ポリマー添加剤含有の多孔質無機材料を提供する。
【解決手段】本発明は、ＳｉＯ_zフレーク、とりわけ、０．７０≦ｚ≦２．０、とりわけ
０．９５≦ｚ≦２．０である多孔質ＳｉＯ_zフレークであって、前記孔中にポリマー添加
剤を含み、このことが高められた（長期間）効能を与えるところの、ＳｉＯ_zフレークに
関する。本発明の他の局面は、それらを調製する方法及びそのようなＳｉＯ_zフレークを
含むポリマー組成物である。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、物理蒸着（ＰＶＤ）により調製されたＳｉＯ_zフレーク、とりわけ、０．７
０≦ｚ≦２．０、とりわけ０．９５≦ｚ≦２．０である多孔質ＳｉＯ_zフレークであって
、前記孔中にポリマー添加剤を含み、このことが高められた（長期間）効能を与えるところの、ＳｉＯ_zフレークに関する。本発明の他の局面は、それらを調製する方法及びその
ようなＳｉＯ_zフレークを含むポリマー組成物である。
【背景技術】
【０００２】
添加剤含有の多孔質材料は例えば、特許文献１及び特許文献２に記載されている。開示される多孔質材料は、抗生金属イオンによりゼオライト中のイオン交換可能なイオンのすべて又は一部を置換することにより調製され得る、抗生ゼオライトである。
マスターバッチ中の又は最終ポリマー中のポリマー添加剤は、幾つかの場合において、移行、滲出又は分解してしまう。このことは、ポリマーの加工中に又はそれらの使用中に、特に化学線及び気候の影響が添加剤及びポリマーの寿命を決定するそれらの屋外での使用において起き得る。
【特許文献１】米国特許第４，０１１，８９８号明細書
【特許文献２】米国特許第４，９３８，９５５号明細書
【発明の開示】
【０００３】
種々のポリマー添加剤が、特定の蒸着プロセスで調製されたＳｉＯ_zフレークに形成さ
れたキャビティー又は孔に配合された場合に、加工及び／又は使用中の改良された効果及び向上した耐久性を示すことが今や見出された。
本発明は、均一性の高い厚さ及び／又は高い有効表面積、高い平面平行度、及び平均厚さの±１０％、好ましくは±５％の範囲にある定義された厚さ及び／又は定義された多孔率を有する多孔質無機材料、とりわけ、多孔質酸化ケイ素に分布されたポリマー添加剤の組成物を提供する。
【０００４】
本発明の一の局面は、
ａ）物理蒸着により調製される多孔質ＳｉＯ_z（ここで、０．７０≦ｚ≦２．０）フレー
クであって、前記孔中に
ｂ）光安定剤、熱安定剤、金属奪活剤、加工安定剤、酸捕捉剤、ブロッキング防止剤、防曇剤、帯電防止剤、難燃剤、親水性の／疎水性の表面改良剤、赤外線反射剤、赤外線吸収剤、核剤、引掻抵抗剤及び熱伝導剤からなる群より選択されるポリマー添加剤
を少なくとも部分的に取り込んでいるフレークを含む組成物である。
【０００５】
用語“ＳｉＯ_z（ここで、０．７０≦ｚ≦２．０）”とは、酸化ケイ素基材の平均値で
のケイ素に対する酸素のモル比が０．７０ないし２．０であることを意味する。酸化ケイ素基材の組成は、ＥＳＣＡ（ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ ｆｏｒ ｃｈｅｍｉｃａｌ ａｎａｌｙｓｉｓ）により決定され得る。酸化ケイ素基材のケイ素と酸素の化学量論比は、ＲＢＳ（Ｒｕｔｈｅｒｆｏｒｄ−Ｂａｃｋｓｃａｔｔｅｒｉｎｇ）により決定され得る。
好ましくは、多孔質ＳｉＯ_z中のｚは０．９５≦ｚ≦２．０である。
本発明に従うと、用語“ポリマー添加剤含有のＳｉＯ_zフレーク”とは、（多孔質）Ｓ
ｉＯ_zフレークの表面すべて、又は表面の一部がポリマー添加剤により被覆されているこ
と、多孔質ＳｉＯ_zフレークの孔又は孔の一部がポリマー添加剤により充填されているこ
と、及び／又はＳｉＯ_zフレークが個々の点として又はそれら一緒のドメインとして被覆
されていることを、含む。好ましくは、多孔質ＳｉＯ_zフレークの孔の５０％以上が充填
されている。ＳｉＯ_zフレークの孔の寸法は約１ないし約５０ｎｍ、とりわけ約２ないし
２０ｎｍの範囲にある多孔質ＳｉＯ_zフレークの製造のための方法により制御され得るの
で、ＳｉＯ_zフレークの孔の中にナノ寸法化された粒子を作ることが例えば可能である。
【０００６】
本発明に従い使用される多孔質のプレート様の（平面平行の）ＳｉＯ_z構造（ＳｉＯ_zフレーク）は、１００ｎｍないし５ｍｍ長、１００ｎｍないし２ｍｍ幅、及び２０ｎｍないし１．５μｍ厚、及び少なくとも２：１の長さ：厚さ比、２つの実質的に平行な表面を有し、該表面の間の間隔が粒子の最短軸である粒子を有する。多孔質ＳｉＯ_zフレークは、
メソ多孔質材料、すなわち約１ないし約５０ｎｍ、とりわけ２ないし２０ｎｍの孔幅を有する。孔は三次元的にランダムに連続している。そのため、支持体として使用される場合、二次元的配列の孔を有するＳｉＯ₂フレーク中で頻繁に起きる通路の閉塞が防止され得
る。ＳｉＯｚフレークの比表面積は多孔率に応じ、及び５０ｍ²／ｇないし１０００ｍ²／ｇの範囲である。好ましくは、多孔質ＳｉＯ_zフレークは、５００ｍ²／ｇを超す、とりわけ６００ｍ²／ｇ以上の比表面積を有する。ＢＥＴ比表面積は、Ｂｒｕｎａｕｅｒ−Ｅｍ
ｍｅｔ−Ｔｅｌｌｅｒ ｍｅｔｈｏｄ（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．６０（１９３８）３０９）を用いて（ＤＩＮ６６１３１又はＤＩＮ６６１３２）、Ｒ．Ｈａｕｌ 及び Ｇ．Ｄｕｍｂｇｅｎ，Ｃｈｅｍ．−Ｉｎｇ．−Ｔｅｃｈｎ．３２（１９６０）３４９及び３５（１０６３）５８６）に従い決定される。
（多孔質）ＳｉＯ_zフレークは、均一の形状のものではない。にもかかわらず、簡略目
的のために、フレークは、“直径”を有するとして言及される。ＳｉＯ_zフレークは、平
面平行性及び平均厚さの±１０％、とりわけ±５％の範囲で定義された厚さを有する。ＳｉＯ_zフレークは、２０ないし２０００ｎｍ、とりわけ１００ないし５００ｎｍの厚さを
有する。フレークの直径は、好ましくはおよそ１ないし６０μｍの範囲にあり、より好ましくはおよそ５ないし４０μｍの範囲であり、及び最も好ましくはおよそ５ないし２０μｍの範囲である。このように、本発明のフレークのアスペクト比は、好ましくはおよそ２．５ないし６２５の範囲であり、より好ましくはおよそ５０ないし２５０の範囲である。
多孔質ＳｉＯ_zフレークはまた粉砕され得るか、又はそれらの使用に先立ち分散剤が添
加され得る。
【０００７】
本発明は、国際公開第０４／０３５６９３号パンフレットに記載される方法に従い調製され得る多孔質でないＳｉＯ_zフレークよりも好ましい多孔質ＳｉＯ_zフレークをベースとしてより詳細に示される。
多孔質ＳｉＯ_zフレークは、ＰＣＴ／ＥＰ２００４／０００１３７に記載の方法により
得られ得る。前記方法は、
ａ）キャリヤーに分離剤を蒸着して、分離剤層を製造する段階、
ｂ）分離剤層（ａ）へのＳｉＯ_y及び分離剤の同時蒸着、
ｃ）分離剤からのＳｉＯ_y（０．７０≦ｙ≦１．８０）の分離
を含む。
プレート様の材料は、わずか２つのプロセスパラメータ：ＳｉＯ_y及び分離剤の混合層
の厚さ並びに混合層中に含まれるＳｉＯ_y量を変えることにより、種々の区別し得る及び
再製造し得る変種で製造され得る。
用語“ＳｉＯ_y（０．７０≦ｙ≦１．８０）”とは、酸化ケイ素層のケイ素に対する酸
素のモル比の平均値が０．７０ないし１．８０であることを意味する。酸化ケイ素層の組成は、ＥＳＣＡ（ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ ｆｏｒ ｃｈｅｍｉｃａｌ ａｎａｌｙｓｉｓ）により決定され得る。酸化シリコン層のケイ素と酸素の化学量は、ＲＢＳ（Ｒｕｔｈｅｒｆｏｒｄ−Ｂａｃｋｓｃａｔｔｅｒｉｎｇ）により決定され得る。
【０００８】
ａ）段階においてキャリヤーに蒸着される分離剤は、ラッカー（表面コーティング）、ポリマー、例えば、米国特許出願公開第６，３９８，９９９号明細書に記載される（熱可
塑性）ポリマー、特にアクリル−又はスチレンポリマー又はそれらの混合物、有機溶媒又は水中に溶解し得る、且つ真空中で揮発し得る有機物質、例えばアントラセン、アントラキノン、アセトアミドフェノール、アセチルサリチル酸、カンファー無水物、ベンズイミダゾール、ベンゼン−１，２，４−トリカルボン酸、ビフェニル−２，２−ジカルボン酸、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ジヒドロキシアントラキノン、ヒダントイン、３−ヒドロキシ安息香酸、８−ヒドロキシキノリン−５−スルホン酸一水和物、４−ヒドロキシクマリン、７−ヒドロキシクマリン、３−ヒドロキシナフタレン−２−カルボン酸、イソフタル酸、４，４−メチレン−ビス−３−ヒドロキシナフタレン−２−カルボン酸、ナフタレン−１，８−ジカルボン酸無水物、フタルイミド及びそのカリウム塩、フェノールフタレイン、フェノチアジン、サッカリン及びその塩、テトラフェニルメタン、トリフェニレン、トリフェニルメタノール又はこれら物質のうち少なくとも２種の混合物であり得る。分離剤は好ましくは、水中に溶解し得及び真空中で揮発し得る無機塩（例えば独国特許１９８４４３５７号明細書参照。）、例えば塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化リチウム、フッ化カルシウム、フッ化ナトリウムアルミニウム及び四ホウ酸二ナトリウム塩である。
【０００９】
詳細には、連続して亜酸化ケイ素（ＳｉＯ_y）及び分離剤の層、とりわけＮａＣｌ又は
有機分離剤を伴う塩例えばＮａＣｌは、＜０．５Ｐａの真空下でベポライザーを経由して通る連続的な金属ベルトであり得るキャリヤーに蒸着される。
亜酸化ケイ素及び分離剤の混合層は、２つの材料のうちの１つで各々充填され、及び、蒸気ビームが重複する、２つの異なるベポライザーにより蒸着され、ここでは分離剤は混合層の総質量に基づき１ないし６０質量％の量で混合層中に含まれる。
蒸着された塩の厚さは、生成物の意図する特性に応じて、およそ２０ｎｍないし１００ｎｍ、とりわけ３０ないし６０ｎｍであり、混合層の厚さは、２０ないし２０００ｎｍ、とりわけ５０ないし５００ｎｍである。
キャリヤーは、溶解槽（水）中に浸漬される。機械的な補助により、分離剤層は急速に溶解し、そして生成した層がフレークへと破砕し、その後懸濁液の形態で溶媒中に存在する。多孔質酸化ケイ素フレークは、米国特許第６，２７０，８４０号明細書に記載される装置を用いて有利に製造され得る。
懸濁液はその後、生成構造物及び溶媒、及びその中に溶解した分離剤を含む２つの場合があり、その後既知の技術に従うさらなる操作において分離される。その目的のために、生成構造物は、液体中でまず濃縮され、そして溶解した分離剤を洗い落とすために新鮮な溶媒を用いて数回すすぎ洗いされる。まだ湿った固体形態の生成物をその後、濾過、沈降、遠心分離、デカンテーション又は蒸発により分離される。
【００１０】
ＳｉＯ_1.00-1.8層は好ましくは、１３００℃以上の温度にてＳｉとＳｉＯ₂の混合物の
反応によりベポライザー中で生成される一酸化ケイ素蒸気から形成される。
ＳｉＯ_0.70-0.99層は好ましくは、１３００℃以上の温度にて、２０質量％までの量で
ケイ素を含む一酸化ケイ素を蒸発させることにより形成される。
多孔質ＳｉＯ_z（ｚ＞１）フレークの製造は、蒸発中にさらに酸素を供給することによ
り達成され得る。この目的のため、真空チャンバに、真空チャンバ中の酸素分圧が一定値に制御され得るガス注入口が設けられ得る。
或いは、乾燥後、生成物は酸化的熱処理にかけられ得る。既知の方法がその目的のために利用され得る。空気又は幾つかの他の酸素含有のガスが、２００℃以上、好ましくは４００℃以上、及びとりわけ５００ないし１０００℃の温度にてばら材料の形態にあるか又は流動床中にある、平面平行構造のＳｉＯ_z（ここで、ｚは、蒸着条件に応じて０．７０
、とりわけ１ないしおよそ１．８である）に通される。生成物はその後、顔料寸法へのフィルム断片の粉砕が、例えば超音波により、又は液体媒体中で高速撹拌機を用いた機械的手段により、又は断片の乾燥後に回転式粉砕機を有するエアジェットミル中で行われるところの、粉砕又は空気篩により所望の粒径にされ得る。
【００１１】
或いは、乾燥後、多孔質ＳｉＯ_y粒子は、国際公開第０３／１０６５６９号パンフレッ
トに従い、酸素を含有しない雰囲気中で、すなわちアルゴン又はヘリウム雰囲気中で、又は１３Ｐａ（１０^-1トール（Ｔｏｒｒ））以下の真空中で、４００℃以上、とりわけ４００ないし１１００℃の温度で加熱され得、それによりＳｉナノ粒子を含む多孔質酸化ケイ素フレークが得られ得る。
酸素を含有しない雰囲気中でＳｉＯ_z粒子を加熱することにより、ＳｉＯ_zはＳｉＯ₂及
びＳｉと不均衡になると推測される：

ＳｉＯ_z→（ｚ／ｚ＋ａ）ＳｉＯ_z+a＋（１−ｚ／ｚ＋ａ）Ｓｉ

この不均衡さにおいて、（１−（ｚ／ｚ＋ａ））Ｓｉ（ここで、０．７０≦ｚ≦２、とりわけ０．７０≦ｚ≦０．９９又は１≦ｚ≦１．８、０．０≦ａ≦１．３０であり、及び数ｚ及びａは２以下である。）を含む多孔質ＳｉＯ_z+aフレークが形成される。ＳｉＯ_z+aは酸素に富む亜酸化ケイ素である。

