プロリン誘導体
【課題】抗菌剤として有用な新規化合物及びその中間体の提供
【解決手段】
本発明は多剤耐性菌に対する抗菌剤として有用な下記式で表されるプロリン誘導体（Ｉ）又はその塩に関する。式（Ｉ）において、Ａ環はベンゼン環と融合していることもある５〜６員の異項環基であり、Ｒ1及びＲ2は、Ｈ、置換されていてもよい低級アルキル基、５〜６員の飽和又は不飽和の環状基（ａ）等であり、Ｒ3及びＲ4はＢ環のいずれかの位置に結合しており、Ｈ又は低級アルキル基等であり、ｎ、ｍは１又は２の整数であり、Ｒ5及びＲ6は、Ｈ、ＯＨ基、ハロゲン原子、Ｐｈ基等であり、ＸはＣ、Ｓ又はＯであり、ＹはＨ又はアミノ保護基であるか、下記式で表される基（ｂ）であり、Ｒ7はアルキル基又はシクロアルキル低級アルキル基であり、Ｒ8はＨ又はヒドロキシ保護基である。尚、ＹがＨ又はアミノ保護基の化合物は、Ｙがｂである化合物の中間体である。
【化１】
【化２】
【解決手段】
本発明は多剤耐性菌に対する抗菌剤として有用な下記式で表されるプロリン誘導体（Ｉ）又はその塩に関する。式（Ｉ）において、Ａ環はベンゼン環と融合していることもある５〜６員の異項環基であり、Ｒ1及びＲ2は、Ｈ、置換されていてもよい低級アルキル基、５〜６員の飽和又は不飽和の環状基（ａ）等であり、Ｒ3及びＲ4はＢ環のいずれかの位置に結合しており、Ｈ又は低級アルキル基等であり、ｎ、ｍは１又は２の整数であり、Ｒ5及びＲ6は、Ｈ、ＯＨ基、ハロゲン原子、Ｐｈ基等であり、ＸはＣ、Ｓ又はＯであり、ＹはＨ又はアミノ保護基であるか、下記式で表される基（ｂ）であり、Ｒ7はアルキル基又はシクロアルキル低級アルキル基であり、Ｒ8はＨ又はヒドロキシ保護基である。尚、ＹがＨ又はアミノ保護基の化合物は、Ｙがｂである化合物の中間体である。
【化１】
【化２】
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は医薬として有用な新規プロリン誘導体およびその製造中間体に関するものである。更に詳細には、本発明は、特に多剤耐性菌に対して優れた抗菌作用を有するプロリン誘導体またはその塩、その製造中間体、医薬ならびに薬学的組成物に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
MRSAと略称されるメチシリン耐性黄色ブドウ球菌(Methicillin-Resistant Staphylococcus aureus)は、１９６１年に英国でその存在が初めて報告された難治性術後感染症、呼吸器や消化器における感染症の起因菌として知られている。MRSA感染症は、１９６０年代後半から１９７０年代の後半に欧米で流行し、日本では１９８０年代に院内感染の主要起因菌として世間の注目を集め、１９９０年代後半には全国的に蔓延した。現在、MRSAは、多剤に高度耐性化しており、MRSA感染症に対する抗菌剤であったバンコマイシン(Vancomycin)やアルベカシン(Arbekacin)に耐性の株も出現している。
【０００３】
また、医療界において高い関心を集めている多剤耐性菌としては、前述のMRSAのほかにペニシリン耐性肺炎球菌(Penicillin-Resistant Streptococcus pneumoniae, PRSP)やバンコマイシン耐性腸球菌(Vancomycin-Resistant Enterococcus faecium, VRE)が知られている。肺炎球菌は、その毒性が強いことから恐れられている肺炎起因菌であり、腸球菌は、MRSAとともに臨床分離されることもある全身感染症および／または尿路感染症起因菌である。これらの多剤耐性菌による感染症に対しては、ニューキノロン系抗菌剤やオキサゾリジノン系抗菌剤などが使用されているが、これらの抗菌活性はそれほど強くなく、これらの抗菌剤に耐性な株の出現も報告されている。
【０００４】
後記特許文献１の請求の範囲の第１項には、次式で表される一般式が記載されている。
【０００５】
【化５】
【０００６】
後記本発明化合物を念頭において、前記（化５）における各置換基の定義を検討すれば本発明化合物にやや近い構造の化合物が想定できるが、後記本発明化合物のＡ環が存在しない点において本発明化合物とは相違する。この国際公開公報の明細書に具体的に記載されているプロリン誘導体としては、その実施例１２に記載されている次の化合物Ａだけである。
【０００７】
【化６】
【０００８】
【特許文献１】
国際公開第９９／３９７０４号パンフレット
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明者らは、これらの多剤耐性菌、殊にMRSAに対して強い抗菌力を有する化合物の探索をおこない、後述のプロリン誘導体を選択することに成功し、本発明を完成した。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明は、次式で表されるプロリン誘導体またはその塩に関するものである。
【００１１】
【化７】
【００１２】
（式中、Ａ環は環構成原子として１〜４個のヘテロ原子を有し、ベンゼン環と融合していることもある５〜６員の異項環基である。
Ｒ1およびＲ2は同一または異なって、１〜３個のハロゲン原子で置換されていてもよい低級アルキル基、水素原子、低級アルコキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミノ基もしくはアミノカルボニル基（当該アミノ基は保護されているか、低級アルキルでモノもしくはジ置換されていてもよい）、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルカルボニルオキシ基、１〜３個のハロゲン原子で置換されていてもよい低級アルキルスルホニルオキシ基またはシアノ基を意味するか、Ｒ1が水素原子であり、Ｒ2は５〜６員の飽和または不飽和の環状基（ａ）がＡ環と直接結合しているか、アミノ低級アルキレンもしくはオキシ低級アルキレンを介して結合しており、環状基（ａ）の構成原子としては１〜２個のヘテロ原子を含んでいてもよく、低級アルキル基で置換されていることもある。
Ｒ3およびＲ4は、Ｂ環上のいずれかの位置に結合しており、同一または異なって、水素原子または低級アルキル基であるか、両者が一緒になってオキソ基を形成していてもよい。
ｍは１または２の整数である。
Ｒ5およびＲ6は、同一または異なって、水素原子、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、フェニル基、低級アルコキシ基、フェニル低級アルキルオキシ基、保護されていてもよいアミノ基であるか、両者が一緒になって飽和環状基を形成していてもよい。
Ｘは炭素原子、イオウ原子または酸素原子であり、ｎは１または２の整数である。
Ｙは水素原子またはアミノ保護基であるか、次式で表される基（ｂ）である。
【００１３】
【化８】
ここにおいてＲ7はアルキル基またはシクロアルキル低級アルキル基であり、Ｒ8は水素原子またはヒドロキシ保護基である。）
【００１４】
本発明化合物（Ｉ）は、主要構造を共通にするものの性格を異にするふたつのグループに分けられる。
第一のグループは、Ｙが水素原子またはアミノ保護基である次式（Ｉ−Ａ）で表されるプロリン誘導体またはその塩である。
【００１５】
【化９】
（式中、Ｗは水素原子またはアミノ保護基であり、その他の置換基または記号の定義は前述の定義と同じである。）
【００１６】
第二のグループは、Ｙが式（ｂ）で表されるプロリン誘導体（Ｉ−Ｂ）またはその塩である。
【００１７】
【化１０】
（式中、各記号および置換基の定義は前掲の定義と同じである。）
【００１８】
化合物（Ｉ−Ａ）は化合物（Ｉ−Ｂ）の製造中間体であり、化合物（Ｉ−Ｂ）は、抗菌作用、とりわけMRSAを始めとする多剤耐性菌に対して強い抗菌作用を有し抗菌剤として有用である。
【００１９】
前記化合物（Ｉ−Ｂ）の構造上の特徴は、▲１▼Ａ環が存在すること、▲２▼Ａ環を含めて少なくとも３個の異項環基を有すること、▲３▼Ａ環とＢ環とが直結していること、▲４▼Ｎ−ホルミル−Ｎ−ヒドロキシアミン部分を有すること、▲５▼置換基Ｒ7が存在すること、およびこれらの組み合わせに存在し、特に▲１▼▲２▼および▲３▼、なかんずく▲１▼が特徴の本質である。
【００２０】
本発明（Ｉ−Ｂ）の内でも抗菌剤として好適な化合物は、次の一般式（Ｉ−Ｃ）で表されるプロリン誘導体またはその塩である。
【００２１】
【化１１】
【００２２】
（式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ7の定義は前掲の定義と同じであり、Ａ１環は１〜３個の二重結合を有する不飽和５〜６員単環異項環基であり、ここにおけるＺ1、Ｚ2、Ｚ3およびＺ4は同一または異なって、炭素原子、窒素原子、イオウ原子または酸素原子から選択される原子である。但し、Ｚ1、Ｚ2、Ｚ3およびＺ4のいずれか１個は非存在である場合もあり、Ｒ1およびＲ2は、Ａ１環を構成するいずれかの炭素原子と結合しているものとする。）
【００２３】
本発明化合物のうち抗菌剤として有用な化合物の具体例としては、後記実施例に記載の以下の化合物またはその塩が挙げられる。
【００２４】
化合物（１）：（２Ｓ）−１−｛（２Ｒ）−２−［（Ｎ−ホルミル−Ｎ−ヒドロキシアミノ）メチル］ヘキサノイル｝−２−｛［４−（４−メチル−２−チアゾリル）−１−ピペラジニル］カルボニル｝ピロリジン；
化合物（２）：(２Ｓ)−１−｛（２Ｒ）−３−シクロペンチル−２−[（Ｎ−ホルミル−Ｎ−ヒドロキシアミノ）メチル]プロピオニル｝−２−｛［４−（４−メチル−２−チアゾリル）−１−ピペラジニル］カルボニル｝ピロリジン；
化合物（３）：（３Ｓ）−４−｛（２Ｒ）−２−［（Ｎ−ホルミル−Ｎ−ヒドロキシアミノ）メチル］ヘプタノイル｝−３−｛［４−（２−ピリミジニル）−１−ピペラジニル］カルボニル｝モルホリン；
【００２５】
一般式（Ｉ−Ｂ）に含まれる具体的化合物としては、上記化合物の他にも以下の化合物およびその塩が例示できる。
【００２６】
（２Ｓ）−１−｛（２Ｒ）−２−［（Ｎ−ホルミル−Ｎ−ヒドロキシアミノ）メチル］ヘキサノイル｝−２−｛［４−（４−フェニル−２−チアゾリル）−１−ピペラジニル］カルボニル｝ピロリジン
【００２７】
（２Ｓ）−１−｛（２Ｒ）−３−シクロペンチル−２−[（Ｎ−ホルミル−Ｎ−ヒドロキシアミノ）メチル]プロピオニル｝−２−｛｛４−［４−（３−ピリジル）−２−チアゾリル］−１−ピペラジニル｝カルボニル｝ピロリジン
【００２８】
次に、各置換基や記号について説明する。
本発明化合物（Ｉ）におけるＡ環は、環構成原子として１〜４個のヘテロ原子を有し、ベンゼン環と融合していることもある５〜６員の異項環基である。ここにおけるヘテロ原子としては、例えば、窒素原子、イオウ原子または酸素原子から選択され、少なくとも１個の窒素原子を含む場合が好適である。Ａ環は、飽和であってもよいが、不飽和が好ましい。Ａ環およびＢ環は、Ｂ環の窒素原子とＡ環の炭素原子との間の直接結合（以下、Ｎ−Ｃ結合）で結合しているのが好ましい。
【００２９】
Ａ環で示される５〜６員の異項環基の具体例としては、限定されることはないが、例えば、ピリジル、ピラニル、チエニル、フリル、ピロリルの如きヘテロ原子１個有する単環異項環基；ピリミジニル、ピラジニル、ピリダジニル、イミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリルの如きヘテロ原子２個を有する単環異項環基；テトラゾリル、１，３，５−トリアジニル、１，２, ４−トリアジニル、テトラジニル、チアジアゾリルの如きヘテロ原子３〜４個有する単環異項環基およびこれらの単環異項環基とベンゼン環が融合した融合異項環基が挙げられる。このような融合異項環基としては、例えばイソキノリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾオキサゾリルなどが挙げられる。
【００３０】
Ａ環で示されるこれらの５〜６員の異項環基の内でも、一般式（Ｉ−Ｃ）のＡ１環のようにＮ−Ｃ結合のＣ側の結合部位の隣にヘテロ原子たる窒素原子が存在する場合が、好適である。このような異項環基の最も好適な例としては、ピリミジニル、チアゾリル、ピラジニルが例示される。
【００３１】
