましく用いられる。かかる範囲の数平均分子量を有するポリエステルを用いることで、セルロースエステルとの相溶性に優れたセルロースエステル用可塑剤を得ることが出来る。
【００３８】
本発明の効果を得る上で、上記数平均分子量１５００以上のポリエステルをフィルム中に１０〜３０質量％含有することが好ましい。より好ましくは１０〜２０質量％である。数平均分子量を上記範囲より大きくすると相溶性が劣化し、透湿性を小さくする効果に薄く、むしろ保留性が劣化し易い傾向にあるため、上記のような数平均分子量の範囲が好ましい。実際には、ポリマーのフィルム中の含有量はポリマーの種類や重量平均分子量によって、ドープ中、ウェブ中、フィルム形成後相分離しない範囲内で、寸法安定性、保留性及び透過率等の性能に応じて決められる。
【００３９】
一方、本発明で用いられるポリエステル中に於けるカルボキシル基末端は、本発明のセルロースエステル用改質剤の物性改善効果を低下させるため、その含有量は、水酸基末端の１／２０以下のモル数であることが好ましく、更に１／４０以下に止めることがより好ましい。
【００４０】
上記したポリエステルを製造するにあたり、チタン、亜鉛、鉛、ジルコニウムなどの金属有機酸塩若しくは金属キレート化合物、或いは、酸化アンチモンなど、従来公知のエステル化触媒が使用出来る。かかるエステル化触媒としては、例えばテトライソプロピルチタネート、テトラブチルチタネートなどが好ましく用いられ、用いられるグリコール（ａ）と二塩基酸（ｂ）の合計１００質量部に対して０．０００５〜０．０２質量部用いられることが好ましい。
【００４１】
ポリエステルの重縮合は常法によって行われる。例えば、上記二塩基酸とグリコールの直接反応、上記の二塩基酸またはこれらのアルキルエステル類、例えば二塩基酸のメチルエステルとグリコール類とのポリエステル化反応またはエステル交換反応により熱溶融縮合法か、或いはこれら酸の酸クロライドとグリコールとの脱ハロゲン化水素反応の何れかの方法により容易に合成し得るが、数平均分子量がさほど大きくないポリエステルは直接反応によるのが好ましい。低分子量側に分布が高くあるポリエステルはセルロースエステルとの相溶性が非常によく、フィルム形成後、透湿度も小さく、しかも透明性に富んだセルロースエステルフィルムを得ることが出来る。分子量の調節方法は、特に制限なく従来の方法を使用出来る。例えば、重合条件にもよるが、１価の酸または１価のアルコールで分子末端を封鎖する方法で、これら１価のものの添加量によりコントロール出来る。この場合、１価の酸がポリマーの安定性から好ましい。例えば、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ピバリン酸、安息香酸等を挙げることが出来るが、重縮合反応中には系外に溜去せず、停止して反応系外にこのような１価の酸を系外に除去するときに溜去し易いものが選ばれるが、これらを混合使用してもよい。また、直接反応の場合には、反応中に溜去してくる水の量により反応を停止するタイミングを計ることによっても数平均分子量を調節出来る。その他、仕込むグリコールまたは二塩基酸のモル数を偏らせることによっても出来るし、反応温度をコントロールしても調節出来る。
【００４２】
本発明に係るポリエステルの含有量は、セルロースエステルフィルム中に１〜２０質量％含有することが好ましく、特に３〜１１質量％含有することが好ましい。
【００４３】
（多価アルコールエステル）
本発明に用いられる多価アルコールエステルは、２価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなり、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有する事が好ましい。
【００４４】
用いられる多価アルコールは、次の一般式（Ｉ）で表される。
【００４５】
一般式（Ｉ）
Ｒ1−（ＯＨ）n
式中、Ｒ1はｎ価の有機基、ｎは２以上の正の整数、ＯＨ基はアルコール性またはフェノール性水酸基を表す。
【００４６】
好ましい多価アルコールの例としては、例えば、以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれらに限定されるものではない。アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、ペンタエリスリトール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ジペンタエリスリトール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトールなどを挙げることが出来る。中でも、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールが好ましい。
【００４７】
本発明に係わる多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸などを用いることが出来る。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると、透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。好ましいモノカルボン酸の例としては、以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００４８】
脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を持った脂肪酸を好ましく用いることが出来る。炭素数１〜２０であることが更に好ましく、炭素数１〜１０であることが特に好ましい。酢酸を用いるとセルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。
【００４９】
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸などの飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸などの不飽和脂肪酸などを挙げることが出来る。好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来る。好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸などの安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸などのベンゼン環を２個以上持つ芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来る。特に、安息香酸が好ましい。
【００５０】
多価アルコールエステルの分子量は３００〜１５００の範囲であることが好ましく、３５０〜７５０の範囲であることが更に好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は一種類でもよいし、二種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のＯＨ基は全てエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。以下に、多価アルコールエステルの具体的化合物を示す。
【００５１】
【化２】
【００５２】
【化３】
【００５３】
【化４】
【００５４】
【化５】
【００５５】
本発明に係る多価アルコールエステルの含有量は、セルロースエステルフィルム中に１〜１５質量％含有することが好ましく、特に３〜１０質量％含有することが好ましい。
【００５６】
（一般式（１）で表される芳香族末端エステル）
本発明において好ましい芳香族末端エステルとしては、特に限定されないが、例えば、下記一般式（１）で表すことができる。
【００５７】
一般式（１）
Ｂ−（Ｇ−Ａ）ｎ−Ｇ−Ｂ
式中、Ｂはベンゼンモノカルボン酸残基、Ｇは炭素数２〜１２のアルキレングリコール残基または炭素数６〜１２のアリールグリコール残基または炭素数が４〜１２のオキシアルキレングリコール残基、Ａは炭素数４〜１２のアルキレンジカルボン酸残基または炭素数６〜１２のアリールジカルボン酸残基を表し、またｎは１以上の整数を表す。
【００５８】
これらの芳香族末端エステルは、一般式（１）中、Ｂで示されるベンゼンモノカルボン酸残基とＧで示されるアルキレングリコール残基またはオキシアルキレングリコール残基またはアリールグリコール残基、Ａで示されるアルキレンジカルボン酸残基またはアリールジカルボン酸残基とから構成されるものであり、通常のポリエステル系可塑剤と同様の反応により得られる。
【００５９】
本発明で使用される芳香族末端エステルのベンゼンモノカルボン酸成分としては、例えば、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸等があり、これらはそれぞれ１種または２種以上の混合物として使用することが出来る。
【００６０】
本発明に係わる芳香族末端エステルの炭素数２〜１２のアルキレングリコール成分としては、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，２−プロパンジオール、２−メチル１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロ−ルペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル１，３−ペンタンジオール、２−エチル１，３−ヘキサンジオール、２−メチル１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−オクタデカンジオール等があり、これらのグリコールは、１種または２種以上の混合物として使用される。特に炭素数２〜１２のアルキレングリコールがセルロースエステルとの相溶性に優れているため、特に好ましい。
【００６１】
また、これら芳香族末端エステルの炭素数４〜１２のオキシアルキレングリコール成分としては、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等があり、これらのグリコールは、１種または２種以上の混合物として使用できる。
【００６２】
これらの芳香族末端エステルの炭素数４〜１２のアルキレンジカルボン酸成分としては、例えば、コハク酸、マレイン酸、フマール酸、グルタール酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等があり、これらは、それぞれ１種または２種以上の混合物として使用される。炭素数６〜１２のアリーレンジカルボン酸成分としては、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、１，５ナフタレンジカルボン酸、１，４ナフタレンジカルボン酸等がある。
【００６３】
本発明で使用される芳香族末端エステルは、数平均分子量が、好ましくは３００〜１５００、より好ましくは４００〜１０００の範囲が好適である。また、その酸価は、０．５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、水酸基価は２５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、より好ましくは酸価０．３ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、水酸基価は１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下のものが好適である。
【００６４】
以下、本発明に係る芳香族末端エステルの合成例を示す。
【００６５】
〈サンプルＮｏ．１（芳香族末端エステルサンプル）〉
反応容器にフタル酸４１０部、安息香酸６１０部、ジプロピレングリコール７３７部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．４０部を一括して仕込み窒素気流中で攪拌下、還流凝縮器を付して過剰の１価アルコールを還流させながら、酸価が２以下になるまで１３０〜２５０℃で加熱を続け生成する水を連続的に除去した。次いで２００〜２３０℃で１００〜最終的に４．００ＭＰａ以下の減圧下、留出分を除去し、この後濾過して次の性状を有する芳香族末端ポリエステルを得た。
【００６６】
粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）；４３４００
酸価 ；０．２
〈サンプルＮｏ．２（芳香族末端エステルサンプル）〉
反応容器に、フタル酸４１０部、安息香酸６１０部、エチレングリコール３４１部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．３５部を用いる以外はサンプルＮｏ．１と全く同様にして次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。
【００６７】
粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）；３１０００
酸価 ；０．１
〈サンプルＮｏ．３（芳香族末端エステルサンプル）〉
反応容器に、フタル酸４１０部、安息香酸６１０部、１，２−プロパンジオール４１８部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．３５部を用いる以外はサンプルＮｏ．１と全く同様にして次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。
【００６８】
粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）；３８０００
酸価 ；０．０５
〈サンプルＮｏ．４（芳香族末端エステルサンプル）〉
反応容器に、フタル酸４１０部、安息香酸６１０部、１，３−プロパンジオール４１８部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．３５部を用いる以外はサンプルＮｏ．１と全く同様にして次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。
【００６９】
粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）；３７０００
酸価 ；０．０５
〈サンプルＮｏ．５（芳香族末端エステルサンプル）〉
反応容器に、コハク酸１４６部、安息香酸６１０部、ジプロピレングリコール７３７部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．３５部を用いる以外はサンプルＮｏ．１と全く同様にして次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。
【００７０】
粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）；４５１００
酸価 ；０．１
〈サンプルＮｏ．６（芳香族末端エステルサンプル）〉
反応容器に、コハク酸１４６部、安息香酸６１０部、エチレングリコール３４１部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．３５部を用いる以外はサンプルＮｏ．１と全く同様にして次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。
【００７１】
粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）；４１６００
酸価 ；０．１
〈サンプルＮｏ．７（芳香族末端エステルサンプル）〉
反応容器に、コハク酸１４６部、安息香酸６１０部、１，２−プロパンジオール４１８部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．３５部を用いる以外はサンプルＮｏ．１と全く同様にして次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。
【００７２】
粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）；４８５００
酸価 ；０．０５
〈サンプルＮｏ．８（芳香族末端エステルサンプル）〉
反応容器に、コハク酸１４６部、安息香酸６１０部、１，３−プロパンジオール４１８部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．３５部を用いる以外はサンプルＮｏ．１と全く同様にして次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。
【００７３】
粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）；４７２００
酸価 ；０．１
上記において、粘度の測定は、ＪＩＳ Ｋ ６８３３に準拠してＢＨ型回転粘度計により測定した。また、酸価はＪＩＳ Ｋ００７０に準拠して測定した。
【００７４】
以下に、芳香族末端エステル系可塑剤の具体的化合物を示すが、本発明はこれに限定されない。
【００７５】
【化６】
【００７６】
【化７】
【００７７】
本発明に係る芳香族末端エステルの含有量は、セルロースエステルフィルム中に１〜２０質量％含有することが好ましく、特に３〜１１質量％含有することが好ましい。
【００７８】
本発明に係るポリエステルと多価アルコールエステルと芳香族末端ポリエステルの合計した含有量は、セルロースエステルフィルム中に５〜２０質量％含有することが好ましく、特に７〜１５質量％含有することが好ましい。
【００７９】
（紫外線吸収剤）
液晶画像表示装置に用いる偏光板保護フィルムや他のフィルムには、紫外線吸収剤が含有されており、紫外線吸収剤は屋外で使用する際に液晶や偏光膜の劣化防止の役割をする。本発明においても紫外線吸収剤は好ましく用いられる。紫外線吸収剤は波長３７０ｎｍ以下の紫外線を吸収する性能に優れ、かつ波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が可及的に少ないものが好ましく用いられる。特に、波長３７０ｎｍでの透過率が１０％以下である必要があり、好ましくは５％以下、より好ましくは２％以下である。本発明において、使用し得る紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることが出来るが、着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。光に対しする安定性を有するベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましい。例えばチバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製のＴＩＮＵＶＩＮ１０９（ＵＶ−１とする）、ＴＩＮＵＶＩＮ１７１、ＴＩＮＵＶＩＮ３２６、ＴＩＮＵＶＩＮ３２７、ＴＩＮＵＶＩＮ３２８等を好ましく用いることが出来るが、低分子の紫外線吸収剤は使用量によっては可塑剤同様に製膜中にウェブに析出したり、揮発する虞があるので、その添加量は３〜１０質量％である。
【００８０】
本発明においては、上記低分子の紫外線吸収剤より析出等が起こりにくい高分子紫外線吸収剤を、本発明に係るポリマーと共にセルロースエステルフィルムに含有させることがより好ましく、寸法安定性、保留性、透湿性等を損なうことなく、またフィルム中で相分離することもなく安定した状態で紫外線を十分にカットすることが出来る。本発明に有用な高分子紫外線吸収剤としては、特開平６−１４８４３０号公報に記載されている高分子紫外線吸収剤や、紫外線吸収剤モノマーを含むポリマーは制限なく使用出来る。
【００８１】
特に、本発明では前記一般式（２）で表される紫外線吸収性モノマーから合成される紫外線吸収性共重合ポリマー（高分子紫外線吸収剤）を含有していることが好ましい。
【００８２】
前記一般式（２）において、ｎは０〜３の整数を表し、ｎが２以上の時、複数のＲ5同士は同じであっても異なっていても良く、また互いに連結して５〜７員の環を形成していても良い。
【００８３】
Ｒ1〜Ｒ5は、各々水素原子、ハロゲン原子又は置換基を表す。ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、好ましくはフッ素原子、塩素原子である。また、置換基としては、例えば、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、トリフルオロメチル基、ｔ−ブチル基など）、アルケニル基（例えば、ビニル基、アリル基、３−ブテン−１−イル基など）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、ｐ−トリル基、ｐ−クロロフェニル基など）、ヘテロ環基（例えば、ピリジル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基など）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基など）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基など）、ヘテロ環オキシ基（例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基など）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基など）、アシル基（例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基など）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基など）、カルバモイル基（例えば、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基など）、アミノ基、アルキルアミノ基（例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基など）、アニリノ基（例えば、アニリノ基、Ｎ−メチルアニリノ基など）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基など）、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、スルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基など）、スルファモイルアミノ基（例えば、ジメチルスルファモイルアミノ基など）、スルホニル基（例えば、メタンスルホニル基、ブタンスルホニル基、フェニルスルホニル基など）、スルファモイル基（例えば、エチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基など）、スルホニルアミノ基（例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基など）、ウレイド基（例えば、３−メチルウレイド基、３，３−ジメチルウレイド基、１，３−ジメチルウレイド基など）、イミド基（例えば、フタルイミド基など）、シリル基（例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基など）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ブチルチオ基など）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基など）等が挙げられるが、好ましくは、アルキル基、アリール基である。
【００８４】
一般式（２）において、Ｒ1〜Ｒ5で表される各基が、更に置換可能な基である場合、更に置換基を有していてもよく、また、隣接するＲ1〜Ｒ4が互いに連結して５〜７員の環を形成していてもよい。
【００８５】
Ｒ6は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又はヘテロ環を表すが、アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、アミル基、イソアミル基、ヘキシル基などが挙げられる。また、上記アルキル基は更にハロゲン原子、置換基を有していてもよく、ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、置換基としては、例えば、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、ｐ−トリル基、ｐ−クロロフェニル基など）、アシル基（例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基など）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基など）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基など）、アミノ基、アルキルアミノ基（例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基など）、アニリノ基（例えば、アニリノ基、Ｎ−メチルアニリノ基など）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基など）、ヒドロキシル基、シアノ基、カルバモイル基（例えば、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基など）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基など）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基など）が挙げられる。
【００８６】
シクロアルキル基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基、アダマンチル基などの飽和環式炭化水素を挙げることが出来、これらは無置換でも、置換されていても良い。
