ラミネート装置
【課題】多段化に対応可能なラミネート装置を提供する。
【解決手段】ラミネート装置１０は、ダイヤフラム３を備える上チャンバ１と、ヒータ盤４を備える下チャンバ２と、上チャンバ１と下チャンバ２との間に設けられ、被ラミネート体Ｍを搬送する搬送シート９と、搬送シート９を支持する支持部１１と、支持部１１を上昇又は下降させる昇降機構（支持プレート１２、シャフト２１、第１アーム２２、ベアリング２３、軸受２５、及び第２アーム３１）と、下チャンバ２の側面（第１側面Ｓ１）に設けられ、昇降機構を駆動する駆動部（シリンダ１３）と、を備える。
【解決手段】ラミネート装置１０は、ダイヤフラム３を備える上チャンバ１と、ヒータ盤４を備える下チャンバ２と、上チャンバ１と下チャンバ２との間に設けられ、被ラミネート体Ｍを搬送する搬送シート９と、搬送シート９を支持する支持部１１と、支持部１１を上昇又は下降させる昇降機構（支持プレート１２、シャフト２１、第１アーム２２、ベアリング２３、軸受２５、及び第２アーム３１）と、下チャンバ２の側面（第１側面Ｓ１）に設けられ、昇降機構を駆動する駆動部（シリンダ１３）と、を備える。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、太陽電池モジュール等にラミネート加工を行うのに適したラミネート装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、太陽電池モジュール等の薄板形状の被ラミネート体にラミネート加工を行うためのラミネート装置として、ダイヤフラムを備える上チャンバと、ヒータ盤を備える下チャンバと、を備えたラミネート装置が知られている（特許文献１を参照）。
【０００３】
特許文献１のラミネート装置は、被ラミネート体の内部の充填剤を融解させ、被ラミネート体を挟圧することにより、被ラミネート体にラミネート加工を行うように構成される。例えば、特許文献１のラミネート装置では、被ラミネート体を載せた搬送シートは、ヒータ盤に接触しないように支持部によりその下面が支持された状態で、被ラミネート体をラミネート装置に搬入する。次いで、上チャンバを下降させることにより、ラミネート装置を密閉状態にする。次いで、ラミネート装置内を真空引きする。次いで、支持部を下降させることにより、被ラミネート体をヒータ盤に密着させる。次いで、上チャンバに大気を導入し、ダイヤフラムを下方に膨張させることにより、被ラミネート体がヒータ盤とダイヤフラムとにより挟圧され、ラミネート加工が行われる。
【０００４】
一方、ラミネート加工を効率的に行うために、ラミネート装置を積み重ねる方法（以下、「ラミネート装置の多段化」という）が考えられる。ラミネート装置の多段化には、ラミネート装置をコンパクトにすることが要求される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−１１４５４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１のラミネート装置は、支持部を昇降させるために、支持部が結合される支持プレートと、支持プレートを昇降させるための昇降機構と、昇降機構を駆動するための駆動部と、を備える。駆動部は、下チャンバの下面に設けられ、ラミネート装置からはみ出している。従って、下チャンバの厚みが増加する。このため、特許文献１のラミネート装置の多段化を実現することができなかった。
【０００７】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、ラミネート装置をコンパクトにすることにより、多段化に対応可能なラミネート装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決するために、本発明の一態様によれば、ダイヤフラムを備える上チャンバと、ヒータ盤を備える下チャンバと、前記上チャンバと前記下チャンバとの間に設けられ、被ラミネート体を搬送する搬送シートと、前記搬送シートを支持する支持部と、前記支持部を上昇又は下降させる昇降機構と、前記下チャンバの側面に設けられ、前記昇降機構を駆動する駆動部と、を備える、ことを特徴とするラミネート装置が提供される。
【０００９】
本発明において、前記駆動部の底面は、前記下チャンバの下面よりも高い位置に設けられ、且つ、前記駆動部の上面は、前記下チャンバの上面よりも低い位置に設けられても良い。
【００１０】
本発明において、前記昇降機構は、前記支持部を上昇又は下降させる方向にそれぞれ移動させる１つ又は複数の第１アームと、前記１つ又は複数の第１アームの支点を回転させるシャフトと、を備え、前記駆動部は、前記シャフトを回転駆動しても良い。
【００１１】
本発明において、前記昇降機構は、さらに、前記駆動部の駆動力を前記シャフトの回転力に変換する第２アームを備えても良い。
【００１２】
本発明において、前記昇降機構は、さらに、前記第１アームの先端部に接続され、前記支持部を上昇又は下降させる際の摩擦力を軽減する摩擦軽減部材を備えても良い。
【００１３】
本発明において、前記昇降機構は、前記支持部を上昇又は下降させる方向にそれぞれ移動させる複数の第１アームと、前記複数の第１アームのうち対応する第１アームの支点をそれぞれ回転させる複数のシャフトと、を備え、前記駆動部は、前記複数のシャフトを回転駆動しても良い。
【００１４】
本発明において、前記駆動部は、さらに、前記複数のシャフトの間で回転力を伝達する回転力伝達部材を備えても良い。
【００１５】
本発明において、前記駆動部は、前記複数のシャフトのそれぞれ毎に設けられ、各シャフトを回転駆動する複数の回転機構を備えても良い。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、ラミネート装置がコンパクトになる。それにより、ラミネート装置が多段化に対応可能になる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本実施形態に係るラミネート装置１０の正面断面図。
【図２】図１の破線部Ａを説明するための模式図。
【図３】図２の破線Ｂ−Ｂの断面図。
【図４】図１のシリンダ１３の概略図。
【図５】本実施形態に係るラミネート加工の工程を示す概略図。
【図６】本実施形態に係るラミネート装置１０の垂直方向（Ｙ方向）の多段化を示す概略図。
