反応性基含有環状ホスファゼン化合物およびその製造方法
【課題】樹脂成形体の機械的特性を損なわずにその難燃性を効果的に高めることができ、しかも樹脂成形体の高温信頼性を損ないにくいホスファゼン化合物の提供。
【解決手段】下記の式で表されるホスファゼン化合物。
ｎは３〜１５の整数を示す。Ａの一例は、下記の式で示される置換フェニルオキシ基である。
【解決手段】下記の式で表されるホスファゼン化合物。
ｎは３〜１５の整数を示す。Ａの一例は、下記の式で示される置換フェニルオキシ基である。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の式（１）で表される反応性基含有環状ホスファゼン化合物。
【化１】
（式（１）中、ｎは３〜１５の整数を示し、Ａは下記のＡ１基、Ａ２基およびＡ３基からなる群から選ばれた基を示しかつ少なくとも一つがＡ３基である。
Ａ１基：炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数が１〜８のアルコキシ基。
Ａ２基：炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数６〜２０のアリールオキシ基。
Ａ３基：下記の式（２）で示される置換フェニルオキシ基、下記の式（３）で示される置換フェニルオキシ基、下記の式（４）で示される置換インダンオキシ基および下記の式（５）で示される置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
【化２】
【化３】
【化４】
【化５】
式（２）、（３）、（４）および（５）中のＺは、炭素数が２〜６のアルケニルオキシ基、アクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基からなる群から選ばれた基を示し、式（３）中のＹは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ２、ＣＨ２、ＣＨＣＨ３、Ｃ（ＣＨ３）２、Ｃ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ３若しくはＣＯを示し、式（４）および式（５）中のＲ１およびＲ２は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、シクロアルキル基若しくはフェニル基を示す。）
【請求項２】
式（１）において、２ｎ個のＡのうちの２〜（２ｎ−２）個がＡ３基である、請求項１に記載の反応性基含有環状ホスファゼン化合物。
【請求項３】
式（１）のｎが３若しくは４である、請求項１または２に記載の反応性基含有環状ホスファゼン化合物。
【請求項４】
式（１）のｎが異なる二種以上の反応性基含有環状ホスファゼン化合物を含む、請求項１から３のいずれかに記載の反応性基含有環状ホスファゼン化合物。
【請求項５】
下記の式（６）で表される環状ホスホニトリルジハライドの全ハロゲン原子を、少なくとも一つが下記のＱ３基により置換されるよう下記のＱ１基、Ｑ２基およびＱ３基からなる群から選ばれた基により置換し、環状ホスホニトリル置換体を製造する工程１と、
【化６】
（式（６）中、ｎは３〜１５の整数を示し、Ｘはハロゲン原子を示す。）
Ｑ１基：炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数が１〜８のアルコキシ基。
Ｑ２基：炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数６〜２０のアリールオキシ基。
Ｑ３基：下記の式（７）で示される置換フェニルオキシ基、下記の式（８）で示される置換フェニルオキシ基、下記の式（９）で示される置換インダンオキシ基および下記の式（１０）で示される置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
【化７】
【化８】
【化９】
【化１０】
（式（７）、式（８）、式（９）および式（１０）中のＺ１は、脱離したときにＯＨ基を形成可能な保護基を示し、式（８）中のＹは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ２、ＣＨ２、ＣＨＣＨ３、Ｃ（ＣＨ３）２、Ｃ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ３若しくはＣＯを示し、式（９）および式（１０）中のＲ１およびＲ２は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、シクロアルキル基若しくはフェニル基を示す。）
前記環状ホスホニトリル置換体のＱ３基から前記保護基を脱離させ、ヒドロキシル基含有環状ホスファゼン化合物を得る工程２と、
前記ヒドロキシル基含有環状ホスファゼン化合物において、前記保護基の脱離により形成されたヒドロキシル基をアクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基からなる群から選ばれた基に置換する工程３と、
を含む反応性基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法。
【請求項６】
前記保護基が炭素数２〜６のアルケニル基であり、かつ、前記工程２において、前記環状ホスホニトリル置換体の一部のＱ３基から前記保護基を脱離させる、請求項５に記載の反応性基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法。
【請求項７】
下記の式（６）で表される環状ホスホニトリルジハライドの全ハロゲン原子を、少なくとも一つが下記のＱ３基により置換されるよう下記のＱ１基、Ｑ２基およびＱ３基からなる群から選ばれた基により置換する工程を含む、
反応性基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法。
【化１１】
（式（６）中、ｎは３〜１５の整数を示し、Ｘはハロゲン原子を示す。）
Ｑ１基：炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数が１〜８のアルコキシ基。
Ｑ２基：炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数６〜２０のアリールオキシ基。
Ｑ３基：下記の式（１１）で示される置換フェニルオキシ基、下記の式（１２）で示される置換フェニルオキシ基、下記の式（１３）で示される置換インダンオキシ基および下記の式（１４）で示される置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
【化１２】
【化１３】
【化１４】
