【課題】内部圧縮圧力を増強した炭窒化シリコン及び炭窒化シリコン薄膜のプラズマCVD法を提供すること。
【解決手段】本発明は、プラズマ化学気相成長（PECVD）窒化シリコン（SiN）及び炭窒化シリコン（SiCN）薄膜における内部圧縮応力の増強方法であって、アミノ・ビニルシラン・ベースの前駆体からの膜を堆積するステップを含んでなる前記方法である。より詳しく述べると、本発明は、以下の式：
［RR¹N］_xSiR³_y（R²）_z
｛式中、x＋y＋z＝4、x＝1〜3、y＝0〜2、及びz＝1〜3であり；R、R¹、及びR³が、水素、C₁〜C₁₀アルカン、アルケン、C₄〜C₁₂芳香族であり得；各R²が、ビニル、アリル、又はビニル含有官能基である。｝から選択されるアミノ・ビニルシラン・ベースの前駆体を使用する。 （もっと読む）

【解決手段】一般式（１）


［Ｒ¹は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基又はＲ⁸Ｒ⁹Ｒ¹⁰Ｓｉ−（Ｒ⁸、Ｒ⁹及びＲ¹⁰は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基である。）で示されるトリオルガノシリル基であり、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴は炭素数１〜２０の非置換又は置換の１価炭化水素基であり、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換もしくは置換の１価炭化水素基であり、ａは０又は１、ｂは１〜１０の整数である。］
で示される化合物。
【効果】本発明により提供されるカルボン酸がシリル基で保護されたアミノ酸化合物に不飽和結合を導入した化合物は、高分子やシラン化合物、シロキサン化合物を容易にアミノ酸変性できるため、高分子やシラン化合物、シロキサン化合物をアミノ酸変性できる変性剤として有用である。 （もっと読む）

【課題】高収率及び高選択的に、オレフィンと有機ハイドロパーオキサイドからオキシラン化合物を製造することができるチタン含有珪素酸化物触媒の製造方法及びオキシラン化合物の製造方法を提供すること。
【解決手段】下記第一工程および下記第二工程を有するチタン含有珪素酸化物触媒の製造方法。
第一工程：トリアルキルシラン化合物と酸とを含む溶液中で、チタン含有ゼオライト層状前駆体を含む固体を処理することによりトリアルキルシリル化を行い、トリアルキルシリル化された固体を得る工程
第二工程：第一工程で得られたトリアルキルシリル化された固体を、焼成に付すること無くシリル化剤で処理することによりチタン含有珪素酸化物触媒を得る工程 （もっと読む）

【課題】温和な条件で架橋メタロセンを製造する方法を提供する。
【解決手段】ＭＷ_ｌ＋２Ｙ_ｍで表される金属錯体とＨＬ^１−Ａ−Ｌ^２Ｈで表わされる架橋ビスシクロペンタジエン型化合物との反応において、イオン性化合物を添加する工程を含む下式（Ｉ）で表わされる架橋メタロセンの製造方法。


［上記式中、Ｍは元素の周期律表の３族、４族、５族、ランタニド族またはアクチニド族から選択される遷移金属原子を表し、Ｌ^１およびＬ^２は、同一または相異なり、置換基を有していてもよいシクロペンタジエニル基を表し、Ａは、Ｌ^１およびＬ^２を連結する架橋基を表し、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０のハイドロカルビル基等を有していてもよいアミノ基等を表し、Ｙは、中性のルイス塩基を表し、ｍは、０〜４の整数を表し、ｌは１〜４の整数を表す。ＷはＸと同一であってもよく、水素原子、ハロゲン原子等を表す。］ （もっと読む）

アニオン重合における官能性開始剤として使用するメタル化アミノシラン化合物、及び該メタル化アミノシラン化合物を使用して少なくとも１種のアニオン重合可能なモノマーのアニオン重合を開始するアミノシラン官能化ポリマーの製造方法である。メタル化アミノシラン化合物の好ましい使用は、アミノシラン官能化ポリマーを含むタイヤ用ゴム組成物をもたらす。 （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、簡便な方法にて、高収率でストロンチウムアミド化合物の製造方法を提供することにある。
【解決手段】 本発明の課題は、ジハロゲノストロンチウムを還元して得られる金属ストロンチウム又はその溶液とアミノ化合物をと反応させることを特徴とするストロンチウムアミド化合物の製造方法によって解決される。 （もっと読む）