【図７】本実施形態の変形例に係る昇降機構の拡大図。
【図８】本実施形態の変形例に係るラミネート装置１０の側面図。
【図９】本実施形態の変形例に係るラミネート装置１０の側面図。
【図１０】従来のラミネート装置の正面断面図。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。
【００１９】
本実施形態に係るラミネート装置の構成について説明する。図１は、本実施形態に係るラミネート装置１０の正面断面図である。図２は、図１の破線部Ａを説明するための模式図である。図３は、図２の破線Ｂ−Ｂの断面図である。図４は、図１のシリンダ１３の概略図である。
【００２０】
図１のラミネート装置１０は、太陽電池モジュール等にラミネート加工を行う装置である。例えば、太陽電池モジュールは、カバーガラス、充填剤、太陽電池セル、及び裏面材等の構成部材を備える。太陽電池モジュールの内部の充填剤を融解させ、太陽電池モジュールが挟圧されることにより、各構成部材が接着される。それにより、太陽電池モジュールにラミネート加工が行われる。
【００２１】
図１のラミネート装置１０は、上チャンバ１と、下チャンバ２と、を備える。
【００２２】
図１に示すように、上チャンバ１には、ダイヤフラム３が設けられる。ダイヤフラム３は、上チャンバ１を水平方向（Ｘ方向）に横切っている。ダイヤフラム３は、被ラミネート体Ｍを押圧するように構成される。例えば、ダイヤフラム３は、シリコン又はブチルを含む化合物により形成される。
【００２３】
図１に示すように、下チャンバ２には、複数の支柱５と、シャフト２１と、が設けられる。各支柱５は垂直方向（Ｙ方向）に伸びるように設けられる。シャフト２１は水平方向（Ｘ方向）に延びるように設けられる。
【００２４】
図１に示すように、各支柱５上には、ヒータ盤４が設けられる。それにより、ヒータ盤４は、下チャンバ２に固定される。例えば、ヒータ盤４は、アルミ製の金属板と、その金属板に覆われた熱源と、を備える。
【００２５】
図１に示すように、シャフト２１は、下チャンバ２の側面を貫通する。シャフト２１の第１端部Ｅ１には、第２アーム３１が設けられる。第２アーム３１には、回転機構としてのシリンダ（駆動部）１３が設けられる。下チャンバ２の第１側面Ｓ１及び第２側面Ｓ２には、シャフト２１の軸受２５が設けられる。シャフト２１と下チャンバ２との間には、ラミネート装置１０への空気の流入を防ぐためのＯリング等のシール２４が設けられる。シャフト２１には、複数の第１アーム２２が互いに所定間隔を隔てて設けられる。各第１アーム２２は、支持部１１を上昇又は下降させる方向に移動させるようになっている。各第１アーム２２の先端部には、カムフォロア等のベアリング（摩擦軽減部材）２３が設けられる。ベアリング２３は、水平な支持プレート１２の下面に接している。支持プレート１２の重さは、約１００［ｋｇ］である。ベアリング２３は、支持部１１を上昇又は下降させる際の摩擦力を軽減するようになっている。支持プレート１２の上面には、複数の支持部１１が互いに所定間隔を隔てて設けられる。各支持部１１の上端は、搬送シート９の下面に接している。すなわち、搬送シート９は、各支持部１１により支持されている。搬送シート９は、被ラミネート体Ｍをラミネート装置１０に搬入又は搬出するために、被ラミネート体Ｍを水平方向（Ｘ方向）に搬送するように構成される。
【００２６】
図１に示すように、シリンダ１３の底面は、下チャンバ２の下面よりも高い位置に設けられる。シリンダ１３の上面は、下チャンバ２の上面よりも低い位置に設けられる。すなわち、シリンダ１３の垂直方向（Ｙ方向）の大きさは、下チャンバ２の第１側面Ｓ１の垂直方向（Ｙ方向）の大きさより小さい。換言すると、シリンダ１３は、下チャンバ２から垂直方向（Ｙ方向）に突出していない。また、第２アーム３１、軸受２５、及びシャフト２１も、下チャンバ２から垂直方向（Ｙ方向）に突出していない。従って、シリンダ１３、第２アーム３１、軸受２５、及びシャフト２１は、ラミネート装置１０の垂直方向（Ｙ方向）の大きさに影響を与えない。
【００２７】
図２及び図３に示すように、第１アーム２２には、シャフト２１及びベアリング２３が設けられる。シャフト２１は、第１アーム２２の中心から所定距離だけ隔てた位置を水平方向（Ｘ方向）に貫通する。シャフト２１は、第１アーム２２の支点を回転させるようになっている。従って、シャフト２１が回転すると、ベアリング２３の位置が垂直方向（Ｙ方向）に移動する。それにより、支持プレート１２が垂直方向（Ｙ方向）に移動する。すなわち、支持プレート１２は、シャフト２１の回転方向に応じて、昇降する。例えば、図３では、シャフト２１が反時計回りに回転すると支持プレート１２は上昇し、シャフト２１が時計回りに回転すると支持プレート１２が垂直方向（Ｙ方向）に下降する。支持プレート１２の上昇幅及び下降幅は、約３〜４［ｍｍ］である。
【００２８】
図４のシリンダ１３は、空圧式である。シリンダロッド３２には、第２アーム３１が設けられる。第２アーム３１は、シリンダ１３の駆動力をシャフト２１の回転力に変換するようになっている。シリンダ１３には、電磁弁１４が設けられる。電磁弁１４は、シリンダ１３のシリンダロッド３２を伸縮させるために送られる圧縮空気の通路を切り換えるように構成される。
【００２９】
図４の電磁弁１４によりシリンダロッド３２がＺ１方向に伸びると、第２アーム３１がＺ１方向に動く。それにより、シャフト２１が反時計回りに回転する。その結果、支持プレート１２が垂直方向（Ｙ方向）に上昇する（図３を参照）。
【００３０】
次いで、図４の電磁弁１４によりシリンダロッド３２がＺ２方向に縮むと、第２アーム３１がＺ２方向に動く。それにより、シャフト２１が時計回りに回転する。その結果、支持プレート１２が垂直方向（Ｙ方向）に下降する（図３を参照）。
【００３１】
図４のシリンダロッド３２の伸張方向には、シリンダロッド３２の伸張量を制限するためのストッパ１６が設けられる。ストッパ１６の位置を調整することにより、シリンダロッド３２の伸張量を制御することができる。すなわち、ストッパ１６の位置を調整することにより、図１の支持プレート１２の上昇量を制御することができる。
【００３２】
なお、図１の支柱５、支持部１１、第１アーム２２、及びベアリング２３の数は幾つでも良い。また、図１の軸受２５は、シャフト２１の剛性を維持するために、下チャンバ２の内壁に設けられても良い。