【化１５】
（式（１１）、式（１２）、式（１３）および式（１４）中のＺ２は、炭素数が２〜６のアルケニルオキシ基を示し、式（１２）中のＹは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ２、ＣＨ２、ＣＨＣＨ３、Ｃ（ＣＨ３）２、Ｃ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ３若しくはＣＯを示し、式（１３）および式（１４）中のＲ１およびＲ２は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、シクロアルキル基若しくはフェニル基を示す。）
【請求項８】
下記の式（１５）で表される環状ホスファゼン化合物。
【化１６】
（式（１５）中、ｎは３〜１５の整数を示し、Ｑは下記のＱ１基、Ｑ２基およびＱ３基からなる群から選ばれた基を示しかつ少なくとも一つがＱ３基である。
Ｑ１基：炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数が１〜８のアルコキシ基。
Ｑ２基：炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数６〜２０のアリールオキシ基。
Ｑ３基：下記の式（７）で示される置換フェニルオキシ基、下記の式（８）で示される置換フェニルオキシ基、下記の式（９）で示される置換インダンオキシ基および下記の式（１０）で示される置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
【化１７】
【化１８】
【化１９】
【化２０】
式（７）、式（８）、式（９）および式（１０）中のＺ１は、脱離したときにＯＨ基を形成可能な保護基を示し、式（８）中のＹは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ２、ＣＨ２、ＣＨＣＨ３、Ｃ（ＣＨ３）２、Ｃ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ３若しくはＣＯを示し、式（９）および式（１０）中のＲ１およびＲ２は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、シクロアルキル基若しくはフェニル基を示す。）
【請求項９】
樹脂成分と、
請求項１から４のいずれかに記載の反応性基含有環状ホスファゼン化合物と、
を含む樹脂組成物。
【請求項１０】
熱重合性モノマー、熱重合性オリゴマー、光重合性モノマーおよび光重合性オリゴマーからなる重合性材料群から選ばれた少なくとも一つの重合性材料をさらに含む、請求項９に記載の樹脂組成物。
【請求項１１】
請求項９または１０に記載の樹脂組成物からなる樹脂成形体。
【請求項１２】
請求項１から４のいずれかに記載の反応性基含有環状ホスファゼン化合物を含む、重合性組成物。
【請求項１３】
前記反応性基含有環状ホスファゼン化合物と重合可能なモノマーおよびオリゴマーのうちの少なくとも一つの重合性材料をさらに含む、請求項１２に記載の重合性組成物。
【請求項１４】
請求項１２または１３に記載の重合性組成物の重合体からなる樹脂成形体。
【請求項１】
下記の式（１）で表される反応性基含有環状ホスファゼン化合物。
【化１】
（式（１）中、ｎは３〜１５の整数を示し、Ａは下記のＡ１基、Ａ２基およびＡ３基からなる群から選ばれた基を示しかつ少なくとも一つがＡ３基である。
Ａ１基：炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数が１〜８のアルコキシ基。
Ａ２基：炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数６〜２０のアリールオキシ基。
Ａ３基：下記の式（２）で示される置換フェニルオキシ基、下記の式（３）で示される置換フェニルオキシ基、下記の式（４）で示される置換インダンオキシ基および下記の式（５）で示される置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
【化２】
【化３】
【化４】
【化５】
式（２）、（３）、（４）および（５）中のＺは、炭素数が２〜６のアルケニルオキシ基、アクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基からなる群から選ばれた基を示し、式（３）中のＹは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ２、ＣＨ２、ＣＨＣＨ３、Ｃ（ＣＨ３）２、Ｃ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ３若しくはＣＯを示し、式（４）および式（５）中のＲ１およびＲ２は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、シクロアルキル基若しくはフェニル基を示す。）
【請求項２】
式（１）において、２ｎ個のＡのうちの２〜（２ｎ−２）個がＡ３基である、請求項１に記載の反応性基含有環状ホスファゼン化合物。
【請求項３】
式（１）のｎが３若しくは４である、請求項１または２に記載の反応性基含有環状ホスファゼン化合物。
【請求項４】
式（１）のｎが異なる二種以上の反応性基含有環状ホスファゼン化合物を含む、請求項１から３のいずれかに記載の反応性基含有環状ホスファゼン化合物。
【請求項５】
下記の式（６）で表される環状ホスホニトリルジハライドの全ハロゲン原子を、少なくとも一つが下記のＱ３基により置換されるよう下記のＱ１基、Ｑ２基およびＱ３基からなる群から選ばれた基により置換し、環状ホスホニトリル置換体を製造する工程１と、
【化６】
（式（６）中、ｎは３〜１５の整数を示し、Ｘはハロゲン原子を示す。）
Ｑ１基：炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数が１〜８のアルコキシ基。
Ｑ２基：炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数６〜２０のアリールオキシ基。
Ｑ３基：下記の式（７）で示される置換フェニルオキシ基、下記の式（８）で示される置換フェニルオキシ基、下記の式（９）で示される置換インダンオキシ基および下記の式（１０）で示される置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
【化７】
【化８】
【化９】
【化１０】
（式（７）、式（８）、式（９）および式（１０）中のＺ１は、脱離したときにＯＨ基を形成可能な保護基を示し、式（８）中のＹは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ２、ＣＨ２、ＣＨＣＨ３、Ｃ（ＣＨ３）２、Ｃ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ３若しくはＣＯを示し、式（９）および式（１０）中のＲ１およびＲ２は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、シクロアルキル基若しくはフェニル基を示す。）
前記環状ホスホニトリル置換体のＱ３基から前記保護基を脱離させ、ヒドロキシル基含有環状ホスファゼン化合物を得る工程２と、
前記ヒドロキシル基含有環状ホスファゼン化合物において、前記保護基の脱離により形成されたヒドロキシル基をアクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基からなる群から選ばれた基に置換する工程３と、
を含む反応性基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法。
【請求項６】
前記保護基が炭素数２〜６のアルケニル基であり、かつ、前記工程２において、前記環状ホスホニトリル置換体の一部のＱ３基から前記保護基を脱離させる、請求項５に記載の反応性基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法。
【請求項７】
下記の式（６）で表される環状ホスホニトリルジハライドの全ハロゲン原子を、少なくとも一つが下記のＱ３基により置換されるよう下記のＱ１基、Ｑ２基およびＱ３基からなる群から選ばれた基により置換する工程を含む、
反応性基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法。
【化１１】
（式（６）中、ｎは３〜１５の整数を示し、Ｘはハロゲン原子を示す。）
Ｑ１基：炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数が１〜８のアルコキシ基。
Ｑ２基：炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数６〜２０のアリールオキシ基。
Ｑ３基：下記の式（１１）で示される置換フェニルオキシ基、下記の式（１２）で示される置換フェニルオキシ基、下記の式（１３）で示される置換インダンオキシ基および下記の式（１４）で示される置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
【化１２】
【化１３】
【化１４】
【化１５】
（式（１１）、式（１２）、式（１３）および式（１４）中のＺ２は、炭素数が２〜６のアルケニルオキシ基を示し、式（１２）中のＹは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ２、ＣＨ２、ＣＨＣＨ３、Ｃ（ＣＨ３）２、Ｃ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ３若しくはＣＯを示し、式（１３）および式（１４）中のＲ１およびＲ２は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、シクロアルキル基若しくはフェニル基を示す。）
【請求項８】
下記の式（１５）で表される環状ホスファゼン化合物。
【化１６】
（式（１５）中、ｎは３〜１５の整数を示し、Ｑは下記のＱ１基、Ｑ２基およびＱ３基からなる群から選ばれた基を示しかつ少なくとも一つがＱ３基である。
Ｑ１基：炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数が１〜８のアルコキシ基。
Ｑ２基：炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数６〜２０のアリールオキシ基。
Ｑ３基：下記の式（７）で示される置換フェニルオキシ基、下記の式（８）で示される置換フェニルオキシ基、下記の式（９）で示される置換インダンオキシ基および下記の式（１０）で示される置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
【化１７】
【化１８】
【化１９】
【化２０】
式（７）、式（８）、式（９）および式（１０）中のＺ１は、脱離したときにＯＨ基を形成可能な保護基を示し、式（８）中のＹは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ２、ＣＨ２、ＣＨＣＨ３、Ｃ（ＣＨ３）２、Ｃ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ３若しくはＣＯを示し、式（９）および式（１０）中のＲ１およびＲ２は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、シクロアルキル基若しくはフェニル基を示す。）
【請求項９】
樹脂成分と、
請求項１から４のいずれかに記載の反応性基含有環状ホスファゼン化合物と、
を含む樹脂組成物。
【請求項１０】
熱重合性モノマー、熱重合性オリゴマー、光重合性モノマーおよび光重合性オリゴマーからなる重合性材料群から選ばれた少なくとも一つの重合性材料をさらに含む、請求項９に記載の樹脂組成物。
【請求項１１】
請求項９または１０に記載の樹脂組成物からなる樹脂成形体。
【請求項１２】
請求項１から４のいずれかに記載の反応性基含有環状ホスファゼン化合物を含む、重合性組成物。
【請求項１３】
前記反応性基含有環状ホスファゼン化合物と重合可能なモノマーおよびオリゴマーのうちの少なくとも一つの重合性材料をさらに含む、請求項１２に記載の重合性組成物。
【請求項１４】
請求項１２または１３に記載の重合性組成物の重合体からなる樹脂成形体。
【公開番号】特開２００７−１５３７４９（Ｐ２００７−１５３７４９Ａ）
【公開日】平成１９年６月２１日（２００７．６．２１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−３４７３６２（Ｐ２００５−３４７３６２）
【出願日】平成１７年１１月３０日（２００５．１１．３０）
【出願人】（５９１２８６２７０）株式会社伏見製薬所 (50)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年６月２１日（２００７．６．２１）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年１１月３０日（２００５．１１．３０）
【出願人】（５９１２８６２７０）株式会社伏見製薬所 (50)
【Ｆターム（参考）】
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