レーザー分解性樹脂組成物並びにそれを用いるレーザー分解性パターン形成材料及びレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版
【課題】高感度なレーザー分解性樹脂組成物及び当該組成物を用いた高感度なレーザー分解性パターン形成材料を提供すること。
【解決手段】芳香族基がウレタン結合と直接結合した構造を有するポリウレタン樹脂を含有することを特徴とするレーザー分解性樹脂組成物及び当該組成物を用いた高感度なレーザー分解性パターン形成材料。
【解決手段】芳香族基がウレタン結合と直接結合した構造を有するポリウレタン樹脂を含有することを特徴とするレーザー分解性樹脂組成物及び当該組成物を用いた高感度なレーザー分解性パターン形成材料。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はレーザー分解性樹脂組成物に関し、特にレーザーによって彫刻が可能な高い分解性と保存安定性を両立させた組成物、並びにそれを用いるレーザー分解性パターン形成材料及びレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版に関する。
【背景技術】
【０００２】
分解性樹脂、分解性樹脂組成物とは、例えば熱的因子、機械的因子、光化学的因子、放射線化学的因子、化学薬品的因子などの外部因子に応答して樹脂が分解するものであり、広く公知である。この樹脂の分解によって引き起こされる、樹脂または組成物の分解前後での形態の変化（液化、気化）、分子量、硬度、粘弾性、ガラス転移点（Ｔｇ）、溶解性、接着性などの性状や特性の変化を利用するものであり、各種の分野で使用されている。
【０００３】
このような分解性樹脂、分解性樹脂組成物の例としては例えばプラスチック材料の環境影響を低減させるための生分解性プラスチック（ポリ乳酸など）、医療・化粧品・ライフサイエンス分野などにおいて薬剤、香料などの成分を徐々に放出させるための徐放性材料などが挙げられる。但しこれらは自然環境下で酸素、光、酵素、生体内、土壌中などで徐々に分解するものであり、初期状態を安定に保ち、かつ外部刺激で一気に大きな性状の変化を引き起こすものではない。
【０００４】
またリサイクル性や廃棄処理の簡便化のために光や熱によって分解する樹脂や、接着性が低下する接着剤なども開発されている。更にセラミックス、炭素繊維などと分解性樹脂を混合し、焼成などによって分解性樹脂を除去することで多孔性材料を形成することも知られている。しかしながらこれらは材料全体を処理・加工するもので、必要な部分のみに必要なパターンを形成するものではない。また分解処理には大きなエネルギーが必要とされる。
【０００５】
画像形成への利用としては、例えば熱分解性樹脂を含むトナーを用いて、加熱定着時の熱による性状変化を利用して、トナーとしての保存安定性と画像定着性を両立させる例も知られている。しかしながら樹脂そのものがパターン状の刺激に対して十分な応答性を有しているものではない。
【０００６】
一方、パターン形成材料としては例えばフォトレジストとして、光酸発生剤と酸分解性樹脂とを含む組成物に対してパターン状に露光、必要に応じて加熱処理によって、パターン状に樹脂を分解し、現像処理でパターン形成を行うものが、所謂化学増幅型レジストとして広く知られている。この組成物は保存安定性とパターン形成性が実用レベルとして両立しているが、パターン形成には十分に処理条件が制御された現像過程が必須であり、また薄膜には適用可能であるが、例えば数十μｍ以上の厚膜でのパターン形成は困難である。
【０００７】
またレーザー光を画像様に照射して薄膜の一部を除去（アブレーション）する工程を利用することで画像を形成する方法も知られている（特許文献１）。しかしながら、熱分解性樹脂として取り上げられているの化合物はポリエステル、ポリカーボネート、ポリウレタンなど通常の汎用樹脂が例示されているにすぎず、また膜厚も１〜２μｍ程度に留まっている。また熱分解性を規定した化合物を用いる例も知られている（特許文献２）。しかしながら、この場合でも膜厚は１〜２μｍ程度に留まっている。
【０００８】
またプリント配線板へのペースト印刷などのためのマスク材料として、光分解性樹脂シートを利用して１００〜２００μｍ程度のパターンを形成するマスク、及びその製造方法が開示されている（特許文献３）。しかしながら、当該公報には具体的な化合物については開示されておらず、露光、現像の度合いを調整してパターンを形成するために制御された現像処理が必須となる。
【０００９】
一方で厚膜に対して簡便な処理でパターンを形成するものとしては、例えばレーザー加工によるパターン形成が知られており、レーザー光を画像様に照射することで基材そのものを除去したり変形、変色させたりするものである。例えばレーザマーカーとして、各種基材からなる製品（例えばビデオテープ、家電製品）にロット番号等の情報を記入するなどの利用がなされている。但しこの場合は、基材自体は通常の樹脂などをそのまま用いているものである。
レーザー加工によるパターン形成においては、レーザー彫刻部（凹部）が速やかに形成されることが望まれる。このためには、高感度なレーザー分解性樹脂組成物、高感度なレーザー分解性パターン形成材料が必要となる。
【００１０】
特に、レーザーにより直接描画するタイプのフレキソ印刷版原版（いわゆるレーザー彫刻用フレキソ印刷版）においては、レーザー光による彫り易さ（彫刻感度）が製版スピードを左右する為、高感度なレーザー分解性樹脂組成物を用いたレーザー彫刻用フレキソ印刷版が望まれている。
【００１１】
他方、ポリウレタン樹脂を含む光重合性組成物及びそれを光重合性感光層に用いたレーザー走査露光用平版印刷版原版が知られている（特許文献４、５）。ここで、ポリウレタン樹脂は光重合性組成物あるいは光重合性感光層のバインダーとして機能しており、レーザー走査露光によって分解するものではない。
【特許文献１】特開平１０−１１９４３６号公報
【特許文献２】特開平１０−２４４７５１号公報
【特許文献３】特開平８−２５８４４２号公報
【特許文献４】特開平１１−３５２６９１号公報
【特許文献５】特開２００１−１１７２２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明の目的は、高感度なレーザー分解性樹脂組成物を提供することである。本発明の他の目的は、高感度なレーザー分解性パターン形成材料を提供することである。本発明の更なる目的は、高感度なレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者は鋭意検討を重ねた結果、芳香族基がウレタン結合と直接結合した構造を有するポリウレタン樹脂をレーザー分解性樹脂組成物中に含有させると、レーザー照射により樹脂組成物が容易に分解することを見出し、本発明を完成するに至った。即ち、上記課題は下記の構成により達成される。
【００１４】
（１）芳香族基がウレタン結合と直接結合した構造を有するポリウレタン樹脂を含有することを特徴とするレーザー分解性樹脂組成物。
（２）前記ポリウレタン樹脂が、下記一般式（１）で表されるウレタン結合を含むポリウレタン樹脂であることを特徴とする上記（１）に記載のレーザー分解性樹脂組成物。
【００１５】
【化１】
【００１６】
一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して２価の有機基をあらわす。但し、Ｒ１及びＲ２の少なくとも一方は芳香族基である。
【００１７】
（３）前記一般式（１）におけるＲ２が、芳香族基であることを特徴とする上記（２）に記載のレーザー分解性樹脂組成物。
（４）前記一般式（１）におけるＲ１及びＲ２が、それぞれ芳香族基であることを特徴とする上記（２）に記載のレーザー分解性樹脂組成物。
（５）前記ポリウレタン樹脂が、更にカーボネート部位を有することを特徴とする上記（１）〜（４）のいずれか１項に記載のレーザー分解性樹脂組成物。
（６） 前記ポリウレタン樹脂が、更にアセタール部位を有することを特徴とする上記（１）〜（４）のいずれか１項に記載のレーザー分解性樹脂組成物。
（７）前記レーザー分解性樹脂組成物が、更に重合性化合物を含有することを特徴とする上記項（１）〜（５）のいずれか１項に記載のレーザー分解性樹脂組成物。
（８）前記レーザー分解性樹脂組成物が、更にバインダーポリマーを含有することを特徴とする上記（１）〜（７）のいずれか１項に記載のレーザー分解性樹脂組成物。
（９）上記（７）に記載のレーザー分解性樹脂組成物を硬化させてなることを特徴とするレーザー分解性樹脂組成物。
（１０）上記（８）に記載のレーザー分解性樹脂組成物を硬化させてなることを特徴とするレーザー分解性樹脂組成物。
【００１８】
（１１）支持体上に、上記（１）〜（７）及び（９）のいずれか１項に記載のレーザー分解性樹脂組成物からなる熱分解性樹脂層を有することを特徴とするパターン形成材料。
（１２）支持体上に、上記（８）または（１０）に記載のレーザー分解性樹脂組成物からなる熱分解性樹脂層を有することを特徴とするパターン形成材料。
（１３）支持体上に、少なくとも２つの熱分解性樹脂層を有し、支持体に近い樹脂層を構成する樹脂が、芳香族基がウレタン結合と直接結合した構造を有するポリウレタン樹脂であることを特徴とするレーザー分解性パターン形成材料。
（１４）前記支持体に近い樹脂層より上に存在する樹脂層を構成する樹脂の熱分解温度が、前記芳香族基を含むポリウレタン樹脂の熱分解温度より高いことを特徴とする上記（１３）に記載のレーザー分解性パターン形成材料。
（１５）前記ポリウレタン樹脂が、下記一般式（１）で表されるウレタン結合を含むポリウレタン樹脂であることを特徴とする上記（１３）又は（１４）に記載のレーザー分解性パターン形成材料。
【００１９】
【化２】
【００２０】
一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して２価の有機基をあらわす。但し、Ｒ１及びＲ２の少なくとも一方は芳香族基である。
【００２１】
（１６）前記一般式（１）におけるＲ２が、芳香族基であることを特徴とする上記（１５
）に記載のレーザー分解性パターン形成材料。
（１７）前記一般式（１）におけるＲ１及びＲ２が、それぞれ芳香族基であることを特徴とする上記（１５）に記載のレーザー分解性パターン形成材料。
（１８）前記ポリウレタン樹脂が、更にカーボネート部位を有することを特徴とする上記（１３）〜（１７）のいずれか１項に記載のレーザー分解性パターン形成材料。
（１９）上記（１０）〜（１７）のいずれか１項に記載のレーザー分解性パターン形成材料からなるレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版。
【発明の効果】
【００２２】
本発明のレーザー分解性樹脂組成物を用いると、高感度なレーザー分解性パターン形成材料、特に高感度なレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版が得られ、高感度でレーザー彫刻ができ、容易にパターンを形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下に、本発明のレーザー分解性樹脂組成物について詳細に説明する。
本発明のレーザー分解性樹脂組成物は、芳香族基がウレタン結合と直接結合した構造を有するポリウレタン樹脂を含有することを特徴としている。
まず、本発明に用いられる芳香族基がウレタン結合と直接結合した構造を有するポリウレタン樹脂について説明する。
芳香族基がウレタン結合と直接結合した構造を有するポリウレタン樹脂（以下、特定ポリウレタン樹脂と称することもある）とは、その製造に用いられるジイソシアネート化合物及びジオール化合物の中の少なくとも１つが芳香族基を含むものであることを意味する。具体的には、ポリウレタン樹脂の製造に当たり、原料として、芳香族ジイソシアネート化合物及び又は芳香族ジオール化合物を用いることにより得られる樹脂である。
【００２４】
芳香族基がウレタン結合と直接結合した構造を有するポリウレタン樹脂のうち、下記一般式（１）で表されるウレタン結合を含むポリウレタン樹脂は特に好ましい。
【００２５】
【化３】
【００２６】
一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して２価の有機基をあらわす。但し、Ｒ１及びＲ２の少なくとも一方は芳香族基である。
【００２７】
上記一般式（１）における芳香族基は特に制限ないが、合成の簡便さからは、置換基を有してもよいフェニレン基または置換基を有してもよいナフチレン基が好ましい。特に置換基を有してもよいフェニレン基が好ましい。とりわけ電子吸引性の置換基、例えば、カルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基などで置換されたフェニレン基が好ましい。
【００２８】
次に、本発明に係る特定ポリウレタン樹脂の基本骨格について説明する。特定ポリウレタン樹脂は、下記一般式（４）で表されるジイソシアネート化合物の少なくとも１種と下記一般式（５）で表されるジオール化合物の少なくとも１種との反応生成物である構造単位を基本骨格とするポリウレタン樹脂である。
ＯＣＮ−Ｘ0−ＮＣＯ （４）
ＨＯ−Ｙ0−ＯＨ （５）
【００２９】
一般式（４）および（５）中、Ｘ0、Ｙ0は、それぞれ独立に２価の有機残基を表す。但
し、Ｘ0およびＹ0で表される有機残基の少なくとも一方は、ＮＣＯ基あるいはＯＨ基と芳香族基で結合している。
【００３０】
(１）ジイソシアネート化合物
上記一般式（４）で表されるジイソシアネート化合物としては、Ｘ0で表される有機残
基がＮＣＯ基に直接結合した芳香族基をもっていることが好ましい。
好ましいジイソシアネート化合物は、下記一般式（６）で表されるジイソシアネート化合物である。
【００３１】
ＯＣＮ−Ｌ1−ＮＣＯ （６）
【００３２】
一般式（６）中、Ｌ1は置換基を有していてもよい２価芳香族炭化水素基を表す。置換
基としては、例えば、アルキル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ）などが挙げられる。必要に応じ、Ｌ1はイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えばエステル、ウレタン、アミド、
ウレイド基を有していてもよい。
【００３３】
上記一般式（６）で表されるジイソシアネート化合物としては、具体的には以下に示すものが含まれる。すなわち、２，４−トリレンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネートの二量体、２，６−トリレンジレンジイソシアネート、ｐ−キシリレンジイソシアネート、ｍ−キシリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、１，５−ナフチレンジイソシアネート、３，３’−ジメチルビフェニル−４，４’−ジイソシアネート等のような芳香族ジイソシアネート化合物が挙げられる。
特に熱分解性の観点で４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、１，５−ナフチレンジイソシアネートが好ましい。
【００３４】
本発明で使用される特定ポリウレタン樹脂は、例えば、レーザー分解性樹脂組成物中の他の成分との相溶性を向上させ、保存安定性を向上させるといった観点から、上記以外のジイソシアネート化合物を併用することができる。
例えばヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等のような脂肪族ジイソシアネート化合物；イソホロンジイソシアネート、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）、メチルシクロヘキサン−２，４（または２，６）ジイソシアネート、１，３−（イソシアネートメチル）シクロヘキサン等のような脂環族ジイソシアネート化合物； １，３−ブチレングリコール１モルとトリレンジイソシアネート２モルとの付加体等のようなジオールとジイソシアネートとの反応物であるジイソシアネート化合物；等が挙げられる。
また、トリイソシアネートの3つのNCOのうちの１つに単官能アルコールを付加させて得たジイソシアネートを用いることもできる。
【００３５】
(２）ジオール化合物
ジオール化合物としては、特にＹ0で表される有機残基がOH基に直接結合した芳香族基
をもっていることが好ましい。
具体的には以下の一般式（Ａ−１）〜（Ａ−３）で表されるジオール化合物が好ましい。
【００３６】
ＨＯ−Ａｒ1−ＯＨ 一般式（Ａ−１）
ＨＯ−（Ａｒ1−Ａｒ2）ｍ−ＯＨ 一般式（Ａ−２）
ＨＯ−Ａｒ1−Ｘ−Ａｒ2−ＯＨ 一般式（Ａ−３）
【００３７】
式中、Ａｒ1とＡｒ2は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ芳香環を表す。このような芳香環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、ピレン環、複素環等を挙げることができる。これらの芳香環は置換基を有していてもよい。置換基としては、例えば、アルキル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ）などが挙げられる。
原料入手のしやすさの観点から、好ましくは、ベンゼン環とナフタレン環である。膜形成性も考慮するとベンゼン環が特に好ましい。
Ｘは２価の有機残基である。ｍは膜形成性の観点から１〜３が好ましい。特に好ましくは1である。
【００３８】
一般式（Ａ−１）で表されるジオール化合物の好ましい例としては、1,4-ジヒドロキシベンゼン、1,8-ジヒドロキシナフタレンがある。
一般式（Ａ−２）で表されるジオール化合物の好ましい例としては、4,4’-ジヒドロキシビフェニル、2,2’-ヒドロキシビナフチルがある。
一般式（Ａ−３）で表されるジオール化合物の好ましい例としては、ビスフェノールA
、4,4’-ビス（ヒドロキシフェニル）メタンがある。
【００３９】
本発明で使用される特定ポリウレタン樹脂は、例えば、レーザー分解性樹脂組成物中の他の成分との相溶性を向上させ、保存安定性を向上させるといった観点から、上記以外のジオール化合物を併用することができる。
そのようなジオール化合物としては、例えば、ポリエーテルジオール化合物、ポリエステルジオール化合物、ポリカーボネートジオール化合物を挙げることできる。
ポリエーテルジオール化合物としては、下記式（７）、（８）、（９）、（１０）、（１１）で表される化合物、および、末端に水酸基を有するエチレンオキシドとプロピレンオキシドとのランダム共重合体が挙げられる。
【００４０】
【化４】
【００４１】
式（７）〜（１１）中、Ｒ14は水素原子またはメチル基を表し、Ｘ1は、以下の基を表
す。また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇはそれぞれ２以上の整数を表し、好ましくは２〜１００の整数である。
【００４２】
【化５】
【００４３】
上記式（７）、（８）で表されるポリエーテルジオール化合物としては具体的には以下に示すものが挙げられる。すなわち、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ペンタエチレングリコール、ヘキサエチレングリコール、ヘプタエチレングリコール、オクタエチレングリコール、ジ−１，２−プロピレングリコール、トリ−１，２−プロピレングリコール、テトラ−１，２−プロピレングリコール、ヘキサ−１，２−プロピレングリコール、ジ−１，３−プロピレングリコール、トリ−１，３−プロピレングリコール、テトラ−１，３−プロピレングリコール、ジ−１，３−ブチレングリコール、トリ−１，３−ブチレングリコール、ヘキサ−１，３−ブチレングリコール、重量平均分子量１０００のポリエチレングリコール、重量平均分子量１５００のポリエチレングリコール、重量平均分子量２０００のポリエチレングリコール、重量平均分子量３０００のポリエチレングリコール、重量平均分子量７５００のポリエチレングリコール、重量平均分子量４００のポリプロピレングリコール、重量平均分子量７００のポリプロピレングリコール、重量平均分子量１０００のポリプロピレングリコール、重量平均分子量２０００のポリプロピレングリコール、重量平均分子量３０００のポリプロピレングリコール、重量平均分子量４０００のポリプロピレングリコール等である。
【００４４】
上記式（９）で表されるポリエーテルジオール化合物としては、具体的には以下に示すものが挙げられる。すなわち、三洋化成工業（株）製、（商品名）ＰＴＭＧ６５０、ＰＴＭＧ１０００、ＰＴＭＧ２０００、ＰＴＭＧ３０００等である。
【００４５】
上記式（１０）で表されるポリエーテルジオール化合物としては、具体的には以下に示すものが挙げられる。すなわち、三洋化成工業（株）製、（商品名）ニューポールＰＥ−６１、ニューポールＰＥ−６２、ニューポールＰＥ−６４、ニューポールＰＥ−６８、ニューポールＰＥ−７１、ニューポールＰＥ−７４、ニューポールＰＥ−７５、ニューポールＰＥ−７８、ニューポールＰＥ−１０８、ニューポールＰＥ−１２８、ニューポールＰＥ−６１等である。
【００４６】
上記式（１１）で表されるポリエーテルジオール化合物としては、具体的には以下に示すものが挙げられる。すなわち、三洋化成工業（株）製、（商品名）ニューポールＢＰＥ−２０、ニューポールＢＰＥ−２０Ｆ、ニューポールＢＰＥ−２０ＮＫ、ニューポールＢＰＥ−２０Ｔ、ニューポールＢＰＥ−２０Ｇ、ニューポールＢＰＥ−４０、ニューポールＢＰＥ−６０、ニューポールＢＰＥ−１００、ニューポールＢＰＥ−１８０、ニューポールＢＰＥ−２Ｐ、ニューポールＢＰＥ−２３Ｐ、ニューポールＢＰＥ−３Ｐ、ニューポールＢＰＥ−５Ｐ等である。
【００４７】
末端に水酸基を有するエチレンオキシドとプロピレンオキシドとのランダム共重合体としては、具体的には以下に示すものが挙げられる。すなわち、三洋化成工業（株）製、（商品名）ニューポール５０ＨＢ−１００、ニューポール５０ＨＢ−２６０、ニューポール５０ＨＢ−４００、ニューポール５０ＨＢ−６６０、ニューポール５０ＨＢ−２０００、ニューポール５０ＨＢ−５１００等である。
【００４８】
ポリエステルジオール化合物としては、式（１２）、（１３）で表される化合物が挙げられる。
【００４９】
【化６】
【００５０】
式（１２）、（１３）中、Ｌ2、Ｌ3およびＬ4は、同一でも相違してもよく、それぞれ
２価の脂肪族または芳香族炭化水素基を表し、Ｌ5は２価の脂肪族炭化水素基を表す。好
ましくは、Ｌ2〜Ｌ4は、それぞれアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリレン基を表し、Ｌ5はアルキレン基を表す。またＬ2〜Ｌ5中にはイソシアネート基と反応
しない他の官能基、例えばエーテル、カルボニル、エステル、シアノ、オレフィン、ウレタン、アミド、ウレイド基またはハロゲン原子等が存在していてもよい。ｎ１、ｎ２はそれぞれ２以上の整数であり、好ましくは２〜１００の整数を表す。
【００５１】
ポリカーボネートジオール化合物としては、式（１４）で表される化合物が挙げられる。
【００５２】
【化７】
【００５３】
式（１４）中、Ｌ6は、同一でも相違してもよく、それぞれ２価の脂肪族または芳香族
炭化水素基を表す。好ましくは、Ｌ6はアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基
、アリーレン基を表す。またＬ6中にはイソシアネート基と反応しない他の官能基、例え
ばエーテル、カルボニル、エステル、シアノ、オレフィン、ウレタン、アミド、ウレイド基またはハロゲン原子等が存在していてもよい。ｎ３は２以上の整数であり、好ましくは２〜ｌ００の整数を表す。
上記式（１２）、（１３）または（１４）で表されるジオール化合物としては具体的には以下に示す（例示化合物Ｎｏ．１）〜（例示化合物Ｎｏ．１８）が含まれる。具体例中のｎは２以上の整数を表す。
【００５４】
【化８】
【００５５】
【化９】
【００５６】
【化１０】
【００５７】
また、特定ポリウレタン樹脂の合成には、上記ジオール化合物の他に、イソシアネート基と反応しない置換基を有するジオール化合物を併用することもできる。このようなジオール化合物としては、例えば、以下に示すものが含まれる。
【００５８】
ＨＯ−Ｌ7−Ｏ−ＣＯ−Ｌ8−ＣＯ−Ｏ−Ｌ7−ＯＨ （１５）
ＨＯ−Ｌ8−ＣＯ−Ｏ−Ｌ7−ＯＨ （１６）
【００５９】
式（１５）、（１６）中、Ｌ7、Ｌ8は、同一でも相違していてもよく、それぞれ置換基(例えば、アルキル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハ
ロゲン原子（−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ）など）を有していてもよい２価の脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基または複素環基を表す。必要に応じ、Ｌ7、Ｌ8中にイソシアネ
ート基と反応しない他の官能基、例えば、カルボニル基、エステル基、ウレタン基、アミド基、ウレイド基などを有していてもよい。なおＬ7、Ｌ8で環を形成してもよい。
【００６０】
更に、特定ポリウレタン樹脂の合成には、カルボキシル基、スルホン基、リン酸基などの酸基を有するジオール化合物を併用してもよい。特に、カルボキシル基を有するジオール化合物は、水素結合による膜強度向上と耐水性の観点で好ましい。カルボキシル基を有するジオール化合物としては、例えば、以下の式（１７）〜（１９）に示すものが含まれる。
【００６１】
【化１１】
【００６２】
式（１７）〜（１９）中、Ｒ15は水素原子、置換基（例えば、シアノ基、ニトロ基、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ等のハロゲン原子、−ＣＯＮＨ2、−ＣＯＯＲ16、−ＯＲ16、
−ＮＨＣＯＮＨＲ16、−ＮＨＣＯＯＲ16、−ＮＨＣＯＲ16、−ＯＣＯＮＨＲ16（ここで、Ｒ16は炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数７〜１５のアラルキル基を表す。）など）を有していてもよいアルキル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基を表し、好ましくは水素原子、炭素数１〜８個のアルキル基、炭素数６〜１５個のアリール基を表す。Ｌ9、Ｌ10、Ｌ11はそれぞれ同一でも相違していてもよく、単結合、置換
基（例えば、アルキル、アラルキル、アリール、アルコキシ、ハロゲノの各基が好ましい。）を有していてもよい２価の脂肪族または芳香族炭化水素基を表し、好ましくは炭素数１〜２０個のアルキレン基、炭素数６〜１５個のアリレン基、さらに好ましくは炭素数１〜８個のアルキレン基を表す。また必要に応じ、Ｌ9〜Ｌ11中にイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えばカルボニル、エステル、ウレタン、アミド、ウレイド、エーテル基を有していてもよい。なおＲ15、Ｌ9、Ｌ10、Ｌ11のうちの２または３個で環を形成してもよい。
【００６３】
Ａｒは置換基を有していてもよい三価の芳香族炭化水素基を表し、好ましくは炭素数６〜１５個の芳香族基を表す。
上記式（１７）〜（１９）で表されるカルボキシル基を有するジオール化合物としては具体的には以下に示すものが含まれる。すなわち、３，５−ジヒドロキシ安息香酸、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）プロピオン酸、２，２−ビス（２−ヒドロキシエチル）プロピオン酸、２，２−ビス（３−ヒドロキシプロピル）プロピオン酸、ビス（ヒドロキシメチル）酢酸、ビス（４−ヒドロキシフェニル）酢酸、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）酪酸、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン酸、酒石酸、Ｎ，Ｎ−ジヒドロキシエチルグリシン、Ｎ，Ｎ―ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−カルボキシ−プロピオンアミド等である。
【００６４】
また、特定ポリウレタン樹脂の合成には、下記の式（２０）〜（２２）で表されるテトラカルボン酸二無水物をジオール化合物で開環させた化合物を併用することもできる。
【００６５】
【化１２】
【００６６】
式（２０）〜（２２）中、Ｌ12は、単結合、置換基（例えばアルキル、アラルキル、アリール、アルコキシ、ハロゲノ、エステル、アミドなどが好ましい。）を有していてもよい二価の脂肪族または芳香族炭化水素基、−ＣＯ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−Ｏ−また
は−Ｓ−を表し、好ましくは単結合、炭素数１〜１５個の二価の脂肪族炭化水素基、−ＣＯ−、−ＳＯ2−、−Ｏ−またはＳ−を表す。Ｒ17、Ｒ18は、同一でも相違していてもよ
く、それぞれ水素原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシ基、またはハロゲノ基を表し、好ましくは、水素原子、炭素数１〜８個のアルキル基、炭素数６〜１５個のアリール基、炭素数１〜８個のアルコキシ基またはハロゲノ基を表す。またＬ12、Ｒ17、Ｒ18のうちの２つが結合して環を形成してもよい。Ｒ19、Ｒ20は、同一でも相違していてもよく、それぞれ水素原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基またはハロゲノ基を表し、好ましくは水素原子、炭素数１〜８個のアルキル、または炭素数６〜１５個のアリール基を表す。またＬ12、Ｒ19、Ｒ20のうちの２つが結合して環を形成してもよい。Ｌ13、Ｌ14は、同一でも相違していてもよく、それぞれ単結合、二重結合、または二価の脂肪族炭化水素基を表し、好ましくは単結合、二重結合、またはメチレン基を表す。Ａは単核または多核の芳香環を表す。好ましくは炭素数６〜１８個の芳香環を表す。
【００６７】
上記式（２０）、（２１）または（２２）で表される化合物としては、具体的には以下に示すものが含まれる。すなわち、ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’−べンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、４，４’−スルホニルジフタル酸二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、４，４’−［３，３’−（アルキルホスホリルジフェニレン）−ビス（イミノカルボニル）］ジフタル酸二無水物、ヒドロキノンジアセテートとトリメット酸無水物の付加体、ジアセチルジアミンとトリメット酸無水物の付加体などの芳香族テトラカルボン酸二無水物；５−（２，５−ジオキソテトラヒドロフリル）−３−メチル−３−シクロヘキセシ−１，２−ジカルボン酸無水物（大日本インキ化学工業（株）製、エピクロンＢ−４４００）、１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物などの脂環族テトラカルボン酸二無水物；１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，４，５−ペンタンテトラカルボン酸二無水物などの脂肪族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。
【００６８】
これらのテトラカルボン酸二無水物をジオール化合物で開環された化合物をポリウレタン樹脂中に導入する方法としては、例えば以下の方法がある。ａ）テトラカルボン酸二無水物をジオール化合物で開環させて得られたアルコール末端の化合物と、ジイソシアネート化合物とを反応させる方法。ｂ）ジイソシアネート化合物をジオール化合物過剰の条件下で反応させ得られたアルコール末端のウレタン化合物と、テトラカルボン酸二無水物とを反応させる方法。
【００６９】
またこのとき開環反応に使用されるジオール化合物としては、具体的には以下に示すものが含まれる。すなわち、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，３−ブチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、２−ブテン−１，４−ジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、１，４−ビス−β−ヒドロキシエトキシシクロヘキサン、シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、水添ビスフェノールＡ、水添ビスフェノールＦ、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加体、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加体、ビスフェノールＦのエチレンオキサイド付加体、ビスフェノールＦのプロピレンオキサイド付加体、水添ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加体、水添ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加体、ヒドロキノンジヒドロキシエチルエーテル、ｐ−キシリレングリコール、ジヒドロキシエチルスルホン、ビス（２−ヒドロキシエチル）−２，４−トリレンジカルバメート、２，４−トリレン−ビス（２−ヒドロキシエチルカルバミド）、ビス（２−ヒドロキシエチル）−ｍ−キシリレンジカルバメート、ビス（２−ヒドロキシエチル）イソフタレート等が挙げられる。
【００７０】
本発明の特定ポリウレタン樹脂は、上記のように、ウレタン結合以外に、官能基として、エーテル結合、アミド結合、ウレア結合、エステル結合、ウレタン結合、ビウレット結合およびアロファネート結合を少なくとも一つ含んでなる有機基を含んでいてもよい。
【００７１】
特に、特定ポリウレタン樹脂が、ウレタン結合以外に、さらにカーボネート部位及び/又はアセタール部位を有することが好ましい。
特定ポリウレタン樹脂がカーボネート部位を有する場合、主鎖中のウレタン結合の熱分解と同時に、カーボネート部位の熱分解に由来した二酸化炭素ガスが発生し、この二酸化炭素ガスが特定ポリウレタン樹脂の熱分解や熱分解物の飛散・除去を補助し、その結果、レーザー分解感度が向上し、レーザー彫刻深さが増大すると推定される。
カーボネート部位は主鎖、側鎖のいずれか片方に有していればよく、上記レーザー分解感度の向上という観点で主鎖に有しているほうが好ましい。より好ましいのは主鎖及び側鎖に有している場合である。
カーボネート部位を含有する特定ポリウレタン樹脂の製造には、原料のジイソシアネートがカーボネート部位を含んでいる形態、原料のジオールがカーボネート部位を含んでいる形態の２通りが考えられ、本願ではいずれの形態を用いてもよい。原料の合成しやすさの観点から、ジオールがカーボネート部位を含んでいる形態のほうが好ましい。
特定ポリウレタン樹脂中、カーボネート部位を含む繰り返し単位の好ましい含有量は、レーザー分解感度と皮膜性を良好に保つ観点から、特定ポリウレタン樹脂を構成する原料の総モル数に対して、0.1〜50モル％であることが好ましく、より好ましくは5〜50モル％、特に好ましくは20〜50モル％である。
本願の特定ポリウレタン樹脂の中で、一般式（１）のＲ1とＲ2が共に芳香族基（ウレタン結合の両隣が共に芳香族基）であるウレタン結合を含み、かつカーボネート部位を主鎖に有しているものが特に好ましい。
カーボネート部位を有する特定ポリウレタン樹脂の原料の好ましい例としては、上記ポリカーボネートジオール化合物が挙げられる。
【００７２】
一方、特定ポリウレタン樹脂がアセタール部位を有する場合、主鎖中のウレタン結合の熱分解と同時かそれよりも低温で熱分解するため、特定ポリウレタン樹脂全体としての熱分解効率が向上する。その結果、レーザー分解感度が向上し、レーザー彫刻深さが増大すると推定される。
アセタール部位はレーザー分解性の観点で主鎖に導入されているほうが好ましい。アセタール部位を含有する特定ポリウレタン樹脂の製造には、原料のジイソシアネートがアセタール部位を含んでいる形態、原料のジオールがアセタール部位を含んでいる形態の２通りが考えられ、本願ではいずれの形態を用いてもよい。原料の合成しやすさの観点から、ジオールがアセタール部位を含んでいる形態のほうが好ましい。
