説明

半導体発光装置及びその製造方法

【課題】封止部材に接続電極が直接形成されたLED装置は、基板に形成した接続電極を封止部材側に転写するようにしていたので製造しづらかった。あわせて封止部材が樹脂であると水蒸気などガスが透過し蛍光体を劣化させることがあった。
【解決手段】接続電極18上に、白色反射部材17及びLED素子16、並びに蛍光体層12、ガラス11が積層している。LED素子16はバンプ15を備え、接続電極18と接続している。白色反射部材17は、ガラス11とともにLED素子16を封止している。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、封止部材に接続電極を形成した半導体発光装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
半導体発光素子(以後とくに断らない限りLED素子と呼ぶ)を封止部材で取り囲み、この封止部材に外部基板との接続電極を直接的に形成させた半導体発光装置(以後とくに断らない限りLED装置と呼ぶ)が知られている(例えば特許文献1)。
【0003】
特許文献1の図2A〜Dを図5(a)〜(d)に再掲示し、図5に示されたLED装置とその製造方法を説明する。図5は従来のLED装置の構造と製造方法の説明図である。まず図5(d)により薄型パッケージ電子デバイス216(LED装置)の構造を説明する。薄型パッケージ電子デバイス216は、下部に電気接続部202,204,206(接続電極)を備え、電気接続部204上には接着剤218を介して電子デバイス208(LED素子)がダイボンドされ、固定材214(封止部材)で電気接続部202,204,206及び電子デバイス208をモールド固定している。なお、電気接続部202,206と電子デバイス208はワイヤボンド210,212で接続している。
【0004】
図5(a)〜(d)によりこの薄型パッケージ電子デバイス216の製造方法を説明する。基板200上には3つの電気接続部202,204,206(トレース又はパッド等)が設けられている(a)。電子デバイス208は電気接続部204の上に接着剤218により搭載され、電子デバイス208と電気接続部202,206をワイヤボンド210,212で結合する(b)。次に電子デバイス208と電気接続部202〜206、ワイヤボンド210,212を固定剤214で封止固定する(c)。最後に基板200を除去し、電気接続部202〜206が薄型パッケージ電子デバイス216上のパッケージ接続部として露出する(d)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開2006−173605号公報 (図2A〜D)
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
図5に示したようなLED装置では、電極(電気接続部202〜206)を備えた基板(基板200)にLED素子(電子デバイス208)を実装し、封止部材(固定部材214)でLED素子とともに基板表面をモールドしてから、基板だけを除去し封止部材下面に電極を残す。すなわちLED素子の実装に耐えられるよう基板にしっかり接着した電極をこの基板から剥がすことになり、基板除去に困難がともなう。
【0007】
また良く知られた手法として封止部材(固定部材214)に蛍光体を含有させ、LED装置の色度を調整する場合、封止部材が樹脂であると、樹脂が水蒸気等のガスを透過しやすいため蛍光体が劣化しLED装置の寿命を短くすることがある。長寿命化に有効なガラスによる気密封止は、例えばLED素子を実装する基板上にガラスキャップを備える構造をとるように、基板が必須となるので、LED素子を実装する基板を持たず封止部材に接続電極を形成したLED装置には適用できない。
【0008】
そこで本発明は、これらの課題を解決するため、封止部材に接続電極を形成しても、長寿命でありながら製造し易い半導体発光装置及びその製造方法の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0009】