本発明化合物（Ｉ）における置換基Ｒ1またはＲ2は、Ａ環のいずれの位置で置換していてもよいが、好ましくはＡ環上の炭素原子と結合する。Ｒ1およびＲ2に含まれるひとつの置換基として、１〜３個のハロゲン原子で置換されていてもよい低級アルキル基がある。本明細書において「低級」なる用語は、特に断らない限り、この用語が付された基の炭化水素部分の炭素原子数が１〜６であることを意味する。「低級アルキル」としては、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシルなどの直鎖状又は分岐状のものが挙げられる。また、「ハロゲン原子」なる用語は、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素を意味する。従って、「１〜３個のハロゲン原子で置換された低級アルキル基」としては、例えば、トリフルオロメチルが挙げられる。
【００３２】
本明細書において、「低級アルコキシ」は、その低級アルキル部分が上記の意味を有する低級アルキルオキシ基であり、例えば、Ｒ1またはＲ2における低級アルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。
【００３３】
本明細書においては、「当該アミノ基は保護されている」、「保護されていてもよいアミノ基」または「アミノ保護基」なる用語が使用されているが、これらの用語はいずれも「アミノ基の保護基」に関する説明である。本明細書における「アミノ基の保護基」は、化学の分野、特にペプチド化学の分野において常用されるものが使用される。
【００３４】
「アミノ基の保護基」としては、保護基を還元的に脱離できるものと加水分解的に脱離できるものとがある。還元的に脱離できる「アミノ基の保護基」としては、ｐ−トルエンスルホニルの如きアリールスルホニル基；ベンジル、トリチル、ベンジルオキシメチルの如きフェニルまたはベンジルオキシによって置換されたメチル基；ベンジルオキシカルボニルやｐ−メトキシベンジルオキシカルボニルの如きアリールメトキシカルボニル；２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル、２−ヨードエトキシカルボニルの如きハロゲノエトキシカルボニル基などがその例としてあげられる。一方、加水分解的に脱離できる「アミノ基の保護基」としては、エトキシカルボニルやＢｏｃと略称されるｔ−ブトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル、ビニルオキシカルボニル、２−トシルエトキシカルボニルの如きオキシカルボニルを含む基；ホルミル、アセチル、トリフルオロアセチルの如きアシル基などが挙げられ、このほかｏ−ニトロフェニルスルフェニル、トリメチルシリル、テトラヒドロピラニル、ジフェニルホスフィニルなどが例示される。
【００３５】
同一分子内に２個のアミノ基が存在する場合は、一方は加水分解的に脱離できる「アミノ基の保護基」を、他方は還元的に脱離できる「アミノ基の保護基」を採用するのが得策である。例えば、Ｒ1またはＲ2における「アミノ基またはアミノカルボニル基（当該アミノ基は保護されている）」における「アミノ基の保護基」としては還元的に脱離できるものを採用し、Ｙのアミノ保護基として加水分解的に脱離できる「アミノ基の保護基」を選択するのが好ましい。
【００３６】
Ｒ2における「５〜６員の飽和または不飽和の環状基（ａ）」としては、限定されないが、フェニル基、ピリジル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、ピラジニル基、テトラヒドロフラニル基などが例示でき、これらの環状基（ａ）はメチルやエチルの如き低級アルキル基で置換されていることもある。これらの環状基（ａ）は、直接結合；アミノエチレンの如きアミノ低級アルキレン；オキシエチレンの如きオキシ低級アルキレンを介してＡ環と結合している。
【００３７】
Ｒ7として定義されているアルキル基は、その炭素数が２〜１０であれば、直鎖状または分岐状のいずれでもよいが、直鎖状が好ましい。好ましいアルキル基としては、炭素数５〜７、特に好ましくはｎ−ブチルまたはｎ−ペンチルである。また、Ｒ7として定義されている「シクロアルキル低級アルキル」におけるシクロアルキルとしては、炭素数４〜７個、好ましくは５または６個のものが例示される。従って、好適な「シクロアルキル低級アルキル」の具体例としては、シクロペンチルメチル基やシクロヘキシルメチル基などが挙げられる。
【００３８】
Ｒ8として定義されているヒドロキシ保護基としては、化学の分野において常用されるものであり、特に限定されないが、例えば、ベンジル、２，４−ジメトキシフェニルメチルがその例として挙げられる。これらのなかでも脱離の容易な２，４−ジメトキシフェニルメチルが好適である。
【００３９】
本発明化合物（Ｉ）は、分子中の塩基性窒素原子と酸との間で酸付加塩を形成し得る。ここにおける酸付加塩としては、酒石酸、フマル酸、酢酸、乳酸、コハク酸、メタンスルホン酸、マレイン酸、マロン酸、グルコン酸、アスパラギン酸の如きアミノ酸などの有機酸との塩または塩酸、リン酸などの無機酸との塩が挙げられる。また、本発明化合物のＮ−ホルミル−Ｎ−ヒドロキシアミン部分において、ナトリウムやカルシウムなどの金属塩を形成し得る。
【００４０】
本発明化合物（Ｉ）は、ときとして水和物や溶媒和物として、更には、光学異性体、立体異性体またはこれらの混合物として存在しており、これらの総てが本発明に包含される。
【００４１】
次に本発明化合物（Ｉ）の製造方法について説明する。本発明化合物は、例えば、次の（化１２）で示される反応式に従って有利に製造される。（化１２）においてＷ’はアミノ保護基であり、Ｒ8’はヒドロキシ基の保護基である。その他の置換基または記号の定義は前掲の定義と同じである。
【００４２】
【化１２】
【００４３】
工程１は、化合物（１）と化合物（２）とを反応（アミド化反応）させて新規化合物（Ｉ−Ａ−１）となす工程である。本工程はペプチド製造の常法に従って実施できる。例えば、本工程は、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＷＳＣ）の如き縮合剤および１−ヒドロキシベンゾトリアゾ−ルの如き反応促進剤の存在下、塩化メチレンの如き溶媒中において、両原料化合物を混合撹拌することにより実施できる。化合物（２）が酸付加塩を形成している場合にはトリエチルアミンの如き塩基の存在下に行うのが好ましい。本工程は−１０℃〜４５℃において１時間〜３日間行われる。
なお、化合物（１）は公知であり、化合物（２）も殆どが公知である。
【００４４】
工程２は、工程１で製造された化合物（Ｉ−Ａ−１）のアミノ保護基Ｗ’を脱離して化合物（Ｉ−Ａ−２）となす工程である。脱離は、アミノ保護基Ｗ’の性格により還元的または加水分解的に行うことができる。通常は加水分解的、好ましくは酸分解により行うのが好適であり、酸分解に適したアミノ保護基Ｗ’を選択するのがよい。酸分解に適したＷ’としてはＢｏｃが好適である。酸分解によるアミノ保護基Ｗ’の脱離は、溶媒中、−１０℃〜１００℃、好ましくは０℃〜室温において、化合物（Ｉ−Ａ−１）と酸を接触させることにより実施できる。ここにおける酸としては塩化水素、トリフルオロ酢酸などが例示でき、溶媒としては酢酸エチル、１，４−ジオキサン、塩化メチレンなどが挙げられる。
かくして得られる化合物（Ｉ−Ａ−２）は次の工程３の原料として使用される。
【００４５】
工程３は、化合物（３）と前記化合物（Ｉ−Ａ−２）とを工程１と同様に反応（アミド化反応）させて化合物（Ｉ−Ｂ−１）となすことにより実施できる。化合物（３）は、後記参考例に記載の方法またはこれに準じる方法により有利に製造できる。
【００４６】
工程４は化合物（Ｉ―Ｂ−１）のヒドロキシ基の保護基Ｒ8’を酸分解により脱離して本発明化合物（Ｉ−Ｂ−２）となす工程である。本工程は塩化メチレンの如き溶媒中、化合物（Ｉ−Ｂ−１）にトリフルオロ酢酸の如き酸を−１０℃〜４５℃において１〜２０時間作用させることにより実施できる。
【００４７】
かくして製造される本発明化合物の置換基を別な置換基に変換することも適宜おこなわれる。例えば、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ4またはＲ5に「アミノ基の保護基」、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルカルボニルオキシ基が存在するときは、これらをアミノ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基に変換できる。また、光学異性体や立体異性体の混合物が得られた場合には、常法によりこれらを分離することもできる。生成物の精製は溶媒洗浄やシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより実施できる。
【００４８】
次に製造実施例または参考例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。以下の製造実施例または参考例は、シリーズＢ：中間体（Ｉ−Ａ）の製造、シリーズＣ：原料（３）の製造およびシリーズＤ：本発明化合物（Ｉ−Ｂ）の製造から構成されている。
【００４９】
一般式（Ｉ−Ｂ）に包含される本発明化合物はＮＭＲによってその物性を明らかにしている。
【００５０】
なお、以下の製造実施例において使用している略称は、次の通り定義される。
ＷＳＣ：１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
Ｍｅ：メチル
Ｅｔ：エチル
ｎ−Ｂｕ：ｎ−ブチル
Ｂｏｃ：ｔ−ブトキシカルボニル
Ｐｈ：フェニル
Ａｃ：アセチル
【００５１】
シリーズＢ：化合物（Ｉ−Ａ）の製造
【００５２】
実施例Ｂ−１：：
（２Ｓ）−１−ｔ−ブトキシカルボニル−２−｛［４−（４−メチル−２−チアゾリル）−１−ピペラジニル］カルボニル｝ピロリジン
【００５３】
【化１３】
【００５４】
公知化合物４−メチル−２−（１−ピペラジニル）チアゾール３００ｍｇ（１．６３ｍｍｏｌ）、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｌ−プロリン３３３ｍｇ（１．５５ｍｍｏｌ）、ＷＳＣ４４１ｍｇ（２．３ｍｍｏｌ）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール１水和物２０８ｍｇ（１．３６ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン８ｍｌからなる混合物を室温で一晩撹拌後、水を加えクロロホルムで抽出した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮して得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝１７０／１〜１００／１）により精製して（２Ｓ）−１−ｔ−ブトキシカルボニル−２−｛［４−（４−メチル−２−チアゾリル）−１−ピペラジニル］カルボニル｝ピロリジン４４０ｍｇ（収率７４％）を得た。
【００５５】
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）：δ／ｐｐｍ １．４０（０．５×９Ｈ，ｓ），１．４６（０．５×９Ｈ，ｓ），１．７８−２．２５（４Ｈ，ｍ），２．２６（３Ｈ，ｓ），３．３０−３．９３（１０Ｈ，ｍ），４．５３−４．７３（１Ｈ，ｍ），６．１６（０．５×１Ｈ，ｓ），６．１９（０．５×１Ｈ，ｓ）．
【００５６】
実施例Ｂ−２：：
実施例Ｂ−１に記載の方法と同様にして、市販品の４−（ｔ−ブトキシカルボニル）モルホリン−３−カルボン酸（Asta Tech, Inc.製）から４−ｔ−ブトキシカルボニル−３−｛［４−（２−ピリミジニル）−１−ピペラジニル］カルボニル｝モルホリンを得た。
【００５７】
【化１４】
【００５８】
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）：δ／ｐｐｍ １．４６（９Ｈ，ｓ），３．４０−４．２０（１４Ｈ，ｍ），３．６３−３．９０（１Ｈ，ｂｒ），６．５５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），８．３３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ）.