特定ポリウレタン樹脂中、アセタール部位を含む繰り返し単位の好ましい含有量は、レーザー分解感度と皮膜性を良好に保つ観点から、特定ポリウレタン樹脂を構成する原料の総モル数に対して、０.１〜５０モル％であることが好ましく、より好ましくは５〜５０モル％、特に好ましくは２０〜５０モル％である。
本願の特定ポリウレタン樹脂の中で、一般式（１）のＲ1とＲ2が共に芳香族基（ウレタン結合の両隣が共に芳香族基）であるウレタン結合を含み、かつアセタール部位を主鎖に有しているものが特に好ましい。
原料として用いるカーボネート部位含有ジオールは鎖状であっても環状であってもよい。
カーボネート部位を有する特定ポリウレタン樹脂の原料の好ましい例としては、下記アセタールジオール化合物が挙げられる。
【００７３】
【化１３】
【００７４】
式（Ａ-１）および（Ａ−２）中、Ｒ1とＲ２は同一でもよく置換基を有してもよい２価の有機基（例えば、アルキル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ）など）を有していてもよい２価の脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基または複素環基を表す）、Ｒ３とＲ４は同一でもよいく、水素原子または置換基を有してもよい１価の有機基（例えば、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数７〜１５のアラルキル基などを有していてもよいアルキル基、アラルキル基、アリール基、を表し、好ましくは水素原子、炭素数１〜８個のアルキル基、炭素数６〜１５個のアリール基を表すである。
レーザー分解性と上記ジオールを原料にして得られたポリウレタンの皮膜性の点で（Ａ−２）が好ましい。
【００７５】
アセタールジオール化合物の具体例を以下に挙げるが、これらに限定されるものではない。
【００７６】
【化１４】
【００７７】
本発明に用いられる特定ポリウレタン樹脂は、さらにエチレン性不飽和結合を有するユニットを有することが好ましい。エチレン性不飽和結合を有するユニットを有するポリウレタン樹脂としては、樹脂の側鎖に、下記一般式（１）〜（３）で表される官能基のうち少なくとも１つを有することが好ましい。まず、下記一般式（１）〜（３）で表される官能基について説明する。
【００７８】
【化１５】
【００７９】
上記一般式（１）において、Ｒl〜Ｒ3はそれぞれ独立に、水素原子または１価の有機基を表す。Ｒ1としては、好ましくは、水素原子または置換基を有してもよいアルキル基な
どが挙げられ、なかでも、水素原子、メチル基が、ラジカル反応性が高いことから好ましい。また、Ｒ2、Ｒ3は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基が、ラジカル反応性が高いことから好ましい。
【００８０】
Ｘは、酸素原子、硫黄原子、または−Ｎ（Ｒ12）−を表し、Ｒ12は、水素原子、または１価の有機基を表す。ここで、１価の有機基としては、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられる。なかでも、Ｒ12は、水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基がラジカル反応性が高いことから好ましい。
ここで、導入し得る置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基などが挙げられる。
【００８１】
【化１６】
【００８２】
上記一般式（２）において、Ｒ4〜Ｒ8は、それぞれ独立に水素原子または１価の有機基を表す。Ｒ4〜Ｒ8は、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基が好ましい。
導入し得る置換基としては、一般式（１）と同様のものが例示される。また、Ｙは、酸素原子、硫黄原子、または−Ｎ（Ｒ12）−を表す。Ｒ12は、一般式（１）のＲ12の場合と同義であり、好ましい例も同様である。
【００８３】
【化１７】
【００８４】
上記一般式（３）において、Ｒ9〜Ｒ11はそれぞれ独立に、水素原子または１価の有機
基を表す。Ｒ9としては、好ましくは、水素原子または置換基を有してもよいアルキル基
などが挙げられ、なかでも、水素原子、メチル基が、ラジカル反応性が高いことから好ましい。Ｒ10、Ｒ11は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基が、ラジカル反応性が高いことから好ましい。
ここで、導入し得る置換基としては、一般式（１）と同様のものが例示される。また、Ｚは、酸素原子、硫黄原子、−Ｎ（Ｒ13）−、または置換基を有してもよいフェニレン基
を表す。Ｒ13としては、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかでも、メチル基、エチル基、イソプロピル基がラジカル反応性が高いことから好ましい。
【００８５】
ポリウレタン樹脂の側鎖にエチレン性不飽和結合を導入する方法としては、ポリウレタン樹脂製造の原料として、側鎖にエチレン性不飽和結合を含有するジオール化合物を用いる方法も好適である。そのようなジオール化合物は、例えば、トリメチロールプロパンモノアリルエーテルのように市販されているものでもよいし、ハロゲン化ジオール化合物、トリオール化合物、アミノジオール化合物と、エチレン性不飽和結合を含有するカルボン酸、酸塩化物、イソシアネート、アルコール、アミン、チオール、ハロゲン化アルキル化合物との反応により容易に製造される化合物であってもよい。これら化合物の具体的な例として、下記に示す化合物が挙げられるが、これに限定されるものではない。
【００８６】
【化１８】
【００８７】
【化１９】
【００８８】
【化２０】
【００８９】
【化２１】
【００９０】
また、本発明におけるより好ましいポリウレタン樹脂として、ポリウレタンの合成に際して、エチレン性不飽和結合基を有するジオール化合物の少なくとも１つとして、下記一般式（Ｇ）で表されるジオール化合物を用いて得られたポリウレタン樹脂を挙げることができる。
【００９１】
【化２２】
【００９２】
前記一般式（Ｇ）中、Ｒ1〜Ｒ3はそれぞれ独立に水素原子または１価の有機基を表し、Ａは２価の有機残基を表し、Ｘは、酸素原子、硫黄原子、または−Ｎ（Ｒ12）−を表し、Ｒ12は、水素原子、または１価の有機基を表す。
なお、この一般式（Ｇ）におけるＲ1〜Ｒ3およびＸは、前記一般式（１）におけるＲ1
〜Ｒ3およびＸと同義であり、好ましい態様もまた同様である。
【００９３】
このようなジオール化合物に由来するポリウレタン樹脂を用いることにより、立体障害の大きい２級アルコールに起因するポリマー主鎖の過剰な分子運動を抑制する効果により、層の被膜強度の向上が達成できるものと考えられる。
【００９４】
以下、特定ポリウレタン樹脂の合成に好適に用いられる一般式（Ｇ）で表されるジオール化合物の具体例を示す。
【００９５】
【化２３】
【００９６】
【化２４】
【００９７】
【化２５】
【００９８】
ポリウレタン樹脂を、NCO/OH比が1以上のNCO基過剰条件で合成した場合、主鎖末端がNCO基になるので、ここにエチレン性不飽和結合を有するアルコール（2-ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレート、ブレンマーPME200（日本油脂製）等）を別途加えて付加させることにより、主鎖末端にエチレン性不飽和結合を導入できる。側鎖以外に主鎖末端にも本願ではエチレン性不飽和基を有してもよい。
【００９９】
特定ポリウレタン樹脂は、上記ジイソシアネート化合物およびジオール化合物を、非プロトン性溶媒中、それぞれの反応性に応じた活性の公知の触媒を添加し、加熱することにより合成される。合成に使用されるジイソシアネートおよびジオール化合物のモル比（Ｍa：Ｍb）は、１：１〜１．２：１が好ましく、アルコール類またはアミン類等で処理することにより、分子量あるいは粘度といった所望の物性の生成物が、最終的にイソシアネート基が残存しない形で合成される。
中でも、ビスマス触媒を用いた合成である方が、従来よく用いられてきたスズ触媒よりも環境および重合速度の観点で好ましい。このようなビスマス触媒としては、ネオスタン
Ｕ−６００（商品名）（日東化成 製）が特に好ましい。
【０１００】
また、本発明に係る特定ポリウレタン樹脂は、ポリマー末端および／またはポリマー主鎖にエチレン性不飽和結合を有するものも好適に使用される。
ポリマー末端に不飽和基を導入する方法としては、以下に示す方法がある。すなわち、前述のポリウレタン樹脂合成の工程での、ポリマー末端の残存イソシアネート基と、アルコール類またはアミン類等で処理する工程において、不飽和基を有するアルコール類またはアミン類等を用いればよい。
【０１０１】
ポリマー主鎖に不飽和基を導入する方法としては、主鎖方向に不飽和基を有するジオール化合物をポリウレタン樹脂の合成に用いる方法がある。主鎖方向に不飽和基を有するジオール化合物としては、具体的に以下の化合物を挙げることができる。すなわち、ｃｉｓ−２−ブテン−１，４−ジオール、ｔｒａｎｓ−２−ブテン−１，４−ジオール、ポリブタジエンジオール等である。
【０１０２】
エチレン性不飽和結合は、導入量の制御が容易で導入量を増やすことができ、また、架橋反応効率が向上するといった観点から、ポリマー末端よりもポリマー側鎖に導入されることが好ましい。
導入されるエチレン性不飽和結合基としては、架橋硬化膜形成性の観点から、メタクリロイル基、アクリロイル基、スチリル基が好ましく、より好ましくはメタクリロイル基、アクリロイル基である。架橋硬化膜の形成性と生保存性との両立の観点からは、メタクリロイル基がさらに好ましい。
【０１０３】
本発明に係る特定ポリウレタン樹脂中に含まれるエチレン性不飽和結合の導入量としては、当量で言えば、側鎖にエチレン性不飽和結合基を０．３ｍｅｑ／ｇ以上、さらには０．３５〜１．５０ｍｅｑ／ｇ含有することが好ましい。すなわち、側鎖にメタクロイル基を０．３５〜１．５０ｍｅｑ／ｇ含有するポリウレタン樹脂が最も好ましい。
本発明に係る特定ポリウレタン樹脂の分子量としては、好ましくは重量平均分子量で１０、０００以上であり、より好ましくは、４０、０００〜２００、０００の範囲である。特に、本発明のレーザー分解性樹脂組成物をパターン形成材料の画像記録層に用いた場合には、重量平均分子量がこの範囲内において画像部の強度に優れる。
【０１０４】
以下に、本発明に用いられる特定ポリウレタン樹脂の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１０５】
【表１】
【０１０６】
【表２】
【０１０７】
【表３】
【０１０８】
【表４】
【０１０９】
【表５】
【０１１０】
【表６】
【０１１１】
【表７】
【０１１２】
【表８】
【０１１３】
【表９】
【０１１４】
【表１０】
【０１１５】
【表１１】
【０１１６】
本発明に係る特定ポリウレタン樹脂は、通常のレーザー分解性樹脂組成物におけるバインダーポリマー（市販の汎用樹脂の場合、ほとんどが300℃〜400℃の高温で熱分解する）と対比して比較的低温（250℃未満）で熱分解するという特徴を有する。従って、特定ポ
リウレタン樹脂を含有するレーザー分解性樹脂組成物は高感度での分解が可能となる。また、特定ポリウレタン樹脂とバインダーポリマーを併用した系（特に相分離させた状態）においても、レーザー照射による発熱により、まず特定ポリウレタン樹脂が分解することになり、その結果、特定ポリウレタン樹脂が熱分解して気化する際に発生するガス（窒素など）が、共存するバインダーポリマーの気化を援助、促進する。この為、特定ポリウレタン樹脂とバインダーポリマーを含有するレーザー分解性樹脂組成物は、特定ポリウレタン樹脂を含まない場合に比べてレーザー分解性が向上し、高感度化が達成されると考えられる。
【０１１７】
本発明の特定ポリウレタン樹脂に、本発明の効果を損なわない範囲において特定ポリウレタン樹脂以外のポリウレタン樹脂を併用することも可能である。
【０１１８】
バインダーポリマー
本発明のレーザー分解性樹脂組成物は、バインダーポリマーを含有していてもよい。バインダーポリマーは本発明に係る特定ポリウレタン樹脂と併用した場合、相分離状態を形成するものが有用である。本発明のレーザー分解性樹脂組成物が含有するバインダーポリマーは、主鎖及び側鎖の少なくともいずれかに炭素-炭素不飽和結合をもつバインダーポ
リマーが好ましい。主鎖にオレフィン（炭素-炭素二重結合） 及び 炭素-炭素三重結合の少なくともいずれかを含むポリマーは、上記相分離状態の形成し易さ及び形成される被膜の機械的強度が高い点で更に好ましく、主鎖にオレフィンを含むポリマーが特に好ましい。
【０１１９】
主鎖にオレフィン及び炭素−炭素三重結合の少なくともいずれかを含むポリマーとしては、例えばＳＢ（ポリスチレン−ポリブタジエン）、ＳＢＳ（ポリスチレン−ポリブタジエン−ポリスチレン）、ＳＩＳ（ポリスチレン−ポリイソプレン−ポリスチレン）、ＳＥＢＳ（ポリスチレン−ポリエチレン／ポリブチレン−ポリスチレン）等が挙げられる。
【０１２０】
上記相分離の確認は、SEM（走査型電子顕微鏡）観察によって行うことが出来る。特に
主鎖にオレフィン及び炭素−炭素三重結合の少なくともいずれかを含むポリマーは、相分離しやすい上に、オスミウム化合物と接触させることにより染色される特性を有する。他方、本発明に係る特定ポリウレタン樹脂はオスミウム化合物により染色されないため、SEM観察前に相分離したサンプルに対してオスミウム化合物による処理を施すことにより相
分離の確認が容易になるというメリットがある。
【０１２１】
バインダーポリマーの数平均分子量は、０.１万から１００万の範囲が好ましい。より
好ましい範囲としては、０.５万から５０万である。数平均分子量が０.１万から１００万の範囲であれば、形成される被膜の機械的強度を確保することができる。数平均分子量とは、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて測定し、分子量既知のポリスチレン標品に対して評価したものである。
【０１２２】
本発明のレーザー分解性樹脂組成物がバインダーポリマーを含む場合、その添加量は、組成物の全固形分中、一般的に１〜９９質量％、好ましくは５〜８０質量％である。
【０１２３】
また、本発明では、上記のバインダーポリマーと以下の一般的な樹脂を併用してもよい。併用樹脂の添加量は、上記のバインダーポリマーに対して、一般的に１〜９０質量％、好ましくは５〜８０質量％である。
【０１２４】
樹脂の種類としては、エラストマーであっても非エラストマーであっても構わない。
併用樹脂の数平均分子量は、０.１万から１００万の範囲が好ましい。より好ましい範
囲としては、０.５万から５０万である。数平均分子量が０.１万から１００万の範囲であれば、形成される被膜の機械的強度を確保することができる。数平均分子量とは、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて測定し、分子量既知のポリスチレン標品に対して評価したものである。
【０１２５】
樹脂としては、液状化し易い樹脂や分解し易い樹脂が好ましい。分解し易い樹脂としては、分子鎖中に分解し易いモノマー単位としてスチレン、α−メチルスチレン、α−メトキシスチレン、アクリルエステル類、メタクリルエステル類、エステル化合物類、エーテル化合物類、ニトロ化合物類、カーボネート化合物類、カルバモイル化合物類、ヘミアセタールエステル化合物類、オキシエチレン化合物類、脂肪族環状化合物類等が含まれていることが好ましい。特にポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラエチレングリコール等のポリエーテル類、脂肪族ポリカーボネート類、脂肪族カルバメート類、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ニトロセルロース、ポリオキシエチレン、ポリノルボルネン、ポリシクロヘキサジエン水添物、あるいは分岐構造の多いデンドリマー等の分子構造を有するポリマーは、分解し易いものの代表例である。また、分子鎖中に酸素原子を多数含有するポリマーが分解性の観点から好ましい。これらの中でも、カーボネート基、カルバメート基、メタクリル基をポリマー主鎖中に有する化合物は、熱分解性が高く好ましい。例えば、（ポリ）カーボネートジオールや（ポリ）カーボネートジカルボン酸を原料として合成したポリエステルやポリウレタン、（ポリ）カーボネートジアミンを原料として合成したポリアミドなどを熱分解性の良好なポリマーの例として挙げることができる。これらのポリマーは、主鎖、側鎖に重合性不飽和基を含有しているものであっても構わない。特に、水酸基、アミノ基、カルボキシル基等の反応性官能基を有する場合には、重合性不飽和基を導入することも容易である。
【０１２６】
熱可塑性エラストマーとして特に限定するものではないが、ウレタン系熱可塑性エラストマー、エステル系熱可塑性エラストマー、アミド系熱可塑性エラストマー、シリコーン系熱可塑性エラストマー等を挙げることができる。より熱分解性を向上させるために、分解性の高いカルバモイル基、カーボネート基等の易分解性官能基を主鎖に導入したポリマーを用いることもできる。また、より熱分解性の高いポリマーと混合して用いても構わない。熱可塑性エラストマーは加熱することにより流動化するため、本発明で用いる複合体と良好に混合することが可能となる。熱可塑性エラストマーとは、加熱することにより流動化し通常の熱可塑性プラスチック同様成形加工ができ、常温ではゴム弾性を示す材料である。分子構造としては、ポリエーテルあるいはゴム分子のようなソフトセグメントと、常温付近では加硫ゴムと同じく塑性変形を防止するハードセグメントからなり、ハードセグメントとしては凍結相、結晶相、水素結合、イオン架橋など種々のタイプが存在する。
【０１２７】
樹脂組成物の用途により、熱可塑性エラストマーの種類を選択できる。例えば、耐溶剤性が要求される分野では、ウレタン系、エステル系、アミド系、フッ素系熱可塑性エラストマーが好ましく、耐熱性が要求される分野では、ウレタン系、オレフィン系、エステル系、フッ素系熱可塑性エラストマーが好ましい。また、熱可塑性エラストマーの種類により、硬度を大きく変えることができる。
熱可塑性樹脂において非エラストマー性のものとして、特に限定するものではないが、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、不飽和ポリウレタン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリイイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、全芳香族ポリエステル樹脂等を挙げることができる。
【０１２８】
また、併用樹脂として、親水性ポリマーを用いてもよい。親水性ポリマーとしては、例えば、構成単位としてヒドロキシエチレンを含む親水性ポリマーが挙げられる。具体的には、ポリビニルアルコールおよびビニルアルコール／酢酸ビニル共重合体（部分鹸化ポリビニルアルコール）及びこれらの変性体を例示することができる。親水性ポリマーは単独のポリマーを用いても良いし、複数種を混合して用いても良い。変性体の例として、水酸基の少なくとも一部をカルボキシル基に変性したポリマー、水酸基の一部を（メタ）アクロイル基に変性したポリマー、水酸基の少なくとも一部をアミノ基に変性したポリマー、側鎖にエチレングリコールやプロピレングリコールおよびこれらの複量体を導入したポリマーなどが挙げられる。
【０１２９】
水酸基の少なくとも一部をカルボキシル基に変性したポリマーは、ポリビニルアルコールあるいは部分鹸化ポリビニルアルコールと、例えばコハク酸、マレイン酸やアジピン酸のような多官能カルボン酸とでエステル化することによって得ることができる。
【０１３０】
水酸基の少なくとも一部を（メタ）アクロイル基に変性したポリマーは、上記カルボキシル基変性ポリマーにグリシジル基含有エチレン性不飽和モノマーを付加することによって、またはポリビニルアルコールあるいは部分鹸化ポリビニルアルコールと（メタ）アクリル酸とでエステル化することによって得ることができる。
【０１３１】
水酸基の少なくとも一部をアミノ基に変性したポリマーは、ポリビニルアルコールあるいは部分鹸化ポリビニルアルコールと、例えばカルバミン酸のようなアミノ基を含有するカルボン酸とでエステル化することによって得ることができる。
【０１３２】
側鎖にエチレングリコールやプロピレングリコールおよびこれらの複量体を導入したポリマーは、ポリビニルアルコールあるいは部分鹸化ポリビニルアルコールとグリゴール類を硫酸触媒のもと加熱し、副生成物である水を反応系外に取り除くことによって得ることができる。
【０１３３】
これらのポリマーの中でも、水酸基の少なくとも一部を（メタ）アクロイル基に変性したポリマーが特に好ましく用いられる。ポリマー成分に未反応の架橋性官能基を直接導入することで、形成される被膜の強度を高めることができ、形成される被膜の柔軟性と強度とを両立することができるからである。
【０１３４】
親水性ポリマーの重量平均分子量（ＧＰＣ測定によるポリスチレン換算）は１万〜５０万が好ましい。重量平均分子量が１万以上であれば、単体樹脂としての形態保持性に優れ、５０万以下であれば、水など溶媒に溶解しやすく架橋性樹脂組成物を調製するのに好都合である。
【０１３５】
また、併用樹脂としては、溶剤可溶性樹脂であっても構わない。具体的には、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂等を挙げることができる。
【０１３６】
併用樹脂は、通常反応性の高い重合性不飽和基を持たないものであるが、分子鎖の末端あるいは側鎖に反応性の高い重合性不飽和基を有していても構わない。メタクリロイル基のような反応性の高い重合性不飽和基を有するポリマーを用いた場合、極めて機械的強度の高い被膜を作製することができる。特にポリウレタン系、ポリエステル系熱可塑性エラストマーでは、比較的簡単に分子内に反応性の高い重合性不飽和基を導入することが可能である。ここで言う分子内とは高分子主鎖の両末端あるいは片末端、高分子側鎖の末端や高分子主鎖中や側鎖中に直接、重合性不飽和基が付いている場合なども含まれる。例えば直接、重合性の不飽和基をその分子末端に導入したものを用いても良いが、別法として、
水酸基、アミノ基、エポキシ基、カルボキシル基、酸無水物基、ケトン基、ヒドラジン残基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、環状カーボネート基、エステル基などの反応性基を複数有する数千程度の分子量の化合物と上記反応性基と結合しうる基を複数有する結合剤（例えば水酸基やアミノ基の場合のポリイソシアネートなど）を反応させ、分子量の調節、及び末端の結合性基への変換を行った後、この末端結合性基と反応する基と重合性不飽和基を有する有機化合物と反応させて末端に重合性不飽和基を導入する方法などの方法が好適にあげられる。
【０１３７】
より良好なレーザー分解感度を達成する観点からは、特定ポリウレタン樹脂とバインダーポリマーを併用する系にくらべて、特定ポリウレタン樹脂を単独で用いる系が好ましい。
本発明のレーザー分解性樹脂組成物は、更に、重合性化合物（モノマー）、開始剤、必要に応じてその他各種の成分を含有してもよい。以下、重合性化合物（モノマー）、開始剤、その他の成分について説明する。
【０１３８】
重合性化合物（モノマー）
以下に、重合性化合物（モノマー）として付加重合性化合物を用いた場合を例に挙げ、より詳しく述べる。
＜付加重合性化合物＞
本発明に使用される好ましい重合性化合物である、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物は、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に制限なく用いることができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体およびオリゴマー、またはそれらの共重合体、ならびにそれらの混合物などの化学的形態をもつ。モノマーの例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基や、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類、エポキシ類との付加反応物、単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアナト基や、エポキシ基、等の親電子性置換基を有する、不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、ハロゲン基や、トシルオキシ基、等の脱離性置換基を有する、不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
【０１３９】
脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。
【０１４０】
メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔ｐ−（メタクリルオキシエトキシ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。
【０１４１】
イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。
【０１４２】
クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラクロトネート等がある。
【０１４３】
イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。
【０１４４】
マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。
【０１４５】
その他のエステルの例として、例えば、特公昭４６−２７９２６号、特公昭５１−４７３３４号、特開昭５７−１９６２３１号各公報記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭５９−５２４０号、特開昭５９−５２４１号、特開平２−２２６１４９号各公報記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平１−１６５６１３号公報記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。
【０１４６】
上記エステルモノマーは混合物としても使用することができる。
【０１４７】
また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。
【０１４８】
その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭５４−２１７２６号公報記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。
【０１４９】
また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭４８−４１７０８号公報中に記載されている１分子に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化
合物に、下記一般式（Ｖ）で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
【０１５０】
ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ）ＣＯＯＣＨ2ＣＨ（Ｒ'）ＯＨ （Ｖ）
(ただし、Ｒ及びＲ'は、Ｈ又はＣＨ3を示す。）
また、特開昭５１−３７１９３号、特公平２−３２２９３号、特公平２−１６７６５号各公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８−４９８６０号、特公昭５６−１７６５４号、特公昭６２−３９４１７号、特公昭６２−３９４１８号各公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。
【０１５１】
ウレタン系付加重合性化合物は、本発明に係る特定ウレタン樹脂との良好な相溶性および高い彫刻感度を有するという点で極めて好ましい。なかでもPLEX 6661-O（デグサ製）
は、熱分解（熱分解による重量減少）が２５０℃付近で急激に起こり、これにより高い彫刻感度を与えるのみならず、彫刻部分のエッジ形状がシャープになり高い解像度を示す点で特に好ましい。
【０１５２】
さらに、特開昭６３−２７７６５３号、特開昭６３−２６０９０９号、特開平１−１０５２３８号各公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによっては、短時間で硬化組成物を得ることができる。
【０１５３】
その他の例としては、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭４６−４３９４６号、特公平１−４０３３７号、特公平１−４０３３６号各公報記載の特定の不飽和化合物や、特開平２−２５４９３号公報記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭６１−２２０４８号公報記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に日本接着協会誌ｖｏｌ．２０、Ｎｏ．７、３００〜３０８ページ（１９８４年）に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。
【０１５４】
感光スピードの点では１分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、２官能以上が好ましい。また、画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、３官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基（例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物）のものを併用することで、感光性と強度の両方を調節する方法も有効である。付加重合性化合物は、組成物中の不揮発性成分に対して、好ましくは５〜８０質量％、更に好ましくは２５〜７５質量％の範囲で使用される。また、これらは単独で用いても２種以上併用してもよい。重合性化合物を用いることにより、膜物性、例えば、脆性、柔軟性などを調整することもできる。
レーザー分解の前及び／又は後で、重合性化合物を含有するレーザー分解性樹脂組成物は、光、熱などのエネルギーにより重合、硬化させることができる。
【０１５５】
本発明のレーザー分解性樹脂組成物において、特定ポリウレタン樹脂と共に用いられる重合性化合物の好ましい具体例を以下に例示する。
【０１５６】
【化２６】
【０１５７】
開始剤
開始剤は当業者間で公知のものを制限なく使用することができる。具体的には、例えば、Bruce M. Monroeら著、Chemical Revue, 93, 435 (1993) やR.S.Davidson著、Journal of Photochemistry and biology A:Chemistry,73.81 (1993); J.P.Faussier, "Photoinitiated Polymerization-Theory and Applications":Rapra Review vol.9, Report, Rapra Technology(1998); M.Tsunooka et al., Prog.Polym.Sci., 21, 1 (1996)等に多く記載されている。また、F.D.Saeva, Topics in Current Chemistry, 156, 59 (1990); G.G.Maslak, Topics in Current Chemistry, 168, 1 (1993); H.B.Shuster et al,JACS, 112, 6329 (1990); I.D.F.Eaton et al, JACS, 102, 3298 (1980)等に記載されているような、酸化的もしくは還元的に結合解裂を生じる化合物群も知られる。
【０１５８】
以下、好ましい開始剤の具体例に関し、光および/または熱のエネルギーによってラジ
カルを発生し、上述の重合性化合物と重合反応を開始、促進させる化合物であるラジカル開始剤について詳述するが、本発明はこれらの記述により制限を受けるものではない。
【０１５９】
本発明において、好ましいラジカル開始剤としては、（ａ）芳香族ケトン類、（ｂ）オニウム塩化合物、（ｃ）有機過酸化物、（ｄ）チオ化合物、（ｅ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物、（ｆ）ケトオキシムエステル化合物、（ｇ）ボレート化合物、（ｈ）アジニウム化合物、（ｉ）メタロセン化合物、（ｊ）活性エステル化合物、（ｋ）炭素ハロゲン結合を有する化合物、（ｌ）アゾ系化合物等が挙げられる。以下に、上記（ａ）〜（ｌ）の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１６０】
(ａ）芳香族ケトン類
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい（ａ）芳香族ケトン類としては、「ＲＡＤＩＡＴＩＯＮ ＣＵＲＩＮＧ ＩＮ ＰＯＬＹＭＥＲ ＳＣＩＥＮＣＥ ＡＮＤ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ」Ｊ．Ｐ．Ｆｏｕａｓｓｉｅｒ，Ｊ．Ｆ．Ｒａｂｅｋ（１９９３），ｐ７７−１１７記載のベンゾフェノン骨格あるいはチオキサントン骨格を有する化合物が挙げられる。例えば、下記の化合物が挙げられる。
【０１６１】
【化２７】
【０１６２】
中でも、特に好ましい（ａ）芳香族ケトン類の例としては、例えば、下記化合物が挙げられる。
【０１６３】
【化２８】
【０１６４】
(ｂ）オニウム塩化合物
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい（ｂ）オニウム塩化合物としては、下記一般式（１）〜（３）で表される化合物が挙げられる。
【０１６５】
【化２９】
【０１６６】
式（１）中、Ａｒ1とＡｒ2は、それぞれ独立に、置換基を有していても良い炭素原子数２０個以下のアリール基を示す。（Ｚ2）-はハロゲンイオン、過塩素酸イオン、カルボン酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、およびスルホン酸イオンからなる群より選択される対イオンを表し、好ましくは、過塩素酸イオ
ン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、およびアリールスルホン酸イオンである。
【０１６７】
式（２）中、Ａｒ3は、置換基を有していても良い炭素原子数２０個以下のアリール基
を示す。（Ｚ3）-は（Ｚ2）-と同義の対イオンを表す。
【０１６８】
式（３）中、Ｒ23、Ｒ24及びＲ25は、それぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い炭素原子数２０個以下の炭化水素基を示す。（Ｚ4）-は（Ｚ2）-と同義の対イオンを表す。
【０１６９】
本発明において、好適に用いることのできるオニウム塩の具体例としては、本出願人が先に提案した特開２００１−１３３９６９号の段落番号［００３０］〜［００３３］に記載されたものや特開２００１−３４３７４２号の段落番号［００１５］〜［００４６］に記載されたもの、また、特開２００２−１４８７９０号、特開２００１−３４３７４２号、特開２００２−６４８２号、特開２００２−１１６５３９号、特開２００４−１０２０３１号記載の特定の芳香族スルホニウム塩化合物などを挙げることができる。
【０１７０】
(ｃ）有機過酸化物