【００３３】
本実施形態に係るラミネート加工について説明する。図５は、本実施形態に係るラミネート加工の工程を示す概略図である。図５において、被ラミネート体Ｍ１は、最初にラミネート加工が行われる太陽電池モジュールであり、被ラミネート体Ｍ２は、被ラミネート体Ｍ１の次にラミネート加工が行われる太陽電池モジュールである。
【００３４】
図５（Ａ）に示すように、被ラミネート体Ｍ１がラミネート装置１０に搬入されるときは、図４の電磁弁１４によりシリンダロッド３２がＺ１方向に伸び、シャフト２１が反時計回りに所定角度だけ回転する。それにより、図３の指示プレート１２が垂直方向（Ｙ方向）に上昇し、搬送シート９も垂直方向（Ｙ方向）に上昇する。その結果、搬送シート９とヒータ盤４との間の距離がＤになる。例えば、Ｄは約３〜４［ｍｍ］である。すなわち、被ラミネート体Ｍ１はヒータ盤４には接していない。
【００３５】
次いで、図５（Ｂ）に示すように、搬送シート９とヒータ盤４との間の距離がＤに保たれたまま、搬送シート９により被ラミネート体Ｍ１がラミネート装置１０に搬入され、搬送シート９が停止し、図１の上チャンバ１が垂直方向（Ｙ方向）に下降する。それにより、ラミネート装置１０が密封される。次いで、ラミネート装置１０内を真空引きする。このとき、ラミネート装置１０外の搬送シート９上には、被ラミネート体Ｍ２が待機している。
【００３６】
次いで、図５（Ｃ）に示すように、図４の電磁弁１４によりシリンダロッド３２がＺ２方向に縮み、シャフト２１が時計回りに所定角度だけ回転する。それにより、図３の支持プレート１２が垂直方向（Ｙ方向）に下降し、搬送シート９も垂直方向（Ｙ方向）に下降する。その結果、搬送シート９はヒータ盤４に接触する（すなわち、搬送シート９とヒータ盤４との距離が０になる）。次いで、図１の上チャンバ１に大気を導入し、ダイヤフラム３を下方に膨張させることにより、被ラミネート体Ｍ１がヒータ盤４とダイヤフラム３とにより挟圧され、被ラミネート体Ｍ１の内部の充填剤が融解し、被ラミネート体Ｍ１にラミネート加工が行われる。
【００３７】
次いで、図５（Ｄ）に示すように、上チャンバ１を開き、図４の電磁弁１４によりシリンダロッド３２がＺ１方向に伸び、シャフト２１が反時計回りに所定角度だけ回転する。それにより、図３の指示プレート１２が垂直方向（Ｙ方向）に上昇し、搬送シート９も垂直方向（Ｙ方向）に上昇する。その結果、搬送シート９とヒータ盤４との間の距離がＤになる。このとき、被ラミネート体Ｍ１及びＭ２はヒータ盤４には接していない。次いで、搬送シート９とヒータ盤４との間の距離がＤに保たれたまま、搬送シート９により、ラミネート加工が行われた被ラミネート体Ｍ１がラミネート装置１０から搬出され、被ラミネート体Ｍ２がラミネート装置１０に搬入される。
【００３８】
以後、搬送シート９に載置された全ての被ラミネート体Ｍに対するラミネート加工が完了するまで、図５（Ｂ）〜（Ｄ）の工程が繰り返される。
【００３９】
なお、搬送シート９が垂直方向（Ｙ方向）に昇降したときの搬送シート９とヒータ盤４との距離は、シャフト２１の回転角度に基づいて定められる。すなわち、シャフト２１の回転角度を調整することにより、距離を制御することができる。例えば、シリンダ１３のシリンダロッド３２の伸びが大きくなると、距離が大きくなる。
【００４０】
（比較例）
本実施形態に係るラミネート装置１０と従来のラミネート装置との比較例について説明する。図１０は、従来のラミネート装置の正面断面図である。
【００４１】
図１０に示すように、従来のラミネート装置では、シリンダ１３は、下チャンバ２よりも垂直方向（Ｙ方向）に突出するように、下チャンバ２の下面Ｕに設けられる。すなわち、従来のラミネート装置では、シリンダ１３が垂直方向（Ｙ方向）の突起物になる。
【００４２】
一方、本実施形態に係るラミネート装置１０は、ダイヤフラム３を備える上チャンバ１と、ヒータ盤４を備える下チャンバ２と、上チャンバ１と下チャンバ２との間に設けられ、被ラミネート体Ｍを搬送する搬送シート９と、搬送シート９を支持する支持部１１と、支持部１１を上昇又は下降させる昇降機構（支持プレート１２、シャフト２１、第１アーム２２、ベアリング２３、軸受２５、及び第２アーム３１）と、下チャンバ２の側面（第１側面Ｓ１）に設けられ、昇降機構を駆動する駆動部（シリンダ１３）と、を備える。それにより、シリンダ１３は、垂直方向（Ｙ方向）の突起物にはならない。すなわち、ラミネート装置１０は、図１０のラミネート装置に比べて、垂直方向（Ｙ方向）の大きさが小さい。その結果、図６に示すように、ラミネート装置１０は、垂直方向（Ｙ方向）の多段化に対応可能になる。
【００４３】
また、本実施形態では、 駆動部（シリンダ１３）の底面は、下チャンバ２の下面よりも高い位置に設けられ、且つ、駆動部（シリンダ１３）の上面は、下チャンバ２の上面よりも低い位置に設けられる。駆動部（シリンダ１３）の底面が下チャンバ２の下面よりも高いので、ラミネート装置１０が垂直方向（Ｙ方向）の多段化に対応可能になる。また、駆動部（シリンダ１３）の上面が下チャンバ２の上面より低いので、駆動部（シリンダ１３）がユーザの作業（例えば、メンテナンス）の邪魔にならない。
【００４４】
また、本実施形態では、昇降機構は、支持部１１を上昇又は下降させる方向に移動させる１つ又は複数の第１アーム２２と、１つ又は複数の第１アーム２２始点を回転させるシャフト２１と、を備え、駆動部（シリンダ１３）は、シャフト２１を回転駆動しても良い。それにより、支持プレート１２のたわみを防ぐことができる。また、支持プレート１２の加重が複数の第１アーム２２に分散するので、各第１アーム２２をコンパクトにすることができ、且つ、そのような第１アーム２２を駆動する駆動部（シリンダ１３）もコンパクトにすることができる。
【００４５】
また、本実施形態では、昇降機構は、さらに、駆動部（シリンダ１３）の駆動力をシャフト２１の回転力に変換する第２アーム３１を備えても良い。それにより、簡易な構造を用いて、昇降機構を実現することができる。
【００４６】
また、本実施形態では、昇降機構は、さらに、第１アーム２２の先端部に接続され、支持部１１を上昇又は下降させる際の摩擦力を軽減する摩擦軽減部材（ベアリング２３）を備えても良い。それにより、支持部１１及び第１アーム２２の磨耗を防ぐことができる。