【００８７】
アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、１−メチル−２−プロペニル基、３−ブテニル基、２−ブテニル基、３−メチル−２−ブテニル基、オレイル基などが挙げられるが、好ましくはビニル基、１−メチル−２−プロペニル基である。
【００８８】
アルキニル基としては、例えば、エチニル基、ブタジイル基、フェニルエチニル基、プロパルギル基、１−メチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基、１，１−ジメチル−２−プロピニル基などが挙げられるが、好ましくは、エチニル基、プロパルギル基である。
【００８９】
アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基などが挙げられるが、上記アリール基は更にハロゲン原子、置換基を有していてもよく、ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子などが挙げられ、置換基としては、例えば、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、トリフルオロメチル基、ｔ−ブチル基など）、アシル基（例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基など）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基など）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基など）、アミノ基、アルキルアミノ基（例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基など）、アニリノ基（例えば、アニリノ基、Ｎ−メチルアニリノ基など）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基など）、ヒドロキシル基、シアノ基、カルバモイル基（例えば、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基など）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基など）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基など）が挙げられる。
【００９０】
ヘテロ環基としては、例えば、ピリジル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基等が挙げられる。Ｒ6として、好ましくはアルキル基である。
【００９１】
一般式（２）において、Ｘは−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＲ7−、−ＯＣＯ−又は−ＮＲ7ＣＯ−を表す。
【００９２】
Ｒ7は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はヘテロ環基を表すが、アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、アミル基、イソアミル基、ヘキシル基などが挙げられる。かかるアルキル基は、更にハロゲン原子、置換基を有していてもよく、ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、置換基としては、例えば、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、ｐ−トリル基、ｐ−クロロフェニル基など）、アシル基（例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基など）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基など）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基など）、アミノ基、アルキルアミノ基（例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基など）、アニリノ基（例えば、アニリノ基、Ｎ−メチルアニリノ基など）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基など）、ヒドロキシル基、シアノ基、カルバモイル基（例えば、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基など）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基など）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基など）が挙げられる。
【００９３】
シクロアルキル基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基、アダマンチル基などの飽和環式炭化水素を挙げることが出来、これらは無置換でも、置換されていても良い。
【００９４】
アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基などが挙げられるが、かかるアリール基は更にハロゲン原子、置換基を有していてもよく、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子などが挙げられ、置換基としては、例えば、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、トリフルオロメチル基、ｔ−ブチル基など）、アシル基（例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基など）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基など）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基など）、アミノ基、アルキルアミノ基（例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基など）、アニリノ基（例えば、アニリノ基、Ｎ−メチルアニリノ基など）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基など）、ヒドロキシル基、シアノ基、カルバモイル基（例えば、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基など）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基など）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基など）が挙げられる。
【００９５】
ヘテロ環基としては、例えば、ピリジル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基等が挙げられる。Ｒ7として、好ましくは水素原子である。
【００９６】
本発明でいう重合性基とは、不飽和エチレン系重合性基又は二官能系重縮合性基を意味するが、好ましくは不飽和エチレン系重合性基である。不飽和エチレン系重合性基の具体例としては、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチリル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基、シアン化ビニル基、２−シアノアクリルオキシ基、１，２−エポキシ基、ビニルベンジル基、ビニルエーテル基などが挙げられるが、好ましくは、ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基アクリルアミド基、メタクリルアミド基である。また、重合性基を部分構造として有するとは、上記重合性基が直接、若しくは２価以上の連結基によって結合していることを意味し、２価以上の連結基とは、例えば、アルキレン基（例えば、メチレン、１，２−エチレン、１，３−プロピレン、１，４−ブチレン、シクロヘキサン−１，４−ジイルなど）、アルケニレン基（例えば、エテン−１，２−ジイル、ブタジエン−１，４−ジイルなど）、アルキニレン基（例えば、エチン−１，２−ジイル、ブタン−１，３−ジイン−１，４−ジイルなど）、少なくとも一つの芳香族基を含む化合物から誘導される連結基（例えば、置換若しくは無置換のベンゼン、縮合多環炭化水素、芳香族複素環、芳香族炭化水素環集合、芳香族複素環集合など）、ヘテロ原子連結基（酸素、硫黄、窒素、ケイ素、リン原子など）が挙げられるが、好ましくは、アルキレン基、及び、ヘテロ原子で連結する基である。これらの連結基は更に組み合わせて複合基を形成してもよい。紫外線吸収性モノマーから誘導されるポリマーの重量平均分子量が２０００以上３００００以下であることが好ましく、より好ましくは５０００以上２００００以下である。
【００９７】
本発明に用いられる紫外線吸収性ポリマーの重量平均分子量は、公知の分子量調節方法で調整することが出来る。そのような分子量調節方法としては、例えば四塩化炭素、ラウリルメルカプタン、チオグリコール酸オクチル等の連鎖移動剤を添加する方法等が挙げられる。重合温度は通常室温から１３０℃、好ましくは５０℃から１００℃で行われる。
【００９８】
本発明に用いられる紫外線吸収性ポリマーは、紫外線吸収性モノマーのみの単重合体であっても、他の重合性モノマーとの共重合体であってもよいが、共重合可能な他の重合性モノマーとしては、例えば、スチレン誘導体（例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ビニルナフタレンなど）、アクリル酸エステル誘導体（例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ｉ−ブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸オクチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ベンジルなど）、メタクリル酸エステル誘導体（例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ｉ−ブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル等）、アルキルビニルエーテル（例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテルなど）、アルキルビニルエステル（例えば、ギ酸ビニル、酢酸ビニル、酪酸ビニル、カプロン酸ビニル、ステアリン酸ビニルなど）、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メタクリルアミドなどの不飽和化合物が挙げられる。好ましくは、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、酢酸ビニルである。
【００９９】
紫外線吸収性モノマーから誘導されるポリマー中の紫外線吸収性モノマー以外の共重合成分が、親水性のエチレン性不飽和モノマーを少なくとも１種含有することも好ましい。
【０１００】
親水性のエチレン性不飽和モノマーとしては、親水性で分子中に重合可能な不飽和二重結合を有するもので有れば特に制限されず、例えば、アクリル酸或いはメタクリル酸等の不飽和カルボン酸、若しくはヒドロキシル基又はエーテル結合を有する、アクリル酸若しくはメタクリル酸エステル（例えば、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、メタクリル酸２−ヒドロキシプロピル、メタクリル酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、２，３−ジヒドロキシ−２−メチルプロピルメタクリレート、アクリル酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸２−エトキシエチル、アクリル酸ジエチレングリコールエトキシレート、アクリル酸３−メトキシブチルなど）、アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド等の（Ｎ−置換）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルオキサゾリドン等が挙げられる。
【０１０１】
親水性のエチレン性不飽和モノマーとしては、水酸基若しくはカルボキシル基を分子内に有する（メタ）アクリレートが好ましく、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、メタクリル酸２−ヒドロキシプロピル、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸２−ヒドロキシプロピルが特に好ましい。
【０１０２】
これらの重合性モノマーは、１種、または２種以上併用して紫外線吸収性モノマーと共重合させることが出来る。
【０１０３】
本発明に用いられる紫外線吸収性共重合ポリマーの重合方法は、特に問わないが、従来公知の方法を広く採用することが出来、例えば、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合などが挙げられる。ラジカル重合法の開始剤としては、例えば、アゾ化合物、過酸化物等が挙げられ、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、アゾビスイソブチル酸ジエステル誘導体、過酸化ベンゾイル、過酸化水素などが挙げられる。重合溶媒は特に問わないが、例えば、トルエン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロエタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、メタノール等のアルコール系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル系溶媒、アセトン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶媒、水溶媒等が挙げられる。溶媒の選択により、均一系で重合する溶液重合、生成したポリマーが沈澱する沈澱重合、ミセル状態で重合する乳化重合、懸濁状態で重合する懸濁重合を行うことも出来る。但し、乳化重合によって得られる紫外線吸収性ラテックスは光学フィルム用途として適していない。
【０１０４】
上記紫外線吸収性モノマー、これと共重合可能な重合性モノマー及び親水性のエチレン性不飽和モノマーの使用割合は、得られる紫外線吸収性共重合ポリマーと他の透明ポリマーとの相溶性、光学フィルムの透明性や機械的強度に対する影響を考慮して適宜選択される。
【０１０５】
紫外線吸収性モノマーから誘導されるポリマー中の紫外線吸収性モノマーの含有量が１〜７０質量％であることが好ましく、より好ましくは、５〜６０質量％である。紫外線吸収性ポリマーにおける紫外線モノマーの含有量が１質量％未満の場合、所望の紫外線吸収性能を満たそうとした場合に多量の紫外線吸収性ポリマーを使用しなければならず、ヘイズの上昇或いは析出などにより透明性が低下し、フィルム強度を低下させる要因となる。一方、紫外線吸収性ポリマーにおける紫外線モノマーの含有量が７０質量％を超えた場合、他のポリマーとの相溶性が低下するため、透明な光学フィルムを得ることが出来ない。また、溶媒に対する溶解度が低くなり、フィルム作製の際の作業性、生産性が劣る。
【０１０６】
親水性エチレン性不飽和モノマーは、上記紫外線吸収性共重合体中に、０．１〜５０質量％含まれることが好ましい。０．１質量％以下では、親水性エチレン性不飽和モノマーによる相溶性の改良効果が現れず、５０質量％より多いと共重合体の単離精製が困難となる。親水性エチレン性不飽和モノマーの更に好ましい含量は０．５〜２０質量％である。紫外線吸収性モノマー自身に親水性基が置換している場合、親水性の紫外線吸収性モノマーと、親水性エチレン性不飽和モノマーの合計の含量が上記範囲内であることが好ましい。
【０１０７】
紫外線吸収性モノマー及び親水性モノマーの好ましい含有量を満たすために、両者に加え、更に分子中に親水性基を有さないエチレン性不飽和モノマーを共重合させることが好ましい。
【０１０８】
紫外線吸収性モノマー及び（非）親水性エチレン性不飽和モノマーは、各々２種以上混合して共重合させても良い。
【０１０９】
以下、本発明に好ましく用いられる紫外線吸収性モノマーの代表例を例示するが、これらに限定されるものではない。
【０１１０】
【化８】
【０１１１】
【化９】
【０１１２】
【化１０】
【０１１３】
【化１１】
【０１１４】
【化１２】
【０１１５】
【化１３】
【０１１６】
【化１４】
【０１１７】
本発明に用いられる紫外線吸収剤、紫外線吸収性モノマー及びその中間体は公知の文献を参照して合成することが出来る。例えば、米国特許第３，０７２，５８５号、同３，１５９，６４６号、同３，３９９，１７３号、同３，７６１，２７２号、同４，０２８，３３１号、同５，６８３，８６１号、ヨーロッパ特許第８６，３００，４１６号、特開昭６３−２２７５７５号、同６３−１８５９６９号、Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｂｕｌｌｅｔｉｎ．Ｖ．２０（２）、１６９−１７６及びＣｈｅｍｉｃａｌ Ａｂｓｔｒａｃｔｓ Ｖ．１０９、Ｎｏ．１９１３８９などを参照して合成することが出来る。
【０１１８】
本発明に用いられる紫外線吸収剤及び紫外線吸収性ポリマーは、他の透明ポリマーに混合する際に、必要に応じて低分子化合物若しくは高分子化合物、無機化合物などを一緒に用いることも出来る。例えば、本発明に用いられる紫外線吸収剤と他の低分子紫外線吸収剤とを同時に他の透明ポリマーに混合したり、本発明に用いられる紫外線吸収性ポリマーと他の低分子紫外線吸収剤とを、同時に他の透明ポリマーに混合することも好ましい態様の一つである。同様に、酸化防止剤、可塑剤、難燃剤などの添加剤を同時に混合することも好ましい態様の一つである。
【０１１９】
光学フィルムへの本発明に用いられる紫外線吸収剤及び紫外線吸収性ポリマーの添加方法は、光学フィルム中に含有させてもよいし、光学フィルム上に塗布してもよい。光学フィルム中に含有させる場合、直接添加しても良いが、生産性の優れるインライン添加が好ましい。インライン添加は、予め有機溶媒（例えば、メタノール、エタノール、メチレンクロライドなど）に溶解させた後、インラインミキサー等でドープ組成中に添加する方法である。
【０１２０】
本発明に用いられる紫外線吸収剤及び紫外線吸収性ポリマーの使用量は、化合物の種類、使用条件などにより一様ではないが、紫外線吸収剤である場合には、光学フィルム１ｍ２当たり０．２〜３．０ｇが好ましく、０．４〜２．０が更に好ましく、０．５〜１．５が特に好ましい。また、紫外線吸収ポリマーである場合には、光学フィルム１ｍ2当たり０．６〜９．０ｇが好ましく、１．２〜６．０が更に好ましく、１．５〜３．０が特に好ましい。
【０１２１】
更に、液晶劣化防止の観点から、波長３８０ｎｍ以下の紫外線吸収性能に優れ、かつ、良好な液晶表示性の観点から、４００ｎｍ以上の可視光吸収が少ないものが好ましい。本発明においては、特に、波長３８０ｎｍでの透過率が８％以下であることが好ましく、４％以下が更に好ましく、１％以下であることが特に好ましい。
【０１２２】
本発明に用いることの出来る市販品としての紫外線吸収剤モノマーとして、大塚化学社製の反応型紫外線吸収剤ＲＵＶＡ−９３の１−（２−ベンゾトリアゾール）−２−ヒドロキシ−５−（２−メタクリロイルオキシエチル）ベンゼンまたはこの類似化合物がある。これらを単独又は共重合したポリマーまたはコポリマーも好ましく用いられるが、これらに限定されない。例えば、市販品の高分子紫外線吸収剤として、大塚化学（株）製のＰＵＶＡ−３０Ｍも好ましく用いられる。紫外線吸収剤は２種以上用いてもよい。紫外線吸収剤のドープへの添加方法は、アルコールやメチレンクロライド、ジオキソラン、酢酸メチルなどの有機溶媒に紫外線吸収剤を溶解してから添加するか、または直接ドープ組成中に添加してもよい。
【０１２３】
また、本発明のセルロースエステルフィルムには、酸化防止剤を含有していてもよい。例えば特開平５−１９７０７３号公報に記載されているような、過酸化物分解剤、ラジカル連鎖禁止剤、金属不活性剤または酸捕捉剤を含有していてもよい。これらの化合物の添加量は、セルロースエステルに対して質量割合で１ｐｐｍ〜１．０％が好ましく、１０〜１０００ｐｐｍが更に好ましい。
【０１２４】
また本発明において、セルロースエステルフィルム中に、微粒子のマット剤を含有するのが好ましく、微粒子のマット剤としては、例えば二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の無機微粒子や架橋高分子微粒子を含有させることが好ましい。中でも二酸化ケイ素がフィルムのヘイズを小さく出来るので好ましい。微粒子の２次粒子の平均粒径は０．０１〜１．０μｍの範囲で、その含有量はセルロースエステルに対して０．００５〜０．３質量％が好ましい。二酸化ケイ素のような微粒子には有機物により表面処理されている場合が多いが、このようなものはフィルムのヘイズを低下出来るため好ましい。表面処理で好ましい有機物としては、ハロシラン類、アルコキシシラン類（特にメチル基を有するアルコキシシラン類）、シラザン、シロキサンなどが挙げられる。微粒子の平均粒径が大きい方がマット効果は大きく、反対に平均粒径の小さい方は透明性に優れるため、好ましい微粒子の一次粒子の平均粒径は５〜５０ｎｍで、より好ましくは７〜１６ｎｍである。これらの微粒子はセルロースエステルフィルム中では、通常、凝集体として存在しセルロースエステルフィルム表面に０．０１〜１．０μｍの凹凸を生成させることが好ましい。二酸化ケイ素の微粒子としてはアエロジル（株）製のＡＥＲＯＳＩＬ ２００、２００Ｖ、３００、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２，ＯＸ５０、ＴＴ６００等を挙げることが出来、好ましくはＡＥＲＯＳＩＬ ２００Ｖ、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２である。これらのマット剤は２種以上併用してもよい。２種以上併用する場合、任意の割合で混合して使用することが出来る。この場合、平均粒径や材質の異なるマット剤、例えばＡＥＲＯＳＩＬ ２００ＶとＲ９７２Ｖを質量比で０．１：９９．９〜９９．９〜０．１の範囲で使用出来る。
【０１２５】
次に、本発明のセルロースエステルフィルムの製造方法について述べる。
【０１２６】
本発明におけるセルロースエステルドープの調製方法について述べる。セルロースエステルに対する良溶媒を主とする有機溶媒に溶解釜中でフレーク状のセルロースエステルを攪拌しながら溶解し、ドープを形成する。溶解には、常圧で行う方法、主溶媒の沸点以下で行う方法、主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法、特開平９−９５５４４号、同９−９５５５７号または同９−９５５３８号公報に記載の如き冷却溶解法で行う方法、特開平１１−２１３７９号公報に記載の如き高圧で行う方法等種々の溶解方法がある。溶解後ドープを濾材で濾過し、脱泡してポンプで次工程に送る。ドープ中のセルロースエステルの濃度は１０〜３５質量％程度である。更に好ましくは、１５〜２５質量％である。本発明に有用なポリマーをセルロースエステルドープ中に含有させるには、予め有機溶媒に該ポリマーを溶解してから添加、セルロースエステルドープに直接添加等、添加方法については、制限なく行うことが出来る。この場合、ポリマーがドープ中で白濁したり、相分離したりしないように添加する。添加量については、前記の通りである。
【０１２７】
セルロースエステルに対する良溶媒としての有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、ギ酸エチル、アセトン、シクロヘキサノン、アセト酢酸メチル、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、４−メチル−１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、塩化メチレン、ブロモプロパン等を挙げることが出来、酢酸メチル、アセトン、塩化メチレンを好ましく用いられる。しかし最近の環境問題から非塩素系の有機溶媒の方が好ましい傾向にある。また、これらの有機溶媒に、メタノール、エタノール、ブタノール等の低級アルコールを併用すると、セルロースエステルの有機溶媒への溶解性が向上したりドープ粘度を低減出来るので好ましい。特に沸点が低く、毒性の少ないエタノールが好ましい。本発明に係るドープに使用する有機溶媒は、セルロースエステルの良溶媒と貧溶媒を混合して使用することが、生産効率の点で好ましく、良溶媒と貧溶媒の混合比率の好ましい範囲は、良溶媒が７０〜９８質量％であり、貧溶媒が２〜３０質量％である。本発明に用いられる良溶媒、貧溶媒とは、使用するセルロースエステルを単独で溶解するものを良溶媒、単独では溶解しないものを貧溶媒と定義している。本発明に係るドープに使用する貧溶媒としては、特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール、シクロヘキサン、アセトン、シクロヘキサノン等を好ましく使用し得る。本発明に有用なエステル系可塑剤に対しても、有機溶媒の選定は、セルロースエステルの良溶媒を用いるのが好ましい。前記のように、低分子可塑剤を使用する場合には、通常の添加方法で行うことが出来、ドープ中に直接添加しても、予め有機溶媒に溶解してからドープ中に注ぎ入れてもよい。
【０１２８】
