不飽和結合含有シリル基保護アミノ酸化合物及びその製造方法
【解決手段】一般式（１）
［Ｒ1は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基又はＲ8Ｒ9Ｒ10Ｓｉ−（Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基である。）で示されるトリオルガノシリル基であり、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基であり、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基であり、ａは０又は１、ｂは１〜１０の整数である。］
で示される化合物。
【効果】本発明により提供されるカルボン酸がシリル基で保護されたアミノ酸化合物に不飽和結合を導入した化合物は、高分子やシラン化合物、シロキサン化合物を容易にアミノ酸変性できるため、高分子やシラン化合物、シロキサン化合物をアミノ酸変性できる変性剤として有用である。
［Ｒ1は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基又はＲ8Ｒ9Ｒ10Ｓｉ−（Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基である。）で示されるトリオルガノシリル基であり、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基であり、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基であり、ａは０又は１、ｂは１〜１０の整数である。］
で示される化合物。
【効果】本発明により提供されるカルボン酸がシリル基で保護されたアミノ酸化合物に不飽和結合を導入した化合物は、高分子やシラン化合物、シロキサン化合物を容易にアミノ酸変性できるため、高分子やシラン化合物、シロキサン化合物をアミノ酸変性できる変性剤として有用である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カルボン酸がシリル基で保護されたアミノ酸化合物に不飽和結合を導入した化合物に関する。この化合物は高分子化合物やシラン化合物、シロキサン化合物をアミノ酸変性できる変性剤として有用である。
【背景技術】
【０００２】
カルボン酸が有機基で保護されたアミノ酸化合物は、常温液体、もしくは常温固体であっても、融点が有機基で保護されていないアミノ酸化合物と比較して低いため、高融点である保護されていないアミノ酸化合物と比較して扱いやすく、加熱による分解反応も起こりにくいため、有用な化合物である。その中でも、カルボン酸の保護基がシリル基、即ちカルボン酸がシリル基で保護されたアミノ酸化合物は、穏和な条件で脱保護でき、容易にアミノ酸化合物を再生することが可能であるため、より有用な化合物である。
【０００３】
上記カルボン酸がシリル基で保護されたアミノ酸化合物としては、例えば特許文献１（特開平８−３２５２７６号公報）記載のγ−トリメチルシロキシカルボニルメチルアミノプロピルトリエトキシシランが有用であると考えられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平８−３２５２７６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１の化合物では、不飽和結合を有する高分子化合物をアミノ酸変性することは困難であった。
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、各種高分子化合物等をアミノ酸変性できるカルボン酸がシリル基で保護されたアミノ酸化合物に不飽和結合を導入した化合物及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、特定のカルボン酸がシリル基で保護されたアミノ酸化合物に不飽和結合を導入した化合物が、高分子化合物の二重結合や、シラン化合物、シロキサン化合物のケイ素−水素結合と反応させることにより、高分子化合物やシラン化合物、シロキサン化合物を保護アミノ酸変性でき、その後脱保護を行うと容易にアミノ酸変性高分子化合物、アミノ酸変性シラン化合物、アミノ酸変性シロキサン化合物とすることができることを知見し、本発明を完成するに至った。
【０００７】
従って、本発明は、下記に示す不飽和結合含有シリル基保護アミノ酸化合物及びその製造方法を提供する。
請求項１：
下記一般式（１）
【化１】
［式中、Ｒ1は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基又はＲ8Ｒ9Ｒ10Ｓｉ−（式中、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基である。）で示されるトリオルガノシリル基であり、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基であり、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基であり、ａは０又は１、ｂは１〜１０の整数である。］
で示される化合物。
請求項２：
下記一般式（２）
【化２】
［式中、Ｒ1は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基又はＲ8Ｒ9Ｒ10Ｓｉ−（式中、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基である。）で示されるトリオルガノシリル基であり、ｂは１〜１０の整数である。］
で示されるアミン化合物と、下記一般式（３）
【化３】
（式中、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基であり、Ｒ5及びＲ7は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基である。）
で示される化合物を反応させることを特徴とする請求項１記載の化合物の製造方法。
請求項３：
下記一般式（４）
【化４】
（式中、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基であり、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基であり、ａは０又は１、ｂは１〜１０の整数である。）
で示される化合物をＲ1−基（Ｒ1は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基である。）を有するアルキル化剤を用いてアルキル化又はＲ8Ｒ9Ｒ10Ｓｉ−基（Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基である。）を有するシリル化剤を用いてシリル化することを特徴とする請求項１記載の化合物の製造方法。
請求項４：
下記一般式（５）
【化５】
（式中、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基であり、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基であり、ａは０又は１、Ｘ1は塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子である。）
で示される化合物と、下記一般式（２）
【化６】
［式中、Ｒ1は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基又はＲ8Ｒ9Ｒ10Ｓｉ−（式中、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基である。）で示されるトリオルガノシリル基であり、ｂは１〜１０の整数である。］
で示されるアミン化合物を脱ハロゲン化水素反応させることを特徴とする請求項１記載の化合物の製造方法。
【発明の効果】
【０００８】
本発明により提供されるカルボン酸がシリル基で保護されたアミノ酸化合物に不飽和結合を導入した化合物は、高分子化合物やシラン化合物、シロキサン化合物を容易にアミノ酸変性できるため、高分子化合物やシラン化合物、シロキサン化合物をアミノ酸変性できる変性剤として有用である。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】実施例１で得られたＮ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル）エチルアリルアミンの1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図２】実施例１で得られたＮ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル）エチルアリルアミンのＩＲスペクトルである。
【図３】実施例２で得られたＮ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミンの1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図４】実施例２で得られたＮ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミンのＩＲスペクトルである。
【図５】実施例３で得られたＮ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル−２−メチル）エチルアリルアミンの1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図６】実施例３で得られたＮ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル−２−メチル）エチルアリルアミンのＩＲスペクトルである。
【図７】実施例４で得られたＮ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミンの1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図８】実施例４で得られたＮ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミンのＩＲスペクトルである。
【図９】実施例５で得られたＮ−（２−トリメチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミンの1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図１０】実施例５で得られたＮ−（２−トリメチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミンのＩＲスペクトルである。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明の不飽和結合含有シリル基保護アミノ酸化合物は、下記一般式（１）
【化７】
［式中、Ｒ1は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基又はＲ8Ｒ9Ｒ10Ｓｉ−（式中、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基である。）で示されるトリオルガノシリル基であり、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基であり、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基であり、ａは０又は１、ｂは１〜１０の整数である。］
で示される化合物である。
