説明

回折構造転写箔及びそれを用いた偽造防止媒体

【課題】偽造防止効果をより一層向上させ、かつ一目で簡単に真偽判定が可能で、しかも偽造防止を要する透明カード等の表裏どちらの面からでも回折光を観察できるユニークな回折構造転写箔及びそれを用いた偽造防止媒体の提供にある。
【解決手段】支持体1の片面に剥離性保護層2を介して、異なる回折構造であるが形成されている複数の回折構造形成層3、6が積層され、該回折構造形成層3、6上には接着層9が施されている回折構造転写箔13であって、少なくとも前記支持体1上には前記剥離性保護層2、回折構造であるエンボス加工面5が形成されている第一の回折構造形成層3、光反射層4、前記第一の回折構造形成層とは異なる回折構造であるエンボス加工面が形成されている第二の回折構造形成層6、光反射層7、接着層9の6層が順に積層されている回折構造転写箔13である。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、偽造防止を要する透明シート(フィルム)やカード等に転写する、偽造や改ざんを困難とするための偽造防止機能を有する回折構造転写箔及びそれを用いた偽造防止媒体に関するものである。
【背景技術】
【0002】
従来、偽造を防止する手段は、物品そのものを模倣する事が困難な物とするか、或いは、模倣する事が困難な物を本物の証明として物品に取り付ける事によって、真贋を判定出来るようにしているものがある。例えば前者は紙幣や株券などの有価証券のようにそのもの自体に微細な印刷加工や透かし加工を施したり色再現が困難な色調の彩色を使用したり、素材自体にも特殊なものとする事により、印刷技術による偽造や、複写機やスキャナーによる偽造を困難なものとしていた。
【0003】
ところが、デジタル技術の進歩により、上記のように従来偽造が困難であった微細な印刷加工や色彩までもが容易にカラーコピーやスキャナー等で再現出来るようになった。その結果、偽造防止策としての印刷加工も更に高微細化し、より複製や偽造を困難なものとしているが、このように高微細化が進んでくると一目で真偽判定を行う事ができず、それらの真贋の判定が容易ではないものとなる。
【0004】
そこで、物品(偽造防止対象物)に取り付ける事により一目で容易に真贋を判定する事が可能であり、取り扱いも容易である事から回折格子パターンが記録された回折構造物が偽造防止手段として広く使われる事となった。このような偽造防止手段として採用される回折構造物としては、例えば、基材上に剥離性を持つ剥離層、回折格子が形成された回折構造形成層、金属光沢を持つ反射層、接着層を順次積層して回折構造物を転写箔化したものがある(例えば、特許文献1参照)。
【0005】
また、基材上に直接回折構造形成層を設け、反射層、粘着加工層が順次積層されてステッカー化したものがある(例えば、特許文献2参照)。
【0006】
上記回折構造物の回折格子パターンを形成するための製造方法は多数あり、本発明ではこの製造方法について限定するものではないが、その一例としてレリーフ型回折構造物の製造方法について述べる事にする。
【0007】
上記レリーフ型回折構造物とは、任意の画像情報を干渉縞として記録されている回折格子パターンが凹凸状に回折構造形成層に形成されたもので、回折構造形成層に光を当てると入射光がこの凹凸によって干渉を起こし、入射光に対してある一定の角度もしくはある一定の範囲内の角度に任意の画像情報を再生するものである。このレリーフ型回折構造物は、画像情報を凹凸で記録した原版を作製し、これをエンボス加工する事によって大量に生産する事が可能であるため、現在多くの回折構造物に採用されている。
【0008】
また、透明な回折格子として、反射層に透明金属蒸着薄膜や無機化合物の薄膜を形成する事により、反射層より下層に位置するものも、回折格子を通して目視にて観察出来るようにしたものもある(例えば、特許文献3参照)。
【0009】
更に、回折構造形成層を複数層設け、同一の絵柄もしくは別の絵柄を異なる再生方向で再生可能にし、また、複数の絵柄を重畳して再生可能にしたものもある(例えば、特許文献4参照)。
【0010】
しかし、これら従来用いられている回折構造物は、何れも回折構造物の片面に形成された回折構造形成層に光が入射する事によって回折光を生じさせ、反射層にて回折光を反射して層を透過する事によって、光が入射した側からその回折光を観察するものであり、その反対面に光を当てても、不透明な基材に遮光されたり、基材が透明であっても反射層が回折構造形成層の手前に位置する事になるため、回折光を観察する事は出来ず、結果、回折構造物の片面側からしか回折光を観察する事が出来ない。
【0011】
以下に、上記先行技術文献を示す。
【特許文献1】特開昭61−190369号公報
【特許文献2】特公平1−54709号公報
【特許文献3】特開平11−91297号公報