ＳｉＯ_z→（ｚ／２）ＳｉＯ₂＋（１−（ｚ／２））Ｓｉ

多孔質ＳｉＯ_zフレークは、加工され得るためには５０ｎｍの最小厚を有するべきであ
る。最大厚は所望の用途に応じるが、一般的には、１５０ないし５００ｎｍの範囲にある。フレークの多孔率は５ないし８５％の範囲である。
【００１２】
ＳｉＯ_zフレークの孔へのポリマー添加剤の配合は、拡散、沈澱、共有結合及び／又は
イオン交換により達成され得る。
ポリマー添加剤を含むＳｉＯ_zフレークは、
ａ）ポリマー添加剤の溶液又は分散液中にＳｉＯ_zフレークを分散すること、又はポリマ
ー添加剤をＳｉＯ_zフレークの分散液に添加すること、
ｂ）所望により、ポリマー添加剤をＳｉＯ_zフレークに沈澱させること、及び
ｃ）ポリマー添加剤を含むＳｉＯ_zフレークを単離すること、
からなる方法により得られ得る。
好ましくは、
ａ）ＳｉＯ_zフレークをポリマー添加剤の溶液に添加すること、
ｂ）所望により、ポリマー添加剤をＳｉＯ_zフレークに沈澱させること、及び
ｃ）その後、ポリマー添加剤を含むＳｉＯ_zフレークを単離すること、
からなる方法である。
有利には、ポリマー添加剤が適する溶媒（Ｉ）中にまず溶解され、そしてその後、ＳｉＯ_zフレークが、得られた溶液中に分散されるような手順である。しかしながら、反対に
、ＳｉＯ_zフレークが溶媒（Ｉ）中にまず溶解され、そしてその後、ポリマー添加剤が添
加されそして溶解されることがまた可能である。
【００１３】
最初の溶媒と混和性であり、及びそのためポリマー添加剤の溶解性を低下させて完全に又は殆ど完全に基材に析出させるいかなる溶媒も、溶媒（ＩＩ）として適する。この場合、無機溶媒及びまた有機溶媒が考慮される。積層された基材の単離はその後、慣用の方法、例えば濾去、洗浄及び乾燥により行われ得る。
溶媒として例えば、水、有機溶媒又はそれらの混合物が使用され得る。典型的な有機溶媒は、アルコール、エステル、エーテル、ケトン、脂肪族又は芳香族炭化水素である。
ＳｉＯ_zフレーク中のポリマー添加剤の量は一般的に、ＳｉＯ_zフレークの質量に基づき、０．００１ないし２０．０質量％、とりわけ０．０１ないし１０質量％、非常にとりわけ０．１ないし１０．０質量％である。
本発明において適するポリマー添加剤は、種々の目的又は使用に役立つ。
例えば、ポリマー添加剤は有機ポリマー添加剤である。
【００１４】
用語である光安定剤の下で、ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールＵＶ−吸収剤、ヒドロキシフェニルトリアジンＵＶ−吸収剤、ヒドロキシベンゾフェノンＵＶ−吸収剤、オキサニリドＵＶ−吸収剤及び立体障害性アミン光安定剤又はそれらの混合物のようなＵＶ−吸収剤が理解される。
一般的及び特定の例を以下に与える。ヒドロキシベンゾフェノンは例えば、式Ｉ
【化１】

で表されるものであり；
２−ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールは例えば、式ＩＩａ、ＩＩｂ又はＩＩｃ
【化２】

で表されるものであり；
２−ヒドロキシフェニルトリアジンは例えば、式ＩＩＩ
【化３】

で表されるものであり；
及びオキサニリドは例えば、式（ＩＶ）
【化４】

で表されるものであり、
ここで、
式（Ｉ）で表される化合物において、ｖは１ないし３の整数であり、及びｗは１又は２であり、及び置換基Ｚは互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基又は１ないし１２個の炭素原子を有するアルコキシ基を表し；
式（ＩＩａ）で表される化合物において、Ｒ₁は、水素原子、１ないし２４個の炭素原
子を有するアルキル基、アルキル部分において１ないし４個の炭素原子を有するフェニルアルキル基、５ないし８個の炭素原子を有するシクロアルキル基又は式
【化５】

［式中、Ｒ₄及びＲ₅は互いに独立して、各々の場合において１ないし５個の炭素原子を有するアルキル基を表すか、又はＲ₄は、基Ｃ_nＨ_2n+1-mと一緒に５ないし１２個の炭素原子を有するシクロアルキル基を形成し、
ｍは１又は２であり、ｎは２ないし２０の整数であり、及び
Ｍは式−ＣＯＯＲ₆
（式中、Ｒ₆は、水素原子、１ないし１２個の炭素原子を有するアルキル基、各々アルキ
ル部分及びアルコキシ部分において１ないし２０個の炭素原子を有するアルコキシアルキル基、又はアルキル部分において１ないし４個の炭素原子を有するフェニルアルキル基を表す。）で表される基を表す。］で表される基を表し、
Ｒ₂は、水素原子、ハロゲン原子、１ないし１８個の炭素原子を有するアルキル基、及
びアルキル部分において１ないし４個の炭素原子を有するフェニルアルキル基を表し、及び
Ｒ₃は、水素原子、塩素原子、各々の場合において１ないし４個の炭素原子を有するア
ルキル基又はアルコキシ基、又は−ＣＯＯＲ₆（式中、Ｒ₆は上記定義されたとおりである。）を表し、基Ｒ₁及びＲ₂のうちの少なくとも１つは水素原子以外のものであり；
式（ＩＩｂ）で表される化合物において、Ｔは水素原子又は１ないし６個の炭素原子を有するアルキル基を表し、
Ｔ₁は、水素原子、塩素原子又は各々の場合において１ないし４個の炭素原子を有する
アルキル基又はアルコキシ基を表し、
ｎは１又は２であり、及び
ｎが１である場合、
Ｔ₂は、水素原子又は式−ＯＴ₃又は
【化６】

で表される基を表し、及び
ｎが２である場合、Ｔ₂は式
【化７】

又は−Ｏ−Ｔ₉−Ｏ−で表される基を表し；
ここで、
Ｔ₃は、水素原子、１ないし１８個の炭素原子を有し且つ未置換の或いは１ないし３個
のヒドロキシル基により又は−ＯＣＯＴ₆により置換されたアルキル基、３ないし１８個
の炭素原子を有し、−Ｏ−又は−ＮＴ₆により１箇所又は数箇所中断され、及び未置換で
あるか或いはヒドロキシル基又は−ＯＣＯＴ₆により置換されたアルキル基、５ないし１
２個の炭素原子を有し且つ未置換の或いはヒドロキシル基及び／又は１ないし４個の炭素原子を有するアルキル基により置換されたシクロアルキル基、２ないし１８個の炭素原子を有し且つ未置換の或いはヒドロキシル基により置換されたアルケニル基、アルキル部分において１ないし４個の炭素原子を有するフェニルアルキル基、又は式−ＣＨ₂ＣＨ（Ｏ
Ｈ）−Ｔ₇又は
【化８】

で表される基を表し、
Ｔ₄及びＴ₅は互いに独立して、水素原子、１ないし１８個の炭素原子を有するアルキル基、３ないし１８個の炭素原子を有し且つ−Ｏ−又は−ＮＴ₆により１箇所又は数箇所中
断されたアルキル基、５ないし１２個の炭素原子を有するシクロアルキル基、フェニル基、１ないし４個の炭素原子を有するアルキル基により置換されたフェニル基、３ないし８個の炭素原子を有するアルケニル基、アルキル部分において１ないし４個の炭素原子を有するフェニルアルキル基、又は２ないし４個の炭素原子を有するヒドロキシアルキル基を表し、
Ｔ₆は、水素原子、１ないし１８個の炭素原子を有するアルキル基、５ないし１２個の
炭素原子を有するシクロアルキル基、３ないし８個の炭素原子を有するアルケニル基、フ
ェニル基、１ないし４個の炭素原子を有するアルキル基により置換されたフェニル基、アルキル部分において１ないし４個の炭素原子を有するフェニルアルキル基を表し、
Ｔ₇は、水素原子、１ないし１８個の炭素原子を有するアルキル基、未置換の或いはヒ
ドロキシル基により置換されたフェニル基、アルキル部分において１ないし４個の炭素原子を有するフェニルアルキル基、又は−ＣＨ₂ＯＴ₈を表し、
Ｔ₈は、１ないし１８個の炭素原子を有するアルキル基、３ないし８個の炭素原子を有
するアルケニル基、５ないし１０個の炭素原子を有するシクロアルキル基、フェニル基、１ないし４個の炭素原子を有するアルキル基により置換されたフェニル基、又はアルキル部分において１ないし４個の炭素原子を有するフェニルアルキル基を表し、
Ｔ₉は、２ないし８個の炭素原子を有するアルキレン基、４ないし８個の炭素原子を有
するアルケニレン基、４個の炭素原子を有するアルキニレン基、シクロヘキシレン基、２ないし８個の炭素原子を有し且つ−Ｏ−により１箇所又は数箇所中断されているアルキレン基、又は式−ＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂ＯＴ₁₁ＯＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂−又は−ＣＨ₂
−Ｃ（ＣＨ₂ＯＨ）₂−ＣＨ₂−で表される基を表し、
Ｔ₁₀は、２ないし２０個の炭素原子を有し且つ−Ｏ−により１箇所又は数箇所中断され得るアルキレン基又はシクロヘキシレン基を表し、
Ｔ₁₁は、２ないし８個の炭素原子を有するアルキレン基、２ないし１８個の炭素原子を有し且つ−Ｏ−により１箇所又は数箇所中断されたアルキレン基、１，３−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキシレン基、１，３−フェニレン基又は１，４−フェニレン基を表すか又は
Ｔ₁₀及びＴ₆は、２個の窒素原子と一緒にピペラジン環を表し；
式（ＩＩｃ）で表される化合物において、Ｒ’₂は炭素原子数１ないし１２のアルキル
基を表し、及びｋは１ないし４の数であり；
式（ＩＩＩ）で表される化合物において、ｕは１又は２であり、及びｒは１ないし３の整数であり、
置換基Ｙ₁は互いに独立して、水素原子、ヒドロキシル基、フェニル基又はハロゲン原
子、ハロゲノメチル基、１ないし１２個の炭素原子を有するアルキル基、１ないし１８個の炭素原子を有するアルコキシ基、基−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし１８のアルキル）基により置換された１ないし１８個の炭素原子を有するアルコキシ基を表し；
ｕが１である場合、
Ｙ₂は、１ないし１８個の炭素原子を有するアルキル基、未置換の或いはヒドロキシル
基、ハロゲン原子、１ないし１８個の炭素原子を有するアルキル基又はアルコキシ基により置換されたフェニル基；１ないし１２個の炭素原子を有し且つ−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯＹ₈、−ＣＯＮＨ₂、−ＣＯＮＨＹ₉、−ＣＯＮＹ₉Ｙ₁₀、−ＮＨ₂、−ＮＨＹ₉、−ＮＹ₉Ｙ₁₀
、−ＮＨＣＯＹ₁₁、−ＣＮ及び／又は−ＯＣＯＹ₁₁により置換されたアルキル基；４ないし２０個の炭素原子を有し、１個以上の酸素原子により中断され、及び未置換であるか或いはヒドロキシル基又は１ないし１２個の炭素原子を有するアルコキシ基により置換されたアルキル基、３ないし６個の炭素原子を有するアルケニル基、グリシジル基、未置換であるか或いはヒドロキシル基、１ないし４個の炭素原子を有するアルキル基及び／又は−ＯＣＯＹ₁₁により置換されたシクロヘキシル基、アルキル部分において１ないし５個の炭素原子を有し、及び未置換であるか或いはヒドロキシル基、塩素原子及び／又はメチル基により置換されたフェニルアルキル基、−ＣＯＹ₁₂又は−ＳＯ₂Ｙ₁₃を表し、又は
ｕが２である場合、
Ｙ₂は、２ないし１６個の炭素原子を有するアルキレン基、４ないし１２個の炭素原子
を有するアルケニレン基、キシリレン基、３ないし２０個の炭素原子を有し、１個以上の−Ｏ−原子により中断され、及び／又はヒドロキシル基により中断されたアルキレン基、−ＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂−Ｏ−Ｙ₁₅−ＯＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂、−ＣＯ−Ｙ₁₆−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−Ｙ₁₇−ＮＨ−ＣＯ−又は−（ＣＨ₂）_m−ＣＯ₂−Ｙ₁₈−ＯＣＯ−（Ｃ
Ｈ₂）_mを表し、ここで、
ｍは１、２又は３であり、
Ｙ₈は、１ないし１８個の炭素原子を有するアルキル基、３ないし１８個の炭素原子を
有するアルケニル基、３ないし２０個の炭素原子を有し、１個以上の酸素原子又は硫黄原子或いは−ＮＴ₆−により中断され、及び／又はヒドロキシル基により置換されたアルキ
ル基、１ないし４個の炭素原子を有し、且つ−Ｐ（Ｏ）（ＯＹ₁₄）₂、−ＮＹ₉Ｙ₁₀又は−ＯＣＯＹ₁₁及び／又はヒドロキシル基により置換されたアルキル基、３ないし１８個の炭素原子を有するアルケニル基、グリシジル基、又はアルキル部分に１ないし５個の炭素原子を有するフェニルアルキル基を表し、
Ｙ₉及びＹ₁₀は、互いに独立して、１ないし１２個の炭素原子を有するアルキル基、３
ないし１２個の炭素原子を有するアルコキシアルキル基、４ないし１６個の炭素原子を有するジアルキルアミノアルキル基又は５ないし１２個の炭素原子を有するシクロヘキシル基を表すか、又はＹ₉及びＹ₁₀は一緒に、各々の場合において３ないし９個の炭素原子を
有するアルキレン基、オキサアルキレン基又はアザアルキレン基を表し、
Ｙ₁₁は、１ないし１８個の炭素原子を有するアルキル基、２ないし１８個の炭素原子を有するアルケニル基又はフェニル基を表し、
Ｙ₁₂は、１ないし１８個の炭素原子を有するアルキル基、２ないし１８個の炭素原子を有するアルケニル基、フェニル基、１ないし１２個の炭素原子を有するアルコキシ基、フェノキシ基、１ないし１２個の炭素原子を有するアルキルアミノ基又はフェニルアミノ基を表し、
Ｙ₁₃は、１ないし１８個の炭素原子を有するアルキル基、フェニル基又はアルキル基中に１ないし８個の炭素原子を有するアルキルフェニル基を表し、
Ｙ₁₄は、１ないし１２個の炭素原子を有するアルキル基又はフェニル基を表し、
Ｙ₁₅は、２ないし１０個の炭素原子を有するアルキレン基、フェニレン基又は基−フェニレン−Ｍ−フェニレン−（式中、Ｍは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−，又は−Ｃ（ＣＨ₃）₂−を表す。）を表し、
Ｙ₁₆は、各々の場合において２ないし１０個の炭素原子を有するアルキレン基、オキサアルキレン基又はチアアルキレン基、フェニレン基又は２ないし６個の炭素原子を有するアルケニレン基を表し、
Ｙ₁₇は、２ないし１０個の炭素原子を有するアルキレン基、フェニレン基又はアルキル部分において１ないし１１個の炭素原子を有するアルキルフェニレン基を表し、及び
Ｙ₁₈は、２ないし１０個の炭素原子を有するアルキレン基又は４ないし２０個の炭素原子を有し且つ酸素原子により１箇所又は数箇所中断されたアルキレン基を表し；
式（ＩＶ）で表される化合物において、ｘは１ないし３の整数であり、及び置換基Ｌは互いに独立して、水素原子、各々の場合において１ないし２２個の炭素原子を有するアルキル基、アルコキシ基又はアルキルチオ基、フェノキシ基又はフェニルチオ基を表す。
【００１５】
炭素原子数１ないし１８のアルキル基は、直鎖状であるか又は枝分れ状であり得る。１８個までの炭素原子を有するアルキル基の例は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、第二ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、１−メチルフェニル基、１，３−ジメチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、１，１，３，３−テトラメチルブチル基、１−メチルヘプチル基、３−メチルヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、１，１，３−トリメチルヘキシル基、１，１，３，３−テトラメチルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、１−メチルウンデシル基、ドデシル基、１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルヘキシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基及びオクタデシル基である。
【００１６】
式（ＩＩａ）で表される化合物において、Ｒ₁は、水素原子或いは１ないし２４個の炭
素原子を有するアルキル基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデ
シル基、ノナデシル基及びエイコシル基及びまた対応する枝分れ状の異性体であり得る。さらに、アルキル部分において１ないし４個の炭素原子を有するフェニルアルキル基、例えばベンジル基の他に、Ｒ₁はまた、５ないし８個の炭素原子を有するシクロアルキル基
、例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基及びシクロオクチル基、又は式
【化９】