【００４７】
また、本実施形態では、昇降機構は、支持部１１を上昇又は下降させる方向にそれぞれ移動させる複数の第１アーム２２と、複数の第１アーム２２のうち対応する第１アーム２２の支点をそれぞれ回転させる複数のシャフト２１と、を備え、駆動部（シリンダ１３）は、複数のシャフト２１を回転駆動しても良い。それにより、支持部１１をスムーズに上昇又は下降させることができる。また、シリンダ１３や摩擦軽減部材（ベアリング２３）等の様々な部品をコンパクトにすることができる。
【００４８】
また、本実施形態では、駆動部（シリンダ１３）は、複数のシャフト２１のそれぞれ毎に設けられ、各シャフト２１を回転駆動する複数の回転機構を備えても良い。それにより、各駆動部（シリンダ１３）をコンパクトにすることができ、且つ、支持部１１をスムーズに上昇又は下降させることができる。
【００４９】
本実施形態では、昇降機構が、支持プレート１２と、シャフト２１と、第１アーム２２と、ベアリング２３と、軸受２５と、第２アーム３１と、により実現される例について説明したが、本発明の範囲はこれに限られるものではない。
【００５０】
図７に示すように、昇降機構は、支持プレート１２と、シャフト２１と、カム２６と、により実現されても良い。シャフト２１は、カム２６の中心から所定距離だけ隔てた位置を水平方向に貫通する。すなわち、シャフト２１の中心とカム２６の中心とは所定距離だけずれている。従って、シャフト２１が回転すると、カム２６がシャフト２１を軸に回転する。それにより、支持プレート１２が垂直方向（Ｙ方向）に移動する。すなわち、支持プレート１２は、シャフト２１の回転方向に応じて、昇降する。例えば、図７では、シャフト２１が反時計回りに回転すると支持プレート１２は上昇し、シャフト２１が時計回りに回転すると支持プレート１２が垂直方向（Ｙ方向）に下降する。
【００５１】
また、本実施形態では、１組の昇降機構及びシリンダ１３が設けられる例について説明したが、本発明の範囲はこれに限られるものではない。
【００５２】
図８に示すように、ラミネート装置１０は、複数組の昇降機構（支持プレート１２、シャフト２１、第１アーム２２、ベアリング２３、軸受２５、及び第２アーム３１）並びにシリンダ１３と、を備えても良い。それにより、各駆動部（シリンダ１３）をコンパクトにすることができ、且つ、支持部１１をスムーズに上昇又は下降させることができる。
【００５３】
図９に示すように、ラミネート装置１０は、複数組の昇降機構（図示せず）及びシリンダ１３と、昇降機構及びシリンダ１３の各組を互いに結合し、複数のシャフト２１の間で回転力を伝達するリンク３３（回転力伝達部材）と、を備えても良い。この場合には、複数の昇降機構のうちの１本のシャフトが回転すると、リンク３３によりその回転が他の昇降機構のシャフトに伝わる。すなわち、各組の昇降機構が連動する。従って、各組の昇降機構のシャフトの回転量は、互いに等しい。その結果、各組の昇降機構の第１アームは、それぞれ、同時に回転する。それにより、駆動部（シリンダ１３）の数が昇降機構の数より少なくても、支持プレート１２は、傾くことなく、スムーズに垂直方向（Ｙ方向）に昇降する。なお、駆動部（シリンダ１３）の数は、幾つでも良い。
【００５４】
本実施形態では、駆動部が空圧式のシリンダ１３である例について説明したが、本発明の範囲はこれに限られるものではない。シリンダ１３は、油圧式であっても良い。また、駆動部は、回転アクチュエータ又は電気モータであっても良い。
【００５５】
なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化される。また、上述した実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明が形成可能である。例えば、上述した実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。
【符号の説明】
【００５６】
１ 上チャンバ
２ 下チャンバ
３ ダイヤフラム
４ ヒータ盤
５ 支柱
９ 搬送シート
１０ ラミネート装置
１１ 支持部
１２ 支持プレート
１３ シリンダ
１４ 電磁弁
１６ ストッパ
２１ シャフト
２２ 第１アーム
２３ ベアリング
２４ シール
２５ 軸受
２６ カム
３１ 第２アーム
３２ シリンダロッド
３３ リンク
Ｍ 被ラミネート体
Ｓ１ 第１側面
Ｓ２ 第２側面
【技術分野】
【０００１】
本発明は、太陽電池モジュール等にラミネート加工を行うのに適したラミネート装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、太陽電池モジュール等の薄板形状の被ラミネート体にラミネート加工を行うためのラミネート装置として、ダイヤフラムを備える上チャンバと、ヒータ盤を備える下チャンバと、を備えたラミネート装置が知られている（特許文献１を参照）。
【０００３】
特許文献１のラミネート装置は、被ラミネート体の内部の充填剤を融解させ、被ラミネート体を挟圧することにより、被ラミネート体にラミネート加工を行うように構成される。例えば、特許文献１のラミネート装置では、被ラミネート体を載せた搬送シートは、ヒータ盤に接触しないように支持部によりその下面が支持された状態で、被ラミネート体をラミネート装置に搬入する。次いで、上チャンバを下降させることにより、ラミネート装置を密閉状態にする。次いで、ラミネート装置内を真空引きする。次いで、支持部を下降させることにより、被ラミネート体をヒータ盤に密着させる。次いで、上チャンバに大気を導入し、ダイヤフラムを下方に膨張させることにより、被ラミネート体がヒータ盤とダイヤフラムとにより挟圧され、ラミネート加工が行われる。
【０００４】
一方、ラミネート加工を効率的に行うために、ラミネート装置を積み重ねる方法（以下、「ラミネート装置の多段化」という）が考えられる。ラミネート装置の多段化には、ラミネート装置をコンパクトにすることが要求される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−１１４５４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１のラミネート装置は、支持部を昇降させるために、支持部が結合される支持プレートと、支持プレートを昇降させるための昇降機構と、昇降機構を駆動するための駆動部と、を備える。駆動部は、下チャンバの下面に設けられ、ラミネート装置からはみ出している。従って、下チャンバの厚みが増加する。このため、特許文献１のラミネート装置の多段化を実現することができなかった。