【特許文献4】特開平7−199781号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0012】
しかしながら、前記のような偽造防止策としての回折構造物であっても、回折構造物の製造方法の簡易化や低コスト化が進んだ事により、一目では簡単に真偽判定をする事が出来ない回折構造物の偽造が増加しており、最近では、その偽造防止効果が薄れつつあるという問題がある。
【0013】
また、有価証券や紙幣の偽造防止策として、UVやIVといった波長の光を利用して真贋判定を行う特殊発光(もしくは吸収)インキなども使用されているが、その確認には専用の光源が必要であり、一目で真贋判定ができないという問題がある。
【0014】
本発明は、かかる従来技術の問題点を解決するものであり、その課題とするところは、偽造防止を要する透明シート(フィルム)やカード等に転写する、偽造や改ざんを困難とするための偽造防止機能を有する回折構造転写箔において、偽造防止効果をより一層向上させ、かつ一目で簡単に真偽判定が可能で、しかも偽造防止を要する透明カード等の表裏どちらの面からでも回折光を観察できるユニークな回折構造転写箔及びそれを用いた偽造防止媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0015】
本発明に於いて上記課題を達成するために、まず請求項1の発明では、支持体の片面に剥離性保護層を介して、異なる回折構造が形成されている複数の回折構造形成層が積層され、該複数のうちの最後の回折構造形成層上には接着層が施されている回折構造転写箔であって、少なくとも前記支持体上には前記剥離性保護層、回折構造が形成されている第一の回折構造形成層、光反射層、前記第一の回折構造形成層とは異なる回折構造が形成されている第二の回折構造形成層、光反射層、接着層の6層が順に積層されていることを特徴とする回折構造転写箔としたものである。
【0016】
また、請求項2の発明では、前記異なる回折構造が形成されている回折構造形成層の少なくとも1層が、光学多層干渉膜の多層薄膜またはコレステリック液晶の層または観察する角度に応じて異なる色彩を見ることができる印刷層であることを特徴とする請求項1記載の回折構造転写箔としたものである。
【0017】
また、請求項3の発明では、前記異なる回折構造が形成されている回折構造形成層の少なくとも1層が、任意の特定波長のみを回折する回折格子であることを特徴とする請求項1記載の回折構造転写箔としたものである。
【0018】
また、請求項4の発明では、前記光反射層の少なくとも1層が、前記回折構造形成層上に文字、記号、絵柄がパターン化されて積層されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の回折構造物としたものである。
【0019】
また、請求項5の発明では、前記剥離性保護層、回折構造形成層、光反射層の各層間に該各層の密着性を高める密着補助層及び/又は文字、記号、絵柄でなる印刷層が施されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の回折構造転写箔としたものである。
【0020】
さらにまた、請求項6の発明では、請求項1乃至5のいずれかに記載の回折構造転写箔を用いて被転写体に転写された偽造防止媒体であって、前記被転写体は少なくとも回折構造転写箔の転写層が転写される部分が光透過性を有していることを特徴とする偽造防止媒体としたものである。
【発明の効果】
【0021】
本発明は以上の構成であるから、下記に示す如き効果がある。
【0022】
即ち、上記請求項1に係る発明によれば、支持体の片面に剥離性保護層を介して、異なる回折構造が形成されている複数の回折構造形成層が積層され、該複数のうちの最後の回折構造形成層上には接着層が施されている回折構造転写箔において、少なくとも前記支持体上には前記剥離性保護層、前記回折構造が形成されている第一の回折構造形成層、光反射層、前記第一の回折構造形成層とは異なる回折構造が形成されている第二の回折構造形成層、光反射層、接着層の6層が順に積層されていることによって、この少なくとも前記2層の回折構造形成層には、ある一定の範囲の角度にて色彩や画像パターンの観察を可能にする、もしくは観察する角度の変化に応じて複数の異なる色彩や画像パターンの観察を可能にする回折構造が形成され、複数の回折構造形成層は各々光反射層と接しており、支持体側の第一の回折構造層と光反射層は、支持体側からの入射光によって回折光を発生させるため、転写後において剥離保護層側から回折光を観察する事が可能となる一方、接着層側の第二の回折構造層と反射層は前記支持体側の第一の回折構造層と光反射層とは異なる凹凸形状で作製する事ができるため、接着層側からの入射光によって回折光が生じる場合には、支持体側から観察できる回折光とは異なった画像を観察する事が可能となるもので、本発明の回折構造転写箔は、転写後に表裏のどちら側から光が入射しても、観察者は回折光を観察する事が出来、しかもその画像は各々の面で異なるという、従来にはない視覚効果が得られると共に偽造防止効果が高く真贋判定も容易に行える回折構造転写箔とすることができる。