【００５９】
シリーズＣ：原料（３）の製造
【００６０】
参考例Ｃ−１：：
（２Ｒ）−Ｎ−［（２，４−ジメトキシフェニル）メトキシ］−２−（ヒドロキシメチル）ヘキサンアミド
【００６１】
【化１５】
【００６２】
（１） 公知化合物（４Ｓ）−４−ベンジル−３−［（２Ｒ）−２−（ベンジルオキシメチル）ヘキサノイル］−２−オキサゾリジノン２４０ｇ（６０６ｍｍｏｌ）に、５％Ｐｄ-Ｃ２５．０ｇ、エタノール１６００ｍｌを加え４０℃に加温しながら、水素雰囲気下接触還元した。濾過して触媒を除去後、濾液を濃縮し固体残渣を得た。ヘキサン３００ｍｌを加えて一旦加温した後、攪拌しながら徐々に冷却した。濾過により結晶を集め、ヘキサンで洗浄し、乾燥することにより（４Ｓ）−４−ベンジル−３−［（２Ｒ）−２−（ヒドロキシメチル）ヘキサノイル］−２−オキサゾリジノン１７７．９ｇ（収率９６％）を得た。
【００６３】
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）：δ／ｐｐｍ ０．８９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），１．０−１．８（６Ｈ，ｍ），２．１５−２．３（１Ｈ，ｂｒｓ），２．８１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．３，１３．５Ｈｚ），３．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．３，１３．４Ｈｚ），３．７５−４．０（２Ｈ，ｍ），４．１−４．３（２Ｈ，ｍ），４．６５−４．７５（１Ｈ，ｍ），７．１−７．５（５Ｈ，ｍ）．
【００６４】
（２） 前項で得た化合物に、３０〜３５．５％過酸化水素水２２６ｍｌ、水３５０ｍｌ、ＴＨＦ１４００ｍｌを加えて、氷冷しながら水酸化リチウム１水和物４８．９ｇ（１．１７ｍｏｌ）の水溶液（３５０ｍｌ）を滴下した後、室温下に２時間撹拌した。反応液へ氷冷しながら亜硫酸ナトリウム３３０ｇを１．５時間かけて加え、室温で３時間撹拌し、溶媒を留去した。得られた残渣に水を加えてクロロホルムで４回洗浄した後、濃塩酸にてｐＨ４とし遊離した目的化合物を酢酸エチルで３回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を留去して（２Ｒ）−２−（ヒドロキシメチル）ヘキサン酸７８．２ｇ（収率９２％）を得た。
【００６５】
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）：δ／ｐｐｍ ０．９１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），１．２５−１．４８（４Ｈ，ｍ），１．４８−１．７７（２Ｈ，ｍ），２．６２（１３Ｈ，ｑｕｉｎｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），３．８０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．２Ｈｚ）．
【００６６】
（３） 前項で得た化合物 ７７．３ｇ（５２９ｍｍｏｌ）、公知化合物Ｏ−［（２，４−ジメトキシフェニル）メチル］ヒドロキシルアミン １１９．７ｇ（５５５ｍｍｏｌ）及びピリジン７５０ｍｌからなる混合物に、氷冷しながらＷＳＣ１２１．７ｇ（６３５ｍｍｏｌ）を加えた。室温下に一晩撹拌した後、反応液を減圧濃縮して得られた残渣に酢酸エチルを加えて、１０％クエン酸水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去して得られた粗製物１７２ｇに酢酸エチルとジイソプロピルエーテルの混合溶媒を加え、析出した結晶を濾取した。得られた結晶を酢酸エチルとジイソプロピルエーテルの混合溶媒から再結晶して（２Ｒ）−Ｎ−［（２，４−ジメトキシフェニル）メトキシ］−２−（ヒドロキシメチル）ヘキサンアミドの１１９．７ｇ（収率７３％）を得た。
【００６７】
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）：δ／ｐｐｍ ０．８８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．２−１．７５（６Ｈ，ｍ），２．０−２．６（１Ｈ，ｍ），３．６−３．８（２Ｈ，ｍ），３．８１（３Ｈ，ｓ），３．８３（３Ｈ，ｓ），４．７７−５．０（２Ｈ，ｍ），６．４２−６．５２（２Ｈ，ｍ），７．１−７．３５（１Ｈ，ｍ）．
【００６８】
参考例Ｃ−２及びＣ−３：：
参考例Ｃ−１に記載の方法と同様にして表１の化合物を得た。
【００６９】
【表１】
【００７０】
参考例Ｃ−４：：
（２Ｒ）−２−[｛Ｎ−［（２，４−ジメトキシフェニル）メトキシ］アミノ｝メチル｝ヘキサン酸
【００７１】
【化１６】
【００７２】
（１） 参考例Ｃ−１で得た化合物１２８．２ｇ（４１２ｍｍｏｌ）にトリフェニルホスフィン１１８．８ｇ（４５３ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ１２００ｍｌを加え氷冷し、ジイソプロピルアゾジカルボキシレート８５．４ｍｌ（４１２ｍｍｏｌ）を徐々に添加した。室温下に１時間撹拌後、反応液を減圧濃縮して得られた油状粗製物にジイソプロピルエーテルを加え、緩やかに撹拌し、析出した結晶を濾取した。この濾液を減圧濃縮し、得られた残渣にジイソプロピルエーテルとヘキサンの混合溶媒を加え、氷冷しながら緩やかに撹拌して、析出した結晶を濾取した。濾液を減圧濃縮し１３８．４ｇの粗製物を得た。
【００７３】
（２） 前項で得た粗製物９．７３ｇ及びＴＨＦ−水（３：１）の混合溶媒１２０ｍｌの混合物に水酸化リチウム１水和物１．５８ｇ（３７．５ｍｍｏｌ）を添加し、室温で一晩撹拌後、減圧下にＴＨＦを留去した。残渣を酢酸エチルで洗浄した後、水層をＨＣｌ酸性とし、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去して（２Ｒ）−２−[｛Ｎ−［（２，４−ジメトキシフェニル）メトキシ］アミノ｝メチル]ヘキサン酸７．１４ｇ（２工程の収率７９％）を得た。
【００７４】
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）：δ／ｐｐｍ ０．８９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），１．２５−１．４（６Ｈ，ｍ），１．４−１．６（１Ｈ，ｍ），１．６３−１．８（１Ｈ，ｍ），２．６５−２．７８（１Ｈ，ｍ），３．０２−３．１８（２Ｈ，ｍ），３．８１（３Ｈ，ｓ），３．８２（３Ｈ，ｓ），４．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ），４．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ），６．４−６．５（２Ｈ，ｍ），７．１８−７．２３（１Ｈ，ｄ−ｌｉｋｅｍ）．
【００７５】
参考例Ｃ−５及びＣ−６：：
参考例Ｃ−４に記載の方法と同様にして表２の化合物を得た。
【００７６】
【表２】
【００７７】
参考例Ｃ−７：：
（２Ｒ）−２−[｛Ｎ−［（２，４−ジメトキシフェニル）メトキシ］−Ｎ−ホルミルアミノ｝メチル｝ヘキサン酸
【００７８】
【化１７】
【００７９】
参考例Ｃ−４で得た（２Ｒ）−２−[｛Ｎ−［（２，４−ジメトキシフェニル）メトキシ］アミノ｝メチル]ヘキサン酸 １．５０ｇ（４．８ｍｍｏｌ）に、蟻酸エチル２５ｍｌ（３１０ｍｍｏｌ）を加え、２４時間加熱還流した。減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝１００／１）により精製して、目的とする（２Ｒ）−２−[｛Ｎ−［（２，４−ジメトキシフェニル）メトキシ］−Ｎ−ホルミルアミノ｝メチル]ヘキサン酸１．３５ｇ（収率８２％）を得た。
【００８０】
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）：δ／ｐｐｍ ０．８８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），１．２−１．７５（６Ｈ，ｍ），２．７５−３．０（１Ｈ，ｍ），３．７５−３．９（２Ｈ，ｍ），３．８１（３Ｈ，ｓ），３．８３（３Ｈ，ｓ），４．７−５．０（２Ｈ，ｍ），６．４２−６．５（２Ｈ，ｍ），７．１−７．２（１Ｈ，ｍ），８．１０（１Ｈ，ｂｒ ｓ）．
【００８１】
参考例Ｃ−８及びＣ−９：：
参考例Ｃ−７に記載の方法と同様にして表３の化合物を得た。
【００８２】
【表３】
【００８３】
シリーズＤ：化合物（Ｉ−Ｂ）の製造
【００８４】
実施例Ｄ−１：：
（２Ｓ）−１−｛（２Ｒ）−２−［（Ｎ−ホルミル−Ｎ−ヒドロキシアミノ）メチル］ヘキサノイル｝−２−｛［４−（４−メチル−２−チアゾリル）−１−ピペラジニル］カルボニル｝ピロリジン
【００８５】
【化１８】
【００８６】
（１） 実施例Ｂ−１で得られた化合物７．０ｇ（１８．４ｍｍｏｌ）にメタノール３０ｍｌ及び４モル／１０００ｍｌのＨＣｌ／１，４−ジオキサン溶液３０ｍｌを加え、室温で１時間撹拌後、減圧下に溶媒を留去して（２Ｓ）−２−｛［４−（４−メチル−２−チアゾリル）−１−ピペラジニル］カルボニル｝ピロリジン２塩酸塩の粗製物を得た。
【００８７】
（２） 前項で合成した粗製物にトリエチルアミン５．８６ｍｌ（４２．１ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン３００ｍｌを加え、参考例Ｃ−７で得られた化合物６．５６ｇ（１９．３ｍｍｏｌ）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール１水和物２．４８ｇ（１６．２ｍｍｏｌ）及びＷＳＣ７．０５ｇ（３６．８ｍｍｏｌ）を添加した。室温で一晩撹拌後、４％クエン酸水溶液を加えクロロホルムで抽出した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮して得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝５０／１）により精製して（２Ｓ）−１−｛（２Ｒ）−２−｛｛Ｎ−［（２，４−ジメトキシフェニル）メトキシ］−Ｎ−ホルミルアミノ｝メチル｝ヘキサノイル｝−２−｛［４−（４−メチル−２−チアゾリル）−１−ピペラジニル］カルボニル｝ピロリジン１２．４ｇ（定量的）を得た。
【００８８】
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）：δ／ｐｐｍ ０．８９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．１９−２．２０（１０Ｈ，ｍ），２．２５（３Ｈ，ｓ），２．８３−３．８０（１３Ｈ，ｍ），３．８４（６Ｈ，ｓ），４．７０−５．０３（３Ｈ，ｍ），６．１６（１Ｈ，ｓ），６．４７（２Ｈ，ｂｒ ｓ），７．１０−７．２２（１Ｈ，ｂｒ），７．８４（０．４５×１Ｈ，ｓ），８．１１（０．５５×１Ｈ，ｓ）．
【００８９】
（３） 前項で得られた化合物とジクロロメタン２５０ｍｌの混合物にトリフルオロ酢酸１０ｍｌを滴下し、室温で２時間撹拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１００ｍｌを加え、クロロホルムで抽出した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮して得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝１００／１〜１６／１）により精製して（２Ｓ）−１−｛（２Ｒ）−２−［（Ｎ−ホルミル−Ｎ−ヒドロキシアミノ）メチル］ヘキサノイル｝−２−｛［４−（４−メチル−２−チアゾリル）−１−ピペラジニル］カルボニル｝ピロリジン５．３５ｇ（収率６６％）を得た。尚、ここで用いたシリカゲルは、富士シリシア化学(株)製 ＮＨ−ＤＭ１０２０である。