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい（ｃ）有機過酸化物としては、分子中に酸素−酸素結合を１個以上有する有機化合物のほとんど全てが含まれるが、その例としては、メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、３，３，５−トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、１，１−ビス（ターシャリイブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ターシャリイブチルパーオキシ）シクロヘキサン、２，２−ビス（ターシャリイブチルパーオキシ）ブタン、ターシャリイブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、パラメタンハイドロパーオキサイド、２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジハイドロパーオキサイド、１，１，３，３−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、ジターシャリイブチルパーオキサイド、ターシャリイブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ビス（ターシャリイブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ターシャリイブチルパーオキシ）ヘキサン、２，５−キサノイルパーオキサイド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、メタ−トルオイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ（３−メチル−３−メトキシブチル）パーオキシジカーボネート、ターシャリイブチルパーオキシアセテート、ターシャリイブチルパーオキシピバレート、ターシャリイブチルパーオキシネオデカノエート、ターシャリイブチルパーオキシオクタノエート、ターシャリイブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノエート、ターシャリイブチルパーオキシラウレート、ターシャリーカーボネート、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−アミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−(ｔ−ヘキシルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−オクチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−（クミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−（ｐ−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、カルボニルジ（ｔ−ブチルパーオキシ二水素二フタレート）、カルボニルジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ二水素二フタレート）等がある。
【０１７１】
中でも、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−アミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン
、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−ヘキシルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−オクチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−（クミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−（ｐ−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、ジ−ｔ−ブチルジパーオキシイソフタレートなどの過酸化エステル系が好ましい。
【０１７２】
(ｄ）チオ化合物
本発明で用いられるラジカル開始剤として好ましい（ｄ）チオ化合物としては、下記一般式（４）で示される構造を有する化合物が挙げられる。
【０１７３】
【化３０】
【０１７４】
(ここで、Ｒ26はアルキル基、アリール基または置換アリール基を示し、Ｒ27は水素原子
またはアルキル基を示す。また、Ｒ26とＲ27は、互いに結合して酸素、硫黄および窒素原子から選ばれたヘテロ原子を含んでもよい５員ないし７員環を形成するのに必要な非金属原子群を示す。）
上記一般式（４）で示されるチオ化合物の具体例としては、下記に示すような化合物が挙げられる。
【０１７５】
【化３１】
【０１７６】
(ｅ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物本発明に用いられるラジカル開始剤として好
ましい（ｅ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、特公昭４５−３７３７７号、特公昭４４−８６５１６号記載のロフィンダイマー類、例えば２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ−ブロモフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｍ−メトキシフェニル）ビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ，ｏ′−ジクロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ−ニトロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ−メチルフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ−トリフルオロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
【０１７７】
(ｆ）ケトオキシムエステル化合物
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい（ｆ）ケトオキシムエステル化合物としては、３−ベンゾイロキシイミノブタン−２−オン、３−アセトキシイミノブタン−２−オン、３−プロピオニルオキシイミノブタン−２−オン、２−アセトキシイミノペン
タン−３−オン、２−アセトキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、２−ベンゾイロキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、３−ｐ−トルエンスルホニルオキシイミノブタン−２−オン、２−エトキシカルボニルオキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン等が挙げられる。
【０１７８】
(ｇ）ボレート化合物
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい（ｇ）ボレート化合物の例としては、下記一般式（５）で表される化合物を挙げることができる。
【０１７９】
【化３２】
【０１８０】
(ここで、Ｒ28、Ｒ29、Ｒ30およびＲ31は互いに同一でも異なっていてもよく、各々置換
もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアリール基、置換もしくは非置換のアルケニル基、置換もしくは非置換のアルキニル基、又は置換もしくは非置換の複素環基を示し、Ｒ28、Ｒ29、Ｒ30およびＲ31はその２個以上の基が結合して環状構造を形成してもよい。ただし、Ｒ28、Ｒ29、Ｒ30およびＲ31のうち、少なくとも１つは置換もしくは非置換のアルキル基である。（Ｚ5）+はアルカリ金属カチオンまたは第４級アンモニウムカチオンを示す。）
一般式（５）で示される化合物例としては具体的には米国特許３，５６７，４５３号、同４，３４３，８９１号、ヨーロッパ特許１０９，７７２号、同１０９，７７３号に記載されている化合物および以下に示すものが挙げられる。
【０１８１】
【化３３】
【０１８２】
(ｈ）アジニウム化合物
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい（ｈ）アジニウム塩化合物としては、特開昭６３−１３８３４５号、特開昭６３−１４２３４５号、特開昭６３−１４２３４６号、特開昭６３−１４３５３７号ならびに特公昭４６−４２３６３号記載のＮ−Ｏ結合を有する化合物群をあげることができる。
【０１８３】
(ｉ）メタロセン化合物
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい（ｉ）メタロセン化合物としては、特開昭５９−１５２３９６号、特開昭６１−１５１１９７号、特開昭６３−４１４８４号、特開平２−２４９号、特開平２−４７０５号記載のチタノセン化合物ならびに、特開平１−３０４４５３号、特開平１−１５２１０９号記載の鉄−アレーン錯体をあげることができる。
【０１８４】
上記チタノセン化合物の具体例としては、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−２，６−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジフルオロフェニ−１−イル、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（ピリ−１−イル）フェニル）チタニウムビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（メチルスルホンアミド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチルビアロイル−アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチル−（４−クロロベンゾイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ベンジル−２，２−ジメチルペンタノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（２−エチルヘキシル）−４−トリル−スルホニル）アミノ〕フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３−オキサヘプチル）ベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３，６−ジオキサデシル）ベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（トリフルオロメチルスルホニル）アミノ〕フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（トリフルオロアセチルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（２−クロロベンゾイル）アミノ〕フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（４−クロロベンゾイル）アミノ〕フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−(Ｎ−（３，６−ジオキサデシル）−２，２−ジメチルペンタノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３，７−ジメチル−７−メトキシオクチル）ベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキシルベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、等を挙げることができる。
【０１８５】
(ｊ）活性エステル化合物
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい（ｊ）活性エステル化合物としては、特公昭６２−６２２３記載のイミドスルホネート化合物、特公昭６３−１４３４０号、特開昭５９−１７４８３１号記載の活性スルホネート類をあげることができる。
【０１８６】
(ｋ）炭素ハロゲン結合を有する化合物
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい（ｋ）炭素ハロゲン結合を有する化合物としては、下記一般式（６）から（１２）のものを挙げることができる。
【０１８７】
【化３４】
【０１８８】
(式中、Ｘ2はハロゲン原子を表わし、Ｙ1は−Ｃ（Ｘ2）3、−ＮＨ2、−ＮＨＲ38、−ＮＲ38、−ＯＲ38を表わす。ここでＲ38はアルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基を表わす。またＲ37は−Ｃ（Ｘ2）3、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、置換アルケニル基、を表わす。）
【０１８９】
【化３５】
【０１９０】
(ただし、Ｒ39は、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、ア
リール基、置換アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、置換アルコキシル基、ニトロ基又はシアノ基であり、Ｘ3はハロゲン原子であり、ｎは１〜３の整数である。）
【０１９１】
【化３６】
【０１９２】
(ただし、Ｒ40は、アリール基又は置換アリール基であり、Ｒ41は、以下に示す基又はハ
ロゲンであり、Ｚ6は−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−又は−ＳＯ2−であり、Ｘ3はハロ
ゲン原子であり、ｍは１又は２である。）
【０１９３】
【化３７】
【０１９４】
(Ｒ42、Ｒ43はアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリー
ル基又は置換アリール基であり、Ｒ44は一般式（６）中のＲ38と同じである。）
【０１９５】
【化３８】
【０１９６】
(ただし、式中、Ｒ45は置換されていてもよいアリール基又は複素環式基であり、Ｒ46は
炭素原子１〜３個を有するトリハロアルキル基又はトリハロアルケニル基であり、ｐは１、２又は３である。）
【０１９７】
【化３９】
【０１９８】
(式（１０）は、トリハロゲノメチル基を有するカルボニルメチレン複素環式化合物を表
す。Ｌ7は水素原子又は式：ＣＯ−（Ｒ47）ｑ（Ｃ（Ｘ4）3）ｒの置換基であり、Ｑ2はイオウ、セレン又は酸素原子、ジアルキルメチレン基、アルケン−１，２−イレン基、１，
２−フェニレン基又はＮ−Ｒ基であり、Ｍ4は置換又は非置換のアルキレン基又はアルケ
ニレン基であるか、又は１，２−アリーレン基であり、Ｒ48はアルキル基、アラルキル基又はアルコキシアルキル基であり、Ｒ47は、炭素環式又は複素環式の２価の芳香族基であり、Ｘ4は塩素、臭素またはヨウ素原子であり、ｑ＝０及びｒ＝１であるか又はｑ＝１及
びｒ＝１又は２である。）
【０１９９】
【化４０】
【０２００】
(式（１１）は、４−ハロゲノ−５−（ハロゲノメチルフェニル）オキサゾール誘導体を
表す。Ｘ5はハロゲン原子であり、ｔは１〜３の整数であり、ｓは１〜４の整数であり、
Ｒ49は水素原子又はＣＨ3-tＸ5t基であり、Ｒ50はｓ価の置換されていてもよい不飽和有
機基である。）
【０２０１】
【化４１】
【０２０２】
(式（１２）は、２−（ハロゲノメチルフェニル）−４−ハロゲノオキサゾール誘導体を
表す。Ｘ6はハロゲン原子であり、ｖは１〜３の整数であり、ｕは１〜４の整数であり、
Ｒ51は水素原子又はＣＨ3-vＸ6v基であり、Ｒ52はｕ価の置換されていてもよい不飽和有
機基である。）
このような炭素−ハロゲン結合を有する化合物の具体例としては、たとえば、若林ら著、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊａｐａｎ，４２、２９２４（１９６９）記載の化合物、たとえば、２−フェニル４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−クロルフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（２′，４′−ジクロルフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−ｎ−ノニル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（α，α，β−トリクロルエチル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン等が挙げられる。その他、英国特許１３８８４９２号明細書記載の化合物、たとえば、２−スチリル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メチルスチリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリル）−４−アミノ−６−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン等、特開昭５３−１３３４２８号記載の化合物、たとえば、２−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン、２−〔４−（２−エトキシエチル）−ナフト−１−イル〕−４，６−ビス−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン、２−（４，７−ジメトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン）、２−（アセナフト−５−イル）−４，６−ビス−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン等、独国特許３３３７０２４号明細書記載の化合物、例えば、下記化合物等を挙げることができる。あるいはさらにＭ．Ｐ．Ｈｕｔｔ、Ｅ．Ｆ．ＥｌｓｌａｇｅｒおよびＬ．Ｍ．Ｈｅｒｂｅｌ著「Ｊｏｕｒｎａｌｏｆ Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」第７巻（Ｎｏ．３）、第５１１頁以降（１９７０年）に記載されている合成方法に準じて、当業者が容易に合成することができる次のような化合物群、例えば、下記化合物等を挙げることができる。
【０２０３】
【化４２】
【０２０４】
(ｌ）アゾ系化合物
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい（ｌ）アゾ系化合物としては、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビスプロピオニトリル、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、４，４’−アゾビス（４−シアノ吉草酸）、２，２’−アゾビスイソ酪酸ジメチル、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオンアミドオキシム）、２，２’−アゾビス［２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］、２，２’−アゾビス｛２−メチル−Ｎ−［１，１−ビス（ヒドロキシメチル）−２−ヒドロキシエチル］プロピオンアミド｝、２，２’−アゾビス［２−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）プロピオンアミド］、２，２’−アゾビス（Ｎ−ブチル−２−メチルプロピオンアミド）、２，２’−アゾビス（Ｎ−シクロヘキシル−２−メチルプロピオンアミド）、２，２’−アゾビス［Ｎ−（２−プロペニル）−２−メチルプロピオンアミド］、２，２’−アゾビス（２，４，４−トリメチルペンタン）等を挙げることができる。
【０２０５】
本発明におけるラジカル開始剤のさらにより好ましい例としては、上述の（ａ）芳香族ケトン類、（ｂ）オニウム塩化合物、（ｃ）有機過酸化物、（ｅ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物、（ｉ）メタロセン化合物、（ｋ）炭素ハロゲン結合を有する化合物、を挙げることができ、さらに最も好ましい例としては、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、チタノセン化合物、一般式（６）であらわされるトリハロメチル−Ｓ−トリアジン化合物を挙げることができる。
【０２０６】
開始剤は、重合性化合物を含有する分解性樹脂組成物の全固形分に対し、０．１〜５０質量％、好ましくは、０．５〜３０質量％、特に好ましくは５〜２０質量％の割合で添加することができる。
本発明における開始剤は単独もしくは２種以上の併用によって好適に用いられる。
【０２０７】
その他の成分
本発明の分解性樹脂組成物には、さらにその用途、製造方法等に適したその他の成分を適宜添加することができる。以下、好ましい添加剤に関し例示する。
【０２０８】
＜増感色素＞
本発明において、７６０から１，２００ｎｍの赤外線を発するレーザー（ＹＡＧレーザー、半導体レーザー等）を光源として用いる場合には、通常、赤外線吸収剤が用いられる。赤外線吸収剤は、レーザー光を吸収し、発熱して熱分解を促進する。本発明において使用される赤外線吸収剤は、波長７６０ｎｍから１２００ｎｍに吸収極大を有する染料又は顔料である。
【０２０９】
染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」（有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
【０２１０】
好ましい染料としては、例えば、特開昭５８−１２５２４６号、特開昭５９−８４３５６号、特開昭５９−２０２８２９号、特開昭６０−７８７８７号等に記載されているシアニン染料、特開昭５８−１７３６９６号、特開昭５８−１８１６９０号、特開昭５８−１９４５９５号等に記載されているメチン染料、特開昭５８−１１２７９３号、特開昭５８−２２４７９３号、特開昭５９−４８１８７号、特開昭５９−７３９９６号、特開昭６０−５２９４０号、特開昭６０−６３７４４号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭５８−１１２７９２号等に記載されているスクワリリウム色素、英国特許４３４，８７５号記載のシアニン染料等を挙げることができる。
【０２１１】
また、米国特許第５，１５６，９３８号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第３，８８１，９２４号記載の置換されたアリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５号（米国特許第４，３２７，１６９号）記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号、同５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３号、同５９−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同５９−１４６０６３号、同５９−１４６０６１号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号記載のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平５−１３５１４号、同５−１９７０２号に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。また、染料として好ましい別の例として、米国特許第４，７５６，９９３号明細書中に式（Ｉ）、（II）として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。
【０２１２】
また、本発明の赤外線吸収色素の好ましい他の例としては、特開２００２−２７８０５７号に記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。
【０２１３】
これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。更に、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましい。
【０２１４】
本発明において、好適に用いることのできるシアニン色素の具体例としては、特開２００１−１３３９６９号の段落番号［００１７］〜［００１９］、特開２００２−４０６３８号の段落番号［００１２］〜［００３８］、特開２００２−２３３６０号の段落番号［００１２］〜［００２３］に記載されたものを挙げることができる。
【０２１５】
下記一般式（ｄ）または一般式（ｅ）で表される色素は光熱変換性の観点から好ましい。
【０２１６】
【化４３】
【０２１７】
一般式（ｄ）中、Ｒ29ないしＲ31は各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を示す。Ｒ33及びＲ34は各々独立に、アルキル基、置換オキシ基、又はハロゲン原子を示す。ｎ及びｍは各々独立に０ないし４の整数を示す。Ｒ29とＲ30、又はＲ31とＲ32はそれぞれ結合して環を形成してもよく、またＲ29及び／又はＲ30はＲ33と、またＲ31及び／又はＲ32はＲ34と結合して環を形成してもよく、更に、Ｒ33或いはＲ34が複数存在する場合に、Ｒ33同士或いはＲ34同士は互いに結合して環を形成してもよい。Ｘ2及びＸ3は各々
独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基であり、Ｘ2及びＸ3の少なくとも一方は水素原子又はアルキル基を示す。Ｑは置換基を有していてもよいトリメチン基又はペンタメチン基であり、２価の有機基とともに環構造を形成してもよい。Ｚｃ-は対アニオンを
示す。ただし、一般式（ｄ）で示される色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはＺａ-は必要ない。好ましいＺａ-は、感光層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、及びアリールスルホン酸イオンである。
【０２１８】
本発明において、好適に用いることのできる一般式（ｄ）で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。
【０２１９】
【化４４】
【０２２０】
【化４５】
【０２２１】
一般式（ｅ）中、Ｒ35〜Ｒ50はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、水酸基、カルボニル基、チオ基
、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、アミノ基、オニウム塩構造を示し、これらの基に置換基が導入可能な場合は、置換基を有してもよい。Ｍは２つの水素原子若しくは金属原子、ハロメタル基、オキシメタル基を示すが、そこに含まれる金属原子としては、周期律表のＩＡ、IIＡ、IIIＢ、ＩＶＢ族原子、第一、第二、第三周期の遷移金属、ラン
タノイド元素が挙げられ、中でも、銅、マグネシウム、鉄、亜鉛、コバルト、アルミニウム、チタン、バナジウムが好ましい。
【０２２２】
本発明において、好適に用いることのできる一般式（ｅ）で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。
【０２２３】
【化４６】
【０２２４】
本発明において使用される顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載されている顔料が利用できる。
【０２２５】
顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。
【０２２６】
これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等）を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）及び「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されている。
【０２２７】
顔料の粒径は０．０１μｍから１０μｍの範囲にあることが好ましく、０．０５μｍから１μｍの範囲にあることがさらに好ましく、特に０．１μｍから１μｍの範囲にあることが好ましい。顔料の粒径を０．０１μｍ以上にすると、分散物の塗布液中での安定性が増し、また、１０μｍ以下にすると樹脂組成物層の均一性が良好になる。
【０２２８】
顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、ＫＤミル、コロイドミル、ダイナトロン、３本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されている。
【０２２９】
＜共増感剤＞
ある種の添加剤（以後、共増感剤という）を用いることで、樹脂組成物層を光硬化させる際の感度をさらに向上させる事ができる。これらの作用機構は、明確ではないが、多くは次のような化学プロセスに基づくものと考えられる。即ち、光重合開始剤により開始される光反応とそれに引き続く付加重合反応の過程で生じる様々な中間活性種（ラジカル、カチオン）と、共増感剤が反応し、新たな活性ラジカルを生成するものと推定される。これらは、大きくは、（ａ）還元されて活性ラジカルを生成しうるもの、（ｂ）酸化されて活性ラジカルを生成しうるもの、（ｃ）活性の低いラジカルと反応し、より活性の高いラジカルに変換するか、もしくは連鎖移動剤として作用するものに分類できるが、個々の化合物がこれらのどれに属するかに関しては通説がない場合も多い。
【０２３０】
(ａ）還元されて活性ラジカルを生成する化合物
炭素−ハロゲン結合を有する化合物：還元的に炭素−ハロゲン結合が解裂して、活性ラジカルを発生すると考えられる。具体的には、例えば、トリハロメチル−ｓ−トリアジン類や、トリハロメチルオキサジアゾール類等が好適に使用できる。
【０２３１】
窒素−窒素結合を有する化合物：還元的に窒素−窒素結合が解裂して、活性ラジカルを発生すると考えられる。具体的にはヘキサアリールビイミダゾール類等が好適に使用される。
【０２３２】
酸素一酸素結合を有する化合物：還元的に酸素−酸素結合が解裂して、活性ラジカルを発生すると考えられる。具体的には、例えば、有機過酸化物類等が好適に使用される。
【０２３３】
オニウム化合物：還元的に炭素−ヘテロ結合や、酸素−窒素結合が解裂して、活性ラジカルを発生すると考えられる。具体的には例えば、ジアリールヨードニウム塩類、トリアリールスルホニウム塩類、Ｎ−アルコキシピリジニウム（アジニウム）塩類等が好適に使用される。フエロセン、鉄アレーン錯体類：還元的に活性ラジカルを生成しうる。
(ｂ）酸化されて活性ラジカルを生成する化合物
アルキルアート錯体：酸化的に炭素−ヘテロ結合が解裂して、活性ラジカルを生成すると考えられる。具体的には例えば、トリアリールアルキルボレート類が好適に使用される。
【０２３４】
アルキルアミン化合物：酸化により窒素に隣接した炭素上のＣ−Ｘ結合が解裂して、活性ラジカルを生成するものと考えられる。Ｘとしては、水素原子、カルボキシル基、トリメチルシリル基、ベンジル基等が好適である。具体的には、例えば、エタノールアミン類、Ｎ−フェニルグリシン類、Ｎ−トリメチルシリルメチルアニリン類等があげられる。
【０２３５】
含硫黄、含錫化合物：上述のアミン類の窒素原子を硫黄原子、錫原子に置き換えたものが、同様の作用により活性ラジカルを生成しうる。また、Ｓ−Ｓ結合を有する化合物もＳ−Ｓ解裂による増感が知られる。
【０２３６】
α−置換メチルカルボニル化合物：酸化により、カルボニル−α炭素間の結合解裂により、活性ラジカルを生成しうる。また、カルボニルをオキシムエーテルに変換したものも同様の作用を示す。具体的には、２−アルキル−１−［４−（アルキルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロノン−１類、並びに、これらと、ヒドロキシアミン類とを反応したのち、Ｎ−ＯＨをエーテル化したオキシムエーテル類をあげる事ができる。
【０２３７】
スルフィン酸塩類：還元的に活性ラジカルを生成しうる。具体的は、アリールスルフィン駿ナトリウム等をあげる事ができる。
(ｃ）ラジカルと反応し高活性ラジカルに変換、もしくは連鎖移動剤として作用する化合
物：例えば、分子内にＳＨ、ＰＨ、ＳiＨ、ＧｅＨを有する化合物群が用いられる。これ
らは、低活性のラジカル種に水素供与して、ラジカルを生成するか、もしくは、酸化された後、脱プロトンする事によりラジカルを生成しうる。具体的には、例えば、２−メルカプトベンズチアゾール類、２−メルカプトベンゾオキサゾール類、２−メルカプトベンズイミダゾール類等があげられる。
【０２３８】
これらの共増感剤のより具体的な例は、例えば、特開平９−２３６９１３号公報中に、感度向上を目的とした添加剤として、多く記載されており、それらを本発明においても適用することができる。以下に、その一部を例示するが、本発明はこれらに限定されるものはない。なお、下記式中、−ＴＭＳはトリメチルシリル基を表す。
【０２３９】
【化４７】
【０２４０】
共増感剤に関しても、先の増感色素と同様、さらに、樹脂組成物層の特性を改良するための様々な化学修飾を行うことも可能である。例えば、増感色素や開始剤化合物、付加重合性不飽和化合物その他のパートとの結合、親水性部位の導入、相溶性向上、結晶析出抑制のための置換基導入、密着性を向上させる置換基導入、ポリマー化等の方法が利用できる。
【０２４１】
共増感剤は、単独でまたは２種以上併用して用いることができる。使用量はエチレン性不飽和二重結合を有する化合物１００質量部に対し０．０５〜１００質量部、好ましくは１〜８０質量部、さらに好ましくは３〜５０質量部の範囲が適当である。
【０２４２】
＜重合禁止剤＞
また、本発明においては以上の成分の他に組成物の製造中あるいは保存中において重合可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合防止剤を添加することが望ましい。適当な熱重合防止剤としてはハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ―ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ―ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。また、重合禁止剤としては、本発明に係る樹脂組成物を用いて膜やパターン形成材料を作成し、これを保存する際の安定性に非常に優れるという点で、Q-1301（10％トリクレジルホスフェート溶液)(和光純薬製）が好ましい。これを前記ポリウレタン系付加重合性化合物、特に、PLEX 6661-O（
デグサ製）と組み合わせて用いると、膜やパターン形成材料の保存安定性が格段に優れ、また良好なレーザー彫刻感度が得られる。熱重合防止剤の添加量は、全組成物の質量に対
して約０．０１質量％〜約５質量％が好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、支持体等への塗布後の乾燥の過程でその層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約０．５質量％〜約１０質量％が好ましい。
【０２４３】
＜着色剤＞
さらに、樹脂組成物層の着色を目的として染料もしくは顔料等の着色剤を添加してもよい。これにより、画像部の視認性や、画像濃度測定機適性といった性質を向上させる事ができる。着色剤としては、特に顔料の使用が好ましい。具体例としては例えばフタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレット、クリスタルバイオレット、アゾ系染料、アントラキノン系染料、シアニン系染料などの染料がある。着色剤の添加量は全組成物の約０．５質量％〜約５質量％が好ましい。