上記課題を解決するため本発明は、半導体発光素子を封止する封止部材が接続電極を備えた半導体発光装置において、
前記半導体発光素子が突起電極を備え、
前記半導体発光素子の前記突起電極側と反対側に蛍光体層とガラスが積層し、
前記半導体発光素子の側面及び前記突起電極を除く底面が白色反射部材により封止され、
該白色反射部材の下面に前記接続電極を備え、
該接続電極が前記突起電極と接続することを特徴とする。
【0010】
本発明の半導体発光装置はガラスと白色反射部材で蛍光体層と半導体発光素子を封止している。ガス透過性の極めて少ないガラスは、半導体発光装置とともに蛍光体層を挟持し半導体発光素子直上の蛍光体層を水蒸気などのガスから防御する。白色反射部材は半導体発光素子から発した光線を上部にのみ向かわせるので、封止部材であるとともに反射枠も兼ねている。またガラスは硬質であるため半導体発光装置の強度を高めている。突起電極は接続電極と半導体発光素子間に白色反射部材が存在できるようにし、白色反射部材による半導体発光素子の封止を確保している。
【0011】
前記突起電極がメッキ電極であると良い。
【0012】
前記白色反射部材が前記蛍光体層の側部を封止していることが好ましい。
【0013】
前記ガラスが凹部を備え、該凹部に蛍光体層が形成されていても良い。
【0014】
上記課題を解決するため本発明は、半導体発光素子を封止する封止部材が接続電極を備えた半導体発光装置の製造方法において、
大判のガラスを準備するガラス準備工程と、
前記ガラスに蛍光体層を形成する蛍光体層形成工程と、
前記蛍光体層を備えた前記ガラスに、突起電極を備えた複数の前記半導体発光素子を配置する半導体発光素子配置工程と、
前記半導体発光素子の側面と、前記突起電極を除く電極面を白色反射部材で覆う白色部材配置工程と、
前記突起電極に接続するように前記白色反射部材上に前記接続電極を形成する接続電極形成工程と、
該接続電極が形成された前記大判のガラスを前記半導体発光装置に個片化する個片化工程とを備えることを特徴とする。
【0015】
本発明の製造方法は、大判のガラスに、蛍光体層の形成、半導体発光装置の配置、白色反射部材からなる層の形成、接続電極層の形成、というように層ないし部材を積み重ね、こうして作成された半導体発光装置の集合体を最後に個片化する。
【0016】
前記蛍光体層形成工程において前記ガラスに前記蛍光体層を印刷しても良い。
【0017】
前記半導体発光素子配置工程において粘着シートに複数の前記半導体発光素子を配列してから前記大判のガラスに転写しても良い。
【0018】
前記白色反射部材配置工程において前記突起電極を覆うように前記白色反射部材を塗布してから、該突起電極が露出するように該白色反射部材を研磨しても良い。
【0019】
前記接続電極を電解メッキ法で形成しても良い。
【発明の効果】
【0020】
以上のように本発明の半導体発光装置は、ガラスと半導体発光素子により蛍光体層を挟んでいるので、蛍光体層が水蒸気などのガスから防御されるとともに、半導体発光素子の側部及び底部も白色反射部材で封止されているので長寿命化が達成される。さらに上部のガラスから下に向かって蛍光体層、白色反射部材及び半導体発光素子、並びに接続電極を積層した構造であるので製造し易い。
【0021】
さらに本発明の半導体発光装置の製造方法は、前述の半導体発光装置の構造そのものから由来する長寿命性及び製造し易さに加え、大判のガラスで工程を進め最後に個片化する集合工法であるため製造効率が良く製造し易い。
【図面の簡単な説明】
【0022】
【図1】本発明の第1実施形態におけるLED装置の断面図。
【図2】図1に示したLED装置の製造方法の説明図。
【図3】本発明の第2実施形態におけるLED装置の断面図。
【図4】本発明の第3実施形態におけるLED装置の断面図。
【図5】従来のLED装置の構造と製造方法の説明図。
【発明を実施するための形態】
【0023】
以下、添付図1〜4を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお図面の説明において、同一または相当要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。また説明のため部材の縮尺は適宜変更している。さらに特許請求の範囲に記載した発明特定事項との関係をカッコ内に記載している。