【０００７】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、ラミネート装置をコンパクトにすることにより、多段化に対応可能なラミネート装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決するために、本発明の一態様によれば、ダイヤフラムを備える上チャンバと、ヒータ盤を備える下チャンバと、前記上チャンバと前記下チャンバとの間に設けられ、被ラミネート体を搬送する搬送シートと、前記搬送シートを支持する支持部と、前記支持部を上昇又は下降させる昇降機構と、前記下チャンバの側面に設けられ、前記昇降機構を駆動する駆動部と、を備える、ことを特徴とするラミネート装置が提供される。
【０００９】
本発明において、前記駆動部の底面は、前記下チャンバの下面よりも高い位置に設けられ、且つ、前記駆動部の上面は、前記下チャンバの上面よりも低い位置に設けられても良い。
【００１０】
本発明において、前記昇降機構は、前記支持部を上昇又は下降させる方向にそれぞれ移動させる１つ又は複数の第１アームと、前記１つ又は複数の第１アームの支点を回転させるシャフトと、を備え、前記駆動部は、前記シャフトを回転駆動しても良い。
【００１１】
本発明において、前記昇降機構は、さらに、前記駆動部の駆動力を前記シャフトの回転力に変換する第２アームを備えても良い。
【００１２】
本発明において、前記昇降機構は、さらに、前記第１アームの先端部に接続され、前記支持部を上昇又は下降させる際の摩擦力を軽減する摩擦軽減部材を備えても良い。
【００１３】
本発明において、前記昇降機構は、前記支持部を上昇又は下降させる方向にそれぞれ移動させる複数の第１アームと、前記複数の第１アームのうち対応する第１アームの支点をそれぞれ回転させる複数のシャフトと、を備え、前記駆動部は、前記複数のシャフトを回転駆動しても良い。
【００１４】
本発明において、前記駆動部は、さらに、前記複数のシャフトの間で回転力を伝達する回転力伝達部材を備えても良い。
【００１５】
本発明において、前記駆動部は、前記複数のシャフトのそれぞれ毎に設けられ、各シャフトを回転駆動する複数の回転機構を備えても良い。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、ラミネート装置がコンパクトになる。それにより、ラミネート装置が多段化に対応可能になる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本実施形態に係るラミネート装置１０の正面断面図。
【図２】図１の破線部Ａを説明するための模式図。
【図３】図２の破線Ｂ−Ｂの断面図。
【図４】図１のシリンダ１３の概略図。
【図５】本実施形態に係るラミネート加工の工程を示す概略図。
【図６】本実施形態に係るラミネート装置１０の垂直方向（Ｙ方向）の多段化を示す概略図。
【図７】本実施形態の変形例に係る昇降機構の拡大図。
【図８】本実施形態の変形例に係るラミネート装置１０の側面図。
【図９】本実施形態の変形例に係るラミネート装置１０の側面図。
【図１０】従来のラミネート装置の正面断面図。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。
【００１９】
本実施形態に係るラミネート装置の構成について説明する。図１は、本実施形態に係るラミネート装置１０の正面断面図である。図２は、図１の破線部Ａを説明するための模式図である。図３は、図２の破線Ｂ−Ｂの断面図である。図４は、図１のシリンダ１３の概略図である。
【００２０】
図１のラミネート装置１０は、太陽電池モジュール等にラミネート加工を行う装置である。例えば、太陽電池モジュールは、カバーガラス、充填剤、太陽電池セル、及び裏面材等の構成部材を備える。太陽電池モジュールの内部の充填剤を融解させ、太陽電池モジュールが挟圧されることにより、各構成部材が接着される。それにより、太陽電池モジュールにラミネート加工が行われる。
【００２１】
図１のラミネート装置１０は、上チャンバ１と、下チャンバ２と、を備える。
【００２２】
図１に示すように、上チャンバ１には、ダイヤフラム３が設けられる。ダイヤフラム３は、上チャンバ１を水平方向（Ｘ方向）に横切っている。ダイヤフラム３は、被ラミネート体Ｍを押圧するように構成される。例えば、ダイヤフラム３は、シリコン又はブチルを含む化合物により形成される。
【００２３】
図１に示すように、下チャンバ２には、複数の支柱５と、シャフト２１と、が設けられる。各支柱５は垂直方向（Ｙ方向）に伸びるように設けられる。シャフト２１は水平方向（Ｘ方向）に延びるように設けられる。
【００２４】
図１に示すように、各支柱５上には、ヒータ盤４が設けられる。それにより、ヒータ盤４は、下チャンバ２に固定される。例えば、ヒータ盤４は、アルミ製の金属板と、その金属板に覆われた熱源と、を備える。
【００２５】
図１に示すように、シャフト２１は、下チャンバ２の側面を貫通する。シャフト２１の第１端部Ｅ１には、第２アーム３１が設けられる。第２アーム３１には、回転機構としてのシリンダ（駆動部）１３が設けられる。下チャンバ２の第１側面Ｓ１及び第２側面Ｓ２には、シャフト２１の軸受２５が設けられる。シャフト２１と下チャンバ２との間には、ラミネート装置１０への空気の流入を防ぐためのＯリング等のシール２４が設けられる。シャフト２１には、複数の第１アーム２２が互いに所定間隔を隔てて設けられる。各第１アーム２２は、支持部１１を上昇又は下降させる方向に移動させるようになっている。各第１アーム２２の先端部には、カムフォロア等のベアリング（摩擦軽減部材）２３が設けられる。ベアリング２３は、水平な支持プレート１２の下面に接している。支持プレート１２の重さは、約１００［ｋｇ］である。ベアリング２３は、支持部１１を上昇又は下降させる際の摩擦力を軽減するようになっている。支持プレート１２の上面には、複数の支持部１１が互いに所定間隔を隔てて設けられる。各支持部１１の上端は、搬送シート９の下面に接している。すなわち、搬送シート９は、各支持部１１により支持されている。搬送シート９は、被ラミネート体Ｍをラミネート装置１０に搬入又は搬出するために、被ラミネート体Ｍを水平方向（Ｘ方向）に搬送するように構成される。