本発明において、前記のような種々の添加剤をセルロースエステルドープに添加する際、セルロースエステルドープと各種添加剤を少量のセルロースエステルとを溶解させた溶液にしてインライン添加し混合を行うことも出来好ましい。例えば、スタチックミキサーＳＷＪ（東レ静止型管内混合器 Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ）（東レエンジニアリング製）のようなインラインミキサーを使用するのが好ましい。インラインミキサーを用いる場合、セルロースエステルを高圧下で濃縮溶解したドープに適用するのが好ましく、加圧容器の種類は特に問うところではなく、所定の圧力に耐えることが出来、加圧下で加熱、攪拌が出来ればよい。
【０１２９】
本発明において、セルロースエステルドープは濾過することによって異物、特に液晶画像表示装置において、画像と認識しまごう異物は除去しなければならい。偏光板用保護フィルムの品質は、この濾過によって決まるといってよい。濾過に使用する濾材は絶対濾過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過精度が小さ過ぎると濾過材の目詰まりが発生しやすく、濾材の交換を頻繁に行わなければならず、生産性を低下させるという問題点ある。このため、本発明のセルロースエステルドープの濾材は、絶対濾過精度０．００８ｍｍ以下のものが好ましく、０．００１〜０．００８ｍｍの範囲がより好ましく、０．００３〜０．００６ｍｍの範囲の濾材が更に好ましい。濾材の材質には特に制限はなく、通常の濾材を使用することが出来るが、ポリプロピレン、テフロン（登録商標）等のプラスチック繊維製の濾材やステンレス繊維等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。本発明のセルロースエステルドープの濾過は通常の方法で行うことが出来るが、溶媒の常圧での沸点以上でかつ溶媒が沸騰しない範囲の温度で加圧下加熱しながら濾過する方法が、濾過前後の差圧（以下、濾圧とすることがある）の上昇が小さく、好ましい。好ましい温度範囲は４５〜１２０℃であり、４５〜７０℃がより好ましく、４５〜５５℃の範囲であることが更に好ましい。濾圧は小さい方が好ましい。濾圧は１．６×１０６Ｐａ以下であることが好ましく、１．２×１０6Ｐａ以下であることがより好ましく、１．０×１０6Ｐａ以下であることが更に好ましい。原料のセルロースにアシル基の未置換若しくは低置換度のセルロースエステルが含まれていると異物故障（以下輝点とすることがある）が発生することがある。輝点は直交状態（クロスニコル）の２枚の偏光板の間にセルロースエステルフィルムを置き、光を片側から照射して、その反対側から光学顕微鏡（５０倍）で観察すると、正常なセルロースエステルフィルムであれば、光が遮断されていて、黒く何も見えないが、異物があるとそこから光が漏れて、スポット状に光って見える現象である。輝点の直径が大きいほど液晶画像表示装置とした場合実害が大きく、５０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下がより好ましく、更に８μｍ以下が好ましい。尚、輝点の直径とは、輝点を真円に近似して測定する直径を意味する。輝点は上記の直径のものが４００個／ｃｍ2以下であれば実用上問題ないが、３００個／ｃｍ2以下が好ましく、２００個／ｃｍ2以下がより好ましい。このような輝点の発生数及び大きさを減少させるために、細かい異物を十分濾過する必要がある。また、特開２０００−１３７１１５号公報に記載のような、一度製膜したセルロースエステルフィルムの粉砕品をドープにある割合再添加して、セルロースエステル及びその添加剤の原料とする方法は輝点を低減することが出来るため好ましく用いることが出来る。
【０１３０】
次に、セルロースエステルドープを金属支持体上に流延する工程、金属支持体上での乾燥工程及びウェブを金属支持体から剥離する剥離工程について述べる。金属支持体は無限に移行する無端の金属ベルト或いは回転する金属ドラムであり、その表面は鏡面となっている。流延工程は、上記の如きドープを加圧型定量ギヤポンプを通して加圧ダイに送液し、流延位置において、金属支持体上に加圧ダイからドープを流延する工程である。その他の流延する方法は流延されたドープ膜をブレードで膜厚を調節するドクターブレード法、或いは逆回転するロールで調節するリバースロールコーターによる方法等があるが、口金部分のスリット形状を調整出来、膜厚を均一にし易い加圧ダイが好ましい。加圧ダイには、コートハンガーダイやＴダイ等があるが、何れも好ましく用いられる。製膜速度を上げるために加圧ダイを金属支持体上に２基以上設け、ドープ量を分割して重層してもよい。膜厚の調節には、所望の厚さになるように、ドープ濃度、ポンプの送液量、ダイの口金のスリット間隙、ダイの押し出し圧力、金属支持体の速度等をコントロールするのがよい。
【０１３１】
金属支持体上での乾燥工程は、ウェブ（金属支持体上に流延した以降のドープ膜の呼び方をウェブとする）を支持体上で加熱し溶媒を蒸発させる工程である。溶媒を蒸発させるには、ウェブ側及び支持体裏側から加熱風を吹かせる方法、支持体の裏面から加熱液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等がある。またそれらを組み合わせる方法も好ましい。また、ウェブの膜厚が薄ければ乾燥が早い。金属支持体の温度は全体が同じでも、位置によって異なっていてもよい。
【０１３２】
本発明に適した金属支持体上での乾燥方法は、例えば、金属支持体温度を０〜４０℃、好ましくは５〜３０℃として流延するのが好ましい。ウェブに当てる乾燥風は３０〜４５℃程度が好ましいが、これに限定されない。
【０１３３】
剥離工程は、金属支持体上で有機溶媒を蒸発させて、金属支持体が一周する前にウェブを剥離する工程で、その後ウェブは乾燥工程に送られる。金属支持体からウェブを剥離する位置のことを剥離点といい、また剥離を助けるロールを剥離ロールという。ウェブの厚さにもよるが、剥離点でのウェブの残留溶媒量（下記式）があまり大き過ぎると剥離し難かったり、逆に支持体上で充分に乾燥させてから剥離すると、途中でウェブの一部が剥がれたりすることがある。通常、残留溶媒量が２０〜１５０質量％でウェブの剥離が行われる。本発明において好ましい剥離残留溶媒量は２０〜４０質量％または６０〜１２０質量％で、特に好ましくは２０〜３０質量％または７０〜１１５質量％である。製膜速度を上げる方法（残留溶媒量が出来るだけ多いうちに剥離するため製膜速度を上げることが出来る）として、残留溶媒量が多くとも剥離出来るゲル流延法（ゲルキャスティング）がある。その方法としては、ドープ中にセルロースエステルに対する貧溶媒を加えて、ドープ流延後、ゲル化する方法、支持体の温度を低めてゲル化する方法等がある。また、ドープ中に金属塩を加える方法もある。支持体上でゲル化させ膜を強くすることによって、剥離を早め製膜速度を上げることが出来る。残留溶媒量がより多い時点で剥離する場合、ウェブが柔らか過ぎると剥離時平面性を損なったり、剥離張力によるツレや縦スジが発生し易く、経済速度と品質との兼ね合いで残留溶媒量を決められる。
【０１３４】
本発明で用いる残留溶媒量は下記の式で表せる。
【０１３５】
残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
ここで、Ｍはウェブの任意時点での質量、ＮはＭを１１０℃で３時間乾燥させた時の質量である。
【０１３６】
また、セルロースエステルフィルムの乾燥工程においては、支持体より剥離したフィルムを更に乾燥し、残留溶媒量を２．０質量％以下にすることが好ましい、より好ましくは１．０質量％、更に好ましくは、０．５質量％以下である。
【０１３７】
ウェブ乾燥工程ではロールを千鳥状に配置したロール乾燥装置、ウェブの両端をクリップで把持しながら、幅保持或いは若干幅方向に延伸するテンター乾燥装置でウェブを搬送しながら乾燥する方式が採られる。本発明においては、テンター乾燥装置支持体より剥離した後任意の過程で、また任意の残留溶媒量の多いところで、幅保持または延伸することによって光学性能の湿度安定性を良好ならしめるため特に好ましい。ウェブを乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行う。簡便さの点で熱風で行うのが好ましい。乾燥温度は４０〜１５０℃の範囲で段階的に高くしていくことが好ましく、５０〜１４０℃の範囲で行うことが更に好ましい。
【０１３８】
尚、延伸操作は多段階に分割して実施してもよく、流延方向、幅手方向に二軸延伸を実施することが好ましい。また、二軸延伸を行う場合にも同時二軸延伸を行ってもよいし、段階的に実施してもよい。この場合、段階的とは、例えば、延伸方向の異なる延伸を順次行うことも可能であるし、同一方向の延伸を多段階に分割し、かつ異なる方向の延伸をそのいずれかの段階に加えることも可能である。
【０１３９】
また、同時２軸延伸には、一方向に延伸し、もう一方を張力を緩和して収縮させる場合も含まれる。同時２軸延伸の好ましい延伸倍率は幅方向に×１．０５〜×１．５倍で長手方向（流延方向）に×０．８〜×１．３倍であり、特に幅方向に×１．１〜×１．５倍、長手方向に×０．８〜×０．９９倍とすることが好ましい。特に好ましくは幅方向に×１．１〜×１．４倍、長手方向に×０．９〜×０．９９倍である。
【０１４０】
セルロースエステルフィルムの膜厚は薄い方が出来上がった偏光板が薄くなり、液晶ディスプレイの薄膜化が容易になるため好ましいが、薄過ぎると、透湿度や、引き裂き強度などが劣化する。これらを両立するセルロースエステルフィルムの膜厚は１０〜２００μｍが好ましく、４０〜１２０μｍが更に好ましく、５０〜７０μｍが特に好ましい。
【０１４１】
セルロースエステルフィルムの幅は、１．４ｍ以上、好ましくは１．４ｍ〜４ｍの範囲が、生産性の観点から大サイズの液晶表示装置に好ましい。
【０１４２】
本発明のセルロースエステルフィルムは、高い透湿性、寸法安定性などから液晶表示用部材に用いられるのが好ましい。液晶表示用部材とは液晶表示装置に使用される部材のことで、例えば、偏光板、偏光板用保護フィルム、位相差板、反射板、視野角向上フィルム、防眩フィルム、無反射フィルム、帯電防止フィルム等が挙げられる。上記記載の中でも、偏光板、偏光板用保護フィルムに用いるのがよい。
【０１４３】
（偏光板）
偏光板は製膜した本発明に係るセルロースエステルフィルムを４０℃の２．５ｍｏｌ／ｌの水酸化ナトリウム水溶液で６０秒間表面鹸化処理を行い、３分間水洗して乾燥させた。別に１２０μｍの厚さのポリビニルアルコールをヨウ素１質量部、ホウ酸４質量部を含む水溶液１００質量部に浸漬し、５０℃で４倍に立て方向に延伸した偏光膜を用意し、この両面に上記表面鹸化処理したセルロースエステルフィルムを完全鹸化型のポリビニルアルコール５質量％水溶液を粘着剤として貼り合わせ偏光板を作製する。
【０１４４】
本発明の偏光板用保護フィルムである延伸セルロースエステルフィルムは、下記式（Ｉ）により定義されるレターデーション値Ｒｏが３０〜２００ｎｍでかつ下記式（II）により定義にされるレターデーション値Ｒｔが７０〜４００ｎｍの範囲にあることが特徴である。
【０１４５】
式（Ｉ） Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（II） Ｒｔ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
式中、ｎｘはフィルム面内の屈折率が最も大きい方向の屈折率、ｎｙはｎｘに直角な方向でのフィルム面内の屈折率、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率、ｄはフィルムの厚み（ｎｍ）をそれぞれ表す。
【０１４６】
レターデーション値を上記範囲にすることで、特に偏光板用位相差フィルムとしての光学性能を十分に満足することが出来る。
【０１４７】
尚、レターデーション値Ｒｏ、Ｒｔは自動複屈折率計を用いて測定することが出来る。例えば、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株））を用いて、２３℃、５５％ＲＨの環境下で、波長が５９０ｎｍで求めることが出来る。
【０１４８】
本発明の偏光板用保護フィルムは、鹸化処理を行った後も、光透過率（可視光の）９０％以上であることが好ましく、より好ましくは９５％以上、更に９４％以上であることが好ましく、またヘイズは１％未満であることが好ましく、より好ましくは０．５％未満、更に０．１％未満であることが好ましい。特に０％であることが最も好ましい。
【０１４９】
（表示装置）
本発明の偏光板を表示装置に組み込むことによって、種々の視認性に優れた本発明の表示装置を作製することが出来る。本発明のセルロースステルフィルムは反射型、透過型、半透過型ＬＣＤ或いはＴＮ型、ＳＴＮ型、ＯＣＢ型、ＨＡＮ型、ＶＡ型（ＰＶＡ型、ＭＶＡ型）、ＩＰＳ型等の各種駆動方式のＬＣＤで好ましく用いられる。特に、ＶＡ型液晶表示装置に好適である。
【０１５０】
特に画面が３０型以上の大画面のＶＡ型液晶表示装置では、光学性能の湿度安定性の改善の他、色むらや波打ちむらが少なく、長時間の鑑賞でも目が疲れないという効果があった。
【実施例】
【０１５１】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれにより限定されるものではない。
【０１５２】
実施例１
（ポリエステルの合成例Ａ１）
冷却凝縮器を装着した反応器に、２３６質量部のエチレングリコール、６８３質量部の１，４−ブチレングリコール、１１８０質量部のコハク酸、０．０３質量部のテトラブチルチタネートを投入し、１４０℃で２時間、２２０℃で２時間、冷却凝縮器を外して２２０℃でさらに２０時間、脱水縮合反応を行って、数平均分子量２０００のポリエステル（Ａ１）を得た。これに使用したグリコール（ａ）の炭素数の平均は３．３３、二塩基酸（ｂ）の炭素数は４であった。
【０１５３】
（ポリエステルの合成例Ａ２）
冷却凝縮器を装着した反応器に、６９９質量部のエチレングリコール、１１８０質量部のコハク酸、０．０３質量部のテトラブチルチタネートを投入し、ポリエステルの合成例Ａ１と同様の操作を行い、数平均分子量２０００のポリエステル（Ａ２）を得た。これに使用したグリコール（ａ）の炭素数の平均は２、二塩基酸（ｂ）の炭素数は４であった。
【０１５４】
（ポリエステルの合成例Ａ３）
冷却凝縮器を装着した反応器に、７０２質量部のエチレングリコール、８８５質量部のコハク酸、３６５質量部のアジピン酸、０．０３質量部のテトラブチルチタネートを投入し、ポリエステルの合成例Ａ１と同様の操作を行い、数平均分子量２０００のポリエステル（Ａ３）を得た。これに使用したグリコール（ａ）の炭素数の平均は２、二塩基酸（ｂ）の炭素数は４．５であった。
【０１５５】
（ポリエステルの合成例Ａ４）
冷却凝縮器を装着した反応器に、６３１質量部のエチレングリコール、１０１質量部の１，４−ブチレングリコール、１０６２質量部のコハク酸、１４６質量部のアジピン酸、０．０３質量部のテトラブチルチタネートを投入し、ポリエステルの合成例Ａ１と同様の操作を行い、数平均分子量２０００のポリエステル（Ａ４）を得た。これに使用したグリコール（ａ）の炭素数の平均は２．２、二塩基酸（ｂ）の炭素数は４．２であった。
【０１５６】
（ポリエステルの合成例Ａ５）
冷却凝縮器を装着した反応器に、２２６質量部のエチレングリコール、６５６質量部の１，４−ブチレングリコール、１１８０質量部のコハク酸、０．０３質量部のテトラブチルチタネートを投入し、ポリエステルの合成例Ａ１と同様の操作を行い、数平均分子量４０００のポリエステル（Ａ５）を得た。これに使用したグリコール（ａ）の炭素数の平均は３．３３、二塩基酸（ｂ）の炭素数は４であった。
【０１５７】
（ポリエステルの合成例Ａ６）
冷却凝縮器を装着した反応器に、２４９質量部のエチレングリコール、７２１質量部の１，４−ブチレングリコール、１１８０質量部のコハク酸、０．０３質量部のテトラブチルチタネートを投入し、ポリエステルの合成例Ａ１と同様の操作を行い、数平均分子量１５００のポリエステル（Ａ６）を得た。これに使用したグリコール（ａ）の炭素数の平均は３．３３、二塩基酸（ｂ）の炭素数は４であった。
【０１５８】
（ポリエステルの合成例Ａ７）
冷却凝縮器を装着した反応器に、６４８質量部のエチレングリコール、５８質量部のジエチレングリコール、１１２１質量部のコハク酸、８３質量部のテレフタル酸、０．０３質量部のテトラブチルチタネートを投入し、ポリエステルの合成例Ａ１と同様の操作を行い、数平均分子量３０００のポリエステル（Ａ４）を得た。これに使用したグリコール（ａ）の炭素数の平均は２．１、二塩基酸（ｂ）の炭素数は４．２であった。
【０１５９】
（ポリエステルの比較合成例Ｂ１）
冷却凝縮器を装着した反応器に、２３８質量部のエチレングリコール、６９３質量部の１，４−ブチレングリコール、１４６０質量部のアジピン酸、０．０３質量部のテトラブチルチタネートを投入し、ポリエステルの合成例Ａ１と同様の操作を行い、数平均分子量２０００のポリエステル（Ｂ１）を得た。これに使用したグリコール（ａ）の炭素数の平均は３．３３、二塩基酸（ｂ）の炭素数は６であった。
【０１６０】
（ポリエステルの比較合成例Ｂ２）
冷却凝縮器を装着した反応器に、１０３０質量部の１，４−ブチレングリコール、１１８０質量部のコハク酸、０．０３質量部のテトラブチルチタネートを投入し、ポリエステルの合成例Ａ１と同様の操作を行い、数平均分子量２０００のポリエステル（Ｂ２）を得た。これに使用したグリコール（ａ）の炭素数の平均は４、二塩基酸（ｂ）の炭素数は４であった。
【０１６１】
（ポリエステルの比較合成例Ｂ３）
冷却凝縮器を装着した反応器に、７０６質量部のエチレングリコール、１４６０質量部のアジピン酸、０．０３質量部のテトラブチルチタネートを投入し、ポリエステルの合成例Ａ１と同様の操作を行い、数平均分子量２０００のポリエステル（Ｂ３）を得た。これに使用したグリコール（ａ）の炭素数の平均は２、二塩基酸（ｂ）の炭素数は６であった。
【０１６２】
（高分子ＵＶ剤Ｐ−１合成例）
２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−５−カルボン酸−（２−メタクリロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール（例示化合物ＭＵＶ−１９）を、下記に記載の方法に従って合成した。
【０１６３】
２０．０ｇの３−ニトロ−４−アミノ−安息香酸を１６０ｍｌの水に溶かし、濃塩酸４３ｍｌを加えた。２０ｍｌの水に溶解させた８．０ｇの亜硝酸ナトリウムを０℃で加えた後、０℃のまま２時間撹拌した。この溶液に、１７．３ｇの４−ｔ−ブチルフェノールを水５０ｍｌとエタノール１００ｍｌに溶解させた溶液中に、炭酸カリウムで液性をアルカリ性に保ちながら０℃で滴下した。この溶液を０℃に保ちながら１時間、更に室温で１時間撹拌した。反応液を塩酸で酸性にし、生成した沈殿物をろ過した後、よく水洗した。
【０１６４】
ろ過した沈殿を５００ｍｌの１モル／ＬのＮａＯＨ水溶液に溶解させ、３５ｇの亜鉛粉末を加えた後、４０％ＮａＯＨ水溶液１１０ｇを滴下した。滴下後、約２時間撹拌し、ろ過、水洗し、濾液を塩酸で中和して中性とした。析出した沈殿物をろ過、水洗、乾燥後、酢酸エチルとアセトンの混合溶媒で再結晶を行うことにより、２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−５−カルボン酸−２Ｈ−ベンゾトリアゾールが得られた。
【０１６５】
次いで、１０．０ｇの２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−５−カルボン酸−２Ｈ−ベンゾトリアゾールと０．１ｇのハイドロキノン、４．６ｇの２−ヒドロキシエチルメタクリレート、０．５ｇのｐ−トルエンスルホン酸とをトルエン１００ｍｌ中に加え、エステル管を備えた反応容器で１０時間加熱灌流を行う。反応溶液を水中に注ぎ、析出した結晶をろ過、水洗、乾燥し、酢酸エチルで再結晶を行うことで、例示化合物ＭＵＶ−１９である２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−５−カルボン酸−（２−メタクリロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ−ベンゾトリアゾールが得られた。
【０１６６】
次いで、２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−５−カルボン酸−（２−メタクリロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとメタクリル酸メチルとの共重合体（高分子ＵＶ剤Ｐ−１）を下記に記載の方法に従って合成した。
【０１６７】
テトラヒドロフラン８０ｍｌに、上記合成例３で合成した４．０ｇの２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−５−カルボン酸−（２−メタクリロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ−ベンゾトリアゾールと６．０ｇのメタクリル酸メチルとを加え、次いで、アゾイソブチロニトリル１．１４ｇを加えた。窒素雰囲気下で９時間加熱還流した。テトラヒドロフランを減圧留去した後、２０ｍｌのテトラヒドロフランに再溶解し、大過剰のメタノール中に滴下した。析出した沈殿物を濾取し、４０℃で真空乾燥して、９．１ｇの灰白色紛状重合体である高分子ＵＶ剤Ｐ−１を得た。この共重合体は、標準ポリスチレンを基準とするＧＰＣ分析により、数平均分子量４５００のものであると確認した。また、ＮＭＲスペクトル及びＵＶスペクトルから、上記共重合体が、２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−５−カルボン酸−（２−メタクリロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとメタクリル酸メチルの共重合体であることを確認した。上記重合体の組成は略、２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−５−カルボン酸−（２−メタクリロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール：メタクリル酸メチル＝４０：６０であった。
【０１６８】
（高分子ＵＶ剤Ｐ−２合成例）
上記高分子ＵＶ剤Ｐ−１合成過程のうち、６．０ｇのメタクリル酸メチルの代わりに、５．０ｇのメタクリル酸メチルと１．０ｇのメタクリル酸ヒドロキシエチルを用いた以外は同様にして高分子ＵＶ剤Ｐ−２を合成した。数平均分子量は４５００であった。また、上記重合体の組成は略、２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−５−カルボン酸−（２−メタクリロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール：メタクリル酸メチル：メタクリル酸ヒドロキシエチル＝４０：５０：１０であった。
【０１６９】
〔セルロースエステルフィルムの作製〕
表１、２記載のセルロースエステル、添加剤、微粒子、溶剤を用いて表３，４に示すようなドープ組成となるようセルロースエステル溶液を調製した。
【０１７０】
【表１】
【０１７１】
【表２】
【０１７２】
即ち、溶剤を密閉容器に投入し、攪拌しながら残りの素材を順に投入し、加熱、撹拌しながら完全に溶解し、混合した。微粒子は溶剤の一部で分散して添加した。溶液を流延する温度まで下げて静置し、脱泡操作を施した後、溶液を安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過し、セルロースエステル溶液をそれぞれ得た。
【０１７３】
次に、３３℃に温度調整したセルロースエステル溶液を、ダイに送液して、ダイスリットからステンレスベルト上に均一に流延した。ステンレスベルトの流延部は裏面から３７℃の温水で加熱した。流延後、金属支持体上のドープ膜（ステンレスベルトに流延以降はウェブということにする）に４４℃の温風を当てて乾燥させ、剥離の際の残留溶媒量が８０質量％で剥離し、剥離の際の張力をかけて１．０５倍の縦延伸倍率となるように延伸し、次いで、テンターでウェブ端部を把持し、幅手方向に１．３０倍の延伸倍率となるように延伸した。延伸後、その幅を維持したまま数秒間保持した後、幅方向の張力を緩和させた後、幅保持を解放し、更に１１０℃に設定された第３乾燥ゾーンで２０分間搬送させて、乾燥を行い、幅１．５ｍでかつ端部に幅１．５ｃｍ、高さ８μｍのナーリングを有する８０μｍの膜厚のセルロースエステルフィルム試料１〜４３を作製した。
【０１７４】
作製した各セルロースエステルフィルムについて、用いたセルロースエステル、添加剤、微粒子、溶剤等について表３，４に纏めた。
【０１７５】
【表３】
【０１７６】
【表４】
【０１７７】
〈評価方法〉
（レターデーションＲｏ、Ｒｔ）
自動複屈折率計（王子計測機器（株）製、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ）を用いてセルロースエステルフィルム試料１〜４３を２３℃、５５％ＲＨの環境下で、５９０ｎｍの波長において１０カ所測定し３次元屈折率測定を行い、屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚを求めた。式（Ｉ）に従って面内方向のレターデーションＲｏを、また、式（II）に従って厚み方向のレターデーションＲｔを算出した。それぞれ１０カ所測定しその平均値で示した。
【０１７８】
式（Ｉ）
Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式中、ｎｘはフィルムの製膜方向に平行な方向におけるフィルムの屈折率、ｎｙは製膜方向に垂直な方向におけるフィルムの屈折率、ｄはフィルムの厚み（ｎｍ）をそれぞれ表す。
【０１７９】
式（II）
Ｒｔ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ
式中、ｎｘはフィルムの製膜方向に平行な方向におけるフィルムの屈折率、ｎｙは製膜方向に垂直な方向におけるフィルムの屈折率、ｎｚは厚み方向におけるフィルムの屈折率、ｄはフィルムの厚み（ｎｍ）をそれぞれ表す。
【０１８０】
（ヘイズ）
フィルム試料３枚を重ね合わせ、ＡＳＴＭ−Ｄ１００３−５２に従って、東京電色工業（株）社製Ｔ−２６００ＤＡを使用して測定した。
【０１８１】
（ブリードアウト）
フィルム試料を８０℃、９０％ＲＨの高温高湿雰囲気下に１０００時間放置後、ブリードアウトを評価した。
【０１８２】
フィルムの表面を観察することによりブリードアウトの有無を評価した。
【０１８３】
◎・・・フィルム表面にブリードアウトが全くない
○・・・フィルム表面に部分的なブリードアウトがかすかに分かる
△・・・フィルム表面に全面的なブリードアウトがかすかに分かる
×・・・フィルム表面に全面的なブリードアウトがハッキリ分かる
（Ｒｔ湿度変化）
２３℃、２０％ＲＨの環境下で１２時間以上調湿した試料のＲｔを測定し、その後同様に２３℃２０％ＲＨの環境下で１２時間以上調湿した試料のＲｔを測定し、その変化を計算した。
【０１８４】
（異物故障）
ベルト流延装置の巻き取り部の直前にオンライン欠陥検査機を設置し、セルロースエステルフィルム１００ｍ2あたりの５０μｍ以上の異物故障数をカウントした。
【０１８５】
（分子量測定）
なお、平均分子量の測定は、高速液体クロマトグラフィーを用いて測定した。
【０１８６】
測定条件は以下の通りである。
溶媒： メチレンクロライド
カラム： ＴＳＫｇｅｌ Ｇ２０００ＨｘＬ Ｇ３０００ＨｘＬ Ｇ４０００ＨｘＬ
（東ソー（株）製高性能ＳＥＣカラムを３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度： ０．１質量％
検出器： ＲＩ Ｍｏｄｅｌ ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ： Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量： １．０ｍｌ／ｍｉｎ
〈偏光板の作製〉
各セルロースエステルについて、偏光板を作製して偏光子の劣化について評価した。
【０１８７】
厚さ１２０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、沃素１ｋｇ、ホウ酸４ｋｇを含む水溶液１００ｋｇに浸漬し５０℃で６倍に延伸して偏光膜を作った。この偏光膜の両面にアルカリケン化処理を行ったセルロースエステルフィルム試料を完全ケン化型ポリビニルアルコール５％水溶液を粘着剤として各々貼り合わせ偏光板を作成した。
【０１８８】
〈アルカリケン化処理〉
ケン化工程 ２Ｎ−ＮａＯＨ ５０℃ ９０秒
水洗工程 水 ３０℃ ４５秒
中を工程 １０質量％ＨＣｌ ３０℃ ４５秒
水洗工程 水 ３０℃ ４５秒
上記条件でフィルム試料をケン化、水洗、中和、水洗の順に行い、次いで８０℃で乾燥を行った。
【０１８９】
（偏光板劣化）
上記方法で作製した偏光板について先ず平行透過率と直交透過率を測定し、下記式にしたがって偏光度を算出した。その後各々の偏光板を６０℃、９０％の条件下で１０００時間の強制劣化後、再度平行透過率と直交透過率を測定し、下記式に従って偏光度を算出した。偏光度変化量を下記式により求めた。
【０１９０】
偏光度Ｐ＝（（Ｈ０−Ｈ９０）／（Ｈ０＋Ｈ９０））１／２×１００
偏光度変化量＝Ｐ０−Ｐ１０００
Ｈ０ ：平行透過率
Ｈ９０：直交透過率
Ｐ０ ：強制劣化前の偏光度
Ｐ１０００：強制劣化１０００時間後の偏光度
◎：偏光度変化率１０％未満
○：偏光度変化率１０％以上２５％未満
×：偏光度変化率２５％以上。
【０１９１】
表２の結果から本発明のセルロースフィルムは、異物故障が少なくまたヘイズが小さく、Ｒｔ湿度変化等も少ないことが判る。また偏光板としたときの偏光板子劣化が少ない。
【０１９２】
実施例２
《反射防止フィルムの作製》
セルロースエステルフィルムＫＣ８ＵＸ２Ｍ（コニカミノルタオプト（株）製）を用いて、下記手順により反射防止フィルムを作製した。
【０１９３】
反射防止層を構成する各層の屈折率は下記方法で測定した。
【０１９４】
（屈折率）
各屈折率層の屈折率は、各層を単独で下記で作製したハードコートフィルム上に塗設したサンプルについて、分光光度計の分光反射率の測定結果から求めた。分光光度計はＵ−４０００型（日立製作所製）を用いて、サンプルの測定側の裏面を粗面化処理した後、黒色のスプレーで光吸収処理を行って裏面での光の反射を防止して、５度正反射の条件にて可視光領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍ）の反射率の測定を行った。
【０１９５】
（金属酸化物微粒子の粒径）
使用する金属酸化物微粒子の粒径は電子顕微鏡観察（ＳＥＭ）にて各々１００個の微粒子を観察し、各微粒子に外接する円の直径を粒子径としてその平均値を粒径とした。
【０１９６】
《ハードコート層及びバックコート層を有するセルロースエステルフィルムの作製》
セルロースエステルフィルムＫＣ８ＵＸ２Ｍ（コニカミノルタオプト（株）製）上に、下記のハードコート層用塗布液を孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液を調製し、これをマイクログラビアコーターを用いて塗布し、９０℃で乾燥の後、紫外線ランプを用い照射部の照度が１００ｍＷ／ｃｍ2で、照射量を０．１Ｊ／ｃｍ2として塗布層を硬化させ、ドライ膜厚７μｍのハードコート層を形成しハードコートフィルムを作製した。
【０１９７】
（ハードコート層塗布液）
下記材料を攪拌、混合しハードコート層塗布液１とした。
【０１９８】
アクリルモノマー；ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製） ２２０質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャルティケミカルズ（株）製） ２０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル １１０質量部
酢酸エチル １１０質量部
更に、下記バックコート層組成物をウェット膜厚１０μｍとなるように押し出しコーターで塗布し、８５℃にて乾燥し巻き取り、バックコート層を設けた。
【０１９９】
（バックコート層組成物）
アセトン ５４質量部
メチルエチルケトン ２４質量部
メタノール ２２質量部
ジアセチルセルロース ０．６質量部
超微粒子シリカ２％アセトン分散液
（日本アエロジル（株）製アエロジル２００Ｖ） ０．２質量部
《反射防止フィルムの作製》
上記作製したハードコートフィルム上に、下記のように高屈折率層、次いで、低屈折率層の順に反射防止層を塗設し、反射防止フィルムを作製した。
【０２００】
《反射防止層の作製：高屈折率層》
ハードコートフィルム上に、下記高屈折率層塗布組成物を押し出しコーターで塗布し、８０℃で１分間乾燥させ、次いで紫外線を０．１Ｊ／ｃｍ2照射して硬化させ、更に１００℃で１分熱硬化させ、厚さが７８ｎｍとなるように高屈折率層を設けた。
【０２０１】
この高屈折率層の屈折率は１．６２であった。
【０２０２】
〈高屈折率層塗布組成物１〉
金属酸化物微粒子のイソプロピルアルコール溶液（固形分２０％、ＩＴＯ粒子、粒径５ｎｍ） ５５質量部
金属化合物：Ｔｉ（ＯＢｕ）4（テトラ−ｎ−ブトキシチタン） １．３質量部
電離放射線硬化型樹脂：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
３．２質量部
光重合開始剤：イルガキュア１８４（チバスペシャルティケミカルズ（株）製）
０．８質量部
直鎖ジメチルシリコーン−ＥＯブロックコポリマー（ＦＺ−２２０７、日本ユニカー（株）製）の１０％プロピレングリコールモノメチルエーテル液 １．５質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル １２０質量部
イソプロピルアルコール ２４０質量部
メチルエチルケトン ４０質量部
《反射防止層の作製：低屈折率層》
前記高屈折率層上に、下記の低屈折率層塗布組成物を押し出しコーターで塗布し、１００℃で１分間乾燥させた後、紫外線を０．１Ｊ／ｃｍ2照射して硬化させ、更に１２０℃で５分間熱硬化させ、厚さ９５ｎｍとなるように低屈折率層を設け、反射防止フィルムを作製した。なお、この低屈折率層の屈折率は１．３７であった。
【０２０３】
（低屈折率層塗布組成物の調製）
〈テトラエトキシシラン加水分解物Ａの調製〉
テトラエトキシシラン２８９ｇとエタノール５５３ｇを混和し、これに０．１５％酢酸水溶液１５７ｇを添加し、２５℃のウォーターバス中で３０時間攪拌することで加水分解物Ａを調製した。
【０２０４】
テトラエトキシシラン加水分解物Ａ １１０質量部
中空シリカ系微粒子（下記Ｐ−２） ３０質量部
ＫＢＭ５０３（シランカップリング剤、信越化学（株）製） ４質量部
直鎖ジメチルシリコーン−ＥＯブロックコポリマー（ＦＺ−２２０７、日本ユニカー（株）製）の１０％プロピレングリコールモノメチルエーテル液 ３質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル ４００質量部
イソプロピルアルコール ４００質量部
〈中空シリカ系微粒子Ｐ−２の調製〉
平均粒径５ｎｍ、ＳｉＯ2濃度２０質量％のシリカゾル１００ｇと純水１９００ｇの混合物を８０℃に加温した。この反応母液のｐＨは１０．５であり、同母液にＳｉＯ2として０．９８質量％のケイ酸ナトリウム水溶液９０００ｇとＡｌ2Ｏ3として１．０２質量％のアルミン酸ナトリウム水溶液９０００ｇとを同時に添加した。その間、反応液の温度を８０℃に保持した。反応液のｐＨは添加直後、１２．５に上昇し、その後、ほとんど変化しなかった。添加終了後、反応液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度２０質量％のＳｉＯ2・Ａｌ2Ｏ3核粒子分散液を調製した。（工程（ａ））
この核粒子分散液５００ｇに純水１７００ｇを加えて９８℃に加温し、この温度を保持しながら、ケイ酸ナトリウム水溶液を陽イオン交換樹脂で脱アルカリして得られたケイ酸液（ＳｉＯ2濃度３．５質量％）３０００ｇを添加して第１シリカ被覆層を形成した核粒子の分散液を得た。（工程（ｂ））
次いで、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度１３質量％になった第１シリカ被覆層を形成した核粒子分散液５００ｇに純水１１２５ｇを加え、さらに濃塩酸（３５．５％）を滴下してｐＨ１．０とし、脱アルミニウム処理を行った。次いで、ｐＨ３の塩酸水溶液１０Ｌと純水５Ｌを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離し、第１シリカ被覆層を形成した核粒子の構成成分の一部を除去したＳｉＯ2・Ａｌ2Ｏ3多孔質粒子の分散液を調製した（工程（ｃ））。
【０２０５】
上記多孔質粒子分散液１５００ｇと、純水５００ｇ、エタノール１．７５０ｇ及び２８％アンモニア水６２６ｇとの混合液を３５℃に加温した後、エチルシリケート（ＳｉＯ2２８質量％）１０４ｇを添加し、第１シリカ被覆層を形成した多孔質粒子の表面をエチルシリケートの加水分解重縮合物で被覆して第２シリカ被覆層を形成した。次いで、限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度２０質量％の中空シリカ系微粒子（Ｐ−２）の分散液を調製した。
【０２０６】
この中空シリカ系微粒子の第１シリカ被覆層の厚さは３ｎｍ、平均粒径は４７ｎｍ、ＭＯx／ＳｉＯ2（モル比）は０．００１７、屈折率は１．２８であった。ここで、平均粒径は動的光散乱法により測定した。
【０２０７】
《反射防止フィルムの加熱処理》
作製した反射防止フィルムを、加熱処理室にて８０℃で４日間の加熱処理を行った。
【０２０８】
次いで、上記作製した反射防止フィルムおよび実施例１で作製したセルロースエステルフィルムを用いて下記のようにして偏光板を作製し、それらの偏光板を液晶表示パネル（画像表示装置）に組み込み、視認性を評価した。
【０２０９】
下記の方法に従って、実施例１で作製したセルロースエステルフィルム及び前記反射防止フィルム各１枚を偏光板保護フィルムとして用い、下記作製した偏光膜と貼合して偏光板を作製した。
【０２１０】
（ａ）偏光膜の作製
厚さ１２０μｍの長尺のポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸（温度１１０℃、延伸倍率５倍）した。これをヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇ、水１００ｇの比率からなる水溶液に６０秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム６ｇ、ホウ酸７．５ｇ、水１００ｇの比率からなる６８℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し長尺の偏光膜を得た。
【０２１１】
（ｂ）偏光板の作製
次いで、下記工程１〜５に従って、偏光膜と前記偏光板用保護フィルムとを貼り合わせて偏光板を作製した。
【０２１２】
工程１：実施例１にて作製したセルロースエステルフィルムと前記反射防止フィルムを２ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム溶液に６０℃で９０秒間浸漬し、次いで水洗、乾燥させた。反射防止フィルムの反射防止層を設けた面にはあらかじめ剥離性の保護フィルム（ＰＥＴ製）を張り付けて保護した。
【０２１３】
工程２：前述の偏光膜を固形分２質量％のポリビニルアルコール接着剤槽中に１〜２秒間浸漬した。
【０２１４】
工程３：工程２で偏光膜に付着した過剰の接着剤を軽く取り除き、それを工程１でアルカリ処理した実施例１で作製したセルロースエステルフィルムと反射防止フィルムで挟み込んで、積層配置した。
【０２１５】
工程４：２つの回転するローラにて２０〜３０Ｎ／ｃｍ2の圧力で約２ｍ／ｍｉｎの速度で張り合わせた。このとき気泡が入らないように注意して実施した。
【０２１６】
工程５：８０℃の乾燥機中にて工程４で作製した試料を２分間乾燥処理し、偏光板を作製した。この様にして実施例１で作製したセルロースエステルフィルム試料１〜４３それぞれともう一方の面に上記ＡＲ（アンチリフレクション；反射防止）加工したセルロースエステルフィルムを貼合した偏光板（偏光板１〜４３）を作製した。
【０２１７】
市販の液晶表示パネル（ＮＥＣ製 カラー液晶ディスプレイ ＭｕｌｔｉＳｙｎｃ ＬＣＤ１５２５Ｊ：型名 ＬＡ−１５２９ＨＭ）の最表面の偏光板を注意深く剥離し、ここに偏光方向を合わせた本発明の偏光板を張り付けた。
【０２１８】
これを２０℃、２０％ＲＨと２０℃、８０％ＲＨの環境下で２４時間放置したのち、それぞれの視野角を調べた。その結果、本発明のセルロースエステルを偏光板用保護フィルムとして用いた液晶表示装置の方が、視野角の変動が少なく、色再現性にも優れていた。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学性能の湿度安定性が高いと同時に、製造時、スリッターによる切り粉の発生が少なく、異物故障が少ない、高生産性のセルロースエステルフィルムに関するものである。また該セルロースフィルムを用いた偏光板、液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は大型テレビへの活用が注目されている。大型液晶テレビは、これまでのノートパソコンや液晶モニターに比べて、使用環境や視野角、コントラストなど要求スペックも厳しくなっている。液晶表示装置に使用される偏光板、偏光板に使用されるセルロースエステルフィルムにも同様に厳しいスペックが要求されている。特に延伸セルロースエステルフィルムは、光学性能に大きな影響を与えるため、重要な部材として厳しいスペックが要求されている。
【０００３】
大型テレビに使用されることで厳しくなった性能に、光学性能の湿度安定性があり、今までのセルロースエステルフィルムは吸湿性が高いため、この湿度安定性が悪く問題であった。
【０００４】
これまでに、セルロースエステルにポリエステルを含有させることは、いくつか提案されていた（例えば、特許文献１〜４参照。）。それらは光学性能の湿度安定性の改善を示唆するものではなく、また１０％以上含有させようとすると、白濁したり、ブリードアウトしたりするものがほとんどであった。
【０００５】
本発明者は、特定のポリエステルを用いることで、セルロースエステルフィルムの光学性能の湿度安定性が改良されることを見出した。（２００４年８月２５日出願；特願２００４−２４４７７２号）
しかしながら、偏光板に加工して、長時間高温高湿下で耐久性テストを行うと、それでも偏光子が劣化し、偏光板の機能が著しく劣化することがわかった。
【０００６】
また、セルロースエステルにポリエステルを含有させると、スリッターでの切れが悪くなり、切り粉と呼ばれるセルロースエステルフィルムの細かい粉が多く発生する。この切り粉が製膜工程内に浮遊し、セルロースエステルフィルムに付着し、これが異物故障となり、フィルムの生産性を悪化させるため問題であった。
【特許文献１】特開２００２−２２９５６号公報
【特許文献２】特開２００２−２６７８４６号公報
【特許文献３】特開２００４−１７５９７１号公報
【特許文献４】特開２００４−１７５９７２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
従って、本発明の目的は、光学性能が安定し、湿度安定性が高いと同時に、製膜時切り粉の発生等による異物故障がない生産性の高いセルロースフィルムを得ることにあり、該セルロースエステルフィルムを用い耐久性の高い偏光板、液晶表示装置を得ることにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の上記目的は以下の手段により達成されるものである。
【０００９】
（請求項１）
下記に示す化合物（Ｊ）と、（Ｋ）または（Ｌ）で示される化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とするセルロースエステルフィルム。
（Ｊ）平均炭素数が２〜３．５であるグリコール類（ａ）と平均炭素数が４〜４．５である二塩基酸類（ｂ）との重縮合反応から得られる、数平均分子量Ｍｎが１５００以上１００００以下であるポリエステル
（Ｋ）多価アルコールエステル
（Ｌ）下記一般式（１）で表される、分子量が３００以上１５００未満である芳香族末端エステル
一般式（１）
Ｂ−（Ｇ−Ａ）ｎ−Ｇ−Ｂ
（式中Ｂはベンゼンモノカルボン酸残基を表す。Ｇは炭素数２〜１２のアルキレングリコール残基、アリールグリコール残基、または炭素数４〜１２のオキシアルキレングリコール残基を表す。Ａは炭素数４〜１２のアルキレンジカルボン酸残基、炭素数６〜１２のアリールジカルボン酸残基を表す。ｎは１〜５の整数である。）
（請求項２）
総アシル基置換度が２．４以上２．８未満であるセルロースエステルを用いたことを特徴とする請求項１記載のセルロースエステルフィルム。
【００１０】
（請求項３）
下記式（Ｉ）または（II）で定義されるレタデーション値Ｒｏが３０〜２００ｎｍ、Ｒｔが７０〜４００ｎｍであることを特徴とする請求項１または２記載のセルロースエステルフィルム。
【００１１】
式（Ｉ） Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（II） Ｒｔ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
（式中、ｎｘはフィルム面内の屈折率が最も大きい方向の屈折率、ｎｙはｎｘに直角な方向でのフィルム面内の屈折率、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率、ｄはフィルムの厚み（ｎｍ）をそれぞれ表す。）
（請求項４）
下記一般式（２）で表される紫外線吸収性モノマーから合成される紫外線吸収性共重合ポリマーを含有していることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項記載のセルロースエステルフィルム。
【００１２】
【化１】
【００１３】
（式中、ｎは０〜３の整数を表し、Ｒ1〜Ｒ5は水素原子、ハロゲン原子、又は置換基を表し、Ｘは−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＲ7−、−ＯＣＯ−、−ＮＲ7ＣＯ−、を表し、Ｒ6、Ｒ7は水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。但し、Ｒ6で表される基は重合性基を部分構造として有する。）
（請求項５）
請求項１〜４のいずれか１項記載のセルロースエステルフィルムを使用した偏光板。
【００１４】
（請求項６）
請求項１〜４のいずれか１項記載のセルロースエステルフィルムを使用した液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１５】
本発明により、異物故障が少なく光学性能が優れ、耐久性のよい生産性の高いセルロースエステルフィルムを得ることが出来、これを用い高温高湿下での機能低下がない偏光板、液晶表示装置を得ることが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下に、本発明を実施するための最良の形態について説明する。
【００１７】
これまで、偏光板の劣化は、フィルムの透湿性劣化によるものと考えられてきたが、我々の検討の結果、必ずしもフィルムの透湿性劣化とは相関しないことが判った。我々は種々の検討の結果、多価アルコールエステルや特定の構造をもつポリエステル系可塑剤を併用することで、偏光板の劣化がなくなることを見出した。
【００１８】
また、セルロースエステルに特定のポリエステル系可塑剤を含有させると、スリッターでの切れが悪くなり、セルロースエステルフィルムの細かい粉（切り粉と呼ばれる）が多く発生し、この切り粉が製膜工程内に浮遊することで、セルロースエステルフィルムに付着し、異物故障となり、フィルムの生産性を低下させるという問題についても、前記多価アルコールエステルや特定の構造をもつエステル系可塑剤を併用することで、解決されることを見出した。
【００１９】
本発明に使用するセルロースエステルについて説明する。
【００２０】
本発明に係るセルロースエステルフィルムに使用するセルロースエステルは、リンターパルプ、ウッドパルプ及びケナフパルプから選ばれるセルロースを用い、それらに無水酢酸、無水プロピオン酸、または無水酪酸を常法により反応して得られるもので、セルロースの水酸基に対する総アシル基の置換度が２．４以上２．８未満のセルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、及びセルロースアセテートプロピオネートブチレートが好ましく用いられる。総アシル基の置換度が２．４未満であると、レターデーション値Ｒｏ、Ｒｔの発現性には好ましいが、透湿性の観点から湿度安定性が劣り、またアルカリケン化処理で接触角が低下しにくく、偏光子との接着性が劣る。総アシル基の置換度が２．８以上であるとポリエステルポリオールを含有させた場合に特にレターデーション値Ｒｏ、Ｒｔの発現性に乏しい。本発明の範囲内のレターデーション値を発現させるには、総アシル基の置換度が２．４以上２．８未満であることが好ましい。
【００２１】
本発明において、セルローストリアセテート（以降、略してＴＡＣとすることがある）及びセルロースアセテートプロピオネート（以降、略してＣＡＰとすることがある）が好ましい。特に、セルロースアセテートプロピオネートが好ましい。セルロースエステルのアシル基の置換度の測定方法としては、ＡＳＴＭのＤ−８１７−９１に準じて実施することが出来る。これらのセルロースエステルの分子量は数平均分子量（Ｍｎ）として、７００００〜３０００００の範囲が、フィルムに成形した場合の機械的強度が強く好ましい。更に８００００〜２０００００が好ましい。通常、セルロースエステルは反応後の水洗等処理後において、フレーク状となり、その形状で使用されるが、粒子サイズは粒径を０．０５〜２．０ｍｍの範囲とすることにより溶解性を早めることが出来好ましい。
【００２２】
なお、セルロースエステルの平均分子量は、高速液体クロマトグラフィーを用いて公知の方法で測定することが出来る（後述）。
【００２３】
セルロースエステルを有機溶媒に溶解した溶液をドープというが、ドープ中のセルロースエステルの濃度は１０〜３５質量％程度である。更に好ましくは、１５〜２５質量％である。
【００２４】
セルロースエステルに対する溶媒として、酢酸メチル、アセトン、塩化メチレン、エタノール等の有機溶媒が好ましく用いられドープは形成される。形成したセルロースエステルドープは金属支持体上に流延、剥離し、延伸・乾燥することでセルロースエステルフィルムが作製される。
【００２５】
本発明のセルロースエステルフィルムは偏光板用保護フィルムに好適であるが、その特徴は、セルロースエステルフィルムがポリエステルを主とするポリマーを含有することによって、フィルム中からの析出、揮発または蒸発するものをなくすことが出来、偏光板を形成した後に、白濁もブリードアウトせず、更に、光学性能の湿度安定性も改良出来ることである。また、セルロースエステルフィルムの製膜工程において、スリッターでの切り粉の発生等がないため生産性を低下させる異物故障が少ない。
【００２６】
本発明に有用なエステル系可塑剤はセルロースエステルドープ或いはセルロースエステルフィルム中で相分離が起こらないものが選ばれる。
【００２７】
以下、本発明のセルロースエステルフィルムに用いられるエステル系可塑剤について説明する。
【００２８】
（ポリエステル）
本発明において、可塑剤として有用なポリエステルの一つについて述べる。
【００２９】
本発明で使用されるポリエステルの一つは、炭素数の平均が２〜３．５であるグリコール（ａ）と炭素数の平均が４〜５．５である二塩基酸（ｂ）との脱水縮合反応、又は該グリコール（ａ）と炭素数の平均が４〜５．５である無水二塩基酸（ｂ）の付加及び脱水縮合反応による常法により製造されるものである。