(第1実施形態)
【0024】
図1は本発明の第1実施形態におけるLED装置10(半導体発光装置)の断面図である。ガラス11の下面には蛍光体層12が付着し、さらに蛍光体層12の下面にLED素子16が付着している。LED素子16は、サファイア基板13(透明基板)の下に半導体層14を備え、半導体層14の下面にアノード用及びカソード用のバンプ15(突起電極)が付着している。蛍光体層12及びLED素子16の側面、並びにバンプ15が占める領域を除くLED素子16の底面は白色反射部材17で封止されている。白色反射部材17は、外郭がガラス11と等しく、下面にバンプ15と接続する2個の接続電極18を備えている。
【0025】
蛍光体層12は、珪酸塩系(又は窒化物系)の緑色蛍光粒子及び窒化物系の赤色蛍粒子とともにオルガノポリシロキサンなど焼結するとガラス質になるバインダを含み、厚みが70〜100μmである。このバインダは無機質であるため耐光性が良くLED装置10の長寿命化にとって好ましい。なおオルガノポリシロキサンなどの無機バインダの代わりにシリコーン樹脂などの有機バインダを使っても良い。また蛍光体層12にビーズ等のスペーサを混入させても良い。この場合、蛍光体層12の厚さがスペーサで決定されるようになり、高い精度で厚さが管理されLED装置10毎の色度が均一になる。
【0026】
LED素子16のサファイア基板13は厚さが80〜120μmであるが、さらに薄くすればサファイア基板13の側面から出射する光が減り、上方へ向かう光が増える。半導体層14は厚さが7μm程度であり、p型半導体層とn型半導体層を含む青色発光ダイオードである。半導体層14の下面にはp型半導体層及びn型半導体層の露出部があり、それぞれの露出部にバンプ15が形成され、バンプ15はアノード及びカソード電極となる。バンプ15は電解メッキ法で形成し、厚さが10〜30μm程度になる。なおn型半導
体層の露出部だけにn側のバンプ15を形成するのではなく、層間絶縁膜と金属配線を追加し、p型半導体層上にもn側のバンプ15を積層させるようにすると、バンプ形状に対する自由度が増すためLED装置10の電極設計が楽になる。
【0027】
白色反射部材17は、二酸化チタン等の反射性微粒子、前述のオルガノポリシロキサンなどの無機バインダ、溶媒及び触媒とを混練したペーストを150℃程度で焼結したものである。高度な長寿命化が不要な場合は、蛍光体層12と同様にシリコーン樹脂などの有機バインダを使っても良い。また接続電極18はメッキ用共通電極であるTiW層と、電解メッキ法で作成したCu層、Ni層及びAu層とを有し、総厚が10μm程度である。
【0028】
LED装置10の配光特性を簡単に説明する。半導体層14から出射した青色光のうち直接上方に向かう成分は、一部がLED装置10から出射し、残りが蛍光体層14を励起する。半導体層14から横又は下方に出射した青色光は、LED素子16の側面に配置された白色反射部材17、半導体層14に含まれる反射層(一般に突起電極を備えるLED素子は反射層を備えることが多い)で反射し上方に向かう。同様にこの青色光で励起された蛍光体層12による緑色光及び赤色光も全て上方に向かう(吸収等の損失は無視する)。これらの青色光、緑色光及び赤色光が混色し、白色光が得られる。
【0029】
図2により図1のLED装置10の製造方法を説明する。図2はLED装置10を製造するための工程説明図である。(a)は、大判のガラス11を準備するガラス準備工程を示している。
【0030】
(b)は、ガラス11に蛍光体層12を形成する蛍光体層形成工程を示している。ペースト状の蛍光体層12をガラス11に印刷する。その後、流動性が無いながらもタック性を保持する程度まで蛍光体層12を仮硬化する。
【0031】
