説明

半導体ウェーハの取り扱い方法

【課題】 接着層に粘着した粘着テープを剥離する場合に半導体ウェーハにクラックが生じるのを防ぐことのできる半導体ウェーハの取り扱い方法を提供する。
【解決手段】 微粘着性の粘着シート11と、半導体用サポート板に接着層3を介して接着され、周縁部4以外の領域に複数のチップ5を備えた半導体ウェーハ1とを含み、粘着シート11に半導体ウェーハ1のチップ5を対向させて粘着し、半導体ウェーハ1から半導体用サポート板を剥離し、半導体ウェーハ1の残留した接着層3に粘着テープ12を粘着して剥離することで、接着層3を除去する取り扱い方法で、接着層3をその略中央部で一対の小接着層3a・3bに分割し、この一対の小接着層3a・3bに粘着テープ12を順次粘着して剥離操作することにより、接着層3をその略中央部から段階的に剥離する。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、粘着シートに移し替えられてハンダリフロー装置にセットされる半導体ウェーハの取り扱い方法に関するものである。
【背景技術】
【0002】
半導体ウェーハには様々な種類があるが、近年、半導体の三次元積層化技術に資するチップオンウェーハが注目されている。この種の半導体ウェーハ1は、図7や図8に示すように、半導体用サポート板2上に接着層3で接着されて強度や剛性が確保され、周縁部(周縁から半径内方向に2.5〜3mm程度の部分)4以外の領域に複数のチップ5が並べて実装される。複数のチップ5が並べて実装されたら、フラックスが印刷され、複数のハンダボールが搭載されてハンダリフロー装置に供されるが、製造作業の便宜を図る観点から、図9や図10に示すように、フラックスの印刷前に保持具である粘着シート11に移し替えられる(特許文献1、2参照)。
【0003】
この場合の取り扱い作業は、先ず、シート用支持板10に粘着した粘着シート11上に薄い半導体ウェーハ1の複数のチップ5を対向させて粘着(図9参照)し、半導体ウェーハ1から半導体用サポート板2を剥離する。この際、半導体ウェーハ1は、粘着シート11に複数のチップ5が粘着するものの、粘着シート11に不要な周縁部4が隙間をおいて対向する。また、接着層3は、半導体用サポート板2の剥離にかかわらず、少なくともその大部分が半導体ウェーハ1に残留する。
【0004】
半導体ウェーハ1から半導体用サポート板2を剥離したら、半導体ウェーハ1の残留した接着層3上に半導体ウェーハ1に略対応する大きさの粘着テープ12を粘着(図10参照)し、この粘着テープ12をその周縁の端部、すなわち図11に示す剥離開始箇所13から一度に強く引き上げて剥離することにより、半導体ウェーハ1に残留した接着層3を粘着テープ12と共に除去する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開2006‐32488号公報
【特許文献2】特開2002‐324767号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
従来における半導体ウェーハ1の取り扱いは、以上のようになされ、粘着シート11に薄い半導体ウェーハ1の不要な周縁部4が隙間をおいて単に対向し、粘着しない非粘着の浮いたままの状態なので、接着層3に粘着した粘着テープ12を引き上げて剥離しようとすると、粘着テープ12の剥離開始箇所13における半導体ウェーハ1の周縁部4も共に引き上げられ、その結果、薄い半導体ウェーハ1にストレスが作用して図11に示すクラック6が生じ、後の製造工程に重大な支障を来たすという問題がある。
【0007】
本発明は上記に鑑みなされたもので、接着層に粘着した粘着テープを剥離する場合に半導体ウェーハにクラックが生じるのを防ぐことのできる半導体ウェーハの取り扱い方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明においては上記課題を解決するため、微粘着性の粘着シートと、半導体用サポート板に接着層を介して接着され、周縁部以外の領域に凹凸を備えた半導体ウェーハとを含み、粘着シートと半導体ウェーハの凹凸とを対向させて粘着し、半導体ウェーハから半導体用サポート板を取り外し、半導体ウェーハに残留した接着層に粘着テープを粘着して剥離することにより、半導体ウェーハから残留した接着層を除去する半導体ウェーハの取り扱い方法であって、
接着層の一部に粘着テープを粘着して剥離する作業を複数回繰り返すことにより、接着層をその略中央部付近から分割して剥離することを特徴としている。
【0009】
なお、接着層をその略中央部付近を境にして複数の小接着層に分割し、各小接着層に粘着テープを粘着して接着層の略中央部付近から剥離を開始することができる。
また、半導体用サポート板に、接着層を複数の小接着層に分割する分割溝を形成することができる。
また、半導体ウェーハから半導体用サポート板をレーザ照射により取り外すこともできる。
