光波を導くための装置および方法
光を導くための電気光学材料の電気光学コア層（１１２）と、その電気光学コア層（１１２）に近接した少なくとも１つの第１の電極層（１１４；１１４―１）を有する電極配置であって、前記電極配置は、その電極配置によって生成された電界によって電気光学コア層（１１２）の領域（１１６）に電気光学効果を起こさせるように構成され、その結果、光の伝播が、その起こされた電気光学効果の領域において操作される、電極配置とを含む、を含んでいる層スタック（１１０；２１０）を用いて可変的に光波を導くための構想が提供される。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般に、光通信デバイス、特に、可変的に設定可能な導波型光デバイス（ＶＯＷＤ）に関する。
【背景技術】
【０００２】
遠距離に関する光遠隔通信ネットワークは、光周波数での電磁放射、すなわち光を送り、分割し、相互接続し、変調し、そして、増幅するための多種多様なデバイスを含む。コネクタ、スイッチ、電力減衰器、ビーム方向変換器（ｂｅｅｍ ｓｔｅｅｒｅｒ）、方向性結合器および強度変調器などの平面デバイスは、符号化された光波のための基本的な輸送手段として、パッシブおよび／またはアクティブ光導波路を組み込む。
【０００３】
【０００４】
導波路構造は、内部全反射によって光波を導く。最も一般的な光導波路は、光ファイバである。しかし、他のタイプの光導波路が使用されることもあり、例えば、フォトニック結晶ファイバを含み、それはいくつかの異なった機構のいずれかによって波を導く。異なるタイプの光導波路の共通の原理は、（後になってバッファまたはクラッド領域と呼ばれる）低い屈折率の領域に埋められるときに、光導波特性を得る（後になってコア層または領域と呼ばれる）特定の材料領域において、より高い屈折率ｎを誘起することである。屈折率差および異なる屈折率を有する領域の形状が、光導波型の伝搬特性を決定する。電気光学物質において誘起される導波路構造に関して、屈折率差は、電気光学効果によって局所的に印加電界を変えることによって誘発される。
【０００５】
電気光学効果は、光の周波数と比較してゆっくり変化する電界に応答する材料の光学特性の変化である。専門用語の電気光学効果（ｅｌｅｃｔｒｏ−ｏｐｔｉｃ ｅｆｆｅｃｔ）は多くの異なった現象を含む。そして、それは吸収の変化および／または屈折率の変化に細別されることができる。電気光学光導波路を設計することに関して、屈折率の変化は特に興味深い。屈折率のこの変化は、いわゆるポッケルス効果（Ｐｏｃｋｅｌｓ ｅｆｆｅｃｔ）（または線形電気光学効果）またはいわゆるカー効果（Ｋｅｒｒ ｅｆｆｅｃｔ）（または２次電気光学効果）に起因しうる。ポッケルス効果は、印加電界と線形に比例した屈折率の変化を示す。カー効果は、電界の二乗に比例した屈折率の変化を示す。特定の結晶性固体だけがポッケルス効果を示すのに対して、すべての材料は、マグニチュードを変化させることによって、カー効果を示す。しかし、それは通常、ポッケルス効果より非常に弱い。
【０００６】
電気光学導波路は、例えばニオブ酸リチウム、チタン酸バリウム、ガリウム砒素、さまざまな酸化物およびセラミックなどの無機および／または有機材料から作られることができる。あるいは、電気光学ポリマーベースの導波路デバイスは、それらの小さい速度ミスマッチ、低い光損失および高速での演算の可能性を考慮しているコスト効率のよい高性能なデバイスを供給することができる。更に、当業者に知られている有機および／または無機材料のさまざまな配合物および複合物があり、それらは現存のデバイスにおいて使用される、または、依然として導波路デバイスの調査にある。
【０００７】
通常、導波路構造は、フォトリソグラフィー（光化学的構造形成）、熱エンボス加工による機械的構造形成、レプリケーションおよび他のインプリント方法、分子、原子またはイオンの注入および拡散、ＵＶ反応方法などのパターニング方法を有する相互作用のコーティング方法などの方法によって製作されるが、ポリマーの屈折率変化は、照射時間および強度を変化させることによって誘発されうる。
【０００８】
従来の導波路デバイスおよびそれらの製作のための方法の欠点は、一旦導波管材が構築されると、それらの形状をもはや変えることができないということである。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
したがって、導波管形状を補償しておよび／または能動的に調整することが、本発明の目的である。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
この目的は、請求項１に記載の導波型光デバイスおよび請求項１５に記載の光波を導くための方法によって解決される。
【００１１】
導波管形状または光学経路が、平面配置された電気光学的にアクティブな材料の層スタックと、その電気光学的にアクティブな層スタックに近接した少なくとも１つの電極層を有する電極配置を使用することによって変化することができることが本発明の発見である。自由にプログラミングするまたは電極配置の個々の電極を選択することによって、さまざまな導波路構造、または対応する電極経路を選択することによる光学経路を生成することが可能である。
【００１２】
本発明の実施形態は、導波路デバイスが、層スタックを含み、その層スタックは、光波を導くための電気光学材料の電気光学コア層、およびその電気光学コア層に近接した少なくとも１つの第１の電極層を有する電極配置を含み、その電極配置は、その電極配置によって生成された電界によって電気光学コア層の領域に電気光学効果を起こさせるように構成され、その結果、光の伝播がその起こされた電気光学効果の領域において操作されることを特徴とする、導波型光デバイスを供給する。
【００１３】
本発明の実施形態によれば、電気光学コア層の電気光学材料は、電気光学コア層の領域の電気光学効果を起こさせることが前記領域の電気光学材料の屈折率を変化させることを含むように、電極配置の電極によって生成された電界に応答して、その屈折率を変化させるように構成される。
【００１４】
電気光学コア層は、ポリマー、コポリマー、高分子マトリクスで混合された発色団などのホスト―ゲスト・システム、発色団、側鎖ポリマーまたは有機的に修正されたゾル―ゲル、液晶、ポリマーマトリクスで分散された液晶、オプトセラミック、シリコン系ポリマー、非線形結晶（ニオブ酸リチウム）、ガリウム砒素、ＴｉＯ2（二酸化チタン）などの無機材料、ＰＬＺＴ（ランタンジルコニウム酸チタン酸鉛）、ＰＭＮＰＴ（ニオブ酸鉛マグネシウム‐チタン酸鉛）などのセラミック、または有機／無機／セラミックの混合物またはセラミック複合材の分類からの電気光学的にアクティブな材料の層である。バッファまたはクラッド層は、パッシブ材料または電気光学材料でありえる。材料のこれらの種類は、当業者に知られている。
【００１５】
実施形態によれば、第１の電極層は、個々にアドレス付けされた第１の電極によって生成された電界によって、電気光学コア層の所望の領域において電気光学効果を選択的に起こさせるために、平面配置され個々にアドレス可能な複数の第１の電極を含む。実施形態によれば、その複数の電極は、２つ以上の電極、好ましくは１０以上の電極、さらにより好ましくは、１００以上の電極として理解されたい。
【００１６】
いくつかの実施形態によれば、電極配置は、近接に、および、第１の電極層と比較して、電気光学コア層の反対側に配置された、電気光学コア層が第１および第２の電極層の間に配置されるように少なくとも１つの第２の電極を含む第２の電極層を含む。電気光学効果は、第１の電極層の隣接する個々にアドレス可能な第１の電極に電位差を印加することによって、または、第１の電極層および第２の電極層の対向する個々にアドレス可能な電極間に電位差を印加することによって、選択的に起こされる。
【００１７】
内部全反射によって電気光学コア層に光を閉じ込めるために、いくつかの実施形態によれば、層スタックは、電気光学コア層と第１の電極層との間に配置される少なくとも１つの第１のバッファまたはクラッド層を含む。このことにより、第１のクラッド層は、電気光学コア層の屈折率に等しい、または、それより低い屈折率を有する材料から形成される。
【００１８】
更なる実施形態によれば、層スタックは、電気光学コア層は、第１および第２のクラッド層の間に配置されるように、第１のクラッド層と比較して電気光学コア層の反対側に配置された第２のバッファまたはクラッド層を含む。第１の電極層と比較して電気光学コア層の反対側に配置された第２の電極層がある場合、第２のバッファまたはクラッド層は、電気光学コア層および第２の電極層の間に配置される。また、第２のクラッド層は、電気光学コア層の屈折率に等しい、または、それより低い屈折率を有する材料から形成される。
【００１９】
それ故、本発明の実施形態を使用することによって、クラッドの屈折率が、全反射によってコア層の光を閉じ込めるためのコア層の屈折率より低いまたはそれと同じであることを特徴とし、電気光学材料のコア層およびパッシブまたは電気光学クラッド層を有する多層システムを含む、可変であるまたは可変的に設定可能な平面電気光学導波路デバイスを設計することは、可能である。電気光学効果は、それ全体の対応する電界を印加すること、すなわち、多層システムの近接に位置付けられた電極層の電極に、対応する電位を印加することによって、コア層の領域において起こさせる。複数の密接に集められ、同一に成形された個々の平坦な副電極（サイズにおいて微視的）が形成されるように、電極層（サイズにおいて巨視的）のうちの少なくとも１つがパターニングされる。このことにより、副電極は、１次元または２次元配列に配置され、同じ平面に位置づけられる。微視的な副電極はまた、この明細書の続きにおいて、「ピクセル化された平滑面」上の「ピクセル電極」とも呼ばれる。電極層のこのピクセル化された平滑面は、例えば、シリコンまたはガラスでできている基板に位置付けられうる。ピクセル電極は、いかなる周知の手段によっても基板を介して別々に接触されうる。その結果、それらは個々にアドレス可能である。これは、アクティブマトリクス、例えばＳＲＡＭのようなアーキテクチャに、または、パッシブに、すなわち、ドライバ電子機器に対してピクセル電極ごとに１つの電気接続においてピクセル電極を集積することによって、達成することができる。ピクセル電極の幾何的形状および／またはそれら間の距離は、最大表面被覆率を確実にして、いかなる導波路デバイスまたはさまざまな導波路デバイスのいかなる組み合わせの形状も最も良くフィットさせるように、好ましくは選択される。
【００２０】
このように、適当な電圧で特定のピクセル電極の操作によって、電気光学コアによる光伝搬性は、電気光学導波路デバイスの電気光学コア層に沿って、さまざまな対応する経路上で、導かれうる、分割されうる、変調されうる、または、増幅されうる。実施形態による多層系は、電極層間に挟まれていてもよいが、電極層のうちの少なくとも１つはピクセル化された電極層である。更なる実施形態によれば、他の電極層は、なくてもよく、または、それは、例えばＡｌ、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ））、導電性高分子材料などの導体材料でできている連続層でできていてもよく、または、個々にアドレス可能なピクセル電極において、第１の電極層と同様に、パターニングされてもよい。
【００２１】
本発明の実施形態は、プリズム、レンズ、格子などと同様に、例えば、スプリッタ、ビーム方向変換器、可変同調共振器、フィルタ、スイッチ、ビーム偏向器、偏光感受型導波路デバイス、可変光導波路減衰器または他のいかなる平面電気光学導波路デバイスとしても機能するために設計されうる可変電気光学導波路デバイスを含む。いずれにせよ、本発明の導波路構造の特別な仕様は、対応して電極配置の電極をアドレス付けすることによって、連続的に調整されうる。
【００２２】
本発明の好ましい実施形態は、添付図面を参照して、以下で詳述される。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１ａ】図１ａは、本発明の実施形態の導波型光デバイス構想を示す。
【図１ｂ】図１ｂは、本発明の実施形態の導波型光デバイス構想を示す。
【図２ａ】図２ａは、本発明の他の実施形態の導波型光デバイスの断面図を示す。
【図２ｂ】図２ｂは、本発明の一実施形態のパターニングされた電極層の俯瞰図部分を示す。
【図２ｃ】図２ｃは、図２ｂの電極層の断面図を示す。
【図３】図３ａは、ピクセル電極の幾何形状が正方形である、同一に成形されたピクセル電極の配列にパターニングされた平面電極配置の平面図部分を示し、図３ｂは、ピクセル電極の幾何形状が六角形である、同一に成形されたピクセル電極の配列にパターニングされた平面電極配置の平面図部分を示し、図３ｃは、ピクセル電極の幾何形状が八角形である、同一に成形されたピクセル電極の配列にパターニングされた平面電極配置の平面図部分を示し、図３ｄは、ピクセル電極の幾何形状が円である、同一に成形されたピクセル電極の配列にパターニングされた平面電極配置の平面図部分を示す。
【図４ａ】図４ａは、２つの平行電極層が互いに重なっている、同一に成形されたピクセル電極の配列にパターニングされた平面電極配置の平面図部分を示す。
【図４ｂ】図４ｂは、３つの平行電極層が互いに重なっている、同一に成形されたピクセル電極の配列にパターニングされた平面電極配置の平面図部分を示す。
【図５】図５は、本発明の一実施形態の、単一の電極層、クラッド層、および電気光学コア層を有する可変電気光学導波路デバイスの断面図を示す。
【図６】図６は、基板上に平面配置されたピクセル電極を含んでいる電極層を有する可変導波型光デバイスの断面図を示す。
【図７】図７は、基板上のピクセル化された下部の電極平面構造、クラッド層、電気光学コア層、および基板上のピクセル化された上部の電極平面構造を有する可変導波型光デバイスの断面図を示す。
【図８ａ】図８ａは、電気光学コア層の下に２つの横にシフトされた電極層を有する導波型光デバイスの断面図を示す。
【図８ｂ】図８ｂは、電気光学コア層の下および上に、それぞれ、２つの横にシフトされた電極層を有する導波型光デバイスを示す。
【図９】図９は、本発明の一実施形態の、光学強度変化の変調を次々にもたらす電界を変調するための例として、可変電圧でピクセル電極セットの配列を示す。
【図１０】図１０は、本発明の一実施形態の、導波型光デバイスを用いた光スイッチの実現の構想を示す。
【図１１ａ】図１１ａは、予め設定された電極を有する導波型光デバイスの組み合わせを示す。
【図１１ｂ】図１１ｂは、予め設定された電極を有する導波型光デバイスの組み合わせを示す。
【図１２】図１２ａ〜図１２ｃは、本発明の一実施形態の光導波路を有する小さいたわみ半径を得る構想を示す。
【図１３】図１３は、本発明の一実施形態の導波型光デバイスを得るための製作手順フローを示す。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
【００２５】
実際に、それが屈折率の変化を生じさせるので、電気光学効果は特定の材料のアクティブ光導波路を誘発するために使用される。アクティブ光導波路は、多数のアクティブ平面デバイスにおける光輸送のための基本構造である。本発明の実施形態は、複数の現存の平面導波路デバイスに取って代わることができる電気光学アクティブ導波路構造デバイスの実現に関する。
【００２６】
本発明の一実施形態の導波型光デバイスは、図１ａ、図１ｂに図式的に示される。
【００２７】