で表される基であり得、ここで、Ｒ₄及びＲ₅は互いに独立して、各々の場合において１ないし５個の炭素原子を有するアルキル基、特にメチル基を表すか、又はＲ₄は、基Ｃ_nＨ_2n+1-mと一緒に５ないし１２個の炭素原子を有するシクロアルキル基、例えばシクロヘキシル基、シクロオクチル基及びシクロデシル基を形成する。Ｍは、式−ＣＯＯＲ₆（式中、
Ｒ₆は、水素原子のみならず、１ないし１２個の炭素原子を有するアルキル基又はアルキ
ル部分及びアルコキシ部分の各々において１ないし２０個の炭素原子を有するアルコキシアルキル基を表す。）で表される基を表す。適するアルキル基Ｒ₆は、Ｒ₁に対し列挙されたものである。適するアルコキシアルキル基の例は、−Ｃ₂Ｈ₄ＯＣ₂Ｈ₅、−Ｃ₂Ｈ₄ＯＣ₈
Ｈ₁₇及び−Ｃ₄Ｈ₈ＯＣ₄Ｈ₉である。１ないし４個の炭素原子を有するフェニルアルキル基として、Ｒ₆は例えば、ベンジル基、クミル基、α−メチルベンジル基又はフェニルブチ
ル基である。
【００１７】
水素原子及びハロゲン原子、例えば塩素原子及び臭素原子の他に、Ｒ₂はまた、１ない
し１８個の炭素原子を有するアルキル基であり得る。そのようなアルキル基の例は、Ｒ₁
の定義において示されている。Ｒ₂はまた、アルキル部分において１ないし４個の炭素原
子を有するフェニルアルキル基、例えばベンジル基、ａ−メチルベンジル基及びクミル基であり得る。
置換基としてのハロゲン原子は、すべての場合において、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子であり、好ましくは塩素原子又は臭素原子であり、及びより好ましくは塩素原子である。
基Ｒ₁及びＲ₂のうちの少なくとも１つは、水素原子以外のものであるべきである。
水素原子又は塩素原子の他に、Ｒ₃はまた、各々の場合において１ないし４個の炭素原
子を有するアルキル基又はアルコキシ基、例えばメチル基、ブチル基、メトキシ基及びエトキシ基、及びまた−ＣＯＯＲ₆である。
【００１８】
式（ＩＩｂ）で表される化合物において、Ｔは、水素原子又は１ないし６個の炭素原子を有するアルキル基、例えばメチル基及びブチル基であり、Ｔ₁は、水素原子又は塩素原
子のみならず、各々の場合において１ないし４個の炭素原子を有するアルキル基又はアルコキシ基、例えばメチル基、メトキシ基及びブトキシ基であり、及びｎが１である場合、Ｔ₂は、塩素原子又は式−ＯＴ₃又は−ＮＴ₄Ｔ₅である。Ｔ₃は、ここでは、水素原子又は
１ないし１８個の炭素原子を有するアルキル基を表す（すなわちＲ₁の定義である。）。
これらアルキル基は、１ないし３個のヒドロキシル基又は基−ＯＣＯＴ₆により置換され
得る。さらに、Ｔ₃は、−Ｏ−又は−ＮＴ₆−により１箇所又は数箇所中断され且つ未置換であるか或いはヒドロキシル基又は−ＯＣＯＴ₆により置換された３ないし１８個の炭素
原子を有するアルキル基であり得る（すなわちＲ₁の定義である。）。シクロアルキル基
としてのＴ₃の例は、シクロペンチル基、シクロヘキシル基又はシクロオクチル基である
。Ｔ₃はまた、２ないし１８個の炭素原子を有するアルケニル基であり得る。
適するアルケニル基は、Ｒ₁の定義において列挙されたアルキル基から誘導される。こ
れらアルケニル基は、ヒドロキシル基により置換され得る。フェニルアルキル基としてのＴ₃の例は、ベンジル基、フェニルエチル基、クミル基、α−メチルベンジル基又はベン
ジル基である。Ｔ₃はまた、−ＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）−Ｔ₇又は式
【化１０】

で表される基であり得る。
Ｔ₃と同様に、Ｔ₄及びＴ₅は、互いに独立して、水素原子だけでなく、１ないし１８個
の炭素原子を有するアルキル基、３ないし１８個の炭素原子を有し且つ−Ｏ−又は−ＮＴ₆により１箇所又は数箇所中断されたアルキル基を表す。Ｔ₄及びＴ₅はまた、５ないし１
２個の炭素原子を有するシクロアルキル基、例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基及びシクロオクチル基であり得る。アルケニル基としてのＴ₄及びＴ₅の例は、Ｔ₃の列挙
において見られ得る。アルキル部分において１ないし４個の炭素原子を有するフェニルアルキル基としてのＴ₄及びＴ₅の例は、ベンジル基又はフェニルブチル基である。最終的に、これら置換基はまた、１ないし３個の炭素原子を有するヒドロキシアルキル基であり得る。
【００１９】
ｎが２である場合、Ｔ₂は、式
【化１１】

又は−Ｏ−Ｔ₉−Ｏ−で表される二価基を表す。
水素原子の他に、Ｔ₆（上記をも参照のこと。）は、アルキル基、シクロアルキル基、
アルケニル基、アリール基又はフェニルアルキル基であり；そのような基の例はすでに上記で与えられている。
水素原子及びフェニルアルキル基及び上記で言及した長鎖アルキル基の他に、Ｔ₇は、
フェニル基又はヒドロキシフェニル基及びまた−ＣＨ₂ＯＴ₈（式中、Ｔ₈は、列挙された
アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基又はフェニルアルキル基のうちの１つであり得る。）であり得る。
二価基Ｔ₉は、２ないし８個の炭素原子を有するアルキレン基であり得、及びそのよう
な基はまた、枝分れ状であり得る。このことはまた、アルケニレン基及びアルキニレン基Ｔ₉にあてはまる。シクロヘキシレン基の他に、Ｔ₉はまた、式−ＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂ＯＴ₁₁ＯＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂−又は−ＣＨ₂−Ｃ（ＣＨ₂ＯＨ）₂−ＣＨ₂−で表される基であり得る。
Ｔ₁₀は、二価基であり、及びシクロヘキシレン基の他に、２ないし２０個の炭素原子を有し且つ−Ｏ−により１箇所又は数箇所中断され得るアルキレン基を表す。適するアルキレン基は、Ｒ₁の定義で言及されたアルキル基から誘導される。
Ｔ₁₁はまた、アルキレン基を表す。該基は２ないし８個の炭素原子を有しているか、或いは、−Ｏ−により１箇所又は数箇所中断されている場合には４ないし１０個の炭素原子を有する。Ｔ₁₁はまた、１，３−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキシレン基、１，３−フェニレン基又は１，４−フェニレン基を表す。
２個の窒素原子と一緒に、Ｔ₆及びＴ₁₀はまたピペラジン環を表し得る。
【００２０】
式（Ｉ）、（ＩＩａ）、（ＩＩｂ）、（ＩＩｃ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）で表される化合物中のアルキル基、アルコキシ基、フェニルアルキル基、アルキレン基、アルケニレン基、アルコキシアルキル基及びシクロアルキル基、並びにまた、アルキルチオ基、オキ
サアルキレン基又はアゾアルキレン基の例は、上述の記載から推測され得る。
ベンゾトリアゾールＵＶ−吸収剤において、式ＩＩａに従うものが一般に好ましい。
式（Ｉ）、（ＩＩａ）、（ＩＩｂ）、（ＩＩｃ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）のＵＶ吸収剤はそれ自体公知であり、そしてそれらの調製とともに、例えば、国際公開第９６／２８４３１号パンフレット、欧州特許出願公開第３２３４０８号明細書、欧州特許出願公開第５７１６０号明細書、米国特許第５７３６５９７号明細書（欧州特許出願公開第４３４６０８号明細書）、米国特許出願公開第４６１９９５６号明細書、独国特許出願公開第３１３５８１０号明細書及び英国特許出願公開第１３３６３９１号明細書中に記載されている。置換基の好ましい意味及び個々の化合物は、言及された記載から推測され得る。
【００２１】
他の態様において、ヒドロキシフェニルトリアジンの類のＵＶ−吸収剤は、式（ＩＩＩａ）
【化１２】

［式中、
ｎは１又は２であり、
Ｒ₃₀₁、Ｒ’₃₀₁、Ｒ₃₀₂及びＲ’₃₀₂は、互いに独立して、Ｈ、ＯＨ、炭素原子数１ないし１２のアルキル基；炭素原子数２ないし６のアルケニル基；炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基；炭素原子数２ないし１８のアルケノキシ基；ハロゲン原子；トリフルオロメチル基；炭素原子数７ないし１１のフェニルアルキル基；フェニル基；炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基又はハロゲン原子により置換されたフェニル基；フェニキシ基；又は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基又はハロゲン原子により置換されたフェノキシ基を表し；
Ｒ₃₀₃及びＲ₃₀₄は、互いに独立して、Ｈ、炭素原子数１ないし１２のアルキル基；ＯＲ’₃₀₇；炭素原子数２ないし６のアルケニル基；炭素原子数２ないし１８のアルケノキシ
基；ハロゲン原子；トリフルオロメチル基；炭素原子数７ないし１１のフェニルアルキル基；フェニル基；炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基又はハロゲン原子により置換されたフェニル基；フェニキシ基；又は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基又はハロゲン原子により置換されたフェノキシ基を表し；
Ｒ₃₀₆は、水素原子、炭素原子数１ないし２４のアルキル基、炭素原子数５ないし１２
のシクロアルキル基又は炭素原子数７ないし１５のフェニルアルキル基を表し；
ｎ＝１である場合のＲ₃₀₇及びＲ’₃₀₇は、互いに独立して、水素原子又は炭素原子数１ないし１８のアルキル基を表すか、又はＯＨ、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、アリルオキシ基、ハロゲン原子、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯＲ₃₀₈、−ＣＯＮＨ₂、−ＣＯＮＨＲ₃₀₉、−ＣＯＮ（Ｒ₃₀₉）（Ｒ₃₁₀）、−ＮＨ₂、−ＮＨＲ₃₀₉、−Ｎ（Ｒ₃₀₉）（Ｒ₃₁₀）
、−ＮＨＣＯＲ₃₁₁、−ＣＮ、−ＯＣＯＲ₃₁₁、フェノキシ基及び／又は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基又はハロゲン原子により置換されたフェノキシ基により置換された炭素原子数１ないし１２のアルキル基を表すか、又はＲ₃₀₇は、−Ｏ−により中断され且つＯＨにより置換され得る炭素原子数３ないし５
０のアルキル基を表すか：又はＲ₃₀₇は、炭素原子数３ないし６のアルケニル基；グリシ
ジル基；ＯＨ、炭素原子数１ないし４のアルキル基又は−ＯＣＯＲ₃₁₁により置換された
炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；未置換の又はＯＨ、Ｃｌ又はＣＨ₃により
置換された炭素原子数７ないし１１のフェニルアルキル基；−ＣＯ−Ｒ₃₁₂又は−ＳＯ₂−Ｒ₃₁₃を表し；
ｎ＝２である場合のＲ₃₀₇は、炭素原子数２ないし１６のアルキレン基、炭素原子数４
ないし１２のアルケニレン基、キシリレン基、Ｏにより中断され及び／又はＯＨにより置換された炭素原子数３ないし２０のアルキレン基を表すか、又は式−ＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）
ＣＨ₂Ｏ−Ｒ₃₂₀−ＯＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂−、−ＣＯ−Ｒ₃₂₁−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ
−Ｒ₃₂₂−ＮＨ−ＣＯ−又は−（ＣＨ₂）_m−ＣＯＯ−Ｒ₃₂₃−ＯＯＣ−（ＣＨ₂）_m−（式中、ｍは１ないし３の範囲の数である。）を表すか、又は
【化１３】

を表し；
Ｒ₃₀₈は、炭素原子数１ないし１８のアルキル基；炭素原子数２ないし１８のアルケニ
ル基；ヒドロキシエチル基；Ｏ、ＮＨ、ＮＲ₃₀₉又はＳにより中断され及び／又はＯＨに
より置換された炭素原子数３ないし５０のアルキル基；−Ｐ（Ｏ）（ＯＲ₃₁₄）₂、−Ｎ（Ｒ₃₀₉）（Ｒ₃₁₀）又は−ＯＣＯＲ₃₁₁及び／又はＯＨにより置換された炭素原子数１ない
し４のアルキル基；グリシジル基；炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；フェニル基；炭素原子数７ないし１４のアルキルフェニル基又は炭素原子数７ないし１１のフェニルアルキル基を表し；
Ｒ₃₀₉及びＲ₃₁₀は互いに独立して、炭素原子数１ないし１２のアルキル基；炭素原子数３ないし１２のアルコキシアルキル基；炭素原子数４ないし１６のジアルキルアミノアルキル基又は炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基を表すか、又はＲ₃₀₉及びＲ₃₁₀は一緒に、炭素原子数３ないし９のアルキレン基又は−オキサアルキレン基又は−アザアルキレン基を表し；
Ｒ₃₁₁は、炭素原子数１ないし１８のアルキル基；炭素原子数２ないし１８のアルケニ
ル基又はフェニル基；炭素原子数２ないし１２のヒドロキシアルキル基；シクロヘキシル基を表すか；又は−Ｏ−により中断され且つＯＨにより置換され得る炭素原子数３ないし５０のアルキル基を表し；
Ｒ₃₁₂は、炭素原子数１ないし１８のアルキル基；炭素原子数２ないし１８のアルケニ
ル基；フェニル基；炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基；炭素原子数３ないし１８のアルケニルオキシ基；Ｏ、ＮＨ、ＮＲ₃₀₉又はＳにより中断され及び／又はＯＨにより置
換された炭素原子数３ないし５０のアルコキシ基；シクロヘキシルオキシ基；炭素原子数７ないし１４のアルキルフェノキシ基；炭素原子数７ないし１１のフェニルアルコキシ基；フェノキシ基；炭素原子数１ないし１２のアルキルアミノ基；フェニルアミノ基；トリルアミノ基又はナフチルアミノ基を表し；
Ｒ₃₁₃は、炭素原子数１ないし１２のアルキル基；フェニル基；ナフチル基又は炭素原
子数７ないし１４のアルキルフェニル基を表し；
Ｒ₃₁₄は、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、メチルフェニル基又はフェニル基を
表し；
Ｒ₃₂₀は、炭素原子数２ないし１０のアルキレン基；Ｏにより中断された炭素原子数４
ないし５０のアルキレン基、フェニレン基又は−フェニレン−Ｘ−フェニレン−基（式中、Ｘは、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−又は−Ｃ（ＣＨ₃）₂−を表す。）を表し；
Ｒ₃₂₁は、炭素原子数２ないし１０のアルキレン基、炭素原子数２ないし１０のオキサ
アルキレン基、炭素原子数２ないし１０のチアアルキレン基、炭素原子数６ないし１２のアリーレン基又は炭素原子数２ないし６のアルケニレン基を表し；
Ｒ₃₂₂は、炭素原子数２ないし１０のアルキレン基、フェニレン基、トリレン基、ジフ
ェニレンメタン基又は
【化１４】