【００１１】
ここで、Ｒ1が炭素数１〜２０、特に１〜１０の非置換又は置換の１価炭化水素基の場合、直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられる。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、シクロペンチル基、ヘキシル基、テキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、イコシル基、ビニル基、アリル基、プロペニル基、フェニル基、トリル基、ベンジル基等が例示される。また、これらの炭化水素基の水素原子の一部又は全部が置換されていてもよく、該置換基としては、具体的には、例えば、メトキシ基、エトキシ基、（イソ）プロポキシ基等のアルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子からなる基、シアノ基、アミノ基、フェニル基、トリル基等の炭素数６〜１８のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等の炭素数７〜１８のアラルキル基、エステル基、エーテル基、アシル基、スルフィド基、アルキルシリル基、アルコキシシリル基等が挙げられ、これらを組み合わせて用いることもできる。
【００１２】
また、Ｒ1が、Ｒ8Ｒ9Ｒ10Ｓｉ−で示されるトリオルガノシリル基の場合、Ｒ8〜Ｒ10は炭素数１〜２０、特に１〜１０の非置換又は置換の１価炭化水素基であり、Ｒ8〜Ｒ10の具体例としては、Ｒ1と同様のものを挙げることができる。トリオルガノシリル基としては、トリメチルシリル基、エチルジメチルシリル基、ジエチルメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、テキシルジメチルシリル基、オクチルジメチルシリル基、デシルジメチルシリル基、オクタデシルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基、ジフェニルメチルシリル基、トリフェニルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基等が挙げられる。
Ｒ2〜Ｒ4は、Ｒ8〜Ｒ10について説明したものと同様であり、トリオルガノシリル基としても同様なものが挙げられる。
【００１３】
Ｒ5、Ｒ6及びＲ7は、水素原子又は炭素数１〜２０、特に１〜１０の非置換又は置換の１価炭化水素基であり、炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基の場合、直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられる。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、シクロペンチル基、ヘキシル基、テキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、イコシル基、ビニル基、アリル基、プロペニル基、フェニル基、トリル基、ベンジル基等が例示される。また、これらの炭化水素基の水素原子の一部又は全部が置換されていてもよく、該置換基としては、具体的には、例えば、メトキシ基、エトキシ基、（イソ）プロポキシ基等のアルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子からなる基、シアノ基、アミノ基、フェニル基、トリル基等の炭素数６〜１８のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等の炭素数７〜１８のアラルキル基、エステル基、エーテル基、アシル基、スルフィド基、アルキルシリル基、アルコキシシリル基等が挙げられ、これらを組み合わせて用いることもできる。また、ａは０又は１、ｂは１〜１０、特に１〜５の整数である。
【００１４】
上記一般式（１）で示される化合物の具体例としては、Ｎ−（２−トリメチルシロキシカルボニル）エチルアリルアミン、Ｎ−（２−トリエチルシロキシカルボニル）エチルアリルアミン、Ｎ−（２−ｔ−ブチルジメチルシロキシカルボニル）エチルアリルアミン、Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル）エチルアリルアミン、Ｎ−（２−トリメチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチルアリルアミン、Ｎ−（２−トリエチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチルアリルアミン、Ｎ−（２−ｔ−ブチルジメチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチルアリルアミン、Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル−２−メチル）エチルアリルアミン、Ｎ−（２−トリメチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−メチルアリルアミン、Ｎ−（２−トリエチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−メチルアリルアミン、Ｎ−（２−ｔ−ブチルジメチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−メチルアリルアミン、Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−メチルアリルアミン、Ｎ−（２−トリメチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−メチルアリルアミン、Ｎ−（２−トリエチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−メチルアリルアミン、Ｎ−（２−ｔ−ブチルジメチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−メチルアリルアミン、Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−メチルアリルアミン、Ｎ−（２−トリメチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−エチルアリルアミン、Ｎ−（２−トリエチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−エチルアリルアミン、Ｎ−（２−ｔ−ブチルジメチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−エチルアリルアミン、Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−エチルアリルアミン、Ｎ−（２−トリメチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−エチルアリルアミン、Ｎ−（２−トリエチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−エチルアリルアミン、Ｎ−（２−ｔ−ブチルジメチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−エチルアリルアミン、Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−エチルアリルアミン、Ｎ−（２−トリメチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリエチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−ｔ−ブチルジメチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリメチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリエチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−ｔ−ブチルジメチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリメチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリエチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリエチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリエチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−ｔ−ブチルジメチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリエチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリエチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリメチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−トリエチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリエチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−トリエチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−ｔ−ブチルジメチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−トリエチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−トリエチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリメチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−ｔ−ブチルジメチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリエチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−ｔ−ブチルジメチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−ｔ−ブチルジメチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−ｔ−ブチルジメチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−ｔ−ブチルジメチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリメチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−ｔ−ブチルジメチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリエチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−ｔ−ブチルジメチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−ｔ−ブチルジメチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−ｔ−ブチルジメチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−ｔ−ブチルジメチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリメチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリイソプロピルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリエチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリイソプロピルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−ｔ−ブチルジメチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリイソプロピルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリイソプロピルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリメチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−トリイソプロピルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリエチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−トリイソプロピルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−ｔ−ブチルジメチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−トリイソプロピルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−トリイソプロピルシリルアリルアミン等が例示される。
【００１５】
また、上記一般式（１）で示される化合物の製造方法は、例えば、下記一般式（２）
【化８】
（式中、Ｒ1、ｂは上記と同様である。）
で示されるアミン化合物と、下記一般式（３）
【化９】
（式中、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ7は上記と同様である。）
で示される化合物を反応させる方法が挙げられる。
【００１６】
上記一般式（２）におけるＲ1、ｂは上述したものが例示でき、上記一般式（２）で示される化合物の具体例としては、アリルアミン、Ｎ−メチルアリルアミン、Ｎ−エチルアリルアミン、Ｎ−トリメチルシリルアリルアミン、Ｎ−トリエチルシリルアリルアミン、Ｎ−ｔ−ブチルジメチルシリルアリルアミン、Ｎ−トリイソプロピルシリルアリルアミン等が例示される。
【００１７】
また、上記一般式（３）におけるＲ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ7は上述したものが例示でき、上記一般式（３）で示される化合物の具体例としては、トリメチルシリルアクリレート、トリエチルシリルアクリレート、ｔ−ブチルジメチルシリルアクリレート、トリイソプロピルシリルアクリレート、トリメチルシリルメタクリレート、トリエチルシリルメタクリレート、ｔ−ブチルジメチルシリルメタクリレート、トリイソプロピルシリルメタクリレート等が例示される。
【００１８】
上記一般式（２）で示されるアミン化合物と、上記一般式（３）で示される化合物との配合比は特に限定されないが、反応性、生産性の点から、一般式（２）で示されるアミン化合物１モルに対し、一般式（３）で示される化合物を、０．２〜５モル、特に０．５〜２モルの範囲が好ましい。
【００１９】
上記反応の反応温度は特に限定されないが、０〜２００℃、特に２０〜１５０℃が好ましく、反応時間も特に限定されないが、１〜４０時間、特に１〜２０時間が好ましい。
【００２０】
なお、上記反応は無溶媒でも進行するが、溶媒を用いることもできる。用いられる溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、イソオクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒；アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等の非プロトン性極性溶媒；ジクロロメタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素系溶媒；メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール系溶媒等が例示される。これらの溶媒は１種を単独で使用してもよく、あるいは２種以上を混合して使用してもよい。
【００２１】
以上のようにして得られた反応液からは、蒸留等の通常の方法で目的物を回収することができる。
【００２２】
また、上記一般式（１）で示される化合物のＲ1が炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基又はＲ8Ｒ9Ｒ10Ｓｉ−（式中、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基である。）で示されるトリオルガノシリル基の場合、下記一般式（４）
【化１０】
（式中、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、ａ、ｂは上記と同様である。）
で示される化合物をＲ1−基を有するアルキル化剤を用いてアルキル化又はＲ8Ｒ9Ｒ10Ｓｉ−基を有するシリル化剤を用いてシリル化する方法が挙げられる。
【００２３】
上記アルキル化反応で用いられるＲ1−基を有するアルキル化剤としては、クロロメタン、クロロエタン、ブロモメタン、ブロモエタン、ヨードメタン、ヨードエタン等のＲ1Ｘ（Ｒ1は上記の通りであり、Ｘは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子である。）で表されるハロゲン化炭化水素化合物；炭酸ジメチル、炭酸ジエチル等の（Ｒ1Ｏ）2Ｃ＝Ｏ（Ｒ1は上記の通りである。）で表される炭酸エステル化合物；硫酸ジメチル、硫酸ジエチル等の（Ｒ1Ｏ）2ＳＯ2（Ｒ1は上記の通りである。）で表される硫酸エステル化合物が例示される。
【００２４】
上記シリル化反応で用いられるＲ8Ｒ9Ｒ10Ｓｉ−基を有するシリル化剤としては、トリメチルクロロシラン、トリメチルブロモシラン、トリメチルヨードシラン、トリエチルクロロシラン、ｔ−ブチルジメチルクロロシラン、トリイソプロピルクロロシラン等のＲ8Ｒ9Ｒ10ＳｉＸ（Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は上記の通りであり、Ｘは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子である。）で表されるトリオルガノハロシラン化合物；ヘキサメチルジシラザン、ヘキサエチルジシラザン等の（Ｒ8Ｒ9Ｒ10Ｓｉ）2ＮＨ（Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は上記の通りである。）で表されるシラザン化合物；ビス（トリメチルシリル）アセトアミド、ビス（トリエチルシリル）アセトアミド、ビス（トリメチルシリル）トリフルオロアセトアミド等のＣＲ3Ｃ（−ＯＳｉＲ8Ｒ9Ｒ10）＝ＮＳｉＲ8Ｒ9Ｒ10（Ｒは水素原子又はフッ素原子であり、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は上記の通りである。）で表されるシリルアミド化合物；メタンスルホン酸トリメチルシリル、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル等のＣＲ3ＳＯ3ＳｉＲ8Ｒ9Ｒ10（Ｒは水素原子又はフッ素原子であり、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は上記の通りである。）で表されるスルホン酸シリルエステル化合物が例示される。
【００２５】
上記一般式（４）で示される化合物と、アルキル化剤又はシリル化剤との配合比は特に限定されないが、反応性、生産性の点から、一般式（４）で示される化合物１モルに対し、アルキル化剤又はシリル化剤を、アルキル基又はシリル基のモル数で１〜４モル、特に１〜２モルの範囲が好ましい。
【００２６】
上記反応の反応温度は特に限定されないが、０〜２００℃、特に２０〜１５０℃が好ましく、反応時間も特に限定されないが、１〜４０時間、特に１〜２０時間が好ましい。
【００２７】
上記反応は、無触媒でも進行するが、触媒を用いることもできる。用いられる触媒としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリフェニルアミン等の３級アミン類、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムブロミド等の４級アンモニウム塩や、硫酸、スルホン酸といった酸とその誘導体やその無機塩等の塩基性又は酸性化合物が例示される。
【００２８】
なお、上記反応は無溶媒でも進行するが、溶媒を用いることもできる。用いられる溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、イソオクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒；アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等の非プロトン性極性溶媒；ジクロロメタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素系溶媒；メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール系溶媒等が例示される。これらの溶媒は１種を単独で使用してもよく、あるいは２種以上を混合して使用してもよい。
【００２９】
以上のようにして得られた反応液からは、蒸留等の通常の方法で目的物を回収することができる。
【００３０】
また、上記一般式（１）で示される化合物は、下記一般式（５）
【化１１】
（式中、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7、ａは上記と同様であり、Ｘ1は塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子である。）
で示される化合物と、下記一般式（２）
【化１２】
（式中、Ｒ1、ｂは上記と同様である。）
で示されるアミン化合物を脱ハロゲン化水素反応させることにより製造することもできる。
【００３１】
上記一般式（５）で示される化合物と、上記一般式（２）で示されるアミン化合物との配合比は特に限定されないが、反応性、生産性の点から、一般式（５）で示される化合物１モルに対し、上記一般式（２）で示されるアミン化合物を、０．５〜４モル、特に１〜２モルの範囲が好ましい。
【００３２】
上記反応の反応温度は特に限定されないが、０〜２００℃、特に２０〜１５０℃が好ましく、反応時間も特に限定されないが、１〜４０時間、特に１〜２０時間が好ましい。
なお、溶媒の使用等については上記と同様である。
【実施例】
【００３３】
以下、実施例及び応用例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。
【００３４】