図１ａは、層スタック１１０を含んでいる導波型光デバイス１００を示す。ここで、層スタックは、光を導くための電気光学材料の電気光学コア層１１２を含む。更に、層スタック１１０は、電気光学コア層１１２に近接した少なくとも１つの電極層１１４―１に電極配置を含む。ここで、電極配置は、電極配置によって生成された電界１１８によって電気光学コア層１１２の領域１１６において電気光学効果を起こさせるように構成され、その結果、電気光学材料の屈折率は、起こされた電気光学効果の領域１１６において操作される。
【００２８】
図１ｂに示された更なる実施形態において、層スタックは、電気光学コア層１１２に近接した電極層１１４―１、および電気光学コア層１１２の反対側に配置された反電極層１１４―２を含む。ここで、電極配置１１４―１、１１４―２は、さらにまた、電極配置によって生成された電界１１８によって電気光学コア層１１２の領域１１６において電気光学効果を起こさせるように構成される。
【００２９】
電気光学コア層１１２の厚み幅は、実施形態によれば、１０-7ｍ〜１０-4ｍｍの範囲でありえる少なくとも１つの電極層１１４―１、１１４―２の電気光学コア層１１２までの距離と同様に、１０-7ｍ〜１０-4ｍの範囲である。
【００３０】
本発明の構想は、ここで、図２ａ〜２ｃを参照して更に詳細に説明される。図２ａは、本発明の更なる実施形態の導波路デバイス２００の断面図を示す。
【００３１】
導波路デバイス２００は、層スタック１１０を含む。ここで、層スタック１１０は、第１および第２のバッファまたはクラッド層２０２―１、２０２―２間にはめ込まれた電気光学コア層１１２を含む。加えて、電気光学コア層１１２およびクラッド層２０２のサンドイッチは、下部の電極層１１４―１および上部の電極層１１４―２の間にはめ込まれる。下部の電極層１１４―１は、平面配置され、個々にアドレス可能な電極の配列を含む。上部の電極層１１４―２は、下部の電極層１１４―１と比較して電気光学コア層１１２の反対側に配置された少なくとも１つの電極を含む。それ故、電気光学コア層１１２は、第１および第２のクラッド層２０２―１、２０２―２と同様、第１および第２の電極層１１４―１、１１４―２の間に配置される。結局、さらに適用された接着剤、保護およびパッシベーション層は、ここでは示されない。電気光学効果は、下部および上部の電極層１１４―１、１１４―２を含んでいる電極配置によって生成された電界に応答して、電気光学コア層１１２の領域１１６において起こさせられうる。その結果、電気光学材料の屈折率、および、代わりに、光２０４の伝播は、起こされた電気光学効果の領域に沿って操作されることができる。
【００３２】
電気光学導波路デバイス２００は、それ全体、すなわち、最も外部に位置付けられた下部および上部の電極層１１４―１、１１４―２との間に、対応する電界を印加することによって作動する。前述のように、電極層１１４―１または１１４―２のうちの少なくとも１つは、複数の密接に集められ、同一に成形された、平面ピクセル電極から成る。これは、図２ｂを参照して説明されるだろう。
【００３３】
図２ｂは、平面電極層１１４（ｘｙ平面）の平面図を示す。そして、それは上部または下部の電極層１１４―１、１１４―２でもよい。そして、複数の同一の平面配置されたサブまたはピクセル電極２１４の形でパターニングされた層または平面を表す。それ故、電極層１１４―１、１１４―２のうちの少なくとも１つは、平面配置され、個々にアドレス可能なピクセル電極２１４―ｎ（ｎ＝１，２，３，…，Ｎ；Ｎ＞２）の配列を含む。その結果、電気光学効果は、個々にアドレス可能なピクセル電極２１４―ｎ（ｎ＝１，２，３，…，Ｎ）によって生成された電界に応答して電気光学コア層１１２の領域において起こさせられうる。その結果、電気光学材料の屈折率、および、代わりに、光の伝播は、起こされた電気光学効果の領域１１６に沿って選択的にまたは可変的に操作されることができる。このことにより、領域または光学経路１１６は、選択された、すなわち、アクティブにされた、平面ピクセル電極配列１１４―１または１１４―２のピクセルまたはピクセル電極２１４―ｎに対応する。後述するように、ピクセルは、電気光学コア層１１２の一面からの隣接するピクセル電極によって、または、電気光学コア１１２の異なる側、すなわち、反対側の対向するピクセル電極対によって、定められる。
【００３４】
図２ｂの電極層１１４の断面図は、図２ｃに示される。
【００３５】
従来のＣＭＯＳプロセスによって製造されうる個々のピクセル電極２１４―ｎ（ｎ＝１，２，３，…，Ｎ）は、設定可能な電圧または電位Ｕn（ｎ＝１，２，３，…，Ｎ）を個々にアドレス可能な電極に印加するために電極層１１４のうちの少なくとも１つのピクセル電極２１４―ｎ（ｎ＝１，２，３，…，Ｎ）を個々にアドレス付けするためのアドレス論理回路を含みうる、導波型光デバイス２００の電子機器（図示せず）に基板２２０を介して個々に連絡される。所望の光導波路経路の電気経路構成は、電気光学コア層１１２による所望の光路に対応するピクセル電極２１４―ｎ（ｎ＝１，２，３，…，Ｎ）に印加された電圧Ｕn（ｎ＝１，２，３，…，Ｎ）を調整することによってプログラムされうる。対応するピクセル電極２１４―ｎ（ｎ＝１，２，３，…，Ｎ）に特定の電圧Ｕn（ｎ＝１，２，３，…，Ｎ）を印加すると、導波管経路は、例えば、直線の導波管接続から特定の角度への偏向に変化することができる。そして、それは更に下で説明される。結果として、光スイッチ、ビームステアリング、光結合器などのさまざまな平面導波路構造ベースのデバイスは、本発明によって実現されうる。これは、図３ａ〜図３ｄによって、例として示される。
【００３６】
図３ａ〜図３ｄの白い領域は、特定の電圧Ｕn（ｎ＝１，２，３，…，Ｎ）が印加され、それ故、結果として電気光学コア層１１２の対応する（白い）領域において電気光学効果の活性が生じるピクセルまたは対応するピクセル電極２１４―ｎ（ｎ＝１，２，３，…，Ｎ）に対応する。すなわち、図３ａ〜ｄの白い領域は、アドレス付けされた又は駆動されたピクセル電極２１４―ｎ（ｎ＝１，２，３，…，Ｎ）から生じている電界によって電気光学効果が起こされた電気光学コア層１１２の領域とみなすこともできる。図３ａ〜ｄによって示されるように、白いエリアまたは領域は、電気光学効果によって光が進むまたは伝播することができる領域に対応する。対照的に、黒い領域は、電気光学効果が起こらなかった領域に対応し、それ故、光の伝播は可能でない。
【００３７】
隣接するピクセル電極２１４―ｎ間の空間だけでなく個々にアドレス可能なピクセル電極２１４―ｎ（ｎ＝１，２，３，…，Ｎ）の幾何形体は、可変の導波管１００、２００の形態上の構造を変えて、余分の損失を生じさせうるピクセル電極２１４―ｎの付近のあり得る電界不均一性を最小化するために、最大表面被覆率を考慮に入れなければならない。従って、ピクセル電極２１４―ｎは、図３ａ〜ｄに模範的に示されるような異なる幾何形体を有しうる。図３ａは、正方形のピクセル電極２１４―ｎを示し、一方、図３ｂは六角形のピクセル電極２１４―ｎを示す。図３ｃは、八角形のピクセル電極２１４―ｎを示し、一方、図３ｄは、円形のピクセル電極２１４―ｎを表す。もちろん、図示された幾何形体は典型的であるというだけであり、個々にアドレス可能なピクセル電極２１４―ｎ（ｎ＝１，２，３，…，Ｎ）の多くの他の幾何形体が考えられることは強調されなければならない。
【００３８】
更に電気光学コア層１１２における電界不均一性の効果を最小化するために、複数の平行したピクセル電極層は、発明の導波型光デバイスの設計において互いに重畳されうる。すなわち、電気光学コア層１１２の一面にも、または、両面にも、電極配置は、近接し、電気光学コア層１１２に平行した、複数のスタックされたおよび横にシフトされた電極層を含む。このことは、図４ａ、ｂに模範的に示す。
【００３９】
本発明の実施形態によれば、電極配置は、近接に（すなわち、ほぼ１０-7ｍ〜１０-4ｍの電気光学コア層１１２までの距離に）配置され、そして、第１の電極層１１４―１と同じ側の電気光学コア層１１２上に配置された、第１の電極層１１４―１と平行した更なる電極層１１４’―１を含む。ここで、更なる電極層１１４’―１は、横方向のピクセル電極間隔のため電界不連続性または不均一性を最小化するために、更なるピクセル電極２１４’―ｎ（ｎ＝１，２，３，…，Ｎ）の位置が第１の電極１１４―１の２つの隣接したピクセル電極２１４（ｎ―１）、２１４―ｎの位置の横方向に中間にあるように配置された個々にアドレス可能な更なるピクセル電極２１４’―ｎ（ｎ＝１，２，３，…，Ｎ）の配列を含む。このことにより、スタックされた電極層１１４―１および１１４’―１は、ピクセル電極２１４―ｎの直径の何分の一かである距離ｄだけ横方向にシフトされる。特に、２つのスタックされた電極層１１４―１および１１４’―１がある場合、ｄはピクセル電極の半径の範囲でありえる。一般に、ｄは、平行してスタックされた電極層の合計に反比例しうる。
【００４０】
もちろん、同様に２つ以上の平行かつ横方向にシフトされた電極層は、電気光学コア層１１２の一面、または、両面に各々の表面にスタックされうる。これは、３つの平行した六角形のピクセル電極層１１４、１１４’および１１４”は模範的に示される図４ｂに示す。ｘｙ平面射影上の最大表面被覆率を確実にするような方法で、電極層１１４、１１４’および１１４”はシフトされる。
【００４１】
電気光学コア層１１２は、さまざまな無機または有機材料などの電気光学材料でできていてもよい。非線形結晶（ニオブ酸リチウム）、ガリウム砒素、ＴｉＯ2などの酸化物などの無機材料、およびセラミックＰＬＺＴ、ＰＭＮ−ＰＴ、または、有機／無機／セラミックの混合物またはセラミック複合材が使用されうる。あるいは、コア層は、ポリマー、コポリマー、架橋ポリマー、ホスト―ゲスト・システム、有機的に改良されたゾル―ゲル類、液晶、ポリマーマトリクスで分散された液晶、シリコン系ポリマーおよび前に言及された材料を用いた自己集合の種類から、電気光学有機物質または非線形光学カー（Ｋｅｒｒ）材料から作られることができる。特に高速デバイス（＞１０ＧＨｚ）が関わるときに、発明された実施形態を用いた使用のために適切なカー（Ｋｅｒｒ）効果媒体は、ポリマーの側鎖に付着した発色団を含んでいる混合であり、その発色団は、それぞれ高い非線形光学応答、β−超分極率を有する。ポリマーマトリックスの発色団の例は、例えば４Ｎ，Ｎ’―ジメチルアミン―４’ニトロスチルベン／ポリメタクリル酸メチル（ＤＡＮＳ／ＰＭＭＡ）、ディスパース赤１／ポリメタクリル酸メチル（ＤＲ１／ＰＭＭＡ）、ディスパース赤１／ディスパース赤発色団の種類からのＤＲ１を伴うポリウレタン（ＤＲ１／ＰＵＲ）である。コア層１１２およびクラッド層２０２は、異なるドーピング特性、インプラントおよび注入プロファイル、ポーリング度、架橋度などに関して同じ材料から作られることができ、あるいは、異なる材料から作られることができる。一般に、クラッド層２０２は、当業者に知られているパッシブ材料または電気光学物質で作られることができる。
【００４２】
電気光学コア層１１２および／またはクラッド層２０２は、スピンコーティング、浸せきコーティング、プリンティングまたはブラッシングなどの周知の方法によって製造されることができて、電極層１１４に位置付けられることができる。いくつかの場合において、例えば、発色団の場合、特別な分極処理は、スピンコーティングの後に、ポリマーフィルムにおいてポッケルス効果を起こさせるために必要な最初のランダムに方位決定された双極子の微視的な分極を引き起こすことを必要とする。このことにより、発色団は、２つの異なる分子軌道間のエネルギー差が可視スペクトルの範囲に入る分子の領域を意味する。層サンドイッチ１１０の電気光学導波管層１１２のポーリングは、コロナポーリング、電極ビームポーリング、イオンビームポーリングなどの当業者に知られている方法によって実現されうる。その結果は、例えば、電子光学係数の増加である。そして、それは電気光学導波管変調装置の演算のための低電圧または低半波長電圧で次々に導波管単一モード演算を支持する。
【００４３】
【００４４】
【００４５】
また、上部または下部のクラッド層２０２―１、２０２―２に加えて、更なるクラッド層２０２’―１および／または２０２’―２は、電極層１１４―１または１１４―２とクラッド層２０２―１または２０２―２との間に最も外部のクラッド層として、それぞれ、付け加えられることができる。そして、更なるクラッド層２０２’―１および／または２０２’―２は、光学モードが電極層１１４―１および／または１１４―２に接触して、それにより余分の光損失を生じさせないようにするために、第１のクラッド層２０２―１および／または第２のクラッド層２０２―２より低い屈折率を有する。
【００４６】
複数の電極２１４により電気光学効果を起こさせることによって可変的に光波を導くという本発明概念が説明されたので、本発明のさまざまな例示的実施形態がより詳細に強調される。図５を参照して、電気光学コア層１１２に近接した電極層１１４を１つだけ有する電極配置を含んでいる導波型光デバイス５００について説明する。
【００４７】
導波型光デバイス５００は、複数の個々にアドレス可能なピクセル電極２１４―ｎ（ｎ＝１、２、３、４）を含んでいる電極層１１４の層スタック１１０を含む。電極層１１４の上に、バッファ層またはクラッド層２０２が配置される。更に、クラッド層２０２の上に、可変的に光を導くための電気光学コア層１１２が配置される。電極層１１４は、複数の同一の平面配置されたピクセル電極２１４―ｎから成り、そして、各々が電子基板（図示せず）を介して個々にアドレス可能である。所望の経路上の選択された隣接するピクセル電極（図５は模範的に電極２１４―２、２１４―３を示す）との間に電位差を印加することは、電気光学コア層１１２の領域１１６において、電気光学コア層１１２の屈折率の局所的変化を次々引き起こす。これは、生成された電界による電気光学コア層１１２の領域１１６の貫通のためである。その結果、光波は、１つの電極層１１４の選択された隣接するピクセル電極との間に印加された電位差によって定められた経路に沿って、導波型光デバイス５００の電気光学コア層１１２のアクティブにされた領域１１６において導かれることができる。
【００４８】
導波型光デバイス６００の更なる実施形態は、図６の断面図において、図式的に表される。
【００４９】
導波型光デバイス６００は、下部の電極層１１４―１を含み、下部の電極層１１４―１は、シリコンまたはガラス基板／ウェーハ２２０―１に位置付けられた複数の同一の平面配置された電極２１４―ｎ、および絶縁層２３０―１を含む。ピクセル電極２１４―ｎは、定められた電位Ｕnに接触することができる。電位Ｕnは、下部の電極層１１４―１のピクセル電極２１４―ｎの各々に関して独立して設定されることができる。下部の電極層１１４―１の上に、下部および上部のクラッド層２０１―１、２０２―２間にはめ込まれた電気光学コア層１１２を含んでいる多層スタックが配置される。上部のクラッド層２０２―２上に位置付けられた上部電極層１１４―２は、接地電極としての導電層を含む。上部電極層１１４―２の上に、ガラスまたはシリコンの上部基板２２０―２は、供給される。
【００５０】