(c)は、蛍光体層12を備えたガラス11に、バンプ15を備えた複数のLED素子16を配置する半導体発光素子配置工程を示している。粘着シート(図示せず)上にLED素子16を蛍光体層12の印刷ピッチで配列し、この粘着シートをガラス11に重ね、LED素子16を大判のガラス11に一括して転写する。粘着シートは加熱すると粘着性を失うものが良く、LED素子16の転写時に粘着シートを裏面から加圧及び加熱する。LED素子16のバンプ15を上側にしてソーターにより蛍光体層12にLED素子16を一個ずつ配置しても良い
【0032】
(d)及び(e)は、LED素子16の側面と、バンプ15を除くLED素子16の電極面を白色反射部材17で覆う白色部材配置工程を示している。まずバンプ15の上面が埋まる程度に白色反射部材17をガラス11上に配置しスキージで平坦化する(d)。その後150℃程度で焼成しバインダを硬化させる。このとき蛍光体層12のバインダも硬化する。次に研磨材や刃で白色反射部材17の表面を削りバンプ15の上面を露出させる(e)。なお白色反射部材17の上面がバンプ15の上面より低くなるように塗布しても良い。このときは白色反射部材17を塗布したらバンプ15の上面を磨く。またバンプ15の表面を露出させるのにリフトオフ法を用いても良い。
【0033】
(f)は、バンプ15に接続するように白色反射部材17上に接続電極18を形成する接続電極形成工程を示している。先ず白色反射部材17及びバンプ15上面全体にスパッタ法でTiWからなるメッキ用共通電極を形成する。次にホトリソグラフィ法により、接続電極18を形成する領域が開口したメッキ用マスクを形成する。続いて電解メッキ法で開口部にCu層を形成し、その後Ni層とAu層を形成する。メッキ用マスクを除去したら最後に接続電極18をマスクとして接続電極18間のメッキ用共通電極をエッチングする。以上のようにして白色反射部材17上にバンプ15と接続した接続電極18が形成さ
れる。Cu、Ni及びAu層を形成するのに電解メッキ法を採用したが、電解メッキ法だけに限られず、蒸着法やスパッタ法、CVD法など他のメッキ法でも良い。しかしながら電解メッキ法は大気中及び低温で処理できるため扱いやすい。また接続電極18は印刷法で形成しても良い。
【0034】
(g)は、接続電極18が形成された大判のガラス11をLED装置10に個片化する個片化工程を示している。ダイシング装置を使って、白色反射部材17ごとガラス11を切断し単個のLED装置10を分離する。
【0035】
LED素子16は反射層を備えているものとしていたが、反射層を備えていないときはLED素子16底部の白色反射部材17に加え、バンプ15の反射を利用してもよい。この場合、バンプ15の半導体層14側の面を高反射アルミとするのが好ましい。
(第2実施形態)
【0036】
図3により本発明の第2実施形態におけるLED装置30を説明する。図3はLED装置30の断面図である。LED装置30は、第1実施形態におけるLED装置10に対し、蛍光体層32がガラス11の下面全体に広がっていることと、このため白色反射部材37が蛍光体層32の側面に付着していないことが相違している。蛍光体層32の側面は外気に触れているが、蛍光体層32の厚さが70〜100μm程度と薄い上、LED素子16の直上だけの蛍光体層32が劣化していなければ良いので、一定レベルの寿命は確保できる。さらに長寿命化させる場合はLED装置30の側面にガスバリア層を形成すると良い。
【0037】
LED装置30の製造方法は、第1実施形態の図2(b)の蛍光体層形成工程において採用した印刷法の代わりに、コーター等を使ってガラス11面全体に均一な厚さの蛍光体層32を形成する。その他の工程は第1実施形態を同じである。この結果、蛍光体層形成工程において印刷マスクが不要になり位置あわせも粗いもので済むため、第1実施形態よりも製造が容易になる。
(第3実施形態)
【0038】
図4により本発明の第3実施形態におけるLED装置40を説明する。図4はLED装置40の断面図である。LED装置40は、第1実施形態のLED装置10に対し、ガラス41が凹部を備えること、その凹部下面に蛍光体層42が配置されていること、並びにLED素子16及び白色反射部材47が凹部に入り込んでいることが相違している。このような構造にすることで、蛍光体層42及び白色反射部材47とガラス41の密着性を改善できる。また白色反射部材47が薄くなるので、白色反射部材47のクラックや割れなどが発生しにくくなる。