［実施例１］Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル）エチルアリルアミンの合成
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、アリルアミン４５．７ｇ（０．８モル）を仕込み、５０℃に加熱した。内温が安定した後、トリイソプロピルシリルアクリレート１８２．７ｇ（０．８モル）を１時間かけて滴下し、更にその温度で６時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点１２８−１２９℃／０．４ｋＰａの留分１８５．４ｇを得た。
【００３５】
得られた留分の質量スペクトル、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルを測定した。
質量スペクトル
ｍ／ｚ ２８５，２４２，１７３，７０，５６，４１
1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重ベンゼン溶媒）
図１にチャートで示す。
ＩＲスペクトル
図２にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は、Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル）エチルアリルアミンであることが確認された。
【００３６】
［実施例２］Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミンの合成
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、実施例１で得られたＮ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル）エチルアリルアミン１４２．７ｇ（０．５モル）、トリエチルアミン５５．７ｇ（０．５５モル）、トルエン１５０ｍｌを仕込み、５０℃に加熱した。内温が安定した後、トリメチルクロロシラン５７．０ｇ（０．５３モル）を１時間かけて滴下し、更にその温度で４時間撹拌した。生成した塩を濾過により除去した後、濾液を蒸留し、沸点１３５−１３６℃／０．４ｋＰａの留分１４０．２ｇを得た。
【００３７】
得られた留分の質量スペクトル、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルを測定した。
質量スペクトル
ｍ／ｚ ３５７，３４２，３０１，１４２，１２８，７３
1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重ベンゼン溶媒）
図３にチャートで示す。
ＩＲスペクトル
図４にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は、Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミンであることが確認された。
【００３８】
［実施例３］Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル−２−メチル）エチルアリルアミンの合成
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、アリルアミン４５．７ｇ（０．８モル）を仕込み、７０℃に加熱した。内温が安定した後、トリイソプロピルシリルメタクリレート１９３．９ｇ（０．８モル）を１時間かけて滴下し、更にその温度で８時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点１３４℃／０．４ｋＰａの留分１５４．１ｇを得た。
【００３９】
得られた留分の質量スペクトル、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルを測定した。
質量スペクトル
ｍ／ｚ ２９９，２５６，１８７，１５７，７０，４１
1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重ベンゼン溶媒）
図５にチャートで示す。
ＩＲスペクトル
図６にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は、Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル−２−メチル）エチルアリルアミンであることが確認された。
【００４０】
［実施例４］Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミンの合成
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、実施例３で得られたＮ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル−２−メチル）エチルアリルアミン６２．７ｇ（０．２モル）、トリエチルアミン２２．３ｇ（０．２２モル）、トルエン６０ｍｌを仕込み、７０℃に加熱した。内温が安定した後、トリメチルクロロシラン２２．８ｇ（０．２１モル）を１時間かけて滴下し、更にその温度で８時間撹拌した。生成した塩を濾過により除去した後、濾液を蒸留し、沸点１４８−１４９℃／０．４ｋＰａの留分５６．１ｇを得た。
【００４１】
得られた留分の質量スペクトル、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルを測定した。
質量スペクトル
ｍ／ｚ ３７１，３０３，１４２，１２８，１１５，７３
1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重ベンゼン溶媒）
図７にチャートで示す。
ＩＲスペクトル
図８にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は、Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミンであることが確認された。
【００４２】
［実施例５］Ｎ−（２−トリメチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミンの合成
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、Ｎ−トリメチルシリルアリルアミン１０３．４ｇ（０．８モル）を仕込み、９０℃に加熱した。内温が安定した後、トリメチルシリルアクリレート１１５．４ｇ（０．８モル）を１時間かけて滴下し、更にその温度で１５時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点８２−８３℃／０．４ｋＰａの留分４２．５ｇを得た。
【００４３】
得られた留分の質量スペクトル、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルを測定した。
質量スペクトル
ｍ／ｚ ２７３，２１６，１４７，１４２，１２８，７３
1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重ベンゼン溶媒）
図９にチャートで示す。
ＩＲスペクトル
図１０にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は、Ｎ−（２−トリメチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミンであることが確認された。
【００４４】
［応用例１］Ｎ−（２−トリメチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリメチルシリル−３−アミノプロピルトリメトキシシランの合成
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、実施例５で得られたＮ−（２−トリメチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミン２７．４ｇ（０．１モル）、白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液（白金含量３質量％）０．１３ｇを仕込み、７０℃に加熱した。内温が安定した後、トリメトキシシラン１２．２ｇ（０．１モル）を１時間かけて滴下し、更にその温度で５時間撹拌した。反応液を蒸留し、Ｎ−（２−トリメチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリメチルシリル−３−アミノプロピルトリメトキシシランを沸点１３９−１４０℃／０．４ｋＰａの留分として２４．９ｇ得た（収率６３％）。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カルボン酸がシリル基で保護されたアミノ酸化合物に不飽和結合を導入した化合物に関する。この化合物は高分子化合物やシラン化合物、シロキサン化合物をアミノ酸変性できる変性剤として有用である。
【背景技術】
【０００２】
カルボン酸が有機基で保護されたアミノ酸化合物は、常温液体、もしくは常温固体であっても、融点が有機基で保護されていないアミノ酸化合物と比較して低いため、高融点である保護されていないアミノ酸化合物と比較して扱いやすく、加熱による分解反応も起こりにくいため、有用な化合物である。その中でも、カルボン酸の保護基がシリル基、即ちカルボン酸がシリル基で保護されたアミノ酸化合物は、穏和な条件で脱保護でき、容易にアミノ酸化合物を再生することが可能であるため、より有用な化合物である。
【０００３】
上記カルボン酸がシリル基で保護されたアミノ酸化合物としては、例えば特許文献１（特開平８−３２５２７６号公報）記載のγ−トリメチルシロキシカルボニルメチルアミノプロピルトリエトキシシランが有用であると考えられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平８−３２５２７６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１の化合物では、不飽和結合を有する高分子化合物をアミノ酸変性することは困難であった。
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、各種高分子化合物等をアミノ酸変性できるカルボン酸がシリル基で保護されたアミノ酸化合物に不飽和結合を導入した化合物及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、特定のカルボン酸がシリル基で保護されたアミノ酸化合物に不飽和結合を導入した化合物が、高分子化合物の二重結合や、シラン化合物、シロキサン化合物のケイ素−水素結合と反応させることにより、高分子化合物やシラン化合物、シロキサン化合物を保護アミノ酸変性でき、その後脱保護を行うと容易にアミノ酸変性高分子化合物、アミノ酸変性シラン化合物、アミノ酸変性シロキサン化合物とすることができることを知見し、本発明を完成するに至った。
【０００７】
従って、本発明は、下記に示す不飽和結合含有シリル基保護アミノ酸化合物及びその製造方法を提供する。
請求項１：
下記一般式（１）
【化１】
［式中、Ｒ1は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基又はＲ8Ｒ9Ｒ10Ｓｉ−（式中、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基である。）で示されるトリオルガノシリル基であり、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基であり、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基であり、ａは０又は１、ｂは１〜１０の整数である。］
