説明

モジュレータ、モジュレータを利用した光場データの取得装置、モジュレータを利用した光場データの処理装置及び方法

【課題】 モジュレータ、モジュレータを利用した光場データの取得装置、モジュレータを利用した光場データの処理装置及び方法を提供する。
【解決手段】 複数の画像について光場のデータを取得して処理する技術が開示される。1側面による光場のデータの取得装置は、ある画像の4次元の光場を空間変調する減衰パターンを含むモジュレータと、空間変調された4次元の光場の2次元信号を取得するセンサーとを含む。モジュレータの減衰パターンによって低い角周波数領域の空間データが高い角周波数領域の空間データに比べて多く取得される。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、映像処理に係り、より詳細には、周波数領域で4次元(4D)光場を空間的に変調するモジュレータを用いて光場データを取得し、該取得された光場データの処理に関する。
【背景技術】
【0002】
現在、商用化された画像形成システムは、一つの画像において捕捉されたピクチャを示す。しかし、最近、画像をリフォーカスするプレノプティックカメラ(plenoptic camera)が研究されている。プレノプティックカメラは、オプティカルフィールドカメラと呼ばれ、マイクロレンズアレイ(通常、レンチキュラーレンズアレイ)を用いて画像に対する4次元(4D)の光場の情報を取得する。このようなプレノプティックカメラは、撮影後、画像の焦点面が調節されるのを可能にする、画像をリフォーカスする機能と、異なる視野角で画像のバリエーションを見る機能をユーザに提供する。
【0003】
しかし、このような光場のデータの取得方法によれば、センサーピクセルの個数に対応する空間データだけではなく、光の方向に該当する角度データも同時に取得するので、角度データほどの解像度低下が発生する。したがって、既存の光場の画像形成は、高解像度画像を生成することができない。なぜならば、4Dデータは、2次元(2D)センサーから受信される2次元(2D)空間データと2D角度データとの和であるので、空間データの解像度は、角度データの量ほど低下するためである。例えば、メインレンズの方向分解能の大きさ、すなわち、角度データが12×12(すなわち、144個)が必要な場合、取得される解像度は、全体センサーピクセルに該当する解像度に比べて1/144倍になる。
【0004】
また、既存の光場システムは、空間データに対する均一なサンプリングを適用する。光場システムは、マイクロレンズアレイ又は光モジュレータを利用する。マイクロレンズアレイは、同じサイズを有するマイクロレンズが配列されている構造によって均一なサンプリングを経る。同様に、光モジュレータの場合に、空間及び角度帯域幅が均一に割り当てられるという仮定下で均一なサンプリングが利用される。
【0005】
すなわち、光場を空間的に変調する既存のモジュレータは、周波数領域で方位データの各バンドに対して空間データが同一の帯域幅を有するという仮定下で設計された。したがって、そのような既存のモジュレータによって生成された周波数応答は、空間データに対して均一な間隔で表われる。
【0006】
しかし、光場のデータの画像情報が、周波数領域に変換される時、さらに高い周波数領域には、空間データがさらに少なくなる現象が起きる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
本発明が解決しようとする課題は、光場のデータを用いて高解像度の映像を生成する映像処理装置及び方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0008】
一側面による画像を生成する光場(optical field)のデータを取得する装置は、4次元の光場の画像を空間変調する減衰パターンを含むモジュレータと、空間変調された4次元の光場の2D信号を取得するセンサーとを含む。ここで、減衰パターンは、周波数領域における空間変調により、位置に依存して、2次元信号の周波数応答を生成する。
【0009】
モジュレータは、透明層と、透明層上に設けられるメタル層とを含み、メタル層は、減衰パターンを形成して透明層を通過した光を異なる大きさに減衰させる。減衰パターンは、減衰パターンを形成するユニットパターンを複数のセクションに分割する時、該分割された複数のセクションを遮蔽した程度によって複数のグレイスケールの値を形成するように構成することができる。
【0010】
他の側面による画像を生成する光場のデータの処理装置は、4次元の光場の画像を空間変調する減衰パターンを含むモジュレータと、空間変調された4次元の光場の2次元信号を取得するセンサーと、2次元信号を用いて4次元の光場のデータを復元するデータ処理部とを含む。
【0011】
データ処理部は、センサーによって感知された2次元信号にフーリエ変換を適用して2次元のタイルを取得し、2次元のタイルの大きさが均一になるように、2次元のタイルの少なくとも一つにゼロパディングを行い、ゼロパディングが行われた2次元のタイルを4次元のタイルスタックに再構成し、該再構成された4次元のタイルスタックに逆フーリエ変換を適用して4次元の光場のデータを復元することができる。データ処理部は、2次元のタイルの大きさが均一になるように、2次元のタイルの少なくとも一つにゼロパディングを行う時、2次元のタイルが、2次元のタイルのうちで最も大きなタイルの大きさを有するようにゼロパディングを行うことができる。