電極層１１４―１、１１４―２の中の導電部、すなわち、例えば、ピクセル電極２１４―ｎは、アルミニウム、ＩＴＯ、導電性高分子材料などから作られうる。下部のクラッド層２０２―１は、有機または無機材料または複合材から作ることができ、コア層１１２は、電気光学材料から作ることができ、そして、上部のクラッド層２０２―２も、有機または無機材料、混合または複合材から作ることができる。下部および上部のクラッド層２０１―１、２０２―２間に埋込まれた電気光学コア層１１２を含んでいる多層スタックは、電極層１１４―１および１１４―２の間に挟まれている。所望の光伝搬経路に対応する下部の電極層１１４―１の個々にアドレス可能なピクセル電極２１４―ｎ間のゼロ以外の電圧を印加することは、下部の電極層１１４―１の選択されたピクセル電極間のそれぞれ結果として生じる電界に応答して、それぞれ、電気光学コア層１１２の屈折率の局所的変化を引き起こす。光波は、このアクティブにされた経路に沿ってデバイス６００の電気光学コア層１１２において導かれることができる。あるいは、電気光学コア層１１２を貫通している電界を生成するために、ゼロ以外の電圧が、下部の電極層１１４―１の個々にアドレス可能なピクセル電極２１４―ｎおよび反対の上部電極層１１４―２との間に印加されることもできる。
【００５１】
本発明の更なる実施形態は、図７の断面図において、模範的に表される。
【００５２】
図７の導波型光デバイス７００は、上部電極層１１４―２の実施態様によって、導波型光デバイス６００と異なる。ここで、図６に示される上部電極層１１４―２は、単に導電層によって実現された単一電極を含むだけであり、導波型光デバイス７００の上部電極層１１４―２は、下部の電極層１１４―１と同様で、上のシリコンまたはガラス基板／ウェーハ２２０―２に位置付けられた、平面配置され、個々にアドレス可能な複数のピクセル電極２１４―ｎおよび絶縁層２３０―２を含む。個々のピクセル電極２１４―ｎは、電位Ｕn’と接続されることができる。ここで、電位Ｕn’は、上部電極層１１４―２の個々のピクセル電極２１４―ｎを駆動するために、互いに独立して設定されることができる。下部および上部の電極層１１４―１、１１４―２の両方の個々のピクセル電極は、所望の光路構成を起こさせるために個々にプログラムされることができる。上部電極層１１４―２のピクセル電極は、電気光学コア層１１２の反対側に下部の電極層１１４―１のピクセル電極に関する垂直軸について対称的に好ましくは配置される。すなわち、上部電極層１１４―２のピクセル電極は、対称面としての電気光学コア層１１２に関して、下部の電極層１１４―１のピクセル電極に、対称的に配置される。選択されたピクセル電極は所望の光学経路に対応して、隣接した下部または上部ピクセル電極間のゼロ以外の電位差を印加すること、または、対応する反対の下部および上部のピクセル電極間の電位差を印加することは、電気光学コア層１１２の屈折率の関連した局所的変化を引き起こす。このことは、既に前で説明した。光波は、この経路１１６に沿ってデバイス７００のコア層１１２において導かれることができる。図６の実施形態と比較した違いは、アクティブにされた領域または導波モード強度プロファイル１１６が、この場合には、ｘｙ平面、すなわち電気光学コア層１１２の平面に関して対称的であるということである。このように、伝播方向に沿ったモード制限は、改良されうる。そして、この効果による伝搬損失は、最小化されうる。
【００５３】
図８ａに示される更なる実施形態は、導波型光デバイス６００の実施形態と比較して、電極配置が２つの下部の垂直にスタックされ、横方向にシフトされた電極層１１４―１および１１４’―１を含むことを除いて、同様の部分を有する導波型光デバイス８００を示す。このような構成は、図４ａ、４ｂを参照してすでに説明された。すなわち、シリコンウエハ２２０―１に形成された電極配置は、２つの垂直にスタックされ、横方向にシフトされた電極層または平面１１４―１、１１４’―１を含み、各々が基板２２０―１上に複数の同一の平面に配置されたピクセル電極２１４―ｎ、２１４’―ｎを有する。ピクセル電極層１１４―１、１１４’―１は、平行に互いに重畳されて、ｘｙ平面射影上に最大表面被覆率を確実にするような方法で、横方向にシフトされる。これは、ピクセル電極に近接して光学モードの余分の損失を起こす、ピクセル電極設計の不連続のため電界不均一性の効果を最小化するためである。分離して、垂直にスタックされ、水平にシフトされた２つの電極層１１４―１、１１４’―１からの個々にアドレス可能なピクセル電極は、それぞれ、電圧を分離するように接続される。選択された隣接の下部のピクセル電極間にゼロ以外の電位差を印加する、または、下部のピクセル電極２１４―ｎ、２１４’―ｎおよび上部の電極層１１４―２間にゼロ以外の電位差を印加するときに、所望の光学経路１１６に対応する選択されたピクセル電極は、個々にアドレス付けされたおよび／または駆動された電極によって生成された電界に応答して、電気光学コア層１１２の経路１１６における屈折率の変化をもたらし、その結果、光の伝播は領域１１６に沿って操作されることができる。
【００５４】
図８ｂは、下部の電極構造が、それぞれが基板２２０―１に形成された複数の同一平面のピクセル電極を有する２つの下部の電極層または平面１１４―１、１１４’―１を含むことを除いて、図７を参照して説明された光導波路７００と同様である光導波路８５０の実施形態の断面図を示す。電気光学コア層１１２の下の２つの分離した電極層１１４―１、１１４’―１のピクセル電極は、電位または電圧Ｕnを分離するために接続される。ここで、電位Ｕnまたは対応する下部のピクセル電極は、個々にアドレス可能である。これは、ここでも、電極に近接した光学モードの余分の損失まで上昇する、電極設計の不連続性のため電界不均一性の効果を最小化するためである。電気光学コア層１１２より上の上部電極構造はまた、下部の電極構造と同様、ピクセル電極の２つの垂直にスタックされ、横方向にシフトされた平面または層１１４―２、１１４’―２を含む。２つの分離した上部電極層１１４―２、１１４’―２からの個々のピクセル電極はまた、それぞれ、電圧Ｕn’を分離するように接続されうる。ここで、個々の上部ピクセル電極は、アドレス付けされたピクセル電極に個々の電位Ｕn’を印加するために、個々にアドレス可能である。好ましくは、上部の電極構造のピクセル電極は、電気光学コア層１１２によって定められた平面に関して、下部の電極構造のピクセル電極に対称的に配置される。
【００５５】
本発明の実施形態による可変光導波路デバイスモデル設計は、個々にアドレス可能なピクセル電極２１４の十分なアクティブ化によって、さまざまな平面導波路構造ベースのデバイスに取って代わることができる。図９は、模範的に、本発明の可変導波型光デバイスによって生成された電界を変調する方法の例として、異なる電圧Ｕ0＝０ＶおよびＵ1、Ｕ2（Ｕ1≠Ｕ2）でセットされた隣接するピクセル電極の配列の上面図を示す。異なる印加電圧による電界変調は、連結された光学モードにおいて次々に入力強度Ｉinから出力強度Ｉout,varまでの光学強度変化を誘発する。すなわち、実施形態によれば、電極配置は、電気光学コア層１１２の異なる部分において異なる電界強度を生成し、その結果、電気光学コア層１１２の異なる部分において異なる起こされた電気光学効果を得るように構成される。その結果、可変光減衰器は、図９を参照して説明された原理によって実現されうる。
【００５６】
図１０ａおよび図１０ｂは、本発明の実施形態を用いて光方向性結合器を実現することの原理を示す。図１０ａによれば、方向性結合器の入力で入力強度Ｉinを有する光波は、アクティブな電気的構成が直線経路に対応するゼロ以外の電圧のピクセル電極の直線配列を含む、実施形態による導波型光デバイスの出力までの直線経路上を伝搬する。図１０ｂに示されるように、入力光波は、モード干渉によって、この他の経路、すなわち対応するピクセル電極がアクティブにされるとき、他の並列な経路と結合する。この構想は、Ｙ分岐干渉計、ビーム方向変換器などの曲がり導波管を必要とするデバイスの設計においても使用されうる。
【００５７】
発明の導波型光デバイスのようにピクセル化された電極または個々のピクセル電極２１４を有する電極層１１４は、アクティブな導波管および／または構造導波管のための他のピクセル化されていない電極構造とも結合されうる。この場合、アクティブおよびパッシブなデバイスのさまざまな組み合わせは、マルチプレクサ、デマルチプレクサ、連絡管、多連装変調装置などのさまざまな機能を作りだすように、または、可変導波型光デバイスにおいて光の結合を容易にするために、設計されうる。
【００５８】
図１１ａは、外部の所定の光学経路１１１０―ｋ（ｋ＝１，２，…，Ｋ）と結合して、アクティブで、個々にアドレス可能なピクセル電極２１４を有する発明の可変導波型光デバイス１１００を示す。したがって、可変導波型光デバイス１１００は、例えば、従来の光ファイバによって定められうる、接続された外部の所定の光学経路１１１０―ｋ（ｋ＝１，２，…，Ｋ）間の柔軟な光のルーティングを可能にする。あるいは、外部の所定の光学経路１１１０―ｋはまた、対応する固定された又は所定の電極によって、電気光学コア層１１２において定められうる。そして、それは、可変的な電気／光学経路を供給する可変導波型光デバイス１１００の可変的なピクセル化された表面とは対照的に、従って所定の電気／光学経路１１１０―ｋを供給している所定の形状を有することができる。図１１ａにおいて、１つの一次元のピクセル電極配列は、外部の光学経路１１１０―ｋごとに使用される。ここで、図１１ｂの可変導波型光デバイス１１５０は、外部の光学経路１１１０―ｋごとに、複数の一次元のピクセル配列を使用する。図１１ａにおいて、光学経路Ｉｎ１から来る光は、導波型光デバイス１１００を介して、光学経路出力口Ｏｕｔ１に送られる。光学経路入力Ｉｎ２から来る光は、偏向させられた波の直接のルーティングにより、または、発明の可変導波型光デバイス１１００による図１０の結合方法によって、光学経路出力Ｏｕｔ２の方へ送られる。
【００５９】
図１１ｂの場合には、光学経路入力Ｉｎから来る光は、光学経路出力口Ｏｕｔ１およびＯｕｔ２の両方に送られる、すなわち、光は、本発明の導波型光デバイス１１５０によってＯｕｔ１およびＯｕｔ２との間で分けられる。発明の可変導波型光デバイスへの光の結合は、例えば、テーパファイバ（ｔａｐｅｒｅｄ ｆｉｂｅｒ）、マイクロレンズ、プリズムまたはホログラフィック回折格子によって実現されうる。
【００６０】
ここでは、図１２ａ〜図１２ｃを参照して、発明概念による光波の光学的偏向について説明する。
【００６１】
【００６２】
式（７）から、例えば、Ｒ＝１０-16ｍ2／Ｖ2、屈折率ｎ0＝２．５、電気光学コア幅ｂ＝２５μｍ、コア厚ｄ＝２５μｍおよびＵ0＝０からＵMAX＝１００Ｖまでコア全体でおよそ線形に変動する電圧を有するカー材料に関して、導波管の曲率の半径ρ0は、約８００μｍとなる。
【００６３】
図１２ｂによって図示されているように、Ｕ0からＵMAXまでのこの電圧変動は、発明の導波型光デバイスの助けを借りて実現されうる。図１２ｂの左側に表される導波路セグメント１２１０の実現は、図１２ｂの右側に詳細図を示されるように、電極層の対応するピクセル電極の電圧変動によって達成されうる。このようにして、例えばマイクロリング共振器などの、小半径、大きい偏向角を有する平面で、二次元の可変導波型光デバイスを設計することは可能である。図１２ｂは、六角形のピクセル電極構造の平面図からの部分を表示する。ピクセル電極２１４または対応するピクセルが十分に小さいと仮定するならば、マイクロリング共振器からの部分１２１０は、光導波路経路に横の方向に可変の電圧をピクセル電極２１４に印加することに作り出される。すなわち、電極配置、それぞれ電圧をアドレス付けするドライバは、電気光学コア層１１２における上昇する、下降するまたは一定の電界強度を生成するように構成されることができる。その結果、上昇する、下降するまたは一定の電界強度に応答して、電気光学材料の屈折率は、異なる方向への光伝搬を導くおよび／または送るおよび／または変調するために変化する。特に、（関連した電圧をアドレス付けするドライバと共に）電極配置は、光伝搬方向に対して垂直な電気光学コア層１１２の上昇するまたは下降する電界強度を生成するように構成されることができる。その結果、上昇するまたは下降する電界強度に応答して、電気光学材料の屈折率は、伝搬性光を偏向させるための光伝搬方向に対して垂直に変化する。
【００６４】
すなわち、実施形態の導波型光デバイスの電極配置は、電気光学コア層１１２の異なった部分において可変的な電界強度を生成するように構成されうる。その結果、異なった部分の電気光学材料の屈折率は、ビーム偏向器、ビーム方向変換器、光スイッチ、連絡管、光学的ルーター、ビームスプリッタ、輝度変調器、電力減衰器、Ｙ分岐干渉計、マッハ・ツェンダー干渉計、方向性結合器、マイクロリング共振器、可変光減衰器または偏光コントローラの各特徴的な機能を用いて、結合された光波が異なる方向に導かれる、送られる、および／または変調されることを可能にするように変化する。
【００６５】
ここで図１３を参照して、本発明の一実施形態の導波型光デバイスの製作方法が強調される。
【００６６】
第１のステップＩにおいて、複数の平面配置されたピクセル電極２１４は、ガラスまたはシリコン基板でありえる、キャリアまたは基板２２０―１上の導電層において構築される。第２の製作ステップＩＩにおいて、絶縁層２３０、例えば酸化物を、複数のピクセル電極２１４上に堆積させて、例えば、半導体ウエハまたは他の基板を平坦化するための半導体製作において、従来、使用されるテクニックである、一般にＣＭＰと略記される、化学機械的研磨または化学的・機械的研磨によって平坦化させる。第３の（任意の）ステップＩＩＩにおいて、第１の電極層１１４―１と平行であり、個々の更なるピクセル電極２１４’の配列を含んでおり、ピクセル電極２１４と同様の方法で平坦化させた更なる電極層１１４’―１は、絶縁層２３０上で製作される。第４の（任意の）製作ステップＩＶにおいて、更なる絶縁材料を、各々から更なるピクセル電極２１４’を絶縁するために、絶縁層２３０上に堆積させる。第５のステップＶにおいて、第１の（下部の）緩衝層またはクラッド層２０２―１は、同一の薄膜を平坦な基板に塗布する処置であるスピンコーティングによって例えば２つの電極層１１４―１、１１４’―１上に塗布される。その後、ステップＶＩにおいて、電気光学コア層１１２が、例えばスピンコーティングによって、第１のクラッド層２０２―１上に堆積する。その後のステップＶＩＩにおいて、第２の（上部の）クラッド層２０２―２は、例えば、スピンコーティングによって、コア層１１２に堆積する。最後に、ステップＶＩＩＩで、上部の電極１１４―２層は、例えば先に述べた例のいずれかのようにスピンコーティングによって、または、上部の電極１１４―２層を含んでいるウェーハを結合することによって、設計され、製作されることができる。必要に応じて、結果として生じる導波管多重積層は、いかなる周知の手段によってもポーリングされる。
【００６７】
ピクセル電極製作ステップは、標準シリコンプロセス技術を使用したパターニングによって実現されうる。電子回路にピクセル電極２１４を連絡することは、電極層の各ピクセルを連絡している横方向の金属レーンによって、または、ウェーハによる相互接続によって実現されうる。個々のピクセル電極２１４をアドレス付けするために、ＳＲＡＭのようなアドレス回路構成を使用することもできる、すなわち、各ピクセル電極２１４は、ＳＲＡＭの１つのセルに対応する。シリコン製作方法を利用することによって、本発明の実施形態によるいくつかの導波型光デバイスは、コスト効率のよい製造を可能にしている１つのウェーハに平行に製造されることができる。
【００６８】