【００２６】
図１に示すように、シリンダ１３の底面は、下チャンバ２の下面よりも高い位置に設けられる。シリンダ１３の上面は、下チャンバ２の上面よりも低い位置に設けられる。すなわち、シリンダ１３の垂直方向（Ｙ方向）の大きさは、下チャンバ２の第１側面Ｓ１の垂直方向（Ｙ方向）の大きさより小さい。換言すると、シリンダ１３は、下チャンバ２から垂直方向（Ｙ方向）に突出していない。また、第２アーム３１、軸受２５、及びシャフト２１も、下チャンバ２から垂直方向（Ｙ方向）に突出していない。従って、シリンダ１３、第２アーム３１、軸受２５、及びシャフト２１は、ラミネート装置１０の垂直方向（Ｙ方向）の大きさに影響を与えない。
【００２７】
図２及び図３に示すように、第１アーム２２には、シャフト２１及びベアリング２３が設けられる。シャフト２１は、第１アーム２２の中心から所定距離だけ隔てた位置を水平方向（Ｘ方向）に貫通する。シャフト２１は、第１アーム２２の支点を回転させるようになっている。従って、シャフト２１が回転すると、ベアリング２３の位置が垂直方向（Ｙ方向）に移動する。それにより、支持プレート１２が垂直方向（Ｙ方向）に移動する。すなわち、支持プレート１２は、シャフト２１の回転方向に応じて、昇降する。例えば、図３では、シャフト２１が反時計回りに回転すると支持プレート１２は上昇し、シャフト２１が時計回りに回転すると支持プレート１２が垂直方向（Ｙ方向）に下降する。支持プレート１２の上昇幅及び下降幅は、約３〜４［ｍｍ］である。
【００２８】
図４のシリンダ１３は、空圧式である。シリンダロッド３２には、第２アーム３１が設けられる。第２アーム３１は、シリンダ１３の駆動力をシャフト２１の回転力に変換するようになっている。シリンダ１３には、電磁弁１４が設けられる。電磁弁１４は、シリンダ１３のシリンダロッド３２を伸縮させるために送られる圧縮空気の通路を切り換えるように構成される。
【００２９】
図４の電磁弁１４によりシリンダロッド３２がＺ１方向に伸びると、第２アーム３１がＺ１方向に動く。それにより、シャフト２１が反時計回りに回転する。その結果、支持プレート１２が垂直方向（Ｙ方向）に上昇する（図３を参照）。
【００３０】
次いで、図４の電磁弁１４によりシリンダロッド３２がＺ２方向に縮むと、第２アーム３１がＺ２方向に動く。それにより、シャフト２１が時計回りに回転する。その結果、支持プレート１２が垂直方向（Ｙ方向）に下降する（図３を参照）。
【００３１】
図４のシリンダロッド３２の伸張方向には、シリンダロッド３２の伸張量を制限するためのストッパ１６が設けられる。ストッパ１６の位置を調整することにより、シリンダロッド３２の伸張量を制御することができる。すなわち、ストッパ１６の位置を調整することにより、図１の支持プレート１２の上昇量を制御することができる。
【００３２】
なお、図１の支柱５、支持部１１、第１アーム２２、及びベアリング２３の数は幾つでも良い。また、図１の軸受２５は、シャフト２１の剛性を維持するために、下チャンバ２の内壁に設けられても良い。
【００３３】
本実施形態に係るラミネート加工について説明する。図５は、本実施形態に係るラミネート加工の工程を示す概略図である。図５において、被ラミネート体Ｍ１は、最初にラミネート加工が行われる太陽電池モジュールであり、被ラミネート体Ｍ２は、被ラミネート体Ｍ１の次にラミネート加工が行われる太陽電池モジュールである。
【００３４】
図５（Ａ）に示すように、被ラミネート体Ｍ１がラミネート装置１０に搬入されるときは、図４の電磁弁１４によりシリンダロッド３２がＺ１方向に伸び、シャフト２１が反時計回りに所定角度だけ回転する。それにより、図３の指示プレート１２が垂直方向（Ｙ方向）に上昇し、搬送シート９も垂直方向（Ｙ方向）に上昇する。その結果、搬送シート９とヒータ盤４との間の距離がＤになる。例えば、Ｄは約３〜４［ｍｍ］である。すなわち、被ラミネート体Ｍ１はヒータ盤４には接していない。
【００３５】
次いで、図５（Ｂ）に示すように、搬送シート９とヒータ盤４との間の距離がＤに保たれたまま、搬送シート９により被ラミネート体Ｍ１がラミネート装置１０に搬入され、搬送シート９が停止し、図１の上チャンバ１が垂直方向（Ｙ方向）に下降する。それにより、ラミネート装置１０が密封される。次いで、ラミネート装置１０内を真空引きする。このとき、ラミネート装置１０外の搬送シート９上には、被ラミネート体Ｍ２が待機している。
【００３６】
次いで、図５（Ｃ）に示すように、図４の電磁弁１４によりシリンダロッド３２がＺ２方向に縮み、シャフト２１が時計回りに所定角度だけ回転する。それにより、図３の支持プレート１２が垂直方向（Ｙ方向）に下降し、搬送シート９も垂直方向（Ｙ方向）に下降する。その結果、搬送シート９はヒータ盤４に接触する（すなわち、搬送シート９とヒータ盤４との距離が０になる）。次いで、図１の上チャンバ１に大気を導入し、ダイヤフラム３を下方に膨張させることにより、被ラミネート体Ｍ１がヒータ盤４とダイヤフラム３とにより挟圧され、被ラミネート体Ｍ１の内部の充填剤が融解し、被ラミネート体Ｍ１にラミネート加工が行われる。
【００３７】
次いで、図５（Ｄ）に示すように、上チャンバ１を開き、図４の電磁弁１４によりシリンダロッド３２がＺ１方向に伸び、シャフト２１が反時計回りに所定角度だけ回転する。それにより、図３の指示プレート１２が垂直方向（Ｙ方向）に上昇し、搬送シート９も垂直方向（Ｙ方向）に上昇する。その結果、搬送シート９とヒータ盤４との間の距離がＤになる。このとき、被ラミネート体Ｍ１及びＭ２はヒータ盤４には接していない。次いで、搬送シート９とヒータ盤４との間の距離がＤに保たれたまま、搬送シート９により、ラミネート加工が行われた被ラミネート体Ｍ１がラミネート装置１０から搬出され、被ラミネート体Ｍ２がラミネート装置１０に搬入される。
【００３８】
以後、搬送シート９に載置された全ての被ラミネート体Ｍに対するラミネート加工が完了するまで、図５（Ｂ）〜（Ｄ）の工程が繰り返される。
【００３９】