で示される化合物。
請求項２：
下記一般式（２）
【化２】
［式中、Ｒ1は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基又はＲ8Ｒ9Ｒ10Ｓｉ−（式中、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基である。）で示されるトリオルガノシリル基であり、ｂは１〜１０の整数である。］
で示されるアミン化合物と、下記一般式（３）
【化３】
（式中、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基であり、Ｒ5及びＲ7は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基である。）
で示される化合物を反応させることを特徴とする請求項１記載の化合物の製造方法。
請求項３：
下記一般式（４）
【化４】
（式中、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基であり、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基であり、ａは０又は１、ｂは１〜１０の整数である。）
で示される化合物をＲ1−基（Ｒ1は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基である。）を有するアルキル化剤を用いてアルキル化又はＲ8Ｒ9Ｒ10Ｓｉ−基（Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基である。）を有するシリル化剤を用いてシリル化することを特徴とする請求項１記載の化合物の製造方法。
請求項４：
下記一般式（５）
【化５】
（式中、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基であり、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基であり、ａは０又は１、Ｘ1は塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子である。）
で示される化合物と、下記一般式（２）
【化６】
［式中、Ｒ1は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基又はＲ8Ｒ9Ｒ10Ｓｉ−（式中、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基である。）で示されるトリオルガノシリル基であり、ｂは１〜１０の整数である。］
で示されるアミン化合物を脱ハロゲン化水素反応させることを特徴とする請求項１記載の化合物の製造方法。
【発明の効果】
【０００８】
本発明により提供されるカルボン酸がシリル基で保護されたアミノ酸化合物に不飽和結合を導入した化合物は、高分子化合物やシラン化合物、シロキサン化合物を容易にアミノ酸変性できるため、高分子化合物やシラン化合物、シロキサン化合物をアミノ酸変性できる変性剤として有用である。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】実施例１で得られたＮ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル）エチルアリルアミンの1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図２】実施例１で得られたＮ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル）エチルアリルアミンのＩＲスペクトルである。
【図３】実施例２で得られたＮ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミンの1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図４】実施例２で得られたＮ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミンのＩＲスペクトルである。
【図５】実施例３で得られたＮ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル−２−メチル）エチルアリルアミンの1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図６】実施例３で得られたＮ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル−２−メチル）エチルアリルアミンのＩＲスペクトルである。
【図７】実施例４で得られたＮ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミンの1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図８】実施例４で得られたＮ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミンのＩＲスペクトルである。
【図９】実施例５で得られたＮ−（２−トリメチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミンの1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図１０】実施例５で得られたＮ−（２−トリメチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミンのＩＲスペクトルである。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明の不飽和結合含有シリル基保護アミノ酸化合物は、下記一般式（１）
【化７】
［式中、Ｒ1は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基又はＲ8Ｒ9Ｒ10Ｓｉ−（式中、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基である。）で示されるトリオルガノシリル基であり、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基であり、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基であり、ａは０又は１、ｂは１〜１０の整数である。］
で示される化合物である。
【００１１】
ここで、Ｒ1が炭素数１〜２０、特に１〜１０の非置換又は置換の１価炭化水素基の場合、直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられる。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、シクロペンチル基、ヘキシル基、テキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、イコシル基、ビニル基、アリル基、プロペニル基、フェニル基、トリル基、ベンジル基等が例示される。また、これらの炭化水素基の水素原子の一部又は全部が置換されていてもよく、該置換基としては、具体的には、例えば、メトキシ基、エトキシ基、（イソ）プロポキシ基等のアルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子からなる基、シアノ基、アミノ基、フェニル基、トリル基等の炭素数６〜１８のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等の炭素数７〜１８のアラルキル基、エステル基、エーテル基、アシル基、スルフィド基、アルキルシリル基、アルコキシシリル基等が挙げられ、これらを組み合わせて用いることもできる。
【００１２】
また、Ｒ1が、Ｒ8Ｒ9Ｒ10Ｓｉ−で示されるトリオルガノシリル基の場合、Ｒ8〜Ｒ10は炭素数１〜２０、特に１〜１０の非置換又は置換の１価炭化水素基であり、Ｒ8〜Ｒ10の具体例としては、Ｒ1と同様のものを挙げることができる。トリオルガノシリル基としては、トリメチルシリル基、エチルジメチルシリル基、ジエチルメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、テキシルジメチルシリル基、オクチルジメチルシリル基、デシルジメチルシリル基、オクタデシルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基、ジフェニルメチルシリル基、トリフェニルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基等が挙げられる。
Ｒ2〜Ｒ4は、Ｒ8〜Ｒ10について説明したものと同様であり、トリオルガノシリル基としても同様なものが挙げられる。
【００１３】
Ｒ5、Ｒ6及びＲ7は、水素原子又は炭素数１〜２０、特に１〜１０の非置換又は置換の１価炭化水素基であり、炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基の場合、直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられる。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、シクロペンチル基、ヘキシル基、テキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、イコシル基、ビニル基、アリル基、プロペニル基、フェニル基、トリル基、ベンジル基等が例示される。また、これらの炭化水素基の水素原子の一部又は全部が置換されていてもよく、該置換基としては、具体的には、例えば、メトキシ基、エトキシ基、（イソ）プロポキシ基等のアルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子からなる基、シアノ基、アミノ基、フェニル基、トリル基等の炭素数６〜１８のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等の炭素数７〜１８のアラルキル基、エステル基、エーテル基、アシル基、スルフィド基、アルキルシリル基、アルコキシシリル基等が挙げられ、これらを組み合わせて用いることもできる。また、ａは０又は１、ｂは１〜１０、特に１〜５の整数である。
【００１４】