の基を表し；及び
Ｒ₃₂₃は、炭素原子数２ないし１０のアルキレン基又はＯにより中断された炭素原子数
４ないし２０のアルキレン基を表す。］
で表されるものである。
【００２２】
ハロゲン原子は、すべての場合において、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子である。
アルキル基の例は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、第二ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、１−メチルペンチル基、１，３−ジメチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、１，１，３，３−テトラメチルブチル基、１−メチルヘプチル基、３−メチルヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、１，１，３−トリメチルヘキシル基、１，１，３，３−テトラメチルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、１−メチルウンデシル基、ドデシル基である。
１２個までの炭素原子を有するアルコキシ基の例は、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ペントキシ基、イソペントキシ基、ヘキソキシ基、ヘプトキシ基、オクトキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基である。
アルケノキシ基の例は、プロペニルオキシ基、ブテニルオキシ基、ペンテニルオキシ基及びヘキセニルオキシ基である。
炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基の例は、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基及びシクロドデシル基である。炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基、とりわけシクロヘキシル基が好ましい。
炭素原子数１ないし４のアルキル−置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基は例えば、メチルシクロヘキシル基又はジメチルシクロヘキシル基である。
ＯＨ−及び／又は炭素原子数１ないし１０のアルキル−置換されたフェニル基は例えば、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、第三ブチルフェニル基又は３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル基である。
アルコキシ−置換されたフェニル基は例えば、メトキシフェニル基、ジメトキシフェニル基又はトリメトキシフェニル基である。
炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基の例は、ベンジル基及びフェニルエチル基である。
【００２３】
−ＯＨ及び／又は１０個までの炭素原子を有するアルキル基によりフェニル基上で置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基は例えば、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基、第三ブチルベンジル基又は３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル基である。
アルケニル基の例は、アリル基、２−メタリル基、ブテニル基、ペンテニル基及びヘキセニル基である。アリル基が好ましい。１位における炭素原子は、好ましくは飽和されている。
アルキレン基の例は、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、２，２−ジメチルトリメチレン基、ヘキサメチレン基、トリメチルヘキサメチレン基、オクタメチレン基及びデカメチレン基である。
アルケニレン基の例は、ブテニレン基、ペンテニレン基及びヘキセニレン基である。
炭素原子数６ないし１２のアリーレン基は好ましくはフェニレン基である。
Ｏにより中断されたアルキル基は例えば、−ＣＨ₂−ＣＨ₂−Ｏ−ＣＨ₂−ＣＨ₃、−ＣＨ₂−ＣＨ₂−Ｏ−ＣＨ₃又は−ＣＨ₂−ＣＨ₂−Ｏ−ＣＨ₂−ＣＨ₂−ＣＨ₂−Ｏ−ＣＨ₂−ＣＨ₃である。好ましくは、ポリエチレングリコールから誘導される。一般式は、−（（ＣＨ₂
）_a−Ｏ）_b−Ｈ／ＣＨ₃（式中、ａは１ないし６の数であり、及びｂは２ないし１０の数
である。）である。
炭素原子数２ないし１０のオキサアルキレン基及び炭素原子数２ないし１０のチアアルキレン基は、酸素原子又は硫黄原子により１個以上の炭素原子を置換することによる上記のアルキレン基から推測され得る。
【００２４】
２−ヒドロキシベンゾフェノンの具体的な例は例えば、４−ヒドロキシ基、４−メトキシ基、４−オクチルオキシ基、４−デシルオキシ基、４−ドデシルオキシ基、４−ベンジルオキシ基及び２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体である。
２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾールの具体的な例は例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第二ブチル−５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾレ−２−イルフェノール］；２−［３’−第三ブチル−
５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシ−フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換生成物；Ｒが３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾリ−２−イルフェニル基を表すところの［Ｒ−ＣＨ₂ＣＨ₂−ＣＯＯ−ＣＨ₂ＣＨ₂−］₂−、２−［２’−ヒドロキシ−
３’−（α，α−ジメチルベンジル）−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］ベンゾトリアゾール；２−［２’−ヒドロキシ−３’− （１，１，３，３−
テトラメチルブチル）−５’−（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］ベンゾトリアゾールである。
【００２５】
２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジンの具体的な例は例えば、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシ−プロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、２−｛２−ヒドロキシ−４−［３−（２−エチルヘキシル−１−オキシ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ］フェニル｝−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン及び２−（２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ）フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジンである。
【００２６】
例えばヒドロキシフェニル−トリアジンＵＶ−吸収剤は、式：
【化１５】

【化１６】

【化１７】

【化１８】

【化１９】

【化２０】

【化２１】

【化２２】

【化２３】

【化２４】

【化２５】

【化２６】

で表されるものである。
ヒドロキシフェニルトリアジンＵＶ−吸収剤は既知であり、及び一部は商品である。それらは上記文献に従い調製され得る。
【００２７】
オキサミドの具体的な例は例えば、４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ−第三ブトキサニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ−第三ブトキサニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２’−エトキサニリド及びその２−エトキシ−
２’−エチル−５，４’−ジ−第三ブトキサニリドとの混合物、ｏ−及びｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物及びｏ−及びｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物である。
上記のＵＶ−吸収剤は多くの商品であり、及び例えば、チバスペシャルティケミカルズ社（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ）からのチヌビン（Ｔｉｎｕｖｉｎ）（登録商標）１０９、１７１、３２６、３２７、３２８、３５０、３６０、３８４、４００、４０５、４１１、又はチマソルブ（Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ）（登録商標）８１、又はサイテック社（Ｃｙｔｅｃｈ Ｉｎｃ．）からのシアソルブ（Ｃｙａｓｏｒｂ）（登録商標）として既知である。
多くの場合において、例えばベンゾフェノンＵＶ−吸収剤とベンゾトリアゾールＵＶ−吸収剤、或いは、ヒドロキシフェニルトリアジンＵＶ−吸収剤とベンゾトリアゾールＵＶ−吸収剤のような、異なった類からのＵＶ−吸収剤の組み合わせを使用することが有利であり得る。そのような組み合わせが用いられる場合、２種のＵＶ−吸収剤の間の質量比は例えば、１：５ないし５：１、例えば１：３ないし３：１、特に１：１．５ないし１．５：１である。
【００２８】
立体障害性アミンは、式
【化２７】

（式中、Ｒは、水素原子又はメチル基を表す。）
で表される少なくとも１つの基を含む。
【００２９】
本発明において有用な立体障害性アミン光安定剤は好ましくは、式（Ａ−１）ないし（Ａ−１０）の化合物又は式（Ｂ−１）ないし（Ｂ−１０）の化合物である；
（α−１）式（Ａ−Ｉ）
【化２８】

［式中、
Ｅ₁は、水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、Ｏ・、−ＯＨ、−ＣＨ₂ＣＮ、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルコキシ基、炭素原子数３ないし６のアルケニル基、未置換の又は１、２又は３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基によりフェニル基上で置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；又は炭素原子数１ないし８のアシル基を表し、
ｍ₁は、１、２又は４であり、
ｍ₁が１である場合、Ｅ₂は炭素原子数１ないし２５のアルキル基を表し、
ｍ₁が２である場合、Ｅ₂は、炭素原子数１ないし１４のアルキレン基又は式（ａ−１）
【化２９】

（式中、Ｅ₃は、炭素原子数１ないし１０のアルキル基又は炭素原子数２ないし１０のア
ルケニル基を表し、Ｅ₄は、炭素原子数１ないし１０のアルキレン基を表し、及びＥ₅及びＥ₆は互いに独立して、炭素原子数１ないし４のアルキル基、シクロヘキシル基又はメチ
ルシクロヘキシル基を表す。）
で表される基を表し、及び
ｍ₁が４である場合、Ｅ₂は、炭素原子数４ないし１０のアルカンテトライル基を表す。］
で表される化合物；
【００３０】
（α−２）式（Ａ−２）
【化３０】

［式中、
基Ｅ₇のうちの２つは、−ＣＯＯ−（炭素原子数１ないし２０のアルキル）基を表し、
及び
基Ｅ₇のうちの２つは、式（ａ−ＩＩ）
【化３１】

（式中、Ｅ₈はＥ₁の意味の１つを有する。）
で表される基を表す。］
で表される化合物；
【００３１】
（α−３）式（Ａ−３）
【化３２】

（式中、
Ｅ₉及びＥ₁₀は、一緒に炭素原子数２ないし１４のアルキレン基を形成し、
Ｅ₁₁は、水素原子又は基−Ｚ₁−ＣＯＯ−Ｚ₂を表し、
Ｚ₁は、炭素原子数２ないし１４のアルキレン基を表し、及び
Ｚ₂は、炭素原子数１ないし２４のアルキル基を表し、及び
Ｅ₁₂は、Ｅ₁の意味の１つを有する。）
で表される化合物；
【００３２】
（α−４）式（Ａ−４）
【化３３】

（式中、
基Ｅ₁₃は互いに独立して、Ｅ₁の意味の１つを有し、
基Ｅ₁₄は互いに独立して、水素原子又は炭素原子数１ないし１２のアルキル基を表し、及び
Ｅ₁₅は炭素原子数１ないし１０のアルキレン基又は炭素原子数３ないし１０のアルキリデン基を表す。）
で表される化合物；
【００３３】
（α−５）式（Ａ−５）
【化３４】

（式中、基Ｅ₁₆は互いに独立して、Ｅ₁の意味の１つを有する。）
で表される化合物；
【００３４】
（α−６）式（Ａ−６）
【化３５】

（式中、
基Ｅ₁₇は炭素原子数１ないし２４のアルキル基を表し、及び
基Ｅ₁₈はＥ₁の意味の１つを有する。）
で表される化合物；
【００３５】
（α−７）式（Ａ−７）
【化３６】

［式中、
Ｅ₁₉、Ｅ₂₀及びＥ₂₁は互いに独立して、式（ａ−ＩＩＩ）
【化３７】

（式中、基Ｅ₂₂はＥ₁の意味の１つを有する。）
で表される基を表す。］
で表される化合物；
【００３６】
（α−８）式（Ａ−８）
【化３８】

（式中、
基Ｅ₂₃は互いに独立して、Ｅ₁の意味の１つを有し、及び
Ｅ₂₄は、水素原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基又は炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基を表す。）
で表される化合物；
【００３７】
（α−９）式（Ａ−９）
【化３９】

［式中、
ｍ₂は１、２又は３であり、
Ｅ₂₅は互いに独立して、Ｅ₁の意味の１つを有し、及び
ｍ₂が１である場合、Ｅ₂₆は基
【化４０】

を表し、
ｍ₂が２である場合、Ｅ₂₆は炭素原子数２ないし２２のアルキレン基を表し、及び
ｍ₂が３である場合、Ｅ₂₆は、式（ａ−ＩＶ）
【化４１】

（式中、基Ｅ₂₇は互いに独立して、炭素原子数２ないし１２のアルキレン基を表し、及び基Ｅ₂₈は互いに独立して、炭素原子数１ないし１２のアルキル基又は炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基を表す。）
で表される基を表す。］
で表される化合物；
【００３８】
（α−１０）式（Ａ−１０）
【化４２】

（式中、Ｅ₂₉は互いに独立して、Ｅ₁の意味の１つを有し、及び
Ｅ₃₀は、炭素原子数２ないし２２のアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基、炭素原子数１ないし４のアルキレンジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基、フェニレン基又はフェニレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基を表す。）
で表される化合物；
【００３９】
（β−１）式（Ｂ−１）
【化４３】

［式中、
Ｒ₂₀₁、Ｒ₂₀₃、Ｒ₂₀₄及びＲ₂₀₅は、互いに独立して、水素原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルキル−置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、フェニル基、−ＯＨ及び／又は炭素原子数１ないし１０のアルキル基により置換されたフェニル基；炭素原子
数７ないし９のフェニルアルキル基、−ＯＨ及び／又は炭素原子数１ないし１０のアルキル基によりフェニル基上で置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；又は式（ｂ−Ｉ）
【化４４】

で表される基を表し、
Ｒ₂₀₂は、炭素原子数２ないし１８のアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロア
ルキレン基又は炭素原子数１ないし４のアルキレンジ（Ｂ₅−Ｃ₇シクロアルキレン）基を表すか、又は
基Ｒ₂₀₁、Ｒ₂₀₂及びＲ₂₀₃はそれらが結合される窒素原子と一緒に、５−ないし１０−
員環のヘテロ環式環を形成し、又は
Ｒ₂₀₄及びＲ₂₀₅はそれらが結合される窒素原子と一緒に、５−ないし１０−員環のヘテロ環式環を形成し、
Ｒ₂₀₆は、水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、Ｏ・、−ＯＨ、−ＣＨ₂ＣＮ、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルコキシ基、炭素原子数３ないし６のアルケニル基、未置換の又は１、２又は３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基によりフェニル基上で置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；又は炭素原子数１ないし８のアシル基を表し、及び
ｂ₁は、２ないし５０の数であり、
但し、基Ｒ₂₀₁、Ｒ₂₀₃、Ｒ₂₀₄及びＲ₂₀₅のうちの少なくとも１つは式（ｂ−Ｉ）で表される基を表す。］
で表される化合物；
【００４０】
（β−２）式（Ｂ−２）
【化４５】

［式中、
Ｒ₂₀₇及びＲ₂₁₁は、互いに独立して、水素原子又は炭素原子数１ないし１２のアルキル基を表し、
Ｒ₂₀₈、Ｒ₂₀₉及びＲ₂₁₀は、互いに独立して、炭素原子数２ないし１０のアルキレン基
を表し、及び
Ｘ₁、Ｘ₂、Ｘ₃、Ｘ₄、Ｘ₅、Ｘ₆、Ｘ₇及びＸ₈は、互いに独立して、式（ｂ−ＩＩ）
【化４６】

（式中、Ｒ₂₁₂は、水素原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数５ない
し１２のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、フェニル基、−ＯＨ及び／又は炭素原子数１ないし１０のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、−ＯＨ及び／又は炭素原子数１ないし１０のアルキル基によりフェニル基上で置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表す。）で表される基を表すか；又は上記定義された式（ｂ−Ｉ）で表される基を表し、及び
Ｒ₂₁₃は、Ｒ₂₀₆の意味のうちの１つを有する。）で表される基を表す。］
で表される化合物；
【００４１】
（β−３）式（Ｂ−３）
【化４７】

（式中、
Ｒ₂₁₄は、炭素原子数１ないし１０のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロア
ルキル基、炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、フェニル基又は炭素原子数１ないし１０のアルキル基で置換されたフェニル基を表し、
Ｒ₂₁₅は、炭素原子数３ないし１０のアルキレン基を表し、
Ｒ₂₁₆は、Ｒ₂₀₆の意味のうちの１つを有し、及び
ｂ₂は、２ないし５０の数を表す。）
で表される化合物；
【００４２】
（β−４）式（Ｂ−４）
【化４８】

［式中、
Ｒ₂₁₇及びＲ₂₂₁は、互いに独立して、直接結合又は−Ｎ（Ｘ₉）−ＣＯ−Ｘ₁₀−ＣＯ−
Ｎ（Ｘ₁₁）−基（式中、Ｘ₉及びＸ₁₁は互いに独立して、水素原子、炭素原子数１ないし
８のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基又は式（ｂ−Ｉ）で表される基を表し、Ｘ₁₀は直接結合又は炭素原子数１ないし４のアルキレン基を表す。）を表し、
Ｒ₂₁₈は、Ｒ₂₀₆の意味のうちの１つを有し、
Ｒ₂₁₉、Ｒ₂₂₀、Ｒ₂₂₃及びＲ₂₂₄は互いに独立して、水素原子、炭素原子数１ないし３０のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基又はフェニル基を表し、
Ｒ₂₂₂は、水素原子、炭素原子数１ないし３０のアルキル基、炭素原子数５ないし１２
のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基又は式（ｂ−Ｉ）で表される基を表し、
ｂ₃は１ないし５０の数である。］
で表される化合物；
【００４３】
（β−５）式（Ｂ−５）
【化４９】

（式中、
Ｒ₂₂₅、Ｒ₂₂₆、Ｒ₂₂₇、Ｒ₂₂₈及びＲ₂₂₉は互いに独立して、直接結合又は炭素原子数１
ないし１０のアルキレン基を表し、
Ｒ₂₃₀は、Ｒ₂₀₆の意味のうちの１つを有し、及び
ｂ₄は１ないし５０の数である。）
で表される化合物；
【００４４】
（β−６）式（Ｂ−６−１）
【化５０】

（式中、ｂ’₅、ｂ”₅及びｂ”’₅は互いに独立して、２ないし１２の数である。）
で表されるポリアミンと塩化シアヌルとの反応により得られた生成物と、式（Ｂ−６−２）
【化５１】

（式中、
Ｒ₂₃₁は、水素原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数５ないし１２
のシクロアルキル基、フェニル基又は炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表し、及び
Ｒ₂₃₂は、Ｒ₂₀₆の意味のうちの１つを有する。）
で表される化合物とを反応させて得られ得る生成物（Ｂ−６）；
【００４５】
（β−７）式（Ｂ−７）
【化５２】

（式中、
Ａ₁は、水素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、
Ａ₂は、直接結合又は炭素原子数１ないし１０のアルキレン基を表し、及び
ｎ₁は、２ないし５０の数である。）
で表される化合物；
【００４６】
（β−８）式（Ｂ−８−ａ）及び（Ｂ−８−ｂ）
【化５３】

【化５４】

（式中、ｎ₂及びｎ₂^★は２ないし５０の数である。）
で表される少なくとも１種の化合物；
【００４７】
（β−９）式（Ｂ−９）
【化５５】

（式中、
Ａ₃及びＡ₄は、互いに独立して、水素原子又は炭素原子数１ないし８のアルキル基を表すか、又はＡ₃及びＡ₄は、一緒に炭素原子数２ないし１４のアルキレン基を形成し、及び
変数ｎ₃は、互いに独立して、１ないし５０の数である。）
で表される化合物；及び
【００４８】
（β−１０）式（Ｂ−１０）
【化５６】