【0010】
ここで、特許請求の範囲における粘着シートは、シリコーンゴムやフッ素ゴム等のエラストマーにより、単層構造、二層構造、多層構造等とすることができる。また、半導体用サポート板は、ガラス製、樹脂製、金属製を特に問うものではない。半導体ウェーハには、少なくともφ100、150、200、300、450mmのチップオンウェーハが含まれる。
【0011】
接着層の一部に対する粘着テープの粘着面積は、剥離作業を容易にする観点から、接着層の総面積の半分以下の面積であることが好ましい。また、接着層の略中央部付近には、少なくとも接着層の中央部やその近傍が含まれる。この接着層は、その略中央部付近を基点にして複数に分割されるが、この場合、分割された複数の小接着層が完全に離隔していても良いし、そうでなくても良い。さらに、分割溝は、単数複数を特に問うものではなく、平面直線形や略十字形等の形に適宜形成することができる。
【0012】
本発明によれば、周縁部から離れた接着層の略中央部付近に着目し、接着層をその略中央部付近で分割して粘着テープにより剥離するので、剥離開始箇所が半導体ウェーハの周縁部となることがない。したがって、粘着テープを引き上げて剥離する際、半導体ウェーハの周縁部が共に引き上げられることがない。
【発明の効果】
【0013】
本発明によれば、接着層に粘着した粘着テープを剥離する場合に、粘着テープの剥離開始箇所における半導体ウェーハの周縁部が引き上げられ、半導体ウェーハにクラックが生じるのを有効に防ぐことができるという効果がある。
【0014】
また、半導体用サポート板に、接着層を複数の小接着層に分割する分割溝を形成すれば、複数の小接着層の間に隙間を形成してこれらを完全に分断し、各小接着層に粘着した粘着テープの剥離に必要な力を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【0015】
【図1】本発明に係る半導体ウェーハの取り扱い方法の実施形態における半導体ウェーハ、半導体用サポート板、接着層を模式的に示す部分断面説明図である。
【図2】本発明に係る半導体ウェーハの取り扱い方法の実施形態における粘着シートに半導体ウェーハのチップを対向させて粘着した状態を模式的に示す部分断面説明図である。
【図3】本発明に係る半導体ウェーハの取り扱い方法の実施形態における半導体ウェーハに残留した接着層の半分の小接着層に粘着テープを粘着して剥離する状態を模式的に示す部分断面説明図である。
【図4】図3の接着層の残り半分の小接着層に粘着テープを粘着して剥離する状態を模式的に示す部分断面説明図である。
【図5】本発明に係る半導体ウェーハの取り扱い方法の他の実施形態を模式的に示す平面説明図である。
【図6】本発明に係る半導体ウェーハの取り扱い方法の他の実施形態を模式的に示す平面説明図である。
【図7】半導体ウェーハとその複数のチップを模式的に示す説明図である。
【図8】半導体ウェーハが半導体用サポート板に接着された状態を模式的に示す部分断面説明図である。
【図9】粘着シートに半導体ウェーハの複数のチップを粘着した状態を模式的に示す部分断面説明図である。
【図10】半導体ウェーハの接着層に粘着テープを粘着した状態を模式的に示す部分断面説明図である。
【図11】半導体ウェーハにクラックが生じた状態を模式的に示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【0016】
以下、図面を参照して本発明の実施形態を説明すると、本実施形態における半導体ウェーハの取り扱い方法は、図1ないし図4に示すように、剛性を有するシート用支持板10に粘着される粘着シート11と、半導体用サポート板2に接着層3を介して接着され、複数のチップ5を備えた半導体ウェーハ1とを含み、チップ5を有する半導体ウェーハ1を半導体用サポート板2から粘着シート11に移し替える場合に、接着層3をその略中央部付近で複数の小接着層3a・3bに分割し、この分割した小接着層3a・3bに粘着テープ12を粘着して剥離する作業を順次行うことにより、接着層3をその略中央部付近から段階的に剥離するようにしている。
【0017】
シート用支持板10は、例えば表裏両面がそれぞれ平坦な平面円形のガラス板からなり、少なくとも半導体ウェーハ1の大きさ以上の大きさを有しており、表面に粘着シート11が着脱自在に粘着される。
粘着シート11は、例えば可撓性、耐久性、耐熱性、耐候性、難燃性、微粘着性等を有する単層のシリコーンゴムにより表裏両面がそれぞれ平坦な薄いシートに形成され、シート用支持板10の表面に着脱自在に粘着される。
【0018】
半導体用サポート板2は、例えば平坦な平面矩形のガラス板からなり、図1に示すように表面の略中央部に、接着層3用の断面略U字形の分割溝7が粘着テープ12の剥離方向に直交する方向(図1の奥方向)に予め直線的に凹み形成されており、この分割溝7を含む表面に、接着剤が薄く塗布されて薄い半導体ウェーハ1と接着する接着層3が30μm程度の厚さに積層形成される。