【００９０】
ＭＳ（ｍ／ｚ）４５２（ＭＨ+）
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤ3ＯＤ）：δ／ｐｐｍ ０．９３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．２０−２．１６（１０Ｈ，ｍ），２．２１（３Ｈ，ｓ），３．０６−４．００（１３Ｈ，ｍ），４．７３−５．０７（１Ｈ，ｍ），６．３２（１Ｈ，ｓ），７．８１（０．５×１Ｈ，ｓ），７．９０（０．５×１Ｈ，ｓ）．
【００９１】
実施例Ｄ−２：：
実施例Ｂ−１及び参考例Ｃ−９で得られた化合物を用い、実施例Ｄ−１に記載の方法と同様にして、(２Ｓ)−１−｛（２Ｒ）−３−シクロペンチル−２−[（Ｎ−ホルミル−Ｎ−ヒドロキシアミノ）メチル]プロピオニル｝−２−｛［４−（４−メチル−２−チアゾリル）−１−ピペラジニル］カルボニル｝ピロリジンを得た。
【００９２】
【化１９】
【００９３】
ＭＳ（ｍ／ｚ）４７８（ＭＨ+）
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤ3ＯＤ）：δ／ｐｐｍ １．０３−２．１６（１５Ｈ，ｍ），２．２１（３Ｈ，ｓ），３．３８−４．００（１３Ｈ，ｍ），４．８０（１Ｈ，ｍ），６．３２（１Ｈ，ｓ），７．８０（０．５×１Ｈ，ｓ），７．９０（０．５×１Ｈ，ｓ）．
【００９４】
実施例Ｄ−３：：
実施例Ｂ−２及び参考例Ｃ−８で得られた化合物を用い、実施例Ｄ−１に記載の方法と同様にして、４−｛（２Ｒ）−２−［（Ｎ−ホルミル−Ｎ−ヒドロキシアミノ）メチル］ヘプタノイル｝−３−｛［４−（２−ピリミジニル）−１−ピペラジニル］カルボニル｝モルホリンのジアステレオマー混合物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム〜クロロホルム／エタノール＝２０／１）により分離精製して、極性フラクションよりＤ-３ａ：（３Ｓ）−４−｛（２Ｒ）−２−［（Ｎ−ホルミル−Ｎ−ヒドロキシアミノ）メチル］ヘプタノイル｝−３−｛［４−（２−ピリミジニル）−１−ピペラジニル］カルボニル｝モルホリンを得、低極性フラクションより、その異性体であるＤ-３ｂ：（３Ｒ）−４−｛（２Ｒ）−２−［（Ｎ−ホルミル−Ｎ−ヒドロキシアミノ）メチル］ヘプタノイル｝−３−｛［４−（２−ピリミジニル）−１−ピペラジニル］カルボニル｝モルホリンを得た。尚、ここで用いたシリカゲルは、富士シリシア化学(株)製 ＮＨ−ＤＭ１０２０である。
【００９５】
ジアステレオ異性体（Ｄ-３ａ）:
【００９６】
【化２０】
【００９７】
ＭＳ（ｍ／ｚ）４６３（ＭＨ+），
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）：δ／ｐｐｍ ０．８８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．２０−２．１０（９Ｈ，ｍ），３．４０−４．２０（１６Ｈ，ｍ），５．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ），６．５４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），７．８０（１Ｈ，ｓ），８．３２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），９．００−９．１６（１Ｈ，ｂｒ）．
【００９８】
ジアステレオ異性体（Ｄ-３ｂ）:
【００９９】
【化２１】
【０１００】
ＭＳ（ｍ／ｚ）４６３（ＭＨ+），
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）：δ／ｐｐｍ ０．８７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．１１−２．１０（９Ｈ，ｍ），３．２０−４．２０（１６Ｈ，ｍ），５．２０−５.４０（１Ｈ，ｍ），６．５７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），８．３３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），８.４３（１Ｈ，ｓ），９.１５（１Ｈ，ｓ）．
【０１０１】
かくして得られる本発明化合物（Ｉ−Ｂ）は、優れた抗菌作用を有し、抗菌剤として有用である。
次に本発明化合物（Ｉ−Ｂ）の抗菌作用を掲載する。
【０１０２】
実験例 １：ｉｎ ｖｉｔｒｏにおける抗菌活性（ＭＩＣ：μｇ／ｍｌ）：
The National Committee for Clinical Laboratory Standards (NCCLS)の定める標準法に準じて、最小発育阻止濃度（ＭＩＣ：μｇ／ｍｌ）を測定し、表４の結果を得た。
【０１０３】
【表４】
【０１０４】
菌株A: Staphylococcus aureus Smith
菌株B: Staphylococcus aureus KT0116 (MRSA)*
菌株C: Staphylococcus aureus KT0150 (MRSA)*
菌株D: Staphylococcus aureus KT0130 (MRSA)*
菌株E: Staphylococcus aureus FDA 209P
菌株F: Staphylococcus aureus KMP9 (MRSA)*
菌株G: Staphylococcus epidermidis ATCC12228
菌株H: Streptococcus pneumoniae ATCC49619
菌株I: Streptococcus pneumoniae KT2524 (PRSP)*
菌株J: Streptococcus pneumoniae KB2534 (PRSP)*
菌株K: Streptococcus pyogenes ATCC12344
菌株L: Enterococcus faecium ATCC19434
菌株M: Moraxella (B.) catarrhalis K1209*,**
*本株は臨床分離株である。
**本株はグラム陰性菌であり、他はグラム陽性菌である。
【０１０５】
実験例 ２：マウス全身感染症に対する効果：
マウス全身症に対する効果（ＥＤ50：ｍｇ／ｋｇ／ｄｏｓｅ）は、ＩＣＲ系雄性マウス（体重約２０ｇ）に一匹あたり５０％感染致死量の約５０倍量の上記病原菌（Ａ〜Ｄ）の生菌を腹腔内投与（ｉｐ）して感染せしめ、テスト化合物を生理食塩水に溶解したものを感染１時間後および４時間後の２回皮下投与（ｓｃ）し、感染７日後のマウスの生存率からプロビット法により算出した。その結果を表５に示す。
【０１０６】
【表５】
【０１０７】
上記表４及び表５に示すように本発明化合物は、極めて優れた抗菌活性を有した。しかも、その毒性も低い。従って、本発明化合物（Ｉ−Ｂ）またはその生理的に許容される塩は抗菌剤として有用である。
【０１０８】
本発明化合物（Ｉ−Ｂ）の投与量は、投与方法、症状、年齢などにより異なるが、通常、１日につき、体重６０ｋｇ当たり約２〜５０００ｍｇ、好ましくは約５〜５００ｍｇ、特に好ましくは３０〜３００ｍｇである。投与経路は、経口投与でもよいが、非経口投与、特に静脈内投与が推奨される。
【０１０９】
本発明化合物（Ｉ−Ｂ）は、製剤の形で投与されるのが一般的である。これらの製剤は、化合物（Ｉ−Ｂ）と製剤化成分とを配合することにより調製できる。例えば、非経口投与製剤たる液剤における製剤化成分としては、水、生理食塩水などの溶剤が必須の成分であり、このほか等張化剤、無痛化剤、ｐＨ調節剤、緩衝剤、保存剤などの補助成分が、適宜、配合される。
【０１１０】
注射剤（injection）の如き液剤は、化合物（Ｉ−Ｂ）を注射用生理食塩水などの溶剤に溶解し、所望により溶解の前もしくは後にその他の補助成分を配合することにより調製できる。凍結乾燥製剤は、このような液剤を凍結乾燥することにより調製でき、投与するとき再溶解される。
【０１１１】
【発明の効果】
本発明化合物（Ｉ−Ｂ）は、多剤耐性菌に対して優れた作用を有し、抗菌剤として有用である。また、本発明化合物（Ｉ−Ａ）は化合物（Ｉ−Ｂ）の直接的な製造中間体として有用である。
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は医薬として有用な新規プロリン誘導体およびその製造中間体に関するものである。更に詳細には、本発明は、特に多剤耐性菌に対して優れた抗菌作用を有するプロリン誘導体またはその塩、その製造中間体、医薬ならびに薬学的組成物に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
MRSAと略称されるメチシリン耐性黄色ブドウ球菌(Methicillin-Resistant Staphylococcus aureus)は、１９６１年に英国でその存在が初めて報告された難治性術後感染症、呼吸器や消化器における感染症の起因菌として知られている。MRSA感染症は、１９６０年代後半から１９７０年代の後半に欧米で流行し、日本では１９８０年代に院内感染の主要起因菌として世間の注目を集め、１９９０年代後半には全国的に蔓延した。現在、MRSAは、多剤に高度耐性化しており、MRSA感染症に対する抗菌剤であったバンコマイシン(Vancomycin)やアルベカシン(Arbekacin)に耐性の株も出現している。
【０００３】
また、医療界において高い関心を集めている多剤耐性菌としては、前述のMRSAのほかにペニシリン耐性肺炎球菌(Penicillin-Resistant Streptococcus pneumoniae, PRSP)やバンコマイシン耐性腸球菌(Vancomycin-Resistant Enterococcus faecium, VRE)が知られている。肺炎球菌は、その毒性が強いことから恐れられている肺炎起因菌であり、腸球菌は、MRSAとともに臨床分離されることもある全身感染症および／または尿路感染症起因菌である。これらの多剤耐性菌による感染症に対しては、ニューキノロン系抗菌剤やオキサゾリジノン系抗菌剤などが使用されているが、これらの抗菌活性はそれほど強くなく、これらの抗菌剤に耐性な株の出現も報告されている。
【０００４】
後記特許文献１の請求の範囲の第１項には、次式で表される一般式が記載されている。
【０００５】
【化５】
【０００６】
後記本発明化合物を念頭において、前記（化５）における各置換基の定義を検討すれば本発明化合物にやや近い構造の化合物が想定できるが、後記本発明化合物のＡ環が存在しない点において本発明化合物とは相違する。この国際公開公報の明細書に具体的に記載されているプロリン誘導体としては、その実施例１２に記載されている次の化合物Ａだけである。
【０００７】
【化６】
【０００８】
【特許文献１】
国際公開第９９／３９７０４号パンフレット
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明者らは、これらの多剤耐性菌、殊にMRSAに対して強い抗菌力を有する化合物の探索をおこない、後述のプロリン誘導体を選択することに成功し、本発明を完成した。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明は、次式で表されるプロリン誘導体またはその塩に関するものである。
【００１１】
【化７】
【００１２】
（式中、Ａ環は環構成原子として１〜４個のヘテロ原子を有し、ベンゼン環と融合していることもある５〜６員の異項環基である。