【0012】
データ処理部は、復元された4次元の光場のデータを用いて画像を少なくとも一つの角度から見たビュー画像、相異なる深さでのリフォーカス画像及び高解像度画像のうち少なくとも一つを生成することができる。
【0013】
また、他の側面による画像を生成する光場のデータの処理装置による光場のデータを処理する方法は、4次元の光場の画像を空間変調する減衰パターンを含むモジュレータを用いて空間変調された4次元の光場の2次元信号を取得する段階と、2次元信号を用いて4次元の光場のデータを復元する段階とを含む。
【0014】
光場のデータの処理方法は、感知された2次元信号にフーリエ変換を適用して2次元のタイルを取得する段階と、2次元のタイルの大きさが均一になるように、2次元のタイルの少なくとも一つにゼロパディングを行う段階と、ゼロパディングが行われた2次元のタイルを4次元のタイルスタックに再構成する段階と、該再構成された4次元のタイルスタックに逆フーリエ変換を適用して4次元の光場のデータを復元する段階とをさらに含みうる。
【0015】
光場のデータの処理方法は、ゼロパディングを行う段階で、2次元のタイルが、2次元のタイルのうちで最も大きなタイルの大きさを有するようにゼロパディングを行うことができる。
【0016】
光場のデータの処理方法は、復元された4次元の光場のデータを用いて画像を少なくとも一つの角度から見たビュー画像、相異なる深さでのリフォーカス画像及び高解像度画像のうち少なくとも一つを生成する段階をさらに含みうる。
【0017】
また、他の側面による光を空間変調するモジュレータは、透明層と、透明層上に設けられ、透明層を通過した光を相異なる大きさに減衰させる減衰パターンを形成するメタル層とを含む。
【0018】
メタル層は、減衰パターンを形成するユニットパターンを複数のセクションに分割する時、該分割された複数のセクションを遮蔽した程度によって複数のグレイスケールを形成しうる。
【0019】
減衰パターンは、低い角周波数領域の空間データを高い角周波数領域の空間データに比べて相対的に多く取得するように構成することができる。
【0020】
また、他の側面による画像処理装置は、4次元の光場の画像を受信し、周波数領域で空間変調を通じて複数の不均一な2次元の周波数応答信号を生成するデータ取得部と、複数の感知された不均一な2次元の周波数応答信号を処理して4次元の光場の画像データを生成するプロセッサとを含みうる。
【0021】
データ取得部は、通過する光を複数の不均一な2次元の周波数応答信号に減衰させるように構成された非調和(non-harmonic)減衰パターンを含むモジュレータを含みうる。
【0022】
データ取得部は、不均一な周波数応答信号を感知するように構成されたレンズ及び複数個のセンサーをさらに含み、モジュレータは、レンズと複数個のセンサーとの間に位置されうる。
【0023】
複数のセンサーは、セクションに分割され、各セクションは、複数のユニットを含み、非調和減衰パターンは、あるセクションの一以上のユニットを遮断して、そのセクションのグレイスケールを生成するように構成することができる。非調和パターンは、非調和特性を有する和を有する2以上の余弦信号を組み合わせて設計されうる。
【0024】
非調和パターンは、非調和特性を有する和を有する2以上の正弦信号を組み合わせて設計されうる。非調和パターンは、非調和特性を有する和を有する余弦信号及び正弦信号を組み合わせて設計されうる。
【0025】
減衰パターンは、多くの空間データが存在する場合に低い角周波数領域における空間データを多く取得し、少ない空間データが存在する場合に高い角周波数領域における空間データを少なく取得するように構成することができる。
【0026】
プロセッサは、感知された不均一な2次元の周波数応答信号にフーリエ変換を適用して2次元のタイルを取得することができる。プロセッサは、2次元のタイルの大きさが均一になるように、2次元のタイルの少なくとも一つにゼロパディングを行うことができる。プロセッサは、ゼロパディングが行われた2次元のタイルを4次元のタイルスタックに再構成し、該再構成された4次元のタイルスタックに逆フーリエ変換を適用して4次元の光場の画像を生成することができる。
【0027】
ゼロパディングの結果、2次元のタイルが、2次元のタイルのうち最も大きなタイルの大きさを有しうる。
【0028】
また、他の側面による4次元の画像の処理で利用するための光マスクは、透明層と、透明層に付着され、減衰パターンを含むメタル層とを含み、減衰パターンは、4次元の光場の画像を受信し、通過する4次元の光場の画像を周波数領域における空間変調により複数の不均一な2次元の周波数応答信号に減衰させるメタル層を含みうる。
【0029】
減衰パターンは、複数のユニットを含む複数のセクションを含み、各ユニットは、おおよそ0.1μmないし10μmの範囲で離隔することができる。
【0030】
あるセクションの1以上のユニットは、通過する光を遮断して、その領域のグレイスケールを生成することができる。
【0031】