【０２４４】
＜その他の添加剤＞
さらに、硬化皮膜の物性を改良するために充填剤や、可塑剤等の公知の添加剤を加えてもよい。
【０２４５】
充填剤としては有機化合物、無機化合物、あるいはこれらの混合物のいずれでもよい。例えば、有機化合物としては、カーボンブラック、カーボンナノチューブ、フラーレン、黒鉛などが挙げられる。無機化合物としては、シリカ、アルミナ、アルミニウム、炭酸カルシウムなどが挙げられる。
【０２４６】
可塑剤としては例えばジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリン等があり、結合剤を使用した場合、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物と結合剤との合計質量に対し１０質量％以下添加することができる。
【０２４７】
可塑剤のなかでも、本発明の樹脂組成物から形成される膜やパターン形成材料の柔軟性が非常に良好となり、フレキソ印刷版としての適性が向上するだけでなく、彫刻感度も向上するという点でポリエチレングリコール類、ポリプロピレングリコール（モノオール型やジオール型）が好ましい。より好ましくはポリプロピレングリコール（モノオール型やジオール型）、特に好ましくはポリプロピレングリコール（ジオール型、平均分子量１０００）の場合である。ポリプロピレングリコール（モノオール型やジオール型）可塑剤は、前記ウレタン系付加重合性化合物（特にPLEX 6661-O（デグサ製））と組み合わせることにより、上記の優れた特性が更に顕著になる。
【０２４８】
(膜の成形）
本発明の分解性樹脂組成物をシート状、ロール状もしくは円筒状に成形するためには、既存の樹脂の成形方法を用いることができる。例えば、注型法、ポンプや押し出し機等の機械で樹脂組成物をノズルやダイスから押し出し、ブレードで厚みを合わせる、ロールによりカレンダー加工して厚みを合わせる方法等が例示できる。その際、樹脂組成物の性能を落とさない範囲で加熱しながら成形を行なうことも可能である。また、必要に応じて圧延処理、研削処理などをほどこしても良い。通常はＰＥＴやニッケルなどの素材からなるバックフィルムといわれる下敷きの上に成形される場合が多い。また、繊維強化プラスチック（ＦＲＰ）製、プラスチック製あるいは金属製の円筒状基体を用いることもできる。円筒状基体は軽量化のために一定厚みで中空のものを使用することができる。バックフィルムあるいは円筒状基体の役割は、成形物の寸法安定性を確保することである。したがって、寸法安定性の高いものを選択する必要がある。材料の具体例としては、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリビスマレイミド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリフェニレンチオエーテル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、全芳香族ポリエステル樹脂からなる液晶樹脂、全芳香族ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂などを挙げることができる。また、これらの樹脂を積層して用いることもできる。例えば、厚み４．５μｍの全芳香族ポリアミドフィルムの両面に厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートの層を積層したシート等でもよい。また、多孔質性のシート、例えば繊維を編んで形成したクロスや、不織布、フィルムに細孔を形成したもの等をバックフィルムとして用いることができる。バックフィルムとして多孔質性シートを用いる場合、感光性樹脂組成物を孔に含浸させた後に光硬化させることで、感光性樹脂硬化物層とバックフィルムとが一体化するために高い接着性を得ることができる。クロスあるいは不織布を形成する繊維としては、ガラス繊維、アルミナ繊維、炭素繊維、アルミナ・シリカ繊維、ホウ素繊維、高珪素繊維、チタン酸カリウム繊維、サファイア繊維などの無機系繊維、木綿、麻などの天然繊維、レーヨン、アセテート等の半合成繊維、ナイロン、ポリエステル、アクリル、ビニロン、ポリ塩化ビニル、ポリオレフィン、ポリウレタン、ポリイミド、アラミド等の合成繊維を挙げることができる。また、バクテリアの生成するセルロースは、高結晶性ナノファイバーであり、薄くて寸法安定性の高い不織布を作製することのできる材料である。
【０２４９】
＜パターン形成材料＞
本発明のパターン形成材料とは、レーザー露光に起因して露光部が非露光部に比べて凹部を形成することにより凹凸パターンとなるパターン形成材料を意味する。従って、レーザー露光により直接的に（例えば、アブレーションにより）凹部を形成するタイプのパターン形成材料のみならず、レーザー露光後に加熱処理やアルカリ水溶液等による現像処理を施すことによって凹部を形成するタイプのパターン形成材料も包含する。本発明のパターン形成材料は、特に前者のタイプのパターン形成材料として好適に用いることができる。
本発明におけるパターン形成材料は、上記のような性質を持つものであれば特に用途は限定されず、平版、グラビア、凸版、スクリーンなどの印刷版原版、プリント配線用基板、半導体用フォトレジスト材料、光ディスク用記録材料など多岐に渡って利用可能である。なかでも、レーザーによる直接彫刻製版、いわゆる「レーザー彫刻」に用いられる印刷版原版として好ましく用いられる。特にフレキソ印刷版原版として好ましく用いられ、レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版が本発明のパターン形成材料の最も好適な用途である。
本発明のパターン形成材料は、支持体上に、少なくとも１つの熱分解性樹脂層（以下、パターン形成層とも云う）を有する。
【０２５０】
本発明のパターン形成材料の第１の態様によれば、支持体上に本発明に係るレーザー分解性樹脂組成物からなる熱分解性樹脂層を有することを特徴とする。熱分解性樹脂層は特定ポリウレタン樹脂の他、必要に応じて、上記の重合性化合物、開始剤、その他の成分を含んでもよい。
【０２５１】
本発明のパターン形成材料の第２の態様によれば、支持体上に、少なくとも２つの熱分解性樹脂層を有し、支持体に近い樹脂層を構成する樹脂が、本発明に係る特定ポリウレタン樹脂であることを特徴とする。具体的には、パターン形成層は２層以上の構成(以下、
重層構成ともいう）からなり、支持体に近い第一の層(以下、下層ともいう）と第一の層
より上に存在する第二の層(以下、上層ともいう）を有し、下層を構成する樹脂として、
本発明に係る特定ポリウレタン樹脂を用いることを特徴とする。パターン形成層の数の上限は特に制限されない。
【０２５２】
下層に用いられる特定ポリウレタン樹脂は、その熱分解温度が比較的低い（２５０℃未満）という特性を有する。
本明細書において、樹脂の熱分解温度とは、ＴＧＡ（熱重量分析）測定において、樹脂
の熱分解に起因する重量減少が開始する温度を意味する。具体的には、樹脂の熱分解温度の測定は、以下のようにして行うことができる。即ち、樹脂７ｍｇを、熱重量測定装置（ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン（株）製）を用いて、１０℃/分の昇温速度で３０℃から５００℃まで加熱を行い、熱分解開始温度を測定し、この価を熱分解温度とする。ここで、「熱分解開始温度」とは、加熱を行った際に樹脂の熱分解に起因する重量減少が開始する温度のことをいう。
一般に、レーザー照射によるパターン形成層の温度上昇は、層の厚さ方向に従って徐々に減少し、支持体近傍では温度は比較的低くなるが、本発明の第２の態様のレーザー分解性パターン形成材料においては、下層の樹脂の熱分解温度が低いため、このような状況でも熱分解が行われ易く、その結果、レーザー分解性（彫刻性）が向上し、高感度化が達成されると考えられる
【０２５３】
レーザー分解性パターン形成材料の下層は、上記特定ポリウレタン樹脂に加えて、必要により、他の樹脂を含有してもよい。他の樹脂としては、例えば、先にレーザー分解性樹脂組成物に関して述べたバインダーポリマーが挙げられる。更に、下層は、必要により、先にレーザー分解性樹脂組成物に関して述べた重合性化合物(モノマー）、開始剤、その
他の成分などの添加剤を含有してもよい。
これら他の樹脂や添加剤は、下層の熱分解性を損なわない範囲で用いられることが望ましい。この観点から、上記ポリウレタン樹脂／上記ポリウレタン樹脂以外の成分の割合は、５０／５０〜１００／０（質量比）が好ましく、７０／３０〜１００／０（質量比）がより好ましく、１００／０（質量比）が特に好ましい。
【０２５４】
次に、本発明に係る第２の態様のレーザー分解性パターン形成層のうち、上層について詳述する。
上層は、レーザー分解性樹脂組成物からなるものであればよく、通常、バインダーポリマーの他、重合性化合物(モノマー）、開始剤、その他の成分などの添加剤を含有するこ
とができる。
【０２５５】
上層に用いられるバインダーポリマーとしては、前記レーザー分解性樹脂組成物において記載したバインダーポリマーが挙げられる。バインダーポリマーの添加量は、上層を構成する全固形分中、一般的に１〜９９質量％、好ましくは５〜８０質量％である。また、バインダーポリマーは前記レーザー分解性樹脂組成物において記載した一般的な樹脂と併用してもよい。
併用樹脂の添加量は、上記のバインダーポリマーに対して、一般的に１〜９０質量％、好ましくは５〜８０質量％である。
【０２５６】
上層を構成する樹脂は、その熱分解温度が、下層を構成する特定ポリウレタン樹脂の熱分解温度より高いことが好ましい。レーザー分解（彫刻）性の観点から、熱分解温度の差は８０℃以上であることがより好ましく、１００℃以上であることがさらに好ましく、１５０℃以上であることが特に好ましい。
【０２５７】
上層に用いられる重合性化合物(モノマー）、開始剤、その他の成分などとしては、各
々前記レーザー分解性樹脂組成物において記載したものが挙げられる。
【０２５８】
(支持体）
本発明において、パターン形成材料の支持体は、可撓性を有し、かつ、寸法安定性に優れた材料が好ましく用いられ、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、或いはポリカーボネートフィルムを挙げることができる。支持体の厚みは５０〜３５０μｍ、更に１００〜２５０μｍがパターン形成材料の機械的特性、形状安定性あるいは取り扱い性等から好ましい。また、必要により、支持体とパターン形成層との接着を向上させるために、この種の目的で従来から使用されている公知の接着剤層を支持体の表面に設けてもよい。
また、本発明で用いる支持体の表面に物理的、化学的処理を行うことにより、パターン形成層あるいは接着剤層との接着性を向上させることができる。物理的処理方法としては、サンドブラスト法、微粒子を含有した液体を噴射するウエットブラスト法、コロナ放電処理法、プラズマ処理法、紫外線あるいは真空紫外線照射処理法などを挙げることができる。また、化学的処理方法としては、強酸処理法、強アルカリ処理法、酸化剤処理法、カップリング剤処理法などを挙げることができる。
【０２５９】
（パターン形成層）
本発明のパターン形成層は、層の構成成分を溶剤に溶解させ、支持体上に塗布・乾燥する方法、あるいは層の構成成分をニーダーで混練後、支持体に流延する方法等により好ましく形成される。複数のパターン形成層の形成には、各層の成分を一旦溶剤に溶解させ、下層を支持体上に塗布・乾燥後、上層を塗布・乾燥する方法、あるいは各層の成分をニーダーで混練後、支持体に逐次流延する方法等が好ましく用いられる。
【０２６０】
本発明のパターン形成層は、レーザーで分解する前に架橋（重合）により硬化させることが、層の強度を向上させる観点で好ましい。層を硬化させるためには、前記のような重合性化合物を層内に含有させることが好ましい。これは、ネガ型（重合型）感光材料において被膜の強度を上げる手法として一般的に用いられていることであり、本発明でも同様の効果が発現すると考えられる。
【０２６１】
この方法は、パターン形成材料がレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版である場合に特に効果がある。レーザー彫刻前に硬化させることでレーザー彫刻後形成されるレリーフがシャープになり、また、レーザー彫刻の際に発生する彫刻カスの粘着が抑制されるという利点がある。
【０２６２】
層を硬化させる方法は、層を加熱する、光照射する、光または熱重合開始剤等を層に添加しておいてそれに光照射または加熱する等、重合性化合物の重合反応を起こさせる手段であれば特に制限無く使用することができる。
中でも、硬化させる方法としては、層の加熱が作業の簡便さから好ましい。レーザー分解前の層に対して架橋（重合）を生起するための加熱には、オーブン、サーマルヘッド、加熱ロール、レーザー光線などあらゆる加熱方法が適用できる。温度コントロールが必要な場合は、オーブン、サーマルヘッド、加熱ロール等の温度をコントロールするか、レーザー光線の強度やスポット径を調節することで実施することができる。加熱温度は、共存する有機化合物の熱安定性の観点から、４０〜２５０℃が好ましく、６０〜２２０℃がより好ましく、８０〜２００℃が更に好ましい。
【０２６３】
パターン形成層の厚み（重層構成の場合は、下層と上層の和）は、一般的には０．０００５〜１０ｍｍ、好ましくは０．００５〜７ｍｍである。
レーザー彫刻に用いる場合の厚みは、その使用目的に応じて任意に設定し得るが、好ましくは０.０５〜１０ｍｍの範囲、より好ましくは０.１〜７ｍｍの範囲である。
上記層厚における下層/上層の比は、容易に（高感度に）パターン形成する観点から、30/70〜95/5の範囲が好ましく、50/50〜95/5がさらに好ましく、70/30〜90/10が特に好ま
しい。
【０２６４】
また、場合によっては、組成の異なる層を複数積層していても構わない。複数の層からなる組み合わせとしては、例えば、最表面にＹＡＧレーザー、ファイバーレーザーあるいは半導体レーザー等の近赤外線領域に発振波長を有するレーザーを用いて彫刻することができる層を形成し、その層の下に炭酸ガスレーザー等の赤外線レーザーあるいは可視・紫
外線レーザーを用いてレーザー彫刻できる層を形成することも可能である。このような方法でレーザー彫刻する場合、赤外線レーザーと近赤外線レーザーを搭載した別々のレーザー彫刻装置を用いて彫刻することもでき、また、赤外線レーザーと近赤外線レーザーの両方を搭載したレーザー彫刻装置を用いて行うことも可能である。
【０２６５】
本発明では、支持体とパターン形成層との間、パターン形成層の間、あるいはパターン形成層と接着剤層との間にクッション性を有する樹脂あるいはゴムからなるクッション層を形成することができる。支持体とパターン形成層との間にクッション層を形成する場合、片面に接着剤層の付いたクッション層を、接着剤層側を支持体に向けて貼り付ける方法が簡便である。クッション層を貼り付けた後、表面を切削、研磨して整形することもできる。より簡便な方法は、液状接着剤組成物を支持体上に一定厚みで塗布し、光を用いて硬化させクッション層を形成する方法である。クッション性を有するために、光硬化した硬化物の硬度が低いことが好ましい。また、クッション性を有する感光性樹脂硬化物層中に気泡を含むものであっても構わない。
【０２６６】
＜レーザー彫刻＞
レーザー彫刻においては、形成したい画像をデジタル型のデータとし、コンピューターを利用してレーザー装置を操作し、パターン形成材料上にレリーフ画像を作成する。
上記したように、レーザー彫刻に用いるパターン形成材料としては特に限定されないが、レーザー彫刻型フレキソ印刷版原版が特に好ましく用いられる。
レーザー彫刻に用いるレーザーは、パターン形成材料がレーザーアブレーションによりパターン形成が可能なものであればどのようなものを用いてもよいが、彫刻を高速度で行なうためには出力の高いものが望ましく、炭酸ガスレーザー、ＹＡＧレーザー、半導体レーザー、ファイバーレーザー等の赤外線あるいは近赤外線領域に発振波長を有するレーザーが好ましいものの一つである。また、紫外線領域に発振波長を有する紫外線レーザー、例えばエキシマレーザー、第３あるいは第４高調波へ波長変換したＹＡＧレーザー、銅蒸気レーザー等も、有機化合物の分子の結合を切断するアブレージョン加工が可能であり、微細加工に適する。フェムト秒レーザーなど極めて高い尖頭出力を有するレーザーを用いることもできる。また、レーザーは連続照射でも、パルス照射でも良い。レーザー彫刻型フレキソ印刷版原版では、炭酸ガスレーザー、ＹＡＧレーザーが好ましく用いられる。
【０２６７】
レーザーによる彫刻は酸素含有ガス下、一般には空気存在下もしくは気流下に実施するが、炭酸ガス、窒素ガス下でも実施できる。彫刻終了後、レリーフ画像面に発生する粉末状もしくは液状の物質（カス）は適当な方法、例えば溶剤や界面活性剤の入った水等で洗いとる方法、高圧スプレー等により水系洗浄剤を照射する方法、高圧スチームを照射する方法、布等で拭き取る方法などを用いて除去することができる。
【０２６８】
本発明の樹脂組成物はレリーフ画像の他、スタンプ・印章、エンボス加工用のデザインロール、電子部品作成に用いられる絶縁体、抵抗体、導電体ペーストのパターニング用レリーフ画像、窯業製品の型材用レリーフ画像、広告・表示板などのディスプレイ用レリーフ画像、各種成型品の原型・母型など各種の用途に利用できる。
【０２６９】
また、レーザー彫刻後のパターン画像の表面に改質層を形成させることにより、表面のタックの低減を行うこともできる。改質層としては、シランカップリング剤あるいはチタンカップリング剤等のパターン画像の表面水酸基と反応する化合物で処理した被膜、あるいは多孔質無機粒子を含有するポリマーフィルムなどを挙げることができる。広く用いられているシランカップリング剤は、パターン画像の表面水酸基との反応性の高い官能基を分子内に有する化合物であり、そのような官能基とは、例えばトリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基、トリクロロシリル基、ジエトキシシリル基、ジメトキシシリル基、ジクロロシリル基、モノエトキシシリル基、モノメトキシシリル基、モノクロロシリル基
を挙げることができる。また、これらの官能基は分子内に少なくとも１つ以上存在し、パターン画像の表面水酸基と反応することにより表面に固定化される。更に本発明のシランカップリング剤を構成する化合物としては、分子内に反応性官能基としてアクリロイル基、メタクリロイル基、活性水素含有アミノ基、エポキシ基、ビニル基、パーフルオロアルキル基、及びメルカプト基から選ばれた少なくとも１個の官能基を有するもの、あるいは長鎖アルキル基を有するものも用いることができる。表面に固定化したカップリング剤分子が、特に重合性反応基を有する場合、表面への固定化後、光、熱、あるいは電子線を照射して架橋させることにより、より強固な被膜とすることもできる。
【実施例】
【０２７０】
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【０２７１】
特定ポリウレタン樹脂の合成
合成例１：ポリウレタン樹脂Ｐ−１の合成
コンデンサー、撹拌機を備えた５００ｍｌの３つ口丸底フラスコ中で、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）ブタン酸８．２ｇ（０．０５モル）、下記ジオ−ル化合物（１）１３．０ｇ（０．０５モル）をＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍｌに溶解した。これに、４，４−ジフェニルメタンジイソシアネート２５．５ｇ（０．１０２モル）、ジブチル錫ジラウリレート０．１ｇを添加し、１００℃にて、８時間加熱撹拌した。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍｌ及びメチルアルコール２００ｍｌにて希釈し３０分撹拌した。反応溶液を水３リットル中に撹拌しながら投入し、白色のポリマーを析出させた。このポリマーを濾別し、水で洗浄後、真空下乾燥させることにより３７ｇのポリマーを得た。
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）にて分子量を測定したところ、重量平均分子量（ポリスチレン標準）は９５，０００であった。
【０２７２】
合成例２：ポリウレタン樹脂Ｐ−５の合成
コンデンサー、撹拌機を備えた５００ｍｌの３つ口丸底フラスコ中で、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）ブタン酸５．９ｇ（０．０４モル）、下記ジオール化合物（２）１５．９Ｇ（０．０６モル）をＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍｌに溶解した。これに、４，４−ジフェニルメタンジイソシアネート２０．４ｇ（０．０８２モル）、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート３．４ｇ（０．０２モル）、ジブチル錫ジラウリレート０．１ｇを添加し、１００℃にて、８時間加熱撹拌した。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍｌ及びメチルアルコール２００ｍｌにて希釈し３０分撹拌した。反応溶液を水３リットル中に撹拌しながら投入し、白色のポリマーを析出させた。このポリマーを濾別し、水で洗浄後、真空下乾燥させることにより３４ｇのポリマーを得た。
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）にて分子量を測定したところ、重量平均分子量（ポリスチレン標準）は９９，０００であった。
【０２７３】
合成例３：ポリウレタン樹脂Ｐ−６の合成
コンデンサー、撹拌機を備えた５００ｍｌの３つ口丸底フラスコ中で、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）プロピオン酸５．４ｇ（０．０４モル）、下記ジオ−ル化合物（３）１５．６ｇ（０．０６モル）をＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍｌに溶解した。これに、ナフタレンジイソシアネート２１．４ｇ（０．１０２モル）、ジブチル錫ジラウリレート０．１ｇを添加し、１００℃にて、８時間加熱撹拌した。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍｌ及びメチルアルコール２００ｍｌにて希釈し３０分撹拌した。反応溶液を水３リットル中に撹拌しながら投入し、白色のポリマーを析出させた。このポリマーを濾別し、水で洗浄後、真空下乾燥させることにより３４ｇのポリマーを得た。
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）にて分子量を測定したところ、重
量平均分子量（ポリスチレン標準）は９６，０００であった。
【０２７４】
【化４８】
【０２７５】
〔実施例１〜１４、１ａ及び比較例１〜３〕
＜熱分解開始温度の測定＞
下記表Ａに示す各樹脂（本発明に係る特定ポリウレタン樹脂、比較用ポリウレタン樹脂又は比較用樹脂）７ｍｇを、熱重量測定装置（ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン（株）製）を用いて、１０℃/分の昇温速度で３０℃から５００℃まで加熱を行い、熱
分解開始温度を測定した。なお、特定ポリウレタン樹脂Ｐ−３７及びＰ−３８については、樹脂Ｐ−３７またはＰ−３８の１ｇを４８質量％のメチルエチルケトン溶液としてガラス製シャーレにキャストし、５０℃で６時間減圧乾燥してメチルエチルケトンを除去し、得られた固体を測定サンプルとして用いた。ここで、「熱分解開始温度」とは、加熱を行った際にサンプルの熱分解に起因する重量減少が開始する温度のことをいう。結果を表Ａに示す。
【０２７６】
【表１２】
【０２７７】
比較用ポリウレタン樹脂ＣＰ−１：下記のジイソシアネート化合物（Ｘ）とジオール化合物（Ｙ）（１：１モル比）から合成されたポリウレタン樹脂（重量平均分子量：３２，０００）
【０２７８】
【化４９】
【０２７９】
比較用樹脂ＣＰ−２：スチレン−ブタジエンブロックコポリマー（商品名：ＴＲ２０００、ＪＳＲ（株）製）比較用樹脂ＣＰ−３：ポリメタクリル酸メチル（重量平均分子量：２１，０００、アルドリッチ製）
【０２８０】
表Ａの結果から、実施例の樹脂は、比較例の樹脂に比べて、熱分解開始温度が大幅に低く、熱分解性に優れていることが分かる。この結果は、本発明に係る特定ポリウレタン樹脂の熱分解性向上効果を表している。特に、比較例１のように、芳香族基を含まないポリウレタン樹脂を用いた場合には、ポリウレタン以外の樹脂を用いた比較例２及び３との比較から明らかなように、熱分解開始温度の低下が殆ど認められないことを考慮すると、本発明に係る特定ポリウレタン樹脂がこのような特異的な性質を有することは、極めて驚くべきことである。
【０２８１】
〔実施例１５〜２７及び比較例４〜５〕
＜パターン形成材料の作製＞
下記表Ｂに示すポリウレタン樹脂、バインダーポリマー、添加剤及びレーザー吸収剤を材料温度１００℃で実験室用ニーダー中で２０分間混合し、レーザー吸収剤を均一に分散した。次いで得られた混合物を、重合性化合物及び開始剤とともに１００℃でトルエン中
に溶解し、４０℃に冷却した後、１２５μｍ厚ＰＥＴフィルム上に流延した。大気中室温で４８時間、次いで９０℃で１．５時間乾燥した。得られたレリーフ層（層厚み１０００μｍ）を、接着成分混合物で被覆した１２５μｍ厚ＰＥＴフィルムにラミネート（積層）した。これにより、レリーフ層は、接着成分混合物で被覆された１２５μｍ厚ＰＥＴフィルムに転写された。次に、排気装置付きのオーブンにて常圧で１８０℃で２０分加熱し、レリーフ層を架橋させた。レリーフ層が架橋していることは、FT-IRにて炭素-炭素不飽和結合由来のピークが消失したことを観測することで確認した。かくして、パターン形成材料を作製した。
【０２８２】
【表１３】
【０２８３】
＜パターン形成材料のレーザー彫刻＞
レーザー照射による彫刻を、炭酸（ＣＯ2）レーザーの場合、高品位ＣＯ2レーザーマーカＭＬ−９１００シリーズ（ＫＥＹＥＮＣＥ（株）製）を用いて１２Ｗでラインスピード２０ｃｍ/秒、Ｎｄ−ＹＡＧレーザーの場合、ＭＡＲＫＥＲ ＥＮＧＩＮＥ ３０００（レーザーフロントテクノロジーズ（株）製）を用いて１０Ｗでラインスピード１０ｃｍ/秒
で実施した。レーザー照射部（凹部）とレーザー未照射部の高さの違いを、超深度形状測定顕微鏡（ＶＫ−８５００、キーエンス社製）で測定することによりレーザー彫刻の深さを評価した。結果を表Ｃに示す。レーザー彫刻の深さの数値が大きいほど、レーザー彫刻がより高感度でなされたことを意味する。
【０２８４】
【表１４】
【０２８５】
表Ｃの結果から、実施例の樹脂組成物は比較例の樹脂組成物に比べて、彫刻深さが大きいことが明らかである。本発明に係る特定ポリウレタン樹脂を用いることにより、樹脂組成物の熱分解性が向上し、レーザー彫刻が高感度でなされることがわかる。
【０２８６】
〔実施例２８〜３３，４６〜４７及び比較例６〜９〕
＜パターン形成材料の作製＞
下記表Ｄに示すパターン形成層組成物を、ＰＥＴフィルム（厚さ：０．２ｍｍ）上にセロハンテープで貼り付けたポリテトラフルオロエチレン製の枠（１５ｃｍ×１５ｃｍ）の中に流延し、４０℃のオーブン中で３時間乾燥させて層（厚さ：１．２ｍｍ）を作成した。層の厚さは、枠からはみ出ている余剰のパターン形成層組成物を水平な金尺で掻き出すことによって制御した。次いで、紫外領域に光源を有する超高圧水銀灯を用いて、得られた層の片面（表面１）を全面露光（露光量：約１５００ｍＪ／ｃｍ２）し、さらにその反対側の面（表面２）を全面露光（露光量：約６００ｍＪ／ｃｍ２）してパターン形成材料を作製した。なお、特定ポリウレタン樹脂Ｐ−３７及びＰ−３８については、４８質量％のメチルエチルケトン溶液として使用した。
【０２８７】
【表１５】
【０２８８】
＜パターン形成材料のレーザー彫刻＞
実施例１５〜２７と同様にして、パターン形成材料の表面1に対してレーザー彫刻を行
い、レーザー彫刻の深さを評価した。結果を表Ｅに示す。
【０２８９】
【表１６】
【０２９０】
【化５０】
【０２９１】
表Ｅの結果から、実施例の樹脂組成物は比較例の樹脂組成物に比べて、彫刻深さが大きいことが明らかである。本発明に係る特定ポリウレタン樹脂を用いることにより、樹脂組成物の熱分解性が向上し、また、ウレタン系付加重合性化合物を併用することによりレーザー彫刻がより高感度でなされることがわかる。
【０２９２】
〔実施例３４〜４５及び比較例１０〜１５〕
＜パターン形成材料の作製＞
下記表Ｆに示す各樹脂（本発明に係る特定ポリウレタン樹脂又は比較用樹脂）１００ｇを、材料温度１２０℃で実験室用ニーダーにより攪拌、溶融させた後、７０℃に冷却し、１２５μｍ厚ＰＥＴフィルム支持体上に流延した。大気中室温で４８時間、次いで８０℃で３時間乾燥して下層を形成した。
【０２９３】
下記表Ｇに示すバインダーポリマー、添加剤及びレーザー吸収剤を材料温度１２０℃で実験室用ニーダー中で１５分間混合し、レーザー吸収剤を均一に分散した。得られた混合物を、重合性化合物とともに１００℃でトルエン中に溶解し、６０℃に冷却した後、１２５μｍ厚ＰＥＴフィルム上に流延した。大気中室温で４８時間、次いで８０℃で３時間乾燥して上層を形成した。この上層を、上記下層と密着させてラミネートし、上層側のＰＥＴフィルムを剥離することにより、ＰＥＴフィルム支持体上に下層（厚み：０．９４ｍｍ）と上層（厚み：０．２０ｍｍ）を有するパターン形成材料を作製した。
【０２９４】
【表１７】
【０２９５】
比較用樹脂ＣＰ−１：スチレン−ブタジエンブロックコポリマー（商品名：ＴＲ２０００、ＪＳＲ（株）製）〔熱分解温度：４１２℃〕
比較用樹脂ＣＰ−２：下記のジイソシアネート化合物（Ｘ）とジオール化合物（Ｙ）（１：１モル比）から合成された脂肪族ポリウレタン樹脂（重量平均分子量：３２，０００）〔熱分解温度：３３７℃〕
【０２９６】
【化５１】
【０２９７】
比較用樹脂ＣＰ−３：スチレン−イソプレン−スチレンブロックコポリマー（アルドリッチ製）〔熱分解温度：４００℃〕
【０２９８】
樹脂の熱分解温度は以下のようにして求めた。
樹脂７ｍｇを、熱重量測定装置（ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン（株）製）を用いて、１０℃/分の昇温速度で３０℃から５００℃まで加熱を行い、熱分解開始温
度を測定し、この価を熱分解温度とした。ここで、「熱分解開始温度」とは、加熱を行った際に樹脂の熱分解に起因する重量減少が開始する温度のことをいう。
【０２９９】
【表１８】
【０３００】
＜パターン形成材料のレーザー彫刻＞
レーザー照射による彫刻を、炭酸（ＣＯ2）レーザーの場合、高品位ＣＯ2レーザーマーカＭＬ−９１００シリーズ（ＫＥＹＥＮＣＥ（株）製）を用いて１２Ｗでラインスピード１０ｃｍ/秒、Ｎｄ−ＹＡＧレーザーの場合、ＭＡＲＫＥＲ ＥＮＧＩＮＥ ３０００（レーザーフロントテクノロジーズ（株）製）を用いて１０Ｗでラインスピード１０ｃｍ/秒で実施した。レーザー照射部（凹部）とレーザー未照射部の高さの違いを、超深度形状測定顕微鏡（ＶＫ−８５００、キーエンス社製）で測定することによりレーザー彫刻の深さを評価した。結果を表Ｆに示す。レーザー彫刻の深さの数値が大きいほど、レーザー彫刻がより高感度でなされたことを意味する。
【０３０１】
表Ｆの結果から、実施例は比較例に比べて、彫刻深さが大きいことが明らかである。本発明に係る特定ポリウレタン樹脂を下層に用いることにより、熱分解性が向上し、レーザー彫刻が高感度でなされることがわかる。
また、下層に芳香族基を含まないポリウレタン樹脂を用いた比較例１１及び１４と単層構成のパターン形成層を有する比較例１０及び９１３を比較した場合の彫刻深さの増加程度に較べて、本発明に係る特定ポリウレタン樹脂を用いた実施例４２及び４３と単層構成のパターン形成層を有する比較例１０及び１３とを比較した場合の彫刻深さの増加程度が極めて大きいことがわかる。このことは、本発明に係る芳香族基を含むポリウレタン樹脂の特異的な性質を例証するものであり、極めて驚くべきことである。
【技術分野】
【０００１】
本発明はレーザー分解性樹脂組成物に関し、特にレーザーによって彫刻が可能な高い分解性と保存安定性を両立させた組成物、並びにそれを用いるレーザー分解性パターン形成材料及びレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版に関する。
【背景技術】
【０００２】
分解性樹脂、分解性樹脂組成物とは、例えば熱的因子、機械的因子、光化学的因子、放射線化学的因子、化学薬品的因子などの外部因子に応答して樹脂が分解するものであり、広く公知である。この樹脂の分解によって引き起こされる、樹脂または組成物の分解前後での形態の変化（液化、気化）、分子量、硬度、粘弾性、ガラス転移点（Ｔｇ）、溶解性、接着性などの性状や特性の変化を利用するものであり、各種の分野で使用されている。
【０００３】
このような分解性樹脂、分解性樹脂組成物の例としては例えばプラスチック材料の環境影響を低減させるための生分解性プラスチック（ポリ乳酸など）、医療・化粧品・ライフサイエンス分野などにおいて薬剤、香料などの成分を徐々に放出させるための徐放性材料などが挙げられる。但しこれらは自然環境下で酸素、光、酵素、生体内、土壌中などで徐々に分解するものであり、初期状態を安定に保ち、かつ外部刺激で一気に大きな性状の変化を引き起こすものではない。
【０００４】
またリサイクル性や廃棄処理の簡便化のために光や熱によって分解する樹脂や、接着性が低下する接着剤なども開発されている。更にセラミックス、炭素繊維などと分解性樹脂を混合し、焼成などによって分解性樹脂を除去することで多孔性材料を形成することも知られている。しかしながらこれらは材料全体を処理・加工するもので、必要な部分のみに必要なパターンを形成するものではない。また分解処理には大きなエネルギーが必要とされる。
【０００５】
画像形成への利用としては、例えば熱分解性樹脂を含むトナーを用いて、加熱定着時の熱による性状変化を利用して、トナーとしての保存安定性と画像定着性を両立させる例も知られている。しかしながら樹脂そのものがパターン状の刺激に対して十分な応答性を有しているものではない。
【０００６】
一方、パターン形成材料としては例えばフォトレジストとして、光酸発生剤と酸分解性樹脂とを含む組成物に対してパターン状に露光、必要に応じて加熱処理によって、パターン状に樹脂を分解し、現像処理でパターン形成を行うものが、所謂化学増幅型レジストとして広く知られている。この組成物は保存安定性とパターン形成性が実用レベルとして両立しているが、パターン形成には十分に処理条件が制御された現像過程が必須であり、また薄膜には適用可能であるが、例えば数十μｍ以上の厚膜でのパターン形成は困難である。
【０００７】
またレーザー光を画像様に照射して薄膜の一部を除去（アブレーション）する工程を利用することで画像を形成する方法も知られている（特許文献１）。しかしながら、熱分解性樹脂として取り上げられているの化合物はポリエステル、ポリカーボネート、ポリウレタンなど通常の汎用樹脂が例示されているにすぎず、また膜厚も１〜２μｍ程度に留まっている。また熱分解性を規定した化合物を用いる例も知られている（特許文献２）。しかしながら、この場合でも膜厚は１〜２μｍ程度に留まっている。
【０００８】
またプリント配線板へのペースト印刷などのためのマスク材料として、光分解性樹脂シートを利用して１００〜２００μｍ程度のパターンを形成するマスク、及びその製造方法が開示されている（特許文献３）。しかしながら、当該公報には具体的な化合物については開示されておらず、露光、現像の度合いを調整してパターンを形成するために制御された現像処理が必須となる。
【０００９】
一方で厚膜に対して簡便な処理でパターンを形成するものとしては、例えばレーザー加工によるパターン形成が知られており、レーザー光を画像様に照射することで基材そのものを除去したり変形、変色させたりするものである。例えばレーザマーカーとして、各種基材からなる製品（例えばビデオテープ、家電製品）にロット番号等の情報を記入するなどの利用がなされている。但しこの場合は、基材自体は通常の樹脂などをそのまま用いているものである。