【００３０】
かかるポリエステルに用いられるグリコール（ａ）としては、例えばエチレングリコール、ジエチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，４−ブチレングリコール、ネオペンチルグリコール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオールなどが挙げられ、これらを単独又は２種以上を併用して用いられ、例えばエチレングリコール、またはエチレングリコールとジエチレングリコールの混合物などが特に好ましく用いられる。
【００３１】
また、上記したグリコール（ａ）に関しては、グリコール（ａ）の炭素数の平均が、２〜３．５の範囲内にあることが重要である。かかるグリコール（ａ）の炭素数の平均が２より小さいとポリエステルの製造が困難であるし、３．５より大きいとセルロースとの相溶性の劣ったセルロースエステル用改質剤、透明性等の物性が劣ったセルロースフィルムとなる。かかるグリコール（ａ）としては、好ましくは炭素数の平均が２．１〜２．８、又は３．２〜３．５であり、かかる範囲のグリコール（ａ）を用いることで、該ポリエステルの結晶性及び融点が従来汎用のものに近く、それ自体の生産性も良好となる。
【００３２】
上記グリコール（ａ）としてエチレングリコールとジエチレングリコールの混合物が用いられる場合、そのエチレングリコール／ジエチレングリコールのモル比率としては、好ましくは２５〜１００／７５〜０で用いられ、セルロースエステルとの相溶性の優れたセルロースエステル用改質剤を得ることが出来る。更に、より好ましくは２５〜４０／７５〜６０、及び６０〜９５／４０〜５であり、かかる範囲に調製することで、該ポリエステルの結晶性及び融点が従来汎用のものに近く、それ自体の生産性も良好となる。
【００３３】
次に本発明に用いられるこれらポリエステルを構成する二塩基酸（ｂ）としては、例えばコハク酸、グルタル酸、アジピン酸、セバチン酸等を挙げることが出来、これらを単独又は２種以上を併用して用いられ、例えばコハク酸、またはコハク酸とテレフタル酸の混合物等が特に好ましく用いられる。
【００３４】
また、上記した二塩基酸（ｂ）に関しては、二塩基酸（ｂ）の炭素数の平均が４〜５．５の範囲内であることが重要である。かかる二塩基酸（ｂ）の炭素数の平均が４よりも小さいとポリエステルの製造が困難であるし、５．５よりも大きいとセルロースとの相溶性の劣ったセルロースエステル用改質剤、透明性等の物性が劣ったセルロースフィルムとなる。かかる二塩基酸（ｂ）としては、好ましくは炭素数の平均が４．１〜４．８，又は５．２〜５．５であり、かかる範囲の二塩基酸（ｂ）を用いることで、該ポリエステルの結晶性及び融点が従来汎用のものに近く、それ自体の生産性、保存安定性等も良好となる。
【００３５】
上記二塩基酸（ｂ）としてコハク酸とテレフタル酸の混合物が用いられる場合、そのコハク酸／テレフタル酸のモル比率としては、好ましくは２５〜１００／７５〜０で用いられ、セルロースエステルとの相溶性の優れたセルロースエステル用改質剤を得ることが出来る。更に、より好ましくは２５〜４０／７５〜６０、及び６０〜９５／４０〜５であり、かかる範囲に調整することで、該ポリエステルの結晶性及び融点が従来汎用のものに近く、それ自体の生産性も良好となる。
【００３６】
本発明に用いられる前記ポリエステルを構成するグリコール（ａ）と二塩基酸（ｂ）としては、上記以外の組み合わせも含むものであるが、グリコール（ａ）の炭素数の平均と二塩基酸（ｂ）の炭素数の平均との合計が、６〜７．５である組み合わせが好ましい。
【００３７】
上記グリコール（ａ）及び二塩基酸（ｂ）から得られるポリエステルは、数平均分子量が１５００以上２０００００以下の範囲であればよく、より好ましくは１５００〜５０００の基本的に水酸基末端のポリエステルが用いられ、数平均分子量１５００〜４０００のものが特に好ましく用いられる。かかる範囲の数平均分子量を有するポリエステルを用いることで、セルロースエステルとの相溶性に優れたセルロースエステル用可塑剤を得ることが出来る。
【００３８】
本発明の効果を得る上で、上記数平均分子量１５００以上のポリエステルをフィルム中に１０〜３０質量％含有することが好ましい。より好ましくは１０〜２０質量％である。数平均分子量を上記範囲より大きくすると相溶性が劣化し、透湿性を小さくする効果に薄く、むしろ保留性が劣化し易い傾向にあるため、上記のような数平均分子量の範囲が好ましい。実際には、ポリマーのフィルム中の含有量はポリマーの種類や重量平均分子量によって、ドープ中、ウェブ中、フィルム形成後相分離しない範囲内で、寸法安定性、保留性及び透過率等の性能に応じて決められる。
【００３９】
一方、本発明で用いられるポリエステル中に於けるカルボキシル基末端は、本発明のセルロースエステル用改質剤の物性改善効果を低下させるため、その含有量は、水酸基末端の１／２０以下のモル数であることが好ましく、更に１／４０以下に止めることがより好ましい。
【００４０】
上記したポリエステルを製造するにあたり、チタン、亜鉛、鉛、ジルコニウムなどの金属有機酸塩若しくは金属キレート化合物、或いは、酸化アンチモンなど、従来公知のエステル化触媒が使用出来る。かかるエステル化触媒としては、例えばテトライソプロピルチタネート、テトラブチルチタネートなどが好ましく用いられ、用いられるグリコール（ａ）と二塩基酸（ｂ）の合計１００質量部に対して０．０００５〜０．０２質量部用いられることが好ましい。
【００４１】
ポリエステルの重縮合は常法によって行われる。例えば、上記二塩基酸とグリコールの直接反応、上記の二塩基酸またはこれらのアルキルエステル類、例えば二塩基酸のメチルエステルとグリコール類とのポリエステル化反応またはエステル交換反応により熱溶融縮合法か、或いはこれら酸の酸クロライドとグリコールとの脱ハロゲン化水素反応の何れかの方法により容易に合成し得るが、数平均分子量がさほど大きくないポリエステルは直接反応によるのが好ましい。低分子量側に分布が高くあるポリエステルはセルロースエステルとの相溶性が非常によく、フィルム形成後、透湿度も小さく、しかも透明性に富んだセルロースエステルフィルムを得ることが出来る。分子量の調節方法は、特に制限なく従来の方法を使用出来る。例えば、重合条件にもよるが、１価の酸または１価のアルコールで分子末端を封鎖する方法で、これら１価のものの添加量によりコントロール出来る。この場合、１価の酸がポリマーの安定性から好ましい。例えば、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ピバリン酸、安息香酸等を挙げることが出来るが、重縮合反応中には系外に溜去せず、停止して反応系外にこのような１価の酸を系外に除去するときに溜去し易いものが選ばれるが、これらを混合使用してもよい。また、直接反応の場合には、反応中に溜去してくる水の量により反応を停止するタイミングを計ることによっても数平均分子量を調節出来る。その他、仕込むグリコールまたは二塩基酸のモル数を偏らせることによっても出来るし、反応温度をコントロールしても調節出来る。
【００４２】
本発明に係るポリエステルの含有量は、セルロースエステルフィルム中に１〜２０質量％含有することが好ましく、特に３〜１１質量％含有することが好ましい。
【００４３】
（多価アルコールエステル）
本発明に用いられる多価アルコールエステルは、２価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなり、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有する事が好ましい。
【００４４】
用いられる多価アルコールは、次の一般式（Ｉ）で表される。
【００４５】
一般式（Ｉ）
Ｒ1−（ＯＨ）n
式中、Ｒ1はｎ価の有機基、ｎは２以上の正の整数、ＯＨ基はアルコール性またはフェノール性水酸基を表す。
【００４６】
好ましい多価アルコールの例としては、例えば、以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれらに限定されるものではない。アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、ペンタエリスリトール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ジペンタエリスリトール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトールなどを挙げることが出来る。中でも、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールが好ましい。
【００４７】
本発明に係わる多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸などを用いることが出来る。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると、透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。好ましいモノカルボン酸の例としては、以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００４８】
脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を持った脂肪酸を好ましく用いることが出来る。炭素数１〜２０であることが更に好ましく、炭素数１〜１０であることが特に好ましい。酢酸を用いるとセルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。
【００４９】
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸などの飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸などの不飽和脂肪酸などを挙げることが出来る。好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来る。好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸などの安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸などのベンゼン環を２個以上持つ芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来る。特に、安息香酸が好ましい。
【００５０】
多価アルコールエステルの分子量は３００〜１５００の範囲であることが好ましく、３５０〜７５０の範囲であることが更に好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は一種類でもよいし、二種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のＯＨ基は全てエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。以下に、多価アルコールエステルの具体的化合物を示す。
【００５１】
【化２】
【００５２】
【化３】
【００５３】
【化４】
【００５４】
【化５】
【００５５】
本発明に係る多価アルコールエステルの含有量は、セルロースエステルフィルム中に１〜１５質量％含有することが好ましく、特に３〜１０質量％含有することが好ましい。
【００５６】
（一般式（１）で表される芳香族末端エステル）
本発明において好ましい芳香族末端エステルとしては、特に限定されないが、例えば、下記一般式（１）で表すことができる。
【００５７】
一般式（１）
Ｂ−（Ｇ−Ａ）ｎ−Ｇ−Ｂ
式中、Ｂはベンゼンモノカルボン酸残基、Ｇは炭素数２〜１２のアルキレングリコール残基または炭素数６〜１２のアリールグリコール残基または炭素数が４〜１２のオキシアルキレングリコール残基、Ａは炭素数４〜１２のアルキレンジカルボン酸残基または炭素数６〜１２のアリールジカルボン酸残基を表し、またｎは１以上の整数を表す。
【００５８】
これらの芳香族末端エステルは、一般式（１）中、Ｂで示されるベンゼンモノカルボン酸残基とＧで示されるアルキレングリコール残基またはオキシアルキレングリコール残基またはアリールグリコール残基、Ａで示されるアルキレンジカルボン酸残基またはアリールジカルボン酸残基とから構成されるものであり、通常のポリエステル系可塑剤と同様の反応により得られる。
【００５９】
本発明で使用される芳香族末端エステルのベンゼンモノカルボン酸成分としては、例えば、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸等があり、これらはそれぞれ１種または２種以上の混合物として使用することが出来る。
【００６０】
本発明に係わる芳香族末端エステルの炭素数２〜１２のアルキレングリコール成分としては、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，２−プロパンジオール、２−メチル１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロ−ルペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル１，３−ペンタンジオール、２−エチル１，３−ヘキサンジオール、２−メチル１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−オクタデカンジオール等があり、これらのグリコールは、１種または２種以上の混合物として使用される。特に炭素数２〜１２のアルキレングリコールがセルロースエステルとの相溶性に優れているため、特に好ましい。
【００６１】
また、これら芳香族末端エステルの炭素数４〜１２のオキシアルキレングリコール成分としては、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等があり、これらのグリコールは、１種または２種以上の混合物として使用できる。
【００６２】
これらの芳香族末端エステルの炭素数４〜１２のアルキレンジカルボン酸成分としては、例えば、コハク酸、マレイン酸、フマール酸、グルタール酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等があり、これらは、それぞれ１種または２種以上の混合物として使用される。炭素数６〜１２のアリーレンジカルボン酸成分としては、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、１，５ナフタレンジカルボン酸、１，４ナフタレンジカルボン酸等がある。
【００６３】
本発明で使用される芳香族末端エステルは、数平均分子量が、好ましくは３００〜１５００、より好ましくは４００〜１０００の範囲が好適である。また、その酸価は、０．５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、水酸基価は２５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、より好ましくは酸価０．３ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、水酸基価は１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下のものが好適である。
【００６４】
以下、本発明に係る芳香族末端エステルの合成例を示す。
【００６５】
〈サンプルＮｏ．１（芳香族末端エステルサンプル）〉
反応容器にフタル酸４１０部、安息香酸６１０部、ジプロピレングリコール７３７部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．４０部を一括して仕込み窒素気流中で攪拌下、還流凝縮器を付して過剰の１価アルコールを還流させながら、酸価が２以下になるまで１３０〜２５０℃で加熱を続け生成する水を連続的に除去した。次いで２００〜２３０℃で１００〜最終的に４．００ＭＰａ以下の減圧下、留出分を除去し、この後濾過して次の性状を有する芳香族末端ポリエステルを得た。
【００６６】
粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）；４３４００
酸価 ；０．２
〈サンプルＮｏ．２（芳香族末端エステルサンプル）〉
反応容器に、フタル酸４１０部、安息香酸６１０部、エチレングリコール３４１部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．３５部を用いる以外はサンプルＮｏ．１と全く同様にして次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。
【００６７】
粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）；３１０００
酸価 ；０．１
〈サンプルＮｏ．３（芳香族末端エステルサンプル）〉
反応容器に、フタル酸４１０部、安息香酸６１０部、１，２−プロパンジオール４１８部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．３５部を用いる以外はサンプルＮｏ．１と全く同様にして次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。
【００６８】
粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）；３８０００
酸価 ；０．０５
〈サンプルＮｏ．４（芳香族末端エステルサンプル）〉
反応容器に、フタル酸４１０部、安息香酸６１０部、１，３−プロパンジオール４１８部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．３５部を用いる以外はサンプルＮｏ．１と全く同様にして次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。
【００６９】
粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）；３７０００
酸価 ；０．０５
〈サンプルＮｏ．５（芳香族末端エステルサンプル）〉
反応容器に、コハク酸１４６部、安息香酸６１０部、ジプロピレングリコール７３７部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．３５部を用いる以外はサンプルＮｏ．１と全く同様にして次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。
【００７０】
粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）；４５１００
酸価 ；０．１
〈サンプルＮｏ．６（芳香族末端エステルサンプル）〉
反応容器に、コハク酸１４６部、安息香酸６１０部、エチレングリコール３４１部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．３５部を用いる以外はサンプルＮｏ．１と全く同様にして次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。
【００７１】
粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）；４１６００
酸価 ；０．１
〈サンプルＮｏ．７（芳香族末端エステルサンプル）〉
反応容器に、コハク酸１４６部、安息香酸６１０部、１，２−プロパンジオール４１８部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．３５部を用いる以外はサンプルＮｏ．１と全く同様にして次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。
【００７２】
粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）；４８５００
酸価 ；０．０５
〈サンプルＮｏ．８（芳香族末端エステルサンプル）〉
反応容器に、コハク酸１４６部、安息香酸６１０部、１，３−プロパンジオール４１８部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．３５部を用いる以外はサンプルＮｏ．１と全く同様にして次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。
【００７３】
粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）；４７２００
酸価 ；０．１
上記において、粘度の測定は、ＪＩＳ Ｋ ６８３３に準拠してＢＨ型回転粘度計により測定した。また、酸価はＪＩＳ Ｋ００７０に準拠して測定した。
【００７４】
以下に、芳香族末端エステル系可塑剤の具体的化合物を示すが、本発明はこれに限定されない。
【００７５】
【化６】
【００７６】
【化７】
【００７７】
本発明に係る芳香族末端エステルの含有量は、セルロースエステルフィルム中に１〜２０質量％含有することが好ましく、特に３〜１１質量％含有することが好ましい。
【００７８】
本発明に係るポリエステルと多価アルコールエステルと芳香族末端ポリエステルの合計した含有量は、セルロースエステルフィルム中に５〜２０質量％含有することが好ましく、特に７〜１５質量％含有することが好ましい。
【００７９】
（紫外線吸収剤）
液晶画像表示装置に用いる偏光板保護フィルムや他のフィルムには、紫外線吸収剤が含有されており、紫外線吸収剤は屋外で使用する際に液晶や偏光膜の劣化防止の役割をする。本発明においても紫外線吸収剤は好ましく用いられる。紫外線吸収剤は波長３７０ｎｍ以下の紫外線を吸収する性能に優れ、かつ波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が可及的に少ないものが好ましく用いられる。特に、波長３７０ｎｍでの透過率が１０％以下である必要があり、好ましくは５％以下、より好ましくは２％以下である。本発明において、使用し得る紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることが出来るが、着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。光に対しする安定性を有するベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましい。例えばチバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製のＴＩＮＵＶＩＮ１０９（ＵＶ−１とする）、ＴＩＮＵＶＩＮ１７１、ＴＩＮＵＶＩＮ３２６、ＴＩＮＵＶＩＮ３２７、ＴＩＮＵＶＩＮ３２８等を好ましく用いることが出来るが、低分子の紫外線吸収剤は使用量によっては可塑剤同様に製膜中にウェブに析出したり、揮発する虞があるので、その添加量は３〜１０質量％である。
【００８０】
本発明においては、上記低分子の紫外線吸収剤より析出等が起こりにくい高分子紫外線吸収剤を、本発明に係るポリマーと共にセルロースエステルフィルムに含有させることがより好ましく、寸法安定性、保留性、透湿性等を損なうことなく、またフィルム中で相分離することもなく安定した状態で紫外線を十分にカットすることが出来る。本発明に有用な高分子紫外線吸収剤としては、特開平６−１４８４３０号公報に記載されている高分子紫外線吸収剤や、紫外線吸収剤モノマーを含むポリマーは制限なく使用出来る。
【００８１】
特に、本発明では前記一般式（２）で表される紫外線吸収性モノマーから合成される紫外線吸収性共重合ポリマー（高分子紫外線吸収剤）を含有していることが好ましい。
【００８２】
前記一般式（２）において、ｎは０〜３の整数を表し、ｎが２以上の時、複数のＲ5同士は同じであっても異なっていても良く、また互いに連結して５〜７員の環を形成していても良い。
【００８３】
Ｒ1〜Ｒ5は、各々水素原子、ハロゲン原子又は置換基を表す。ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、好ましくはフッ素原子、塩素原子である。また、置換基としては、例えば、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、トリフルオロメチル基、ｔ−ブチル基など）、アルケニル基（例えば、ビニル基、アリル基、３−ブテン−１−イル基など）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、ｐ−トリル基、ｐ−クロロフェニル基など）、ヘテロ環基（例えば、ピリジル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基など）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基など）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基など）、ヘテロ環オキシ基（例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基など）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基など）、アシル基（例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基など）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基など）、カルバモイル基（例えば、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基など）、アミノ基、アルキルアミノ基（例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基など）、アニリノ基（例えば、アニリノ基、Ｎ−メチルアニリノ基など）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基など）、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、スルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基など）、スルファモイルアミノ基（例えば、ジメチルスルファモイルアミノ基など）、スルホニル基（例えば、メタンスルホニル基、ブタンスルホニル基、フェニルスルホニル基など）、スルファモイル基（例えば、エチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基など）、スルホニルアミノ基（例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基など）、ウレイド基（例えば、３−メチルウレイド基、３，３−ジメチルウレイド基、１，３−ジメチルウレイド基など）、イミド基（例えば、フタルイミド基など）、シリル基（例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基など）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ブチルチオ基など）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基など）等が挙げられるが、好ましくは、アルキル基、アリール基である。