本発明による実施形態は、５／６−置換ノルボルネン型モノマーの実質的に純粋なジアステレオマーの形成を提供し、さらに、かかるジアステレオマーを重合して、付加またはＲＯＭＰポリマーを形成することを包含し、そのジアステレオマーの所望のエキソ−／エンド−比がその重合に提供され、得られるポリマーが所望の物理的性質または化学的性質を有するように、エンド−／エキソ−構造反復単位の所望の比を提供するようにかかる比が設計される。 （もっと読む）

【課題】表面処理剤として有用である放射線重合性官能基を含有するオルガノシリルアミンの製造方法及び放射線重合性官能基を含有するオルガノシリルアミンを提供する。
【解決手段】ハロアルキル基を含有するオルガノシリルアミンと、放射線重合性官能基を有する有機酸のアルカリ金属塩および放射線重合性官能基を有する有機酸のアルカリ土類金属塩からなる群より選択される少なくとも１種の放射線重合性官能基を有する塩とを50〜150℃において反応させることを含む放射線重合性官能基を含有するオルガノシリルアミンの製造方法、ならびに、特定のシラザン単位で構成された放射線重合性官能基を含有するオルガノシリルアミン。 （もっと読む）

少なくとも１つのオルト−金属化された芳香族配位子基を含有する多価ヘテロアリールドナー配位子の遷移金属錯体と、エチレン性官能基又はポリ（エチレン）性官能基を有する粒子化された有機固体又は無機固体との反応生成物を含む担持された金属錯体、その調製方法、及び、付加重合触媒としてのその使用。 （もっと読む）

【課題】合成及び単離が容易であり、重合活性に優れ、しかも優れた特性を有するオレフィン重合体が得られる新規な触媒を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）で示されるカチオン錯体。
【化１】


〔但し、一般式（Ｉ）中、Ｌｎは、周期表第３族遷移金属原子である。Ｘは、ハロゲン原子である。Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数１〜１２の炭化水素基であり、これらの炭化水素基は、その少なくとも１つの炭素原子を窒素、リン、酸素、硫黄又はケイ素原子で置き換えたものであってもよい。Ｚは溶媒分子である。ｐは１又は２の整数を示す。〕 （もっと読む）

【課題】塩基性条件や求核性条件で安定でない置換基を有するイミドやポリイミドを高収率で製造する方法を提供する。
【解決手段】ビス（トリアルキルシリル）アミノ化合物とジカルボン酸無水物またはテトラカルボン酸二無水物とを、プロトン性の化合物または水の存在下に反応させ、アミド酸トリオルガノシリルエステルを合成することができる。さらに該シリルエステルをイミド化させることにより目的のイミドあるいはポリイミドを製造することができる。例えば下記のような反応を行うことができる。
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本発明は、新規の単核遷移金属化合物、二核遷移金属化合物、新規の有機アミン系またはリン系化合物およびそれらの製造方法を提供する。本発明に係る単核遷移金属化合物は、フェニレンブリッジによってシクロペンタジエニル基とアミド基またはリン基が架橋された構造を有し、本発明に係る二核遷移金属化合物は、フェニレンブリッジによってシクロペンタジエニル基とアミド基またはリン基が架橋された構造を有する遷移金属化合物の２つが前記フェニレンブリッジに位置する架橋基によって連結された構造を有する。本発明によれば、前記単核遷移金属化合物、二核遷移金属化合物、および有機アミン系またはリン系化合物は、鈴木カップリング（Ｓｕｚｕｋｉ−Ｃｏｕｐｌｉｎｇ）反応法によって簡単で高収率で製造することができる。 （もっと読む）

【課題】ＣＶＤ法、ＡＬＤ法の原料として熱安定性と気化特性を有する化合物、その製造方法、その化合物を用いた薄膜及び形成方法を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される化合物を原料とした金属含有薄膜を形成する。
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本発明は、連続的シラザン分解法、特に非酸化物系の無機セラミックのための分子状の前駆体を製造するための連続的方法に関する。 （もっと読む）