レーザー加工によるパターン形成においては、レーザー彫刻部（凹部）が速やかに形成されることが望まれる。このためには、高感度なレーザー分解性樹脂組成物、高感度なレーザー分解性パターン形成材料が必要となる。
【００１０】
特に、レーザーにより直接描画するタイプのフレキソ印刷版原版（いわゆるレーザー彫刻用フレキソ印刷版）においては、レーザー光による彫り易さ（彫刻感度）が製版スピードを左右する為、高感度なレーザー分解性樹脂組成物を用いたレーザー彫刻用フレキソ印刷版が望まれている。
【００１１】
他方、ポリウレタン樹脂を含む光重合性組成物及びそれを光重合性感光層に用いたレーザー走査露光用平版印刷版原版が知られている（特許文献４、５）。ここで、ポリウレタン樹脂は光重合性組成物あるいは光重合性感光層のバインダーとして機能しており、レーザー走査露光によって分解するものではない。
【特許文献１】特開平１０−１１９４３６号公報
【特許文献２】特開平１０−２４４７５１号公報
【特許文献３】特開平８−２５８４４２号公報
【特許文献４】特開平１１−３５２６９１号公報
【特許文献５】特開２００１−１１７２２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明の目的は、高感度なレーザー分解性樹脂組成物を提供することである。本発明の他の目的は、高感度なレーザー分解性パターン形成材料を提供することである。本発明の更なる目的は、高感度なレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者は鋭意検討を重ねた結果、芳香族基がウレタン結合と直接結合した構造を有するポリウレタン樹脂をレーザー分解性樹脂組成物中に含有させると、レーザー照射により樹脂組成物が容易に分解することを見出し、本発明を完成するに至った。即ち、上記課題は下記の構成により達成される。
【００１４】
（１）芳香族基がウレタン結合と直接結合した構造を有するポリウレタン樹脂を含有することを特徴とするレーザー分解性樹脂組成物。
（２）前記ポリウレタン樹脂が、下記一般式（１）で表されるウレタン結合を含むポリウレタン樹脂であることを特徴とする上記（１）に記載のレーザー分解性樹脂組成物。
【００１５】
【化１】
【００１６】
一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して２価の有機基をあらわす。但し、Ｒ１及びＲ２の少なくとも一方は芳香族基である。
【００１７】
（３）前記一般式（１）におけるＲ２が、芳香族基であることを特徴とする上記（２）に記載のレーザー分解性樹脂組成物。
（４）前記一般式（１）におけるＲ１及びＲ２が、それぞれ芳香族基であることを特徴とする上記（２）に記載のレーザー分解性樹脂組成物。
（５）前記ポリウレタン樹脂が、更にカーボネート部位を有することを特徴とする上記（１）〜（４）のいずれか１項に記載のレーザー分解性樹脂組成物。
（６） 前記ポリウレタン樹脂が、更にアセタール部位を有することを特徴とする上記（１）〜（４）のいずれか１項に記載のレーザー分解性樹脂組成物。
（７）前記レーザー分解性樹脂組成物が、更に重合性化合物を含有することを特徴とする上記項（１）〜（５）のいずれか１項に記載のレーザー分解性樹脂組成物。
（８）前記レーザー分解性樹脂組成物が、更にバインダーポリマーを含有することを特徴とする上記（１）〜（７）のいずれか１項に記載のレーザー分解性樹脂組成物。
（９）上記（７）に記載のレーザー分解性樹脂組成物を硬化させてなることを特徴とするレーザー分解性樹脂組成物。
（１０）上記（８）に記載のレーザー分解性樹脂組成物を硬化させてなることを特徴とするレーザー分解性樹脂組成物。
【００１８】
（１１）支持体上に、上記（１）〜（７）及び（９）のいずれか１項に記載のレーザー分解性樹脂組成物からなる熱分解性樹脂層を有することを特徴とするパターン形成材料。
（１２）支持体上に、上記（８）または（１０）に記載のレーザー分解性樹脂組成物からなる熱分解性樹脂層を有することを特徴とするパターン形成材料。
（１３）支持体上に、少なくとも２つの熱分解性樹脂層を有し、支持体に近い樹脂層を構成する樹脂が、芳香族基がウレタン結合と直接結合した構造を有するポリウレタン樹脂であることを特徴とするレーザー分解性パターン形成材料。
（１４）前記支持体に近い樹脂層より上に存在する樹脂層を構成する樹脂の熱分解温度が、前記芳香族基を含むポリウレタン樹脂の熱分解温度より高いことを特徴とする上記（１３）に記載のレーザー分解性パターン形成材料。
（１５）前記ポリウレタン樹脂が、下記一般式（１）で表されるウレタン結合を含むポリウレタン樹脂であることを特徴とする上記（１３）又は（１４）に記載のレーザー分解性パターン形成材料。
【００１９】
【化２】
【００２０】
一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して２価の有機基をあらわす。但し、Ｒ１及びＲ２の少なくとも一方は芳香族基である。
【００２１】
（１６）前記一般式（１）におけるＲ２が、芳香族基であることを特徴とする上記（１５
）に記載のレーザー分解性パターン形成材料。
（１７）前記一般式（１）におけるＲ１及びＲ２が、それぞれ芳香族基であることを特徴とする上記（１５）に記載のレーザー分解性パターン形成材料。
（１８）前記ポリウレタン樹脂が、更にカーボネート部位を有することを特徴とする上記（１３）〜（１７）のいずれか１項に記載のレーザー分解性パターン形成材料。
（１９）上記（１０）〜（１７）のいずれか１項に記載のレーザー分解性パターン形成材料からなるレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版。
【発明の効果】
【００２２】
本発明のレーザー分解性樹脂組成物を用いると、高感度なレーザー分解性パターン形成材料、特に高感度なレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版が得られ、高感度でレーザー彫刻ができ、容易にパターンを形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下に、本発明のレーザー分解性樹脂組成物について詳細に説明する。
本発明のレーザー分解性樹脂組成物は、芳香族基がウレタン結合と直接結合した構造を有するポリウレタン樹脂を含有することを特徴としている。
まず、本発明に用いられる芳香族基がウレタン結合と直接結合した構造を有するポリウレタン樹脂について説明する。
芳香族基がウレタン結合と直接結合した構造を有するポリウレタン樹脂（以下、特定ポリウレタン樹脂と称することもある）とは、その製造に用いられるジイソシアネート化合物及びジオール化合物の中の少なくとも１つが芳香族基を含むものであることを意味する。具体的には、ポリウレタン樹脂の製造に当たり、原料として、芳香族ジイソシアネート化合物及び又は芳香族ジオール化合物を用いることにより得られる樹脂である。
【００２４】
芳香族基がウレタン結合と直接結合した構造を有するポリウレタン樹脂のうち、下記一般式（１）で表されるウレタン結合を含むポリウレタン樹脂は特に好ましい。
【００２５】
【化３】
【００２６】
一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して２価の有機基をあらわす。但し、Ｒ１及びＲ２の少なくとも一方は芳香族基である。
【００２７】
上記一般式（１）における芳香族基は特に制限ないが、合成の簡便さからは、置換基を有してもよいフェニレン基または置換基を有してもよいナフチレン基が好ましい。特に置換基を有してもよいフェニレン基が好ましい。とりわけ電子吸引性の置換基、例えば、カルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基などで置換されたフェニレン基が好ましい。
【００２８】
次に、本発明に係る特定ポリウレタン樹脂の基本骨格について説明する。特定ポリウレタン樹脂は、下記一般式（４）で表されるジイソシアネート化合物の少なくとも１種と下記一般式（５）で表されるジオール化合物の少なくとも１種との反応生成物である構造単位を基本骨格とするポリウレタン樹脂である。
ＯＣＮ−Ｘ0−ＮＣＯ （４）
ＨＯ−Ｙ0−ＯＨ （５）
【００２９】
一般式（４）および（５）中、Ｘ0、Ｙ0は、それぞれ独立に２価の有機残基を表す。但
し、Ｘ0およびＹ0で表される有機残基の少なくとも一方は、ＮＣＯ基あるいはＯＨ基と芳香族基で結合している。
【００３０】
(１）ジイソシアネート化合物
上記一般式（４）で表されるジイソシアネート化合物としては、Ｘ0で表される有機残
基がＮＣＯ基に直接結合した芳香族基をもっていることが好ましい。
好ましいジイソシアネート化合物は、下記一般式（６）で表されるジイソシアネート化合物である。
【００３１】
ＯＣＮ−Ｌ1−ＮＣＯ （６）
【００３２】
一般式（６）中、Ｌ1は置換基を有していてもよい２価芳香族炭化水素基を表す。置換
基としては、例えば、アルキル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ）などが挙げられる。必要に応じ、Ｌ1はイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えばエステル、ウレタン、アミド、
ウレイド基を有していてもよい。
【００３３】
上記一般式（６）で表されるジイソシアネート化合物としては、具体的には以下に示すものが含まれる。すなわち、２，４−トリレンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネートの二量体、２，６−トリレンジレンジイソシアネート、ｐ−キシリレンジイソシアネート、ｍ−キシリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、１，５−ナフチレンジイソシアネート、３，３’−ジメチルビフェニル−４，４’−ジイソシアネート等のような芳香族ジイソシアネート化合物が挙げられる。
特に熱分解性の観点で４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、１，５−ナフチレンジイソシアネートが好ましい。
【００３４】
本発明で使用される特定ポリウレタン樹脂は、例えば、レーザー分解性樹脂組成物中の他の成分との相溶性を向上させ、保存安定性を向上させるといった観点から、上記以外のジイソシアネート化合物を併用することができる。
例えばヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等のような脂肪族ジイソシアネート化合物；イソホロンジイソシアネート、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）、メチルシクロヘキサン−２，４（または２，６）ジイソシアネート、１，３−（イソシアネートメチル）シクロヘキサン等のような脂環族ジイソシアネート化合物； １，３−ブチレングリコール１モルとトリレンジイソシアネート２モルとの付加体等のようなジオールとジイソシアネートとの反応物であるジイソシアネート化合物；等が挙げられる。
また、トリイソシアネートの3つのNCOのうちの１つに単官能アルコールを付加させて得たジイソシアネートを用いることもできる。
【００３５】
(２）ジオール化合物
ジオール化合物としては、特にＹ0で表される有機残基がOH基に直接結合した芳香族基
をもっていることが好ましい。
具体的には以下の一般式（Ａ−１）〜（Ａ−３）で表されるジオール化合物が好ましい。
【００３６】
ＨＯ−Ａｒ1−ＯＨ 一般式（Ａ−１）
ＨＯ−（Ａｒ1−Ａｒ2）ｍ−ＯＨ 一般式（Ａ−２）
ＨＯ−Ａｒ1−Ｘ−Ａｒ2−ＯＨ 一般式（Ａ−３）
【００３７】
式中、Ａｒ1とＡｒ2は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ芳香環を表す。このような芳香環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、ピレン環、複素環等を挙げることができる。これらの芳香環は置換基を有していてもよい。置換基としては、例えば、アルキル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ）などが挙げられる。
原料入手のしやすさの観点から、好ましくは、ベンゼン環とナフタレン環である。膜形成性も考慮するとベンゼン環が特に好ましい。
Ｘは２価の有機残基である。ｍは膜形成性の観点から１〜３が好ましい。特に好ましくは1である。
【００３８】
一般式（Ａ−１）で表されるジオール化合物の好ましい例としては、1,4-ジヒドロキシベンゼン、1,8-ジヒドロキシナフタレンがある。
一般式（Ａ−２）で表されるジオール化合物の好ましい例としては、4,4’-ジヒドロキシビフェニル、2,2’-ヒドロキシビナフチルがある。
一般式（Ａ−３）で表されるジオール化合物の好ましい例としては、ビスフェノールA
、4,4’-ビス（ヒドロキシフェニル）メタンがある。
【００３９】
本発明で使用される特定ポリウレタン樹脂は、例えば、レーザー分解性樹脂組成物中の他の成分との相溶性を向上させ、保存安定性を向上させるといった観点から、上記以外のジオール化合物を併用することができる。
そのようなジオール化合物としては、例えば、ポリエーテルジオール化合物、ポリエステルジオール化合物、ポリカーボネートジオール化合物を挙げることできる。
ポリエーテルジオール化合物としては、下記式（７）、（８）、（９）、（１０）、（１１）で表される化合物、および、末端に水酸基を有するエチレンオキシドとプロピレンオキシドとのランダム共重合体が挙げられる。
【００４０】
【化４】
【００４１】
式（７）〜（１１）中、Ｒ14は水素原子またはメチル基を表し、Ｘ1は、以下の基を表
す。また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇはそれぞれ２以上の整数を表し、好ましくは２〜１００の整数である。
【００４２】
【化５】
【００４３】
上記式（７）、（８）で表されるポリエーテルジオール化合物としては具体的には以下に示すものが挙げられる。すなわち、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ペンタエチレングリコール、ヘキサエチレングリコール、ヘプタエチレングリコール、オクタエチレングリコール、ジ−１，２−プロピレングリコール、トリ−１，２−プロピレングリコール、テトラ−１，２−プロピレングリコール、ヘキサ−１，２−プロピレングリコール、ジ−１，３−プロピレングリコール、トリ−１，３−プロピレングリコール、テトラ−１，３−プロピレングリコール、ジ−１，３−ブチレングリコール、トリ−１，３−ブチレングリコール、ヘキサ−１，３−ブチレングリコール、重量平均分子量１０００のポリエチレングリコール、重量平均分子量１５００のポリエチレングリコール、重量平均分子量２０００のポリエチレングリコール、重量平均分子量３０００のポリエチレングリコール、重量平均分子量７５００のポリエチレングリコール、重量平均分子量４００のポリプロピレングリコール、重量平均分子量７００のポリプロピレングリコール、重量平均分子量１０００のポリプロピレングリコール、重量平均分子量２０００のポリプロピレングリコール、重量平均分子量３０００のポリプロピレングリコール、重量平均分子量４０００のポリプロピレングリコール等である。
【００４４】
上記式（９）で表されるポリエーテルジオール化合物としては、具体的には以下に示すものが挙げられる。すなわち、三洋化成工業（株）製、（商品名）ＰＴＭＧ６５０、ＰＴＭＧ１０００、ＰＴＭＧ２０００、ＰＴＭＧ３０００等である。
【００４５】
上記式（１０）で表されるポリエーテルジオール化合物としては、具体的には以下に示すものが挙げられる。すなわち、三洋化成工業（株）製、（商品名）ニューポールＰＥ−６１、ニューポールＰＥ−６２、ニューポールＰＥ−６４、ニューポールＰＥ−６８、ニューポールＰＥ−７１、ニューポールＰＥ−７４、ニューポールＰＥ−７５、ニューポールＰＥ−７８、ニューポールＰＥ−１０８、ニューポールＰＥ−１２８、ニューポールＰＥ−６１等である。
【００４６】
上記式（１１）で表されるポリエーテルジオール化合物としては、具体的には以下に示すものが挙げられる。すなわち、三洋化成工業（株）製、（商品名）ニューポールＢＰＥ−２０、ニューポールＢＰＥ−２０Ｆ、ニューポールＢＰＥ−２０ＮＫ、ニューポールＢＰＥ−２０Ｔ、ニューポールＢＰＥ−２０Ｇ、ニューポールＢＰＥ−４０、ニューポールＢＰＥ−６０、ニューポールＢＰＥ−１００、ニューポールＢＰＥ−１８０、ニューポールＢＰＥ−２Ｐ、ニューポールＢＰＥ−２３Ｐ、ニューポールＢＰＥ−３Ｐ、ニューポールＢＰＥ−５Ｐ等である。
【００４７】
末端に水酸基を有するエチレンオキシドとプロピレンオキシドとのランダム共重合体としては、具体的には以下に示すものが挙げられる。すなわち、三洋化成工業（株）製、（商品名）ニューポール５０ＨＢ−１００、ニューポール５０ＨＢ−２６０、ニューポール５０ＨＢ−４００、ニューポール５０ＨＢ−６６０、ニューポール５０ＨＢ−２０００、ニューポール５０ＨＢ−５１００等である。
【００４８】
ポリエステルジオール化合物としては、式（１２）、（１３）で表される化合物が挙げられる。
【００４９】
【化６】
【００５０】
式（１２）、（１３）中、Ｌ2、Ｌ3およびＬ4は、同一でも相違してもよく、それぞれ
２価の脂肪族または芳香族炭化水素基を表し、Ｌ5は２価の脂肪族炭化水素基を表す。好
ましくは、Ｌ2〜Ｌ4は、それぞれアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリレン基を表し、Ｌ5はアルキレン基を表す。またＬ2〜Ｌ5中にはイソシアネート基と反応
しない他の官能基、例えばエーテル、カルボニル、エステル、シアノ、オレフィン、ウレタン、アミド、ウレイド基またはハロゲン原子等が存在していてもよい。ｎ１、ｎ２はそれぞれ２以上の整数であり、好ましくは２〜１００の整数を表す。
【００５１】
ポリカーボネートジオール化合物としては、式（１４）で表される化合物が挙げられる。
【００５２】
【化７】
【００５３】
式（１４）中、Ｌ6は、同一でも相違してもよく、それぞれ２価の脂肪族または芳香族
炭化水素基を表す。好ましくは、Ｌ6はアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基
、アリーレン基を表す。またＬ6中にはイソシアネート基と反応しない他の官能基、例え
ばエーテル、カルボニル、エステル、シアノ、オレフィン、ウレタン、アミド、ウレイド基またはハロゲン原子等が存在していてもよい。ｎ３は２以上の整数であり、好ましくは２〜ｌ００の整数を表す。
上記式（１２）、（１３）または（１４）で表されるジオール化合物としては具体的には以下に示す（例示化合物Ｎｏ．１）〜（例示化合物Ｎｏ．１８）が含まれる。具体例中のｎは２以上の整数を表す。
【００５４】
【化８】
【００５５】
【化９】
【００５６】
【化１０】
【００５７】
また、特定ポリウレタン樹脂の合成には、上記ジオール化合物の他に、イソシアネート基と反応しない置換基を有するジオール化合物を併用することもできる。このようなジオール化合物としては、例えば、以下に示すものが含まれる。
【００５８】
ＨＯ−Ｌ7−Ｏ−ＣＯ−Ｌ8−ＣＯ−Ｏ−Ｌ7−ＯＨ （１５）
ＨＯ−Ｌ8−ＣＯ−Ｏ−Ｌ7−ＯＨ （１６）
【００５９】
式（１５）、（１６）中、Ｌ7、Ｌ8は、同一でも相違していてもよく、それぞれ置換基(例えば、アルキル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハ
ロゲン原子（−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ）など）を有していてもよい２価の脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基または複素環基を表す。必要に応じ、Ｌ7、Ｌ8中にイソシアネ
ート基と反応しない他の官能基、例えば、カルボニル基、エステル基、ウレタン基、アミド基、ウレイド基などを有していてもよい。なおＬ7、Ｌ8で環を形成してもよい。
【００６０】
更に、特定ポリウレタン樹脂の合成には、カルボキシル基、スルホン基、リン酸基などの酸基を有するジオール化合物を併用してもよい。特に、カルボキシル基を有するジオール化合物は、水素結合による膜強度向上と耐水性の観点で好ましい。カルボキシル基を有するジオール化合物としては、例えば、以下の式（１７）〜（１９）に示すものが含まれる。
【００６１】
【化１１】
【００６２】
式（１７）〜（１９）中、Ｒ15は水素原子、置換基（例えば、シアノ基、ニトロ基、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ等のハロゲン原子、−ＣＯＮＨ2、−ＣＯＯＲ16、−ＯＲ16、
−ＮＨＣＯＮＨＲ16、−ＮＨＣＯＯＲ16、−ＮＨＣＯＲ16、−ＯＣＯＮＨＲ16（ここで、Ｒ16は炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数７〜１５のアラルキル基を表す。）など）を有していてもよいアルキル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基を表し、好ましくは水素原子、炭素数１〜８個のアルキル基、炭素数６〜１５個のアリール基を表す。Ｌ9、Ｌ10、Ｌ11はそれぞれ同一でも相違していてもよく、単結合、置換
基（例えば、アルキル、アラルキル、アリール、アルコキシ、ハロゲノの各基が好ましい。）を有していてもよい２価の脂肪族または芳香族炭化水素基を表し、好ましくは炭素数１〜２０個のアルキレン基、炭素数６〜１５個のアリレン基、さらに好ましくは炭素数１〜８個のアルキレン基を表す。また必要に応じ、Ｌ9〜Ｌ11中にイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えばカルボニル、エステル、ウレタン、アミド、ウレイド、エーテル基を有していてもよい。なおＲ15、Ｌ9、Ｌ10、Ｌ11のうちの２または３個で環を形成してもよい。
【００６３】
Ａｒは置換基を有していてもよい三価の芳香族炭化水素基を表し、好ましくは炭素数６〜１５個の芳香族基を表す。
上記式（１７）〜（１９）で表されるカルボキシル基を有するジオール化合物としては具体的には以下に示すものが含まれる。すなわち、３，５−ジヒドロキシ安息香酸、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）プロピオン酸、２，２−ビス（２−ヒドロキシエチル）プロピオン酸、２，２−ビス（３−ヒドロキシプロピル）プロピオン酸、ビス（ヒドロキシメチル）酢酸、ビス（４−ヒドロキシフェニル）酢酸、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）酪酸、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン酸、酒石酸、Ｎ，Ｎ−ジヒドロキシエチルグリシン、Ｎ，Ｎ―ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−カルボキシ−プロピオンアミド等である。
【００６４】
また、特定ポリウレタン樹脂の合成には、下記の式（２０）〜（２２）で表されるテトラカルボン酸二無水物をジオール化合物で開環させた化合物を併用することもできる。
【００６５】
【化１２】
【００６６】
式（２０）〜（２２）中、Ｌ12は、単結合、置換基（例えばアルキル、アラルキル、アリール、アルコキシ、ハロゲノ、エステル、アミドなどが好ましい。）を有していてもよい二価の脂肪族または芳香族炭化水素基、−ＣＯ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−Ｏ−また
は−Ｓ−を表し、好ましくは単結合、炭素数１〜１５個の二価の脂肪族炭化水素基、−ＣＯ−、−ＳＯ2−、−Ｏ−またはＳ−を表す。Ｒ17、Ｒ18は、同一でも相違していてもよ
く、それぞれ水素原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシ基、またはハロゲノ基を表し、好ましくは、水素原子、炭素数１〜８個のアルキル基、炭素数６〜１５個のアリール基、炭素数１〜８個のアルコキシ基またはハロゲノ基を表す。またＬ12、Ｒ17、Ｒ18のうちの２つが結合して環を形成してもよい。Ｒ19、Ｒ20は、同一でも相違していてもよく、それぞれ水素原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基またはハロゲノ基を表し、好ましくは水素原子、炭素数１〜８個のアルキル、または炭素数６〜１５個のアリール基を表す。またＬ12、Ｒ19、Ｒ20のうちの２つが結合して環を形成してもよい。Ｌ13、Ｌ14は、同一でも相違していてもよく、それぞれ単結合、二重結合、または二価の脂肪族炭化水素基を表し、好ましくは単結合、二重結合、またはメチレン基を表す。Ａは単核または多核の芳香環を表す。好ましくは炭素数６〜１８個の芳香環を表す。
【００６７】
上記式（２０）、（２１）または（２２）で表される化合物としては、具体的には以下に示すものが含まれる。すなわち、ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’−べンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、４，４’−スルホニルジフタル酸二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、４，４’−［３，３’−（アルキルホスホリルジフェニレン）−ビス（イミノカルボニル）］ジフタル酸二無水物、ヒドロキノンジアセテートとトリメット酸無水物の付加体、ジアセチルジアミンとトリメット酸無水物の付加体などの芳香族テトラカルボン酸二無水物；５−（２，５−ジオキソテトラヒドロフリル）−３−メチル−３−シクロヘキセシ−１，２−ジカルボン酸無水物（大日本インキ化学工業（株）製、エピクロンＢ−４４００）、１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物などの脂環族テトラカルボン酸二無水物；１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，４，５−ペンタンテトラカルボン酸二無水物などの脂肪族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。
【００６８】
これらのテトラカルボン酸二無水物をジオール化合物で開環された化合物をポリウレタン樹脂中に導入する方法としては、例えば以下の方法がある。ａ）テトラカルボン酸二無水物をジオール化合物で開環させて得られたアルコール末端の化合物と、ジイソシアネート化合物とを反応させる方法。ｂ）ジイソシアネート化合物をジオール化合物過剰の条件下で反応させ得られたアルコール末端のウレタン化合物と、テトラカルボン酸二無水物とを反応させる方法。
【００６９】
またこのとき開環反応に使用されるジオール化合物としては、具体的には以下に示すものが含まれる。すなわち、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，３−ブチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、２−ブテン−１，４−ジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、１，４−ビス−β−ヒドロキシエトキシシクロヘキサン、シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、水添ビスフェノールＡ、水添ビスフェノールＦ、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加体、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加体、ビスフェノールＦのエチレンオキサイド付加体、ビスフェノールＦのプロピレンオキサイド付加体、水添ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加体、水添ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加体、ヒドロキノンジヒドロキシエチルエーテル、ｐ−キシリレングリコール、ジヒドロキシエチルスルホン、ビス（２−ヒドロキシエチル）−２，４−トリレンジカルバメート、２，４−トリレン−ビス（２−ヒドロキシエチルカルバミド）、ビス（２−ヒドロキシエチル）−ｍ−キシリレンジカルバメート、ビス（２−ヒドロキシエチル）イソフタレート等が挙げられる。
【００７０】
本発明の特定ポリウレタン樹脂は、上記のように、ウレタン結合以外に、官能基として、エーテル結合、アミド結合、ウレア結合、エステル結合、ウレタン結合、ビウレット結合およびアロファネート結合を少なくとも一つ含んでなる有機基を含んでいてもよい。
【００７１】
特に、特定ポリウレタン樹脂が、ウレタン結合以外に、さらにカーボネート部位及び/又はアセタール部位を有することが好ましい。
特定ポリウレタン樹脂がカーボネート部位を有する場合、主鎖中のウレタン結合の熱分解と同時に、カーボネート部位の熱分解に由来した二酸化炭素ガスが発生し、この二酸化炭素ガスが特定ポリウレタン樹脂の熱分解や熱分解物の飛散・除去を補助し、その結果、レーザー分解感度が向上し、レーザー彫刻深さが増大すると推定される。
カーボネート部位は主鎖、側鎖のいずれか片方に有していればよく、上記レーザー分解感度の向上という観点で主鎖に有しているほうが好ましい。より好ましいのは主鎖及び側鎖に有している場合である。
カーボネート部位を含有する特定ポリウレタン樹脂の製造には、原料のジイソシアネートがカーボネート部位を含んでいる形態、原料のジオールがカーボネート部位を含んでいる形態の２通りが考えられ、本願ではいずれの形態を用いてもよい。原料の合成しやすさの観点から、ジオールがカーボネート部位を含んでいる形態のほうが好ましい。
特定ポリウレタン樹脂中、カーボネート部位を含む繰り返し単位の好ましい含有量は、レーザー分解感度と皮膜性を良好に保つ観点から、特定ポリウレタン樹脂を構成する原料の総モル数に対して、0.1〜50モル％であることが好ましく、より好ましくは5〜50モル％、特に好ましくは20〜50モル％である。
本願の特定ポリウレタン樹脂の中で、一般式（１）のＲ1とＲ2が共に芳香族基（ウレタン結合の両隣が共に芳香族基）であるウレタン結合を含み、かつカーボネート部位を主鎖に有しているものが特に好ましい。
カーボネート部位を有する特定ポリウレタン樹脂の原料の好ましい例としては、上記ポリカーボネートジオール化合物が挙げられる。
【００７２】
一方、特定ポリウレタン樹脂がアセタール部位を有する場合、主鎖中のウレタン結合の熱分解と同時かそれよりも低温で熱分解するため、特定ポリウレタン樹脂全体としての熱分解効率が向上する。その結果、レーザー分解感度が向上し、レーザー彫刻深さが増大すると推定される。
アセタール部位はレーザー分解性の観点で主鎖に導入されているほうが好ましい。アセタール部位を含有する特定ポリウレタン樹脂の製造には、原料のジイソシアネートがアセタール部位を含んでいる形態、原料のジオールがアセタール部位を含んでいる形態の２通りが考えられ、本願ではいずれの形態を用いてもよい。原料の合成しやすさの観点から、ジオールがアセタール部位を含んでいる形態のほうが好ましい。
特定ポリウレタン樹脂中、アセタール部位を含む繰り返し単位の好ましい含有量は、レーザー分解感度と皮膜性を良好に保つ観点から、特定ポリウレタン樹脂を構成する原料の総モル数に対して、０.１〜５０モル％であることが好ましく、より好ましくは５〜５０モル％、特に好ましくは２０〜５０モル％である。
本願の特定ポリウレタン樹脂の中で、一般式（１）のＲ1とＲ2が共に芳香族基（ウレタン結合の両隣が共に芳香族基）であるウレタン結合を含み、かつアセタール部位を主鎖に有しているものが特に好ましい。
原料として用いるカーボネート部位含有ジオールは鎖状であっても環状であってもよい。
カーボネート部位を有する特定ポリウレタン樹脂の原料の好ましい例としては、下記アセタールジオール化合物が挙げられる。
【００７３】
【化１３】
【００７４】
式（Ａ-１）および（Ａ−２）中、Ｒ1とＲ２は同一でもよく置換基を有してもよい２価の有機基（例えば、アルキル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ）など）を有していてもよい２価の脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基または複素環基を表す）、Ｒ３とＲ４は同一でもよいく、水素原子または置換基を有してもよい１価の有機基（例えば、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数７〜１５のアラルキル基などを有していてもよいアルキル基、アラルキル基、アリール基、を表し、好ましくは水素原子、炭素数１〜８個のアルキル基、炭素数６〜１５個のアリール基を表すである。
レーザー分解性と上記ジオールを原料にして得られたポリウレタンの皮膜性の点で（Ａ−２）が好ましい。
【００７５】
アセタールジオール化合物の具体例を以下に挙げるが、これらに限定されるものではない。
【００７６】
【化１４】
【００７７】
本発明に用いられる特定ポリウレタン樹脂は、さらにエチレン性不飽和結合を有するユニットを有することが好ましい。エチレン性不飽和結合を有するユニットを有するポリウレタン樹脂としては、樹脂の側鎖に、下記一般式（１）〜（３）で表される官能基のうち少なくとも１つを有することが好ましい。まず、下記一般式（１）〜（３）で表される官能基について説明する。
【００７８】
【化１５】
【００７９】
上記一般式（１）において、Ｒl〜Ｒ3はそれぞれ独立に、水素原子または１価の有機基を表す。Ｒ1としては、好ましくは、水素原子または置換基を有してもよいアルキル基な
どが挙げられ、なかでも、水素原子、メチル基が、ラジカル反応性が高いことから好ましい。また、Ｒ2、Ｒ3は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基が、ラジカル反応性が高いことから好ましい。
【００８０】
Ｘは、酸素原子、硫黄原子、または−Ｎ（Ｒ12）−を表し、Ｒ12は、水素原子、または１価の有機基を表す。ここで、１価の有機基としては、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられる。なかでも、Ｒ12は、水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基がラジカル反応性が高いことから好ましい。
ここで、導入し得る置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基などが挙げられる。
【００８１】
【化１６】
【００８２】
上記一般式（２）において、Ｒ4〜Ｒ8は、それぞれ独立に水素原子または１価の有機基を表す。Ｒ4〜Ｒ8は、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基が好ましい。
導入し得る置換基としては、一般式（１）と同様のものが例示される。また、Ｙは、酸素原子、硫黄原子、または−Ｎ（Ｒ12）−を表す。Ｒ12は、一般式（１）のＲ12の場合と同義であり、好ましい例も同様である。
【００８３】
【化１７】
【００８４】
上記一般式（３）において、Ｒ9〜Ｒ11はそれぞれ独立に、水素原子または１価の有機
基を表す。Ｒ9としては、好ましくは、水素原子または置換基を有してもよいアルキル基
などが挙げられ、なかでも、水素原子、メチル基が、ラジカル反応性が高いことから好ましい。Ｒ10、Ｒ11は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基が、ラジカル反応性が高いことから好ましい。
ここで、導入し得る置換基としては、一般式（１）と同様のものが例示される。また、Ｚは、酸素原子、硫黄原子、−Ｎ（Ｒ13）−、または置換基を有してもよいフェニレン基
を表す。Ｒ13としては、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかでも、メチル基、エチル基、イソプロピル基がラジカル反応性が高いことから好ましい。