【００８４】
一般式（２）において、Ｒ1〜Ｒ5で表される各基が、更に置換可能な基である場合、更に置換基を有していてもよく、また、隣接するＲ1〜Ｒ4が互いに連結して５〜７員の環を形成していてもよい。
【００８５】
Ｒ6は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又はヘテロ環を表すが、アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、アミル基、イソアミル基、ヘキシル基などが挙げられる。また、上記アルキル基は更にハロゲン原子、置換基を有していてもよく、ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、置換基としては、例えば、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、ｐ−トリル基、ｐ−クロロフェニル基など）、アシル基（例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基など）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基など）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基など）、アミノ基、アルキルアミノ基（例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基など）、アニリノ基（例えば、アニリノ基、Ｎ−メチルアニリノ基など）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基など）、ヒドロキシル基、シアノ基、カルバモイル基（例えば、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基など）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基など）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基など）が挙げられる。
【００８６】
シクロアルキル基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基、アダマンチル基などの飽和環式炭化水素を挙げることが出来、これらは無置換でも、置換されていても良い。
【００８７】
アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、１−メチル−２−プロペニル基、３−ブテニル基、２−ブテニル基、３−メチル−２−ブテニル基、オレイル基などが挙げられるが、好ましくはビニル基、１−メチル−２−プロペニル基である。
【００８８】
アルキニル基としては、例えば、エチニル基、ブタジイル基、フェニルエチニル基、プロパルギル基、１−メチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基、１，１−ジメチル−２−プロピニル基などが挙げられるが、好ましくは、エチニル基、プロパルギル基である。
【００８９】
アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基などが挙げられるが、上記アリール基は更にハロゲン原子、置換基を有していてもよく、ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子などが挙げられ、置換基としては、例えば、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、トリフルオロメチル基、ｔ−ブチル基など）、アシル基（例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基など）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基など）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基など）、アミノ基、アルキルアミノ基（例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基など）、アニリノ基（例えば、アニリノ基、Ｎ−メチルアニリノ基など）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基など）、ヒドロキシル基、シアノ基、カルバモイル基（例えば、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基など）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基など）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基など）が挙げられる。
【００９０】
ヘテロ環基としては、例えば、ピリジル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基等が挙げられる。Ｒ6として、好ましくはアルキル基である。
【００９１】
一般式（２）において、Ｘは−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＲ7−、−ＯＣＯ−又は−ＮＲ7ＣＯ−を表す。
【００９２】
Ｒ7は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はヘテロ環基を表すが、アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、アミル基、イソアミル基、ヘキシル基などが挙げられる。かかるアルキル基は、更にハロゲン原子、置換基を有していてもよく、ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、置換基としては、例えば、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、ｐ−トリル基、ｐ−クロロフェニル基など）、アシル基（例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基など）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基など）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基など）、アミノ基、アルキルアミノ基（例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基など）、アニリノ基（例えば、アニリノ基、Ｎ−メチルアニリノ基など）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基など）、ヒドロキシル基、シアノ基、カルバモイル基（例えば、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基など）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基など）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基など）が挙げられる。
【００９３】
シクロアルキル基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基、アダマンチル基などの飽和環式炭化水素を挙げることが出来、これらは無置換でも、置換されていても良い。
【００９４】
アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基などが挙げられるが、かかるアリール基は更にハロゲン原子、置換基を有していてもよく、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子などが挙げられ、置換基としては、例えば、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、トリフルオロメチル基、ｔ−ブチル基など）、アシル基（例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基など）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基など）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基など）、アミノ基、アルキルアミノ基（例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基など）、アニリノ基（例えば、アニリノ基、Ｎ−メチルアニリノ基など）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基など）、ヒドロキシル基、シアノ基、カルバモイル基（例えば、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基など）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基など）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基など）が挙げられる。
【００９５】
ヘテロ環基としては、例えば、ピリジル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基等が挙げられる。Ｒ7として、好ましくは水素原子である。
【００９６】
本発明でいう重合性基とは、不飽和エチレン系重合性基又は二官能系重縮合性基を意味するが、好ましくは不飽和エチレン系重合性基である。不飽和エチレン系重合性基の具体例としては、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチリル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基、シアン化ビニル基、２−シアノアクリルオキシ基、１，２−エポキシ基、ビニルベンジル基、ビニルエーテル基などが挙げられるが、好ましくは、ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基アクリルアミド基、メタクリルアミド基である。また、重合性基を部分構造として有するとは、上記重合性基が直接、若しくは２価以上の連結基によって結合していることを意味し、２価以上の連結基とは、例えば、アルキレン基（例えば、メチレン、１，２−エチレン、１，３−プロピレン、１，４−ブチレン、シクロヘキサン−１，４−ジイルなど）、アルケニレン基（例えば、エテン−１，２−ジイル、ブタジエン−１，４−ジイルなど）、アルキニレン基（例えば、エチン−１，２−ジイル、ブタン−１，３−ジイン−１，４−ジイルなど）、少なくとも一つの芳香族基を含む化合物から誘導される連結基（例えば、置換若しくは無置換のベンゼン、縮合多環炭化水素、芳香族複素環、芳香族炭化水素環集合、芳香族複素環集合など）、ヘテロ原子連結基（酸素、硫黄、窒素、ケイ素、リン原子など）が挙げられるが、好ましくは、アルキレン基、及び、ヘテロ原子で連結する基である。これらの連結基は更に組み合わせて複合基を形成してもよい。紫外線吸収性モノマーから誘導されるポリマーの重量平均分子量が２０００以上３００００以下であることが好ましく、より好ましくは５０００以上２００００以下である。
【００９７】
本発明に用いられる紫外線吸収性ポリマーの重量平均分子量は、公知の分子量調節方法で調整することが出来る。そのような分子量調節方法としては、例えば四塩化炭素、ラウリルメルカプタン、チオグリコール酸オクチル等の連鎖移動剤を添加する方法等が挙げられる。重合温度は通常室温から１３０℃、好ましくは５０℃から１００℃で行われる。
【００９８】
本発明に用いられる紫外線吸収性ポリマーは、紫外線吸収性モノマーのみの単重合体であっても、他の重合性モノマーとの共重合体であってもよいが、共重合可能な他の重合性モノマーとしては、例えば、スチレン誘導体（例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ビニルナフタレンなど）、アクリル酸エステル誘導体（例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ｉ−ブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸オクチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ベンジルなど）、メタクリル酸エステル誘導体（例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ｉ−ブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル等）、アルキルビニルエーテル（例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテルなど）、アルキルビニルエステル（例えば、ギ酸ビニル、酢酸ビニル、酪酸ビニル、カプロン酸ビニル、ステアリン酸ビニルなど）、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メタクリルアミドなどの不飽和化合物が挙げられる。好ましくは、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、酢酸ビニルである。
【００９９】
紫外線吸収性モノマーから誘導されるポリマー中の紫外線吸収性モノマー以外の共重合成分が、親水性のエチレン性不飽和モノマーを少なくとも１種含有することも好ましい。
【０１００】
親水性のエチレン性不飽和モノマーとしては、親水性で分子中に重合可能な不飽和二重結合を有するもので有れば特に制限されず、例えば、アクリル酸或いはメタクリル酸等の不飽和カルボン酸、若しくはヒドロキシル基又はエーテル結合を有する、アクリル酸若しくはメタクリル酸エステル（例えば、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、メタクリル酸２−ヒドロキシプロピル、メタクリル酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、２，３−ジヒドロキシ−２−メチルプロピルメタクリレート、アクリル酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸２−エトキシエチル、アクリル酸ジエチレングリコールエトキシレート、アクリル酸３−メトキシブチルなど）、アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド等の（Ｎ−置換）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルオキサゾリドン等が挙げられる。
【０１０１】
親水性のエチレン性不飽和モノマーとしては、水酸基若しくはカルボキシル基を分子内に有する（メタ）アクリレートが好ましく、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、メタクリル酸２−ヒドロキシプロピル、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸２−ヒドロキシプロピルが特に好ましい。
【０１０２】
これらの重合性モノマーは、１種、または２種以上併用して紫外線吸収性モノマーと共重合させることが出来る。
【０１０３】
本発明に用いられる紫外線吸収性共重合ポリマーの重合方法は、特に問わないが、従来公知の方法を広く採用することが出来、例えば、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合などが挙げられる。ラジカル重合法の開始剤としては、例えば、アゾ化合物、過酸化物等が挙げられ、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、アゾビスイソブチル酸ジエステル誘導体、過酸化ベンゾイル、過酸化水素などが挙げられる。重合溶媒は特に問わないが、例えば、トルエン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロエタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、メタノール等のアルコール系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル系溶媒、アセトン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶媒、水溶媒等が挙げられる。溶媒の選択により、均一系で重合する溶液重合、生成したポリマーが沈澱する沈澱重合、ミセル状態で重合する乳化重合、懸濁状態で重合する懸濁重合を行うことも出来る。但し、乳化重合によって得られる紫外線吸収性ラテックスは光学フィルム用途として適していない。
【０１０４】
上記紫外線吸収性モノマー、これと共重合可能な重合性モノマー及び親水性のエチレン性不飽和モノマーの使用割合は、得られる紫外線吸収性共重合ポリマーと他の透明ポリマーとの相溶性、光学フィルムの透明性や機械的強度に対する影響を考慮して適宜選択される。
【０１０５】
紫外線吸収性モノマーから誘導されるポリマー中の紫外線吸収性モノマーの含有量が１〜７０質量％であることが好ましく、より好ましくは、５〜６０質量％である。紫外線吸収性ポリマーにおける紫外線モノマーの含有量が１質量％未満の場合、所望の紫外線吸収性能を満たそうとした場合に多量の紫外線吸収性ポリマーを使用しなければならず、ヘイズの上昇或いは析出などにより透明性が低下し、フィルム強度を低下させる要因となる。一方、紫外線吸収性ポリマーにおける紫外線モノマーの含有量が７０質量％を超えた場合、他のポリマーとの相溶性が低下するため、透明な光学フィルムを得ることが出来ない。また、溶媒に対する溶解度が低くなり、フィルム作製の際の作業性、生産性が劣る。
【０１０６】
親水性エチレン性不飽和モノマーは、上記紫外線吸収性共重合体中に、０．１〜５０質量％含まれることが好ましい。０．１質量％以下では、親水性エチレン性不飽和モノマーによる相溶性の改良効果が現れず、５０質量％より多いと共重合体の単離精製が困難となる。親水性エチレン性不飽和モノマーの更に好ましい含量は０．５〜２０質量％である。紫外線吸収性モノマー自身に親水性基が置換している場合、親水性の紫外線吸収性モノマーと、親水性エチレン性不飽和モノマーの合計の含量が上記範囲内であることが好ましい。
【０１０７】
紫外線吸収性モノマー及び親水性モノマーの好ましい含有量を満たすために、両者に加え、更に分子中に親水性基を有さないエチレン性不飽和モノマーを共重合させることが好ましい。
【０１０８】
紫外線吸収性モノマー及び（非）親水性エチレン性不飽和モノマーは、各々２種以上混合して共重合させても良い。
【０１０９】
以下、本発明に好ましく用いられる紫外線吸収性モノマーの代表例を例示するが、これらに限定されるものではない。
【０１１０】
【化８】
【０１１１】
【化９】
【０１１２】
【化１０】
【０１１３】
【化１１】
【０１１４】
【化１２】
【０１１５】
【化１３】
【０１１６】
【化１４】
【０１１７】
本発明に用いられる紫外線吸収剤、紫外線吸収性モノマー及びその中間体は公知の文献を参照して合成することが出来る。例えば、米国特許第３，０７２，５８５号、同３，１５９，６４６号、同３，３９９，１７３号、同３，７６１，２７２号、同４，０２８，３３１号、同５，６８３，８６１号、ヨーロッパ特許第８６，３００，４１６号、特開昭６３−２２７５７５号、同６３−１８５９６９号、Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｂｕｌｌｅｔｉｎ．Ｖ．２０（２）、１６９−１７６及びＣｈｅｍｉｃａｌ Ａｂｓｔｒａｃｔｓ Ｖ．１０９、Ｎｏ．１９１３８９などを参照して合成することが出来る。
【０１１８】
本発明に用いられる紫外線吸収剤及び紫外線吸収性ポリマーは、他の透明ポリマーに混合する際に、必要に応じて低分子化合物若しくは高分子化合物、無機化合物などを一緒に用いることも出来る。例えば、本発明に用いられる紫外線吸収剤と他の低分子紫外線吸収剤とを同時に他の透明ポリマーに混合したり、本発明に用いられる紫外線吸収性ポリマーと他の低分子紫外線吸収剤とを、同時に他の透明ポリマーに混合することも好ましい態様の一つである。同様に、酸化防止剤、可塑剤、難燃剤などの添加剤を同時に混合することも好ましい態様の一つである。
【０１１９】
光学フィルムへの本発明に用いられる紫外線吸収剤及び紫外線吸収性ポリマーの添加方法は、光学フィルム中に含有させてもよいし、光学フィルム上に塗布してもよい。光学フィルム中に含有させる場合、直接添加しても良いが、生産性の優れるインライン添加が好ましい。インライン添加は、予め有機溶媒（例えば、メタノール、エタノール、メチレンクロライドなど）に溶解させた後、インラインミキサー等でドープ組成中に添加する方法である。
【０１２０】
本発明に用いられる紫外線吸収剤及び紫外線吸収性ポリマーの使用量は、化合物の種類、使用条件などにより一様ではないが、紫外線吸収剤である場合には、光学フィルム１ｍ２当たり０．２〜３．０ｇが好ましく、０．４〜２．０が更に好ましく、０．５〜１．５が特に好ましい。また、紫外線吸収ポリマーである場合には、光学フィルム１ｍ2当たり０．６〜９．０ｇが好ましく、１．２〜６．０が更に好ましく、１．５〜３．０が特に好ましい。
【０１２１】
更に、液晶劣化防止の観点から、波長３８０ｎｍ以下の紫外線吸収性能に優れ、かつ、良好な液晶表示性の観点から、４００ｎｍ以上の可視光吸収が少ないものが好ましい。本発明においては、特に、波長３８０ｎｍでの透過率が８％以下であることが好ましく、４％以下が更に好ましく、１％以下であることが特に好ましい。
【０１２２】
本発明に用いることの出来る市販品としての紫外線吸収剤モノマーとして、大塚化学社製の反応型紫外線吸収剤ＲＵＶＡ−９３の１−（２−ベンゾトリアゾール）−２−ヒドロキシ−５−（２−メタクリロイルオキシエチル）ベンゼンまたはこの類似化合物がある。これらを単独又は共重合したポリマーまたはコポリマーも好ましく用いられるが、これらに限定されない。例えば、市販品の高分子紫外線吸収剤として、大塚化学（株）製のＰＵＶＡ−３０Ｍも好ましく用いられる。紫外線吸収剤は２種以上用いてもよい。紫外線吸収剤のドープへの添加方法は、アルコールやメチレンクロライド、ジオキソラン、酢酸メチルなどの有機溶媒に紫外線吸収剤を溶解してから添加するか、または直接ドープ組成中に添加してもよい。
【０１２３】
また、本発明のセルロースエステルフィルムには、酸化防止剤を含有していてもよい。例えば特開平５−１９７０７３号公報に記載されているような、過酸化物分解剤、ラジカル連鎖禁止剤、金属不活性剤または酸捕捉剤を含有していてもよい。これらの化合物の添加量は、セルロースエステルに対して質量割合で１ｐｐｍ〜１．０％が好ましく、１０〜１０００ｐｐｍが更に好ましい。
【０１２４】
また本発明において、セルロースエステルフィルム中に、微粒子のマット剤を含有するのが好ましく、微粒子のマット剤としては、例えば二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の無機微粒子や架橋高分子微粒子を含有させることが好ましい。中でも二酸化ケイ素がフィルムのヘイズを小さく出来るので好ましい。微粒子の２次粒子の平均粒径は０．０１〜１．０μｍの範囲で、その含有量はセルロースエステルに対して０．００５〜０．３質量％が好ましい。二酸化ケイ素のような微粒子には有機物により表面処理されている場合が多いが、このようなものはフィルムのヘイズを低下出来るため好ましい。表面処理で好ましい有機物としては、ハロシラン類、アルコキシシラン類（特にメチル基を有するアルコキシシラン類）、シラザン、シロキサンなどが挙げられる。微粒子の平均粒径が大きい方がマット効果は大きく、反対に平均粒径の小さい方は透明性に優れるため、好ましい微粒子の一次粒子の平均粒径は５〜５０ｎｍで、より好ましくは７〜１６ｎｍである。これらの微粒子はセルロースエステルフィルム中では、通常、凝集体として存在しセルロースエステルフィルム表面に０．０１〜１．０μｍの凹凸を生成させることが好ましい。二酸化ケイ素の微粒子としてはアエロジル（株）製のＡＥＲＯＳＩＬ ２００、２００Ｖ、３００、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２，ＯＸ５０、ＴＴ６００等を挙げることが出来、好ましくはＡＥＲＯＳＩＬ ２００Ｖ、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２である。これらのマット剤は２種以上併用してもよい。２種以上併用する場合、任意の割合で混合して使用することが出来る。この場合、平均粒径や材質の異なるマット剤、例えばＡＥＲＯＳＩＬ ２００ＶとＲ９７２Ｖを質量比で０．１：９９．９〜９９．９〜０．１の範囲で使用出来る。