なお、搬送シート９が垂直方向（Ｙ方向）に昇降したときの搬送シート９とヒータ盤４との距離は、シャフト２１の回転角度に基づいて定められる。すなわち、シャフト２１の回転角度を調整することにより、距離を制御することができる。例えば、シリンダ１３のシリンダロッド３２の伸びが大きくなると、距離が大きくなる。
【００４０】
（比較例）
本実施形態に係るラミネート装置１０と従来のラミネート装置との比較例について説明する。図１０は、従来のラミネート装置の正面断面図である。
【００４１】
図１０に示すように、従来のラミネート装置では、シリンダ１３は、下チャンバ２よりも垂直方向（Ｙ方向）に突出するように、下チャンバ２の下面Ｕに設けられる。すなわち、従来のラミネート装置では、シリンダ１３が垂直方向（Ｙ方向）の突起物になる。
【００４２】
一方、本実施形態に係るラミネート装置１０は、ダイヤフラム３を備える上チャンバ１と、ヒータ盤４を備える下チャンバ２と、上チャンバ１と下チャンバ２との間に設けられ、被ラミネート体Ｍを搬送する搬送シート９と、搬送シート９を支持する支持部１１と、支持部１１を上昇又は下降させる昇降機構（支持プレート１２、シャフト２１、第１アーム２２、ベアリング２３、軸受２５、及び第２アーム３１）と、下チャンバ２の側面（第１側面Ｓ１）に設けられ、昇降機構を駆動する駆動部（シリンダ１３）と、を備える。それにより、シリンダ１３は、垂直方向（Ｙ方向）の突起物にはならない。すなわち、ラミネート装置１０は、図１０のラミネート装置に比べて、垂直方向（Ｙ方向）の大きさが小さい。その結果、図６に示すように、ラミネート装置１０は、垂直方向（Ｙ方向）の多段化に対応可能になる。
【００４３】
また、本実施形態では、 駆動部（シリンダ１３）の底面は、下チャンバ２の下面よりも高い位置に設けられ、且つ、駆動部（シリンダ１３）の上面は、下チャンバ２の上面よりも低い位置に設けられる。駆動部（シリンダ１３）の底面が下チャンバ２の下面よりも高いので、ラミネート装置１０が垂直方向（Ｙ方向）の多段化に対応可能になる。また、駆動部（シリンダ１３）の上面が下チャンバ２の上面より低いので、駆動部（シリンダ１３）がユーザの作業（例えば、メンテナンス）の邪魔にならない。
【００４４】
また、本実施形態では、昇降機構は、支持部１１を上昇又は下降させる方向に移動させる１つ又は複数の第１アーム２２と、１つ又は複数の第１アーム２２始点を回転させるシャフト２１と、を備え、駆動部（シリンダ１３）は、シャフト２１を回転駆動しても良い。それにより、支持プレート１２のたわみを防ぐことができる。また、支持プレート１２の加重が複数の第１アーム２２に分散するので、各第１アーム２２をコンパクトにすることができ、且つ、そのような第１アーム２２を駆動する駆動部（シリンダ１３）もコンパクトにすることができる。
【００４５】
また、本実施形態では、昇降機構は、さらに、駆動部（シリンダ１３）の駆動力をシャフト２１の回転力に変換する第２アーム３１を備えても良い。それにより、簡易な構造を用いて、昇降機構を実現することができる。
【００４６】
また、本実施形態では、昇降機構は、さらに、第１アーム２２の先端部に接続され、支持部１１を上昇又は下降させる際の摩擦力を軽減する摩擦軽減部材（ベアリング２３）を備えても良い。それにより、支持部１１及び第１アーム２２の磨耗を防ぐことができる。
【００４７】
また、本実施形態では、昇降機構は、支持部１１を上昇又は下降させる方向にそれぞれ移動させる複数の第１アーム２２と、複数の第１アーム２２のうち対応する第１アーム２２の支点をそれぞれ回転させる複数のシャフト２１と、を備え、駆動部（シリンダ１３）は、複数のシャフト２１を回転駆動しても良い。それにより、支持部１１をスムーズに上昇又は下降させることができる。また、シリンダ１３や摩擦軽減部材（ベアリング２３）等の様々な部品をコンパクトにすることができる。
【００４８】
また、本実施形態では、駆動部（シリンダ１３）は、複数のシャフト２１のそれぞれ毎に設けられ、各シャフト２１を回転駆動する複数の回転機構を備えても良い。それにより、各駆動部（シリンダ１３）をコンパクトにすることができ、且つ、支持部１１をスムーズに上昇又は下降させることができる。
【００４９】
本実施形態では、昇降機構が、支持プレート１２と、シャフト２１と、第１アーム２２と、ベアリング２３と、軸受２５と、第２アーム３１と、により実現される例について説明したが、本発明の範囲はこれに限られるものではない。
【００５０】
図７に示すように、昇降機構は、支持プレート１２と、シャフト２１と、カム２６と、により実現されても良い。シャフト２１は、カム２６の中心から所定距離だけ隔てた位置を水平方向に貫通する。すなわち、シャフト２１の中心とカム２６の中心とは所定距離だけずれている。従って、シャフト２１が回転すると、カム２６がシャフト２１を軸に回転する。それにより、支持プレート１２が垂直方向（Ｙ方向）に移動する。すなわち、支持プレート１２は、シャフト２１の回転方向に応じて、昇降する。例えば、図７では、シャフト２１が反時計回りに回転すると支持プレート１２は上昇し、シャフト２１が時計回りに回転すると支持プレート１２が垂直方向（Ｙ方向）に下降する。
【００５１】
また、本実施形態では、１組の昇降機構及びシリンダ１３が設けられる例について説明したが、本発明の範囲はこれに限られるものではない。
【００５２】
図８に示すように、ラミネート装置１０は、複数組の昇降機構（支持プレート１２、シャフト２１、第１アーム２２、ベアリング２３、軸受２５、及び第２アーム３１）並びにシリンダ１３と、を備えても良い。それにより、各駆動部（シリンダ１３）をコンパクトにすることができ、且つ、支持部１１をスムーズに上昇又は下降させることができる。
【００５３】
図９に示すように、ラミネート装置１０は、複数組の昇降機構（図示せず）及びシリンダ１３と、昇降機構及びシリンダ１３の各組を互いに結合し、複数のシャフト２１の間で回転力を伝達するリンク３３（回転力伝達部材）と、を備えても良い。この場合には、複数の昇降機構のうちの１本のシャフトが回転すると、リンク３３によりその回転が他の昇降機構のシャフトに伝わる。すなわち、各組の昇降機構が連動する。従って、各組の昇降機構のシャフトの回転量は、互いに等しい。その結果、各組の昇降機構の第１アームは、それぞれ、同時に回転する。それにより、駆動部（シリンダ１３）の数が昇降機構の数より少なくても、支持プレート１２は、傾くことなく、スムーズに垂直方向（Ｙ方向）に昇降する。なお、駆動部（シリンダ１３）の数は、幾つでも良い。