上記一般式（１）で示される化合物の具体例としては、Ｎ−（２−トリメチルシロキシカルボニル）エチルアリルアミン、Ｎ−（２−トリエチルシロキシカルボニル）エチルアリルアミン、Ｎ−（２−ｔ−ブチルジメチルシロキシカルボニル）エチルアリルアミン、Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル）エチルアリルアミン、Ｎ−（２−トリメチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチルアリルアミン、Ｎ−（２−トリエチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチルアリルアミン、Ｎ−（２−ｔ−ブチルジメチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチルアリルアミン、Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル−２−メチル）エチルアリルアミン、Ｎ−（２−トリメチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−メチルアリルアミン、Ｎ−（２−トリエチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−メチルアリルアミン、Ｎ−（２−ｔ−ブチルジメチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−メチルアリルアミン、Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−メチルアリルアミン、Ｎ−（２−トリメチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−メチルアリルアミン、Ｎ−（２−トリエチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−メチルアリルアミン、Ｎ−（２−ｔ−ブチルジメチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−メチルアリルアミン、Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−メチルアリルアミン、Ｎ−（２−トリメチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−エチルアリルアミン、Ｎ−（２−トリエチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−エチルアリルアミン、Ｎ−（２−ｔ−ブチルジメチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−エチルアリルアミン、Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−エチルアリルアミン、Ｎ−（２−トリメチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−エチルアリルアミン、Ｎ−（２−トリエチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−エチルアリルアミン、Ｎ−（２−ｔ−ブチルジメチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−エチルアリルアミン、Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−エチルアリルアミン、Ｎ−（２−トリメチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリエチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−ｔ−ブチルジメチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリメチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリエチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−ｔ−ブチルジメチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリメチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリエチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリエチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリエチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−ｔ−ブチルジメチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリエチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリエチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリメチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−トリエチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリエチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−トリエチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−ｔ−ブチルジメチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−トリエチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−トリエチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリメチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−ｔ−ブチルジメチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリエチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−ｔ−ブチルジメチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−ｔ−ブチルジメチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−ｔ−ブチルジメチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−ｔ−ブチルジメチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリメチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−ｔ−ブチルジメチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリエチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−ｔ−ブチルジメチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−ｔ−ブチルジメチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−ｔ−ブチルジメチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−ｔ−ブチルジメチルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリメチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリイソプロピルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリエチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリイソプロピルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−ｔ−ブチルジメチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリイソプロピルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリイソプロピルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリメチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−トリイソプロピルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリエチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−トリイソプロピルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−ｔ−ブチルジメチルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−トリイソプロピルシリルアリルアミン、Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−トリイソプロピルシリルアリルアミン等が例示される。
【００１５】
また、上記一般式（１）で示される化合物の製造方法は、例えば、下記一般式（２）
【化８】
（式中、Ｒ1、ｂは上記と同様である。）
で示されるアミン化合物と、下記一般式（３）
【化９】
（式中、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ7は上記と同様である。）
で示される化合物を反応させる方法が挙げられる。
【００１６】
上記一般式（２）におけるＲ1、ｂは上述したものが例示でき、上記一般式（２）で示される化合物の具体例としては、アリルアミン、Ｎ−メチルアリルアミン、Ｎ−エチルアリルアミン、Ｎ−トリメチルシリルアリルアミン、Ｎ−トリエチルシリルアリルアミン、Ｎ−ｔ−ブチルジメチルシリルアリルアミン、Ｎ−トリイソプロピルシリルアリルアミン等が例示される。
【００１７】
また、上記一般式（３）におけるＲ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ7は上述したものが例示でき、上記一般式（３）で示される化合物の具体例としては、トリメチルシリルアクリレート、トリエチルシリルアクリレート、ｔ−ブチルジメチルシリルアクリレート、トリイソプロピルシリルアクリレート、トリメチルシリルメタクリレート、トリエチルシリルメタクリレート、ｔ−ブチルジメチルシリルメタクリレート、トリイソプロピルシリルメタクリレート等が例示される。
【００１８】
上記一般式（２）で示されるアミン化合物と、上記一般式（３）で示される化合物との配合比は特に限定されないが、反応性、生産性の点から、一般式（２）で示されるアミン化合物１モルに対し、一般式（３）で示される化合物を、０．２〜５モル、特に０．５〜２モルの範囲が好ましい。
【００１９】
上記反応の反応温度は特に限定されないが、０〜２００℃、特に２０〜１５０℃が好ましく、反応時間も特に限定されないが、１〜４０時間、特に１〜２０時間が好ましい。
【００２０】
なお、上記反応は無溶媒でも進行するが、溶媒を用いることもできる。用いられる溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、イソオクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒；アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等の非プロトン性極性溶媒；ジクロロメタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素系溶媒；メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール系溶媒等が例示される。これらの溶媒は１種を単独で使用してもよく、あるいは２種以上を混合して使用してもよい。
【００２１】