【０１２５】
次に、本発明のセルロースエステルフィルムの製造方法について述べる。
【０１２６】
本発明におけるセルロースエステルドープの調製方法について述べる。セルロースエステルに対する良溶媒を主とする有機溶媒に溶解釜中でフレーク状のセルロースエステルを攪拌しながら溶解し、ドープを形成する。溶解には、常圧で行う方法、主溶媒の沸点以下で行う方法、主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法、特開平９−９５５４４号、同９−９５５５７号または同９−９５５３８号公報に記載の如き冷却溶解法で行う方法、特開平１１−２１３７９号公報に記載の如き高圧で行う方法等種々の溶解方法がある。溶解後ドープを濾材で濾過し、脱泡してポンプで次工程に送る。ドープ中のセルロースエステルの濃度は１０〜３５質量％程度である。更に好ましくは、１５〜２５質量％である。本発明に有用なポリマーをセルロースエステルドープ中に含有させるには、予め有機溶媒に該ポリマーを溶解してから添加、セルロースエステルドープに直接添加等、添加方法については、制限なく行うことが出来る。この場合、ポリマーがドープ中で白濁したり、相分離したりしないように添加する。添加量については、前記の通りである。
【０１２７】
セルロースエステルに対する良溶媒としての有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、ギ酸エチル、アセトン、シクロヘキサノン、アセト酢酸メチル、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、４−メチル−１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、塩化メチレン、ブロモプロパン等を挙げることが出来、酢酸メチル、アセトン、塩化メチレンを好ましく用いられる。しかし最近の環境問題から非塩素系の有機溶媒の方が好ましい傾向にある。また、これらの有機溶媒に、メタノール、エタノール、ブタノール等の低級アルコールを併用すると、セルロースエステルの有機溶媒への溶解性が向上したりドープ粘度を低減出来るので好ましい。特に沸点が低く、毒性の少ないエタノールが好ましい。本発明に係るドープに使用する有機溶媒は、セルロースエステルの良溶媒と貧溶媒を混合して使用することが、生産効率の点で好ましく、良溶媒と貧溶媒の混合比率の好ましい範囲は、良溶媒が７０〜９８質量％であり、貧溶媒が２〜３０質量％である。本発明に用いられる良溶媒、貧溶媒とは、使用するセルロースエステルを単独で溶解するものを良溶媒、単独では溶解しないものを貧溶媒と定義している。本発明に係るドープに使用する貧溶媒としては、特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール、シクロヘキサン、アセトン、シクロヘキサノン等を好ましく使用し得る。本発明に有用なエステル系可塑剤に対しても、有機溶媒の選定は、セルロースエステルの良溶媒を用いるのが好ましい。前記のように、低分子可塑剤を使用する場合には、通常の添加方法で行うことが出来、ドープ中に直接添加しても、予め有機溶媒に溶解してからドープ中に注ぎ入れてもよい。
【０１２８】
本発明において、前記のような種々の添加剤をセルロースエステルドープに添加する際、セルロースエステルドープと各種添加剤を少量のセルロースエステルとを溶解させた溶液にしてインライン添加し混合を行うことも出来好ましい。例えば、スタチックミキサーＳＷＪ（東レ静止型管内混合器 Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ）（東レエンジニアリング製）のようなインラインミキサーを使用するのが好ましい。インラインミキサーを用いる場合、セルロースエステルを高圧下で濃縮溶解したドープに適用するのが好ましく、加圧容器の種類は特に問うところではなく、所定の圧力に耐えることが出来、加圧下で加熱、攪拌が出来ればよい。
【０１２９】
本発明において、セルロースエステルドープは濾過することによって異物、特に液晶画像表示装置において、画像と認識しまごう異物は除去しなければならい。偏光板用保護フィルムの品質は、この濾過によって決まるといってよい。濾過に使用する濾材は絶対濾過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過精度が小さ過ぎると濾過材の目詰まりが発生しやすく、濾材の交換を頻繁に行わなければならず、生産性を低下させるという問題点ある。このため、本発明のセルロースエステルドープの濾材は、絶対濾過精度０．００８ｍｍ以下のものが好ましく、０．００１〜０．００８ｍｍの範囲がより好ましく、０．００３〜０．００６ｍｍの範囲の濾材が更に好ましい。濾材の材質には特に制限はなく、通常の濾材を使用することが出来るが、ポリプロピレン、テフロン（登録商標）等のプラスチック繊維製の濾材やステンレス繊維等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。本発明のセルロースエステルドープの濾過は通常の方法で行うことが出来るが、溶媒の常圧での沸点以上でかつ溶媒が沸騰しない範囲の温度で加圧下加熱しながら濾過する方法が、濾過前後の差圧（以下、濾圧とすることがある）の上昇が小さく、好ましい。好ましい温度範囲は４５〜１２０℃であり、４５〜７０℃がより好ましく、４５〜５５℃の範囲であることが更に好ましい。濾圧は小さい方が好ましい。濾圧は１．６×１０６Ｐａ以下であることが好ましく、１．２×１０6Ｐａ以下であることがより好ましく、１．０×１０6Ｐａ以下であることが更に好ましい。原料のセルロースにアシル基の未置換若しくは低置換度のセルロースエステルが含まれていると異物故障（以下輝点とすることがある）が発生することがある。輝点は直交状態（クロスニコル）の２枚の偏光板の間にセルロースエステルフィルムを置き、光を片側から照射して、その反対側から光学顕微鏡（５０倍）で観察すると、正常なセルロースエステルフィルムであれば、光が遮断されていて、黒く何も見えないが、異物があるとそこから光が漏れて、スポット状に光って見える現象である。輝点の直径が大きいほど液晶画像表示装置とした場合実害が大きく、５０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下がより好ましく、更に８μｍ以下が好ましい。尚、輝点の直径とは、輝点を真円に近似して測定する直径を意味する。輝点は上記の直径のものが４００個／ｃｍ2以下であれば実用上問題ないが、３００個／ｃｍ2以下が好ましく、２００個／ｃｍ2以下がより好ましい。このような輝点の発生数及び大きさを減少させるために、細かい異物を十分濾過する必要がある。また、特開２０００−１３７１１５号公報に記載のような、一度製膜したセルロースエステルフィルムの粉砕品をドープにある割合再添加して、セルロースエステル及びその添加剤の原料とする方法は輝点を低減することが出来るため好ましく用いることが出来る。
【０１３０】
次に、セルロースエステルドープを金属支持体上に流延する工程、金属支持体上での乾燥工程及びウェブを金属支持体から剥離する剥離工程について述べる。金属支持体は無限に移行する無端の金属ベルト或いは回転する金属ドラムであり、その表面は鏡面となっている。流延工程は、上記の如きドープを加圧型定量ギヤポンプを通して加圧ダイに送液し、流延位置において、金属支持体上に加圧ダイからドープを流延する工程である。その他の流延する方法は流延されたドープ膜をブレードで膜厚を調節するドクターブレード法、或いは逆回転するロールで調節するリバースロールコーターによる方法等があるが、口金部分のスリット形状を調整出来、膜厚を均一にし易い加圧ダイが好ましい。加圧ダイには、コートハンガーダイやＴダイ等があるが、何れも好ましく用いられる。製膜速度を上げるために加圧ダイを金属支持体上に２基以上設け、ドープ量を分割して重層してもよい。膜厚の調節には、所望の厚さになるように、ドープ濃度、ポンプの送液量、ダイの口金のスリット間隙、ダイの押し出し圧力、金属支持体の速度等をコントロールするのがよい。
【０１３１】
金属支持体上での乾燥工程は、ウェブ（金属支持体上に流延した以降のドープ膜の呼び方をウェブとする）を支持体上で加熱し溶媒を蒸発させる工程である。溶媒を蒸発させるには、ウェブ側及び支持体裏側から加熱風を吹かせる方法、支持体の裏面から加熱液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等がある。またそれらを組み合わせる方法も好ましい。また、ウェブの膜厚が薄ければ乾燥が早い。金属支持体の温度は全体が同じでも、位置によって異なっていてもよい。
【０１３２】
本発明に適した金属支持体上での乾燥方法は、例えば、金属支持体温度を０〜４０℃、好ましくは５〜３０℃として流延するのが好ましい。ウェブに当てる乾燥風は３０〜４５℃程度が好ましいが、これに限定されない。
【０１３３】
剥離工程は、金属支持体上で有機溶媒を蒸発させて、金属支持体が一周する前にウェブを剥離する工程で、その後ウェブは乾燥工程に送られる。金属支持体からウェブを剥離する位置のことを剥離点といい、また剥離を助けるロールを剥離ロールという。ウェブの厚さにもよるが、剥離点でのウェブの残留溶媒量（下記式）があまり大き過ぎると剥離し難かったり、逆に支持体上で充分に乾燥させてから剥離すると、途中でウェブの一部が剥がれたりすることがある。通常、残留溶媒量が２０〜１５０質量％でウェブの剥離が行われる。本発明において好ましい剥離残留溶媒量は２０〜４０質量％または６０〜１２０質量％で、特に好ましくは２０〜３０質量％または７０〜１１５質量％である。製膜速度を上げる方法（残留溶媒量が出来るだけ多いうちに剥離するため製膜速度を上げることが出来る）として、残留溶媒量が多くとも剥離出来るゲル流延法（ゲルキャスティング）がある。その方法としては、ドープ中にセルロースエステルに対する貧溶媒を加えて、ドープ流延後、ゲル化する方法、支持体の温度を低めてゲル化する方法等がある。また、ドープ中に金属塩を加える方法もある。支持体上でゲル化させ膜を強くすることによって、剥離を早め製膜速度を上げることが出来る。残留溶媒量がより多い時点で剥離する場合、ウェブが柔らか過ぎると剥離時平面性を損なったり、剥離張力によるツレや縦スジが発生し易く、経済速度と品質との兼ね合いで残留溶媒量を決められる。
【０１３４】
本発明で用いる残留溶媒量は下記の式で表せる。
【０１３５】
残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
ここで、Ｍはウェブの任意時点での質量、ＮはＭを１１０℃で３時間乾燥させた時の質量である。
【０１３６】
また、セルロースエステルフィルムの乾燥工程においては、支持体より剥離したフィルムを更に乾燥し、残留溶媒量を２．０質量％以下にすることが好ましい、より好ましくは１．０質量％、更に好ましくは、０．５質量％以下である。
【０１３７】
ウェブ乾燥工程ではロールを千鳥状に配置したロール乾燥装置、ウェブの両端をクリップで把持しながら、幅保持或いは若干幅方向に延伸するテンター乾燥装置でウェブを搬送しながら乾燥する方式が採られる。本発明においては、テンター乾燥装置支持体より剥離した後任意の過程で、また任意の残留溶媒量の多いところで、幅保持または延伸することによって光学性能の湿度安定性を良好ならしめるため特に好ましい。ウェブを乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行う。簡便さの点で熱風で行うのが好ましい。乾燥温度は４０〜１５０℃の範囲で段階的に高くしていくことが好ましく、５０〜１４０℃の範囲で行うことが更に好ましい。
【０１３８】
尚、延伸操作は多段階に分割して実施してもよく、流延方向、幅手方向に二軸延伸を実施することが好ましい。また、二軸延伸を行う場合にも同時二軸延伸を行ってもよいし、段階的に実施してもよい。この場合、段階的とは、例えば、延伸方向の異なる延伸を順次行うことも可能であるし、同一方向の延伸を多段階に分割し、かつ異なる方向の延伸をそのいずれかの段階に加えることも可能である。
【０１３９】
また、同時２軸延伸には、一方向に延伸し、もう一方を張力を緩和して収縮させる場合も含まれる。同時２軸延伸の好ましい延伸倍率は幅方向に×１．０５〜×１．５倍で長手方向（流延方向）に×０．８〜×１．３倍であり、特に幅方向に×１．１〜×１．５倍、長手方向に×０．８〜×０．９９倍とすることが好ましい。特に好ましくは幅方向に×１．１〜×１．４倍、長手方向に×０．９〜×０．９９倍である。
【０１４０】
セルロースエステルフィルムの膜厚は薄い方が出来上がった偏光板が薄くなり、液晶ディスプレイの薄膜化が容易になるため好ましいが、薄過ぎると、透湿度や、引き裂き強度などが劣化する。これらを両立するセルロースエステルフィルムの膜厚は１０〜２００μｍが好ましく、４０〜１２０μｍが更に好ましく、５０〜７０μｍが特に好ましい。
【０１４１】
セルロースエステルフィルムの幅は、１．４ｍ以上、好ましくは１．４ｍ〜４ｍの範囲が、生産性の観点から大サイズの液晶表示装置に好ましい。
【０１４２】
本発明のセルロースエステルフィルムは、高い透湿性、寸法安定性などから液晶表示用部材に用いられるのが好ましい。液晶表示用部材とは液晶表示装置に使用される部材のことで、例えば、偏光板、偏光板用保護フィルム、位相差板、反射板、視野角向上フィルム、防眩フィルム、無反射フィルム、帯電防止フィルム等が挙げられる。上記記載の中でも、偏光板、偏光板用保護フィルムに用いるのがよい。
【０１４３】
（偏光板）
偏光板は製膜した本発明に係るセルロースエステルフィルムを４０℃の２．５ｍｏｌ／ｌの水酸化ナトリウム水溶液で６０秒間表面鹸化処理を行い、３分間水洗して乾燥させた。別に１２０μｍの厚さのポリビニルアルコールをヨウ素１質量部、ホウ酸４質量部を含む水溶液１００質量部に浸漬し、５０℃で４倍に立て方向に延伸した偏光膜を用意し、この両面に上記表面鹸化処理したセルロースエステルフィルムを完全鹸化型のポリビニルアルコール５質量％水溶液を粘着剤として貼り合わせ偏光板を作製する。
【０１４４】
本発明の偏光板用保護フィルムである延伸セルロースエステルフィルムは、下記式（Ｉ）により定義されるレターデーション値Ｒｏが３０〜２００ｎｍでかつ下記式（II）により定義にされるレターデーション値Ｒｔが７０〜４００ｎｍの範囲にあることが特徴である。
【０１４５】
式（Ｉ） Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（II） Ｒｔ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
式中、ｎｘはフィルム面内の屈折率が最も大きい方向の屈折率、ｎｙはｎｘに直角な方向でのフィルム面内の屈折率、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率、ｄはフィルムの厚み（ｎｍ）をそれぞれ表す。
【０１４６】
レターデーション値を上記範囲にすることで、特に偏光板用位相差フィルムとしての光学性能を十分に満足することが出来る。
【０１４７】
尚、レターデーション値Ｒｏ、Ｒｔは自動複屈折率計を用いて測定することが出来る。例えば、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株））を用いて、２３℃、５５％ＲＨの環境下で、波長が５９０ｎｍで求めることが出来る。
【０１４８】
本発明の偏光板用保護フィルムは、鹸化処理を行った後も、光透過率（可視光の）９０％以上であることが好ましく、より好ましくは９５％以上、更に９４％以上であることが好ましく、またヘイズは１％未満であることが好ましく、より好ましくは０．５％未満、更に０．１％未満であることが好ましい。特に０％であることが最も好ましい。
【０１４９】
（表示装置）
本発明の偏光板を表示装置に組み込むことによって、種々の視認性に優れた本発明の表示装置を作製することが出来る。本発明のセルロースステルフィルムは反射型、透過型、半透過型ＬＣＤ或いはＴＮ型、ＳＴＮ型、ＯＣＢ型、ＨＡＮ型、ＶＡ型（ＰＶＡ型、ＭＶＡ型）、ＩＰＳ型等の各種駆動方式のＬＣＤで好ましく用いられる。特に、ＶＡ型液晶表示装置に好適である。
【０１５０】
特に画面が３０型以上の大画面のＶＡ型液晶表示装置では、光学性能の湿度安定性の改善の他、色むらや波打ちむらが少なく、長時間の鑑賞でも目が疲れないという効果があった。
【実施例】
【０１５１】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれにより限定されるものではない。
【０１５２】
実施例１
（ポリエステルの合成例Ａ１）
冷却凝縮器を装着した反応器に、２３６質量部のエチレングリコール、６８３質量部の１，４−ブチレングリコール、１１８０質量部のコハク酸、０．０３質量部のテトラブチルチタネートを投入し、１４０℃で２時間、２２０℃で２時間、冷却凝縮器を外して２２０℃でさらに２０時間、脱水縮合反応を行って、数平均分子量２０００のポリエステル（Ａ１）を得た。これに使用したグリコール（ａ）の炭素数の平均は３．３３、二塩基酸（ｂ）の炭素数は４であった。
【０１５３】
（ポリエステルの合成例Ａ２）
冷却凝縮器を装着した反応器に、６９９質量部のエチレングリコール、１１８０質量部のコハク酸、０．０３質量部のテトラブチルチタネートを投入し、ポリエステルの合成例Ａ１と同様の操作を行い、数平均分子量２０００のポリエステル（Ａ２）を得た。これに使用したグリコール（ａ）の炭素数の平均は２、二塩基酸（ｂ）の炭素数は４であった。
【０１５４】
（ポリエステルの合成例Ａ３）
冷却凝縮器を装着した反応器に、７０２質量部のエチレングリコール、８８５質量部のコハク酸、３６５質量部のアジピン酸、０．０３質量部のテトラブチルチタネートを投入し、ポリエステルの合成例Ａ１と同様の操作を行い、数平均分子量２０００のポリエステル（Ａ３）を得た。これに使用したグリコール（ａ）の炭素数の平均は２、二塩基酸（ｂ）の炭素数は４．５であった。
【０１５５】
（ポリエステルの合成例Ａ４）
冷却凝縮器を装着した反応器に、６３１質量部のエチレングリコール、１０１質量部の１，４−ブチレングリコール、１０６２質量部のコハク酸、１４６質量部のアジピン酸、０．０３質量部のテトラブチルチタネートを投入し、ポリエステルの合成例Ａ１と同様の操作を行い、数平均分子量２０００のポリエステル（Ａ４）を得た。これに使用したグリコール（ａ）の炭素数の平均は２．２、二塩基酸（ｂ）の炭素数は４．２であった。
【０１５６】
（ポリエステルの合成例Ａ５）
冷却凝縮器を装着した反応器に、２２６質量部のエチレングリコール、６５６質量部の１，４−ブチレングリコール、１１８０質量部のコハク酸、０．０３質量部のテトラブチルチタネートを投入し、ポリエステルの合成例Ａ１と同様の操作を行い、数平均分子量４０００のポリエステル（Ａ５）を得た。これに使用したグリコール（ａ）の炭素数の平均は３．３３、二塩基酸（ｂ）の炭素数は４であった。
【０１５７】
（ポリエステルの合成例Ａ６）
冷却凝縮器を装着した反応器に、２４９質量部のエチレングリコール、７２１質量部の１，４−ブチレングリコール、１１８０質量部のコハク酸、０．０３質量部のテトラブチルチタネートを投入し、ポリエステルの合成例Ａ１と同様の操作を行い、数平均分子量１５００のポリエステル（Ａ６）を得た。これに使用したグリコール（ａ）の炭素数の平均は３．３３、二塩基酸（ｂ）の炭素数は４であった。
【０１５８】
（ポリエステルの合成例Ａ７）
冷却凝縮器を装着した反応器に、６４８質量部のエチレングリコール、５８質量部のジエチレングリコール、１１２１質量部のコハク酸、８３質量部のテレフタル酸、０．０３質量部のテトラブチルチタネートを投入し、ポリエステルの合成例Ａ１と同様の操作を行い、数平均分子量３０００のポリエステル（Ａ４）を得た。これに使用したグリコール（ａ）の炭素数の平均は２．１、二塩基酸（ｂ）の炭素数は４．２であった。
【０１５９】
（ポリエステルの比較合成例Ｂ１）
冷却凝縮器を装着した反応器に、２３８質量部のエチレングリコール、６９３質量部の１，４−ブチレングリコール、１４６０質量部のアジピン酸、０．０３質量部のテトラブチルチタネートを投入し、ポリエステルの合成例Ａ１と同様の操作を行い、数平均分子量２０００のポリエステル（Ｂ１）を得た。これに使用したグリコール（ａ）の炭素数の平均は３．３３、二塩基酸（ｂ）の炭素数は６であった。
【０１６０】
（ポリエステルの比較合成例Ｂ２）
冷却凝縮器を装着した反応器に、１０３０質量部の１，４−ブチレングリコール、１１８０質量部のコハク酸、０．０３質量部のテトラブチルチタネートを投入し、ポリエステルの合成例Ａ１と同様の操作を行い、数平均分子量２０００のポリエステル（Ｂ２）を得た。これに使用したグリコール（ａ）の炭素数の平均は４、二塩基酸（ｂ）の炭素数は４であった。
【０１６１】
（ポリエステルの比較合成例Ｂ３）
冷却凝縮器を装着した反応器に、７０６質量部のエチレングリコール、１４６０質量部のアジピン酸、０．０３質量部のテトラブチルチタネートを投入し、ポリエステルの合成例Ａ１と同様の操作を行い、数平均分子量２０００のポリエステル（Ｂ３）を得た。これに使用したグリコール（ａ）の炭素数の平均は２、二塩基酸（ｂ）の炭素数は６であった。
【０１６２】
（高分子ＵＶ剤Ｐ−１合成例）
２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−５−カルボン酸−（２−メタクリロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール（例示化合物ＭＵＶ−１９）を、下記に記載の方法に従って合成した。
【０１６３】
２０．０ｇの３−ニトロ−４−アミノ−安息香酸を１６０ｍｌの水に溶かし、濃塩酸４３ｍｌを加えた。２０ｍｌの水に溶解させた８．０ｇの亜硝酸ナトリウムを０℃で加えた後、０℃のまま２時間撹拌した。この溶液に、１７．３ｇの４−ｔ−ブチルフェノールを水５０ｍｌとエタノール１００ｍｌに溶解させた溶液中に、炭酸カリウムで液性をアルカリ性に保ちながら０℃で滴下した。この溶液を０℃に保ちながら１時間、更に室温で１時間撹拌した。反応液を塩酸で酸性にし、生成した沈殿物をろ過した後、よく水洗した。
【０１６４】
ろ過した沈殿を５００ｍｌの１モル／ＬのＮａＯＨ水溶液に溶解させ、３５ｇの亜鉛粉末を加えた後、４０％ＮａＯＨ水溶液１１０ｇを滴下した。滴下後、約２時間撹拌し、ろ過、水洗し、濾液を塩酸で中和して中性とした。析出した沈殿物をろ過、水洗、乾燥後、酢酸エチルとアセトンの混合溶媒で再結晶を行うことにより、２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−５−カルボン酸−２Ｈ−ベンゾトリアゾールが得られた。
【０１６５】
次いで、１０．０ｇの２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−５−カルボン酸−２Ｈ−ベンゾトリアゾールと０．１ｇのハイドロキノン、４．６ｇの２−ヒドロキシエチルメタクリレート、０．５ｇのｐ−トルエンスルホン酸とをトルエン１００ｍｌ中に加え、エステル管を備えた反応容器で１０時間加熱灌流を行う。反応溶液を水中に注ぎ、析出した結晶をろ過、水洗、乾燥し、酢酸エチルで再結晶を行うことで、例示化合物ＭＵＶ−１９である２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−５−カルボン酸−（２−メタクリロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ−ベンゾトリアゾールが得られた。
【０１６６】
次いで、２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−５−カルボン酸−（２−メタクリロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとメタクリル酸メチルとの共重合体（高分子ＵＶ剤Ｐ−１）を下記に記載の方法に従って合成した。
【０１６７】
テトラヒドロフラン８０ｍｌに、上記合成例３で合成した４．０ｇの２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−５−カルボン酸−（２−メタクリロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ−ベンゾトリアゾールと６．０ｇのメタクリル酸メチルとを加え、次いで、アゾイソブチロニトリル１．１４ｇを加えた。窒素雰囲気下で９時間加熱還流した。テトラヒドロフランを減圧留去した後、２０ｍｌのテトラヒドロフランに再溶解し、大過剰のメタノール中に滴下した。析出した沈殿物を濾取し、４０℃で真空乾燥して、９．１ｇの灰白色紛状重合体である高分子ＵＶ剤Ｐ−１を得た。この共重合体は、標準ポリスチレンを基準とするＧＰＣ分析により、数平均分子量４５００のものであると確認した。また、ＮＭＲスペクトル及びＵＶスペクトルから、上記共重合体が、２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−５−カルボン酸−（２−メタクリロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとメタクリル酸メチルの共重合体であることを確認した。上記重合体の組成は略、２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−５−カルボン酸−（２−メタクリロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール：メタクリル酸メチル＝４０：６０であった。