要約すると、本発明のいくつかの実施形態は、電極を含んでいる下部および上部の基板間にはさまれた少なくとも１つの電気光学層から成る導波路デバイスに関する。実施形態の導波路デバイスに関して、少なくとも１つの下部または上部の電極は、複数の個々の電極の少なくとも１つの配列が生成されるように、パターニングされる。このことにより、個々の電極の配列は、基板の少なくとも１つの平面マトリクスに配置される。個々の電極の平面マトリクスは、平行に、基板に互いに重畳される。その結果、電極分離によるいかなる場の不連続性も少なくとも最小化される。前記個々の電極は、正方形、円形、六角形、八角形、三角形、レンズ状または他のいかなる種類の形状などの幾何形体を有している。いくつかの実施形態によれば、基板の個々の電極のマトリクスは、基板に平行な投影面に最大表面被覆率を確実にするような方法で、互いにシフトされる。下部の基板からの少なくとも１つの個々の電極および上部の基板からの少なくとも１つの個々の電極は、ユーザー定義の位置で互いに位置付けられる。上部または下部の基板を含んでいる電極は、なくてもよい。残りの電極は、複数の個々の電極の配列が生成されるように、パターニングされうる。電界を生成するために、１つの基板の少なくとも２つの隣接する個々の電極は、異なる電位でセットされる。いくつかの実施形態によれば、上部または下部の基板は、１つの電極層だけを含みうる。下部の基板の少なくとも１つの個々の電極および上部基板の１つの個々の電極は、電気的にアドレス付けされうる。また、下部の基板のすべての個々の電極および上部の基板のすべての個々の電極は、電気的にアドレス付けされうる。このことにより、あらゆる下部のおよびあらゆる上部の基板に含まれる個々の電極は、考えられるあらゆる電気経路構成を選択的にアクティブにするために、電気的にアドレス付けされうる。下部または上部の基板に含まれる個々の電極は、デジタルモードで、または、アナログモードで作動されうる。好ましい実施形態によれば、前記電気光学層は、それに隣接して少なくとも１つのクラッド層を有する。このことにより、クラッド層は、同じまたは異なる物質から形成されることができ、そして、電気光学層、すなわち、コアは、クラッディングの屈折率に等しいまたはそれより高い屈折率を有する物質から形成されうる。コアは、ポリマー、コポリマー、架橋ポリマー、ホスト―ゲスト・システム、例えばポリマーマトリックス（ＤＡＮＳ／ＰＭＭＡ、ＤＲ１／ＰＭＭＡ、ＤＲ１／ＰＵＲ、ディスパース赤発色団の種類のＤＲ１を有する）において混合された非線形光学発色団、側鎖ポリマーの発色団の種類から、電気光学有機物質または非線形光学カー材料から形成されることができる。ここで、発色団は、それぞれ高い非線形光学応答、β―超分極率、有機的に修正されたゾル―ゲル類、液晶、高分子マトリックスにおいて散布される液晶、シリコン系ポリマーおよびポリマーを有する他のいかなる混合を有する。他の実施形態によれば、コアは、非線形結晶（ニオブ酸リチウム）、ガリウム砒素、ＴｉＯ2などの酸化物などの電気光学無機材料およびカー材料、ＰＬＺＴ、ＰＭＮＰＴなどのセラミック、または有機／無機／セラミックの混合、またはセラミック複合材および前に言及された材料を用いた自己集合材料から形成されることができる。クラッディングは、ガラスなどの有機物質、アクリルなどのポリマーおよびコポリマー、ＵＶ硬化ポリマー、架橋ポリマー、シリコーンエラストマ、ホスト−ゲスト・ポリマーまたはコア材料より低い電子光学係数の他の電気光学材料、または、反対方向にポーリングされているがコアと同じ電気光学材料から形成されることができる。また、前記クラッディングは、ガラスなどの無機材料、酸化物、非線形結晶、セラミックおよびいかなる有機および／または無機配合物および複合材から形成されることができる。
【００６９】
下部および上部の基板の個々の電極は、電気光学コア層の屈折率の局所的変化を引き起こすために、アドレス付けされうる。下部および上部の基板の個々のアドレス付けされた電極は、可変光導波路の電気経路構成に対応する。デバイスの光を結合している出入は、テーパファイバ、マイクロレンズ、プリズムまたはホログラフィック回折格子の周知の手段によって実現されうる。コアおよびクラッド層は、受動光導波路を形成するために構築されることができる。更なる実施形態によれば、少なくとも、光導波路経路は、ビーム偏向器、光スイッチ、ネットワークハブおよび連絡管として使用される。また、少なくとも、光導波路経路は、ビームスプリッタ、輝度変調器、電力減衰器、Ｙ分岐、マッハ・ツェンダー干渉計、方向性結合器またはマイクロリング共振器として使用されることができる。光導波路経路は、マイクロリング共振器を形成するために使用されることができる、または、ビーム方向変換器、光学的ルーターまたは光学トランスポンダとして使用されることができる。説明されたように、光導波路経路の少なくとも一部は、可変光減衰器、レンズ、プリズムまたは格子として使用されることができる。また、コア層全体に適切な電界を使用することによって、光導波路は、偏向した光を導くことに関連して、分極制御のために使用されることができる。
【００７０】
実施形態によれば、上部または下部の基板は、予め設定された電極経路を含むことができる。少なくとも１つの基板は、一部分は、個々にアドレス可能電極を含んでいるマトリクスでありえ、一部分は、固定された電極経路でありえる。
【００７１】
実施形態によれば、導波路デバイスの製作方法は、少なくとも複数の個々にアドレス可能な電極を含んでいる基板に近接して電気光学層を形成することを含む。電気光学コア層は、有機物質でできていてもよいが、その有機物質は、スピンコーティング、浸せきコーティング、ブラッシングなどのどの周知の手段によっても堆積することができる。少なくともクラッド層はまた、有機物質から製造されることができるが、その有機物質は、スピンコーティング、浸せきコーティング、ブラッシングなどのどの周知の手段によっても堆積することができる。前に説明されたように、電気光学コア層は、無機材料、または無機／有機／セラミック材料の混合または複合材またはナノマテリアルでもよい。いくつかの実施形態によれば、電気光学層は、ポーリングされる。
【００７２】
個々にアドレス可能な電極構造は、シリコン基板に形成されることができる。ここで、個々の電極は、ＣＭＰおよびリフローによる個々の電極平坦化技術を用いたＣＭＯＳ技術によって形成される。電極は、ＳＲＡＭのような回路またはアーキテクチャによって、個々にアドレス可能でありえる。
【００７３】
発明の平面アクティブ導波路デバイスは、少なくとも１つのクラッド層に近接して／その間に位置付けられた電気光学コア層でできている導波管アクティブ構成全体の電界を変化させることができる。コアおよびクラッド層は、有機、無機、複合材または混合物でできている。少なくとも１つの最も外部の電極層は、電子基板を介して個々にアドレス可能である、複数の密接に集められた平面ピクセル電極から成る。デバイスの平面構造の中で、様々な光導波路経路は、ピクセル電極平面のアドレス指定対応する電気経路によってアクティブにされることができる。
【００７４】
発明の可変平面光導波路デバイスは、光学基礎要素の特性がそれぞれアクティブに調整され、それぞれ調整されることができるという追加の利点を有する、コネクタ、スイッチ、電力減衰器、ビーム方向変換器、方向性結合器、輝度変調器、ビーム偏向器、リング共振器、マッハ・ツェンダー干渉計、格子またはレンズまたは他のいかなる平面光導波路ベースのデバイスなどの導波管に基づいて、多数のあり得る現存のデバイスに取って代わることができる。
【００７５】
いくつかの本発明の態様が可変導波型光デバイス装置に関連して説明されたが、これらの態様も可変的に光波を導くための対応する方法の記載を示すことは明らかである。ここで、機能ブロックまたはサブデバイスは、方法ステップまたは方法ステップの機能に対応する。類似して、方法ステップに関連して説明された態様は、対応するブロックまたは項目の記載または対応する装置の機能を示す。
【００７６】
それ故、実施形態はまた、可変的に、光波を導く、送る、変調するための方法を供給し、その方法は、電気光学コア層１１２に近接した少なくとも第１の電極層１１４を有する電極配置によって可変的に生成された電界によって、可変的に電気光学材料の電気光学コア層１１２の領域１１６において電気光学効果を起こさせることを含み、その結果、光の伝播は可変的に起こされた電気光学効果の領域において操作される。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般に、光通信デバイス、特に、可変的に設定可能な導波型光デバイス（ＶＯＷＤ）に関する。
【背景技術】
【０００２】
遠距離に関する光遠隔通信ネットワークは、光周波数での電磁放射、すなわち光を送り、分割し、相互接続し、変調し、そして、増幅するための多種多様なデバイスを含む。コネクタ、スイッチ、電力減衰器、ビーム方向変換器（ｂｅｅｍ ｓｔｅｅｒｅｒ）、方向性結合器および強度変調器などの平面デバイスは、符号化された光波のための基本的な輸送手段として、パッシブおよび／またはアクティブ光導波路を組み込む。
【０００３】
【０００４】
導波路構造は、内部全反射によって光波を導く。最も一般的な光導波路は、光ファイバである。しかし、他のタイプの光導波路が使用されることもあり、例えば、フォトニック結晶ファイバを含み、それはいくつかの異なった機構のいずれかによって波を導く。異なるタイプの光導波路の共通の原理は、（後になってバッファまたはクラッド領域と呼ばれる）低い屈折率の領域に埋められるときに、光導波特性を得る（後になってコア層または領域と呼ばれる）特定の材料領域において、より高い屈折率ｎを誘起することである。屈折率差および異なる屈折率を有する領域の形状が、光導波型の伝搬特性を決定する。電気光学物質において誘起される導波路構造に関して、屈折率差は、電気光学効果によって局所的に印加電界を変えることによって誘発される。
【０００５】
電気光学効果は、光の周波数と比較してゆっくり変化する電界に応答する材料の光学特性の変化である。専門用語の電気光学効果（ｅｌｅｃｔｒｏ−ｏｐｔｉｃ ｅｆｆｅｃｔ）は多くの異なった現象を含む。そして、それは吸収の変化および／または屈折率の変化に細別されることができる。電気光学光導波路を設計することに関して、屈折率の変化は特に興味深い。屈折率のこの変化は、いわゆるポッケルス効果（Ｐｏｃｋｅｌｓ ｅｆｆｅｃｔ）（または線形電気光学効果）またはいわゆるカー効果（Ｋｅｒｒ ｅｆｆｅｃｔ）（または２次電気光学効果）に起因しうる。ポッケルス効果は、印加電界と線形に比例した屈折率の変化を示す。カー効果は、電界の二乗に比例した屈折率の変化を示す。特定の結晶性固体だけがポッケルス効果を示すのに対して、すべての材料は、マグニチュードを変化させることによって、カー効果を示す。しかし、それは通常、ポッケルス効果より非常に弱い。
【０００６】
電気光学導波路は、例えばニオブ酸リチウム、チタン酸バリウム、ガリウム砒素、さまざまな酸化物およびセラミックなどの無機および／または有機材料から作られることができる。あるいは、電気光学ポリマーベースの導波路デバイスは、それらの小さい速度ミスマッチ、低い光損失および高速での演算の可能性を考慮しているコスト効率のよい高性能なデバイスを供給することができる。更に、当業者に知られている有機および／または無機材料のさまざまな配合物および複合物があり、それらは現存のデバイスにおいて使用される、または、依然として導波路デバイスの調査にある。
【０００７】
通常、導波路構造は、フォトリソグラフィー（光化学的構造形成）、熱エンボス加工による機械的構造形成、レプリケーションおよび他のインプリント方法、分子、原子またはイオンの注入および拡散、ＵＶ反応方法などのパターニング方法を有する相互作用のコーティング方法などの方法によって製作されるが、ポリマーの屈折率変化は、照射時間および強度を変化させることによって誘発されうる。
【０００８】
従来の導波路デバイスおよびそれらの製作のための方法の欠点は、一旦導波管材が構築されると、それらの形状をもはや変えることができないということである。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
したがって、導波管形状を補償しておよび／または能動的に調整することが、本発明の目的である。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
この目的は、請求項１に記載の導波型光デバイスおよび請求項１５に記載の光波を導くための方法によって解決される。
【００１１】
導波管形状または光学経路が、平面配置された電気光学的にアクティブな材料の層スタックと、その電気光学的にアクティブな層スタックに近接した少なくとも１つの電極層を有する電極配置を使用することによって変化することができることが本発明の発見である。自由にプログラミングするまたは電極配置の個々の電極を選択することによって、さまざまな導波路構造、または対応する電極経路を選択することによる光学経路を生成することが可能である。
【００１２】
本発明の実施形態は、導波路デバイスが、層スタックを含み、その層スタックは、光波を導くための電気光学材料の電気光学コア層、およびその電気光学コア層に近接した少なくとも１つの第１の電極層を有する電極配置を含み、その電極配置は、その電極配置によって生成された電界によって電気光学コア層の領域に電気光学効果を起こさせるように構成され、その結果、光の伝播がその起こされた電気光学効果の領域において操作されることを特徴とする、導波型光デバイスを供給する。
【００１３】
本発明の実施形態によれば、電気光学コア層の電気光学材料は、電気光学コア層の領域の電気光学効果を起こさせることが前記領域の電気光学材料の屈折率を変化させることを含むように、電極配置の電極によって生成された電界に応答して、その屈折率を変化させるように構成される。
【００１４】
電気光学コア層は、ポリマー、コポリマー、高分子マトリクスで混合された発色団などのホスト―ゲスト・システム、発色団、側鎖ポリマーまたは有機的に修正されたゾル―ゲル、液晶、ポリマーマトリクスで分散された液晶、オプトセラミック、シリコン系ポリマー、非線形結晶（ニオブ酸リチウム）、ガリウム砒素、ＴｉＯ2（二酸化チタン）などの無機材料、ＰＬＺＴ（ランタンジルコニウム酸チタン酸鉛）、ＰＭＮＰＴ（ニオブ酸鉛マグネシウム‐チタン酸鉛）などのセラミック、または有機／無機／セラミックの混合物またはセラミック複合材の分類からの電気光学的にアクティブな材料の層である。バッファまたはクラッド層は、パッシブ材料または電気光学材料でありえる。材料のこれらの種類は、当業者に知られている。
【００１５】
実施形態によれば、第１の電極層は、個々にアドレス付けされた第１の電極によって生成された電界によって、電気光学コア層の所望の領域において電気光学効果を選択的に起こさせるために、平面配置され個々にアドレス可能な複数の第１の電極を含む。実施形態によれば、その複数の電極は、２つ以上の電極、好ましくは１０以上の電極、さらにより好ましくは、１００以上の電極として理解されたい。
【００１６】
いくつかの実施形態によれば、電極配置は、近接に、および、第１の電極層と比較して、電気光学コア層の反対側に配置された、電気光学コア層が第１および第２の電極層の間に配置されるように少なくとも１つの第２の電極を含む第２の電極層を含む。電気光学効果は、第１の電極層の隣接する個々にアドレス可能な第１の電極に電位差を印加することによって、または、第１の電極層および第２の電極層の対向する個々にアドレス可能な電極間に電位差を印加することによって、選択的に起こされる。
【００１７】
内部全反射によって電気光学コア層に光を閉じ込めるために、いくつかの実施形態によれば、層スタックは、電気光学コア層と第１の電極層との間に配置される少なくとも１つの第１のバッファまたはクラッド層を含む。このことにより、第１のクラッド層は、電気光学コア層の屈折率に等しい、または、それより低い屈折率を有する材料から形成される。