Ｒ1およびＲ2は同一または異なって、１〜３個のハロゲン原子で置換されていてもよい低級アルキル基、水素原子、低級アルコキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミノ基もしくはアミノカルボニル基（当該アミノ基は保護されているか、低級アルキルでモノもしくはジ置換されていてもよい）、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルカルボニルオキシ基、１〜３個のハロゲン原子で置換されていてもよい低級アルキルスルホニルオキシ基またはシアノ基を意味するか、Ｒ1が水素原子であり、Ｒ2は５〜６員の飽和または不飽和の環状基（ａ）がＡ環と直接結合しているか、アミノ低級アルキレンもしくはオキシ低級アルキレンを介して結合しており、環状基（ａ）の構成原子としては１〜２個のヘテロ原子を含んでいてもよく、低級アルキル基で置換されていることもある。
Ｒ3およびＲ4は、Ｂ環上のいずれかの位置に結合しており、同一または異なって、水素原子または低級アルキル基であるか、両者が一緒になってオキソ基を形成していてもよい。
ｍは１または２の整数である。
Ｒ5およびＲ6は、同一または異なって、水素原子、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、フェニル基、低級アルコキシ基、フェニル低級アルキルオキシ基、保護されていてもよいアミノ基であるか、両者が一緒になって飽和環状基を形成していてもよい。
Ｘは炭素原子、イオウ原子または酸素原子であり、ｎは１または２の整数である。
Ｙは水素原子またはアミノ保護基であるか、次式で表される基（ｂ）である。
【００１３】
【化８】
ここにおいてＲ7はアルキル基またはシクロアルキル低級アルキル基であり、Ｒ8は水素原子またはヒドロキシ保護基である。）
【００１４】
本発明化合物（Ｉ）は、主要構造を共通にするものの性格を異にするふたつのグループに分けられる。
第一のグループは、Ｙが水素原子またはアミノ保護基である次式（Ｉ−Ａ）で表されるプロリン誘導体またはその塩である。
【００１５】
【化９】
（式中、Ｗは水素原子またはアミノ保護基であり、その他の置換基または記号の定義は前述の定義と同じである。）
【００１６】
第二のグループは、Ｙが式（ｂ）で表されるプロリン誘導体（Ｉ−Ｂ）またはその塩である。
【００１７】
【化１０】
（式中、各記号および置換基の定義は前掲の定義と同じである。）
【００１８】
化合物（Ｉ−Ａ）は化合物（Ｉ−Ｂ）の製造中間体であり、化合物（Ｉ−Ｂ）は、抗菌作用、とりわけMRSAを始めとする多剤耐性菌に対して強い抗菌作用を有し抗菌剤として有用である。
【００１９】
前記化合物（Ｉ−Ｂ）の構造上の特徴は、▲１▼Ａ環が存在すること、▲２▼Ａ環を含めて少なくとも３個の異項環基を有すること、▲３▼Ａ環とＢ環とが直結していること、▲４▼Ｎ−ホルミル−Ｎ−ヒドロキシアミン部分を有すること、▲５▼置換基Ｒ7が存在すること、およびこれらの組み合わせに存在し、特に▲１▼▲２▼および▲３▼、なかんずく▲１▼が特徴の本質である。
【００２０】
本発明（Ｉ−Ｂ）の内でも抗菌剤として好適な化合物は、次の一般式（Ｉ−Ｃ）で表されるプロリン誘導体またはその塩である。
【００２１】
【化１１】
【００２２】
（式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ7の定義は前掲の定義と同じであり、Ａ１環は１〜３個の二重結合を有する不飽和５〜６員単環異項環基であり、ここにおけるＺ1、Ｚ2、Ｚ3およびＺ4は同一または異なって、炭素原子、窒素原子、イオウ原子または酸素原子から選択される原子である。但し、Ｚ1、Ｚ2、Ｚ3およびＺ4のいずれか１個は非存在である場合もあり、Ｒ1およびＲ2は、Ａ１環を構成するいずれかの炭素原子と結合しているものとする。）
【００２３】
本発明化合物のうち抗菌剤として有用な化合物の具体例としては、後記実施例に記載の以下の化合物またはその塩が挙げられる。
【００２４】
化合物（１）：（２Ｓ）−１−｛（２Ｒ）−２−［（Ｎ−ホルミル−Ｎ−ヒドロキシアミノ）メチル］ヘキサノイル｝−２−｛［４−（４−メチル−２−チアゾリル）−１−ピペラジニル］カルボニル｝ピロリジン；
化合物（２）：(２Ｓ)−１−｛（２Ｒ）−３−シクロペンチル−２−[（Ｎ−ホルミル−Ｎ−ヒドロキシアミノ）メチル]プロピオニル｝−２−｛［４−（４−メチル−２−チアゾリル）−１−ピペラジニル］カルボニル｝ピロリジン；
化合物（３）：（３Ｓ）−４−｛（２Ｒ）−２−［（Ｎ−ホルミル−Ｎ−ヒドロキシアミノ）メチル］ヘプタノイル｝−３−｛［４−（２−ピリミジニル）−１−ピペラジニル］カルボニル｝モルホリン；
【００２５】
一般式（Ｉ−Ｂ）に含まれる具体的化合物としては、上記化合物の他にも以下の化合物およびその塩が例示できる。
【００２６】
（２Ｓ）−１−｛（２Ｒ）−２−［（Ｎ−ホルミル−Ｎ−ヒドロキシアミノ）メチル］ヘキサノイル｝−２−｛［４−（４−フェニル−２−チアゾリル）−１−ピペラジニル］カルボニル｝ピロリジン
【００２７】
（２Ｓ）−１−｛（２Ｒ）−３−シクロペンチル−２−[（Ｎ−ホルミル−Ｎ−ヒドロキシアミノ）メチル]プロピオニル｝−２−｛｛４−［４−（３−ピリジル）−２−チアゾリル］−１−ピペラジニル｝カルボニル｝ピロリジン
【００２８】
次に、各置換基や記号について説明する。
本発明化合物（Ｉ）におけるＡ環は、環構成原子として１〜４個のヘテロ原子を有し、ベンゼン環と融合していることもある５〜６員の異項環基である。ここにおけるヘテロ原子としては、例えば、窒素原子、イオウ原子または酸素原子から選択され、少なくとも１個の窒素原子を含む場合が好適である。Ａ環は、飽和であってもよいが、不飽和が好ましい。Ａ環およびＢ環は、Ｂ環の窒素原子とＡ環の炭素原子との間の直接結合（以下、Ｎ−Ｃ結合）で結合しているのが好ましい。
【００２９】
Ａ環で示される５〜６員の異項環基の具体例としては、限定されることはないが、例えば、ピリジル、ピラニル、チエニル、フリル、ピロリルの如きヘテロ原子１個有する単環異項環基；ピリミジニル、ピラジニル、ピリダジニル、イミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリルの如きヘテロ原子２個を有する単環異項環基；テトラゾリル、１，３，５−トリアジニル、１，２, ４−トリアジニル、テトラジニル、チアジアゾリルの如きヘテロ原子３〜４個有する単環異項環基およびこれらの単環異項環基とベンゼン環が融合した融合異項環基が挙げられる。このような融合異項環基としては、例えばイソキノリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾオキサゾリルなどが挙げられる。
【００３０】
Ａ環で示されるこれらの５〜６員の異項環基の内でも、一般式（Ｉ−Ｃ）のＡ１環のようにＮ−Ｃ結合のＣ側の結合部位の隣にヘテロ原子たる窒素原子が存在する場合が、好適である。このような異項環基の最も好適な例としては、ピリミジニル、チアゾリル、ピラジニルが例示される。
【００３１】
本発明化合物（Ｉ）における置換基Ｒ1またはＲ2は、Ａ環のいずれの位置で置換していてもよいが、好ましくはＡ環上の炭素原子と結合する。Ｒ1およびＲ2に含まれるひとつの置換基として、１〜３個のハロゲン原子で置換されていてもよい低級アルキル基がある。本明細書において「低級」なる用語は、特に断らない限り、この用語が付された基の炭化水素部分の炭素原子数が１〜６であることを意味する。「低級アルキル」としては、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシルなどの直鎖状又は分岐状のものが挙げられる。また、「ハロゲン原子」なる用語は、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素を意味する。従って、「１〜３個のハロゲン原子で置換された低級アルキル基」としては、例えば、トリフルオロメチルが挙げられる。
【００３２】
本明細書において、「低級アルコキシ」は、その低級アルキル部分が上記の意味を有する低級アルキルオキシ基であり、例えば、Ｒ1またはＲ2における低級アルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。
【００３３】
本明細書においては、「当該アミノ基は保護されている」、「保護されていてもよいアミノ基」または「アミノ保護基」なる用語が使用されているが、これらの用語はいずれも「アミノ基の保護基」に関する説明である。本明細書における「アミノ基の保護基」は、化学の分野、特にペプチド化学の分野において常用されるものが使用される。
【００３４】
「アミノ基の保護基」としては、保護基を還元的に脱離できるものと加水分解的に脱離できるものとがある。還元的に脱離できる「アミノ基の保護基」としては、ｐ−トルエンスルホニルの如きアリールスルホニル基；ベンジル、トリチル、ベンジルオキシメチルの如きフェニルまたはベンジルオキシによって置換されたメチル基；ベンジルオキシカルボニルやｐ−メトキシベンジルオキシカルボニルの如きアリールメトキシカルボニル；２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル、２−ヨードエトキシカルボニルの如きハロゲノエトキシカルボニル基などがその例としてあげられる。一方、加水分解的に脱離できる「アミノ基の保護基」としては、エトキシカルボニルやＢｏｃと略称されるｔ−ブトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル、ビニルオキシカルボニル、２−トシルエトキシカルボニルの如きオキシカルボニルを含む基；ホルミル、アセチル、トリフルオロアセチルの如きアシル基などが挙げられ、このほかｏ−ニトロフェニルスルフェニル、トリメチルシリル、テトラヒドロピラニル、ジフェニルホスフィニルなどが例示される。
【００３５】
同一分子内に２個のアミノ基が存在する場合は、一方は加水分解的に脱離できる「アミノ基の保護基」を、他方は還元的に脱離できる「アミノ基の保護基」を採用するのが得策である。例えば、Ｒ1またはＲ2における「アミノ基またはアミノカルボニル基（当該アミノ基は保護されている）」における「アミノ基の保護基」としては還元的に脱離できるものを採用し、Ｙのアミノ保護基として加水分解的に脱離できる「アミノ基の保護基」を選択するのが好ましい。
【００３６】
Ｒ2における「５〜６員の飽和または不飽和の環状基（ａ）」としては、限定されないが、フェニル基、ピリジル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、ピラジニル基、テトラヒドロフラニル基などが例示でき、これらの環状基（ａ）はメチルやエチルの如き低級アルキル基で置換されていることもある。これらの環状基（ａ）は、直接結合；アミノエチレンの如きアミノ低級アルキレン；オキシエチレンの如きオキシ低級アルキレンを介してＡ環と結合している。
【００３７】
Ｒ7として定義されているアルキル基は、その炭素数が２〜１０であれば、直鎖状または分岐状のいずれでもよいが、直鎖状が好ましい。好ましいアルキル基としては、炭素数５〜７、特に好ましくはｎ−ブチルまたはｎ−ペンチルである。また、Ｒ7として定義されている「シクロアルキル低級アルキル」におけるシクロアルキルとしては、炭素数４〜７個、好ましくは５または６個のものが例示される。従って、好適な「シクロアルキル低級アルキル」の具体例としては、シクロペンチルメチル基やシクロヘキシルメチル基などが挙げられる。
【００３８】
Ｒ8として定義されているヒドロキシ保護基としては、化学の分野において常用されるものであり、特に限定されないが、例えば、ベンジル、２，４−ジメトキシフェニルメチルがその例として挙げられる。これらのなかでも脱離の容易な２，４−ジメトキシフェニルメチルが好適である。
【００３９】
本発明化合物（Ｉ）は、分子中の塩基性窒素原子と酸との間で酸付加塩を形成し得る。ここにおける酸付加塩としては、酒石酸、フマル酸、酢酸、乳酸、コハク酸、メタンスルホン酸、マレイン酸、マロン酸、グルコン酸、アスパラギン酸の如きアミノ酸などの有機酸との塩または塩酸、リン酸などの無機酸との塩が挙げられる。また、本発明化合物のＮ−ホルミル−Ｎ−ヒドロキシアミン部分において、ナトリウムやカルシウムなどの金属塩を形成し得る。