（式中、
ｎ₄は２ないし５０の数であり、
Ａ₅は、水素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、
基Ａ₆及びＡ₇は、互いに独立して、炭素原子数１ないし４のアルキル基又は式（ｂ−Ｉ）で表される基を表すが、但し基Ａ₇のうちの少なくとも５０％は式（ｂ−Ｉ）で表され
る基を表す。）
で表される化合物。
【００４９】
３０個までの炭素原子を有するアルキル基の例は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、第二ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、１−メチルペンチル基、１，３−ジメチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、１，１，３，３−テトラメチルブチル基、１−メチルヘプチル基、３−メチルヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、１，１，３−トリメチルヘキシル基、１，１，３，３−テトラメチルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、１−メチルウンデシル基、ドデシル基、１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルヘキシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、ドコシル基及びトリアコンチル基である。Ｅ₁、Ｅ₈、Ｅ₁₂、Ｅ₁₃、Ｅ₁₆、Ｅ₁₈、Ｅ₂₂、Ｅ₂₃、Ｅ₂₅、Ｅ₂₉、Ｒ₂₀₆、Ｒ₂₁₃、Ｒ₂₁₆、Ｒ₂₁₈、Ｒ₂₃₀及びＲ₂₃₂の好ましい定義のうちの１つは、炭素原子数１ないし４のアルキル基、とりわけメチル基である。Ｒ₂₃₁は好ましくはブチル基である。
【００５０】
１８個までの炭素原子を有するアルコキシ基の例は、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ペントキシ基、イソペントキシ基、ヘキソキシ基、ヘプトキシ基、オクトキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基及びオクタデシルオキシ基である。Ｅ₁
の好ましい意味の１つはオクトキシ基である。Ｅ₂₄は好ましくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基であり、及びＲ₂₀₆の好ましい意味の１つはプロポキシ基である。
炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基の例は、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基及びシクロドデシル基である。炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基、とりわけシクロヘキシル基が好ましい。
炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基は例えば、メチルシクロヘキシル基又はジメチルシクロヘキシル基である。
炭素原子数５ないし１２のシクロアルコキシ基の例は、シクロペントキシ基、シクロヘキソキシ基、シクロヘプトキシ基、シクロオクトキシ基、シクロデシルオキシ基及びシクロドデシルオキシ基である。炭素原子数５ないし８のシクロアルコキシ基、特にシクロペントキシ基及びシクロヘキソキシ基が好ましい。
−ＯＨ及び／又は炭素原子数１ないし１０のアルキル基で置換されたフェニル基は例え
ば、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、第三ブチルフェニル基又は３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル基である。
炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基の例は、ベンジル基及びフェニルエチル基である。
【００５１】
−ＯＨにより及び／又は１０個までの炭素原子を有するアルキル基によりフェニル基上で置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基は例えば、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基、第三ブチルベンジル基又は３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル基である。
１０個までの炭素原子を有するアルケニル基の例は、アリル基、２−メタリル基、ブテニル基、ペンテニル基及びヘキセニル基である。アリル基が好ましい。１位の炭素原子は好ましくは飽和されている。
８個以下の炭素原子を含むアシル基の例は、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基、アクリロイル基、メタクリロイル基及びベンゾイル基である。
炭素原子数１ないし８のアルカノイル基、炭素原子数３ないし８のアルケニル基及びベンゾイル基が好ましい。アセチル基及びアクリロイル基がとりわけ好ましい。
２２個までの炭素原子を有するアルキレン基の例は、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、２，２−ジメチルトリメチレン基、ヘキサメチレン基、トリメチルヘキサメチレン基、オクタメチレン基及びデカメチレン基である。
炭素原子数３ないし１０のアルキリデン基の例は、基
【化５７】

である。
炭素原子数４ないし１０のアルカンテトライル基は、１，２，３，４−ブタンテトライル基である。
炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基の例は、シクロヘキシレン基である。
炭素原子数１ないし４のアルキレンジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基の例は、メチレンジシクロヘキシレン基である。
フェニレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基の例は、メチレン−フェニレン−メチレン基又はエチレン−フェニレン−エチレン基である。
【００５２】
基Ｒ₂₀₁、Ｒ₂₀₂及びＲ₂₀₃が、それらが結合される窒素原子と一緒に５−ないし１０−
員環のヘテロ環式環を表す場合、該環は例えば、
【化５８】

である。
６−員環のヘテロ環式環が好ましい。
基Ｒ₂₀₄及びＲ₂₀₅が、それらが結合される窒素原子と一緒に５−ないし１０−員環のヘ
テロ環式環を表す場合、該環は例えば、１−ピロリジル、ピペリジノ、モルホリノ、１−ピペラジニル、４−メチル−１−ピペラジニル、１−ヘキサヒドロアゼピニル、５，５，７−トリメチル−１−ホモピペラジニル又は４，５，５，７−テトラメチル−１−ホモピペラジニルである。モルホリノが特に好ましい。
Ｒ₂₁₉及びＲ₂₂₃の好ましい定義のうちの１つは、フェニル基である。
Ｒ₂₂₆は好ましくは直接結合である。
ｎ₁、ｎ₂、ｎ₂^★及びｎ₄は好ましくは、２ないし２５、特に２ないし２０の数である。
ｎ₃は好ましくは、１ないし２５、特に１ないし２０の数である。
ｂ₁及びｂ₂は好ましくは、２ないし２５、特に２ないし２０の数である。
ｂ₃及びｂ₄は好ましくは、１ないし２５、特に１ないし２０の数である。
ｂ’₅及びｂ”’₅は好ましくは３であり、ｂ”₅は好ましくは２である。
【００５３】
上記化合物は本来既知であり、及び商業上入手可能である。それらのすべてが既知の方法により調製され得る。
該化合物の調製は例えば、米国特許出願公開第５，６７９，７３３号明細書、米国特許出願公開第３，６４０，９２８号明細書、米国特許出願公開第４，１９８，３３４号明細書、米国特許出願公開第５，２０４，４７３号明細書、米国特許出願公開第４，６１９，９５８号明細書、米国特許出願公開第４，１１０，３０６号明細書、米国特許出願公開第４，１１０，３３４号明細書、米国特許出願公開第４，６８９，４１６号明細書、米国特許出願公開第４，４０８，０５１号明細書、旧ソ連特許出願公開第７６８，１７５号明細書（デルウェント（Ｄｅｒｗｅｎｔ）８８−１３８，７５１／２０）、米国特許出願公開第５，０４９，６０４号明細書、米国特許出願公開第４，７６９，４５７号明細書、米国特許出願公開第４，３５６，３０７号明細書、米国特許出願公開第４，６１９，９５６号明細書、米国特許出願公開第５，１８２，３９０号明細書、英国特許出願公開第２，２６９，８１９号明細書、米国特許出願公開第４，４２９２，２４０号明細書、米国特許出願公開第５，０２６，８４９号明細書、米国特許出願公開第５，０７１，９８１号明細書、米国特許出願公開第４，５４７，５３８号明細書、米国特許出願公開第４，９７６，８８９号明細書、米国特許出願公開第４，０８６，２０４号明細書、米国特許出願公開第６，０４６，３０４号明細書、米国特許出願公開第４，３３１，５８６号明細書、米国特許出願公開第４，１０８，８２９号明細書、米国特許出願公開第５，０５１，４５８号明細書、国際公開第９４／１２５４４号パンフレット（デルウェント９４−１７７２７４／２２）、旧東独国特許出願公開第２６２，４３９号明細書（デルウェント８９−１２２９８３／１７）、米国特許出願公開第４，８５７，５９５号明細書、米国特許出願公開第４，５２９，７６０号明細書、米国特許出願公開第４，４７７，６１５号明細書、ＣＡＳ１３６，５０４−９６−６、米国特許出願公開第４，２３３，４１２号明細書、米国特許出願公開第４，３４０，５３４号明細書、国際公開第９８／５１６９０号パンフレット欧州特許出願公開第１８０３号明細書に開示されている。
【００５４】
生成物（Ｂ−６）は、既知の方法と同様に、例えば、１，２−ジクロロエタン、トルエン、キシレン、ベンゼン、ジオキサン又は第三アミルアルコールのような有機溶媒中の無水炭酸リチウム、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウムの存在下、−２０℃ないし＋１０℃、好ましくは−１０℃ないし＋１０℃、特に０℃ないし＋１０℃の温度にて、式（Ｂ−６−１）で表されるポリアミンと塩化シアヌルとを１：２ないし１：４のモル比で２ないし８時間反応させ、その後の得られた生成物と式（Ｂ−６−２）で表される２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミンとの反応により調製され得る。使用される２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミンと式（Ｂ−６−１）で表されるポリアミンのモル比は例えば、４：１ないし８：１である。２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミン量は、１回で又は数時間間隔で１回以上で添加され得る。
式（Ｂ−６−１）で表されるポリアミンと塩化シアヌルと式（Ｂ−６−２）で表される２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミンのモル比は好ましくは、１：３：
５ないし１：３：６である。
【００５５】
以下の例は、好ましい生成物（Ｂ−６−ａ）を調製する１つの方法を示す。
例：
塩化シアヌル２３．６ｇ（０．１２８ｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ’−ビス［３−アミノプロピル］エチレンジアミン７．４３ｇ（０．０４２６ｍｏｌ）及び無水炭酸カリウム１８ｇ（０．１３ｍｏｌ）を、５℃にて１，２−ジクロロエタン２５０ｍＬ中で３時間撹拌しながら反応させる。該混合物を、さらに４時間、室温にて加温する。Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミン２７．２ｇ（０．１２８ｍｏｌ）を添加し、そして得られた混合物を６０℃にて２時間加温する。無水炭酸カリウムさらに１８ｇ（０．１３ｍｏｌ）を添加し、そして該混合物を６０℃にてさらに６時間加温する。僅かな真空（２００ｍｂａｒ）下、蒸留により溶媒を除去し、そしてキシレンに換える。Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミン１８．２ｇ（０．０８５ｍｏｌ）及び粉砕された水酸化ナトリウム５．２ｇ（０．１３ｍｏｌ）を添加し、該混合物を還流下に２時間、及びさらに１２時間加熱し、そして反応中に形成された水を共沸蒸留により除去する。混合物を濾過する。溶液を、水を用いて洗浄し、そしてＮａ₂ＳＯ₄により乾燥する。溶媒を蒸発させ、そして残留物を真空下（０．１ｍｂａｒ）で１２０ないし１３０℃にて乾燥する。所望の生成物が無色樹脂状で得られる。
【００５６】
一般的に、生成物（Ｂ−６）は例えば、式（Ｂ−６−α）、（Ｂ−６−β）又は（Ｂ−６−γ）で表される化合物により表され得る。それはまた、これら３種の化合物の混合物の形態にあり得る。
【化５９】

【化６０】

【化６１】

式（Ｂ−６−α）の好ましい意味は、
【化６２】

である。
式（Ｂ−６−β）の好ましい意味は、
【化６３】

である。
式（Ｂ−６−γ）の好ましい意味は、
【化６４】

である。
上記式（Ｂ−６−α）ないし（Ｂ−６−γ）において、ｂ₅は好ましくは２ないし２０
、特に２ないし１０である。
【００５７】
成分（ｃ）の立体障害性アミン化合物は、好ましくは以下の商品：
ダスティブ（ＤＡＳＴＩＢ）８４５（登録商標）、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）７７０（登録商標）、チヌビンＮＯＲ３７１（登録商標）、チヌビン７６５（登録商標）、チヌビン１４４（登録商標）、チヌビン１２３（登録商標）、チヌビン１１１（登録商標）、チヌビン７８３（登録商標）、チヌビン７９１（登録商標）、マーク（ＭＡＲＫ）ＬＡ５２（登録商標）、マークＬＡ５７（登録商標）、マークＬＡ６２（登録商標）、マークＬＡ６７（登録商標）、ホスタビン（ＨＯＳＴＡＶＩＮ）Ｎ２０（登録商標）、ホスタビンＮ２４（登録商標）、サンドゥバー（ＳＡＮＤＵＶＯＲ）３０５０（登録商標）、サンドゥバー３０５３（登録商標）、サンドゥバー３０５８（登録商標）、ディアセタム（ＤＩＡ
ＣＥＴＡＭ）５（登録商標）、スミソルブ（ＳＵＭＩＳＯＲＢ）ＴＭ６１（登録商標）、ユビヌル（ＵＶＩＮＵＬ）４０４９（登録商標）、サンドゥバーＰＲ３１（登録商標）、グッドライト（ＧＯＯＤＲＩＴＥ）ＵＶ３０３４（登録商標）、グッドライトＵＶ３１５０（登録商標）、グッドライトＵＶ３１５９（登録商標）、グッドライト３１１０×１２８（登録商標）、ユビヌル４０５０Ｈ（登録商標）、チマソルブ（ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ）９４４（登録商標）、チマソルブ２０２０（登録商標）、シアソルブ（ＣＹＡＳＯＲＢ）ＵＶ３３４６（登録商標）、シアソルブＵＶ３５２９（登録商標）、ダスティブ１０８２（登録商標）、チマソルブ１１９（登録商標）、ユバシル（ＵＶＡＳＩＬ）２９９（登録商標）、ユバシル１２５（登録商標）、ユバシル２０００（登録商標）、ユビヌル５０５０Ｈ（登録商標）、リヒトシュツシュストッフ（ＬＩＣＨＴＳＣＨＵＴＺＳＴＯＦＦ）ＵＶ３１（登録商標）、ルケム（ＬＵＣＨＥＭ）ＨＡ Ｂ１８（登録商標）、マークＬＡ６３（登録商標）、マークＬＡ６８（登録商標）、ユバソルブ（ＵＶＡＳＯＲＢ）ＨＡ８８（登録商標）、チヌビン６２２（登録商標）、ホスタビンＮ３０（登録商標）及びフェロ（ＦＥＲＲＯ）ＡＭ８０６（登録商標）
からなる群より選択される。
特に好ましくは、チヌビン７７０（登録商標）、チヌビンＮＯＲ３７１（登録商標）、チヌビン７９１（登録商標）、チヌビン６２２（登録商標）、チヌビン７８３（登録商標）、チマソルブ９４４（登録商標）、チマソルブ２０２０（登録商標）及びチマソルブ１１９（登録商標）である。
最も好ましくは、チヌビン７７０（登録商標）、チヌビン２９２（登録商標）、チヌビン１２３（登録商標）、チヌビン１５２（登録商標）、チヌビンＮＯＲ３７１（登録商標）及びチヌビン７９１（登録商標）である。
【００５８】
式（Ｂ−１）、（Ｂ−３）、（Ｂ−４）、（Ｂ−５）、（Ｂ−６−α）、（Ｂ−６−β）、（Ｂ−６−γ）、（Ｂ−７）、（Ｂ−８−ａ）、（Ｂ−８−ｂ）及び（Ｂ−１０）で表される化合物中の自由原子価を飽和する末端基の意味は、それらの調製に使用される方法に応じる。末端基はまた、化合物の調製後に修飾され得る。
式（Ｂ−１）で表される化合物が、式
【化６５】

（式中、Ｘは例えば、ハロゲン原子、特に塩素原子を表し、及びＲ₂₀₄及びＲ₂₀₅は上記定義されたとおりである。）
で表される化合物と、式
【化６６】

（式中、Ｒ₂₀₁、Ｒ₂₀₂及びＲ₂₀₃は、上記定義されたとおりである。）
で表される化合物とを反応させることにより調製される場合、ジアミノ基に結合された末
端基は、水素原子又は
【化６７】

を表し、及び
トリアジン基に結合された末端基はＸ又は
【化６８】

を表す。
Ｘがハロゲン原子を表す場合、反応が完了した場合に例えば−ＯＨ又はアミノ基により置換されていることが有利である。言及され得るアミノ基の例は、ピロリジニ−１−イル基、モルホリノ基、−ＮＨ₂、−Ｎ（炭素原子数１ないし８のアルキル）₂基及び−ＮＲ（炭素原子数１ないし８のアルキル）基（式中、Ｒは、水素原子又は式（ｂ−Ｉ）で表される基を表す。）である。
【００５９】
式（Ｂ−１）で表される化合物はまた、式
【化６９】

（式中、Ｒ₂₀₁、Ｒ₂₀₂、Ｒ₂₀₃、Ｒ₂₀₄、Ｒ₂₀₅及びｂ₁は上記定義されたとおりであり、及びＲ₂₀₄^★はＲ₂₀₄の意味のうちの１つを有し、及びＲ₂₀₅^★はＲ₂₀₅の意味のうちの１つを有する。）
で表される化合物を包含する。
式（Ｂ−１）で表される特に好ましい化合物のうちの１つは
【化７０】