減衰パターンは、2次元の非調和パターンを含みうる。非調和パターンは、非調和特性を有する和を有する2以上の余弦信号を組み合わせて設計されうる。非調和パターンは、非調和特性を有する和を有する2以上の正弦信号を組み合わせて設計されうる。非調和パターンは、非調和特性を有する和を有する正弦信号及び余弦信号を組み合わせて設計されうる。
【0032】
減衰パターンは、低い角周波数領域における空間データを多く取得し、高い角周波数領域における空間データを少なく取得するように構成することができる。
【図面の簡単な説明】
【0033】
【図1】光場のデータの処理装置の構成の一例を示す図である。
【図2】非調和モジュレータの一例を示す図である。
【図3】非調和モジュレータの一つのユニットパターンでグレイスケールを調整する構成の一例を示す図である。
【図4】非調和モジュレータの構成の一例を示す図である。
【図5】非調和モジュレータによって形成される周波数応答のスペクトルレプリカを示す図である。
【図6】光場のデータの処理装置により取得された2次元信号にフーリエ変換を適用して得た画像の一例を示す図である。
【図7】光場のスペクトルを復調して光場のデータを復元する過程を示す図である。
【図8】図6の画像に対してゼロパディングが行われた画像の一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0034】
以下、添付した図面を参照して、本発明の一実施形態を詳しく説明する。本発明を説明するに当たって、関連した公知機能または構成についての具体的な説明が、本発明の要旨を不明にする恐れがあると判断される場合には、その詳細な説明を省略する。また、後述する用語は、本発明での機能を考慮して定義された用語であって、これは、ユーザ、運用者の意図又は慣例などによって変わりうる。したがって、その定義は、本明細書全般に亘った内容に基づいて下さなければならない。記述された段階及び/又は動作の進行は、例示的なものであって、段階及び/又は動作が、これに記述されたものに制限されず、特定の順序で必ず起こさせる段階及び/又は動作を除き、当該技術分野に知られたように変更されうる。
【0035】
図1は、光場のデータの処理装置の構成の一例を示す図である。
【0036】
光場データ処理装置100は、レンズ110、モジュレータ120、センサー130及びデータ処理部140を含みうる。光場データ処理装置100は、カメラ、又はカメラを含む各種電子製品、例えば、個人用コンピュータ、移動端末などとして具現可能である。
【0037】
レンズ110のような光学装置を通過した物体105(又は、物体を含む場面)の画像は、モジュレータ120を経てセンサー130で物体105に対する光場データとして取得される。
【0038】
モジュレータ120は、一種のマスクであって、センサー130による物体105の4次元(4D)光場を空間的に変調する減衰パターンを含む。減衰パターンは、周波数領域における空間変調により、位置に依存して2次元(2D)信号の周波数応答を生成することができる。モジュレータ120は、光軸に沿って配列されうる。モジュレータ120は、レンズ100とセンサー130との間に配置される。モジュレータ120は、センサー130上に設けられることもある。
【0039】
センサー130は、複数個のピクセルエレメントを含んで構成することができる。センサー130は、空間変調された4D光場の2D信号を取得する。該取得された光場信号は、所定の保存空間(図示せず)に保存することができる。
【0040】
モジュレータ120を通じて光場が空間変調されて、センサー130で得た画像にフーリエ変換を適用すれば、画像情報が周波数領域に変換される。光場を空間変調してセンサー130で画像を取得し、該取得された画像を処理して元の光場データが復元されうる。
【0041】
このような原理は、通信及び無線システムで幅広く利用される次の原理と類似している。この原理で、ベースバンド信号がキャリア信号を用いて高周波数に変調され、該変調された信号がエネルギー損失なしに遠距離に伝送された後、受信器は、受信された信号を復調してベースバンド信号を復元する。光場データ処理装置100は、このような原理を光学領域で適用したものと理解されうる。
【0042】
既存の光場を空間変調するモジュレータは、周波数領域で方向データの帯域別に空間データの帯域の大きさを同一であるという仮定下で設計された。既存のモジュレータによって生成される周波数応答は、空間データを表わすグラフ軸に対して均一な間隔で位置される。
【0043】
しかし、周波数領域に変換された光場データの画像情報から高い角周波数領域に行くほど低い角周波数領域に比べて空間データが相対的に少なく取得されるということが分かる。このような点を考慮して、一実施形態によるモジュレータ120は、モジュレータ120によって生成される2D信号に対する周波数応答の位置を不均一にさせて、空間データの取得が低下する高い角周波数領域の空間分解能を減らし、空間データを多く取得することができる低い角周波数領域の空間分解能を増加させるように設計されうる。
【0044】
このために、モジュレータ120は、2D非調和パターンを有するように構成される。2D非調和パターンは、例えば、2以上の余弦信号を和が非調和特性を有するように組み合わせて設計されうる。モジュレータ120の構成の詳細は、図2ないし図4を参照して後述する。