【００４０】
本発明化合物（Ｉ）は、ときとして水和物や溶媒和物として、更には、光学異性体、立体異性体またはこれらの混合物として存在しており、これらの総てが本発明に包含される。
【００４１】
次に本発明化合物（Ｉ）の製造方法について説明する。本発明化合物は、例えば、次の（化１２）で示される反応式に従って有利に製造される。（化１２）においてＷ’はアミノ保護基であり、Ｒ8’はヒドロキシ基の保護基である。その他の置換基または記号の定義は前掲の定義と同じである。
【００４２】
【化１２】
【００４３】
工程１は、化合物（１）と化合物（２）とを反応（アミド化反応）させて新規化合物（Ｉ−Ａ−１）となす工程である。本工程はペプチド製造の常法に従って実施できる。例えば、本工程は、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＷＳＣ）の如き縮合剤および１−ヒドロキシベンゾトリアゾ−ルの如き反応促進剤の存在下、塩化メチレンの如き溶媒中において、両原料化合物を混合撹拌することにより実施できる。化合物（２）が酸付加塩を形成している場合にはトリエチルアミンの如き塩基の存在下に行うのが好ましい。本工程は−１０℃〜４５℃において１時間〜３日間行われる。
なお、化合物（１）は公知であり、化合物（２）も殆どが公知である。
【００４４】
工程２は、工程１で製造された化合物（Ｉ−Ａ−１）のアミノ保護基Ｗ’を脱離して化合物（Ｉ−Ａ−２）となす工程である。脱離は、アミノ保護基Ｗ’の性格により還元的または加水分解的に行うことができる。通常は加水分解的、好ましくは酸分解により行うのが好適であり、酸分解に適したアミノ保護基Ｗ’を選択するのがよい。酸分解に適したＷ’としてはＢｏｃが好適である。酸分解によるアミノ保護基Ｗ’の脱離は、溶媒中、−１０℃〜１００℃、好ましくは０℃〜室温において、化合物（Ｉ−Ａ−１）と酸を接触させることにより実施できる。ここにおける酸としては塩化水素、トリフルオロ酢酸などが例示でき、溶媒としては酢酸エチル、１，４−ジオキサン、塩化メチレンなどが挙げられる。
かくして得られる化合物（Ｉ−Ａ−２）は次の工程３の原料として使用される。
【００４５】
工程３は、化合物（３）と前記化合物（Ｉ−Ａ−２）とを工程１と同様に反応（アミド化反応）させて化合物（Ｉ−Ｂ−１）となすことにより実施できる。化合物（３）は、後記参考例に記載の方法またはこれに準じる方法により有利に製造できる。
【００４６】
工程４は化合物（Ｉ―Ｂ−１）のヒドロキシ基の保護基Ｒ8’を酸分解により脱離して本発明化合物（Ｉ−Ｂ−２）となす工程である。本工程は塩化メチレンの如き溶媒中、化合物（Ｉ−Ｂ−１）にトリフルオロ酢酸の如き酸を−１０℃〜４５℃において１〜２０時間作用させることにより実施できる。
【００４７】
かくして製造される本発明化合物の置換基を別な置換基に変換することも適宜おこなわれる。例えば、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ4またはＲ5に「アミノ基の保護基」、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルカルボニルオキシ基が存在するときは、これらをアミノ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基に変換できる。また、光学異性体や立体異性体の混合物が得られた場合には、常法によりこれらを分離することもできる。生成物の精製は溶媒洗浄やシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより実施できる。
【００４８】
次に製造実施例または参考例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。以下の製造実施例または参考例は、シリーズＢ：中間体（Ｉ−Ａ）の製造、シリーズＣ：原料（３）の製造およびシリーズＤ：本発明化合物（Ｉ−Ｂ）の製造から構成されている。
【００４９】
一般式（Ｉ−Ｂ）に包含される本発明化合物はＮＭＲによってその物性を明らかにしている。
【００５０】
なお、以下の製造実施例において使用している略称は、次の通り定義される。
ＷＳＣ：１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
Ｍｅ：メチル
Ｅｔ：エチル
ｎ−Ｂｕ：ｎ−ブチル
Ｂｏｃ：ｔ−ブトキシカルボニル
Ｐｈ：フェニル
Ａｃ：アセチル
【００５１】
シリーズＢ：化合物（Ｉ−Ａ）の製造
【００５２】
実施例Ｂ−１：：
（２Ｓ）−１−ｔ−ブトキシカルボニル−２−｛［４−（４−メチル−２−チアゾリル）−１−ピペラジニル］カルボニル｝ピロリジン
【００５３】
【化１３】
【００５４】
公知化合物４−メチル−２−（１−ピペラジニル）チアゾール３００ｍｇ（１．６３ｍｍｏｌ）、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｌ−プロリン３３３ｍｇ（１．５５ｍｍｏｌ）、ＷＳＣ４４１ｍｇ（２．３ｍｍｏｌ）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール１水和物２０８ｍｇ（１．３６ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン８ｍｌからなる混合物を室温で一晩撹拌後、水を加えクロロホルムで抽出した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮して得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝１７０／１〜１００／１）により精製して（２Ｓ）−１−ｔ−ブトキシカルボニル−２−｛［４−（４−メチル−２−チアゾリル）−１−ピペラジニル］カルボニル｝ピロリジン４４０ｍｇ（収率７４％）を得た。
【００５５】
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）：δ／ｐｐｍ １．４０（０．５×９Ｈ，ｓ），１．４６（０．５×９Ｈ，ｓ），１．７８−２．２５（４Ｈ，ｍ），２．２６（３Ｈ，ｓ），３．３０−３．９３（１０Ｈ，ｍ），４．５３−４．７３（１Ｈ，ｍ），６．１６（０．５×１Ｈ，ｓ），６．１９（０．５×１Ｈ，ｓ）．
【００５６】
実施例Ｂ−２：：
実施例Ｂ−１に記載の方法と同様にして、市販品の４−（ｔ−ブトキシカルボニル）モルホリン−３−カルボン酸（Asta Tech, Inc.製）から４−ｔ−ブトキシカルボニル−３−｛［４−（２−ピリミジニル）−１−ピペラジニル］カルボニル｝モルホリンを得た。
【００５７】
【化１４】
【００５８】
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）：δ／ｐｐｍ １．４６（９Ｈ，ｓ），３．４０−４．２０（１４Ｈ，ｍ），３．６３−３．９０（１Ｈ，ｂｒ），６．５５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），８．３３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ）.
【００５９】
シリーズＣ：原料（３）の製造
【００６０】
参考例Ｃ−１：：
（２Ｒ）−Ｎ−［（２，４−ジメトキシフェニル）メトキシ］−２−（ヒドロキシメチル）ヘキサンアミド
【００６１】
【化１５】
【００６２】
（１） 公知化合物（４Ｓ）−４−ベンジル−３−［（２Ｒ）−２−（ベンジルオキシメチル）ヘキサノイル］−２−オキサゾリジノン２４０ｇ（６０６ｍｍｏｌ）に、５％Ｐｄ-Ｃ２５．０ｇ、エタノール１６００ｍｌを加え４０℃に加温しながら、水素雰囲気下接触還元した。濾過して触媒を除去後、濾液を濃縮し固体残渣を得た。ヘキサン３００ｍｌを加えて一旦加温した後、攪拌しながら徐々に冷却した。濾過により結晶を集め、ヘキサンで洗浄し、乾燥することにより（４Ｓ）−４−ベンジル−３−［（２Ｒ）−２−（ヒドロキシメチル）ヘキサノイル］−２−オキサゾリジノン１７７．９ｇ（収率９６％）を得た。
【００６３】
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）：δ／ｐｐｍ ０．８９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），１．０−１．８（６Ｈ，ｍ），２．１５−２．３（１Ｈ，ｂｒｓ），２．８１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．３，１３．５Ｈｚ），３．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．３，１３．４Ｈｚ），３．７５−４．０（２Ｈ，ｍ），４．１−４．３（２Ｈ，ｍ），４．６５−４．７５（１Ｈ，ｍ），７．１−７．５（５Ｈ，ｍ）．
【００６４】
（２） 前項で得た化合物に、３０〜３５．５％過酸化水素水２２６ｍｌ、水３５０ｍｌ、ＴＨＦ１４００ｍｌを加えて、氷冷しながら水酸化リチウム１水和物４８．９ｇ（１．１７ｍｏｌ）の水溶液（３５０ｍｌ）を滴下した後、室温下に２時間撹拌した。反応液へ氷冷しながら亜硫酸ナトリウム３３０ｇを１．５時間かけて加え、室温で３時間撹拌し、溶媒を留去した。得られた残渣に水を加えてクロロホルムで４回洗浄した後、濃塩酸にてｐＨ４とし遊離した目的化合物を酢酸エチルで３回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を留去して（２Ｒ）−２−（ヒドロキシメチル）ヘキサン酸７８．２ｇ（収率９２％）を得た。
【００６５】
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）：δ／ｐｐｍ ０．９１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），１．２５−１．４８（４Ｈ，ｍ），１．４８−１．７７（２Ｈ，ｍ），２．６２（１３Ｈ，ｑｕｉｎｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），３．８０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．２Ｈｚ）．
【００６６】
（３） 前項で得た化合物 ７７．３ｇ（５２９ｍｍｏｌ）、公知化合物Ｏ−［（２，４−ジメトキシフェニル）メチル］ヒドロキシルアミン １１９．７ｇ（５５５ｍｍｏｌ）及びピリジン７５０ｍｌからなる混合物に、氷冷しながらＷＳＣ１２１．７ｇ（６３５ｍｍｏｌ）を加えた。室温下に一晩撹拌した後、反応液を減圧濃縮して得られた残渣に酢酸エチルを加えて、１０％クエン酸水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去して得られた粗製物１７２ｇに酢酸エチルとジイソプロピルエーテルの混合溶媒を加え、析出した結晶を濾取した。得られた結晶を酢酸エチルとジイソプロピルエーテルの混合溶媒から再結晶して（２Ｒ）−Ｎ−［（２，４−ジメトキシフェニル）メトキシ］−２−（ヒドロキシメチル）ヘキサンアミドの１１９．７ｇ（収率７３％）を得た。
【００６７】
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）：δ／ｐｐｍ ０．８８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．２−１．７５（６Ｈ，ｍ），２．０−２．６（１Ｈ，ｍ），３．６−３．８（２Ｈ，ｍ），３．８１（３Ｈ，ｓ），３．８３（３Ｈ，ｓ），４．７７−５．０（２Ｈ，ｍ），６．４２−６．５２（２Ｈ，ｍ），７．１−７．３５（１Ｈ，ｍ）．
【００６８】
参考例Ｃ−２及びＣ−３：：
参考例Ｃ−１に記載の方法と同様にして表１の化合物を得た。
【００６９】
【表１】
【００７０】
参考例Ｃ−４：：