【0019】
接着層3は、図1に示すように、半導体用サポート板2の分割溝7を備えた表面に接着剤が塗布されるのに伴い、直線的な分割溝7に対向する略中央部を境にして複数に分割、例えば二分割される。分割された一対の小接着層3a・3bは、略中央部の隙間を介して完全に分断され、離隔する。
【0020】
半導体ウェーハ1は、例えば薄く撓みやすいφ200mm、厚さ100μm以下のシリコンウェーハからなり、半導体用サポート板2の接着層3、すなわち予め分断された一対の小接着層3a・3bに接着されて強度や剛性が確保された後、不要な周縁部4を除く領域に複数のチップ5が縦横に並べて実装されることにより、チップオンウェーハとされる。
【0021】
上記において、チップ5を有する半導体ウェーハ1を半導体用サポート板2から粘着シート11に移し替える場合には、先ず、シート用支持板10に粘着した粘着シート11上に半導体ウェーハ1の複数のチップ5を対向させて隙間なく粘着(図2参照)し、半導体ウェーハ1から半導体用サポート板2を剥離して一対の小接着層3a・3bを露出させる。半導体用サポート板2の剥離方法は、特に限定されるものではないが、例えばレーザ照射法を採用すれば、半導体用サポート板2を適切、かつ簡単に剥離することができる。
【0022】
半導体ウェーハ1に残留した一対の小接着層3a・3bを露出させたら、この残留した一対の小接着層3a・3bのいずれか一方の表面に粘着テープ12を選択して粘着する。例えば図3に示すように、一対の小接着層3a・3bのうち、最初に小接着層3bを選択した場合には、小接着層3bの分割溝7付近に位置する端から反対側の周縁部にかけて半導体ウェーハ1のサイズ以上の幅を有する粘着テープ12をローラ等を介して粘着する。
【0023】
粘着テープ12としては、例えばポリエチレンテレフタレート、セロファン、塩化ビニル樹脂等からなるフィルムの片面にアクリル系、ウレタン系、シリコーン系、合成ゴム系、天然ゴム系、あるいはこれらの混合系の粘着剤が積層された市販のタイプを使用することができる。ただし、残留した接着層3・3a・3bの素材に応じて粘着テープ12を選択するのが好ましい。
【0024】
次いで、半導体用サポート板2の分割溝7付近に位置する粘着テープ12の端側にスクレーパ20を押し当て、この押し当てたスクレーパ20を粘着テープ12の周縁部方向にずらしながら粘着テープ12を徐々に斜めに引き上げることにより、半導体ウェーハ1に残留した接着層3の半分、すなわち小接着層3bを粘着テープ12と共に除去する(図3参照)。
【0025】
このとき、小接着層3bを接着層3全体として把握してみると、接着層3をその周縁部ではなく、略中央部から剥離することになるので、剥離開始箇所が半導体ウェーハ1の周縁部4に相当することがない。したがって、半導体ウェーハ1から接着層3を粘着テープ12により剥離して除去する際、半導体ウェーハ1の周縁部4が引き上げられることがない。
【0026】
また、小接着層3bが小接着層3aと完全に分断されているので、接着層3の総面積の半分以下の面積を有する小接着層3bのみに粘着テープ12を確実に粘着することができる。したがって、小接着層3bの剥離除去時に小接着層3aの一部が破れて共に引き上げられることがなく、小接着層3bの剥離除去に要する負担を低減することができる。
【0027】
次いで、残留した小接着層3aの分割溝7付近に位置する端から反対側の周縁部にかけて粘着テープ12をローラ等により再び粘着し、分割溝7付近に位置する粘着テープ12の端側にスクレーパ20を押し当てた後、この押し当てたスクレーパ20を粘着テープ12の周縁部方向にずらしながら粘着テープ12を徐々に斜めに引き上げれば、半導体ウェーハ1に残留した接着層3の残り半分、すなわち小接着層3aを粘着テープ12と共に除去することができる(図4参照)。
【0028】
この際の粘着テープ12の剥離開始箇所は、粘着シート11に粘着していない半導体ウェーハ1の周縁部4ではなく、粘着シート11に既に粘着している半導体ウェーハ1の略中央部やチップ5部分なので、半導体ウェーハ1にストレスが作用してクラック6が生じることがない。接着層3が完全に除去された半導体ウェーハ1は、その後、フラックスが印刷され、複数のハンダボールが搭載されてハンダリフロー装置に供される。
【0029】
上記によれば、接着層3を周縁部から離れた略中央部で一対の小接着層3a・3bに分割し、接着層3の略中央部から小接着層3a・3bを順次剥離操作することにより、半導体ウェーハ1に残留した接着層3を複数回に分けて剥離するので、剥離開始箇所が半導体ウェーハ1の周縁部4となることがない。したがって、粘着テープ12を引き上げて剥離する際、半導体ウェーハ1の周縁部4が共に引き上げられることが全くない。
【0030】