【００８５】
ポリウレタン樹脂の側鎖にエチレン性不飽和結合を導入する方法としては、ポリウレタン樹脂製造の原料として、側鎖にエチレン性不飽和結合を含有するジオール化合物を用いる方法も好適である。そのようなジオール化合物は、例えば、トリメチロールプロパンモノアリルエーテルのように市販されているものでもよいし、ハロゲン化ジオール化合物、トリオール化合物、アミノジオール化合物と、エチレン性不飽和結合を含有するカルボン酸、酸塩化物、イソシアネート、アルコール、アミン、チオール、ハロゲン化アルキル化合物との反応により容易に製造される化合物であってもよい。これら化合物の具体的な例として、下記に示す化合物が挙げられるが、これに限定されるものではない。
【００８６】
【化１８】
【００８７】
【化１９】
【００８８】
【化２０】
【００８９】
【化２１】
【００９０】
また、本発明におけるより好ましいポリウレタン樹脂として、ポリウレタンの合成に際して、エチレン性不飽和結合基を有するジオール化合物の少なくとも１つとして、下記一般式（Ｇ）で表されるジオール化合物を用いて得られたポリウレタン樹脂を挙げることができる。
【００９１】
【化２２】
【００９２】
前記一般式（Ｇ）中、Ｒ1〜Ｒ3はそれぞれ独立に水素原子または１価の有機基を表し、Ａは２価の有機残基を表し、Ｘは、酸素原子、硫黄原子、または−Ｎ（Ｒ12）−を表し、Ｒ12は、水素原子、または１価の有機基を表す。
なお、この一般式（Ｇ）におけるＲ1〜Ｒ3およびＸは、前記一般式（１）におけるＲ1
〜Ｒ3およびＸと同義であり、好ましい態様もまた同様である。
【００９３】
このようなジオール化合物に由来するポリウレタン樹脂を用いることにより、立体障害の大きい２級アルコールに起因するポリマー主鎖の過剰な分子運動を抑制する効果により、層の被膜強度の向上が達成できるものと考えられる。
【００９４】
以下、特定ポリウレタン樹脂の合成に好適に用いられる一般式（Ｇ）で表されるジオール化合物の具体例を示す。
【００９５】
【化２３】
【００９６】
【化２４】
【００９７】
【化２５】
【００９８】
ポリウレタン樹脂を、NCO/OH比が1以上のNCO基過剰条件で合成した場合、主鎖末端がNCO基になるので、ここにエチレン性不飽和結合を有するアルコール（2-ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレート、ブレンマーPME200（日本油脂製）等）を別途加えて付加させることにより、主鎖末端にエチレン性不飽和結合を導入できる。側鎖以外に主鎖末端にも本願ではエチレン性不飽和基を有してもよい。
【００９９】
特定ポリウレタン樹脂は、上記ジイソシアネート化合物およびジオール化合物を、非プロトン性溶媒中、それぞれの反応性に応じた活性の公知の触媒を添加し、加熱することにより合成される。合成に使用されるジイソシアネートおよびジオール化合物のモル比（Ｍa：Ｍb）は、１：１〜１．２：１が好ましく、アルコール類またはアミン類等で処理することにより、分子量あるいは粘度といった所望の物性の生成物が、最終的にイソシアネート基が残存しない形で合成される。
中でも、ビスマス触媒を用いた合成である方が、従来よく用いられてきたスズ触媒よりも環境および重合速度の観点で好ましい。このようなビスマス触媒としては、ネオスタン
Ｕ−６００（商品名）（日東化成 製）が特に好ましい。
【０１００】
また、本発明に係る特定ポリウレタン樹脂は、ポリマー末端および／またはポリマー主鎖にエチレン性不飽和結合を有するものも好適に使用される。
ポリマー末端に不飽和基を導入する方法としては、以下に示す方法がある。すなわち、前述のポリウレタン樹脂合成の工程での、ポリマー末端の残存イソシアネート基と、アルコール類またはアミン類等で処理する工程において、不飽和基を有するアルコール類またはアミン類等を用いればよい。
【０１０１】
ポリマー主鎖に不飽和基を導入する方法としては、主鎖方向に不飽和基を有するジオール化合物をポリウレタン樹脂の合成に用いる方法がある。主鎖方向に不飽和基を有するジオール化合物としては、具体的に以下の化合物を挙げることができる。すなわち、ｃｉｓ−２−ブテン−１，４−ジオール、ｔｒａｎｓ−２−ブテン−１，４−ジオール、ポリブタジエンジオール等である。
【０１０２】
エチレン性不飽和結合は、導入量の制御が容易で導入量を増やすことができ、また、架橋反応効率が向上するといった観点から、ポリマー末端よりもポリマー側鎖に導入されることが好ましい。
導入されるエチレン性不飽和結合基としては、架橋硬化膜形成性の観点から、メタクリロイル基、アクリロイル基、スチリル基が好ましく、より好ましくはメタクリロイル基、アクリロイル基である。架橋硬化膜の形成性と生保存性との両立の観点からは、メタクリロイル基がさらに好ましい。
【０１０３】
本発明に係る特定ポリウレタン樹脂中に含まれるエチレン性不飽和結合の導入量としては、当量で言えば、側鎖にエチレン性不飽和結合基を０．３ｍｅｑ／ｇ以上、さらには０．３５〜１．５０ｍｅｑ／ｇ含有することが好ましい。すなわち、側鎖にメタクロイル基を０．３５〜１．５０ｍｅｑ／ｇ含有するポリウレタン樹脂が最も好ましい。
本発明に係る特定ポリウレタン樹脂の分子量としては、好ましくは重量平均分子量で１０、０００以上であり、より好ましくは、４０、０００〜２００、０００の範囲である。特に、本発明のレーザー分解性樹脂組成物をパターン形成材料の画像記録層に用いた場合には、重量平均分子量がこの範囲内において画像部の強度に優れる。
【０１０４】
以下に、本発明に用いられる特定ポリウレタン樹脂の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１０５】
【表１】
【０１０６】
【表２】
【０１０７】
【表３】
【０１０８】
【表４】
【０１０９】
【表５】
【０１１０】
【表６】
【０１１１】
【表７】
【０１１２】
【表８】
【０１１３】
【表９】
【０１１４】
【表１０】
【０１１５】
【表１１】
【０１１６】
本発明に係る特定ポリウレタン樹脂は、通常のレーザー分解性樹脂組成物におけるバインダーポリマー（市販の汎用樹脂の場合、ほとんどが300℃〜400℃の高温で熱分解する）と対比して比較的低温（250℃未満）で熱分解するという特徴を有する。従って、特定ポ
リウレタン樹脂を含有するレーザー分解性樹脂組成物は高感度での分解が可能となる。また、特定ポリウレタン樹脂とバインダーポリマーを併用した系（特に相分離させた状態）においても、レーザー照射による発熱により、まず特定ポリウレタン樹脂が分解することになり、その結果、特定ポリウレタン樹脂が熱分解して気化する際に発生するガス（窒素など）が、共存するバインダーポリマーの気化を援助、促進する。この為、特定ポリウレタン樹脂とバインダーポリマーを含有するレーザー分解性樹脂組成物は、特定ポリウレタン樹脂を含まない場合に比べてレーザー分解性が向上し、高感度化が達成されると考えられる。
【０１１７】
本発明の特定ポリウレタン樹脂に、本発明の効果を損なわない範囲において特定ポリウレタン樹脂以外のポリウレタン樹脂を併用することも可能である。
【０１１８】
バインダーポリマー
本発明のレーザー分解性樹脂組成物は、バインダーポリマーを含有していてもよい。バインダーポリマーは本発明に係る特定ポリウレタン樹脂と併用した場合、相分離状態を形成するものが有用である。本発明のレーザー分解性樹脂組成物が含有するバインダーポリマーは、主鎖及び側鎖の少なくともいずれかに炭素-炭素不飽和結合をもつバインダーポ
リマーが好ましい。主鎖にオレフィン（炭素-炭素二重結合） 及び 炭素-炭素三重結合の少なくともいずれかを含むポリマーは、上記相分離状態の形成し易さ及び形成される被膜の機械的強度が高い点で更に好ましく、主鎖にオレフィンを含むポリマーが特に好ましい。
【０１１９】
主鎖にオレフィン及び炭素−炭素三重結合の少なくともいずれかを含むポリマーとしては、例えばＳＢ（ポリスチレン−ポリブタジエン）、ＳＢＳ（ポリスチレン−ポリブタジエン−ポリスチレン）、ＳＩＳ（ポリスチレン−ポリイソプレン−ポリスチレン）、ＳＥＢＳ（ポリスチレン−ポリエチレン／ポリブチレン−ポリスチレン）等が挙げられる。
【０１２０】
上記相分離の確認は、SEM（走査型電子顕微鏡）観察によって行うことが出来る。特に
主鎖にオレフィン及び炭素−炭素三重結合の少なくともいずれかを含むポリマーは、相分離しやすい上に、オスミウム化合物と接触させることにより染色される特性を有する。他方、本発明に係る特定ポリウレタン樹脂はオスミウム化合物により染色されないため、SEM観察前に相分離したサンプルに対してオスミウム化合物による処理を施すことにより相
分離の確認が容易になるというメリットがある。
【０１２１】
バインダーポリマーの数平均分子量は、０.１万から１００万の範囲が好ましい。より
好ましい範囲としては、０.５万から５０万である。数平均分子量が０.１万から１００万の範囲であれば、形成される被膜の機械的強度を確保することができる。数平均分子量とは、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて測定し、分子量既知のポリスチレン標品に対して評価したものである。
【０１２２】
本発明のレーザー分解性樹脂組成物がバインダーポリマーを含む場合、その添加量は、組成物の全固形分中、一般的に１〜９９質量％、好ましくは５〜８０質量％である。
【０１２３】
また、本発明では、上記のバインダーポリマーと以下の一般的な樹脂を併用してもよい。併用樹脂の添加量は、上記のバインダーポリマーに対して、一般的に１〜９０質量％、好ましくは５〜８０質量％である。
【０１２４】
樹脂の種類としては、エラストマーであっても非エラストマーであっても構わない。
併用樹脂の数平均分子量は、０.１万から１００万の範囲が好ましい。より好ましい範
囲としては、０.５万から５０万である。数平均分子量が０.１万から１００万の範囲であれば、形成される被膜の機械的強度を確保することができる。数平均分子量とは、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて測定し、分子量既知のポリスチレン標品に対して評価したものである。
【０１２５】
樹脂としては、液状化し易い樹脂や分解し易い樹脂が好ましい。分解し易い樹脂としては、分子鎖中に分解し易いモノマー単位としてスチレン、α−メチルスチレン、α−メトキシスチレン、アクリルエステル類、メタクリルエステル類、エステル化合物類、エーテル化合物類、ニトロ化合物類、カーボネート化合物類、カルバモイル化合物類、ヘミアセタールエステル化合物類、オキシエチレン化合物類、脂肪族環状化合物類等が含まれていることが好ましい。特にポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラエチレングリコール等のポリエーテル類、脂肪族ポリカーボネート類、脂肪族カルバメート類、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ニトロセルロース、ポリオキシエチレン、ポリノルボルネン、ポリシクロヘキサジエン水添物、あるいは分岐構造の多いデンドリマー等の分子構造を有するポリマーは、分解し易いものの代表例である。また、分子鎖中に酸素原子を多数含有するポリマーが分解性の観点から好ましい。これらの中でも、カーボネート基、カルバメート基、メタクリル基をポリマー主鎖中に有する化合物は、熱分解性が高く好ましい。例えば、（ポリ）カーボネートジオールや（ポリ）カーボネートジカルボン酸を原料として合成したポリエステルやポリウレタン、（ポリ）カーボネートジアミンを原料として合成したポリアミドなどを熱分解性の良好なポリマーの例として挙げることができる。これらのポリマーは、主鎖、側鎖に重合性不飽和基を含有しているものであっても構わない。特に、水酸基、アミノ基、カルボキシル基等の反応性官能基を有する場合には、重合性不飽和基を導入することも容易である。
【０１２６】
熱可塑性エラストマーとして特に限定するものではないが、ウレタン系熱可塑性エラストマー、エステル系熱可塑性エラストマー、アミド系熱可塑性エラストマー、シリコーン系熱可塑性エラストマー等を挙げることができる。より熱分解性を向上させるために、分解性の高いカルバモイル基、カーボネート基等の易分解性官能基を主鎖に導入したポリマーを用いることもできる。また、より熱分解性の高いポリマーと混合して用いても構わない。熱可塑性エラストマーは加熱することにより流動化するため、本発明で用いる複合体と良好に混合することが可能となる。熱可塑性エラストマーとは、加熱することにより流動化し通常の熱可塑性プラスチック同様成形加工ができ、常温ではゴム弾性を示す材料である。分子構造としては、ポリエーテルあるいはゴム分子のようなソフトセグメントと、常温付近では加硫ゴムと同じく塑性変形を防止するハードセグメントからなり、ハードセグメントとしては凍結相、結晶相、水素結合、イオン架橋など種々のタイプが存在する。
【０１２７】
樹脂組成物の用途により、熱可塑性エラストマーの種類を選択できる。例えば、耐溶剤性が要求される分野では、ウレタン系、エステル系、アミド系、フッ素系熱可塑性エラストマーが好ましく、耐熱性が要求される分野では、ウレタン系、オレフィン系、エステル系、フッ素系熱可塑性エラストマーが好ましい。また、熱可塑性エラストマーの種類により、硬度を大きく変えることができる。
熱可塑性樹脂において非エラストマー性のものとして、特に限定するものではないが、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、不飽和ポリウレタン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリイイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、全芳香族ポリエステル樹脂等を挙げることができる。
【０１２８】
また、併用樹脂として、親水性ポリマーを用いてもよい。親水性ポリマーとしては、例えば、構成単位としてヒドロキシエチレンを含む親水性ポリマーが挙げられる。具体的には、ポリビニルアルコールおよびビニルアルコール／酢酸ビニル共重合体（部分鹸化ポリビニルアルコール）及びこれらの変性体を例示することができる。親水性ポリマーは単独のポリマーを用いても良いし、複数種を混合して用いても良い。変性体の例として、水酸基の少なくとも一部をカルボキシル基に変性したポリマー、水酸基の一部を（メタ）アクロイル基に変性したポリマー、水酸基の少なくとも一部をアミノ基に変性したポリマー、側鎖にエチレングリコールやプロピレングリコールおよびこれらの複量体を導入したポリマーなどが挙げられる。
【０１２９】
水酸基の少なくとも一部をカルボキシル基に変性したポリマーは、ポリビニルアルコールあるいは部分鹸化ポリビニルアルコールと、例えばコハク酸、マレイン酸やアジピン酸のような多官能カルボン酸とでエステル化することによって得ることができる。
【０１３０】
水酸基の少なくとも一部を（メタ）アクロイル基に変性したポリマーは、上記カルボキシル基変性ポリマーにグリシジル基含有エチレン性不飽和モノマーを付加することによって、またはポリビニルアルコールあるいは部分鹸化ポリビニルアルコールと（メタ）アクリル酸とでエステル化することによって得ることができる。
【０１３１】
水酸基の少なくとも一部をアミノ基に変性したポリマーは、ポリビニルアルコールあるいは部分鹸化ポリビニルアルコールと、例えばカルバミン酸のようなアミノ基を含有するカルボン酸とでエステル化することによって得ることができる。
【０１３２】
側鎖にエチレングリコールやプロピレングリコールおよびこれらの複量体を導入したポリマーは、ポリビニルアルコールあるいは部分鹸化ポリビニルアルコールとグリゴール類を硫酸触媒のもと加熱し、副生成物である水を反応系外に取り除くことによって得ることができる。
【０１３３】
これらのポリマーの中でも、水酸基の少なくとも一部を（メタ）アクロイル基に変性したポリマーが特に好ましく用いられる。ポリマー成分に未反応の架橋性官能基を直接導入することで、形成される被膜の強度を高めることができ、形成される被膜の柔軟性と強度とを両立することができるからである。
【０１３４】
親水性ポリマーの重量平均分子量（ＧＰＣ測定によるポリスチレン換算）は１万〜５０万が好ましい。重量平均分子量が１万以上であれば、単体樹脂としての形態保持性に優れ、５０万以下であれば、水など溶媒に溶解しやすく架橋性樹脂組成物を調製するのに好都合である。
【０１３５】
また、併用樹脂としては、溶剤可溶性樹脂であっても構わない。具体的には、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂等を挙げることができる。
【０１３６】
併用樹脂は、通常反応性の高い重合性不飽和基を持たないものであるが、分子鎖の末端あるいは側鎖に反応性の高い重合性不飽和基を有していても構わない。メタクリロイル基のような反応性の高い重合性不飽和基を有するポリマーを用いた場合、極めて機械的強度の高い被膜を作製することができる。特にポリウレタン系、ポリエステル系熱可塑性エラストマーでは、比較的簡単に分子内に反応性の高い重合性不飽和基を導入することが可能である。ここで言う分子内とは高分子主鎖の両末端あるいは片末端、高分子側鎖の末端や高分子主鎖中や側鎖中に直接、重合性不飽和基が付いている場合なども含まれる。例えば直接、重合性の不飽和基をその分子末端に導入したものを用いても良いが、別法として、
水酸基、アミノ基、エポキシ基、カルボキシル基、酸無水物基、ケトン基、ヒドラジン残基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、環状カーボネート基、エステル基などの反応性基を複数有する数千程度の分子量の化合物と上記反応性基と結合しうる基を複数有する結合剤（例えば水酸基やアミノ基の場合のポリイソシアネートなど）を反応させ、分子量の調節、及び末端の結合性基への変換を行った後、この末端結合性基と反応する基と重合性不飽和基を有する有機化合物と反応させて末端に重合性不飽和基を導入する方法などの方法が好適にあげられる。
【０１３７】
より良好なレーザー分解感度を達成する観点からは、特定ポリウレタン樹脂とバインダーポリマーを併用する系にくらべて、特定ポリウレタン樹脂を単独で用いる系が好ましい。
本発明のレーザー分解性樹脂組成物は、更に、重合性化合物（モノマー）、開始剤、必要に応じてその他各種の成分を含有してもよい。以下、重合性化合物（モノマー）、開始剤、その他の成分について説明する。
【０１３８】
重合性化合物（モノマー）
以下に、重合性化合物（モノマー）として付加重合性化合物を用いた場合を例に挙げ、より詳しく述べる。
＜付加重合性化合物＞
本発明に使用される好ましい重合性化合物である、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物は、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に制限なく用いることができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体およびオリゴマー、またはそれらの共重合体、ならびにそれらの混合物などの化学的形態をもつ。モノマーの例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基や、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類、エポキシ類との付加反応物、単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアナト基や、エポキシ基、等の親電子性置換基を有する、不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、ハロゲン基や、トシルオキシ基、等の脱離性置換基を有する、不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
【０１３９】
脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。
【０１４０】
メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔ｐ−（メタクリルオキシエトキシ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。
【０１４１】
イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。
【０１４２】
クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラクロトネート等がある。
【０１４３】
イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。
【０１４４】
マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。
【０１４５】
その他のエステルの例として、例えば、特公昭４６−２７９２６号、特公昭５１−４７３３４号、特開昭５７−１９６２３１号各公報記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭５９−５２４０号、特開昭５９−５２４１号、特開平２−２２６１４９号各公報記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平１−１６５６１３号公報記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。
【０１４６】
上記エステルモノマーは混合物としても使用することができる。
【０１４７】
また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。
【０１４８】
その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭５４−２１７２６号公報記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。
【０１４９】
また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭４８−４１７０８号公報中に記載されている１分子に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化
合物に、下記一般式（Ｖ）で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
【０１５０】
ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ）ＣＯＯＣＨ2ＣＨ（Ｒ'）ＯＨ （Ｖ）
(ただし、Ｒ及びＲ'は、Ｈ又はＣＨ3を示す。）
また、特開昭５１−３７１９３号、特公平２−３２２９３号、特公平２−１６７６５号各公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８−４９８６０号、特公昭５６−１７６５４号、特公昭６２−３９４１７号、特公昭６２−３９４１８号各公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。
【０１５１】
ウレタン系付加重合性化合物は、本発明に係る特定ウレタン樹脂との良好な相溶性および高い彫刻感度を有するという点で極めて好ましい。なかでもPLEX 6661-O（デグサ製）
は、熱分解（熱分解による重量減少）が２５０℃付近で急激に起こり、これにより高い彫刻感度を与えるのみならず、彫刻部分のエッジ形状がシャープになり高い解像度を示す点で特に好ましい。
【０１５２】
さらに、特開昭６３−２７７６５３号、特開昭６３−２６０９０９号、特開平１−１０５２３８号各公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによっては、短時間で硬化組成物を得ることができる。
【０１５３】
その他の例としては、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭４６−４３９４６号、特公平１−４０３３７号、特公平１−４０３３６号各公報記載の特定の不飽和化合物や、特開平２−２５４９３号公報記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭６１−２２０４８号公報記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に日本接着協会誌ｖｏｌ．２０、Ｎｏ．７、３００〜３０８ページ（１９８４年）に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。
【０１５４】
感光スピードの点では１分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、２官能以上が好ましい。また、画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、３官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基（例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物）のものを併用することで、感光性と強度の両方を調節する方法も有効である。付加重合性化合物は、組成物中の不揮発性成分に対して、好ましくは５〜８０質量％、更に好ましくは２５〜７５質量％の範囲で使用される。また、これらは単独で用いても２種以上併用してもよい。重合性化合物を用いることにより、膜物性、例えば、脆性、柔軟性などを調整することもできる。
レーザー分解の前及び／又は後で、重合性化合物を含有するレーザー分解性樹脂組成物は、光、熱などのエネルギーにより重合、硬化させることができる。
【０１５５】
本発明のレーザー分解性樹脂組成物において、特定ポリウレタン樹脂と共に用いられる重合性化合物の好ましい具体例を以下に例示する。
【０１５６】
【化２６】
【０１５７】
開始剤
開始剤は当業者間で公知のものを制限なく使用することができる。具体的には、例えば、Bruce M. Monroeら著、Chemical Revue, 93, 435 (1993) やR.S.Davidson著、Journal of Photochemistry and biology A:Chemistry,73.81 (1993); J.P.Faussier, "Photoinitiated Polymerization-Theory and Applications":Rapra Review vol.9, Report, Rapra Technology(1998); M.Tsunooka et al., Prog.Polym.Sci., 21, 1 (1996)等に多く記載されている。また、F.D.Saeva, Topics in Current Chemistry, 156, 59 (1990); G.G.Maslak, Topics in Current Chemistry, 168, 1 (1993); H.B.Shuster et al,JACS, 112, 6329 (1990); I.D.F.Eaton et al, JACS, 102, 3298 (1980)等に記載されているような、酸化的もしくは還元的に結合解裂を生じる化合物群も知られる。
【０１５８】
以下、好ましい開始剤の具体例に関し、光および/または熱のエネルギーによってラジ
カルを発生し、上述の重合性化合物と重合反応を開始、促進させる化合物であるラジカル開始剤について詳述するが、本発明はこれらの記述により制限を受けるものではない。
【０１５９】
本発明において、好ましいラジカル開始剤としては、（ａ）芳香族ケトン類、（ｂ）オニウム塩化合物、（ｃ）有機過酸化物、（ｄ）チオ化合物、（ｅ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物、（ｆ）ケトオキシムエステル化合物、（ｇ）ボレート化合物、（ｈ）アジニウム化合物、（ｉ）メタロセン化合物、（ｊ）活性エステル化合物、（ｋ）炭素ハロゲン結合を有する化合物、（ｌ）アゾ系化合物等が挙げられる。以下に、上記（ａ）〜（ｌ）の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１６０】
(ａ）芳香族ケトン類
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい（ａ）芳香族ケトン類としては、「ＲＡＤＩＡＴＩＯＮ ＣＵＲＩＮＧ ＩＮ ＰＯＬＹＭＥＲ ＳＣＩＥＮＣＥ ＡＮＤ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ」Ｊ．Ｐ．Ｆｏｕａｓｓｉｅｒ，Ｊ．Ｆ．Ｒａｂｅｋ（１９９３），ｐ７７−１１７記載のベンゾフェノン骨格あるいはチオキサントン骨格を有する化合物が挙げられる。例えば、下記の化合物が挙げられる。
【０１６１】
【化２７】
【０１６２】
中でも、特に好ましい（ａ）芳香族ケトン類の例としては、例えば、下記化合物が挙げられる。
【０１６３】
【化２８】
【０１６４】
(ｂ）オニウム塩化合物
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい（ｂ）オニウム塩化合物としては、下記一般式（１）〜（３）で表される化合物が挙げられる。
【０１６５】
【化２９】
【０１６６】
式（１）中、Ａｒ1とＡｒ2は、それぞれ独立に、置換基を有していても良い炭素原子数２０個以下のアリール基を示す。（Ｚ2）-はハロゲンイオン、過塩素酸イオン、カルボン酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、およびスルホン酸イオンからなる群より選択される対イオンを表し、好ましくは、過塩素酸イオ
ン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、およびアリールスルホン酸イオンである。
【０１６７】
式（２）中、Ａｒ3は、置換基を有していても良い炭素原子数２０個以下のアリール基
を示す。（Ｚ3）-は（Ｚ2）-と同義の対イオンを表す。
【０１６８】
式（３）中、Ｒ23、Ｒ24及びＲ25は、それぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い炭素原子数２０個以下の炭化水素基を示す。（Ｚ4）-は（Ｚ2）-と同義の対イオンを表す。
【０１６９】
本発明において、好適に用いることのできるオニウム塩の具体例としては、本出願人が先に提案した特開２００１−１３３９６９号の段落番号［００３０］〜［００３３］に記載されたものや特開２００１−３４３７４２号の段落番号［００１５］〜［００４６］に記載されたもの、また、特開２００２−１４８７９０号、特開２００１−３４３７４２号、特開２００２−６４８２号、特開２００２−１１６５３９号、特開２００４−１０２０３１号記載の特定の芳香族スルホニウム塩化合物などを挙げることができる。
【０１７０】
(ｃ）有機過酸化物
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい（ｃ）有機過酸化物としては、分子中に酸素−酸素結合を１個以上有する有機化合物のほとんど全てが含まれるが、その例としては、メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、３，３，５−トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、１，１−ビス（ターシャリイブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ターシャリイブチルパーオキシ）シクロヘキサン、２，２−ビス（ターシャリイブチルパーオキシ）ブタン、ターシャリイブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、パラメタンハイドロパーオキサイド、２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジハイドロパーオキサイド、１，１，３，３−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、ジターシャリイブチルパーオキサイド、ターシャリイブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ビス（ターシャリイブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ターシャリイブチルパーオキシ）ヘキサン、２，５−キサノイルパーオキサイド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、メタ−トルオイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ（３−メチル−３−メトキシブチル）パーオキシジカーボネート、ターシャリイブチルパーオキシアセテート、ターシャリイブチルパーオキシピバレート、ターシャリイブチルパーオキシネオデカノエート、ターシャリイブチルパーオキシオクタノエート、ターシャリイブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノエート、ターシャリイブチルパーオキシラウレート、ターシャリーカーボネート、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−アミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−(ｔ−ヘキシルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−オクチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−（クミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−（ｐ−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、カルボニルジ（ｔ−ブチルパーオキシ二水素二フタレート）、カルボニルジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ二水素二フタレート）等がある。
【０１７１】
中でも、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−アミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン
、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−ヘキシルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−オクチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−（クミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−（ｐ−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、ジ−ｔ−ブチルジパーオキシイソフタレートなどの過酸化エステル系が好ましい。
【０１７２】
(ｄ）チオ化合物
本発明で用いられるラジカル開始剤として好ましい（ｄ）チオ化合物としては、下記一般式（４）で示される構造を有する化合物が挙げられる。
【０１７３】
【化３０】
【０１７４】
(ここで、Ｒ26はアルキル基、アリール基または置換アリール基を示し、Ｒ27は水素原子
またはアルキル基を示す。また、Ｒ26とＲ27は、互いに結合して酸素、硫黄および窒素原子から選ばれたヘテロ原子を含んでもよい５員ないし７員環を形成するのに必要な非金属原子群を示す。）
上記一般式（４）で示されるチオ化合物の具体例としては、下記に示すような化合物が挙げられる。
【０１７５】
【化３１】
【０１７６】
(ｅ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物本発明に用いられるラジカル開始剤として好