【００１８】
更なる実施形態によれば、層スタックは、電気光学コア層は、第１および第２のクラッド層の間に配置されるように、第１のクラッド層と比較して電気光学コア層の反対側に配置された第２のバッファまたはクラッド層を含む。第１の電極層と比較して電気光学コア層の反対側に配置された第２の電極層がある場合、第２のバッファまたはクラッド層は、電気光学コア層および第２の電極層の間に配置される。また、第２のクラッド層は、電気光学コア層の屈折率に等しい、または、それより低い屈折率を有する材料から形成される。
【００１９】
それ故、本発明の実施形態を使用することによって、クラッドの屈折率が、全反射によってコア層の光を閉じ込めるためのコア層の屈折率より低いまたはそれと同じであることを特徴とし、電気光学材料のコア層およびパッシブまたは電気光学クラッド層を有する多層システムを含む、可変であるまたは可変的に設定可能な平面電気光学導波路デバイスを設計することは、可能である。電気光学効果は、それ全体の対応する電界を印加すること、すなわち、多層システムの近接に位置付けられた電極層の電極に、対応する電位を印加することによって、コア層の領域において起こさせる。複数の密接に集められ、同一に成形された個々の平坦な副電極（サイズにおいて微視的）が形成されるように、電極層（サイズにおいて巨視的）のうちの少なくとも１つがパターニングされる。このことにより、副電極は、１次元または２次元配列に配置され、同じ平面に位置づけられる。微視的な副電極はまた、この明細書の続きにおいて、「ピクセル化された平滑面」上の「ピクセル電極」とも呼ばれる。電極層のこのピクセル化された平滑面は、例えば、シリコンまたはガラスでできている基板に位置付けられうる。ピクセル電極は、いかなる周知の手段によっても基板を介して別々に接触されうる。その結果、それらは個々にアドレス可能である。これは、アクティブマトリクス、例えばＳＲＡＭのようなアーキテクチャに、または、パッシブに、すなわち、ドライバ電子機器に対してピクセル電極ごとに１つの電気接続においてピクセル電極を集積することによって、達成することができる。ピクセル電極の幾何的形状および／またはそれら間の距離は、最大表面被覆率を確実にして、いかなる導波路デバイスまたはさまざまな導波路デバイスのいかなる組み合わせの形状も最も良くフィットさせるように、好ましくは選択される。
【００２０】
このように、適当な電圧で特定のピクセル電極の操作によって、電気光学コアによる光伝搬性は、電気光学導波路デバイスの電気光学コア層に沿って、さまざまな対応する経路上で、導かれうる、分割されうる、変調されうる、または、増幅されうる。実施形態による多層系は、電極層間に挟まれていてもよいが、電極層のうちの少なくとも１つはピクセル化された電極層である。更なる実施形態によれば、他の電極層は、なくてもよく、または、それは、例えばＡｌ、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ））、導電性高分子材料などの導体材料でできている連続層でできていてもよく、または、個々にアドレス可能なピクセル電極において、第１の電極層と同様に、パターニングされてもよい。
【００２１】
本発明の実施形態は、プリズム、レンズ、格子などと同様に、例えば、スプリッタ、ビーム方向変換器、可変同調共振器、フィルタ、スイッチ、ビーム偏向器、偏光感受型導波路デバイス、可変光導波路減衰器または他のいかなる平面電気光学導波路デバイスとしても機能するために設計されうる可変電気光学導波路デバイスを含む。いずれにせよ、本発明の導波路構造の特別な仕様は、対応して電極配置の電極をアドレス付けすることによって、連続的に調整されうる。
【００２２】
本発明の好ましい実施形態は、添付図面を参照して、以下で詳述される。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１ａ】図１ａは、本発明の実施形態の導波型光デバイス構想を示す。
【図１ｂ】図１ｂは、本発明の実施形態の導波型光デバイス構想を示す。
【図２ａ】図２ａは、本発明の他の実施形態の導波型光デバイスの断面図を示す。
【図２ｂ】図２ｂは、本発明の一実施形態のパターニングされた電極層の俯瞰図部分を示す。
【図２ｃ】図２ｃは、図２ｂの電極層の断面図を示す。
【図３】図３ａは、ピクセル電極の幾何形状が正方形である、同一に成形されたピクセル電極の配列にパターニングされた平面電極配置の平面図部分を示し、図３ｂは、ピクセル電極の幾何形状が六角形である、同一に成形されたピクセル電極の配列にパターニングされた平面電極配置の平面図部分を示し、図３ｃは、ピクセル電極の幾何形状が八角形である、同一に成形されたピクセル電極の配列にパターニングされた平面電極配置の平面図部分を示し、図３ｄは、ピクセル電極の幾何形状が円である、同一に成形されたピクセル電極の配列にパターニングされた平面電極配置の平面図部分を示す。
【図４ａ】図４ａは、２つの平行電極層が互いに重なっている、同一に成形されたピクセル電極の配列にパターニングされた平面電極配置の平面図部分を示す。
【図４ｂ】図４ｂは、３つの平行電極層が互いに重なっている、同一に成形されたピクセル電極の配列にパターニングされた平面電極配置の平面図部分を示す。
【図５】図５は、本発明の一実施形態の、単一の電極層、クラッド層、および電気光学コア層を有する可変電気光学導波路デバイスの断面図を示す。
【図６】図６は、基板上に平面配置されたピクセル電極を含んでいる電極層を有する可変導波型光デバイスの断面図を示す。
【図７】図７は、基板上のピクセル化された下部の電極平面構造、クラッド層、電気光学コア層、および基板上のピクセル化された上部の電極平面構造を有する可変導波型光デバイスの断面図を示す。
【図８ａ】図８ａは、電気光学コア層の下に２つの横にシフトされた電極層を有する導波型光デバイスの断面図を示す。
【図８ｂ】図８ｂは、電気光学コア層の下および上に、それぞれ、２つの横にシフトされた電極層を有する導波型光デバイスを示す。
【図９】図９は、本発明の一実施形態の、光学強度変化の変調を次々にもたらす電界を変調するための例として、可変電圧でピクセル電極セットの配列を示す。
【図１０】図１０は、本発明の一実施形態の、導波型光デバイスを用いた光スイッチの実現の構想を示す。
【図１１ａ】図１１ａは、予め設定された電極を有する導波型光デバイスの組み合わせを示す。
【図１１ｂ】図１１ｂは、予め設定された電極を有する導波型光デバイスの組み合わせを示す。
【図１２】図１２ａ〜図１２ｃは、本発明の一実施形態の光導波路を有する小さいたわみ半径を得る構想を示す。
【図１３】図１３は、本発明の一実施形態の導波型光デバイスを得るための製作手順フローを示す。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
【００２５】
実際に、それが屈折率の変化を生じさせるので、電気光学効果は特定の材料のアクティブ光導波路を誘発するために使用される。アクティブ光導波路は、多数のアクティブ平面デバイスにおける光輸送のための基本構造である。本発明の実施形態は、複数の現存の平面導波路デバイスに取って代わることができる電気光学アクティブ導波路構造デバイスの実現に関する。
【００２６】
本発明の一実施形態の導波型光デバイスは、図１ａ、図１ｂに図式的に示される。
【００２７】
図１ａは、層スタック１１０を含んでいる導波型光デバイス１００を示す。ここで、層スタックは、光を導くための電気光学材料の電気光学コア層１１２を含む。更に、層スタック１１０は、電気光学コア層１１２に近接した少なくとも１つの電極層１１４―１に電極配置を含む。ここで、電極配置は、電極配置によって生成された電界１１８によって電気光学コア層１１２の領域１１６において電気光学効果を起こさせるように構成され、その結果、電気光学材料の屈折率は、起こされた電気光学効果の領域１１６において操作される。
【００２８】
図１ｂに示された更なる実施形態において、層スタックは、電気光学コア層１１２に近接した電極層１１４―１、および電気光学コア層１１２の反対側に配置された反電極層１１４―２を含む。ここで、電極配置１１４―１、１１４―２は、さらにまた、電極配置によって生成された電界１１８によって電気光学コア層１１２の領域１１６において電気光学効果を起こさせるように構成される。
【００２９】
電気光学コア層１１２の厚み幅は、実施形態によれば、１０-7ｍ〜１０-4ｍｍの範囲でありえる少なくとも１つの電極層１１４―１、１１４―２の電気光学コア層１１２までの距離と同様に、１０-7ｍ〜１０-4ｍの範囲である。
【００３０】
本発明の構想は、ここで、図２ａ〜２ｃを参照して更に詳細に説明される。図２ａは、本発明の更なる実施形態の導波路デバイス２００の断面図を示す。
【００３１】
導波路デバイス２００は、層スタック１１０を含む。ここで、層スタック１１０は、第１および第２のバッファまたはクラッド層２０２―１、２０２―２間にはめ込まれた電気光学コア層１１２を含む。加えて、電気光学コア層１１２およびクラッド層２０２のサンドイッチは、下部の電極層１１４―１および上部の電極層１１４―２の間にはめ込まれる。下部の電極層１１４―１は、平面配置され、個々にアドレス可能な電極の配列を含む。上部の電極層１１４―２は、下部の電極層１１４―１と比較して電気光学コア層１１２の反対側に配置された少なくとも１つの電極を含む。それ故、電気光学コア層１１２は、第１および第２のクラッド層２０２―１、２０２―２と同様、第１および第２の電極層１１４―１、１１４―２の間に配置される。結局、さらに適用された接着剤、保護およびパッシベーション層は、ここでは示されない。電気光学効果は、下部および上部の電極層１１４―１、１１４―２を含んでいる電極配置によって生成された電界に応答して、電気光学コア層１１２の領域１１６において起こさせられうる。その結果、電気光学材料の屈折率、および、代わりに、光２０４の伝播は、起こされた電気光学効果の領域に沿って操作されることができる。
【００３２】
電気光学導波路デバイス２００は、それ全体、すなわち、最も外部に位置付けられた下部および上部の電極層１１４―１、１１４―２との間に、対応する電界を印加することによって作動する。前述のように、電極層１１４―１または１１４―２のうちの少なくとも１つは、複数の密接に集められ、同一に成形された、平面ピクセル電極から成る。これは、図２ｂを参照して説明されるだろう。
【００３３】
図２ｂは、平面電極層１１４（ｘｙ平面）の平面図を示す。そして、それは上部または下部の電極層１１４―１、１１４―２でもよい。そして、複数の同一の平面配置されたサブまたはピクセル電極２１４の形でパターニングされた層または平面を表す。それ故、電極層１１４―１、１１４―２のうちの少なくとも１つは、平面配置され、個々にアドレス可能なピクセル電極２１４―ｎ（ｎ＝１，２，３，…，Ｎ；Ｎ＞２）の配列を含む。その結果、電気光学効果は、個々にアドレス可能なピクセル電極２１４―ｎ（ｎ＝１，２，３，…，Ｎ）によって生成された電界に応答して電気光学コア層１１２の領域において起こさせられうる。その結果、電気光学材料の屈折率、および、代わりに、光の伝播は、起こされた電気光学効果の領域１１６に沿って選択的にまたは可変的に操作されることができる。このことにより、領域または光学経路１１６は、選択された、すなわち、アクティブにされた、平面ピクセル電極配列１１４―１または１１４―２のピクセルまたはピクセル電極２１４―ｎに対応する。後述するように、ピクセルは、電気光学コア層１１２の一面からの隣接するピクセル電極によって、または、電気光学コア１１２の異なる側、すなわち、反対側の対向するピクセル電極対によって、定められる。
【００３４】
図２ｂの電極層１１４の断面図は、図２ｃに示される。
【００３５】
従来のＣＭＯＳプロセスによって製造されうる個々のピクセル電極２１４―ｎ（ｎ＝１，２，３，…，Ｎ）は、設定可能な電圧または電位Ｕn（ｎ＝１，２，３，…，Ｎ）を個々にアドレス可能な電極に印加するために電極層１１４のうちの少なくとも１つのピクセル電極２１４―ｎ（ｎ＝１，２，３，…，Ｎ）を個々にアドレス付けするためのアドレス論理回路を含みうる、導波型光デバイス２００の電子機器（図示せず）に基板２２０を介して個々に連絡される。所望の光導波路経路の電気経路構成は、電気光学コア層１１２による所望の光路に対応するピクセル電極２１４―ｎ（ｎ＝１，２，３，…，Ｎ）に印加された電圧Ｕn（ｎ＝１，２，３，…，Ｎ）を調整することによってプログラムされうる。対応するピクセル電極２１４―ｎ（ｎ＝１，２，３，…，Ｎ）に特定の電圧Ｕn（ｎ＝１，２，３，…，Ｎ）を印加すると、導波管経路は、例えば、直線の導波管接続から特定の角度への偏向に変化することができる。そして、それは更に下で説明される。結果として、光スイッチ、ビームステアリング、光結合器などのさまざまな平面導波路構造ベースのデバイスは、本発明によって実現されうる。これは、図３ａ〜図３ｄによって、例として示される。
【００３６】
図３ａ〜図３ｄの白い領域は、特定の電圧Ｕn（ｎ＝１，２，３，…，Ｎ）が印加され、それ故、結果として電気光学コア層１１２の対応する（白い）領域において電気光学効果の活性が生じるピクセルまたは対応するピクセル電極２１４―ｎ（ｎ＝１，２，３，…，Ｎ）に対応する。すなわち、図３ａ〜ｄの白い領域は、アドレス付けされた又は駆動されたピクセル電極２１４―ｎ（ｎ＝１，２，３，…，Ｎ）から生じている電界によって電気光学効果が起こされた電気光学コア層１１２の領域とみなすこともできる。図３ａ〜ｄによって示されるように、白いエリアまたは領域は、電気光学効果によって光が進むまたは伝播することができる領域に対応する。対照的に、黒い領域は、電気光学効果が起こらなかった領域に対応し、それ故、光の伝播は可能でない。
【００３７】
隣接するピクセル電極２１４―ｎ間の空間だけでなく個々にアドレス可能なピクセル電極２１４―ｎ（ｎ＝１，２，３，…，Ｎ）の幾何形体は、可変の導波管１００、２００の形態上の構造を変えて、余分の損失を生じさせうるピクセル電極２１４―ｎの付近のあり得る電界不均一性を最小化するために、最大表面被覆率を考慮に入れなければならない。従って、ピクセル電極２１４―ｎは、図３ａ〜ｄに模範的に示されるような異なる幾何形体を有しうる。図３ａは、正方形のピクセル電極２１４―ｎを示し、一方、図３ｂは六角形のピクセル電極２１４―ｎを示す。図３ｃは、八角形のピクセル電極２１４―ｎを示し、一方、図３ｄは、円形のピクセル電極２１４―ｎを表す。もちろん、図示された幾何形体は典型的であるというだけであり、個々にアドレス可能なピクセル電極２１４―ｎ（ｎ＝１，２，３，…，Ｎ）の多くの他の幾何形体が考えられることは強調されなければならない。
【００３８】
更に電気光学コア層１１２における電界不均一性の効果を最小化するために、複数の平行したピクセル電極層は、発明の導波型光デバイスの設計において互いに重畳されうる。すなわち、電気光学コア層１１２の一面にも、または、両面にも、電極配置は、近接し、電気光学コア層１１２に平行した、複数のスタックされたおよび横にシフトされた電極層を含む。このことは、図４ａ、ｂに模範的に示す。
【００３９】