【0045】
一方、図1で、レンズ110、モジュレータ120及びセンサー130を含む構成は、光場のデータの取得装置で構成することができる。
【0046】
データ処理部140は、2D信号を用いて4Dの光場データを復元する。詳細には、データ処理部140は、センサー130によって感知された2D信号にフーリエ変換を適用して2Dのタイルを取得し、2Dタイルの大きさが均一になるように、2Dタイルの少なくとも一つにゼロパディングを行う。その後、データ処理部140は、ゼロパディングが行われた2Dタイルを4Dのタイルスタックに再構成し、該再構成された4Dタイルスタックに逆フーリエ変換を適用して4Dの光場データを復元することができる。
【0047】
データ処理部140は、ゼロパディングを行う時、2Dタイルが、2Dタイルのうちで最も大きなタイルの大きさを有するようにゼロパディングを行うことができる。最も大きなタイルは、光場データで最も多い情報が集中された低い角周波数領域の空間データに対応することができる。
【0048】
データ処理部140は、復元された4D光場データを用いて既存の4D光場データの処理方式によって画像を少なくとも一つの角度から見たビュー画像を生成することができ、相異なる深さでのリフォーカス画像を生成することができ、復元された4D光場データを用いて高解像度画像を生成することができる。また、データ処理部140は、ビュー画像を収集して3D立体画像を生成することができるなど多様な形態の画像処理を行うことができる。
【0049】
光場データ処理装置100は、データ処理部140によって処理された画像を表示する表示装置、画像を他の電子機器に伝送する通信装置などをさらに含んで構成することができる。
【0050】
図2は、非調和モジュレータの一例を示す図である。
【0051】
図2で、左側部分121は、モジュレータ120の非調和パターンを1D形態で表わし、右側部分122は、モジュレータ120の非調和パターンを2D形態で表わしたものである。一実施形態によれば、複数個の余弦信号、例えば、4個の余弦信号を合わせて非調和モジュレータ120を形成しうる。他の実施形態によれば、非調和モジュレータは、複数個の正弦信号を組み合わせて生成されうる。また、他の実施形態によれば、非調和モジュレータは、余弦信号及び正弦信号を組み合わせて生成されうる。
【0052】
図3は、非調和モジュレータ120の一つのユニットパターンでグレイスケールを調整する構成の一例を示す図である。
【0053】
従来には、減衰パターンを形成するために、フィルムに化学溶液を利用した。しかし、パターン形成にフィルム及び化学溶液を用いる場合には、例えば、μm単位の微細なパターンを正確に形成しにくい。
【0054】
より正確な階調表現とパターンを有する減衰パターンとを含むモジュレータ120を製作するために、ナノ工程を用いて製作されるメタルマスクを利用できる。ここで、減衰パターン又はマスクは、ナノメーター(nanometers)で互いに離隔したユニットを含んで、画像の空間解像度を増加させることができる。例えば、ユニットは、0.05μm、0.5μm、5μm、10μm、25μm、又は他の所望の距離量ほど互いに離隔することができる。例えば、ユニットは、約0.1μmないし10μmの範囲で離隔することができる。
【0055】
減衰パターンは、減衰パターンを形成するユニットパターンを複数のセクションに分割する時、該分割された複数のセクションを遮蔽した程度によって複数のグレイスケールを形成するように構成することができる。例えば、ユニットパターンは、一つ以上のピクセル又はセンサー、例えば、2個のセンサー、5個のセンサー、15個のセンサー、25個のセンサー、50個のセンサーなどを含みうる。各セクションは、複数のユニット、例えば、2個のユニット、5個のユニット、15個のユニット、30個のユニット、60個のユニットなどを含みうる。グレイスケールを生成するために、ユニットの一部は遮断され、ユニットの他の一部は、光を透過するように許容することができる。
【0056】
図3は、3個の相異なる階調を有する領域(又はユニットパターン)310、320、330を表わす。図3に示されたように、領域310のあらゆる領域を遮蔽して、おおよそ“0”のグレイスケールを作り、領域320の半分に該当する領域を遮蔽して、おおよそ“0.5”のグレイスケールを作り、ユニットパターン330を遮蔽しない方式で、おおよそ“1”のグレイスケールを作ることができる。
【0057】
領域320に示されたように、センサー領域は、多数個のユニットを有する領域に分割されうる。この例において、領域は、25個のユニットを含む。グレイスケールを生成するために、マスクは、光が透過することを阻むために、一つ以上のユニットを遮断することができる。例えば、マスクは、25個のユニットのうちから13個を遮断して、おおよそ“0.5”の値を生成することができる。おおよそ“0.5”の値は、例示的な目的として認識されなければならず、グレイスケールは、所望の値に調整されうる。
【0058】
図4は、非調和モジュレータ120の構成の一例を示す図である。
【0059】
