【課題】カルボン酸を含有させることにより、感度が高く、良好なレジストパターン形状が得られ、かつテント膜強度が強く、高精細で高アスペクト比のパターンを形成可能なパターン形成材料等の提供。
【解決手段】バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び分子量が１８０〜２，０００のモノカルボン酸化合物を少なくとも含む感光性組成物を用いて形成された感光層を有し、モノカルボン酸化合物が構造式（１）及び構造式（１）のＸに芳香族基又は複素環基が結合した構造のいずれかで表される基を含むパターン形成材料である。


Ｘは−Ｎ（Ｒ^３）−を表し、Ｒ^３はエステル構造を含む構造及びアミド構造を含む構造のいずれかを表す。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び分子量が１８０〜２，０００のモノカルボン酸化合物を少なくとも含む感光性組成物を用いて形成された感光層を有し、
前記モノカルボン酸化合物が下記構造式（１）及び下記構造式（２）のいずれかで表される基を含むことを特徴とするパターン形成材料。
【化７６】

ただし、前記構造式（１）中、Ｘは−Ｎ（Ｒ^３）−を表し、Ｒ^３は下記構造式（３−１）で表されるエステル構造を含む構造、及び下記構造式（３−２）で表されるアミド構造を含む構造のいずれかを表す。Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立に、水素原子又は一価の置換基を表す。なお、Ｒ^１とＲ^２、Ｒ^１及びＲ^２の少なくともいずれかとＲ^３とは、互いに結合して環構造を形成していてもよい。
【化７７】

ただし、前記式（３−１）及び（３−２）中、Ｒ^６、Ｒ^７、及びＲ^８はそれぞれ独立に、水素原子又は一価の置換基を表し、Ｚは、一価の置換基を表す。そのような一価の置換基は、前記構造式（１）及び構造式（２）におけるＲ^１及びＲ^２と同義である。
【化７８】

ただし、前記構造式（２）中、Ａは芳香族基又は複素環基を表す。Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立に、水素原子又は一価の置換基を表す。なお、Ｒ^１とＲ^２、Ｒ^１及びＲ^２の少なくともいずれかとＸ^１、Ｒ^１及びＲ^２の少なくともいずれかとＡ、ＡとＸは、互いに結合して環構造を形成していてもよい。Ｘ^１は、−Ｎ（Ｒ^３）−を表し、Ｒ^３は上記構造式（３−１）で表されるエステル構造を含む構造、及び上記構造式（３−２）で表されるアミド構造を含む構造のいずれかを表す。
【請求項２】
露光及び現像後のパターンの線幅（Ｌ；μｍ）と、パターンの膜厚（ｄ；μｍ）とのアスペクト比（ｄ／Ｌ）が、１．０〜５．０である請求項１に記載のパターン形成材料。
【請求項３】
バインダーが、共重合体を含み、該共重合体がスチレン及びスチレン誘導体の少なくともいずれかに由来する構造単位を有する請求項１から２のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項４】
重合性化合物が、ウレタン基及びアリール基の少なくともいずれかを有するモノマーを含む請求項１から３のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項５】
光重合開始剤が、ハロゲン化炭化水素誘導体、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム誘導体、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、メタロセン類、及びアシルホスフィンオキシド化合物から選択される少なくとも１種を含む請求項１から４のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項６】
支持体と、該支持体上に形成された感光層とを少なくとも有する請求項１から５のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項７】
請求項１から６のいずれかに記載のパターン形成材料を備えており、
光を照射可能な光照射手段と、該光照射手段からの光を変調し、前記パターン形成材料における感光層に対して露光を行う光変調手段とを少なくとも有することを特徴とするパターン形成装置。
【請求項８】
請求項１から６のいずれかに記載のパターン形成材料における感光層を、加熱及び加圧の少なくともいずれかの下において基材の表面に積層した後、該感光層に対して露光を行うことを少なくとも含むことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項９】
露光が、３５０〜４１５ｎｍの波長のレーザ光を用いて行われる請求項８に記載のパターン形成方法。
【請求項１０】
露光が、光照射手段、及び前記光照射手段からの光を受光し出射するｎ個（ただし、ｎは２以上の自然数）の２次元状に配列された描素部を有し、パターン情報に応じて前記描素部を制御可能な光変調手段を備えた露光ヘッドであって、該露光ヘッドの走査方向に対し、前記描素部の列方向が所定の設定傾斜角度θをなすように配置された露光ヘッドを用い、
前記露光ヘッドについて、使用描素部指定手段により、使用可能な前記描素部のうち、Ｎ重露光（ただし、Ｎは２以上の自然数）に使用する前記描素部を指定し、
前記露光ヘッドについて、描素部制御手段により、前記使用描素部指定手段により指定された前記描素部のみが露光に関与するように、前記描素部の制御を行い、
前記感光層に対し、前記露光ヘッドを走査方向に相対的に移動させて行われる請求項８から９のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項１１】
光変調手段が、形成するパターン情報に基づいて制御信号を生成するパターン信号生成手段を更に有してなり、光照射手段から照射される光を該パターン信号生成手段が生成した制御信号に応じて変調させる請求項１０に記載のパターン形成方法。
【請求項１２】
パターン情報が表すパターンの所定部分の寸法が、指定された使用描素部により実現できる対応部分の寸法と一致するように前記パターン情報を変換する変換手段を有する請求項１０から１１のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項１３】
光照射手段が、複数のレーザと、マルチモード光ファイバと、該複数のレーザからそれぞれ照射されたレーザビームを集光して前記マルチモード光ファイバに結合させる集合光学系とを有する請求項１０から１２のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項１４】
露光が行われた後、感光層の現像を行う請求項１０から１３のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項１５】
現像が行われた後、永久パターンの形成を行う請求項１４に記載のパターン形成方法。
【請求項１６】
永久パターンが、配線パターンであり、該永久パターンの形成がエッチング処理及びメッキ処理の少なくともいずれかにより行われる請求項１５に記載のパターン形成方法。

【図２５】

【図２６】

【図２７】

【図２８】

【図２９】

【図３０】

【図３２】

【図３３】

【図１】

【図２】

【図３Ａ】

【図３Ｂ】

【図４】

【図５Ａ】

【図５Ｂ】

【図６】

【図７Ａ】

【図７Ｂ】

【図８】

【図９】

【図１０】

【図１１】

【図１２】

【図１３】

【図１４】

【図１５】

【図１６】

【図１７】

【図１８】

【図１９】

【図２０Ａ】

【図２０Ｂ】

【図２１Ａ】

【図２１Ｂ】

【図２２】

【図２３Ａ】

【図２３Ｂ】

【図２４】

【図３１Ａ】

【図３１Ｂ】

【図３４Ａ】

【図３４Ｂ】

【公開番号】特開２０１１−８１３９１（Ｐ２０１１−８１３９１Ａ）
【公開日】平成２３年４月２１日（２０１１．４．２１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２４０５１９（Ｐ２０１０−２４０５１９）
【出願日】平成２２年１０月２７日（２０１０．１０．２７）
【分割の表示】特願２００５−３５６８４９（Ｐ２００５−３５６８４９）の分割
【原出願日】平成１７年１２月９日（２００５．１２．９）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】