本発明の実施形態によれば、電極配置は、近接に（すなわち、ほぼ１０-7ｍ〜１０-4ｍの電気光学コア層１１２までの距離に）配置され、そして、第１の電極層１１４―１と同じ側の電気光学コア層１１２上に配置された、第１の電極層１１４―１と平行した更なる電極層１１４’―１を含む。ここで、更なる電極層１１４’―１は、横方向のピクセル電極間隔のため電界不連続性または不均一性を最小化するために、更なるピクセル電極２１４’―ｎ（ｎ＝１，２，３，…，Ｎ）の位置が第１の電極１１４―１の２つの隣接したピクセル電極２１４（ｎ―１）、２１４―ｎの位置の横方向に中間にあるように配置された個々にアドレス可能な更なるピクセル電極２１４’―ｎ（ｎ＝１，２，３，…，Ｎ）の配列を含む。このことにより、スタックされた電極層１１４―１および１１４’―１は、ピクセル電極２１４―ｎの直径の何分の一かである距離ｄだけ横方向にシフトされる。特に、２つのスタックされた電極層１１４―１および１１４’―１がある場合、ｄはピクセル電極の半径の範囲でありえる。一般に、ｄは、平行してスタックされた電極層の合計に反比例しうる。
【００４０】
もちろん、同様に２つ以上の平行かつ横方向にシフトされた電極層は、電気光学コア層１１２の一面、または、両面に各々の表面にスタックされうる。これは、３つの平行した六角形のピクセル電極層１１４、１１４’および１１４”は模範的に示される図４ｂに示す。ｘｙ平面射影上の最大表面被覆率を確実にするような方法で、電極層１１４、１１４’および１１４”はシフトされる。
【００４１】
電気光学コア層１１２は、さまざまな無機または有機材料などの電気光学材料でできていてもよい。非線形結晶（ニオブ酸リチウム）、ガリウム砒素、ＴｉＯ2などの酸化物などの無機材料、およびセラミックＰＬＺＴ、ＰＭＮ−ＰＴ、または、有機／無機／セラミックの混合物またはセラミック複合材が使用されうる。あるいは、コア層は、ポリマー、コポリマー、架橋ポリマー、ホスト―ゲスト・システム、有機的に改良されたゾル―ゲル類、液晶、ポリマーマトリクスで分散された液晶、シリコン系ポリマーおよび前に言及された材料を用いた自己集合の種類から、電気光学有機物質または非線形光学カー（Ｋｅｒｒ）材料から作られることができる。特に高速デバイス（＞１０ＧＨｚ）が関わるときに、発明された実施形態を用いた使用のために適切なカー（Ｋｅｒｒ）効果媒体は、ポリマーの側鎖に付着した発色団を含んでいる混合であり、その発色団は、それぞれ高い非線形光学応答、β−超分極率を有する。ポリマーマトリックスの発色団の例は、例えば４Ｎ，Ｎ’―ジメチルアミン―４’ニトロスチルベン／ポリメタクリル酸メチル（ＤＡＮＳ／ＰＭＭＡ）、ディスパース赤１／ポリメタクリル酸メチル（ＤＲ１／ＰＭＭＡ）、ディスパース赤１／ディスパース赤発色団の種類からのＤＲ１を伴うポリウレタン（ＤＲ１／ＰＵＲ）である。コア層１１２およびクラッド層２０２は、異なるドーピング特性、インプラントおよび注入プロファイル、ポーリング度、架橋度などに関して同じ材料から作られることができ、あるいは、異なる材料から作られることができる。一般に、クラッド層２０２は、当業者に知られているパッシブ材料または電気光学物質で作られることができる。
【００４２】
電気光学コア層１１２および／またはクラッド層２０２は、スピンコーティング、浸せきコーティング、プリンティングまたはブラッシングなどの周知の方法によって製造されることができて、電極層１１４に位置付けられることができる。いくつかの場合において、例えば、発色団の場合、特別な分極処理は、スピンコーティングの後に、ポリマーフィルムにおいてポッケルス効果を起こさせるために必要な最初のランダムに方位決定された双極子の微視的な分極を引き起こすことを必要とする。このことにより、発色団は、２つの異なる分子軌道間のエネルギー差が可視スペクトルの範囲に入る分子の領域を意味する。層サンドイッチ１１０の電気光学導波管層１１２のポーリングは、コロナポーリング、電極ビームポーリング、イオンビームポーリングなどの当業者に知られている方法によって実現されうる。その結果は、例えば、電子光学係数の増加である。そして、それは電気光学導波管変調装置の演算のための低電圧または低半波長電圧で次々に導波管単一モード演算を支持する。
【００４３】
【００４４】
【００４５】
また、上部または下部のクラッド層２０２―１、２０２―２に加えて、更なるクラッド層２０２’―１および／または２０２’―２は、電極層１１４―１または１１４―２とクラッド層２０２―１または２０２―２との間に最も外部のクラッド層として、それぞれ、付け加えられることができる。そして、更なるクラッド層２０２’―１および／または２０２’―２は、光学モードが電極層１１４―１および／または１１４―２に接触して、それにより余分の光損失を生じさせないようにするために、第１のクラッド層２０２―１および／または第２のクラッド層２０２―２より低い屈折率を有する。
【００４６】
複数の電極２１４により電気光学効果を起こさせることによって可変的に光波を導くという本発明概念が説明されたので、本発明のさまざまな例示的実施形態がより詳細に強調される。図５を参照して、電気光学コア層１１２に近接した電極層１１４を１つだけ有する電極配置を含んでいる導波型光デバイス５００について説明する。
【００４７】
導波型光デバイス５００は、複数の個々にアドレス可能なピクセル電極２１４―ｎ（ｎ＝１、２、３、４）を含んでいる電極層１１４の層スタック１１０を含む。電極層１１４の上に、バッファ層またはクラッド層２０２が配置される。更に、クラッド層２０２の上に、可変的に光を導くための電気光学コア層１１２が配置される。電極層１１４は、複数の同一の平面配置されたピクセル電極２１４―ｎから成り、そして、各々が電子基板（図示せず）を介して個々にアドレス可能である。所望の経路上の選択された隣接するピクセル電極（図５は模範的に電極２１４―２、２１４―３を示す）との間に電位差を印加することは、電気光学コア層１１２の領域１１６において、電気光学コア層１１２の屈折率の局所的変化を次々引き起こす。これは、生成された電界による電気光学コア層１１２の領域１１６の貫通のためである。その結果、光波は、１つの電極層１１４の選択された隣接するピクセル電極との間に印加された電位差によって定められた経路に沿って、導波型光デバイス５００の電気光学コア層１１２のアクティブにされた領域１１６において導かれることができる。
【００４８】
導波型光デバイス６００の更なる実施形態は、図６の断面図において、図式的に表される。
【００４９】
導波型光デバイス６００は、下部の電極層１１４―１を含み、下部の電極層１１４―１は、シリコンまたはガラス基板／ウェーハ２２０―１に位置付けられた複数の同一の平面配置された電極２１４―ｎ、および絶縁層２３０―１を含む。ピクセル電極２１４―ｎは、定められた電位Ｕnに接触することができる。電位Ｕnは、下部の電極層１１４―１のピクセル電極２１４―ｎの各々に関して独立して設定されることができる。下部の電極層１１４―１の上に、下部および上部のクラッド層２０１―１、２０２―２間にはめ込まれた電気光学コア層１１２を含んでいる多層スタックが配置される。上部のクラッド層２０２―２上に位置付けられた上部電極層１１４―２は、接地電極としての導電層を含む。上部電極層１１４―２の上に、ガラスまたはシリコンの上部基板２２０―２は、供給される。
【００５０】
電極層１１４―１、１１４―２の中の導電部、すなわち、例えば、ピクセル電極２１４―ｎは、アルミニウム、ＩＴＯ、導電性高分子材料などから作られうる。下部のクラッド層２０２―１は、有機または無機材料または複合材から作ることができ、コア層１１２は、電気光学材料から作ることができ、そして、上部のクラッド層２０２―２も、有機または無機材料、混合または複合材から作ることができる。下部および上部のクラッド層２０１―１、２０２―２間に埋込まれた電気光学コア層１１２を含んでいる多層スタックは、電極層１１４―１および１１４―２の間に挟まれている。所望の光伝搬経路に対応する下部の電極層１１４―１の個々にアドレス可能なピクセル電極２１４―ｎ間のゼロ以外の電圧を印加することは、下部の電極層１１４―１の選択されたピクセル電極間のそれぞれ結果として生じる電界に応答して、それぞれ、電気光学コア層１１２の屈折率の局所的変化を引き起こす。光波は、このアクティブにされた経路に沿ってデバイス６００の電気光学コア層１１２において導かれることができる。あるいは、電気光学コア層１１２を貫通している電界を生成するために、ゼロ以外の電圧が、下部の電極層１１４―１の個々にアドレス可能なピクセル電極２１４―ｎおよび反対の上部電極層１１４―２との間に印加されることもできる。
【００５１】
本発明の更なる実施形態は、図７の断面図において、模範的に表される。
【００５２】
図７の導波型光デバイス７００は、上部電極層１１４―２の実施態様によって、導波型光デバイス６００と異なる。ここで、図６に示される上部電極層１１４―２は、単に導電層によって実現された単一電極を含むだけであり、導波型光デバイス７００の上部電極層１１４―２は、下部の電極層１１４―１と同様で、上のシリコンまたはガラス基板／ウェーハ２２０―２に位置付けられた、平面配置され、個々にアドレス可能な複数のピクセル電極２１４―ｎおよび絶縁層２３０―２を含む。個々のピクセル電極２１４―ｎは、電位Ｕn’と接続されることができる。ここで、電位Ｕn’は、上部電極層１１４―２の個々のピクセル電極２１４―ｎを駆動するために、互いに独立して設定されることができる。下部および上部の電極層１１４―１、１１４―２の両方の個々のピクセル電極は、所望の光路構成を起こさせるために個々にプログラムされることができる。上部電極層１１４―２のピクセル電極は、電気光学コア層１１２の反対側に下部の電極層１１４―１のピクセル電極に関する垂直軸について対称的に好ましくは配置される。すなわち、上部電極層１１４―２のピクセル電極は、対称面としての電気光学コア層１１２に関して、下部の電極層１１４―１のピクセル電極に、対称的に配置される。選択されたピクセル電極は所望の光学経路に対応して、隣接した下部または上部ピクセル電極間のゼロ以外の電位差を印加すること、または、対応する反対の下部および上部のピクセル電極間の電位差を印加することは、電気光学コア層１１２の屈折率の関連した局所的変化を引き起こす。このことは、既に前で説明した。光波は、この経路１１６に沿ってデバイス７００のコア層１１２において導かれることができる。図６の実施形態と比較した違いは、アクティブにされた領域または導波モード強度プロファイル１１６が、この場合には、ｘｙ平面、すなわち電気光学コア層１１２の平面に関して対称的であるということである。このように、伝播方向に沿ったモード制限は、改良されうる。そして、この効果による伝搬損失は、最小化されうる。
【００５３】
図８ａに示される更なる実施形態は、導波型光デバイス６００の実施形態と比較して、電極配置が２つの下部の垂直にスタックされ、横方向にシフトされた電極層１１４―１および１１４’―１を含むことを除いて、同様の部分を有する導波型光デバイス８００を示す。このような構成は、図４ａ、４ｂを参照してすでに説明された。すなわち、シリコンウエハ２２０―１に形成された電極配置は、２つの垂直にスタックされ、横方向にシフトされた電極層または平面１１４―１、１１４’―１を含み、各々が基板２２０―１上に複数の同一の平面に配置されたピクセル電極２１４―ｎ、２１４’―ｎを有する。ピクセル電極層１１４―１、１１４’―１は、平行に互いに重畳されて、ｘｙ平面射影上に最大表面被覆率を確実にするような方法で、横方向にシフトされる。これは、ピクセル電極に近接して光学モードの余分の損失を起こす、ピクセル電極設計の不連続のため電界不均一性の効果を最小化するためである。分離して、垂直にスタックされ、水平にシフトされた２つの電極層１１４―１、１１４’―１からの個々にアドレス可能なピクセル電極は、それぞれ、電圧を分離するように接続される。選択された隣接の下部のピクセル電極間にゼロ以外の電位差を印加する、または、下部のピクセル電極２１４―ｎ、２１４’―ｎおよび上部の電極層１１４―２間にゼロ以外の電位差を印加するときに、所望の光学経路１１６に対応する選択されたピクセル電極は、個々にアドレス付けされたおよび／または駆動された電極によって生成された電界に応答して、電気光学コア層１１２の経路１１６における屈折率の変化をもたらし、その結果、光の伝播は領域１１６に沿って操作されることができる。
【００５４】
図８ｂは、下部の電極構造が、それぞれが基板２２０―１に形成された複数の同一平面のピクセル電極を有する２つの下部の電極層または平面１１４―１、１１４’―１を含むことを除いて、図７を参照して説明された光導波路７００と同様である光導波路８５０の実施形態の断面図を示す。電気光学コア層１１２の下の２つの分離した電極層１１４―１、１１４’―１のピクセル電極は、電位または電圧Ｕnを分離するために接続される。ここで、電位Ｕnまたは対応する下部のピクセル電極は、個々にアドレス可能である。これは、ここでも、電極に近接した光学モードの余分の損失まで上昇する、電極設計の不連続性のため電界不均一性の効果を最小化するためである。電気光学コア層１１２より上の上部電極構造はまた、下部の電極構造と同様、ピクセル電極の２つの垂直にスタックされ、横方向にシフトされた平面または層１１４―２、１１４’―２を含む。２つの分離した上部電極層１１４―２、１１４’―２からの個々のピクセル電極はまた、それぞれ、電圧Ｕn’を分離するように接続されうる。ここで、個々の上部ピクセル電極は、アドレス付けされたピクセル電極に個々の電位Ｕn’を印加するために、個々にアドレス可能である。好ましくは、上部の電極構造のピクセル電極は、電気光学コア層１１２によって定められた平面に関して、下部の電極構造のピクセル電極に対称的に配置される。
【００５５】
本発明の実施形態による可変光導波路デバイスモデル設計は、個々にアドレス可能なピクセル電極２１４の十分なアクティブ化によって、さまざまな平面導波路構造ベースのデバイスに取って代わることができる。図９は、模範的に、本発明の可変導波型光デバイスによって生成された電界を変調する方法の例として、異なる電圧Ｕ0＝０ＶおよびＵ1、Ｕ2（Ｕ1≠Ｕ2）でセットされた隣接するピクセル電極の配列の上面図を示す。異なる印加電圧による電界変調は、連結された光学モードにおいて次々に入力強度Ｉinから出力強度Ｉout,varまでの光学強度変化を誘発する。すなわち、実施形態によれば、電極配置は、電気光学コア層１１２の異なる部分において異なる電界強度を生成し、その結果、電気光学コア層１１２の異なる部分において異なる起こされた電気光学効果を得るように構成される。その結果、可変光減衰器は、図９を参照して説明された原理によって実現されうる。
【００５６】
図１０ａおよび図１０ｂは、本発明の実施形態を用いて光方向性結合器を実現することの原理を示す。図１０ａによれば、方向性結合器の入力で入力強度Ｉinを有する光波は、アクティブな電気的構成が直線経路に対応するゼロ以外の電圧のピクセル電極の直線配列を含む、実施形態による導波型光デバイスの出力までの直線経路上を伝搬する。図１０ｂに示されるように、入力光波は、モード干渉によって、この他の経路、すなわち対応するピクセル電極がアクティブにされるとき、他の並列な経路と結合する。この構想は、Ｙ分岐干渉計、ビーム方向変換器などの曲がり導波管を必要とするデバイスの設計においても使用されうる。
【００５７】
発明の導波型光デバイスのようにピクセル化された電極または個々のピクセル電極２１４を有する電極層１１４は、アクティブな導波管および／または構造導波管のための他のピクセル化されていない電極構造とも結合されうる。この場合、アクティブおよびパッシブなデバイスのさまざまな組み合わせは、マルチプレクサ、デマルチプレクサ、連絡管、多連装変調装置などのさまざまな機能を作りだすように、または、可変導波型光デバイスにおいて光の結合を容易にするために、設計されうる。
【００５８】