である。
この化合物の調製は、米国特許第６，０４６，３０４号明細書の実施例１０に記載されている。
【００６０】
式（Ｂ−３）で表される化合物において、ケイ素原子に結合された末端基は例えば、（Ｒ₁₄）₃Ｓｉ−Ｏ−であり得、及び酸素原子に結合された末端基は例えば、−Ｓｉ（Ｒ₁₄
）₃であり得る。
式（Ｂ−３）で表される化合物はまた、ｂ₂が３ないし１０の数である場合、すなわち
構造式中に見られる自由原子価が直接結合を形成する場合、環状化合物の形態にあり得る。
【００６１】
式（Ｂ−４）で表される化合物において、２，５−ジオキソピロリジン環に結合された末端基は例えば、水素原子であり、及び−Ｃ（Ｒ₂₂₃）（Ｒ₂₂₄）−基に結合された末端基は例えば、
【化７１】

である。
【００６２】
式（Ｂ−５）で表される化合物において、カルボニル基に結合された末端基は例えば、
【化７２】

であり、及び酸素原子に結合された末端基は例えば、
【化７３】

である。
【００６３】
式（Ｂ−６−α）、（Ｂ−６−β）及び（Ｂ−６−γ）で表される化合物において、トリアジン基に結合された末端基は例えば、Ｃｌ又は
【化７４】

基であり、及びアミノ基に結合された末端基は例えば、水素原子又は
【化７５】

基である。
【００６４】
式（Ｂ−７）で表される化合物が例えば、式
【化７６】

（式中、Ａ₁は水素原子又はメチル基を表す。）
で表される化合物と、式Ｙ−ＯＯＣ−Ａ₂−ＣＯＯＹ（式中、Ｙは例えば、メチル基、エ
チル基又はプロピル基を表し、及びＡ₂は上記定義されたとおりである。）とを反応させ
ることにより調製される場合、２，２，６，６−テトラメチル−４−オキシピペリジニ−１−イル基に結合された末端基は、水素原子又は−ＣＯ−Ａ₂−ＣＯＯ−Ｙであり、及び
ジアシル基に結合された末端基は、−Ｏ−Ｙ又は
【化７７】

である。
【００６５】
式（Ｂ−８−ａ）で表される化合物において、窒素原子に結合された末端基は例えば水素原子であり得、及び２−ヒドロキシプロピレン基に結合された末端基は例えば、
【化７８】

基であり得る。
式（Ｂ−８−ｂ）で表される化合物において、ジメチレン基に結合された末端基は例えば、−ＯＨであり得、及び酸素原子に結合された末端基は例えば、水素原子であり得る。末端基はまた、ポリエーテル基であり得る。
【００６６】
式（Ｂ−１０）で表される化合物において、−ＣＨ₂−残基に結合された末端基は例え
ば、水素原子であり得、及び−ＣＨ（ＣＯ₂Ａ₇）残基に結合された末端基は例えば、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯＡ₇であり得る。
【００６７】
立体障害性アミンの具体的な例は、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，
６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸の縮合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの直鎖状又は環状縮合物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、１，１’−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの直鎖状又は環状縮合物、２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合物、２−クロロ−４，６−ジ−（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス−（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、４−ヘキサデシルオキシ−と４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの混合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−シクロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの縮合物、１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジン並びに４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの縮合物（ＣＡＳ登録番号［１３６５０４−９６−６］）；Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４．５］デカン、７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４．５］デカンとエピクロロヒドリンの反応生成物、１，１−ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）−２−（４−メトキシフェニル）エテン、Ｎ，Ｎ’−ビス−ホルミル−Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、４−メトキシメチレンマロン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ヒドロキシピペリジンとのジエステル、ポリ［メチルプロピル−３−オキシ−４−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）］シロキサン、マレイン酸無水物−α−オレフィンコポリマーと２，２，６，６−テトラメチル−４−アミノピペリジンとの反応生成物、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−アミノピペリジン、２，４−ビス［Ｎ−（１−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジネ−４−イル）−Ｎ−ブチル−アミノ］−６−（２−ヒドロキシエチル）−アミノ−１，３，５−トリアジン、１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−４−オクタデカノイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジン、５−（２−エチルヘキサノイル）オキシメチル−３，３，５−トリメチル−２−モルホリン又は米国特許第６，１１７，９９５号明細書の実施例２に開示される
【化７９】

（式中、ｎは１ないし１５である。）
である。
【００６８】
上述された立体障害性アミンは既知であり、及び大部分は商品である。用語である熱及び加工安定剤の下では、例えば抗酸化剤、ホスフィット及びラクトンが理解される。熱及び加工安定剤の他の例及び類は以下に与えられる。
【００６９】
１．抗酸化剤
１．１．アルキル化モノフェノール、
例えば、２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール、直鎖状又は側鎖において枝分れしたノニルフェノール、例えば、２，６−ジ−ノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルウンデシ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプタデシ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルトリデシ−１’−イル）フェノール及びそれらの混合物。
【００７０】
１．２．アルキルチオメチルフェノール、
例えば、２，４−ジオクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。
【００７１】
１．３．ヒドロキノン及びアルキル化ヒドロキノン、
例えば、２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ−第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−第三アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ−第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。
【００７２】
１．４．トコフェロール、
例えば、α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロール及びそれらの混合物（ビタミンＥ）。
【００７３】
１．５．ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、
例えば、２，２’−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（３，６−ジ−第二アミルフェノール）、４，４’−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィド。
【００７４】
１．６．アルキリデンビスフェノール、
例えば、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）−フェノール］、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２，２’−メチレンビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−ビス（３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１−ビス−（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
【００７５】
１．７．Ｏ−、Ｎ−及びＳ−ベンジル化合物、
例えば、３，５，３’，５’−テトラ−第三ブチル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート。
【００７６】
１．８．ヒドロキシベンジル化マロネート、
例えば、ジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）−マロネート、ジ−オクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、ジドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−
ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。
【００７７】
１．９．芳香族ヒドロキシベンジル化合物、
例えば、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。
【００７８】
１．１０．トリアジン化合物、
例えば、２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３,５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２
−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。
【００７９】
１．１１．ベンジルホスホネート、
例えば、ジメチル−２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。
【００８０】
１．１２．アシルアミノフェノール、
例えば、４−ヒドロキシラウラニリド、４−ヒドロキシステアラニリド、オクチルＮ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバメート。
【００８１】
１．１３． β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のエステルであって、一価又は多価アルコール、例えば、
メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００８２】
１．１４．β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸のエステルであって、一価又は多価アルコール、例えば、
メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プ
ロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン；３，９−ビス［２−｛３−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカンとのエステル。
【００８３】
１．１５．β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のエステルであって、一価又は多価アルコール、例えば、
メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）−オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００８４】
１．１６．３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸のエステルであって、一価又は多価アルコール、例えば、
メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００８５】
１．１７．β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、例えば、
Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス［２−（３−［３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオニルオキシ）エチル］オキサミド（ユニロイヤル（Ｕｎｉｒｏｙａｌ）によって供給されるナウガード（Ｎａｕｇａｒｄ）（登録商標）ＸＬ−１）。
【００８６】
１．１８．アスコルビン酸（ビタミンＣ）
【００８７】
１．１９．アミン酸化防止剤、
例えば、Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプ
ロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルファモイル）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−（４−第三オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、例えばｐ，ｐ’−ジ−第三オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノール、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス（４−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ−第三ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ビス（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、ビス［４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル］アミン、第三オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、モノ−及びジアルキル化第三ブチル／第三オクチルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化第三ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノ−及びジアルキル化第三ブチル／第三オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−及びジアルキル化第三オクチルフェノチアジンの混合物、Ｎ−アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−１，４−ジアミノブテ−２−エン、Ｎ，Ｎ−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジ−４−イル−ヘキサメチレンジアミン、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジ−４−イル）セバケート、２，２，６，６−テトラメチルピペリジノ−４−オン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジノ−４−オール。
【００８８】
２．金属奪活剤、
例えば、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルオキサミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ’−サリチロイル−ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）オキサリルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）チオプロピオニルジヒドラジド。
【００８９】
３．ホスフィット及びホスホナイト、
例えば、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４，６−トリス（第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキ
サホスホシン、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、２，２’，２”−ニトリロ［トリエチルトリス（３，３’，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）−ホスフィット］、２−エチルヘキシル（３，３’，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット、５−ブチル−５−エチル−２−（２，４，６−トリ−第三ブチルフェノキシ）−１，３，２−ジオキサホスフィラン。
以下のホスフィットがとりわけ好ましい：
トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット（イルガフォス（Ｉｒｇａｆｏｓ）（登録商標）１６８、チバ−ガイギー（Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ））、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、
【化８０】