モジュレータ120は、透明層121及び透明層121上に配されるメタル層122を含みうる。メタル層122は、減衰パターンを形成して透明層を通過した光を相異なる大きさに減衰させる。このように、ナノ工程によって製作されたモジュレータ120を用いてモジュレータ120の性能を向上させることで、正確な光場データを取得することができる。
【0060】
図5は、非調和モジュレータ120によって形成される周波数応答のスペクトルレプリカを示す図である。
【0061】
図5は、一つの空間の次元x及び一つの角度の次元θを有する2D光場空間と1次元(1D)センサーを仮定した場合の非調和モジュレータ120によって形成されるスペクトラルレプリカを表わす。fxは、空間の次元xに対して周波数空間での大きさを表わし、fθは、角度の次元θに対する周波数空間での大きさを表わす。
【0062】
fx及びfθに対して、それぞれ帯域幅が制限されると仮定すれば、fx軸に沿って配されたスライス(点線で表示されたボックス)510は、センサー130で感知された画像に対応する。ここで、モジュレータ120の光場の空間変調による周波数応答が、図5に示されたように、インパルスと仮定する。
【0063】
光場が、モジュレータ120によって空間変調されれば、これらインパルスのそれぞれは、その中心周波数で光場のスペクトルレプリカを生成する。したがって、図5に示されたように、光場の多様なスペクトルレプリカが、斜線501に沿って配列される。
【0064】
変調された光場のスペクトルのスライス510は、元の光場でのあらゆる情報を含む。fx軸に対する斜線501の角度は、θ及びx次元で要求される周波数分解能と入来する光場の帯域幅に基づいて設計されうる。
【0065】
図5で、各タイルは、光場データを表わす。非調和モジュレータ120を用いて光場を変調すれば、図5に示されたように、モジュレータ120の2D信号に対する周波数応答は、位置に依存する。これに応じて、空間データの帯域幅も不均一になる。モジュレータ120を用いてさらに低い角周波数領域の空間データを相対的にさらに多く取得し、残りのさらに高い角周波数領域の空間データを相対的にさらに少なく取得するように光場データを取得することができる。
【0066】
図6は、光場データ処理装置で得た2次元信号にフーリエ変換を適用して得た画像の一例を示す図である。
【0067】
図6は、センサー130で感知された2D信号にフーリエ変換を適用して得た画像610を示す。図6に示されたように、画像610は、非調和モジュレータ120を用いて、中間部分に表われる低い角周波数領域の空間データを多く取得し、画像610の高い角周波数領域を表わすエッジ部分に行くほど空間データを少なく取得したということを表わす。
【0068】
図7は、光場スペクトルを復調して光場データを復元する過程を示す図である。
【0069】
図5に示されたように、1Dのセンサーと2D光場データとを仮定する時、光場スペクトルの復調は、感知された1D信号のエネルギーを2Dの光場の空間に再分配する過程である。
【0070】
図7の点線で表示されたボックス710は、図5に示されたスライス510にゼロパディングを適用した結果を表わす。
【0071】
復調過程(矢印で表示)は、センサーの周波数応答を再配列して、帯域制限された光場データ720を復元する。このような光場データの復元過程は、2Dセンサーで感知された2D信号を4D光場データに復元する過程に同様に適用可能である。
【0072】
高い角周波数領域の空間データをゼロパディングによって低い角周波数領域の空間データと大きさとを有するようにして、4D光場データに復調することができる。このように、復調された信号に逆フーリエ変換を適用して、全体的な空間分解能が向上した画像が得られる。
【0073】
図8は、図6の画像に対してゼロパディングが行われた画像の一例を示す図である。2Dセンサーで、図6に示されたように、得た信号に対してゼロパディングを行えば、図8に示されたような信号が得られる。
【0074】
周波数領域で、空間変調による2D信号に対する周波数応答の位置を不均一にさせる非調和パターンを用いて、光場を空間変調するモジュレータを用いて光場データを取得することによって、空間解像度が向上した画像を生成することができる。前述した例は、静止画像と関連する。しかし、非調和モジュレータは、動画にも適用可能である。また、モジュレータの減衰パターンは、多視点画像及び動画像に適用されて3Dピクチャを生成するのに適用可能である。
【0075】
前述したように、光場は、非調和減衰パターン、例えば、メタルマスクによって減衰される。したがって、画像の不均一なサンプリング、不要なデータを放棄してセンサーの活用度を改善し、画像の空間解像度の品質を高めるように行われる。ナノメーターで離隔したユニットを含むメタルマスクのように、ナノレベルの解像度を用いて、従来のフィルム又はLCD画面の限界が克服されうる。
【0076】