以上のようにして得られた反応液からは、蒸留等の通常の方法で目的物を回収することができる。
【００２２】
また、上記一般式（１）で示される化合物のＲ1が炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基又はＲ8Ｒ9Ｒ10Ｓｉ−（式中、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基である。）で示されるトリオルガノシリル基の場合、下記一般式（４）
【化１０】
（式中、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、ａ、ｂは上記と同様である。）
で示される化合物をＲ1−基を有するアルキル化剤を用いてアルキル化又はＲ8Ｒ9Ｒ10Ｓｉ−基を有するシリル化剤を用いてシリル化する方法が挙げられる。
【００２３】
上記アルキル化反応で用いられるＲ1−基を有するアルキル化剤としては、クロロメタン、クロロエタン、ブロモメタン、ブロモエタン、ヨードメタン、ヨードエタン等のＲ1Ｘ（Ｒ1は上記の通りであり、Ｘは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子である。）で表されるハロゲン化炭化水素化合物；炭酸ジメチル、炭酸ジエチル等の（Ｒ1Ｏ）2Ｃ＝Ｏ（Ｒ1は上記の通りである。）で表される炭酸エステル化合物；硫酸ジメチル、硫酸ジエチル等の（Ｒ1Ｏ）2ＳＯ2（Ｒ1は上記の通りである。）で表される硫酸エステル化合物が例示される。
【００２４】
上記シリル化反応で用いられるＲ8Ｒ9Ｒ10Ｓｉ−基を有するシリル化剤としては、トリメチルクロロシラン、トリメチルブロモシラン、トリメチルヨードシラン、トリエチルクロロシラン、ｔ−ブチルジメチルクロロシラン、トリイソプロピルクロロシラン等のＲ8Ｒ9Ｒ10ＳｉＸ（Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は上記の通りであり、Ｘは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子である。）で表されるトリオルガノハロシラン化合物；ヘキサメチルジシラザン、ヘキサエチルジシラザン等の（Ｒ8Ｒ9Ｒ10Ｓｉ）2ＮＨ（Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は上記の通りである。）で表されるシラザン化合物；ビス（トリメチルシリル）アセトアミド、ビス（トリエチルシリル）アセトアミド、ビス（トリメチルシリル）トリフルオロアセトアミド等のＣＲ3Ｃ（−ＯＳｉＲ8Ｒ9Ｒ10）＝ＮＳｉＲ8Ｒ9Ｒ10（Ｒは水素原子又はフッ素原子であり、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は上記の通りである。）で表されるシリルアミド化合物；メタンスルホン酸トリメチルシリル、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル等のＣＲ3ＳＯ3ＳｉＲ8Ｒ9Ｒ10（Ｒは水素原子又はフッ素原子であり、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は上記の通りである。）で表されるスルホン酸シリルエステル化合物が例示される。
【００２５】
上記一般式（４）で示される化合物と、アルキル化剤又はシリル化剤との配合比は特に限定されないが、反応性、生産性の点から、一般式（４）で示される化合物１モルに対し、アルキル化剤又はシリル化剤を、アルキル基又はシリル基のモル数で１〜４モル、特に１〜２モルの範囲が好ましい。
【００２６】
上記反応の反応温度は特に限定されないが、０〜２００℃、特に２０〜１５０℃が好ましく、反応時間も特に限定されないが、１〜４０時間、特に１〜２０時間が好ましい。
【００２７】
上記反応は、無触媒でも進行するが、触媒を用いることもできる。用いられる触媒としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリフェニルアミン等の３級アミン類、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムブロミド等の４級アンモニウム塩や、硫酸、スルホン酸といった酸とその誘導体やその無機塩等の塩基性又は酸性化合物が例示される。
【００２８】
なお、上記反応は無溶媒でも進行するが、溶媒を用いることもできる。用いられる溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、イソオクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒；アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等の非プロトン性極性溶媒；ジクロロメタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素系溶媒；メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール系溶媒等が例示される。これらの溶媒は１種を単独で使用してもよく、あるいは２種以上を混合して使用してもよい。
【００２９】
以上のようにして得られた反応液からは、蒸留等の通常の方法で目的物を回収することができる。
【００３０】
また、上記一般式（１）で示される化合物は、下記一般式（５）
【化１１】
（式中、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7、ａは上記と同様であり、Ｘ1は塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子である。）
で示される化合物と、下記一般式（２）
【化１２】
（式中、Ｒ1、ｂは上記と同様である。）
で示されるアミン化合物を脱ハロゲン化水素反応させることにより製造することもできる。
【００３１】
上記一般式（５）で示される化合物と、上記一般式（２）で示されるアミン化合物との配合比は特に限定されないが、反応性、生産性の点から、一般式（５）で示される化合物１モルに対し、上記一般式（２）で示されるアミン化合物を、０．５〜４モル、特に１〜２モルの範囲が好ましい。
【００３２】
上記反応の反応温度は特に限定されないが、０〜２００℃、特に２０〜１５０℃が好ましく、反応時間も特に限定されないが、１〜４０時間、特に１〜２０時間が好ましい。
なお、溶媒の使用等については上記と同様である。
【実施例】
【００３３】
以下、実施例及び応用例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。
【００３４】
［実施例１］Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル）エチルアリルアミンの合成
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、アリルアミン４５．７ｇ（０．８モル）を仕込み、５０℃に加熱した。内温が安定した後、トリイソプロピルシリルアクリレート１８２．７ｇ（０．８モル）を１時間かけて滴下し、更にその温度で６時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点１２８−１２９℃／０．４ｋＰａの留分１８５．４ｇを得た。
【００３５】
得られた留分の質量スペクトル、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルを測定した。
質量スペクトル
ｍ／ｚ ２８５，２４２，１７３，７０，５６，４１
1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重ベンゼン溶媒）
図１にチャートで示す。
ＩＲスペクトル
図２にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は、Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル）エチルアリルアミンであることが確認された。
【００３６】
［実施例２］Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミンの合成
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、実施例１で得られたＮ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル）エチルアリルアミン１４２．７ｇ（０．５モル）、トリエチルアミン５５．７ｇ（０．５５モル）、トルエン１５０ｍｌを仕込み、５０℃に加熱した。内温が安定した後、トリメチルクロロシラン５７．０ｇ（０．５３モル）を１時間かけて滴下し、更にその温度で４時間撹拌した。生成した塩を濾過により除去した後、濾液を蒸留し、沸点１３５−１３６℃／０．４ｋＰａの留分１４０．２ｇを得た。
【００３７】
得られた留分の質量スペクトル、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルを測定した。
質量スペクトル
ｍ／ｚ ３５７，３４２，３０１，１４２，１２８，７３
1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重ベンゼン溶媒）
図３にチャートで示す。
ＩＲスペクトル
図４にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は、Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミンであることが確認された。
【００３８】
［実施例３］Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル−２−メチル）エチルアリルアミンの合成
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、アリルアミン４５．７ｇ（０．８モル）を仕込み、７０℃に加熱した。内温が安定した後、トリイソプロピルシリルメタクリレート１９３．９ｇ（０．８モル）を１時間かけて滴下し、更にその温度で８時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点１３４℃／０．４ｋＰａの留分１５４．１ｇを得た。
【００３９】
得られた留分の質量スペクトル、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルを測定した。
質量スペクトル
ｍ／ｚ ２９９，２５６，１８７，１５７，７０，４１
1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重ベンゼン溶媒）
図５にチャートで示す。
ＩＲスペクトル
図６にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は、Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル−２−メチル）エチルアリルアミンであることが確認された。
【００４０】
［実施例４］Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミンの合成
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、実施例３で得られたＮ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル−２−メチル）エチルアリルアミン６２．７ｇ（０．２モル）、トリエチルアミン２２．３ｇ（０．２２モル）、トルエン６０ｍｌを仕込み、７０℃に加熱した。内温が安定した後、トリメチルクロロシラン２２．８ｇ（０．２１モル）を１時間かけて滴下し、更にその温度で８時間撹拌した。生成した塩を濾過により除去した後、濾液を蒸留し、沸点１４８−１４９℃／０．４ｋＰａの留分５６．１ｇを得た。