（２Ｒ）−２−[｛Ｎ−［（２，４−ジメトキシフェニル）メトキシ］アミノ｝メチル｝ヘキサン酸
【００７１】
【化１６】
【００７２】
（１） 参考例Ｃ−１で得た化合物１２８．２ｇ（４１２ｍｍｏｌ）にトリフェニルホスフィン１１８．８ｇ（４５３ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ１２００ｍｌを加え氷冷し、ジイソプロピルアゾジカルボキシレート８５．４ｍｌ（４１２ｍｍｏｌ）を徐々に添加した。室温下に１時間撹拌後、反応液を減圧濃縮して得られた油状粗製物にジイソプロピルエーテルを加え、緩やかに撹拌し、析出した結晶を濾取した。この濾液を減圧濃縮し、得られた残渣にジイソプロピルエーテルとヘキサンの混合溶媒を加え、氷冷しながら緩やかに撹拌して、析出した結晶を濾取した。濾液を減圧濃縮し１３８．４ｇの粗製物を得た。
【００７３】
（２） 前項で得た粗製物９．７３ｇ及びＴＨＦ−水（３：１）の混合溶媒１２０ｍｌの混合物に水酸化リチウム１水和物１．５８ｇ（３７．５ｍｍｏｌ）を添加し、室温で一晩撹拌後、減圧下にＴＨＦを留去した。残渣を酢酸エチルで洗浄した後、水層をＨＣｌ酸性とし、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去して（２Ｒ）−２−[｛Ｎ−［（２，４−ジメトキシフェニル）メトキシ］アミノ｝メチル]ヘキサン酸７．１４ｇ（２工程の収率７９％）を得た。
【００７４】
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）：δ／ｐｐｍ ０．８９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），１．２５−１．４（６Ｈ，ｍ），１．４−１．６（１Ｈ，ｍ），１．６３−１．８（１Ｈ，ｍ），２．６５−２．７８（１Ｈ，ｍ），３．０２−３．１８（２Ｈ，ｍ），３．８１（３Ｈ，ｓ），３．８２（３Ｈ，ｓ），４．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ），４．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ），６．４−６．５（２Ｈ，ｍ），７．１８−７．２３（１Ｈ，ｄ−ｌｉｋｅｍ）．
【００７５】
参考例Ｃ−５及びＣ−６：：
参考例Ｃ−４に記載の方法と同様にして表２の化合物を得た。
【００７６】
【表２】
【００７７】
参考例Ｃ−７：：
（２Ｒ）−２−[｛Ｎ−［（２，４−ジメトキシフェニル）メトキシ］−Ｎ−ホルミルアミノ｝メチル｝ヘキサン酸
【００７８】
【化１７】
【００７９】
参考例Ｃ−４で得た（２Ｒ）−２−[｛Ｎ−［（２，４−ジメトキシフェニル）メトキシ］アミノ｝メチル]ヘキサン酸 １．５０ｇ（４．８ｍｍｏｌ）に、蟻酸エチル２５ｍｌ（３１０ｍｍｏｌ）を加え、２４時間加熱還流した。減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝１００／１）により精製して、目的とする（２Ｒ）−２−[｛Ｎ−［（２，４−ジメトキシフェニル）メトキシ］−Ｎ−ホルミルアミノ｝メチル]ヘキサン酸１．３５ｇ（収率８２％）を得た。
【００８０】
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）：δ／ｐｐｍ ０．８８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），１．２−１．７５（６Ｈ，ｍ），２．７５−３．０（１Ｈ，ｍ），３．７５−３．９（２Ｈ，ｍ），３．８１（３Ｈ，ｓ），３．８３（３Ｈ，ｓ），４．７−５．０（２Ｈ，ｍ），６．４２−６．５（２Ｈ，ｍ），７．１−７．２（１Ｈ，ｍ），８．１０（１Ｈ，ｂｒ ｓ）．
【００８１】
参考例Ｃ−８及びＣ−９：：
参考例Ｃ−７に記載の方法と同様にして表３の化合物を得た。
【００８２】
【表３】
【００８３】
シリーズＤ：化合物（Ｉ−Ｂ）の製造
【００８４】
実施例Ｄ−１：：
（２Ｓ）−１−｛（２Ｒ）−２−［（Ｎ−ホルミル−Ｎ−ヒドロキシアミノ）メチル］ヘキサノイル｝−２−｛［４−（４−メチル−２−チアゾリル）−１−ピペラジニル］カルボニル｝ピロリジン
【００８５】
【化１８】
【００８６】
（１） 実施例Ｂ−１で得られた化合物７．０ｇ（１８．４ｍｍｏｌ）にメタノール３０ｍｌ及び４モル／１０００ｍｌのＨＣｌ／１，４−ジオキサン溶液３０ｍｌを加え、室温で１時間撹拌後、減圧下に溶媒を留去して（２Ｓ）−２−｛［４−（４−メチル−２−チアゾリル）−１−ピペラジニル］カルボニル｝ピロリジン２塩酸塩の粗製物を得た。
【００８７】
（２） 前項で合成した粗製物にトリエチルアミン５．８６ｍｌ（４２．１ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン３００ｍｌを加え、参考例Ｃ−７で得られた化合物６．５６ｇ（１９．３ｍｍｏｌ）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール１水和物２．４８ｇ（１６．２ｍｍｏｌ）及びＷＳＣ７．０５ｇ（３６．８ｍｍｏｌ）を添加した。室温で一晩撹拌後、４％クエン酸水溶液を加えクロロホルムで抽出した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮して得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝５０／１）により精製して（２Ｓ）−１−｛（２Ｒ）−２−｛｛Ｎ−［（２，４−ジメトキシフェニル）メトキシ］−Ｎ−ホルミルアミノ｝メチル｝ヘキサノイル｝−２−｛［４−（４−メチル−２−チアゾリル）−１−ピペラジニル］カルボニル｝ピロリジン１２．４ｇ（定量的）を得た。
【００８８】
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）：δ／ｐｐｍ ０．８９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．１９−２．２０（１０Ｈ，ｍ），２．２５（３Ｈ，ｓ），２．８３−３．８０（１３Ｈ，ｍ），３．８４（６Ｈ，ｓ），４．７０−５．０３（３Ｈ，ｍ），６．１６（１Ｈ，ｓ），６．４７（２Ｈ，ｂｒ ｓ），７．１０−７．２２（１Ｈ，ｂｒ），７．８４（０．４５×１Ｈ，ｓ），８．１１（０．５５×１Ｈ，ｓ）．
【００８９】
（３） 前項で得られた化合物とジクロロメタン２５０ｍｌの混合物にトリフルオロ酢酸１０ｍｌを滴下し、室温で２時間撹拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１００ｍｌを加え、クロロホルムで抽出した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮して得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝１００／１〜１６／１）により精製して（２Ｓ）−１−｛（２Ｒ）−２−［（Ｎ−ホルミル−Ｎ−ヒドロキシアミノ）メチル］ヘキサノイル｝−２−｛［４−（４−メチル−２−チアゾリル）−１−ピペラジニル］カルボニル｝ピロリジン５．３５ｇ（収率６６％）を得た。尚、ここで用いたシリカゲルは、富士シリシア化学(株)製 ＮＨ−ＤＭ１０２０である。
【００９０】
ＭＳ（ｍ／ｚ）４５２（ＭＨ+）
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤ3ＯＤ）：δ／ｐｐｍ ０．９３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．２０−２．１６（１０Ｈ，ｍ），２．２１（３Ｈ，ｓ），３．０６−４．００（１３Ｈ，ｍ），４．７３−５．０７（１Ｈ，ｍ），６．３２（１Ｈ，ｓ），７．８１（０．５×１Ｈ，ｓ），７．９０（０．５×１Ｈ，ｓ）．
【００９１】
実施例Ｄ−２：：
実施例Ｂ−１及び参考例Ｃ−９で得られた化合物を用い、実施例Ｄ−１に記載の方法と同様にして、(２Ｓ)−１−｛（２Ｒ）−３−シクロペンチル−２−[（Ｎ−ホルミル−Ｎ−ヒドロキシアミノ）メチル]プロピオニル｝−２−｛［４−（４−メチル−２−チアゾリル）−１−ピペラジニル］カルボニル｝ピロリジンを得た。
【００９２】
【化１９】
【００９３】
ＭＳ（ｍ／ｚ）４７８（ＭＨ+）
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤ3ＯＤ）：δ／ｐｐｍ １．０３−２．１６（１５Ｈ，ｍ），２．２１（３Ｈ，ｓ），３．３８−４．００（１３Ｈ，ｍ），４．８０（１Ｈ，ｍ），６．３２（１Ｈ，ｓ），７．８０（０．５×１Ｈ，ｓ），７．９０（０．５×１Ｈ，ｓ）．
【００９４】
実施例Ｄ−３：：
実施例Ｂ−２及び参考例Ｃ−８で得られた化合物を用い、実施例Ｄ−１に記載の方法と同様にして、４−｛（２Ｒ）−２−［（Ｎ−ホルミル−Ｎ−ヒドロキシアミノ）メチル］ヘプタノイル｝−３−｛［４−（２−ピリミジニル）−１−ピペラジニル］カルボニル｝モルホリンのジアステレオマー混合物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム〜クロロホルム／エタノール＝２０／１）により分離精製して、極性フラクションよりＤ-３ａ：（３Ｓ）−４−｛（２Ｒ）−２−［（Ｎ−ホルミル−Ｎ−ヒドロキシアミノ）メチル］ヘプタノイル｝−３−｛［４−（２−ピリミジニル）−１−ピペラジニル］カルボニル｝モルホリンを得、低極性フラクションより、その異性体であるＤ-３ｂ：（３Ｒ）−４−｛（２Ｒ）−２−［（Ｎ−ホルミル−Ｎ−ヒドロキシアミノ）メチル］ヘプタノイル｝−３−｛［４−（２−ピリミジニル）−１−ピペラジニル］カルボニル｝モルホリンを得た。尚、ここで用いたシリカゲルは、富士シリシア化学(株)製 ＮＨ−ＤＭ１０２０である。
【００９５】
ジアステレオ異性体（Ｄ-３ａ）:
【００９６】
【化２０】
【００９７】
ＭＳ（ｍ／ｚ）４６３（ＭＨ+），
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）：δ／ｐｐｍ ０．８８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．２０−２．１０（９Ｈ，ｍ），３．４０−４．２０（１６Ｈ，ｍ），５．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ），６．５４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），７．８０（１Ｈ，ｓ），８．３２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），９．００−９．１６（１Ｈ，ｂｒ）．
【００９８】
ジアステレオ異性体（Ｄ-３ｂ）:
【００９９】
【化２１】
【０１００】
ＭＳ（ｍ／ｚ）４６３（ＭＨ+），
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）：δ／ｐｐｍ ０．８７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．１１−２．１０（９Ｈ，ｍ），３．２０−４．２０（１６Ｈ，ｍ），５．２０−５.４０（１Ｈ，ｍ），６．５７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），８．３３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），８.４３（１Ｈ，ｓ），９.１５（１Ｈ，ｓ）．
【０１０１】
かくして得られる本発明化合物（Ｉ−Ｂ）は、優れた抗菌作用を有し、抗菌剤として有用である。
次に本発明化合物（Ｉ−Ｂ）の抗菌作用を掲載する。
【０１０２】
実験例 １：ｉｎ ｖｉｔｒｏにおける抗菌活性（ＭＩＣ：μｇ／ｍｌ）：