本発明の一態様は、コンピュータで読み取り可能な記録媒体にコンピュータで読み取り可能なコードとして具現しうる。前記のプログラムを具現するコード及びコードセグメントは、当該分野のコンピュータプログラマーによって容易に推論されうる。コンピュータで読み取り可能な記録媒体は、コンピュータシステムによって読み取れるデータが保存されるあらゆる種類の記録装置を含む。コンピュータで読み取り可能な記録媒体の例としては、ROM、RAM、CD−ROM、磁気テープ、フロッピー(登録商標)ディスク、光ディスクなどを含む。また、コンピュータで読み取り可能な記録媒体は、ネットワークで連結されたコンピュータシステムに分散されて、分散方式でコンピュータで読み取り可能なコードとして保存されて実行可能である。
【0077】
ここに説明された移動装置は、携帯電話、パーソナル・デジタル・アシスタント(PDA)、デジタルカメラ、ポータブルゲームコンソール、MP3プレーヤー、携帯/パーソナルマルチメディアプレーヤー(PMP)、ハンドヘルド電子ブック、携帯用ラップトップ及び/又はタブレットパーソナルコンピュータ(PC)、グローバル・ポジショニング・システム(GPS)ナビゲーション、デスクトップPC、高画質テレビ(HDTV)、光ディスクプレーヤー、セットトップボックスなどのように、無線通信又はネットワーク通信ができるデバイスであり得る。
【0078】
コンピュータシステム又はコンピュータは、バス、ユーザインターフェース及びメモリコントローラと電気的に連結されるマイクロプロセッサとを含みうる。コンピュータシステム又はコンピュータは、またフラッシュメモリ装置をさらに含みうる。フラッシュメモリは、メモリコントローラを通じてNビットデータを保存することができる。Nビットデータは、マイクロプロセッサによって処理されるか、処理され、ここで、Nは、1又は複数の整数であり得る。コンピュータシステム又はコンピュータが移動装置である時、コンピュータシステム又はコンピュータに電源を供給するために、バッテリーが付加的に提供されることがある。
【0079】
コンピュータシステム又はコンピュータが、アプリケーションチップセット、CIS(camera image processor)、DRAM(dynamic random access memory)などをさらに含みうるということは当業者には明白である。メモリコントローラ及びフラッシュメモリ装置は、データを保存するのに不揮発性メモリを利用するSSD(solid state driver/disk)を構成することができる。
【0080】
ここに利用される“ピクセル”は、光子を電気的電荷に変換する少なくとも一つの光センサーを含む光−素子単位を表わす。各ピクセルの検出器又はフォトセンサーは、例えば、ピンドフォトダイオード、p−n接合フォトダイオード、ショットキーフォトダイオード、光ゲート、他の適当な光変換装置又は光電荷を蓄積して保存することができる装置であり得る。
【0081】
以上の説明は、本発明の一実施形態に過ぎず、当業者は、本発明の本質的特性から外れない範囲で変形された形態で具現することができる。したがって、本発明の範囲は、前述した実施形態に限定されず、特許請求の範囲に記載の内容と同等な範囲内にある多様な実施形態が含まれるように解析されなければならない。
【産業上の利用可能性】
【0082】
本発明は、モジュレータ、モジュレータを利用した光場データの取得装置、モジュレータを利用した光場データの処理装置及び方法に関連の技術分野に適用可能である。
【符号の説明】
【0083】
100 光場データ処理装置
105 物体
110 レンズ
120 モジュレータ
130 センサー
140 データ処理部
310、320、330 領域
501 斜線
510 スライス
610 画像
710 ボックス
720 光場データ

【特許請求の範囲】
【請求項1】
光場のデータを取得して画像を生成する装置であって、
周波数領域において4次元の光場の画像を空間変調するための減衰パターンを含むモジュレータと、
前記空間変調された4次元光場の2次元信号を取得するセンサーとを含み、
前記減衰パターンは、前記周波数領域における空間変調により、位置に依存して前記2次元信号の周波数応答を生成する、
ことを特徴とする光場データの取得装置。
【請求項2】
前記モジュレータは、
透明層と、
前記透明層上に設けられるメタル層であって、前記減衰パターンを形成し、前記透明層を通過した光を異なる程度に減衰させるメタル層と、
を含むことを特徴とする請求項1記載の光場データの取得装置。
【請求項3】
前記減衰パターンは、前記減衰パターンを形成するユニットパターンを、それぞれが複数のユニットを有する複数のセクションに分割し、それぞれのセクションの1以上のユニットを遮断して、それぞれのセクションのグレイスケールを生成することで、複数のグレイスケールの値を形成する、
ことを特徴とする請求項1記載の光場データの取得装置。
【請求項4】
前記減衰パターンは、低い角周波数領域の空間データが、高い角周波数領域の空間データに比べて多く取得されるように構成される、
ことを特徴とする請求項1記載の光場データの取得装置。
【請求項5】
光場のデータを処理して画像を生成する装置であって、
4次元の光場の画像を空間変調するための減衰パターンを含むモジュレータと、
前記空間変調された4次元の光場の2次元信号を取得するセンサーと、
前記2次元信号を用いて4次元の光場のデータを復元するデータ処理部とを含み、
前記減衰パターンは、周波数領域における空間変調により、位置に依存して、前記2次元信号の周波数応答を生成する、
ことを特徴とする光場データの処理装置。
【請求項6】