図１１ａは、外部の所定の光学経路１１１０―ｋ（ｋ＝１，２，…，Ｋ）と結合して、アクティブで、個々にアドレス可能なピクセル電極２１４を有する発明の可変導波型光デバイス１１００を示す。したがって、可変導波型光デバイス１１００は、例えば、従来の光ファイバによって定められうる、接続された外部の所定の光学経路１１１０―ｋ（ｋ＝１，２，…，Ｋ）間の柔軟な光のルーティングを可能にする。あるいは、外部の所定の光学経路１１１０―ｋはまた、対応する固定された又は所定の電極によって、電気光学コア層１１２において定められうる。そして、それは、可変的な電気／光学経路を供給する可変導波型光デバイス１１００の可変的なピクセル化された表面とは対照的に、従って所定の電気／光学経路１１１０―ｋを供給している所定の形状を有することができる。図１１ａにおいて、１つの一次元のピクセル電極配列は、外部の光学経路１１１０―ｋごとに使用される。ここで、図１１ｂの可変導波型光デバイス１１５０は、外部の光学経路１１１０―ｋごとに、複数の一次元のピクセル配列を使用する。図１１ａにおいて、光学経路Ｉｎ１から来る光は、導波型光デバイス１１００を介して、光学経路出力口Ｏｕｔ１に送られる。光学経路入力Ｉｎ２から来る光は、偏向させられた波の直接のルーティングにより、または、発明の可変導波型光デバイス１１００による図１０の結合方法によって、光学経路出力Ｏｕｔ２の方へ送られる。
【００５９】
図１１ｂの場合には、光学経路入力Ｉｎから来る光は、光学経路出力口Ｏｕｔ１およびＯｕｔ２の両方に送られる、すなわち、光は、本発明の導波型光デバイス１１５０によってＯｕｔ１およびＯｕｔ２との間で分けられる。発明の可変導波型光デバイスへの光の結合は、例えば、テーパファイバ（ｔａｐｅｒｅｄ ｆｉｂｅｒ）、マイクロレンズ、プリズムまたはホログラフィック回折格子によって実現されうる。
【００６０】
ここでは、図１２ａ〜図１２ｃを参照して、発明概念による光波の光学的偏向について説明する。
【００６１】
【００６２】
式（７）から、例えば、Ｒ＝１０-16ｍ2／Ｖ2、屈折率ｎ0＝２．５、電気光学コア幅ｂ＝２５μｍ、コア厚ｄ＝２５μｍおよびＵ0＝０からＵMAX＝１００Ｖまでコア全体でおよそ線形に変動する電圧を有するカー材料に関して、導波管の曲率の半径ρ0は、約８００μｍとなる。
【００６３】
図１２ｂによって図示されているように、Ｕ0からＵMAXまでのこの電圧変動は、発明の導波型光デバイスの助けを借りて実現されうる。図１２ｂの左側に表される導波路セグメント１２１０の実現は、図１２ｂの右側に詳細図を示されるように、電極層の対応するピクセル電極の電圧変動によって達成されうる。このようにして、例えばマイクロリング共振器などの、小半径、大きい偏向角を有する平面で、二次元の可変導波型光デバイスを設計することは可能である。図１２ｂは、六角形のピクセル電極構造の平面図からの部分を表示する。ピクセル電極２１４または対応するピクセルが十分に小さいと仮定するならば、マイクロリング共振器からの部分１２１０は、光導波路経路に横の方向に可変の電圧をピクセル電極２１４に印加することに作り出される。すなわち、電極配置、それぞれ電圧をアドレス付けするドライバは、電気光学コア層１１２における上昇する、下降するまたは一定の電界強度を生成するように構成されることができる。その結果、上昇する、下降するまたは一定の電界強度に応答して、電気光学材料の屈折率は、異なる方向への光伝搬を導くおよび／または送るおよび／または変調するために変化する。特に、（関連した電圧をアドレス付けするドライバと共に）電極配置は、光伝搬方向に対して垂直な電気光学コア層１１２の上昇するまたは下降する電界強度を生成するように構成されることができる。その結果、上昇するまたは下降する電界強度に応答して、電気光学材料の屈折率は、伝搬性光を偏向させるための光伝搬方向に対して垂直に変化する。
【００６４】
すなわち、実施形態の導波型光デバイスの電極配置は、電気光学コア層１１２の異なった部分において可変的な電界強度を生成するように構成されうる。その結果、異なった部分の電気光学材料の屈折率は、ビーム偏向器、ビーム方向変換器、光スイッチ、連絡管、光学的ルーター、ビームスプリッタ、輝度変調器、電力減衰器、Ｙ分岐干渉計、マッハ・ツェンダー干渉計、方向性結合器、マイクロリング共振器、可変光減衰器または偏光コントローラの各特徴的な機能を用いて、結合された光波が異なる方向に導かれる、送られる、および／または変調されることを可能にするように変化する。
【００６５】
ここで図１３を参照して、本発明の一実施形態の導波型光デバイスの製作方法が強調される。
【００６６】
第１のステップＩにおいて、複数の平面配置されたピクセル電極２１４は、ガラスまたはシリコン基板でありえる、キャリアまたは基板２２０―１上の導電層において構築される。第２の製作ステップＩＩにおいて、絶縁層２３０、例えば酸化物を、複数のピクセル電極２１４上に堆積させて、例えば、半導体ウエハまたは他の基板を平坦化するための半導体製作において、従来、使用されるテクニックである、一般にＣＭＰと略記される、化学機械的研磨または化学的・機械的研磨によって平坦化させる。第３の（任意の）ステップＩＩＩにおいて、第１の電極層１１４―１と平行であり、個々の更なるピクセル電極２１４’の配列を含んでおり、ピクセル電極２１４と同様の方法で平坦化させた更なる電極層１１４’―１は、絶縁層２３０上で製作される。第４の（任意の）製作ステップＩＶにおいて、更なる絶縁材料を、各々から更なるピクセル電極２１４’を絶縁するために、絶縁層２３０上に堆積させる。第５のステップＶにおいて、第１の（下部の）緩衝層またはクラッド層２０２―１は、同一の薄膜を平坦な基板に塗布する処置であるスピンコーティングによって例えば２つの電極層１１４―１、１１４’―１上に塗布される。その後、ステップＶＩにおいて、電気光学コア層１１２が、例えばスピンコーティングによって、第１のクラッド層２０２―１上に堆積する。その後のステップＶＩＩにおいて、第２の（上部の）クラッド層２０２―２は、例えば、スピンコーティングによって、コア層１１２に堆積する。最後に、ステップＶＩＩＩで、上部の電極１１４―２層は、例えば先に述べた例のいずれかのようにスピンコーティングによって、または、上部の電極１１４―２層を含んでいるウェーハを結合することによって、設計され、製作されることができる。必要に応じて、結果として生じる導波管多重積層は、いかなる周知の手段によってもポーリングされる。
【００６７】
ピクセル電極製作ステップは、標準シリコンプロセス技術を使用したパターニングによって実現されうる。電子回路にピクセル電極２１４を連絡することは、電極層の各ピクセルを連絡している横方向の金属レーンによって、または、ウェーハによる相互接続によって実現されうる。個々のピクセル電極２１４をアドレス付けするために、ＳＲＡＭのようなアドレス回路構成を使用することもできる、すなわち、各ピクセル電極２１４は、ＳＲＡＭの１つのセルに対応する。シリコン製作方法を利用することによって、本発明の実施形態によるいくつかの導波型光デバイスは、コスト効率のよい製造を可能にしている１つのウェーハに平行に製造されることができる。
【００６８】
要約すると、本発明のいくつかの実施形態は、電極を含んでいる下部および上部の基板間にはさまれた少なくとも１つの電気光学層から成る導波路デバイスに関する。実施形態の導波路デバイスに関して、少なくとも１つの下部または上部の電極は、複数の個々の電極の少なくとも１つの配列が生成されるように、パターニングされる。このことにより、個々の電極の配列は、基板の少なくとも１つの平面マトリクスに配置される。個々の電極の平面マトリクスは、平行に、基板に互いに重畳される。その結果、電極分離によるいかなる場の不連続性も少なくとも最小化される。前記個々の電極は、正方形、円形、六角形、八角形、三角形、レンズ状または他のいかなる種類の形状などの幾何形体を有している。いくつかの実施形態によれば、基板の個々の電極のマトリクスは、基板に平行な投影面に最大表面被覆率を確実にするような方法で、互いにシフトされる。下部の基板からの少なくとも１つの個々の電極および上部の基板からの少なくとも１つの個々の電極は、ユーザー定義の位置で互いに位置付けられる。上部または下部の基板を含んでいる電極は、なくてもよい。残りの電極は、複数の個々の電極の配列が生成されるように、パターニングされうる。電界を生成するために、１つの基板の少なくとも２つの隣接する個々の電極は、異なる電位でセットされる。いくつかの実施形態によれば、上部または下部の基板は、１つの電極層だけを含みうる。下部の基板の少なくとも１つの個々の電極および上部基板の１つの個々の電極は、電気的にアドレス付けされうる。また、下部の基板のすべての個々の電極および上部の基板のすべての個々の電極は、電気的にアドレス付けされうる。このことにより、あらゆる下部のおよびあらゆる上部の基板に含まれる個々の電極は、考えられるあらゆる電気経路構成を選択的にアクティブにするために、電気的にアドレス付けされうる。下部または上部の基板に含まれる個々の電極は、デジタルモードで、または、アナログモードで作動されうる。好ましい実施形態によれば、前記電気光学層は、それに隣接して少なくとも１つのクラッド層を有する。このことにより、クラッド層は、同じまたは異なる物質から形成されることができ、そして、電気光学層、すなわち、コアは、クラッディングの屈折率に等しいまたはそれより高い屈折率を有する物質から形成されうる。コアは、ポリマー、コポリマー、架橋ポリマー、ホスト―ゲスト・システム、例えばポリマーマトリックス（ＤＡＮＳ／ＰＭＭＡ、ＤＲ１／ＰＭＭＡ、ＤＲ１／ＰＵＲ、ディスパース赤発色団の種類のＤＲ１を有する）において混合された非線形光学発色団、側鎖ポリマーの発色団の種類から、電気光学有機物質または非線形光学カー材料から形成されることができる。ここで、発色団は、それぞれ高い非線形光学応答、β―超分極率、有機的に修正されたゾル―ゲル類、液晶、高分子マトリックスにおいて散布される液晶、シリコン系ポリマーおよびポリマーを有する他のいかなる混合を有する。他の実施形態によれば、コアは、非線形結晶（ニオブ酸リチウム）、ガリウム砒素、ＴｉＯ2などの酸化物などの電気光学無機材料およびカー材料、ＰＬＺＴ、ＰＭＮＰＴなどのセラミック、または有機／無機／セラミックの混合、またはセラミック複合材および前に言及された材料を用いた自己集合材料から形成されることができる。クラッディングは、ガラスなどの有機物質、アクリルなどのポリマーおよびコポリマー、ＵＶ硬化ポリマー、架橋ポリマー、シリコーンエラストマ、ホスト−ゲスト・ポリマーまたはコア材料より低い電子光学係数の他の電気光学材料、または、反対方向にポーリングされているがコアと同じ電気光学材料から形成されることができる。また、前記クラッディングは、ガラスなどの無機材料、酸化物、非線形結晶、セラミックおよびいかなる有機および／または無機配合物および複合材から形成されることができる。
【００６９】
下部および上部の基板の個々の電極は、電気光学コア層の屈折率の局所的変化を引き起こすために、アドレス付けされうる。下部および上部の基板の個々のアドレス付けされた電極は、可変光導波路の電気経路構成に対応する。デバイスの光を結合している出入は、テーパファイバ、マイクロレンズ、プリズムまたはホログラフィック回折格子の周知の手段によって実現されうる。コアおよびクラッド層は、受動光導波路を形成するために構築されることができる。更なる実施形態によれば、少なくとも、光導波路経路は、ビーム偏向器、光スイッチ、ネットワークハブおよび連絡管として使用される。また、少なくとも、光導波路経路は、ビームスプリッタ、輝度変調器、電力減衰器、Ｙ分岐、マッハ・ツェンダー干渉計、方向性結合器またはマイクロリング共振器として使用されることができる。光導波路経路は、マイクロリング共振器を形成するために使用されることができる、または、ビーム方向変換器、光学的ルーターまたは光学トランスポンダとして使用されることができる。説明されたように、光導波路経路の少なくとも一部は、可変光減衰器、レンズ、プリズムまたは格子として使用されることができる。また、コア層全体に適切な電界を使用することによって、光導波路は、偏向した光を導くことに関連して、分極制御のために使用されることができる。
【００７０】
実施形態によれば、上部または下部の基板は、予め設定された電極経路を含むことができる。少なくとも１つの基板は、一部分は、個々にアドレス可能電極を含んでいるマトリクスでありえ、一部分は、固定された電極経路でありえる。
【００７１】
実施形態によれば、導波路デバイスの製作方法は、少なくとも複数の個々にアドレス可能な電極を含んでいる基板に近接して電気光学層を形成することを含む。電気光学コア層は、有機物質でできていてもよいが、その有機物質は、スピンコーティング、浸せきコーティング、ブラッシングなどのどの周知の手段によっても堆積することができる。少なくともクラッド層はまた、有機物質から製造されることができるが、その有機物質は、スピンコーティング、浸せきコーティング、ブラッシングなどのどの周知の手段によっても堆積することができる。前に説明されたように、電気光学コア層は、無機材料、または無機／有機／セラミック材料の混合または複合材またはナノマテリアルでもよい。いくつかの実施形態によれば、電気光学層は、ポーリングされる。
【００７２】
個々にアドレス可能な電極構造は、シリコン基板に形成されることができる。ここで、個々の電極は、ＣＭＰおよびリフローによる個々の電極平坦化技術を用いたＣＭＯＳ技術によって形成される。電極は、ＳＲＡＭのような回路またはアーキテクチャによって、個々にアドレス可能でありえる。
【００７３】
発明の平面アクティブ導波路デバイスは、少なくとも１つのクラッド層に近接して／その間に位置付けられた電気光学コア層でできている導波管アクティブ構成全体の電界を変化させることができる。コアおよびクラッド層は、有機、無機、複合材または混合物でできている。少なくとも１つの最も外部の電極層は、電子基板を介して個々にアドレス可能である、複数の密接に集められた平面ピクセル電極から成る。デバイスの平面構造の中で、様々な光導波路経路は、ピクセル電極平面のアドレス指定対応する電気経路によってアクティブにされることができる。
【００７４】
発明の可変平面光導波路デバイスは、光学基礎要素の特性がそれぞれアクティブに調整され、それぞれ調整されることができるという追加の利点を有する、コネクタ、スイッチ、電力減衰器、ビーム方向変換器、方向性結合器、輝度変調器、ビーム偏向器、リング共振器、マッハ・ツェンダー干渉計、格子またはレンズまたは他のいかなる平面光導波路ベースのデバイスなどの導波管に基づいて、多数のあり得る現存のデバイスに取って代わることができる。
【００７５】
いくつかの本発明の態様が可変導波型光デバイス装置に関連して説明されたが、これらの態様も可変的に光波を導くための対応する方法の記載を示すことは明らかである。ここで、機能ブロックまたはサブデバイスは、方法ステップまたは方法ステップの機能に対応する。類似して、方法ステップに関連して説明された態様は、対応するブロックまたは項目の記載または対応する装置の機能を示す。
【００７６】
それ故、実施形態はまた、可変的に、光波を導く、送る、変調するための方法を供給し、その方法は、電気光学コア層１１２に近接した少なくとも第１の電極層１１４を有する電極配置によって可変的に生成された電界によって、可変的に電気光学材料の電気光学コア層１１２の領域１１６において電気光学効果を起こさせることを含み、その結果、光の伝播は可変的に起こされた電気光学効果の領域において操作される。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を導くための電気光学材料の電気光学コア層（１１２）と、