ましい（ｅ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、特公昭４５−３７３７７号、特公昭４４−８６５１６号記載のロフィンダイマー類、例えば２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ−ブロモフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｍ−メトキシフェニル）ビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ，ｏ′−ジクロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ−ニトロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ−メチルフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ−トリフルオロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
【０１７７】
(ｆ）ケトオキシムエステル化合物
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい（ｆ）ケトオキシムエステル化合物としては、３−ベンゾイロキシイミノブタン−２−オン、３−アセトキシイミノブタン−２−オン、３−プロピオニルオキシイミノブタン−２−オン、２−アセトキシイミノペン
タン−３−オン、２−アセトキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、２−ベンゾイロキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、３−ｐ−トルエンスルホニルオキシイミノブタン−２−オン、２−エトキシカルボニルオキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン等が挙げられる。
【０１７８】
(ｇ）ボレート化合物
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい（ｇ）ボレート化合物の例としては、下記一般式（５）で表される化合物を挙げることができる。
【０１７９】
【化３２】
【０１８０】
(ここで、Ｒ28、Ｒ29、Ｒ30およびＲ31は互いに同一でも異なっていてもよく、各々置換
もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアリール基、置換もしくは非置換のアルケニル基、置換もしくは非置換のアルキニル基、又は置換もしくは非置換の複素環基を示し、Ｒ28、Ｒ29、Ｒ30およびＲ31はその２個以上の基が結合して環状構造を形成してもよい。ただし、Ｒ28、Ｒ29、Ｒ30およびＲ31のうち、少なくとも１つは置換もしくは非置換のアルキル基である。（Ｚ5）+はアルカリ金属カチオンまたは第４級アンモニウムカチオンを示す。）
一般式（５）で示される化合物例としては具体的には米国特許３，５６７，４５３号、同４，３４３，８９１号、ヨーロッパ特許１０９，７７２号、同１０９，７７３号に記載されている化合物および以下に示すものが挙げられる。
【０１８１】
【化３３】
【０１８２】
(ｈ）アジニウム化合物
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい（ｈ）アジニウム塩化合物としては、特開昭６３−１３８３４５号、特開昭６３−１４２３４５号、特開昭６３−１４２３４６号、特開昭６３−１４３５３７号ならびに特公昭４６−４２３６３号記載のＮ−Ｏ結合を有する化合物群をあげることができる。
【０１８３】
(ｉ）メタロセン化合物
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい（ｉ）メタロセン化合物としては、特開昭５９−１５２３９６号、特開昭６１−１５１１９７号、特開昭６３−４１４８４号、特開平２−２４９号、特開平２−４７０５号記載のチタノセン化合物ならびに、特開平１−３０４４５３号、特開平１−１５２１０９号記載の鉄−アレーン錯体をあげることができる。
【０１８４】
上記チタノセン化合物の具体例としては、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−２，６−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジフルオロフェニ−１−イル、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（ピリ−１−イル）フェニル）チタニウムビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（メチルスルホンアミド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチルビアロイル−アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチル−（４−クロロベンゾイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ベンジル−２，２−ジメチルペンタノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（２−エチルヘキシル）−４−トリル−スルホニル）アミノ〕フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３−オキサヘプチル）ベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３，６−ジオキサデシル）ベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（トリフルオロメチルスルホニル）アミノ〕フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（トリフルオロアセチルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（２−クロロベンゾイル）アミノ〕フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（４−クロロベンゾイル）アミノ〕フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−(Ｎ−（３，６−ジオキサデシル）−２，２−ジメチルペンタノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３，７−ジメチル−７−メトキシオクチル）ベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキシルベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、等を挙げることができる。
【０１８５】
(ｊ）活性エステル化合物
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい（ｊ）活性エステル化合物としては、特公昭６２−６２２３記載のイミドスルホネート化合物、特公昭６３−１４３４０号、特開昭５９−１７４８３１号記載の活性スルホネート類をあげることができる。
【０１８６】
(ｋ）炭素ハロゲン結合を有する化合物
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい（ｋ）炭素ハロゲン結合を有する化合物としては、下記一般式（６）から（１２）のものを挙げることができる。
【０１８７】
【化３４】
【０１８８】
(式中、Ｘ2はハロゲン原子を表わし、Ｙ1は−Ｃ（Ｘ2）3、−ＮＨ2、−ＮＨＲ38、−ＮＲ38、−ＯＲ38を表わす。ここでＲ38はアルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基を表わす。またＲ37は−Ｃ（Ｘ2）3、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、置換アルケニル基、を表わす。）
【０１８９】
【化３５】
【０１９０】
(ただし、Ｒ39は、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、ア
リール基、置換アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、置換アルコキシル基、ニトロ基又はシアノ基であり、Ｘ3はハロゲン原子であり、ｎは１〜３の整数である。）
【０１９１】
【化３６】
【０１９２】
(ただし、Ｒ40は、アリール基又は置換アリール基であり、Ｒ41は、以下に示す基又はハ
ロゲンであり、Ｚ6は−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−又は−ＳＯ2−であり、Ｘ3はハロ
ゲン原子であり、ｍは１又は２である。）
【０１９３】
【化３７】
【０１９４】
(Ｒ42、Ｒ43はアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリー
ル基又は置換アリール基であり、Ｒ44は一般式（６）中のＲ38と同じである。）
【０１９５】
【化３８】
【０１９６】
(ただし、式中、Ｒ45は置換されていてもよいアリール基又は複素環式基であり、Ｒ46は
炭素原子１〜３個を有するトリハロアルキル基又はトリハロアルケニル基であり、ｐは１、２又は３である。）
【０１９７】
【化３９】
【０１９８】
(式（１０）は、トリハロゲノメチル基を有するカルボニルメチレン複素環式化合物を表
す。Ｌ7は水素原子又は式：ＣＯ−（Ｒ47）ｑ（Ｃ（Ｘ4）3）ｒの置換基であり、Ｑ2はイオウ、セレン又は酸素原子、ジアルキルメチレン基、アルケン−１，２−イレン基、１，
２−フェニレン基又はＮ−Ｒ基であり、Ｍ4は置換又は非置換のアルキレン基又はアルケ
ニレン基であるか、又は１，２−アリーレン基であり、Ｒ48はアルキル基、アラルキル基又はアルコキシアルキル基であり、Ｒ47は、炭素環式又は複素環式の２価の芳香族基であり、Ｘ4は塩素、臭素またはヨウ素原子であり、ｑ＝０及びｒ＝１であるか又はｑ＝１及
びｒ＝１又は２である。）
【０１９９】
【化４０】
【０２００】
(式（１１）は、４−ハロゲノ−５−（ハロゲノメチルフェニル）オキサゾール誘導体を
表す。Ｘ5はハロゲン原子であり、ｔは１〜３の整数であり、ｓは１〜４の整数であり、
Ｒ49は水素原子又はＣＨ3-tＸ5t基であり、Ｒ50はｓ価の置換されていてもよい不飽和有
機基である。）
【０２０１】
【化４１】
【０２０２】
(式（１２）は、２−（ハロゲノメチルフェニル）−４−ハロゲノオキサゾール誘導体を
表す。Ｘ6はハロゲン原子であり、ｖは１〜３の整数であり、ｕは１〜４の整数であり、
Ｒ51は水素原子又はＣＨ3-vＸ6v基であり、Ｒ52はｕ価の置換されていてもよい不飽和有
機基である。）
このような炭素−ハロゲン結合を有する化合物の具体例としては、たとえば、若林ら著、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊａｐａｎ，４２、２９２４（１９６９）記載の化合物、たとえば、２−フェニル４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−クロルフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（２′，４′−ジクロルフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−ｎ−ノニル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（α，α，β−トリクロルエチル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン等が挙げられる。その他、英国特許１３８８４９２号明細書記載の化合物、たとえば、２−スチリル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メチルスチリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリル）−４−アミノ−６−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン等、特開昭５３−１３３４２８号記載の化合物、たとえば、２−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン、２−〔４−（２−エトキシエチル）−ナフト−１−イル〕−４，６−ビス−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン、２−（４，７−ジメトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン）、２−（アセナフト−５−イル）−４，６−ビス−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン等、独国特許３３３７０２４号明細書記載の化合物、例えば、下記化合物等を挙げることができる。あるいはさらにＭ．Ｐ．Ｈｕｔｔ、Ｅ．Ｆ．ＥｌｓｌａｇｅｒおよびＬ．Ｍ．Ｈｅｒｂｅｌ著「Ｊｏｕｒｎａｌｏｆ Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」第７巻（Ｎｏ．３）、第５１１頁以降（１９７０年）に記載されている合成方法に準じて、当業者が容易に合成することができる次のような化合物群、例えば、下記化合物等を挙げることができる。
【０２０３】
【化４２】
【０２０４】
(ｌ）アゾ系化合物
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい（ｌ）アゾ系化合物としては、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビスプロピオニトリル、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、４，４’−アゾビス（４−シアノ吉草酸）、２，２’−アゾビスイソ酪酸ジメチル、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオンアミドオキシム）、２，２’−アゾビス［２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］、２，２’−アゾビス｛２−メチル−Ｎ−［１，１−ビス（ヒドロキシメチル）−２−ヒドロキシエチル］プロピオンアミド｝、２，２’−アゾビス［２−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）プロピオンアミド］、２，２’−アゾビス（Ｎ−ブチル−２−メチルプロピオンアミド）、２，２’−アゾビス（Ｎ−シクロヘキシル−２−メチルプロピオンアミド）、２，２’−アゾビス［Ｎ−（２−プロペニル）−２−メチルプロピオンアミド］、２，２’−アゾビス（２，４，４−トリメチルペンタン）等を挙げることができる。
【０２０５】
本発明におけるラジカル開始剤のさらにより好ましい例としては、上述の（ａ）芳香族ケトン類、（ｂ）オニウム塩化合物、（ｃ）有機過酸化物、（ｅ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物、（ｉ）メタロセン化合物、（ｋ）炭素ハロゲン結合を有する化合物、を挙げることができ、さらに最も好ましい例としては、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、チタノセン化合物、一般式（６）であらわされるトリハロメチル−Ｓ−トリアジン化合物を挙げることができる。
【０２０６】
開始剤は、重合性化合物を含有する分解性樹脂組成物の全固形分に対し、０．１〜５０質量％、好ましくは、０．５〜３０質量％、特に好ましくは５〜２０質量％の割合で添加することができる。
本発明における開始剤は単独もしくは２種以上の併用によって好適に用いられる。
【０２０７】
その他の成分
本発明の分解性樹脂組成物には、さらにその用途、製造方法等に適したその他の成分を適宜添加することができる。以下、好ましい添加剤に関し例示する。
【０２０８】
＜増感色素＞
本発明において、７６０から１，２００ｎｍの赤外線を発するレーザー（ＹＡＧレーザー、半導体レーザー等）を光源として用いる場合には、通常、赤外線吸収剤が用いられる。赤外線吸収剤は、レーザー光を吸収し、発熱して熱分解を促進する。本発明において使用される赤外線吸収剤は、波長７６０ｎｍから１２００ｎｍに吸収極大を有する染料又は顔料である。
【０２０９】
染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」（有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
【０２１０】
好ましい染料としては、例えば、特開昭５８−１２５２４６号、特開昭５９−８４３５６号、特開昭５９−２０２８２９号、特開昭６０−７８７８７号等に記載されているシアニン染料、特開昭５８−１７３６９６号、特開昭５８−１８１６９０号、特開昭５８−１９４５９５号等に記載されているメチン染料、特開昭５８−１１２７９３号、特開昭５８−２２４７９３号、特開昭５９−４８１８７号、特開昭５９−７３９９６号、特開昭６０−５２９４０号、特開昭６０−６３７４４号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭５８−１１２７９２号等に記載されているスクワリリウム色素、英国特許４３４，８７５号記載のシアニン染料等を挙げることができる。
【０２１１】
また、米国特許第５，１５６，９３８号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第３，８８１，９２４号記載の置換されたアリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５号（米国特許第４，３２７，１６９号）記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号、同５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３号、同５９−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同５９−１４６０６３号、同５９−１４６０６１号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号記載のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平５−１３５１４号、同５−１９７０２号に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。また、染料として好ましい別の例として、米国特許第４，７５６，９９３号明細書中に式（Ｉ）、（II）として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。
【０２１２】
また、本発明の赤外線吸収色素の好ましい他の例としては、特開２００２−２７８０５７号に記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。
【０２１３】
これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。更に、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましい。
【０２１４】
本発明において、好適に用いることのできるシアニン色素の具体例としては、特開２００１−１３３９６９号の段落番号［００１７］〜［００１９］、特開２００２−４０６３８号の段落番号［００１２］〜［００３８］、特開２００２−２３３６０号の段落番号［００１２］〜［００２３］に記載されたものを挙げることができる。
【０２１５】
下記一般式（ｄ）または一般式（ｅ）で表される色素は光熱変換性の観点から好ましい。
【０２１６】
【化４３】
【０２１７】
一般式（ｄ）中、Ｒ29ないしＲ31は各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を示す。Ｒ33及びＲ34は各々独立に、アルキル基、置換オキシ基、又はハロゲン原子を示す。ｎ及びｍは各々独立に０ないし４の整数を示す。Ｒ29とＲ30、又はＲ31とＲ32はそれぞれ結合して環を形成してもよく、またＲ29及び／又はＲ30はＲ33と、またＲ31及び／又はＲ32はＲ34と結合して環を形成してもよく、更に、Ｒ33或いはＲ34が複数存在する場合に、Ｒ33同士或いはＲ34同士は互いに結合して環を形成してもよい。Ｘ2及びＸ3は各々
独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基であり、Ｘ2及びＸ3の少なくとも一方は水素原子又はアルキル基を示す。Ｑは置換基を有していてもよいトリメチン基又はペンタメチン基であり、２価の有機基とともに環構造を形成してもよい。Ｚｃ-は対アニオンを
示す。ただし、一般式（ｄ）で示される色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはＺａ-は必要ない。好ましいＺａ-は、感光層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、及びアリールスルホン酸イオンである。
【０２１８】
本発明において、好適に用いることのできる一般式（ｄ）で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。
【０２１９】
【化４４】
【０２２０】
【化４５】
【０２２１】
一般式（ｅ）中、Ｒ35〜Ｒ50はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、水酸基、カルボニル基、チオ基
、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、アミノ基、オニウム塩構造を示し、これらの基に置換基が導入可能な場合は、置換基を有してもよい。Ｍは２つの水素原子若しくは金属原子、ハロメタル基、オキシメタル基を示すが、そこに含まれる金属原子としては、周期律表のＩＡ、IIＡ、IIIＢ、ＩＶＢ族原子、第一、第二、第三周期の遷移金属、ラン
タノイド元素が挙げられ、中でも、銅、マグネシウム、鉄、亜鉛、コバルト、アルミニウム、チタン、バナジウムが好ましい。
【０２２２】
本発明において、好適に用いることのできる一般式（ｅ）で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。
【０２２３】
【化４６】
【０２２４】
本発明において使用される顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載されている顔料が利用できる。
【０２２５】
顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。
【０２２６】
これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等）を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）及び「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されている。
【０２２７】
顔料の粒径は０．０１μｍから１０μｍの範囲にあることが好ましく、０．０５μｍから１μｍの範囲にあることがさらに好ましく、特に０．１μｍから１μｍの範囲にあることが好ましい。顔料の粒径を０．０１μｍ以上にすると、分散物の塗布液中での安定性が増し、また、１０μｍ以下にすると樹脂組成物層の均一性が良好になる。
【０２２８】
顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、ＫＤミル、コロイドミル、ダイナトロン、３本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されている。
【０２２９】
＜共増感剤＞
ある種の添加剤（以後、共増感剤という）を用いることで、樹脂組成物層を光硬化させる際の感度をさらに向上させる事ができる。これらの作用機構は、明確ではないが、多くは次のような化学プロセスに基づくものと考えられる。即ち、光重合開始剤により開始される光反応とそれに引き続く付加重合反応の過程で生じる様々な中間活性種（ラジカル、カチオン）と、共増感剤が反応し、新たな活性ラジカルを生成するものと推定される。これらは、大きくは、（ａ）還元されて活性ラジカルを生成しうるもの、（ｂ）酸化されて活性ラジカルを生成しうるもの、（ｃ）活性の低いラジカルと反応し、より活性の高いラジカルに変換するか、もしくは連鎖移動剤として作用するものに分類できるが、個々の化合物がこれらのどれに属するかに関しては通説がない場合も多い。
【０２３０】
(ａ）還元されて活性ラジカルを生成する化合物
炭素−ハロゲン結合を有する化合物：還元的に炭素−ハロゲン結合が解裂して、活性ラジカルを発生すると考えられる。具体的には、例えば、トリハロメチル−ｓ−トリアジン類や、トリハロメチルオキサジアゾール類等が好適に使用できる。
【０２３１】
窒素−窒素結合を有する化合物：還元的に窒素−窒素結合が解裂して、活性ラジカルを発生すると考えられる。具体的にはヘキサアリールビイミダゾール類等が好適に使用される。
【０２３２】
酸素一酸素結合を有する化合物：還元的に酸素−酸素結合が解裂して、活性ラジカルを発生すると考えられる。具体的には、例えば、有機過酸化物類等が好適に使用される。
【０２３３】
オニウム化合物：還元的に炭素−ヘテロ結合や、酸素−窒素結合が解裂して、活性ラジカルを発生すると考えられる。具体的には例えば、ジアリールヨードニウム塩類、トリアリールスルホニウム塩類、Ｎ−アルコキシピリジニウム（アジニウム）塩類等が好適に使用される。フエロセン、鉄アレーン錯体類：還元的に活性ラジカルを生成しうる。
(ｂ）酸化されて活性ラジカルを生成する化合物
アルキルアート錯体：酸化的に炭素−ヘテロ結合が解裂して、活性ラジカルを生成すると考えられる。具体的には例えば、トリアリールアルキルボレート類が好適に使用される。
【０２３４】
アルキルアミン化合物：酸化により窒素に隣接した炭素上のＣ−Ｘ結合が解裂して、活性ラジカルを生成するものと考えられる。Ｘとしては、水素原子、カルボキシル基、トリメチルシリル基、ベンジル基等が好適である。具体的には、例えば、エタノールアミン類、Ｎ−フェニルグリシン類、Ｎ−トリメチルシリルメチルアニリン類等があげられる。
【０２３５】
含硫黄、含錫化合物：上述のアミン類の窒素原子を硫黄原子、錫原子に置き換えたものが、同様の作用により活性ラジカルを生成しうる。また、Ｓ−Ｓ結合を有する化合物もＳ−Ｓ解裂による増感が知られる。
【０２３６】
α−置換メチルカルボニル化合物：酸化により、カルボニル−α炭素間の結合解裂により、活性ラジカルを生成しうる。また、カルボニルをオキシムエーテルに変換したものも同様の作用を示す。具体的には、２−アルキル−１−［４−（アルキルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロノン−１類、並びに、これらと、ヒドロキシアミン類とを反応したのち、Ｎ−ＯＨをエーテル化したオキシムエーテル類をあげる事ができる。
【０２３７】
スルフィン酸塩類：還元的に活性ラジカルを生成しうる。具体的は、アリールスルフィン駿ナトリウム等をあげる事ができる。
(ｃ）ラジカルと反応し高活性ラジカルに変換、もしくは連鎖移動剤として作用する化合
物：例えば、分子内にＳＨ、ＰＨ、ＳiＨ、ＧｅＨを有する化合物群が用いられる。これ
らは、低活性のラジカル種に水素供与して、ラジカルを生成するか、もしくは、酸化された後、脱プロトンする事によりラジカルを生成しうる。具体的には、例えば、２−メルカプトベンズチアゾール類、２−メルカプトベンゾオキサゾール類、２−メルカプトベンズイミダゾール類等があげられる。
【０２３８】
これらの共増感剤のより具体的な例は、例えば、特開平９−２３６９１３号公報中に、感度向上を目的とした添加剤として、多く記載されており、それらを本発明においても適用することができる。以下に、その一部を例示するが、本発明はこれらに限定されるものはない。なお、下記式中、−ＴＭＳはトリメチルシリル基を表す。
【０２３９】
【化４７】
【０２４０】
共増感剤に関しても、先の増感色素と同様、さらに、樹脂組成物層の特性を改良するための様々な化学修飾を行うことも可能である。例えば、増感色素や開始剤化合物、付加重合性不飽和化合物その他のパートとの結合、親水性部位の導入、相溶性向上、結晶析出抑制のための置換基導入、密着性を向上させる置換基導入、ポリマー化等の方法が利用できる。
【０２４１】
共増感剤は、単独でまたは２種以上併用して用いることができる。使用量はエチレン性不飽和二重結合を有する化合物１００質量部に対し０．０５〜１００質量部、好ましくは１〜８０質量部、さらに好ましくは３〜５０質量部の範囲が適当である。
【０２４２】
＜重合禁止剤＞
また、本発明においては以上の成分の他に組成物の製造中あるいは保存中において重合可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合防止剤を添加することが望ましい。適当な熱重合防止剤としてはハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ―ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ―ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。また、重合禁止剤としては、本発明に係る樹脂組成物を用いて膜やパターン形成材料を作成し、これを保存する際の安定性に非常に優れるという点で、Q-1301（10％トリクレジルホスフェート溶液)(和光純薬製）が好ましい。これを前記ポリウレタン系付加重合性化合物、特に、PLEX 6661-O（
デグサ製）と組み合わせて用いると、膜やパターン形成材料の保存安定性が格段に優れ、また良好なレーザー彫刻感度が得られる。熱重合防止剤の添加量は、全組成物の質量に対
して約０．０１質量％〜約５質量％が好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、支持体等への塗布後の乾燥の過程でその層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約０．５質量％〜約１０質量％が好ましい。
【０２４３】
＜着色剤＞
さらに、樹脂組成物層の着色を目的として染料もしくは顔料等の着色剤を添加してもよい。これにより、画像部の視認性や、画像濃度測定機適性といった性質を向上させる事ができる。着色剤としては、特に顔料の使用が好ましい。具体例としては例えばフタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレット、クリスタルバイオレット、アゾ系染料、アントラキノン系染料、シアニン系染料などの染料がある。着色剤の添加量は全組成物の約０．５質量％〜約５質量％が好ましい。
【０２４４】
＜その他の添加剤＞
さらに、硬化皮膜の物性を改良するために充填剤や、可塑剤等の公知の添加剤を加えてもよい。
【０２４５】
充填剤としては有機化合物、無機化合物、あるいはこれらの混合物のいずれでもよい。例えば、有機化合物としては、カーボンブラック、カーボンナノチューブ、フラーレン、黒鉛などが挙げられる。無機化合物としては、シリカ、アルミナ、アルミニウム、炭酸カルシウムなどが挙げられる。
【０２４６】
可塑剤としては例えばジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリン等があり、結合剤を使用した場合、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物と結合剤との合計質量に対し１０質量％以下添加することができる。
【０２４７】
可塑剤のなかでも、本発明の樹脂組成物から形成される膜やパターン形成材料の柔軟性が非常に良好となり、フレキソ印刷版としての適性が向上するだけでなく、彫刻感度も向上するという点でポリエチレングリコール類、ポリプロピレングリコール（モノオール型やジオール型）が好ましい。より好ましくはポリプロピレングリコール（モノオール型やジオール型）、特に好ましくはポリプロピレングリコール（ジオール型、平均分子量１０００）の場合である。ポリプロピレングリコール（モノオール型やジオール型）可塑剤は、前記ウレタン系付加重合性化合物（特にPLEX 6661-O（デグサ製））と組み合わせることにより、上記の優れた特性が更に顕著になる。
【０２４８】
(膜の成形）
本発明の分解性樹脂組成物をシート状、ロール状もしくは円筒状に成形するためには、既存の樹脂の成形方法を用いることができる。例えば、注型法、ポンプや押し出し機等の機械で樹脂組成物をノズルやダイスから押し出し、ブレードで厚みを合わせる、ロールによりカレンダー加工して厚みを合わせる方法等が例示できる。その際、樹脂組成物の性能を落とさない範囲で加熱しながら成形を行なうことも可能である。また、必要に応じて圧延処理、研削処理などをほどこしても良い。通常はＰＥＴやニッケルなどの素材からなるバックフィルムといわれる下敷きの上に成形される場合が多い。また、繊維強化プラスチック（ＦＲＰ）製、プラスチック製あるいは金属製の円筒状基体を用いることもできる。円筒状基体は軽量化のために一定厚みで中空のものを使用することができる。バックフィルムあるいは円筒状基体の役割は、成形物の寸法安定性を確保することである。したがって、寸法安定性の高いものを選択する必要がある。材料の具体例としては、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリビスマレイミド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリフェニレンチオエーテル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、全芳香族ポリエステル樹脂からなる液晶樹脂、全芳香族ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂などを挙げることができる。また、これらの樹脂を積層して用いることもできる。例えば、厚み４．５μｍの全芳香族ポリアミドフィルムの両面に厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートの層を積層したシート等でもよい。また、多孔質性のシート、例えば繊維を編んで形成したクロスや、不織布、フィルムに細孔を形成したもの等をバックフィルムとして用いることができる。バックフィルムとして多孔質性シートを用いる場合、感光性樹脂組成物を孔に含浸させた後に光硬化させることで、感光性樹脂硬化物層とバックフィルムとが一体化するために高い接着性を得ることができる。クロスあるいは不織布を形成する繊維としては、ガラス繊維、アルミナ繊維、炭素繊維、アルミナ・シリカ繊維、ホウ素繊維、高珪素繊維、チタン酸カリウム繊維、サファイア繊維などの無機系繊維、木綿、麻などの天然繊維、レーヨン、アセテート等の半合成繊維、ナイロン、ポリエステル、アクリル、ビニロン、ポリ塩化ビニル、ポリオレフィン、ポリウレタン、ポリイミド、アラミド等の合成繊維を挙げることができる。また、バクテリアの生成するセルロースは、高結晶性ナノファイバーであり、薄くて寸法安定性の高い不織布を作製することのできる材料である。
【０２４９】
＜パターン形成材料＞
本発明のパターン形成材料とは、レーザー露光に起因して露光部が非露光部に比べて凹部を形成することにより凹凸パターンとなるパターン形成材料を意味する。従って、レーザー露光により直接的に（例えば、アブレーションにより）凹部を形成するタイプのパターン形成材料のみならず、レーザー露光後に加熱処理やアルカリ水溶液等による現像処理を施すことによって凹部を形成するタイプのパターン形成材料も包含する。本発明のパターン形成材料は、特に前者のタイプのパターン形成材料として好適に用いることができる。