【0039】
LED装置40の製造方法としては、まず大判のガラス41を準備するガラス準備工程において、大判のガラス41に凹部を形成する。凹部はエッチング法で形成し、エッチング液にはフッ化アンモニウムを用いる。また蛍光体層形成工程においては、ディスペンサで適量の蛍光体ペーストを各凹部に滴下し、必要に応じて硬化前の蛍光体層42を仮硬化する。これ以降の工程は第1実施形態の図2(c)〜(g)に等しい。
【符号の説明】
【0040】
10,30,40…LED装置(半導体発光装置)、
11,41…ガラス、
12,32,42…蛍光体層、
13…サファイア基板、
14…半導体層、
15…バンプ(突起電極)、
16…LED素子(半導体発光素子)、
17,37,47…白色反射部材、
18…接続電極。


【特許請求の範囲】
【請求項1】
半導体発光素子を封止する封止部材が接続電極を備えた半導体発光装置において、
前記半導体発光素子が突起電極を備え、
前記半導体発光素子の前記突起電極側と反対側に蛍光体層とガラスが積層し、
前記半導体発光素子の側面及び前記突起電極を除く底面が白色反射部材により封止され、
該白色反射部材の下面に前記接続電極を備え、
該接続電極が前記突起電極と接続する
ことを特徴とする半導体発光装置。
【請求項2】
前記突起電極がメッキ電極であることを特徴とする請求項1に記載の半導体発光装置。
【請求項3】
前記白色反射部材が前記蛍光体層の側部を封止していることを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体発光装置。
【請求項4】
前記ガラスが凹部を備え、該凹部に蛍光体層が形成されていることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の半導体発光装置。
【請求項5】
半導体発光素子を封止する封止部材が接続電極を備えた半導体発光装置の製造方法において、
大判のガラスを準備するガラス準備工程と、
前記ガラスに蛍光体層を形成する蛍光体層形成工程と、
前記蛍光体層を備えた前記ガラスに、突起電極を備えた複数の前記半導体発光素子を配置する半導体発光素子配置工程と、
前記半導体発光素子の側面と、前記突起電極を除く電極面を白色反射部材で覆う白色部材配置工程と、
前記突起電極に接続するように前記白色反射部材上に前記接続電極を形成する接続電極形成工程と、
該接続電極が形成された前記大判のガラスを前記半導体発光装置に個片化する個片化工程と
を備えることを特徴とする半導体発光装置の製造方法。
【請求項6】
前記蛍光体層形成工程において前記ガラスに前記蛍光体層を印刷することを特徴とする請求項5に記載の半導体発光装置の製造方法。
【請求項7】
前記半導体発光素子配置工程において粘着シートに複数の前記半導体発光素子を配列してから前記大判のガラスに転写することを特徴とする請求項5又は6に記載の半導体発光装置の製造方法。
【請求項8】
前記白色反射部材配置工程において前記突起電極を覆うように前記白色反射部材を塗布してから、該突起電極が露出するように該白色反射部材を研磨することを特徴とする請求項5から7のいずれか一項に記載の半導体発光装置の製造方法。
【請求項9】
前記接続電極を電解メッキ法で形成することを特徴とする請求項5から8のいずれか一項に記載の半導体発光装置の製造方法。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【公開番号】特開2012−138454(P2012−138454A)
【公開日】平成24年7月19日(2012.7.19)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2010−289390(P2010−289390)
【出願日】平成22年12月27日(2010.12.27)
【出願人】(000001960)シチズンホールディングス株式会社 (1,939)
【出願人】(000131430)シチズン電子株式会社 (798)
【Fターム(参考)】