前記電気光学コア層（１１２）に近接した少なくとも１つの第１の電極層（１１４；１１４―１）を有する電極配置であって、前記電極配置は、前記電極配置によって生成された電界によって前記電気光学コア層（１１２）の領域（１１６）に電気光学効果を起こさせるように構成され、その結果、前記光の伝播が前記起こされた電気光学効果の前記領域において操作されることを特徴とする、前記電極配置と、
を含む層スタック（１１０）、
を含む、導波型光デバイス（１００；２００；５００；６００；７００；８００；８５０）。
【請求項２】
前記第１の電極（１１４；１１４―１）層は、アドレス付けされた第１の電極に電位を個々に印加することによって生成された電界によって、前記電気光学コア層（１１２）の前記領域（１１６）に前記電気光学効果を起こさせるために、平面配置され、かつ、個々にアドレス可能な複数の第１の電極（２１４）を含むことを特徴とする、請求項１に記載の導波型光デバイス。
【請求項３】
前記電極配置は、近接して、前記電気光学コア層（１１２）の前記第１の電極層（１１４；１１４―１）と同じ側に配置された更なる電極層（１１４’）であって、前記第１の電極層（１１４；１１４―１）に平行した前記更なる電極層（１１４’）を含み、前記更なる電極層（１１４’）は、横方向の電極分離によって電界不均一性を最小にするために、更なる電極（２１４’）の位置が２つの隣り合う第１の電極（２１４）の位置の横方向の中間にあるように配置された、複数の個々にアドレス可能な更なる電極（２１４’）を含むことを特徴とする、請求項２に記載の導波型光デバイス。
【請求項４】
前記電極配置は、近接して、前記電気光学コア層（１１２）の前記第１の電極層（１１４―１）と反対側に配置された第２の電極層（１１４―２）であって、前記電気光学コア層（１１２）が前記第１および第２の電極層（１１４―１；１１４―２）間に配置されるように、少なくとも１つの第２の電極（２１４）を含んでいる前記第２の電極層（１１４―２）を含み、前記第１の電極層（１１４―１）の隣接の個々にアドレス可能な第１の電極の電位差によって、または、前記第１および第２の電極層（１１４―１；１１４―２）の対向する個々にアドレス可能な電極間の電位差によって、前記電気光学効果は起こされることを特徴とする、請求項１〜請求項３のいずれかに記載の導波型光デバイス。
【請求項５】
前記電極配置の個々にアドレス可能な電極（２１４）は、四角形、六角形、八角形、または、レンズ状の幾何的形状を有することを特徴とする、請求項１〜請求項４のいずれかに記載の導波型光デバイス。
【請求項６】
前記電気光学コア層（１１２）の前記電気光学材料は、前記電極配置によって生成された前記電界に応答して、その屈折率を変えるように構成され、その結果、前記領域（１１６）において前記電気光学効果を起こすことが、前記領域（１１６）において前記電気光学材料の前記屈折率を変えることを含むことを特徴とする、請求項１〜請求項５のいずれかに記載の導波型光デバイス。
【請求項７】
前記電気光学材料は、電気光学有機材料、電気光学無機材料、有機／無機非線形光学カー材料、またはカー材料のグループから選択されることを特徴とする、請求項１〜請求項６のいずれかに記載の導波型光デバイス。
【請求項８】
前記層スタック（１１０；２１０）は、前記電気光学コア層（１１２）と前記第１の電極層（１１４；１１４―１）との間に第１のクラッド層（２０２；２０２―１）を含み、前記第１のクラッド層（２０２；２０２―１）は、前記電気光学コア層（１１２）の屈折率に等しい、または、前記電気光学コア層（１１２）の屈折率より低い屈折率を有する材料から形成されることを特徴とする、請求項１〜請求項７のいずれかに記載の導波型光デバイス。
【請求項９】
前記層スタック（１１０；２１０）は、前記第１のクラッド層（２０２―１）と比較して前記電気光学コア層（１１２）の反対側に配置された第２のクラッド層（２０２―２）を含み、その結果、前記電気光学コア層（１１２）が前記１のクラッド層および前記第２のクラッド層（２０２―１；２０２―２）の間に配置されること、および、前記第２のクラッド層（２０２―２）は、前記電気光学コア層（１１２）の屈折率に等しい、または、前記電気光学コア層（１１２）の屈折率より低い屈折率を有する材料から形成されることを特徴とする、請求項８に記載の導波型光デバイス。
【請求項１０】
前記第１および／または第２のクラッド層（２０２―１；２０２―２）の材料は、有機材料、無機材料、有機および／または無機配合物のグループから選択されることを特徴とする、請求項８又は請求項９のうちの１つに記載の導波型光デバイス。
【請求項１１】
前記電極配置は、前記電気光学コア層（１１２）の異なる部分において起こされた異なる電気光学効果強度を得るなどのために、前記電極配置の異なる電極に異なる電位を印加することによって、前記電気光学コア層（１１２）の前記異なる部分において前記異なる電界強度を生成するように構成されることを特徴とする、請求項１〜請求項１０のいずれかに記載の導波型光デバイス。
【請求項１２】
前記電極配置は、光伝搬方向に対して垂直に、電気光学コア層（１１２）において上昇するまたは下降する電界強度を生成するように構成され、その結果、前記上昇するまたは下降する電界強度に応答して、前記電気光学材料の屈折率が、伝搬する光を偏向するために、前記光伝搬方向に対して垂直に変化することを特徴とする、請求項１〜請求項１１のいずれかに記載の導波型光デバイス。
【請求項１３】
個々にアドレス付けされた電極（２１４―ｎ）に設定可能な電位（Ｕn）を印加するために、前記電極配置の前記個々にアドレス可能な電極（２１４―ｎ）を個々にアドレス付けするためのアドレス論理回路を含むことを特徴とする、請求項１〜請求項１２のいずれかに記載の導波型光デバイス。
【請求項１４】
基板上に形成された前記電極配置の少なくとも前記第１の電極層（１１４―１）は、ＣＭＯＳ技術によって製造されること、および、前記少なくとも前記第１の電極層（１１４―１）の少なくとも１つの電極は、内蔵されたＣＭＯＳ回路によって個々にアドレス可能であることを特徴とする、請求項１〜請求項１３のいずれかに記載の導波型光デバイス。
【請求項１５】
可変的に光波を導くための方法であって、前記方法は、
電気光学コア層（１１２）に近接した少なくとも１つの第１の電極層（１１４；１１４―１）を有する電極配置によって生成された電界によって電気光学材料の前記電気光学コア層（１１２）の領域（１１６）に電気光学効果を起こさせ、その結果、前記光の伝播が前記起こされた電気光学効果の前記領域において操作されるステップを含むことを特徴とする、方法。
【請求項１】
光を導くための電気光学材料の電気光学コア層（１１２）と、
前記電気光学コア層（１１２）に近接した少なくとも１つの第１の電極層（１１４；１１４―１）を有する電極配置であって、前記電極配置は、前記電極配置によって生成された電界によって前記電気光学コア層（１１２）の領域（１１６）に電気光学効果を起こさせるように構成され、その結果、前記光の伝播が前記起こされた電気光学効果の前記領域において操作されることを特徴とする、前記電極配置と、
を含む層スタック（１１０）、
を含む、導波型光デバイス（１００；２００；５００；６００；７００；８００；８５０）。
【請求項２】
前記第１の電極（１１４；１１４―１）層は、アドレス付けされた第１の電極に電位を個々に印加することによって生成された電界によって、前記電気光学コア層（１１２）の前記領域（１１６）に前記電気光学効果を起こさせるために、平面配置され、かつ、個々にアドレス可能な複数の第１の電極（２１４）を含むことを特徴とする、請求項１に記載の導波型光デバイス。
【請求項３】
前記電極配置は、近接して、前記電気光学コア層（１１２）の前記第１の電極層（１１４；１１４―１）と同じ側に配置された更なる電極層（１１４’）であって、前記第１の電極層（１１４；１１４―１）に平行した前記更なる電極層（１１４’）を含み、前記更なる電極層（１１４’）は、横方向の電極分離によって電界不均一性を最小にするために、更なる電極（２１４’）の位置が２つの隣り合う第１の電極（２１４）の位置の横方向の中間にあるように配置された、複数の個々にアドレス可能な更なる電極（２１４’）を含むことを特徴とする、請求項２に記載の導波型光デバイス。
【請求項４】
前記電極配置は、近接して、前記電気光学コア層（１１２）の前記第１の電極層（１１４―１）と反対側に配置された第２の電極層（１１４―２）であって、前記電気光学コア層（１１２）が前記第１および第２の電極層（１１４―１；１１４―２）間に配置されるように、少なくとも１つの第２の電極（２１４）を含んでいる前記第２の電極層（１１４―２）を含み、前記第１の電極層（１１４―１）の隣接の個々にアドレス可能な第１の電極の電位差によって、または、前記第１および第２の電極層（１１４―１；１１４―２）の対向する個々にアドレス可能な電極間の電位差によって、前記電気光学効果は起こされることを特徴とする、請求項１〜請求項３のいずれかに記載の導波型光デバイス。
【請求項５】
前記電極配置の個々にアドレス可能な電極（２１４）は、四角形、六角形、八角形、または、レンズ状の幾何的形状を有することを特徴とする、請求項１〜請求項４のいずれかに記載の導波型光デバイス。
【請求項６】
前記電気光学コア層（１１２）の前記電気光学材料は、前記電極配置によって生成された前記電界に応答して、その屈折率を変えるように構成され、その結果、前記領域（１１６）において前記電気光学効果を起こすことが、前記領域（１１６）において前記電気光学材料の前記屈折率を変えることを含むことを特徴とする、請求項１〜請求項５のいずれかに記載の導波型光デバイス。
【請求項７】
前記電気光学材料は、電気光学有機材料、電気光学無機材料、有機／無機非線形光学カー材料、またはカー材料のグループから選択されることを特徴とする、請求項１〜請求項６のいずれかに記載の導波型光デバイス。
【請求項８】
前記層スタック（１１０；２１０）は、前記電気光学コア層（１１２）と前記第１の電極層（１１４；１１４―１）との間に第１のクラッド層（２０２；２０２―１）を含み、前記第１のクラッド層（２０２；２０２―１）は、前記電気光学コア層（１１２）の屈折率に等しい、または、前記電気光学コア層（１１２）の屈折率より低い屈折率を有する材料から形成されることを特徴とする、請求項１〜請求項７のいずれかに記載の導波型光デバイス。
【請求項９】
前記層スタック（１１０；２１０）は、前記第１のクラッド層（２０２―１）と比較して前記電気光学コア層（１１２）の反対側に配置された第２のクラッド層（２０２―２）を含み、その結果、前記電気光学コア層（１１２）が前記１のクラッド層および前記第２のクラッド層（２０２―１；２０２―２）の間に配置されること、および、前記第２のクラッド層（２０２―２）は、前記電気光学コア層（１１２）の屈折率に等しい、または、前記電気光学コア層（１１２）の屈折率より低い屈折率を有する材料から形成されることを特徴とする、請求項８に記載の導波型光デバイス。
【請求項１０】
前記第１および／または第２のクラッド層（２０２―１；２０２―２）の材料は、有機材料、無機材料、有機および／または無機配合物のグループから選択されることを特徴とする、請求項８又は請求項９のうちの１つに記載の導波型光デバイス。
【請求項１１】
前記電極配置は、前記電気光学コア層（１１２）の異なる部分において起こされた異なる電気光学効果強度を得るなどのために、前記電極配置の異なる電極に異なる電位を印加することによって、前記電気光学コア層（１１２）の前記異なる部分において前記異なる電界強度を生成するように構成されることを特徴とする、請求項１〜請求項１０のいずれかに記載の導波型光デバイス。
【請求項１２】
前記電極配置は、光伝搬方向に対して垂直に、電気光学コア層（１１２）において上昇するまたは下降する電界強度を生成するように構成され、その結果、前記上昇するまたは下降する電界強度に応答して、前記電気光学材料の屈折率が、伝搬する光を偏向するために、前記光伝搬方向に対して垂直に変化することを特徴とする、請求項１〜請求項１１のいずれかに記載の導波型光デバイス。
【請求項１３】
個々にアドレス付けされた電極（２１４―ｎ）に設定可能な電位（Ｕn）を印加するために、前記電極配置の前記個々にアドレス可能な電極（２１４―ｎ）を個々にアドレス付けするためのアドレス論理回路を含むことを特徴とする、請求項１〜請求項１２のいずれかに記載の導波型光デバイス。
【請求項１４】
基板上に形成された前記電極配置の少なくとも前記第１の電極層（１１４―１）は、ＣＭＯＳ技術によって製造されること、および、前記少なくとも前記第１の電極層（１１４―１）の少なくとも１つの電極は、内蔵されたＣＭＯＳ回路によって個々にアドレス可能であることを特徴とする、請求項１〜請求項１３のいずれかに記載の導波型光デバイス。
【請求項１５】
可変的に光波を導くための方法であって、前記方法は、
電気光学コア層（１１２）に近接した少なくとも１つの第１の電極層（１１４；１１４―１）を有する電極配置によって生成された電界によって電気光学材料の前記電気光学コア層（１１２）の領域（１１６）に電気光学効果を起こさせ、その結果、前記光の伝播が前記起こされた電気光学効果の前記領域において操作されるステップを含むことを特徴とする、方法。
【図１ａ】
【図１ｂ】
【図２ａ】
【図２ｂ】
【図２ｃ】
【図３】
【図４ａ】
【図４ｂ】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８ａ】
【図８ｂ】
【図９】
【図１０】
【図１１ａ】
【図１１ｂ】
【図１２】
【図１３】
【図１ｂ】
【図２ａ】
【図２ｂ】
【図２ｃ】
【図３】
【図４ａ】
【図４ｂ】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８ａ】
【図８ｂ】
【図９】
【図１０】
【図１１ａ】
【図１１ｂ】
【図１２】
【図１３】
【公表番号】特表２０１３−５１９９０６（Ｐ２０１３−５１９９０６Ａ）
【公表日】平成２５年５月３０日（２０１３．５．３０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１２−５５２２６９（Ｐ２０１２−５５２２６９）
【出願日】平成２２年２月１１日（２０１０．２．１１）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２０１０／０５１７２２
【国際公開番号】ＷＯ２０１１／０９８１３０
【国際公開日】平成２３年８月１８日（２０１１．８．１８）
【出願人】（５９１０３７２１４）フラウンホッファー−ゲゼルシャフト ツァ フェルダールング デァ アンゲヴァンテン フォアシュンク エー．ファオ (259)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２５年５月３０日（２０１３．５．３０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年２月１１日（２０１０．２．１１）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２０１０／０５１７２２
【国際公開番号】ＷＯ２０１１／０９８１３０
【国際公開日】平成２３年８月１８日（２０１１．８．１８）
【出願人】（５９１０３７２１４）フラウンホッファー−ゲゼルシャフト ツァ フェルダールング デァ アンゲヴァンテン フォアシュンク エー．ファオ (259)
【Ｆターム（参考）】
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