【０１６８】
（高分子ＵＶ剤Ｐ−２合成例）
上記高分子ＵＶ剤Ｐ−１合成過程のうち、６．０ｇのメタクリル酸メチルの代わりに、５．０ｇのメタクリル酸メチルと１．０ｇのメタクリル酸ヒドロキシエチルを用いた以外は同様にして高分子ＵＶ剤Ｐ−２を合成した。数平均分子量は４５００であった。また、上記重合体の組成は略、２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−５−カルボン酸−（２−メタクリロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール：メタクリル酸メチル：メタクリル酸ヒドロキシエチル＝４０：５０：１０であった。
【０１６９】
〔セルロースエステルフィルムの作製〕
表１、２記載のセルロースエステル、添加剤、微粒子、溶剤を用いて表３，４に示すようなドープ組成となるようセルロースエステル溶液を調製した。
【０１７０】
【表１】
【０１７１】
【表２】
【０１７２】
即ち、溶剤を密閉容器に投入し、攪拌しながら残りの素材を順に投入し、加熱、撹拌しながら完全に溶解し、混合した。微粒子は溶剤の一部で分散して添加した。溶液を流延する温度まで下げて静置し、脱泡操作を施した後、溶液を安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過し、セルロースエステル溶液をそれぞれ得た。
【０１７３】
次に、３３℃に温度調整したセルロースエステル溶液を、ダイに送液して、ダイスリットからステンレスベルト上に均一に流延した。ステンレスベルトの流延部は裏面から３７℃の温水で加熱した。流延後、金属支持体上のドープ膜（ステンレスベルトに流延以降はウェブということにする）に４４℃の温風を当てて乾燥させ、剥離の際の残留溶媒量が８０質量％で剥離し、剥離の際の張力をかけて１．０５倍の縦延伸倍率となるように延伸し、次いで、テンターでウェブ端部を把持し、幅手方向に１．３０倍の延伸倍率となるように延伸した。延伸後、その幅を維持したまま数秒間保持した後、幅方向の張力を緩和させた後、幅保持を解放し、更に１１０℃に設定された第３乾燥ゾーンで２０分間搬送させて、乾燥を行い、幅１．５ｍでかつ端部に幅１．５ｃｍ、高さ８μｍのナーリングを有する８０μｍの膜厚のセルロースエステルフィルム試料１〜４３を作製した。
【０１７４】
作製した各セルロースエステルフィルムについて、用いたセルロースエステル、添加剤、微粒子、溶剤等について表３，４に纏めた。
【０１７５】
【表３】
【０１７６】
【表４】
【０１７７】
〈評価方法〉
（レターデーションＲｏ、Ｒｔ）
自動複屈折率計（王子計測機器（株）製、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ）を用いてセルロースエステルフィルム試料１〜４３を２３℃、５５％ＲＨの環境下で、５９０ｎｍの波長において１０カ所測定し３次元屈折率測定を行い、屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚを求めた。式（Ｉ）に従って面内方向のレターデーションＲｏを、また、式（II）に従って厚み方向のレターデーションＲｔを算出した。それぞれ１０カ所測定しその平均値で示した。
【０１７８】
式（Ｉ）
Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式中、ｎｘはフィルムの製膜方向に平行な方向におけるフィルムの屈折率、ｎｙは製膜方向に垂直な方向におけるフィルムの屈折率、ｄはフィルムの厚み（ｎｍ）をそれぞれ表す。
【０１７９】
式（II）
Ｒｔ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ
式中、ｎｘはフィルムの製膜方向に平行な方向におけるフィルムの屈折率、ｎｙは製膜方向に垂直な方向におけるフィルムの屈折率、ｎｚは厚み方向におけるフィルムの屈折率、ｄはフィルムの厚み（ｎｍ）をそれぞれ表す。
【０１８０】
（ヘイズ）
フィルム試料３枚を重ね合わせ、ＡＳＴＭ−Ｄ１００３−５２に従って、東京電色工業（株）社製Ｔ−２６００ＤＡを使用して測定した。
【０１８１】
（ブリードアウト）
フィルム試料を８０℃、９０％ＲＨの高温高湿雰囲気下に１０００時間放置後、ブリードアウトを評価した。
【０１８２】
フィルムの表面を観察することによりブリードアウトの有無を評価した。
【０１８３】
◎・・・フィルム表面にブリードアウトが全くない
○・・・フィルム表面に部分的なブリードアウトがかすかに分かる
△・・・フィルム表面に全面的なブリードアウトがかすかに分かる
×・・・フィルム表面に全面的なブリードアウトがハッキリ分かる
（Ｒｔ湿度変化）
２３℃、２０％ＲＨの環境下で１２時間以上調湿した試料のＲｔを測定し、その後同様に２３℃２０％ＲＨの環境下で１２時間以上調湿した試料のＲｔを測定し、その変化を計算した。
【０１８４】
（異物故障）
ベルト流延装置の巻き取り部の直前にオンライン欠陥検査機を設置し、セルロースエステルフィルム１００ｍ2あたりの５０μｍ以上の異物故障数をカウントした。
【０１８５】
（分子量測定）
なお、平均分子量の測定は、高速液体クロマトグラフィーを用いて測定した。
【０１８６】
測定条件は以下の通りである。
溶媒： メチレンクロライド
カラム： ＴＳＫｇｅｌ Ｇ２０００ＨｘＬ Ｇ３０００ＨｘＬ Ｇ４０００ＨｘＬ
（東ソー（株）製高性能ＳＥＣカラムを３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度： ０．１質量％
検出器： ＲＩ Ｍｏｄｅｌ ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ： Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量： １．０ｍｌ／ｍｉｎ
〈偏光板の作製〉
各セルロースエステルについて、偏光板を作製して偏光子の劣化について評価した。
【０１８７】
厚さ１２０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、沃素１ｋｇ、ホウ酸４ｋｇを含む水溶液１００ｋｇに浸漬し５０℃で６倍に延伸して偏光膜を作った。この偏光膜の両面にアルカリケン化処理を行ったセルロースエステルフィルム試料を完全ケン化型ポリビニルアルコール５％水溶液を粘着剤として各々貼り合わせ偏光板を作成した。
【０１８８】
〈アルカリケン化処理〉
ケン化工程 ２Ｎ−ＮａＯＨ ５０℃ ９０秒
水洗工程 水 ３０℃ ４５秒
中を工程 １０質量％ＨＣｌ ３０℃ ４５秒
水洗工程 水 ３０℃ ４５秒
上記条件でフィルム試料をケン化、水洗、中和、水洗の順に行い、次いで８０℃で乾燥を行った。
【０１８９】
（偏光板劣化）
上記方法で作製した偏光板について先ず平行透過率と直交透過率を測定し、下記式にしたがって偏光度を算出した。その後各々の偏光板を６０℃、９０％の条件下で１０００時間の強制劣化後、再度平行透過率と直交透過率を測定し、下記式に従って偏光度を算出した。偏光度変化量を下記式により求めた。
【０１９０】
偏光度Ｐ＝（（Ｈ０−Ｈ９０）／（Ｈ０＋Ｈ９０））１／２×１００
偏光度変化量＝Ｐ０−Ｐ１０００
Ｈ０ ：平行透過率
Ｈ９０：直交透過率
Ｐ０ ：強制劣化前の偏光度
Ｐ１０００：強制劣化１０００時間後の偏光度
◎：偏光度変化率１０％未満
○：偏光度変化率１０％以上２５％未満
×：偏光度変化率２５％以上。
【０１９１】
表２の結果から本発明のセルロースフィルムは、異物故障が少なくまたヘイズが小さく、Ｒｔ湿度変化等も少ないことが判る。また偏光板としたときの偏光板子劣化が少ない。
【０１９２】
実施例２
《反射防止フィルムの作製》
セルロースエステルフィルムＫＣ８ＵＸ２Ｍ（コニカミノルタオプト（株）製）を用いて、下記手順により反射防止フィルムを作製した。
【０１９３】
反射防止層を構成する各層の屈折率は下記方法で測定した。
【０１９４】
（屈折率）
各屈折率層の屈折率は、各層を単独で下記で作製したハードコートフィルム上に塗設したサンプルについて、分光光度計の分光反射率の測定結果から求めた。分光光度計はＵ−４０００型（日立製作所製）を用いて、サンプルの測定側の裏面を粗面化処理した後、黒色のスプレーで光吸収処理を行って裏面での光の反射を防止して、５度正反射の条件にて可視光領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍ）の反射率の測定を行った。
【０１９５】
（金属酸化物微粒子の粒径）
使用する金属酸化物微粒子の粒径は電子顕微鏡観察（ＳＥＭ）にて各々１００個の微粒子を観察し、各微粒子に外接する円の直径を粒子径としてその平均値を粒径とした。
【０１９６】
《ハードコート層及びバックコート層を有するセルロースエステルフィルムの作製》
セルロースエステルフィルムＫＣ８ＵＸ２Ｍ（コニカミノルタオプト（株）製）上に、下記のハードコート層用塗布液を孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液を調製し、これをマイクログラビアコーターを用いて塗布し、９０℃で乾燥の後、紫外線ランプを用い照射部の照度が１００ｍＷ／ｃｍ2で、照射量を０．１Ｊ／ｃｍ2として塗布層を硬化させ、ドライ膜厚７μｍのハードコート層を形成しハードコートフィルムを作製した。
【０１９７】
（ハードコート層塗布液）
下記材料を攪拌、混合しハードコート層塗布液１とした。
【０１９８】
アクリルモノマー；ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製） ２２０質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャルティケミカルズ（株）製） ２０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル １１０質量部
酢酸エチル １１０質量部
更に、下記バックコート層組成物をウェット膜厚１０μｍとなるように押し出しコーターで塗布し、８５℃にて乾燥し巻き取り、バックコート層を設けた。
【０１９９】
（バックコート層組成物）
アセトン ５４質量部
メチルエチルケトン ２４質量部
メタノール ２２質量部
ジアセチルセルロース ０．６質量部
超微粒子シリカ２％アセトン分散液
（日本アエロジル（株）製アエロジル２００Ｖ） ０．２質量部
《反射防止フィルムの作製》
上記作製したハードコートフィルム上に、下記のように高屈折率層、次いで、低屈折率層の順に反射防止層を塗設し、反射防止フィルムを作製した。
【０２００】
《反射防止層の作製：高屈折率層》
ハードコートフィルム上に、下記高屈折率層塗布組成物を押し出しコーターで塗布し、８０℃で１分間乾燥させ、次いで紫外線を０．１Ｊ／ｃｍ2照射して硬化させ、更に１００℃で１分熱硬化させ、厚さが７８ｎｍとなるように高屈折率層を設けた。
【０２０１】
この高屈折率層の屈折率は１．６２であった。
【０２０２】
〈高屈折率層塗布組成物１〉
金属酸化物微粒子のイソプロピルアルコール溶液（固形分２０％、ＩＴＯ粒子、粒径５ｎｍ） ５５質量部
金属化合物：Ｔｉ（ＯＢｕ）4（テトラ−ｎ−ブトキシチタン） １．３質量部
電離放射線硬化型樹脂：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
３．２質量部
光重合開始剤：イルガキュア１８４（チバスペシャルティケミカルズ（株）製）
０．８質量部
直鎖ジメチルシリコーン−ＥＯブロックコポリマー（ＦＺ−２２０７、日本ユニカー（株）製）の１０％プロピレングリコールモノメチルエーテル液 １．５質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル １２０質量部
イソプロピルアルコール ２４０質量部
メチルエチルケトン ４０質量部
《反射防止層の作製：低屈折率層》
前記高屈折率層上に、下記の低屈折率層塗布組成物を押し出しコーターで塗布し、１００℃で１分間乾燥させた後、紫外線を０．１Ｊ／ｃｍ2照射して硬化させ、更に１２０℃で５分間熱硬化させ、厚さ９５ｎｍとなるように低屈折率層を設け、反射防止フィルムを作製した。なお、この低屈折率層の屈折率は１．３７であった。
【０２０３】
（低屈折率層塗布組成物の調製）
〈テトラエトキシシラン加水分解物Ａの調製〉
テトラエトキシシラン２８９ｇとエタノール５５３ｇを混和し、これに０．１５％酢酸水溶液１５７ｇを添加し、２５℃のウォーターバス中で３０時間攪拌することで加水分解物Ａを調製した。
【０２０４】
テトラエトキシシラン加水分解物Ａ １１０質量部
中空シリカ系微粒子（下記Ｐ−２） ３０質量部
ＫＢＭ５０３（シランカップリング剤、信越化学（株）製） ４質量部
直鎖ジメチルシリコーン−ＥＯブロックコポリマー（ＦＺ−２２０７、日本ユニカー（株）製）の１０％プロピレングリコールモノメチルエーテル液 ３質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル ４００質量部
イソプロピルアルコール ４００質量部
〈中空シリカ系微粒子Ｐ−２の調製〉
平均粒径５ｎｍ、ＳｉＯ2濃度２０質量％のシリカゾル１００ｇと純水１９００ｇの混合物を８０℃に加温した。この反応母液のｐＨは１０．５であり、同母液にＳｉＯ2として０．９８質量％のケイ酸ナトリウム水溶液９０００ｇとＡｌ2Ｏ3として１．０２質量％のアルミン酸ナトリウム水溶液９０００ｇとを同時に添加した。その間、反応液の温度を８０℃に保持した。反応液のｐＨは添加直後、１２．５に上昇し、その後、ほとんど変化しなかった。添加終了後、反応液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度２０質量％のＳｉＯ2・Ａｌ2Ｏ3核粒子分散液を調製した。（工程（ａ））
この核粒子分散液５００ｇに純水１７００ｇを加えて９８℃に加温し、この温度を保持しながら、ケイ酸ナトリウム水溶液を陽イオン交換樹脂で脱アルカリして得られたケイ酸液（ＳｉＯ2濃度３．５質量％）３０００ｇを添加して第１シリカ被覆層を形成した核粒子の分散液を得た。（工程（ｂ））
次いで、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度１３質量％になった第１シリカ被覆層を形成した核粒子分散液５００ｇに純水１１２５ｇを加え、さらに濃塩酸（３５．５％）を滴下してｐＨ１．０とし、脱アルミニウム処理を行った。次いで、ｐＨ３の塩酸水溶液１０Ｌと純水５Ｌを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離し、第１シリカ被覆層を形成した核粒子の構成成分の一部を除去したＳｉＯ2・Ａｌ2Ｏ3多孔質粒子の分散液を調製した（工程（ｃ））。
【０２０５】
上記多孔質粒子分散液１５００ｇと、純水５００ｇ、エタノール１．７５０ｇ及び２８％アンモニア水６２６ｇとの混合液を３５℃に加温した後、エチルシリケート（ＳｉＯ2２８質量％）１０４ｇを添加し、第１シリカ被覆層を形成した多孔質粒子の表面をエチルシリケートの加水分解重縮合物で被覆して第２シリカ被覆層を形成した。次いで、限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度２０質量％の中空シリカ系微粒子（Ｐ−２）の分散液を調製した。
【０２０６】
この中空シリカ系微粒子の第１シリカ被覆層の厚さは３ｎｍ、平均粒径は４７ｎｍ、ＭＯx／ＳｉＯ2（モル比）は０．００１７、屈折率は１．２８であった。ここで、平均粒径は動的光散乱法により測定した。
【０２０７】
《反射防止フィルムの加熱処理》
作製した反射防止フィルムを、加熱処理室にて８０℃で４日間の加熱処理を行った。
【０２０８】
次いで、上記作製した反射防止フィルムおよび実施例１で作製したセルロースエステルフィルムを用いて下記のようにして偏光板を作製し、それらの偏光板を液晶表示パネル（画像表示装置）に組み込み、視認性を評価した。
【０２０９】
下記の方法に従って、実施例１で作製したセルロースエステルフィルム及び前記反射防止フィルム各１枚を偏光板保護フィルムとして用い、下記作製した偏光膜と貼合して偏光板を作製した。
【０２１０】
（ａ）偏光膜の作製
厚さ１２０μｍの長尺のポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸（温度１１０℃、延伸倍率５倍）した。これをヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇ、水１００ｇの比率からなる水溶液に６０秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム６ｇ、ホウ酸７．５ｇ、水１００ｇの比率からなる６８℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し長尺の偏光膜を得た。
【０２１１】
（ｂ）偏光板の作製
次いで、下記工程１〜５に従って、偏光膜と前記偏光板用保護フィルムとを貼り合わせて偏光板を作製した。
【０２１２】
工程１：実施例１にて作製したセルロースエステルフィルムと前記反射防止フィルムを２ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム溶液に６０℃で９０秒間浸漬し、次いで水洗、乾燥させた。反射防止フィルムの反射防止層を設けた面にはあらかじめ剥離性の保護フィルム（ＰＥＴ製）を張り付けて保護した。
【０２１３】
工程２：前述の偏光膜を固形分２質量％のポリビニルアルコール接着剤槽中に１〜２秒間浸漬した。
【０２１４】
工程３：工程２で偏光膜に付着した過剰の接着剤を軽く取り除き、それを工程１でアルカリ処理した実施例１で作製したセルロースエステルフィルムと反射防止フィルムで挟み込んで、積層配置した。
【０２１５】
工程４：２つの回転するローラにて２０〜３０Ｎ／ｃｍ2の圧力で約２ｍ／ｍｉｎの速度で張り合わせた。このとき気泡が入らないように注意して実施した。
【０２１６】
工程５：８０℃の乾燥機中にて工程４で作製した試料を２分間乾燥処理し、偏光板を作製した。この様にして実施例１で作製したセルロースエステルフィルム試料１〜４３それぞれともう一方の面に上記ＡＲ（アンチリフレクション；反射防止）加工したセルロースエステルフィルムを貼合した偏光板（偏光板１〜４３）を作製した。
【０２１７】
市販の液晶表示パネル（ＮＥＣ製 カラー液晶ディスプレイ ＭｕｌｔｉＳｙｎｃ ＬＣＤ１５２５Ｊ：型名 ＬＡ−１５２９ＨＭ）の最表面の偏光板を注意深く剥離し、ここに偏光方向を合わせた本発明の偏光板を張り付けた。
【０２１８】
これを２０℃、２０％ＲＨと２０℃、８０％ＲＨの環境下で２４時間放置したのち、それぞれの視野角を調べた。その結果、本発明のセルロースエステルを偏光板用保護フィルムとして用いた液晶表示装置の方が、視野角の変動が少なく、色再現性にも優れていた。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記に示す化合物（Ｊ）と、（Ｋ）または（Ｌ）で示される化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とするセルロースエステルフィルム。
（Ｊ）平均炭素数が２〜３．５であるグリコール類（ａ）と平均炭素数が４〜４．５である二塩基酸類（ｂ）との重縮合反応から得られる、数平均分子量Ｍｎが１５００以上１００００以下であるポリエステル
（Ｋ）多価アルコールエステル
（Ｌ）下記一般式（１）で表される、分子量が３００以上１５００未満である芳香族末端エステル
一般式（１）
Ｂ−（Ｇ−Ａ）ｎ−Ｇ−Ｂ
（式中Ｂはベンゼンモノカルボン酸残基を表す。Ｇは炭素数２〜１２のアルキレングリコール残基、アリールグリコール残基、または炭素数４〜１２のオキシアルキレングリコール残基を表す。Ａは炭素数４〜１２のアルキレンジカルボン酸残基、炭素数６〜１２のアリールジカルボン酸残基を表す。ｎは１〜５の整数である。）
【請求項２】
総アシル基置換度が２．４以上２．８未満であるセルロースエステルを用いたことを特徴とする請求項１記載のセルロースエステルフィルム。
【請求項３】
下記式（Ｉ）または（II）で定義されるレタデーション値Ｒｏが３０〜２００ｎｍ、Ｒｔが７０〜４００ｎｍであることを特徴とする請求項１または２記載のセルロースエステルフィルム。
式（Ｉ） Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（II） Ｒｔ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
（式中、ｎｘはフィルム面内の屈折率が最も大きい方向の屈折率、ｎｙはｎｘに直角な方向でのフィルム面内の屈折率、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率、ｄはフィルムの厚み（ｎｍ）をそれぞれ表す。）
【請求項４】
下記一般式（２）で表される紫外線吸収性モノマーから合成される紫外線吸収性共重合ポリマーを含有していることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項記載のセルロースエステルフィルム。
【化１】
（式中、ｎは０〜３の整数を表し、Ｒ1〜Ｒ5は水素原子、ハロゲン原子、又は置換基を表し、Ｘは−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＲ7−、−ＯＣＯ−、−ＮＲ7ＣＯ−、を表し、Ｒ6、Ｒ7は水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。但し、Ｒ6で表される基は重合性基を部分構造として有する。）
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項記載のセルロースエステルフィルムを使用した偏光板。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれか１項記載のセルロースエステルフィルムを使用した液晶表示装置。
【請求項１】
下記に示す化合物（Ｊ）と、（Ｋ）または（Ｌ）で示される化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とするセルロースエステルフィルム。
（Ｊ）平均炭素数が２〜３．５であるグリコール類（ａ）と平均炭素数が４〜４．５である二塩基酸類（ｂ）との重縮合反応から得られる、数平均分子量Ｍｎが１５００以上１００００以下であるポリエステル
（Ｋ）多価アルコールエステル
（Ｌ）下記一般式（１）で表される、分子量が３００以上１５００未満である芳香族末端エステル
一般式（１）
Ｂ−（Ｇ−Ａ）ｎ−Ｇ−Ｂ
（式中Ｂはベンゼンモノカルボン酸残基を表す。Ｇは炭素数２〜１２のアルキレングリコール残基、アリールグリコール残基、または炭素数４〜１２のオキシアルキレングリコール残基を表す。Ａは炭素数４〜１２のアルキレンジカルボン酸残基、炭素数６〜１２のアリールジカルボン酸残基を表す。ｎは１〜５の整数である。）
【請求項２】
総アシル基置換度が２．４以上２．８未満であるセルロースエステルを用いたことを特徴とする請求項１記載のセルロースエステルフィルム。
【請求項３】
下記式（Ｉ）または（II）で定義されるレタデーション値Ｒｏが３０〜２００ｎｍ、Ｒｔが７０〜４００ｎｍであることを特徴とする請求項１または２記載のセルロースエステルフィルム。
式（Ｉ） Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（II） Ｒｔ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
（式中、ｎｘはフィルム面内の屈折率が最も大きい方向の屈折率、ｎｙはｎｘに直角な方向でのフィルム面内の屈折率、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率、ｄはフィルムの厚み（ｎｍ）をそれぞれ表す。）
【請求項４】
下記一般式（２）で表される紫外線吸収性モノマーから合成される紫外線吸収性共重合ポリマーを含有していることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項記載のセルロースエステルフィルム。
【化１】
（式中、ｎは０〜３の整数を表し、Ｒ1〜Ｒ5は水素原子、ハロゲン原子、又は置換基を表し、Ｘは−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＲ7−、−ＯＣＯ−、−ＮＲ7ＣＯ−、を表し、Ｒ6、Ｒ7は水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。但し、Ｒ6で表される基は重合性基を部分構造として有する。）
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項記載のセルロースエステルフィルムを使用した偏光板。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれか１項記載のセルロースエステルフィルムを使用した液晶表示装置。
【公開番号】特開２００６−３４２２２７（Ｐ２００６−３４２２２７Ａ）
【公開日】平成１８年１２月２１日（２００６．１２．２１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−１６８００２（Ｐ２００５−１６８００２）
【出願日】平成１７年６月８日（２００５．６．８）
【出願人】（３０３０００４０８）コニカミノルタオプト株式会社 (3,255)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年１２月２１日（２００６．１２．２１）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年６月８日（２００５．６．８）
【出願人】（３０３０００４０８）コニカミノルタオプト株式会社 (3,255)
【Ｆターム（参考）】
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