前記モジュレータは、
透明層と、
前記透明層上に設けられるメタル層であって、前記減衰パターンを形成し、前記透明層を通過した光を異なる程度に減衰させるメタル層と、
を含むことを特徴とする請求項5記載の光場データの処理装置。
【請求項7】
前記減衰パターンは、前記減衰パターンを形成するユニットパターンを、それぞれが複数のユニットを有する複数のセクションに分割し、それぞれのセクションの1以上のユニットを遮断して、それぞれのセクションのグレイスケールを生成することで、複数のグレイスケールの値を形成するように構成される、
ことを特徴とする請求項5記載の光場データの処理装置。
【請求項8】
前記減衰パターンは、低い角周波数領域の空間データが、高い角周波数領域の空間データに比べて多く取得されるように構成される、
ことを特徴とする請求項5記載の光場データの処理装置。
【請求項9】
前記データ処理部は、
前記センサーによって感知された2次元信号にフーリエ変換を適用して2次元のタイルを生成し、前記2次元のタイルの大きさが均一になるように、前記2次元のタイルの少なくとも一つにゼロパディングを行い、前記ゼロパディングが行われた2次元のタイルを4次元のタイルスタックに再構成し、前記再構成された4次元のタイルスタックに逆フーリエ変換を適用して4次元の光場のデータを復元する、
ことを特徴とする請求項5記載の光場データの処理装置。
【請求項10】
前記データ処理部は、前記2次元のタイルの大きさが均一になるように、前記2次元のタイルの少なくとも一つにゼロパディングを行う時、前記2次元のタイルが、前記2次元のタイルのうち最も大きなタイルの大きさを有するようにゼロパディングを行う、
ことを特徴とする請求項9記載の光場データの処理装置。
【請求項11】
前記データ処理部は、前記復元された4次元の光場のデータを用いて、前記少なくとも一つの角度から見た画像、異なる深さでのリフォーカス画像、及び高解像度画像のうちから少なくとも一つを生成する、
ことを特徴とする請求項5記載の光場データの処理装置。
【請求項12】
光場のデータを処理する装置により実行される光場のデータを処理する方法であって、
減衰パターンを含むモジュレータを用いて4次元の光場の画像を空間変調し、前記空間変調された4次元の光場の2次元信号を取得する段階と、
前記2次元信号を用いて4次元の光場のデータを復元する段階とを含み、
前記減衰パターンは、前記周波数領域における空間変調により、位置に依存して、前記2次元信号の周波数応答を生成する、
ことを特徴とする光場のデータの処理方法。
【請求項13】
前記4次元の光場のデータを復元する段階は、
前記感知された2次元信号にフーリエ変換を適用して2次元のタイルを取得する段階と、
前記2次元のタイルの大きさが均一になるように、前記2次元のタイルの少なくとも一つにゼロパディングを行う段階と、
前記ゼロパディングが行われた2次元のタイルを4次元のタイルスタックに再構成する段階と、
前記再構成された4次元のタイルスタックに逆フーリエ変換を適用して4次元の光場のデータを復元する段階と、
を含むことを特徴とする請求項12記載の光場データの処理方法。
【請求項14】
前記ゼロパディングを行う段階は、前記2次元のタイルが、前記2次元のタイルのうち最も大きなタイルの大きさを有するようにゼロパディングを行う、
ことを特徴とする請求項13記載の光場データの処理方法。
【請求項15】
前記復元された4次元の光場のデータを用いて、少なくとも一つの角度から見た画像、異なる深さでのリフォーカス画像、及び高解像度画像のうち少なくとも一つを生成する段階をさらに含む、
ことを特徴とする請求項12記載の光場データの処理方法。
【請求項16】
光を空間的に変調するモジュレータであって、
透明層と、
前記透明層上に設けられるメタル層であって、前記減衰パターンを形成し、前記透明層を通過した光を異なる程度に減衰させるメタル層とを含み、
前記減衰パターンは、前記周波数領域における空間変調により、位置に依存して、前記2次元信号の周波数応答を生成する、
ことを特徴とするモジュレータ。
【請求項17】
前記メタル層は、前記減衰パターンを形成するユニットパターンを、それぞれが複数のユニットを有する複数のセクションに分割し、それぞれのセクションの1以上のユニットを遮断して、それぞれのセクションのグレイスケールを生成することで、複数のグレイスケールの値を形成する、
ことを特徴とする請求項16記載のモジュレータ。
【請求項18】
前記減衰パターンは、低い角周波数領域の空間データが、高い角周波数領域の空間データに比べて多く取得されるように構成される、
ことを特徴とする請求項16記載のモジュレータ。
【請求項19】
4次元の光場の画像を受信し、周波数領域における空間変調により、複数の不均一な2次元の周波数応答信号を生成するデータ取得部と、
複数の感知された不均一な2次元の周波数応答信号を処理して4次元の光場のデータを生成するプロセッサと、
を含むことを特徴とする画像処理装置。
【請求項20】
前記データ取得部は、通過する光を複数の不均一な2次元の周波数応答信号に減衰させるように構成された非調和減衰パターンを含むモジュレータを有する、
ことを特徴とする請求項19記載の画像処理装置。
【請求項21】