【００５４】
本実施形態では、駆動部が空圧式のシリンダ１３である例について説明したが、本発明の範囲はこれに限られるものではない。シリンダ１３は、油圧式であっても良い。また、駆動部は、回転アクチュエータ又は電気モータであっても良い。
【００５５】
なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化される。また、上述した実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明が形成可能である。例えば、上述した実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。
【符号の説明】
【００５６】
１ 上チャンバ
２ 下チャンバ
３ ダイヤフラム
４ ヒータ盤
５ 支柱
９ 搬送シート
１０ ラミネート装置
１１ 支持部
１２ 支持プレート
１３ シリンダ
１４ 電磁弁
１６ ストッパ
２１ シャフト
２２ 第１アーム
２３ ベアリング
２４ シール
２５ 軸受
２６ カム
３１ 第２アーム
３２ シリンダロッド
３３ リンク
Ｍ 被ラミネート体
Ｓ１ 第１側面
Ｓ２ 第２側面
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ダイヤフラムを備える上チャンバと、
ヒータ盤を備える下チャンバと、
前記上チャンバと前記下チャンバとの間に設けられ、被ラミネート体を搬送する搬送シートと、
前記搬送シートを支持する支持部と、
前記支持部を上昇又は下降させる昇降機構と、
前記下チャンバの側面に設けられ、前記昇降機構を駆動する駆動部と、を備える、
ことを特徴とするラミネート装置。
【請求項２】
前記駆動部の底面は、前記下チャンバの下面よりも高い位置に設けられ、且つ、前記駆動部の上面は、前記下チャンバの上面よりも低い位置に設けられる請求項１記載のラミネート装置。
【請求項３】
前記昇降機構は、前記支持部を上昇又は下降させる方向にそれぞれ移動させる１つ又は複数の第１アームと、前記１つ又は複数の第１アームの支点を回転させるシャフトと、を備え、
前記駆動部は、前記シャフトを回転駆動する、
請求項１又は２記載のラミネート装置。
【請求項４】
前記昇降機構は、さらに、前記駆動部の駆動力を前記シャフトの回転力に変換する第２アームを備える、
請求項３記載のラミネート装置。
【請求項５】
前記昇降機構は、さらに、前記第１アームの先端部に接続され、前記支持部を上昇又は下降させる際の摩擦力を軽減する摩擦軽減部材を備える、
請求項３又は４記載のラミネート装置。
【請求項６】
前記昇降機構は、前記支持部を上昇又は下降させる方向にそれぞれ移動させる複数の第１アームと、前記複数の第１アームのうち対応する第１アームの支点をそれぞれ回転させる複数のシャフトと、を備え、
前記駆動部は、前記複数のシャフトを回転駆動する、
請求項１記載のラミネート装置。
【請求項７】
前記駆動部は、さらに、前記複数のシャフトの間で回転力を伝達する回転力伝達部材を備える請求項６記載のラミネート装置。
【請求項８】
前記駆動部は、前記複数のシャフトのそれぞれ毎に設けられ、各シャフトを回転駆動する複数の回転機構を備える請求項６記載のラミネート装置。
【請求項１】
ダイヤフラムを備える上チャンバと、
ヒータ盤を備える下チャンバと、
前記上チャンバと前記下チャンバとの間に設けられ、被ラミネート体を搬送する搬送シートと、
前記搬送シートを支持する支持部と、
前記支持部を上昇又は下降させる昇降機構と、
前記下チャンバの側面に設けられ、前記昇降機構を駆動する駆動部と、を備える、
ことを特徴とするラミネート装置。
【請求項２】
前記駆動部の底面は、前記下チャンバの下面よりも高い位置に設けられ、且つ、前記駆動部の上面は、前記下チャンバの上面よりも低い位置に設けられる請求項１記載のラミネート装置。
【請求項３】
前記昇降機構は、前記支持部を上昇又は下降させる方向にそれぞれ移動させる１つ又は複数の第１アームと、前記１つ又は複数の第１アームの支点を回転させるシャフトと、を備え、
前記駆動部は、前記シャフトを回転駆動する、
請求項１又は２記載のラミネート装置。
【請求項４】
前記昇降機構は、さらに、前記駆動部の駆動力を前記シャフトの回転力に変換する第２アームを備える、
請求項３記載のラミネート装置。
【請求項５】
前記昇降機構は、さらに、前記第１アームの先端部に接続され、前記支持部を上昇又は下降させる際の摩擦力を軽減する摩擦軽減部材を備える、
請求項３又は４記載のラミネート装置。
【請求項６】
前記昇降機構は、前記支持部を上昇又は下降させる方向にそれぞれ移動させる複数の第１アームと、前記複数の第１アームのうち対応する第１アームの支点をそれぞれ回転させる複数のシャフトと、を備え、
前記駆動部は、前記複数のシャフトを回転駆動する、
請求項１記載のラミネート装置。
【請求項７】
前記駆動部は、さらに、前記複数のシャフトの間で回転力を伝達する回転力伝達部材を備える請求項６記載のラミネート装置。
【請求項８】
前記駆動部は、前記複数のシャフトのそれぞれ毎に設けられ、各シャフトを回転駆動する複数の回転機構を備える請求項６記載のラミネート装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【公開番号】特開２０１１−２３０４１２（Ｐ２０１１−２３０４１２Ａ）
【公開日】平成２３年１１月１７日（２０１１．１１．１７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１０４０３８（Ｐ２０１０−１０４０３８）
【出願日】平成２２年４月２８日（２０１０．４．２８）
【出願人】（５９５０１３４２７）株式会社エヌ・ピー・シー (54)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１１月１７日（２０１１．１１．１７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年４月２８日（２０１０．４．２８）
【出願人】（５９５０１３４２７）株式会社エヌ・ピー・シー (54)
【Ｆターム（参考）】
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