係る引き上げ阻止により、薄い半導体ウェーハ1にストレスが作用してクラック6が生じるのを防ぎ、後の製造工程に重大な支障を来たすのを有効に抑制防止することができる。また、スクレーパ20を押し当てながら粘着テープ12を少しずつ剥離するので、粘着テープ12が広範囲に亘って一度に剥離することがない。この結果、半導体ウェーハ1を損傷させることなく、残留した接着層3を適切、かつ確実に剥離することができる。
【0031】
なお、上記実施形態の半導体用サポート板2やシート用支持板10は、平面矩形や円形でも良いが、何らこれに限定されるものではなく、平面多角形等としても良い。また、半導体用サポート板2は、半導体ウェーハ1とは別のシリコンウェーハ製の板としても良い。また、上記実施形態では半導体用サポート板2の表面に分割溝7を凹み形成して一対の小接着層3a・3bを区画形成したが、何らこれに限定されるものではない。例えば、半導体用サポート板2表面の略中央部付近に分割用の糸やテープ等を適宜配置してその上に接着剤を塗布することにより、一対の小接着層3a・3bを区画形成しても良い。
【0032】
また、一対の小接着層3a・3bをミシン目等を介して連接しても良いし、接着層3をその略中央部付近で三分割、四分割等することもできる。また、上記実施形態では接着層3をその略中央部で一対の小接着層3a・3bに予め分割したが、これに限定されるものではない。例えば、接着層3の略中央部付近から周縁部までに粘着テープ12を部分的に粘着して剥離することにより、接着層3を剥離時に分割することもできる。
【0033】
また、上記実施形態では半導体ウェーハ1のサイズ以上の幅を有する粘着テープ12を使用したが、これに限定されるものではない。例えば図5に示すように、接着層3の表面に複数の細長い粘着テープ12を平面略十字形に粘着して各粘着テープ12の一端部を接着層3の略中心部付近に位置させ、この複数の粘着テープ12をその一端部側から反対側の周縁端部方向に順次剥離(図5の矢印参照)することにより、接着層3をその中央部付近から分割剥離することもできる。
【0034】
また、図6に示すように、接着層3の表面に平面矩形を呈した複数の粘着テープ12を縦横に並べて粘着して各粘着テープ12の一隅部を接着層3の略中心部付近に対向状態で位置させ、この複数の粘着テープ12をその一隅部側から反対側の周縁隅部方向に順次剥離(図6の矢印参照)することにより、接着層3をその中央部付近から分割剥離することも可能である。
【0035】
さらに、上記実施形態では粘着シート11にシリコーンゴムを使用したが、自己粘着性を有するフッ素ゴム等のエラストマーを用いることも可能である。さらにまた、粘着テープ12を2回に分けて剥離操作するのではなく、3回や4回等に分けて剥離操作することも可能である。
【符号の説明】
【0036】
1 半導体ウェーハ
2 半導体用サポート板
3 接着層
3a 小接着層
3b 小接着層
4 周縁部
5 チップ(凹凸)
6 クラック
7 分割溝
10 シート用支持板
11 粘着シート
12 粘着テープ
13 剥離開始箇所
20 スクレーパ

【特許請求の範囲】
【請求項1】
微粘着性の粘着シートと、半導体用サポート板に接着層を介して接着され、周縁部以外の領域に凹凸を備えた半導体ウェーハとを含み、粘着シートと半導体ウェーハの凹凸とを対向させて粘着し、半導体ウェーハから半導体用サポート板を取り外し、半導体ウェーハに残留した接着層に粘着テープを粘着して剥離することにより、半導体ウェーハから残留した接着層を除去する半導体ウェーハの取り扱い方法であって、
接着層の一部に粘着テープを粘着して剥離する作業を複数回繰り返すことにより、接着層をその略中央部付近から分割して剥離することを特徴とする半導体ウェーハの取り扱い方法。
【請求項2】
接着層をその略中央部付近を境にして複数の小接着層に分割し、各小接着層に粘着テープを粘着して接着層の略中央部付近から剥離を開始する請求項1記載の半導体ウェーハの取り扱い方法。
【請求項3】
半導体用サポート板に、接着層を複数の小接着層に分割する分割溝を形成した請求項2記載の半導体ウェーハの取り扱い方法。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【図7】
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【図8】
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【図9】
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【図10】
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【図11】
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