本発明におけるパターン形成材料は、上記のような性質を持つものであれば特に用途は限定されず、平版、グラビア、凸版、スクリーンなどの印刷版原版、プリント配線用基板、半導体用フォトレジスト材料、光ディスク用記録材料など多岐に渡って利用可能である。なかでも、レーザーによる直接彫刻製版、いわゆる「レーザー彫刻」に用いられる印刷版原版として好ましく用いられる。特にフレキソ印刷版原版として好ましく用いられ、レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版が本発明のパターン形成材料の最も好適な用途である。
本発明のパターン形成材料は、支持体上に、少なくとも１つの熱分解性樹脂層（以下、パターン形成層とも云う）を有する。
【０２５０】
本発明のパターン形成材料の第１の態様によれば、支持体上に本発明に係るレーザー分解性樹脂組成物からなる熱分解性樹脂層を有することを特徴とする。熱分解性樹脂層は特定ポリウレタン樹脂の他、必要に応じて、上記の重合性化合物、開始剤、その他の成分を含んでもよい。
【０２５１】
本発明のパターン形成材料の第２の態様によれば、支持体上に、少なくとも２つの熱分解性樹脂層を有し、支持体に近い樹脂層を構成する樹脂が、本発明に係る特定ポリウレタン樹脂であることを特徴とする。具体的には、パターン形成層は２層以上の構成(以下、
重層構成ともいう）からなり、支持体に近い第一の層(以下、下層ともいう）と第一の層
より上に存在する第二の層(以下、上層ともいう）を有し、下層を構成する樹脂として、
本発明に係る特定ポリウレタン樹脂を用いることを特徴とする。パターン形成層の数の上限は特に制限されない。
【０２５２】
下層に用いられる特定ポリウレタン樹脂は、その熱分解温度が比較的低い（２５０℃未満）という特性を有する。
本明細書において、樹脂の熱分解温度とは、ＴＧＡ（熱重量分析）測定において、樹脂
の熱分解に起因する重量減少が開始する温度を意味する。具体的には、樹脂の熱分解温度の測定は、以下のようにして行うことができる。即ち、樹脂７ｍｇを、熱重量測定装置（ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン（株）製）を用いて、１０℃/分の昇温速度で３０℃から５００℃まで加熱を行い、熱分解開始温度を測定し、この価を熱分解温度とする。ここで、「熱分解開始温度」とは、加熱を行った際に樹脂の熱分解に起因する重量減少が開始する温度のことをいう。
一般に、レーザー照射によるパターン形成層の温度上昇は、層の厚さ方向に従って徐々に減少し、支持体近傍では温度は比較的低くなるが、本発明の第２の態様のレーザー分解性パターン形成材料においては、下層の樹脂の熱分解温度が低いため、このような状況でも熱分解が行われ易く、その結果、レーザー分解性（彫刻性）が向上し、高感度化が達成されると考えられる
【０２５３】
レーザー分解性パターン形成材料の下層は、上記特定ポリウレタン樹脂に加えて、必要により、他の樹脂を含有してもよい。他の樹脂としては、例えば、先にレーザー分解性樹脂組成物に関して述べたバインダーポリマーが挙げられる。更に、下層は、必要により、先にレーザー分解性樹脂組成物に関して述べた重合性化合物(モノマー）、開始剤、その
他の成分などの添加剤を含有してもよい。
これら他の樹脂や添加剤は、下層の熱分解性を損なわない範囲で用いられることが望ましい。この観点から、上記ポリウレタン樹脂／上記ポリウレタン樹脂以外の成分の割合は、５０／５０〜１００／０（質量比）が好ましく、７０／３０〜１００／０（質量比）がより好ましく、１００／０（質量比）が特に好ましい。
【０２５４】
次に、本発明に係る第２の態様のレーザー分解性パターン形成層のうち、上層について詳述する。
上層は、レーザー分解性樹脂組成物からなるものであればよく、通常、バインダーポリマーの他、重合性化合物(モノマー）、開始剤、その他の成分などの添加剤を含有するこ
とができる。
【０２５５】
上層に用いられるバインダーポリマーとしては、前記レーザー分解性樹脂組成物において記載したバインダーポリマーが挙げられる。バインダーポリマーの添加量は、上層を構成する全固形分中、一般的に１〜９９質量％、好ましくは５〜８０質量％である。また、バインダーポリマーは前記レーザー分解性樹脂組成物において記載した一般的な樹脂と併用してもよい。
併用樹脂の添加量は、上記のバインダーポリマーに対して、一般的に１〜９０質量％、好ましくは５〜８０質量％である。
【０２５６】
上層を構成する樹脂は、その熱分解温度が、下層を構成する特定ポリウレタン樹脂の熱分解温度より高いことが好ましい。レーザー分解（彫刻）性の観点から、熱分解温度の差は８０℃以上であることがより好ましく、１００℃以上であることがさらに好ましく、１５０℃以上であることが特に好ましい。
【０２５７】
上層に用いられる重合性化合物(モノマー）、開始剤、その他の成分などとしては、各
々前記レーザー分解性樹脂組成物において記載したものが挙げられる。
【０２５８】
(支持体）
本発明において、パターン形成材料の支持体は、可撓性を有し、かつ、寸法安定性に優れた材料が好ましく用いられ、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、或いはポリカーボネートフィルムを挙げることができる。支持体の厚みは５０〜３５０μｍ、更に１００〜２５０μｍがパターン形成材料の機械的特性、形状安定性あるいは取り扱い性等から好ましい。また、必要により、支持体とパターン形成層との接着を向上させるために、この種の目的で従来から使用されている公知の接着剤層を支持体の表面に設けてもよい。
また、本発明で用いる支持体の表面に物理的、化学的処理を行うことにより、パターン形成層あるいは接着剤層との接着性を向上させることができる。物理的処理方法としては、サンドブラスト法、微粒子を含有した液体を噴射するウエットブラスト法、コロナ放電処理法、プラズマ処理法、紫外線あるいは真空紫外線照射処理法などを挙げることができる。また、化学的処理方法としては、強酸処理法、強アルカリ処理法、酸化剤処理法、カップリング剤処理法などを挙げることができる。
【０２５９】
（パターン形成層）
本発明のパターン形成層は、層の構成成分を溶剤に溶解させ、支持体上に塗布・乾燥する方法、あるいは層の構成成分をニーダーで混練後、支持体に流延する方法等により好ましく形成される。複数のパターン形成層の形成には、各層の成分を一旦溶剤に溶解させ、下層を支持体上に塗布・乾燥後、上層を塗布・乾燥する方法、あるいは各層の成分をニーダーで混練後、支持体に逐次流延する方法等が好ましく用いられる。
【０２６０】
本発明のパターン形成層は、レーザーで分解する前に架橋（重合）により硬化させることが、層の強度を向上させる観点で好ましい。層を硬化させるためには、前記のような重合性化合物を層内に含有させることが好ましい。これは、ネガ型（重合型）感光材料において被膜の強度を上げる手法として一般的に用いられていることであり、本発明でも同様の効果が発現すると考えられる。
【０２６１】
この方法は、パターン形成材料がレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版である場合に特に効果がある。レーザー彫刻前に硬化させることでレーザー彫刻後形成されるレリーフがシャープになり、また、レーザー彫刻の際に発生する彫刻カスの粘着が抑制されるという利点がある。
【０２６２】
層を硬化させる方法は、層を加熱する、光照射する、光または熱重合開始剤等を層に添加しておいてそれに光照射または加熱する等、重合性化合物の重合反応を起こさせる手段であれば特に制限無く使用することができる。
中でも、硬化させる方法としては、層の加熱が作業の簡便さから好ましい。レーザー分解前の層に対して架橋（重合）を生起するための加熱には、オーブン、サーマルヘッド、加熱ロール、レーザー光線などあらゆる加熱方法が適用できる。温度コントロールが必要な場合は、オーブン、サーマルヘッド、加熱ロール等の温度をコントロールするか、レーザー光線の強度やスポット径を調節することで実施することができる。加熱温度は、共存する有機化合物の熱安定性の観点から、４０〜２５０℃が好ましく、６０〜２２０℃がより好ましく、８０〜２００℃が更に好ましい。
【０２６３】
パターン形成層の厚み（重層構成の場合は、下層と上層の和）は、一般的には０．０００５〜１０ｍｍ、好ましくは０．００５〜７ｍｍである。
レーザー彫刻に用いる場合の厚みは、その使用目的に応じて任意に設定し得るが、好ましくは０.０５〜１０ｍｍの範囲、より好ましくは０.１〜７ｍｍの範囲である。
上記層厚における下層/上層の比は、容易に（高感度に）パターン形成する観点から、30/70〜95/5の範囲が好ましく、50/50〜95/5がさらに好ましく、70/30〜90/10が特に好ま
しい。
【０２６４】
また、場合によっては、組成の異なる層を複数積層していても構わない。複数の層からなる組み合わせとしては、例えば、最表面にＹＡＧレーザー、ファイバーレーザーあるいは半導体レーザー等の近赤外線領域に発振波長を有するレーザーを用いて彫刻することができる層を形成し、その層の下に炭酸ガスレーザー等の赤外線レーザーあるいは可視・紫
外線レーザーを用いてレーザー彫刻できる層を形成することも可能である。このような方法でレーザー彫刻する場合、赤外線レーザーと近赤外線レーザーを搭載した別々のレーザー彫刻装置を用いて彫刻することもでき、また、赤外線レーザーと近赤外線レーザーの両方を搭載したレーザー彫刻装置を用いて行うことも可能である。
【０２６５】
本発明では、支持体とパターン形成層との間、パターン形成層の間、あるいはパターン形成層と接着剤層との間にクッション性を有する樹脂あるいはゴムからなるクッション層を形成することができる。支持体とパターン形成層との間にクッション層を形成する場合、片面に接着剤層の付いたクッション層を、接着剤層側を支持体に向けて貼り付ける方法が簡便である。クッション層を貼り付けた後、表面を切削、研磨して整形することもできる。より簡便な方法は、液状接着剤組成物を支持体上に一定厚みで塗布し、光を用いて硬化させクッション層を形成する方法である。クッション性を有するために、光硬化した硬化物の硬度が低いことが好ましい。また、クッション性を有する感光性樹脂硬化物層中に気泡を含むものであっても構わない。
【０２６６】
＜レーザー彫刻＞
レーザー彫刻においては、形成したい画像をデジタル型のデータとし、コンピューターを利用してレーザー装置を操作し、パターン形成材料上にレリーフ画像を作成する。
上記したように、レーザー彫刻に用いるパターン形成材料としては特に限定されないが、レーザー彫刻型フレキソ印刷版原版が特に好ましく用いられる。
レーザー彫刻に用いるレーザーは、パターン形成材料がレーザーアブレーションによりパターン形成が可能なものであればどのようなものを用いてもよいが、彫刻を高速度で行なうためには出力の高いものが望ましく、炭酸ガスレーザー、ＹＡＧレーザー、半導体レーザー、ファイバーレーザー等の赤外線あるいは近赤外線領域に発振波長を有するレーザーが好ましいものの一つである。また、紫外線領域に発振波長を有する紫外線レーザー、例えばエキシマレーザー、第３あるいは第４高調波へ波長変換したＹＡＧレーザー、銅蒸気レーザー等も、有機化合物の分子の結合を切断するアブレージョン加工が可能であり、微細加工に適する。フェムト秒レーザーなど極めて高い尖頭出力を有するレーザーを用いることもできる。また、レーザーは連続照射でも、パルス照射でも良い。レーザー彫刻型フレキソ印刷版原版では、炭酸ガスレーザー、ＹＡＧレーザーが好ましく用いられる。
【０２６７】
レーザーによる彫刻は酸素含有ガス下、一般には空気存在下もしくは気流下に実施するが、炭酸ガス、窒素ガス下でも実施できる。彫刻終了後、レリーフ画像面に発生する粉末状もしくは液状の物質（カス）は適当な方法、例えば溶剤や界面活性剤の入った水等で洗いとる方法、高圧スプレー等により水系洗浄剤を照射する方法、高圧スチームを照射する方法、布等で拭き取る方法などを用いて除去することができる。
【０２６８】
本発明の樹脂組成物はレリーフ画像の他、スタンプ・印章、エンボス加工用のデザインロール、電子部品作成に用いられる絶縁体、抵抗体、導電体ペーストのパターニング用レリーフ画像、窯業製品の型材用レリーフ画像、広告・表示板などのディスプレイ用レリーフ画像、各種成型品の原型・母型など各種の用途に利用できる。
【０２６９】
また、レーザー彫刻後のパターン画像の表面に改質層を形成させることにより、表面のタックの低減を行うこともできる。改質層としては、シランカップリング剤あるいはチタンカップリング剤等のパターン画像の表面水酸基と反応する化合物で処理した被膜、あるいは多孔質無機粒子を含有するポリマーフィルムなどを挙げることができる。広く用いられているシランカップリング剤は、パターン画像の表面水酸基との反応性の高い官能基を分子内に有する化合物であり、そのような官能基とは、例えばトリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基、トリクロロシリル基、ジエトキシシリル基、ジメトキシシリル基、ジクロロシリル基、モノエトキシシリル基、モノメトキシシリル基、モノクロロシリル基
を挙げることができる。また、これらの官能基は分子内に少なくとも１つ以上存在し、パターン画像の表面水酸基と反応することにより表面に固定化される。更に本発明のシランカップリング剤を構成する化合物としては、分子内に反応性官能基としてアクリロイル基、メタクリロイル基、活性水素含有アミノ基、エポキシ基、ビニル基、パーフルオロアルキル基、及びメルカプト基から選ばれた少なくとも１個の官能基を有するもの、あるいは長鎖アルキル基を有するものも用いることができる。表面に固定化したカップリング剤分子が、特に重合性反応基を有する場合、表面への固定化後、光、熱、あるいは電子線を照射して架橋させることにより、より強固な被膜とすることもできる。
【実施例】
【０２７０】
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【０２７１】
特定ポリウレタン樹脂の合成
合成例１：ポリウレタン樹脂Ｐ−１の合成
コンデンサー、撹拌機を備えた５００ｍｌの３つ口丸底フラスコ中で、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）ブタン酸８．２ｇ（０．０５モル）、下記ジオ−ル化合物（１）１３．０ｇ（０．０５モル）をＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍｌに溶解した。これに、４，４−ジフェニルメタンジイソシアネート２５．５ｇ（０．１０２モル）、ジブチル錫ジラウリレート０．１ｇを添加し、１００℃にて、８時間加熱撹拌した。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍｌ及びメチルアルコール２００ｍｌにて希釈し３０分撹拌した。反応溶液を水３リットル中に撹拌しながら投入し、白色のポリマーを析出させた。このポリマーを濾別し、水で洗浄後、真空下乾燥させることにより３７ｇのポリマーを得た。
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）にて分子量を測定したところ、重量平均分子量（ポリスチレン標準）は９５，０００であった。
【０２７２】
合成例２：ポリウレタン樹脂Ｐ−５の合成
コンデンサー、撹拌機を備えた５００ｍｌの３つ口丸底フラスコ中で、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）ブタン酸５．９ｇ（０．０４モル）、下記ジオール化合物（２）１５．９Ｇ（０．０６モル）をＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍｌに溶解した。これに、４，４−ジフェニルメタンジイソシアネート２０．４ｇ（０．０８２モル）、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート３．４ｇ（０．０２モル）、ジブチル錫ジラウリレート０．１ｇを添加し、１００℃にて、８時間加熱撹拌した。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍｌ及びメチルアルコール２００ｍｌにて希釈し３０分撹拌した。反応溶液を水３リットル中に撹拌しながら投入し、白色のポリマーを析出させた。このポリマーを濾別し、水で洗浄後、真空下乾燥させることにより３４ｇのポリマーを得た。
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）にて分子量を測定したところ、重量平均分子量（ポリスチレン標準）は９９，０００であった。
【０２７３】
合成例３：ポリウレタン樹脂Ｐ−６の合成
コンデンサー、撹拌機を備えた５００ｍｌの３つ口丸底フラスコ中で、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）プロピオン酸５．４ｇ（０．０４モル）、下記ジオ−ル化合物（３）１５．６ｇ（０．０６モル）をＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍｌに溶解した。これに、ナフタレンジイソシアネート２１．４ｇ（０．１０２モル）、ジブチル錫ジラウリレート０．１ｇを添加し、１００℃にて、８時間加熱撹拌した。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍｌ及びメチルアルコール２００ｍｌにて希釈し３０分撹拌した。反応溶液を水３リットル中に撹拌しながら投入し、白色のポリマーを析出させた。このポリマーを濾別し、水で洗浄後、真空下乾燥させることにより３４ｇのポリマーを得た。
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）にて分子量を測定したところ、重
量平均分子量（ポリスチレン標準）は９６，０００であった。
【０２７４】
【化４８】
【０２７５】
〔実施例１〜１４、１ａ及び比較例１〜３〕
＜熱分解開始温度の測定＞
下記表Ａに示す各樹脂（本発明に係る特定ポリウレタン樹脂、比較用ポリウレタン樹脂又は比較用樹脂）７ｍｇを、熱重量測定装置（ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン（株）製）を用いて、１０℃/分の昇温速度で３０℃から５００℃まで加熱を行い、熱
分解開始温度を測定した。なお、特定ポリウレタン樹脂Ｐ−３７及びＰ−３８については、樹脂Ｐ−３７またはＰ−３８の１ｇを４８質量％のメチルエチルケトン溶液としてガラス製シャーレにキャストし、５０℃で６時間減圧乾燥してメチルエチルケトンを除去し、得られた固体を測定サンプルとして用いた。ここで、「熱分解開始温度」とは、加熱を行った際にサンプルの熱分解に起因する重量減少が開始する温度のことをいう。結果を表Ａに示す。
【０２７６】
【表１２】
【０２７７】
比較用ポリウレタン樹脂ＣＰ−１：下記のジイソシアネート化合物（Ｘ）とジオール化合物（Ｙ）（１：１モル比）から合成されたポリウレタン樹脂（重量平均分子量：３２，０００）
【０２７８】
【化４９】
【０２７９】
比較用樹脂ＣＰ−２：スチレン−ブタジエンブロックコポリマー（商品名：ＴＲ２０００、ＪＳＲ（株）製）比較用樹脂ＣＰ−３：ポリメタクリル酸メチル（重量平均分子量：２１，０００、アルドリッチ製）
【０２８０】
表Ａの結果から、実施例の樹脂は、比較例の樹脂に比べて、熱分解開始温度が大幅に低く、熱分解性に優れていることが分かる。この結果は、本発明に係る特定ポリウレタン樹脂の熱分解性向上効果を表している。特に、比較例１のように、芳香族基を含まないポリウレタン樹脂を用いた場合には、ポリウレタン以外の樹脂を用いた比較例２及び３との比較から明らかなように、熱分解開始温度の低下が殆ど認められないことを考慮すると、本発明に係る特定ポリウレタン樹脂がこのような特異的な性質を有することは、極めて驚くべきことである。
【０２８１】
〔実施例１５〜２７及び比較例４〜５〕
＜パターン形成材料の作製＞
下記表Ｂに示すポリウレタン樹脂、バインダーポリマー、添加剤及びレーザー吸収剤を材料温度１００℃で実験室用ニーダー中で２０分間混合し、レーザー吸収剤を均一に分散した。次いで得られた混合物を、重合性化合物及び開始剤とともに１００℃でトルエン中
に溶解し、４０℃に冷却した後、１２５μｍ厚ＰＥＴフィルム上に流延した。大気中室温で４８時間、次いで９０℃で１．５時間乾燥した。得られたレリーフ層（層厚み１０００μｍ）を、接着成分混合物で被覆した１２５μｍ厚ＰＥＴフィルムにラミネート（積層）した。これにより、レリーフ層は、接着成分混合物で被覆された１２５μｍ厚ＰＥＴフィルムに転写された。次に、排気装置付きのオーブンにて常圧で１８０℃で２０分加熱し、レリーフ層を架橋させた。レリーフ層が架橋していることは、FT-IRにて炭素-炭素不飽和結合由来のピークが消失したことを観測することで確認した。かくして、パターン形成材料を作製した。
【０２８２】
【表１３】
【０２８３】
＜パターン形成材料のレーザー彫刻＞
レーザー照射による彫刻を、炭酸（ＣＯ2）レーザーの場合、高品位ＣＯ2レーザーマーカＭＬ−９１００シリーズ（ＫＥＹＥＮＣＥ（株）製）を用いて１２Ｗでラインスピード２０ｃｍ/秒、Ｎｄ−ＹＡＧレーザーの場合、ＭＡＲＫＥＲ ＥＮＧＩＮＥ ３０００（レーザーフロントテクノロジーズ（株）製）を用いて１０Ｗでラインスピード１０ｃｍ/秒
で実施した。レーザー照射部（凹部）とレーザー未照射部の高さの違いを、超深度形状測定顕微鏡（ＶＫ−８５００、キーエンス社製）で測定することによりレーザー彫刻の深さを評価した。結果を表Ｃに示す。レーザー彫刻の深さの数値が大きいほど、レーザー彫刻がより高感度でなされたことを意味する。
【０２８４】
【表１４】
【０２８５】
表Ｃの結果から、実施例の樹脂組成物は比較例の樹脂組成物に比べて、彫刻深さが大きいことが明らかである。本発明に係る特定ポリウレタン樹脂を用いることにより、樹脂組成物の熱分解性が向上し、レーザー彫刻が高感度でなされることがわかる。
【０２８６】
〔実施例２８〜３３，４６〜４７及び比較例６〜９〕
＜パターン形成材料の作製＞
下記表Ｄに示すパターン形成層組成物を、ＰＥＴフィルム（厚さ：０．２ｍｍ）上にセロハンテープで貼り付けたポリテトラフルオロエチレン製の枠（１５ｃｍ×１５ｃｍ）の中に流延し、４０℃のオーブン中で３時間乾燥させて層（厚さ：１．２ｍｍ）を作成した。層の厚さは、枠からはみ出ている余剰のパターン形成層組成物を水平な金尺で掻き出すことによって制御した。次いで、紫外領域に光源を有する超高圧水銀灯を用いて、得られた層の片面（表面１）を全面露光（露光量：約１５００ｍＪ／ｃｍ２）し、さらにその反対側の面（表面２）を全面露光（露光量：約６００ｍＪ／ｃｍ２）してパターン形成材料を作製した。なお、特定ポリウレタン樹脂Ｐ−３７及びＰ−３８については、４８質量％のメチルエチルケトン溶液として使用した。
【０２８７】
【表１５】
【０２８８】
＜パターン形成材料のレーザー彫刻＞
実施例１５〜２７と同様にして、パターン形成材料の表面1に対してレーザー彫刻を行
い、レーザー彫刻の深さを評価した。結果を表Ｅに示す。
【０２８９】
【表１６】
【０２９０】
【化５０】
【０２９１】
表Ｅの結果から、実施例の樹脂組成物は比較例の樹脂組成物に比べて、彫刻深さが大きいことが明らかである。本発明に係る特定ポリウレタン樹脂を用いることにより、樹脂組成物の熱分解性が向上し、また、ウレタン系付加重合性化合物を併用することによりレーザー彫刻がより高感度でなされることがわかる。
【０２９２】
〔実施例３４〜４５及び比較例１０〜１５〕
＜パターン形成材料の作製＞
下記表Ｆに示す各樹脂（本発明に係る特定ポリウレタン樹脂又は比較用樹脂）１００ｇを、材料温度１２０℃で実験室用ニーダーにより攪拌、溶融させた後、７０℃に冷却し、１２５μｍ厚ＰＥＴフィルム支持体上に流延した。大気中室温で４８時間、次いで８０℃で３時間乾燥して下層を形成した。
【０２９３】
下記表Ｇに示すバインダーポリマー、添加剤及びレーザー吸収剤を材料温度１２０℃で実験室用ニーダー中で１５分間混合し、レーザー吸収剤を均一に分散した。得られた混合物を、重合性化合物とともに１００℃でトルエン中に溶解し、６０℃に冷却した後、１２５μｍ厚ＰＥＴフィルム上に流延した。大気中室温で４８時間、次いで８０℃で３時間乾燥して上層を形成した。この上層を、上記下層と密着させてラミネートし、上層側のＰＥＴフィルムを剥離することにより、ＰＥＴフィルム支持体上に下層（厚み：０．９４ｍｍ）と上層（厚み：０．２０ｍｍ）を有するパターン形成材料を作製した。
【０２９４】
【表１７】
【０２９５】
比較用樹脂ＣＰ−１：スチレン−ブタジエンブロックコポリマー（商品名：ＴＲ２０００、ＪＳＲ（株）製）〔熱分解温度：４１２℃〕
比較用樹脂ＣＰ−２：下記のジイソシアネート化合物（Ｘ）とジオール化合物（Ｙ）（１：１モル比）から合成された脂肪族ポリウレタン樹脂（重量平均分子量：３２，０００）〔熱分解温度：３３７℃〕
【０２９６】
【化５１】
【０２９７】
比較用樹脂ＣＰ−３：スチレン−イソプレン−スチレンブロックコポリマー（アルドリッチ製）〔熱分解温度：４００℃〕
【０２９８】
樹脂の熱分解温度は以下のようにして求めた。
樹脂７ｍｇを、熱重量測定装置（ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン（株）製）を用いて、１０℃/分の昇温速度で３０℃から５００℃まで加熱を行い、熱分解開始温
度を測定し、この価を熱分解温度とした。ここで、「熱分解開始温度」とは、加熱を行った際に樹脂の熱分解に起因する重量減少が開始する温度のことをいう。
【０２９９】
【表１８】
【０３００】
＜パターン形成材料のレーザー彫刻＞
レーザー照射による彫刻を、炭酸（ＣＯ2）レーザーの場合、高品位ＣＯ2レーザーマーカＭＬ−９１００シリーズ（ＫＥＹＥＮＣＥ（株）製）を用いて１２Ｗでラインスピード１０ｃｍ/秒、Ｎｄ−ＹＡＧレーザーの場合、ＭＡＲＫＥＲ ＥＮＧＩＮＥ ３０００（レーザーフロントテクノロジーズ（株）製）を用いて１０Ｗでラインスピード１０ｃｍ/秒で実施した。レーザー照射部（凹部）とレーザー未照射部の高さの違いを、超深度形状測定顕微鏡（ＶＫ−８５００、キーエンス社製）で測定することによりレーザー彫刻の深さを評価した。結果を表Ｆに示す。レーザー彫刻の深さの数値が大きいほど、レーザー彫刻がより高感度でなされたことを意味する。
【０３０１】
表Ｆの結果から、実施例は比較例に比べて、彫刻深さが大きいことが明らかである。本発明に係る特定ポリウレタン樹脂を下層に用いることにより、熱分解性が向上し、レーザー彫刻が高感度でなされることがわかる。
また、下層に芳香族基を含まないポリウレタン樹脂を用いた比較例１１及び１４と単層構成のパターン形成層を有する比較例１０及び９１３を比較した場合の彫刻深さの増加程度に較べて、本発明に係る特定ポリウレタン樹脂を用いた実施例４２及び４３と単層構成のパターン形成層を有する比較例１０及び１３とを比較した場合の彫刻深さの増加程度が極めて大きいことがわかる。このことは、本発明に係る芳香族基を含むポリウレタン樹脂の特異的な性質を例証するものであり、極めて驚くべきことである。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
芳香族基がウレタン結合と直接結合した構造を有するポリウレタン樹脂を含有することを特徴とするレーザー分解性樹脂組成物。
【請求項２】
前記ポリウレタン樹脂が、下記一般式（１）で表されるウレタン結合を含むポリウレタン樹脂であることを特徴とする請求項１に記載のレーザー分解性樹脂組成物。
【化１】
一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して２価の有機基をあらわす。但し、Ｒ１及びＲ２の少なくとも一方は芳香族基である。
【請求項３】
前記一般式（１）におけるＲ２が、芳香族基であることを特徴とする請求項２に記載のレーザー分解性樹脂組成物。
【請求項４】
前記一般式（１）におけるＲ１及びＲ２が、それぞれ芳香族基であることを特徴とする請求項２に記載のレーザー分解性樹脂組成物。
【請求項５】
前記ポリウレタン樹脂が、更にカーボネート部位を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のレーザー分解性樹脂組成物。
【請求項６】
前記ポリウレタン樹脂が、更にアセタール部位を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のレーザー分解性樹脂組成物。
【請求項７】
前記レーザー分解性樹脂組成物が、更に重合性化合物を含有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載のレーザー分解性樹脂組成物。
【請求項８】
前記レーザー分解性樹脂組成物が、更にバインダーポリマーを含有することを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載のレーザー分解性樹脂組成物。
【請求項９】
請求項７に記載のレーザー分解性樹脂組成物を硬化させてなることを特徴とするレーザー分解性樹脂組成物。
【請求項１０】
請求項８に記載のレーザー分解性樹脂組成物を硬化させてなることを特徴とするレーザー分解性樹脂組成物。
【請求項１１】
支持体上に、請求項１〜７及び９のいずれか１項に記載のレーザー分解性樹脂組成物からなる熱分解性樹脂層を有することを特徴とするパターン形成材料。
【請求項１２】
支持体上に、請求項８または１０に記載のレーザー分解性樹脂組成物からなる熱分解性樹脂層を有することを特徴とするパターン形成材料。
【請求項１３】
支持体上に、少なくとも２つの熱分解性樹脂層を有し、支持体に近い樹脂層を構成する樹脂が、芳香族基がウレタン結合と直接結合した構造を有するポリウレタン樹脂であることを特徴とするレーザー分解性パターン形成材料。
【請求項１４】
前記支持体に近い樹脂層より上に存在する樹脂層を構成する樹脂の熱分解温度が、前記
芳香族基を含むポリウレタン樹脂の熱分解温度より高いことを特徴とする請求項１３に記載のレーザー分解性パターン形成材料。
【請求項１５】
前記ポリウレタン樹脂が、下記一般式（１）で表されるウレタン結合を含むポリウレタン樹脂であることを特徴とする請求項１３又は１４に記載のレーザー分解性パターン形成材料。
【化２】
一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して２価の有機基をあらわす。但し、Ｒ１及びＲ２の少なくとも一方は芳香族基である。
【請求項１６】
前記一般式（１）におけるＲ２が、芳香族基であることを特徴とする請求項１５に記載のレーザー分解性パターン形成材料。
【請求項１７】
前記一般式（１）におけるＲ１及びＲ２が、それぞれ芳香族基であることを特徴とする請求項１５に記載のレーザー分解性パターン形成材料。
【請求項１８】
前記ポリウレタン樹脂が、更にカーボネート部位を有することを特徴とする請求項１３〜１７のいずれか１項に記載のレーザー分解性パターン形成材料。
【請求項１９】
請求項１１〜１８のいずれか１項に記載のレーザー分解性パターン形成材料からなるレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版。
【請求項１】
芳香族基がウレタン結合と直接結合した構造を有するポリウレタン樹脂を含有することを特徴とするレーザー分解性樹脂組成物。
【請求項２】
前記ポリウレタン樹脂が、下記一般式（１）で表されるウレタン結合を含むポリウレタン樹脂であることを特徴とする請求項１に記載のレーザー分解性樹脂組成物。
【化１】
一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して２価の有機基をあらわす。但し、Ｒ１及びＲ２の少なくとも一方は芳香族基である。
【請求項３】
前記一般式（１）におけるＲ２が、芳香族基であることを特徴とする請求項２に記載のレーザー分解性樹脂組成物。
【請求項４】
前記一般式（１）におけるＲ１及びＲ２が、それぞれ芳香族基であることを特徴とする請求項２に記載のレーザー分解性樹脂組成物。
【請求項５】
前記ポリウレタン樹脂が、更にカーボネート部位を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のレーザー分解性樹脂組成物。
【請求項６】
前記ポリウレタン樹脂が、更にアセタール部位を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のレーザー分解性樹脂組成物。
【請求項７】
前記レーザー分解性樹脂組成物が、更に重合性化合物を含有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載のレーザー分解性樹脂組成物。
【請求項８】
前記レーザー分解性樹脂組成物が、更にバインダーポリマーを含有することを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載のレーザー分解性樹脂組成物。
【請求項９】
請求項７に記載のレーザー分解性樹脂組成物を硬化させてなることを特徴とするレーザー分解性樹脂組成物。
【請求項１０】
請求項８に記載のレーザー分解性樹脂組成物を硬化させてなることを特徴とするレーザー分解性樹脂組成物。
【請求項１１】
支持体上に、請求項１〜７及び９のいずれか１項に記載のレーザー分解性樹脂組成物からなる熱分解性樹脂層を有することを特徴とするパターン形成材料。
【請求項１２】
支持体上に、請求項８または１０に記載のレーザー分解性樹脂組成物からなる熱分解性樹脂層を有することを特徴とするパターン形成材料。
【請求項１３】
支持体上に、少なくとも２つの熱分解性樹脂層を有し、支持体に近い樹脂層を構成する樹脂が、芳香族基がウレタン結合と直接結合した構造を有するポリウレタン樹脂であることを特徴とするレーザー分解性パターン形成材料。
【請求項１４】
前記支持体に近い樹脂層より上に存在する樹脂層を構成する樹脂の熱分解温度が、前記
芳香族基を含むポリウレタン樹脂の熱分解温度より高いことを特徴とする請求項１３に記載のレーザー分解性パターン形成材料。
【請求項１５】
前記ポリウレタン樹脂が、下記一般式（１）で表されるウレタン結合を含むポリウレタン樹脂であることを特徴とする請求項１３又は１４に記載のレーザー分解性パターン形成材料。
【化２】
一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して２価の有機基をあらわす。但し、Ｒ１及びＲ２の少なくとも一方は芳香族基である。
【請求項１６】
前記一般式（１）におけるＲ２が、芳香族基であることを特徴とする請求項１５に記載のレーザー分解性パターン形成材料。
【請求項１７】
前記一般式（１）におけるＲ１及びＲ２が、それぞれ芳香族基であることを特徴とする請求項１５に記載のレーザー分解性パターン形成材料。
【請求項１８】
前記ポリウレタン樹脂が、更にカーボネート部位を有することを特徴とする請求項１３〜１７のいずれか１項に記載のレーザー分解性パターン形成材料。
【請求項１９】
請求項１１〜１８のいずれか１項に記載のレーザー分解性パターン形成材料からなるレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版。
【公開番号】特開２００８−２６６５５３（Ｐ２００８−２６６５５３Ａ）
【公開日】平成２０年１１月６日（２００８．１１．６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−２２５８２８（Ｐ２００７−２２５８２８）
【出願日】平成１９年８月３１日（２００７．８．３１）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年１１月６日（２００８．１１．６）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年８月３１日（２００７．８．３１）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
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