The National Committee for Clinical Laboratory Standards (NCCLS)の定める標準法に準じて、最小発育阻止濃度（ＭＩＣ：μｇ／ｍｌ）を測定し、表４の結果を得た。
【０１０３】
【表４】
【０１０４】
菌株A: Staphylococcus aureus Smith
菌株B: Staphylococcus aureus KT0116 (MRSA)*
菌株C: Staphylococcus aureus KT0150 (MRSA)*
菌株D: Staphylococcus aureus KT0130 (MRSA)*
菌株E: Staphylococcus aureus FDA 209P
菌株F: Staphylococcus aureus KMP9 (MRSA)*
菌株G: Staphylococcus epidermidis ATCC12228
菌株H: Streptococcus pneumoniae ATCC49619
菌株I: Streptococcus pneumoniae KT2524 (PRSP)*
菌株J: Streptococcus pneumoniae KB2534 (PRSP)*
菌株K: Streptococcus pyogenes ATCC12344
菌株L: Enterococcus faecium ATCC19434
菌株M: Moraxella (B.) catarrhalis K1209*,**
*本株は臨床分離株である。
**本株はグラム陰性菌であり、他はグラム陽性菌である。
【０１０５】
実験例 ２：マウス全身感染症に対する効果：
マウス全身症に対する効果（ＥＤ50：ｍｇ／ｋｇ／ｄｏｓｅ）は、ＩＣＲ系雄性マウス（体重約２０ｇ）に一匹あたり５０％感染致死量の約５０倍量の上記病原菌（Ａ〜Ｄ）の生菌を腹腔内投与（ｉｐ）して感染せしめ、テスト化合物を生理食塩水に溶解したものを感染１時間後および４時間後の２回皮下投与（ｓｃ）し、感染７日後のマウスの生存率からプロビット法により算出した。その結果を表５に示す。
【０１０６】
【表５】
【０１０７】
上記表４及び表５に示すように本発明化合物は、極めて優れた抗菌活性を有した。しかも、その毒性も低い。従って、本発明化合物（Ｉ−Ｂ）またはその生理的に許容される塩は抗菌剤として有用である。
【０１０８】
本発明化合物（Ｉ−Ｂ）の投与量は、投与方法、症状、年齢などにより異なるが、通常、１日につき、体重６０ｋｇ当たり約２〜５０００ｍｇ、好ましくは約５〜５００ｍｇ、特に好ましくは３０〜３００ｍｇである。投与経路は、経口投与でもよいが、非経口投与、特に静脈内投与が推奨される。
【０１０９】
本発明化合物（Ｉ−Ｂ）は、製剤の形で投与されるのが一般的である。これらの製剤は、化合物（Ｉ−Ｂ）と製剤化成分とを配合することにより調製できる。例えば、非経口投与製剤たる液剤における製剤化成分としては、水、生理食塩水などの溶剤が必須の成分であり、このほか等張化剤、無痛化剤、ｐＨ調節剤、緩衝剤、保存剤などの補助成分が、適宜、配合される。
【０１１０】
注射剤（injection）の如き液剤は、化合物（Ｉ−Ｂ）を注射用生理食塩水などの溶剤に溶解し、所望により溶解の前もしくは後にその他の補助成分を配合することにより調製できる。凍結乾燥製剤は、このような液剤を凍結乾燥することにより調製でき、投与するとき再溶解される。
【０１１１】
【発明の効果】
本発明化合物（Ｉ−Ｂ）は、多剤耐性菌に対して優れた作用を有し、抗菌剤として有用である。また、本発明化合物（Ｉ−Ａ）は化合物（Ｉ−Ｂ）の直接的な製造中間体として有用である。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（Ｉ）で表されるプロリン誘導体またはその塩：
【化１】
（式中、Ａ環は環構成原子として１〜４個のヘテロ原子を有し、ベンゼン環と融合していることもある５〜６員の異項環基である。
Ｒ1およびＲ2は同一または異なって、１〜３個のハロゲン原子で置換されていてもよい低級アルキル基、水素原子、低級アルコキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミノ基もしくはアミノカルボニル基（当該アミノ基は保護されているか、低級アルキルでモノもしくはジ置換されていてもよい）、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルカルボニルオキシ基、１〜３個のハロゲン原子で置換されていてもよい低級アルキルスルホニルオキシ基、またはシアノ基を意味するか、Ｒ1が水素原子であり、Ｒ2は５〜６員の飽和または不飽和の環状基（ａ）がＡ環と直接結合しているか、アミノ低級アルキレンもしくはオキシ低級アルキレンを介して結合しており、環状基（ａ）の構成原子としては１〜２個のヘテロ原子を含んでいてもよく、低級アルキル基で置換されていることもある。
Ｒ3およびＲ4は、Ｂ環上のいずれかの位置に結合しており、同一または異なって、水素原子または低級アルキル基であるか、両者が一緒になってオキソ基を形成していてもよい。
ｍは１または２の整数である。
Ｒ5およびＲ6は、同一または異なって、水素原子、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、低級アルキル基、フェニル基、低級アルコキシ基、フェニル低級アルキルオキシ基、保護されていてもよいアミノ基であるか、両者が一緒になって飽和環状基を形成していてもよい。
Ｘは炭素原子、イオウ原子または酸素原子であり、ｎは１または２の整数である。
Ｙは水素原子またはアミノ保護基であるか、次式で表される基（ｂ）である。
【化２】
ここにおいてＲ7はアルキル基またはシクロアルキル低級アルキル基であり、Ｒ8は水素原子またはヒドロキシ保護基である。）
【請求項２】
一般式（Ｉ−Ｂ）で表されるプロリン誘導体またはその塩：
【化３】
（式中、各記号および置換基の定義は請求項１記載の定義と同じである。）
【請求項３】
化合物が次式（Ｉ−Ｃ）で表される請求項２記載のプロリン誘導体またはその塩：
【化４】
（式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ7の定義は請求項１記載の定義と同じであり、Ａ１環は１〜３個の二重結合を有する不飽和５〜６員単環異項環基であり、ここにおけるＺ1、Ｚ2、Ｚ3およびＺ4は同一または異なって、炭素原子、窒素原子、イオウ原子または酸素原子から選択される原子である。但し、Ｚ1、Ｚ2、Ｚ3およびＺ4のいずれか１個は非存在である場合もあり、Ｒ1およびＲ2は、Ａ１環を構成するいずれかの炭素原子と結合しているものとする。）
【請求項４】
化合物が次のいずれかである請求項２記載のプロリン誘導体またはその塩：
化合物（１）：（２Ｓ）−１−｛（２Ｒ）−２−［（Ｎ−ホルミル−Ｎ−ヒドロキシアミノ）メチル］ヘキサノイル｝−２−｛［４−（４−メチル−２−チアゾリル）−１−ピペラジニル］カルボニル｝ピロリジン；
化合物（２）：(２Ｓ)−１−｛（２Ｒ）−３−シクロペンチル−２−[（Ｎ−ホルミル−Ｎ−ヒドロキシアミノ）メチル]プロピオニル｝−２−｛［４−（４−メチル−２−チアゾリル）−１−ピペラジニル］カルボニル｝ピロリジン；
化合物（３）：（３Ｓ）−４−｛（２Ｒ）−２−［（Ｎ−ホルミル−Ｎ−ヒドロキシアミノ）メチル］ヘプタノイル｝−３−｛［４−（２−ピリミジニル）−１−ピペラジニル］カルボニル｝モルホリン。
【請求項１】
一般式（Ｉ）で表されるプロリン誘導体またはその塩：
【化１】
（式中、Ａ環は環構成原子として１〜４個のヘテロ原子を有し、ベンゼン環と融合していることもある５〜６員の異項環基である。
Ｒ1およびＲ2は同一または異なって、１〜３個のハロゲン原子で置換されていてもよい低級アルキル基、水素原子、低級アルコキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミノ基もしくはアミノカルボニル基（当該アミノ基は保護されているか、低級アルキルでモノもしくはジ置換されていてもよい）、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルカルボニルオキシ基、１〜３個のハロゲン原子で置換されていてもよい低級アルキルスルホニルオキシ基、またはシアノ基を意味するか、Ｒ1が水素原子であり、Ｒ2は５〜６員の飽和または不飽和の環状基（ａ）がＡ環と直接結合しているか、アミノ低級アルキレンもしくはオキシ低級アルキレンを介して結合しており、環状基（ａ）の構成原子としては１〜２個のヘテロ原子を含んでいてもよく、低級アルキル基で置換されていることもある。
Ｒ3およびＲ4は、Ｂ環上のいずれかの位置に結合しており、同一または異なって、水素原子または低級アルキル基であるか、両者が一緒になってオキソ基を形成していてもよい。
ｍは１または２の整数である。
Ｒ5およびＲ6は、同一または異なって、水素原子、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、低級アルキル基、フェニル基、低級アルコキシ基、フェニル低級アルキルオキシ基、保護されていてもよいアミノ基であるか、両者が一緒になって飽和環状基を形成していてもよい。
Ｘは炭素原子、イオウ原子または酸素原子であり、ｎは１または２の整数である。
Ｙは水素原子またはアミノ保護基であるか、次式で表される基（ｂ）である。
【化２】
ここにおいてＲ7はアルキル基またはシクロアルキル低級アルキル基であり、Ｒ8は水素原子またはヒドロキシ保護基である。）
【請求項２】
一般式（Ｉ−Ｂ）で表されるプロリン誘導体またはその塩：
【化３】
（式中、各記号および置換基の定義は請求項１記載の定義と同じである。）
【請求項３】
化合物が次式（Ｉ−Ｃ）で表される請求項２記載のプロリン誘導体またはその塩：
【化４】
（式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ7の定義は請求項１記載の定義と同じであり、Ａ１環は１〜３個の二重結合を有する不飽和５〜６員単環異項環基であり、ここにおけるＺ1、Ｚ2、Ｚ3およびＺ4は同一または異なって、炭素原子、窒素原子、イオウ原子または酸素原子から選択される原子である。但し、Ｚ1、Ｚ2、Ｚ3およびＺ4のいずれか１個は非存在である場合もあり、Ｒ1およびＲ2は、Ａ１環を構成するいずれかの炭素原子と結合しているものとする。）
【請求項４】
化合物が次のいずれかである請求項２記載のプロリン誘導体またはその塩：
化合物（１）：（２Ｓ）−１−｛（２Ｒ）−２−［（Ｎ−ホルミル−Ｎ−ヒドロキシアミノ）メチル］ヘキサノイル｝−２−｛［４−（４−メチル−２−チアゾリル）−１−ピペラジニル］カルボニル｝ピロリジン；
化合物（２）：(２Ｓ)−１−｛（２Ｒ）−３−シクロペンチル−２−[（Ｎ−ホルミル−Ｎ−ヒドロキシアミノ）メチル]プロピオニル｝−２−｛［４−（４−メチル−２−チアゾリル）−１−ピペラジニル］カルボニル｝ピロリジン；
化合物（３）：（３Ｓ）−４−｛（２Ｒ）−２−［（Ｎ−ホルミル−Ｎ−ヒドロキシアミノ）メチル］ヘプタノイル｝−３−｛［４−（２−ピリミジニル）−１−ピペラジニル］カルボニル｝モルホリン。
【公開番号】特開２００６−５２１４０（Ｐ２００６−５２１４０Ａ）
【公開日】平成１８年２月２３日（２００６．２．２３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００３−２７０１０（Ｐ２００３−２７０１０）
【出願日】平成１５年２月４日（２００３．２．４）
【出願人】（０００００２９１２）大日本住友製薬株式会社 (332)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年２月２３日（２００６．２．２３）
【国際特許分類】
【出願日】平成１５年２月４日（２００３．２．４）
【出願人】（０００００２９１２）大日本住友製薬株式会社 (332)
【Ｆターム（参考）】
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