【化８１】

【化８２】

【化８３】

【化８４】

。
【００９０】
４．ヒドロキシルアミン、
例えば、Ｎ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、水素化牛脂アミンから誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。
【００９１】
５．ニトロン、
例えば、Ｎ−ベンジル−α−フェニルニトロン、Ｎ−エチル−α−メチルニトロン、Ｎ−オクチル−α−ヘプチルニトロン、Ｎ−ラウリル−α−ウンデシルニトロン、Ｎ−テトラデシル−α−トリデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ペンタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ペンタデシルニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘキサデシルニトロン、水素化牛脂アミンから誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンから誘導されたニトロン。
【００９２】
６．チオ相乗剤、
例えば、ジラウリルチオジプロピオネート又はジステアリルチオジプロピオネート。
【００９３】
７．過酸化物捕捉剤、
例えば、β−チオジプロピオン酸のエステル、例えば、ラウリル、ステアリル、ミリスチル又はトリデシルエステル、メルカプトベンゾイミダゾール又は２−メルカプトベンゾイミダゾールの亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
【００９４】
８．ポリアミド安定剤
例えば、ヨウ化物及び／又はリン化合物と組み合わせた銅塩及び二価マンガンの塩。
【００９５】
９．ベンゾフラノン及びインドリノン、
例えば、米国特許第４，３２５，８６３号公報；米国特許第４，３３８，２４４号公報；米国特許第５，１７５，３１２号公報；米国特許第５，２１６，０５２号公報；米国特許第５，２５２，６４３号公報；独国特許出願公開第４３１６６１１号明細書；独国特許出願公開第４３１６６２２号明細書；独国特許出願公開第４３１６８７６号明細書；欧州特許出願公開第０５８９８３９号明細書又は欧州特許出願公開第０５９１１０２号明細書に記載されたもの、或いは、３−［４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、５，７−ジ−第三ブチル−３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラノ−２−オン、３，３’−ビス［
５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラノ−２−オン］、５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラノ−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（２，３−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン。
【００９６】
用語である酸捕捉剤の下では、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩、例えばステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ベヘン酸マグネシウム、ステアリン酸マグネシウム、リシノール酸ナトリウム及びパルミチン酸カリウム、ピロカテコール酸アンチモン又はピロカテコール酸亜鉛が理解される。詳細な記載は、Ｐｌａｓｔｉｃｓ Ａｄｄｉｔｉｖｅｓ Ｈａｎｄｂｏｏｋ，２００１年第５版，Ｈａｎｓ Ｚｗｅｉｆｅｌ，Ｈａｎｓｅｒ（Ｈａｎｓｅｒ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒ マンニッヒ，Ｈａｎｓｅｒ Ｇａｒｄｎｅｒ Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎｓ，Ｉｎｃ．シンシナティ） ＩＳＢＮ ３−４４６−２１６５４−５，第４８４頁ないし第５０９頁に与えられている。
【００９７】
用語であるブロッキング防止剤の下では例えば、シリカ、タルク、ゼオライト、架橋されたポリメチルメタクリレート又はポリメチルシレスキオキサンが理解される。詳細な記載は、Ｐｌａｓｔｉｃｓ Ａｄｄｉｔｉｖｅｓ Ｈａｎｄｂｏｏｋ，２００１年第５版，Ｈａｎｓ Ｚｗｅｉｆｅｌ，Ｈａｎｓｅｒ（Ｈａｎｓｅｒ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒ マンニッヒ，Ｈａｎｓｅｒ Ｇａｒｄｎｅｒ Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎｓ，Ｉｎｃ．シンシナティ） ＩＳＢＮ ３−４４６−２１６５４−５，第５８５頁ないし第６００頁に与えられている。
【００９８】
用語である防曇剤の下では、それ自体縮合物の形成を妨げないポリマー添加剤が理解される。しかしながら、水蒸気が凝縮すると、防曇剤は液滴を形成する代わりに該凝縮物をフィルム表面に平坦に広げそして除く（Ｐｌａｓｔｉｃｓ Ａｄｄｉｔｉｖｅｓ Ｈａｎｄｂｏｏｋ，２００１年第５版，Ｈａｎｓ Ｚｗｅｉｆｅｌ，Ｈａｎｓｅｒ（Ｈａｎｓｅｒ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒ マンニッヒ，Ｈａｎｓｅｒ Ｇａｒｄｎｅｒ Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎｓ，Ｉｎｃ．シンシナティ） ＩＳＢＮ ３−４４６−２１６５４−５，第６０９頁ないし第６２６頁参照。）。
代表的な防曇剤は、グリセロールモノオレエート、ポリグリセロールエステル、ソルビタンエステル、エトキシ化ソルビタンエステル、ノニルフェノールエトキシレート又はエトキシ化アルコールである。
【００９９】
用語である帯電防止剤の下では、熱可塑性ポリマーの導電性を上昇させるポリマー添加剤が理解される。典型的な例は、脂肪酸エステル、エトキシ化アルキルアミン、ジエタノールアミド、エトキシ化アルコール、ポリエーテルエステルアミド及び複合混合物、例えば商標名チバのイルガスタット（Ｉｒｇａｓｔａｔ）（登録商標）Ｐ１８又はＰ２２である。包括的な要約は例えば、Ｐｌａｓｔｉｃｓ Ａｄｄｉｔｉｖｅｓ Ｈａｎｄｂｏｏｋ，２００１年第５版，Ｈａｎｓ Ｚｗｅｉｆｅｌ，Ｈａｎｓｅｒ（Ｈａｎｓｅｒ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒ マンニッヒ，Ｈａｎｓｅｒ Ｇａｒｄｎｅｒ Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎｓ，Ｉｎｃ．シンシナティ） ＩＳＢＮ ３−４４６−２１６５４−５，第６２７頁ないし第６４５頁に与えられる。
【０１００】
用語である難燃剤の下では、ハロゲン化されたリン、ホウ素、ケイ素及びアンチモン化合物、金属水酸化物、金属水和物、金属酸化物及びそれらの混合物から選択される化合物
が理解される。
【０１０１】
本発明の組成物中で使用されるハロゲン化難燃剤は、有機芳香族ハロゲン化化合物、例えばハロゲン化ベンゼン、ビフェニル、フェノール、それらのエーテル又はエステル、ビフェノール、ジフェニルオキシド、芳香族カルボン酸又はポリ酸、それらの無水物、アミド又はイミド；有機脂環式又は多脂環式ハロゲン化化合物；及び有機脂肪族ハロゲン化化合物、例えばハロゲン化パラフィン、オリゴマー又はポリマー、アルキルホスホネート又はアルキルイソシアヌレートより選択され得る。これら成分は大部分が知られており、例えば、米国特許第４，５７９，９０６号明細書（例えば第３コラム、第３０行ないし第４１行）、第５，３９３，８１２号明細書を参照のこと、またＨ．Ｚｗｅｉｆｅｌにより編集されたＰｌａｓｔｉｃｓ Ａｄｄｉｔｉｖｅｓ Ｈａｎｄｂｏｏｋ，第５版，Ｈａｎｓｅｒ Ｐｕｂｌ．マンニッヒ ２００１年，第６８１頁ないし第６９８頁を参照のこと。
【０１０２】
用語である親水性の／疎水性の表面改良剤の下では、イオン性又は非イオン性界面活性剤が理解される。界面活性剤は典型的に、ホスホネート、有機ホウ素化合物、脂肪アルコール、エトキシ化アルコール、エトキシ化フェノールエーテル、フルオロカーボン、シロキサン、エトキシ化シロキサンである。他の例は、国際公開第０２／４２５３０号パンフレットに与えられる。該化合物は、大部分が商品であり、そして例えば、以下の商標名：イルガサーフＨＬ５６０（Ｉｒｇａｓｕｒｆ ＨＬ５６０）（登録商標）、アトマー１０３（Ａｔｍｅｒ１０３）（登録商標）、アトマー５０２（登録商標）、イゲパルＣＯ−２１０（Ｉｇｅｐａｌ ＣＯ−２１０）（登録商標）、イゲパルＣＯ−５２０（登録商標）、ゾニル ＦＳＯ１００（Ｚｏｎｙｌ ＦＳＯ１００）（登録商標）、ゾニル ＦＳＮ１００（登録商標）、ゾニル ＦＴＳ（登録商標）、テゴプレン５８４７（Ｔｅｇｏｐｒｅｎ ５８４７）（登録商標）、テゴプレン５８７８（登録商標）、テゴプレン５８４３（登録商標）及びテゴプレン５８７３（登録商標）の下で、入手可能である。
【０１０３】
用語である赤外線吸収物の下では、赤外線範囲の、好ましくは近赤外線範囲の電磁波を吸収するポリマー添加剤であると理解される。典型的な例は、例えばＣｈｅｍ．Ｒｅｖ．１９９２，９２，第１１９７頁ないし第１２２６頁に記載されるような、フタロシアニン及びナフタロシアニン染料、金属錯体染料、ポリメチン染料、ジフェニルメタン、トリフェニルメタン及び関連する染料、キノン染料、アゾ染料、種々の発色系及びラジカル染料をベースとする。他の例は、特開２００３−３２７８６５号公報、欧州特許出願公開第１３０６４０４号明細書、欧州特許出願公開第１２６６９３１号明細書又はＣｈｅｍｉｃａｌ Ａｂｓｔｒａｃｔ１１７；１１２５２９に開示されている。
【０１０４】
適する核剤は以下に与えられる。慣用の核剤は通常、ポリマー溶融物中で溶解性であり、及びまた透明剤として言及される。
１）芳香族ソルビトールアセタール、例えば：
イルガクリアーＤ（Ｉｒｇａｃｌｅａｒ Ｄ）（登録商標）、ミラッド３９０５（Ｍｉｌｌａｄ３９０５）（登録商標）及びゲルオールＤ（Ｇｅｌ Ａｌｌ Ｄ）（登録商標）として商業上入手可能な１，３：２，４−ビス（ベンジリデン）ソルビトール；
イルガクリアーＤＭ（Ｉｒｇａｃｌｅａｒ ＤＭ）（登録商標）、ミラッド３９４０（Ｍｉｌｌａｄ３９４０）（登録商標）、ＮＣ−６（ミツイ（Ｍｉｔｓｕｉ）（登録商標））及びゲルオールＭＤ（Ｇｅｌ Ａｌｌ ＭＤ）（登録商標）として商業上入手可能な１，３：２，４−ビス（４−メチルベンジリデン）ソルビトール；
ミラッド３９８８（Ｍｉｌｌａｄ３９８８）（登録商標）として商業上入手可能な１，３：２，４−ビス（３，４−ジメチルベンジリデン）ソルビトール；
ＮＣ−４（ミツイ（Ｍｉｔｓｕｉ）（登録商標））として商業上入手可能な１，３：２，４−ビス（４−エチルベンジリデン）ソルビトール。
慣用の核剤の他の例は、一般に核剤（ｎｕｃｌｅａｔｏｒ）として言及される、殆ど溶
解しないか又は不溶性の核剤である。
２）リン酸の塩をベースとした核剤、例えば：
アデカ スタブ ＮＡ１１（Ａｄｅｋａ Ｓｔａｂ ＮＡ１１）（登録商標）及びアデカ スタブ ＮＡ２１（Ａｄｅｋａ Ｓｔａｂ ＮＡ２１）（登録商標）として商業上入手可能な２，２’−メチレン−ビス−（４，６−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフェート。
３）カルボン酸の塩をベースとした核剤、例えば：
安息香酸ナトリウム
シス−エンド−ビシクロ（２．２．１）ヘプタン２，３−ジカルボン酸（ＣＡＳ登録番号３５１８７０−３３−２）＝ＭｉｌｌｉｋｅｎのハイパーフォームＨＰＮ−６８（Ｈｙｐｅｒｆｏｒｍ ＨＰＮ−６８）（登録商標）の二ナトリウム塩；
またロジン／アジエベット（ａｄｉｅｂｅｔｉｃ）酸の塩をベースとした核剤、例えば：
ピネクリスタルＫＭ−１３００（Ｐｉｎｅｃｒｙｓｔａｌ ＫＭ−１３００）（登録商標）；
ピネクリスタルＫＭ−１６００（Ｐｉｎｅｃｒｙｓｔａｌ ＫＭ−１６００）（登録商標）。
４）カルボキシアルミニウム−ヒドロキシドをベースとした核剤、例えば；
サンドスタブ４０３０（Ｓａｎｄｏｓｔａｂ ４０３０）（登録商標）として商業上入手可能なアルミニウムヒドロキシ−ビス［４−（第三ブチル）ベンゾエート］。
５）他の核剤、例えば、プリファー３８８８（Ｐｒｅｆｅｒ３８８８）（登録商標）及びプリファー３８８１（Ｐｒｅｆｅｒ３８８１）（登録商標）として商業上入手可能なモノグリセロール酸亜鉛（ＩＩ）。
【０１０５】
用語である引掻抵抗剤の下では、表面の引掻抵抗性を改良するポリマー添加剤が理解される。典型的な例は、例えば米国特許第６０８０４８９号明細書又は欧州特許出願公開第１２１１２７７号明細書に開示されるようなポリシロキサンである。
【０１０６】
一般的に好ましいのは、ポリマー添加剤が、光安定剤、熱安定剤、加工安定剤、難燃剤、核剤及び帯電防止剤からなる群より選択されるところの組成物である。
特に好ましいのは、ポリマー添加剤が、光安定剤、熱安定剤及び加工安定剤からなる群より選択されるところの組成物である。
【０１０７】
本発明の他の局面は、
ａ）水に又は有機溶媒に又はそれらの混合物にＳｉＯ_zフレークを懸濁すること、
ｂ）溶解されたか又は分散されたポリマー添加剤を、前記ＳｉＯ_z懸濁液に添加すること
、及び
ｃ）ポリマー添加剤含有のＳｉＯ_z（ここで、０．７０≦ｚ≦２．０）フレークを単離す
ること、
からなる、ポリマー添加剤含有のＳｉＯ_zフレークを調製する方法である。
すでに上述したように、ＳｉＯ_zフレークの孔へのポリマー添加剤の配合は、拡散、沈
澱、共有結合及び／又はイオン交換により達成され得る。
配合を支持するために、液体媒体が部分的に又は完全に蒸発され得る。
【０１０８】
本発明のさらに他の局面は、
ａ）熱可塑性ポリマー、弾性ポリマー又は部分架橋されたポリマー；
ｂ）物理蒸着により調製された多孔質ＳｉＯ_z（ここで、０．７０≦ｚ≦２．０）フレー
クであって、前記孔中に
ｃ）光安定剤、熱安定剤、加工安定剤、酸捕捉剤、ブロッキング防止剤、防曇剤、帯電防止剤、難燃剤、親水性の／疎水性の表面改良剤、赤外線反射剤、赤外線吸収剤、核剤、引
掻抵抗剤及び熱伝導剤からなる群より選択されるポリマー添加剤
を少なくとも部分的に取り込んでいる組成物である。
【０１０９】
熱可塑性ポリマー、弾性ポリマー又は部分架橋されたポリマーの例は以下与えられる。
１．モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテ−１−エン、ポリ−４−メチルペンテ−１−エン、ポリビニルシクロヘキサン、ポリイソプレン又はポリブタジエン、並びにシクロオレフィン、例えばシクロペンテン又はノルボルネンのポリマー、ポリエチレン（所望により架橋され得る）、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度及び高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度及び超高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、直鎖状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、（ＶＬＤＰＥ）及び（ＵＬＤＰＥ）。
【０１１０】
ポリオレフィン、すなわち前の段落において例示したモノオレフィンのポリマー、好ましくはポリエチレン及びポリプロピレンは、異なる方法によりそしてとりわけ以下の方法により調製され得る：
ａ）ラジカル重合（通常は高圧下及び高温において）。
ｂ）周期表のＩＶｂ、Ｖｂ、ＶＩｂ又はＶＩＩＩ群の金属の一つ又はそれ以上を通常含む触媒を使用した触媒重合。これらの金属は通常、一つ又はそれ以上の配位子、典型的にはπ−又はσ−配位し得るオキシド、ハロゲン化物、アルコレート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニル及び／又はアリールを有する。これらの金属錯体は遊離形態であるか、又は基材に、典型的には活性化塩化マグネシウム、チタン（ＩＩＩ）クロリド、アルミナ又は酸化ケイ素に固定され得る。これらの触媒は、重合媒体中に可溶又は不溶であり得る。該触媒は重合においてそのまま使用され得、又は他の活性化剤、典型的には金属アルキル、金属ヒドリド、金属アルキルハライド、金属アルキルオキシド又は金属アルキルオキサンであって、該金属が周期表のＩａ、ＩＩａ及び／又はＩＩＩａ群の元素であるものが使用され得る。活性化剤は、他のエステル、エーテル、アミン又はシリルエーテル基で都合良く変性され得る。これらの触媒系は大抵、フィリップス（Ｐｈｉｌｉｐｓ）、スタンダードオイルインディアナ（Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｏｉｌ Ｉｎｄｉａｎａ）、チグラー（Ｚｉｅｇｌｅｒ）（−ナッタ（Ｎａｔｔａ））、ＴＮＺ（デュポン（ＤｕＰｏｎｔ））、メタロセン又はシングルサイト触媒（ＳＳＣ）と命名される。
【０１１１】
２．１）で言及されたポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレン、ポリプロピレンとポリエチレン（例えば、ＰＰ／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）の混合物、及び異なる型のポリエチレンの混合物（例えば、ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
【０１１２】
３．モノオレフィン及びジオレフィンの互いの又は他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレンコポリマー、直鎖状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）及びその低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブテ−１−エンコポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブテ−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、エチレン／ビニルシクロヘキサンコポリマー、エチレン／シクロオレフィンコポリマー（例えば、エチレン／ノルボルネン様ＣＯＣ）、１−オレフィンがその場で生成されるエチレン／１−オレフィンコポリマー；プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／ビニルシクロヘキセンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン／酢酸ビニルコポリマー又はエチレン／アクリル酸コポリマー及びそれらの塩（アイオノマー）並びにエチレンとプロピレン及びへキサジエン、ジシクロペンタジエン又はエチリデン−ノルボルネンのようなジエンとのターポリマー；及びそのようなコポリマーの互いの及び１）で上述したポリマーとの混合物
、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレンコポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸コポリマー（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡ及び交互の又はランダムのポリアルキレン／一酸化炭素コポリマー及びそれらの他のポリマー、例えばポリアミドとの混合物。
【０１１３】
４．水素化変性物（例えば粘着付与剤）を含む炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９）及びポリアルキレン及びデンプンの混合物。
１．）ないし４．）のホモポリマー及びコポリマーは、シンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミ−アイソタクチック又はアタクチックを含むいずれの立体構造をも有し得；例えばアタクチックポリマーが好ましい。ステレオブロックポリマーがまた含まれる。
【０１１４】
５．ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポリ（α−メチルスチレン）。
【０１１５】
６．スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンの全ての異性体、とりわけｐ−ビニルトルエン、エチルスチレン、プロピルスチレン、ビニルビフェニル、ビニルナフタレン、及びビニルアントラセンの全ての異性体、及びそれらの混合物を含む芳香族ビニルモノマーから誘導された芳香族ホモポリマー及びコポリマー。ホモポリマー及びコポリマーはシンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミ−アイソタクチック又はアタクチックを含むいずれの立体構造をも有し得；例えばアタクチックポリマーが好ましい。ステレオブロックポリマーがまた含まれる。
６ａ．上述された芳香族ビニルモノマー及びエチレン、プロピレン、ジエン、ニトリル、酸、マレイン酸無水物、マレイミド、酢酸ビニル及び塩化ビニル又はアクリル誘導体及びその混合物から選択されたコモノマーを含むコポリマー、例えば、スチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／エチレン（共重合体）、スチレン／アルキルメタクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルアクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルメタクリレート、スチレン／マレイン酸無水物、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレート；スチレンコポリマー及び他のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエンポリマー又はエチレン／プロピレン／ジエンターポリマーの高耐衝撃性の混合物；及びスチレン／ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン又はスチレン／エチレン／プロピレン／スチレンのようなスチレンのブロックコポリマー。