【００４１】
得られた留分の質量スペクトル、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルを測定した。
質量スペクトル
ｍ／ｚ ３７１，３０３，１４２，１２８，１１５，７３
1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重ベンゼン溶媒）
図７にチャートで示す。
ＩＲスペクトル
図８にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は、Ｎ−（２−トリイソプロピルシロキシカルボニル−２−メチル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミンであることが確認された。
【００４２】
［実施例５］Ｎ−（２−トリメチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミンの合成
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、Ｎ−トリメチルシリルアリルアミン１０３．４ｇ（０．８モル）を仕込み、９０℃に加熱した。内温が安定した後、トリメチルシリルアクリレート１１５．４ｇ（０．８モル）を１時間かけて滴下し、更にその温度で１５時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点８２−８３℃／０．４ｋＰａの留分４２．５ｇを得た。
【００４３】
得られた留分の質量スペクトル、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルを測定した。
質量スペクトル
ｍ／ｚ ２７３，２１６，１４７，１４２，１２８，７３
1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重ベンゼン溶媒）
図９にチャートで示す。
ＩＲスペクトル
図１０にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は、Ｎ−（２−トリメチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミンであることが確認された。
【００４４】
［応用例１］Ｎ−（２−トリメチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリメチルシリル−３−アミノプロピルトリメトキシシランの合成
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、実施例５で得られたＮ−（２−トリメチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミン２７．４ｇ（０．１モル）、白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液（白金含量３質量％）０．１３ｇを仕込み、７０℃に加熱した。内温が安定した後、トリメトキシシラン１２．２ｇ（０．１モル）を１時間かけて滴下し、更にその温度で５時間撹拌した。反応液を蒸留し、Ｎ−（２−トリメチルシロキシカルボニル）エチル−Ｎ−トリメチルシリル−３−アミノプロピルトリメトキシシランを沸点１３９−１４０℃／０．４ｋＰａの留分として２４．９ｇ得た（収率６３％）。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）
【化１】
［式中、Ｒ1は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基又はＲ8Ｒ9Ｒ10Ｓｉ−（式中、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基である。）で示されるトリオルガノシリル基であり、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基であり、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基であり、ａは０又は１、ｂは１〜１０の整数である。］
で示される化合物。
【請求項２】
下記一般式（２）
【化２】
［式中、Ｒ1は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基又はＲ8Ｒ9Ｒ10Ｓｉ−（式中、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基である。）で示されるトリオルガノシリル基であり、ｂは１〜１０の整数である。］
で示されるアミン化合物と、下記一般式（３）
【化３】
（式中、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基であり、Ｒ5及びＲ7は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基である。）
で示される化合物を反応させることを特徴とする請求項１記載の化合物の製造方法。
【請求項３】
下記一般式（４）
【化４】
（式中、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基であり、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基であり、ａは０又は１、ｂは１〜１０の整数である。）
で示される化合物をＲ1−基（Ｒ1は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基である。）を有するアルキル化剤を用いてアルキル化又はＲ8Ｒ9Ｒ10Ｓｉ−基（Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基である。）を有するシリル化剤を用いてシリル化することを特徴とする請求項１記載の化合物の製造方法。
【請求項４】
下記一般式（５）
【化５】
（式中、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基であり、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基であり、ａは０又は１、Ｘ1は塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子である。）
で示される化合物と、下記一般式（２）
【化６】
［式中、Ｒ1は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基又はＲ8Ｒ9Ｒ10Ｓｉ−（式中、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基である。）で示されるトリオルガノシリル基であり、ｂは１〜１０の整数である。］
で示されるアミン化合物を脱ハロゲン化水素反応させることを特徴とする請求項１記載の化合物の製造方法。
【請求項１】
下記一般式（１）
【化１】
［式中、Ｒ1は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基又はＲ8Ｒ9Ｒ10Ｓｉ−（式中、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基である。）で示されるトリオルガノシリル基であり、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基であり、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基であり、ａは０又は１、ｂは１〜１０の整数である。］
で示される化合物。
【請求項２】
下記一般式（２）
【化２】
［式中、Ｒ1は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基又はＲ8Ｒ9Ｒ10Ｓｉ−（式中、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基である。）で示されるトリオルガノシリル基であり、ｂは１〜１０の整数である。］
で示されるアミン化合物と、下記一般式（３）
【化３】
（式中、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基であり、Ｒ5及びＲ7は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基である。）
で示される化合物を反応させることを特徴とする請求項１記載の化合物の製造方法。
【請求項３】
下記一般式（４）
【化４】
（式中、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基であり、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基であり、ａは０又は１、ｂは１〜１０の整数である。）
で示される化合物をＲ1−基（Ｒ1は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基である。）を有するアルキル化剤を用いてアルキル化又はＲ8Ｒ9Ｒ10Ｓｉ−基（Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基である。）を有するシリル化剤を用いてシリル化することを特徴とする請求項１記載の化合物の製造方法。
【請求項４】
下記一般式（５）
【化５】
（式中、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基であり、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基であり、ａは０又は１、Ｘ1は塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子である。）
で示される化合物と、下記一般式（２）
【化６】
［式中、Ｒ1は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基又はＲ8Ｒ9Ｒ10Ｓｉ−（式中、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基である。）で示されるトリオルガノシリル基であり、ｂは１〜１０の整数である。］
で示されるアミン化合物を脱ハロゲン化水素反応させることを特徴とする請求項１記載の化合物の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【公開番号】特開２０１２−１４４４４５（Ｐ２０１２−１４４４４５Ａ）
【公開日】平成２４年８月２日（２０１２．８．２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１６４５（Ｐ２０１１−１６４５）
【出願日】平成２３年１月７日（２０１１．１．７）
【出願人】（０００００２０６０）信越化学工業株式会社 (3,361)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年８月２日（２０１２．８．２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年１月７日（２０１１．１．７）
【出願人】（０００００２０６０）信越化学工業株式会社 (3,361)
【Ｆターム（参考）】
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