前記データ取得部は、前記不均一な周波数応答信号を感知するレンズ及び複数のセンサーをさらに含み、
前記モジュレータは、前記レンズと前記複数のセンサーとの間に位置される、
ことを特徴とする請求項20記載の画像処理装置。
【請求項22】
前記複数のセンサーは、複数のセクションに分割され、
それぞれのセクションは、複数のユニットを含み、
前記非調和減衰パターンは、あるセクションの1以上のユニットを遮断して、そのセクションのグレイスケールの値を生成する、
ように構成されることを特徴とする請求項21記載の画像処理装置。
【請求項23】
前記非調和パターンは、非調和特性を有する和を有する2以上の余弦信号を組み合わせることで設計される、
ことを特徴とする請求項20記載の画像処理装置。
【請求項24】
前記非調和パターンは、非調和特性を有する和を有する2以上の正弦信号を組み合わせることで設計される、
ことを特徴とする請求項20記載の画像処理装置。
【請求項25】
前記非調和パターンは、非調和特性を有する和を有する余弦信号及び正弦信号を組み合わせることで設計される、
ことを特徴とする請求項20記載の画像処理装置。
【請求項26】
前記減衰パターンは、多くの空間データが存在する場合に低い角周波数領域における空間データが多く取得され、少ない空間データが存在する場合に高い角周波数領域における空間データが少なく取得されるように構成される、
ことを特徴とする請求項20記載の画像処理装置。
【請求項27】
前記プロセッサは、前記感知された不均一な2次元の周波数応答信号にフーリエ変換を適用して2次元のタイルを取得する、
ことを特徴とする請求項19記載の画像処理装置。
【請求項28】
前記プロセッサは、前記2次元のタイルの大きさが均一になるように、前記2次元のタイルの少なくとも一つにゼロパディングを行う、
ことを特徴とする請求項27記載の画像処理装置。
【請求項29】
前記プロセッサは、前記ゼロパディングが行われた2次元のタイルを4次元のタイルスタックに再構成し、前記再構成された4次元のタイルスタックに逆フーリエ変換を適用して、4次元の光場の画像を生成する、
ことを特徴とする請求項28記載の画像処理装置。
【請求項30】
前記ゼロパディングにより、前記2次元のタイルは、前記2次元のタイルのうちで最も大きなタイルの大きさを有する、
ことを特徴とする請求項28記載の画像処理装置。
【請求項31】
4次元画像の処理で使用される光マスクであって、
透明層と、
前記透明層に設けられ、前記減衰パターンを含むメタル層とを含み、
前記減衰パターンは、4次元の光場の画像を受信し、周波数領域における空間変調により、通過する4次元の光場の画像を複数の不均一な2次元の周波数応答信号に減衰させる、
ことを特徴とする光マスク。
【請求項32】
前記減衰パターンは、複数のユニットを含む複数のセクションを含み、
それぞれのユニットは、約0.1μm〜10μmの範囲で離れて配置される、
ことを特徴とする請求項31記載の光マスク。
【請求項33】
あるセクションの1以上のユニットは、通過する光を遮断し、そのセクションのグレイスケールの値を生成する、
ことを特徴とする請求項32記載の光マスク。
【請求項34】
前記減衰パターンは、2次元の非調和パターンを含む、
ことを特徴とする請求項31記載の光マスク。
【請求項35】
前記非調和パターンは、非調和特性を有する和を有する2以上の余弦信号を組み合わせることで設計される、
ことを特徴とする請求項34記載の光マスク。
【請求項36】
前記非調和パターンは、非調和特性を有する和を有する2以上の正弦信号を組み合わせることで設計される、
ことを特徴とする請求項34記載の光マスク。
【請求項37】
前記非調和パターンは、非調和特性を有する和を有する正弦信号及び余弦信号を組み合わせることで設計される、
ことを特徴とする請求項34記載の光マスク。
【請求項38】
前記減衰パターンは、低い角周波数領域の空間データが、高い角周波数領域の空間データよりも多く取得されるように構成される、
ことを特徴とする請求項31記載の光マスク。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図7】
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【図8】
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【図6】
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【公開番号】特開2011−71981(P2011−71981A)
【公開日】平成23年4月7日(2011.4.7)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2010−208935(P2010−208935)
【出願日】平成22年9月17日(2010.9.17)
【出願人】(390019839)三星電子株式会社 (8,520)
【氏名又は名称原語表記】SAMSUNG ELECTRONICS CO.,LTD.
【住所又は居所原語表記】416,Maetan−dong,Yeongtong−gu,Suwon−si,Gyeonggi−do 442−742(KR)
【Fターム(参考)】