６ｂ．６．）で言及されたポリマーの水素化から誘導された水素化芳香族ポリマー、とりわけアタクチックポリスチレンを水素化することにより調製されるポリシクロヘキシルエチレン（ＰＣＨＥ）を含み、それはしばしばポリビニルシクロヘキサン（ＰＶＣＨ）として言及される。
６ｃ．６ａ．）で言及されたポリマーの水素化から誘導された水素化芳香族ポリマー。
ホモポリマー及びコポリマーはシンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミ−アイソタクチック又はアタクチックを含むいずれの立体構造をも有し得；例えばアタクチックポリマーが好ましい。ステレオブロックポリマーがまた含まれる。
【０１１６】
７．スチレン又はα−メチルスチレンのような芳香族ビニルモノマーのグラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレン、ポリブタジエン−スチレン又はポリブタジエン−アクリロニトリルコポリマーにスチレン；ポリブタジエンにスチレン及びアクリロニトリル（又はメタクリロニトリル）；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリル及びメチルメタクリレート；ポリブタジエンにスチレン及びマレイン酸無水物；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリル及びマレイン酸無水物又はマレイミド；ポリブタジエンにスチレン及びマレイミド；ポリブタジエンにスチレン及びアルキルアクリレート又はメタクリレート；エチレン／プロピレン／ジエンターポリマーにスチレン及びアクリロニトリル；ポリアルキルアクリレート又はポリアルキルメタクリレートにスチレン及びアクリロニトリル；アクリレート／ブタジエンコポリマーにスチレン及びアクリロニトリル、並び
にそれらの６）に列挙されたコポリマーとの混合物、例えばＡＢＳ、ＭＢＳ、ＡＳＡ又はＡＥＳポリマーとして既知であるコポリマー混合物。
【０１１７】
８．ポリクロロプレン、塩化ゴム、イソブチレン−イソプレンの塩化及び臭化コポリマー（ハロブチルゴム）、塩化又はスルホ塩化ポリエチレン、エチレン及び塩化エチレンのコポリマー、エピクロロヒドリンホモ−及びコポリマーのようなハロゲン原子含有ポリマー、とりわけハロゲン原子含有ビニル化合物のポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ボリフッ化ビニリデン並びに塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニル又は塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマーのようなそれらのコボリマー。
【０１１８】
９．α，β−不飽和酸から誘導されたポリマー及びポリアクリレート及びポリメタクリレートのようなその誘導体；ブチルアクリレートで耐衝撃改善されたポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミド及びポリアクリロニトリル。
【０１１９】
１０．９）で言及されたモノマーの互いの又は他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル／アルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレート又はアクリロニトリル／ビニルハライドコポリマー又はアクリロニトリル／アルキルメタクリレート／ブタジエンターポリマー。
【０１２０】
１１．不飽和アルコール及びアミンから誘導されたポリマー又はそれらのアシル誘導体又はアセタール、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレート又はポリアリルメラミン；並びに上記１）で言及されたオレフィンとそれらのコポリマー。
【０１２１】
１２．ポリアルキレングリコール、ボリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド又はビスグリシジルエーテルとそれらのコポリマーのような環状エーテルのホモポリマー及びコポリマー。
【０１２２】
１３．ポリオキシメチレン及びコモノマーとしてエチレンオキシドを含むポリオキシメチレンのようなポリアセタール；熱可塑性ポリウレタン、アクリレート又はＭＢＳで変性されたポリアセタール。
【０１２３】
１４．ポリフェニレンオキシド及びスルフィド、及びポリフェニレンオキシドとスチレンポリマー又はポリアミドとの混合物。
【０１２４】
１５．一方はヒドロキシル末端化されたポリエーテル、ポリエステル及びポリブタジエンと、他方は脂肪族又は芳香族のポリイソシアナートから誘導されたポリウレタン、並びにそれらの前駆体。
【０１２５】
１６．ジアミシとジカルボン酸から及び／又はアミノカルボン酸又は対応するラクタムから誘導されたポリアミド及びコポリアミド、例えばポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６／１２、４／６、１２／１２、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミン及びアジピン酸から開始した芳香族ポリアミド；へキサメチレンジアミン及びイソフタル酸及び／又はテレフタル酸から及び変性剤としてのエラストマーを用いて又は用いずに調製されたポリアミド、例えばポリ−２，４，４−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミド又はポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド：及び上述されたポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、アイオノマー又は
化学的に結合されたか又はグラフトされたエラストマーとのブロックコポリマー；又は例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール又はポリテトラメチレングリコールのようなポリエーテルとのブロックコポリマー；並びにＥＰＤＭ又はＡＢＳで変性されたポリアミド又はコポリアミド；及び加工の間に縮合されたポリアミド（ＲＩＭポリアミド系）。
【０１２６】
１７．ポリ尿素、ポリイミド、ボリアミド−イミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポリヒダントイン及びポリベンズイミダゾール。
【０１２７】
１８．ジカルボン酸とジアルコールから及び／又はヒドロキシカルボン酸又は対応するラクトンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート、ポリアルキレンナフタレート（ＰＡＮ）及びポリヒドロキシベンゾエート、並びにヒドロキシル末端化ポリエーテルから誘導されたブロックポリエーテルエステル；及びまたポリカーボネート又はＭＢＳで変性されたポリエステル。
【０１２８】
１９．ポリカーボネート及びポリエステルカーボネート。
【０１２９】
２０．ポリケトン。
【０１３０】
２１．ポリスルホン、ポリエーテルスルホン及びポリエーテルケトン。
【０１３１】
２２．一方ではアルデヒドから、他方ではフェノール、尿素及びメラミンから誘導された架橋ポリマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素／ホルムアルデヒド樹脂、アクリル樹脂型、エポキシ樹脂型、ウレタン樹脂型、粉体型、塩化ゴム型、又はフェノール系塗料及びメラミン／ホルムアルデヒド樹脂。
【０１３２】
２３．セルロース、ゴム、ゼラチンのような天然ポリマー及び化学的に変性されたそれらの同族の誘導体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース及び酪酸セルロース、又はメチルセルロースのようなセルロースエーテル、並びにロジン及びその誘導体。
【０１３３】
２４．前記ポリマーのブレンド（ポリブレンド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭ又はＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６．６及びコポリマー、ＰＡ／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ、ＰＢＴ／ＰＣ／ＡＢＳ又はＰＢＴ／ＰＥＴ／ＰＣ。
【０１３４】
好ましくは、ポリマー成分ａ）は、熱可塑性又は熱硬化性樹脂、例えばポリエチレン（例えばＬＤＰＥ、ＨＤＰＥ又はＭＤＰＥ）、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンコポリマー（ＡＢＳ）、ナイロン、ポリエステル、不飽和ポリエステル（ＵＰ）、ポリ塩化ビニリデン、ポリアミド、スチレン−アクリロニトリルコポリマー（ＳＡＮ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリアセタール、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、アクリル樹脂、フッ素プラスチック、ポリウレタン（ＰＵＲ）、熱可塑性ポリウレタン（ＴＰＵ）、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、レーヨン、尿素ホルムアルデヒド樹脂（ＵＦ）、銅アンモニアレーヨン、アセテート、トリアセテート、ビニリデン、天然又は合成ゴム、又は、親液性塗料、ラッカー、ワニス、及びアルキル樹脂型、アミノアルキド樹脂型、ビニル樹脂型、アクリル樹脂型、エポキシ樹脂型、ウレタン樹脂型、粉体型
、塩化ゴム型、又はフェノール系塗料のような塗料である。
特に好ましくは、ポリマー成分ａ）が熱可塑性ポリマーであるところの組成物である。
特に好ましくは、ポリマー成分ａ）がポリオレフィンであるところの組成物である。
【０１３５】
本発明のＳｉＯ_zフレーク及び所望の他の成分は、別々に又は互いに混合されてポリマ
ー材料に添加され得る。所望により、個々の成分は、例えばドライブレンド、圧縮又は溶融により、ポリマーへと配合される前に互いに混合され得る。
本発明のＳｉＯ_zフレーク及び所望の他の成分のポリマーへの配合は、粉体形態でのド
ライブレンド、又は例えば不活性溶媒、水又はオイル中の溶液分散液又は懸濁液形態での湿式混合のような既知の方法により行われる。本発明のＳｉＯ_zフレーク及び所望の他の
添加剤は、例えば、成形の前後に配合され得るか、又は溶解されたか又は分散されたＳｉＯ_zフレークをポリマー材料に、その後の溶媒又は懸濁／分散剤の蒸発を伴って又は伴わ
ずに塗布され得る。それらは、例えば乾燥混合物又は粉体として或いは溶液又は分散液又は懸濁液又は溶融物として、加工機器（例えば押出機、内部混合機等）内に直接に加えられ得る。
配合は、スターラー付きのいかなる加熱可能な容器内、例えばニーダー、混合機又は撹拌容器のような密閉型の機器内でも行われ得る。配合は好ましくは、押出機内又はニーダー内で行われる。加工は、不活性雰囲気下で行われても又は酸素の存在下で行われてもよい。
ポリマーへのＳｉＯ_zフレークの添加は、ポリマーが添加剤とともに溶融され及び混合
されるすべての慣用の混合機内で行われ得る。適する機械は当業者に既知である。それらは優先的に、混合機、ニーダー及び押出機である。
【０１３６】
前記のプロセスは、好ましくは加工の間にＳｉＯ_zフレークを導入することにより押出
機内で行われる。
特に好ましい加工機器は、一軸スクリュー押出機、同じ又は反対方向に回転するスクリューを有する二軸スクリュー押出機、遊星ギア押出機、リング押出機又はコニーダーである。真空が適用され得る少なくとも１つの脱ガス領域を有する加工機を使用することがまた可能である。
適切な押出機及びニーダーはとりわけ、Ｈｕｎｄｂｕｃｈ ｄｅｒ Ｋｕｎｓｔｓｔｏｆｆｅｘｔｒｕｓｉｏｎ，１巻 Ｇｒｕｎｄｌａｇｅｎ，編集者Ｆ．Ｈｅｎｓｅｎ，Ｗ．Ｋｎａｐｐｅ及びＨ．Ｐｏｔｅｎｔｅ，１９８９年，３ないし７頁，ＩＳＢＮ：３−４４６−１４３３９−４（２巻 Ｅｘｔｒｕｓｉｏｎｓａｎｌａｇｅｎ １９８６，ＩＳＢＮ
３−４４６−１４３２９−７）に記載される。
例えば、スクリュー長はスクリュー径の１ないし６０倍であり、そして好ましくはスクリュー径の３５ないし４８倍である。スクリューの回転速度は好ましくは分あたり１０ないし６００回転（ｒｐｍ）であり、そして非常に特に好ましくは２５ないし３００ｒｐｍである。
最大処理量は、スクリュー径、回転速度及び駆動力による。本発明の方法はまた、言及されたパラメータを変えることにより、又は計量供給装置を用いて操作することにより最大処理量より低く行われ得る。
多数の成分が添加される場合、これらはプレミックスで又は個々に添加され得る。
【０１３７】
本発明のＳｉＯ_zフレーク及び所望の他の添加剤は、ポリマー材料に噴霧され得る。そ
れらは他の添加剤（例えば上述の慣用の添加剤）又はそれらの溶融物を希釈し得るため、これら添加剤とともにポリマー材料に噴霧され得る。重合触媒の失活の間の噴霧による添加が特に有利であり；この場合、発生した蒸気が触媒の失活のために使用され得る。球状に重合されたポリオレフィンの場合、例えば、本発明のＳｉＯ_zフレークを、所望により
他の添加剤と一緒に噴霧により塗布することが有利である。
本発明のＳｉＯ_zフレーク及び所望の他の添加剤はまた、前記ポリマーに、例えばおよ
そ１％ないしおよそ４０％及び好ましくは２％ないしおよそ２０％の濃度で成分を１種のポリマー中に含むマスターバッチ（“濃縮物”）の形態で、添加され得る。該ポリマーは、添加剤が最終的に添加されるポリマーと同一の構造である必要はない。そのような操作において、該ポリマーは、粉体、顆粒、溶液、懸濁液の形態で、又はラテックスの形態で使用され得る。
配合は、造形操作に先立ち又はその最中に行われ得、又はその後の溶媒の蒸発を伴って又は伴わずに、溶解されたか又は分散されたＳｉＯ_zフレークをポリマーに塗布すること
により行われ得る。エラストマーの場合、これらはまたラテックスとして安定化され得る。ポリマーへ本発明のＳｉＯ_zフレークを配合するための他の可能性は、対応するモノマ
ーの重合の前、最中又は直後に、或いは架橋前に添加することである。これに関連して、本発明のＳｉＯ_zフレークは、そのまま又はカプセル化された形態（例えばワックス、オ
イル又はポリマー中に）で添加され得る。
【０１３８】
本明細書で記載される本発明のＳｉＯ_zフレークを含む材料は、成形品、回転成形品、
射出成形品、吹込成形品、フィルム、テープ、モノフィラメント、繊維、不織布、異形材、接着剤又はパテ、表面コーティング等の製造に使用され得る。
【０１３９】
配合されたポリマー添加剤から得られる上述の効果の他に、ＳｉＯ_zフレークそれ自体
から得られる付加的な利点がある。ＳｉＯ_zフレークの多孔質形態により、それらは触媒
捕捉剤又は酸素捕捉剤として作用し得る。それらは、ポリマーの機械的特性を強化し、及び付加的なガス遮断特性を与える。他の用途領域は、ガス分離用メンブレンに、燃料セルのための水素貯蔵に、アエロゲル又は細胞増殖のための支持体としての二次加工にあり得る。
【０１４０】
ＰＣＴ／ＥＰ２００４／０００１３７の実施例１と同様に行われた以下の実施例が、本発明を例示する。
【実施例】
【０１４１】
実施例１
真空チャンバ（＜１０^-1Ｐａ）内に配置された２個の別個のエバポレータにそれぞれ、ＳｉＯ及びＮａＣｌ粉末を供給した。アルミニウム箔を機械的に付けた回転キャリヤーを、エバポレータの上に配置した。アルミニウム箔上にＮａＣｌ層（９０nm）を最初に昇華させた。その後、ＳｉＯエバポレータを加熱すると、塩がまだ昇華しているうちにＳｉＯが昇華し始めた。このようにして、ＮａＣｌ層上に塩及びＳｉＯが同時に昇華した。塩及びＳｉＯの同時蒸発を厚さが３００nmに達するまで続けた。昇華を終了し、キャリヤーのアルミニウム箔を取り外し、蒸留水に浸漬した。ＮａＣｌ層及びＳｉＯマトリックス中に含有された塩を水に溶解し、これにより酸化ケイ素フレークを得た。多孔質ＳｉＯ_zフレ
ークを、酸化ケイ素フレークを空気中で５００℃より高い温度で、数時間加熱することにより得ることができた。
結果：ＢＥＴ＝７１２ｍ²／ｇ及び３０ｎｍまでの孔寸法を有する多孔質ＳｉＯ_z。
【０１４２】
実施例２
５０ｍＬトルエン中の０．１ｇチヌビン（Ｔｉｎｕｖｉｎ）３２８（チバ スペシャルティ ケミカルズ（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ）のベンゾトリアゾールＵＶ吸収剤）の溶液を調製し、そして実施例１の多孔質ＳｉＯ_zフレーク２．０
ｇを、連続して撹拌しながらゆっくりと添加した。懸濁液を室温で７日間撹拌し、濾過し、脱イオン水及びメタノールを用いてすすぎ洗いした。残留物を真空下に３５℃にて乾燥した。
得られた多孔質ＳｉＯ_zフレークを、その後に促進曝露試験にかけられるポリエチレン
フィルムに配合した。該フィルムは、ＳｉＯ_zフレークを含まないフィルムと比較して改
良された耐候性を示した。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）物理蒸着（ＰＶＤ）により調製される多孔質ＳｉＯ_z（ここで、０．７０≦ｚ≦２．
０）フレークであって、前記孔中に
ｂ）光安定剤、熱安定剤、金属奪活剤、加工安定剤、酸捕捉剤、ブロッキング防止剤、防曇剤、帯電防止剤、難燃剤、親水性の／疎水性の表面改良剤、赤外線反射剤、赤外線吸収剤、核剤、引掻抵抗剤及び熱伝導剤からなる群より選択されるポリマー添加剤
を少なくとも部分的に取り込んでいるフレークを含む、組成物。
【請求項２】
前記多孔質ＳｉＯ_zフレークの表面は、５００ｍ²／ｇよりも大きいところの、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記ＳｉＯ_zフレーク中のポリマー添加剤の量は、ＳｉＯ_zフレークの質量に基づき０．００１ないし２０．０質量％である、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記ポリマー添加剤は、光安定剤、熱安定剤、加工安定剤、難燃剤、核剤及び帯電防止剤からなる群より選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
前記ポリマー添加剤は、光安定剤、熱安定剤及び加工安定剤からなる群より選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
ａ）水に又は有機溶媒に又はそれらの混合物にＳｉＯ_zフレークを懸濁すること、
ｂ）溶解されたか又は分散された請求項１に記載のポリマー添加剤を、前記ＳｉＯ_z懸濁
液に添加すること、及び
ｃ）ポリマー添加剤含有のＳｉＯ_z（ここで、０．７０≦ｚ≦２．０）フレークを単離す
ること、
からなる、請求項１に記載のポリマー添加剤含有のＳｉＯ_zフレークを調製する方法。
【請求項７】
ａ）熱可塑性ポリマー、弾性ポリマー又は部分架橋されたポリマー；
ｂ）物理蒸着により調製された多孔質ＳｉＯ_z（ここで、０．７０≦ｚ≦２．０）フレー
クであって、前記孔中に
ｃ）光安定剤、熱安定剤、加工安定剤、酸捕捉剤、ブロッキング防止剤、防曇剤、帯電防止剤、難燃剤、親水性の／疎水性の表面改良剤、赤外線反射剤、赤外線吸収剤、核剤、引掻抵抗剤及び熱伝導剤からなる群より選択されるポリマー添加剤
を少なくとも部分的に取り込んでいるフレークを含む組成物。
【請求項８】
前記成分ａ）のポリマーは、ポリエチレン（例えばＬＤＰＥ、ＨＤＰＥ又はＭＤＰＥ）、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンコポリマー（ＡＢＳ）、ナイロン、ポリエステル、不飽和ポリエステル（ＵＰ）、塩化ポリビニリデン、ポリアミド、スチレン−アクリロニトリルコポリマー（ＳＡＮ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリアセタール、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、アクリル樹脂、フッ素樹脂、ポリウレタン（ＰＵＲ）、熱可塑性ポリウレタン（ＴＰＵ）、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、レーヨン、尿素ホルムアルデヒド樹脂（ＵＦ）、銅アンモニアレーヨン、アセテート、トリアセテート、ビニリデン、天然又は合成ゴムのような熱可塑性又は熱硬化性樹脂、或いは、親液性塗料、ラッカー、ワニス、及びアルキル樹脂型、アミノアルキド樹脂型、ビニル樹脂型、アクリル樹脂型、エポキシ樹脂型、ウレタン樹脂型、粉体型、塩素化ゴム型、又はフェノール系塗料のような塗料である、請求項７に記載の組成物。
【請求項９】
前記成分ａ）のポリマーは、熱可塑性ポリマーである、請求項７に記載の組成物。
【請求項１０】
前記成分ａ）のポリマーは、ポリオレフィンである、請求項７に記載の組成物。

【公表番号】特表２００８−５０６８０２（Ｐ２００８−５０６８０２Ａ）
【公表日】平成２０年３月６日（２００８．３．６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−５２０８１２（Ｐ２００７−５２０８１２）
【出願日】平成１７年７月６日（２００５．７．６）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００５／０５３２１６
【国際公開番号】ＷＯ２００６／００８２４０
【国際公開日】平成１８年１月２６日（２００６．１．２６）
【出願人】（３９６０２３９４８）チバ　スペシャルティ　ケミカルズ　ホールディング　インコーポレーテッド (530)
【氏名又は名称原語表記】Ｃｉｂａ　Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ　Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ　Ｈｏｌｄｉｎｇ　Ｉｎｃ．
【Ｆターム（参考）】