【0023】
また、上記請求項2に係る発明によれば、異なる回折構造が形成されている回折構造形成層の少なくとも1層が、屈折率の差が大きな材料を交互に薄膜状に積層した光学多層干渉膜の多層薄膜とすることによって、観察する角度によって基材自体の色彩が変化するため、更に視覚的な効果を高めた回折構造転写箔とすることができ、またはコレステリック液晶の層または観察する角度に応じて異なる色彩を見ることができる印刷層とすることによっても上記多層薄膜の場合と同様な効果を得ることを可能にする回折構造転写箔とすることができる。
【0024】
また、上記請求項3に係る発明によれば、異なる回折構造が形成されている回折構造形成層の少なくとも1層を、任意の特定波長のみを回折する回折格子とすることによって、
この回折格子パターンに光を入射して画像を再生する時の再生光である回折光の波長が限定され、回折構造転写箔における回折構造形成層が任意の特定波長のみを回折するようにすることが可能となる。
【0025】
尚、上記請求項1乃至3のいずれかに係る発明によれば、光反射層の少なくとも1層が、回折構造形成層と屈折率が異なる無機化合物でなり、厚みが1nm〜1000nmの薄膜層で光透過性を有していることによって、複数形成された回折構造による回折光が同じ面側で観察することが可能となり、従来にない視覚効果を得るとともに、より一層の偽造防止効果を高めることが可能な回折構造転写箔とすることができる。
【0026】
また、上記請求項4に係る発明によれば、光反射層の少なくとも1層が、前記回折構造形成層上に文字、絵柄などにパターン化されて積層されていることによって、より一層の偽造防止効果を高めることを可能にする回折構造転写箔とすることができる。
【0027】
また、上記請求項5に係る発明によれば、転写層を構成する剥離性保護層、回折構造形成層、光反射層の各層間に該各層の密着性を高める密着補助層及び/又は文字、記号、絵柄でなる印刷層が施されていることによって、より一層の耐久性を高め、かつデザイン効果をも高める回折構造転写箔とすることができる。
【0028】
さらにまた、上記請求項6に係る発明によれば、請求項1乃至5のいずれかに記載の回折構造転写箔を用いて被転写体に転写された偽造防止媒体において、前記被転写体を少なくとも回折構造転写箔の転写層が転写される部分が光透過性を有しているものとすることによって、偽造防止を要する光透過性のシート(フィルム)やカード等の被転写体に転写した後に支持体を剥離除去した偽造防止媒体の表裏両面で異なる回折光画像を観察でき、しかもその画像は各々の面で異なるという、従来にはない視覚効果が得られると共に偽造防止効果が高く真贋判定も容易に行える偽造防止媒体とすることができる。
【0029】
このように本発明は、複数有している回折構造形成層が、剥離性保護層の表裏に各々別個に形成されているのではなく、それらのどちらか一方の面に積層されながらも各々別の形状の凹凸面を有し、表裏の各々の面で異なる回折光画像を観察できるという、従来にはない偽造防止効果と容易な真贋判定方法を持った回折構造転写箔となる。
【0030】
従って、本発明の回折構造転写箔を用いて、光透過性を持った透明な被転写体に転写すれば、表裏を目視で確認するだけで簡単に真贋判定ができる偽造防止媒体の製造が可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【0031】
以下本発明を実施するための最良の形態を図面を用いて詳細に説明する。
【0032】
図1は、本発明の回折構造転写箔13の事例を示す断面図であり、支持体1上には転写層10が積層されており、この転写層10は転写後に支持体から剥離し、剥離後には転写層を摩擦による傷や各種薬品などの付着から保護するための剥離性保護層2と、剥離性保護層2側からの入射光によって回折光を発生させる回折構造形成層3と、接着層9側からの入射光によって回折光を発生させる回折構造形成層6と、回折構造であるエンボス加工面4、7及び各々の回折光を反射する光反射層5、8、そして被転写基材に接着するための接着層9を有しており、本発明の回折構造転写箔13の基本的な層構成である。
【0033】
また、図2は上記図1に示した本発明の回折構造転写箔13を透明な被転写体11に転写し、支持体を剥離して作製された偽造防止媒体12であり、偽造防止媒体の表裏で回折光が発生する事を示した図である。表面では回折光bを、裏面では回折光dを発生させる
事を示している。まず、表面では、入射光aが剥離性保護層2を通過して光反射層5が形成されている回折構造であるエンボス加工面4に到達すると、このエンボス加工面4に沿って反射した光が回折現象によって回折光bとなって図示する方向へ進み、表面で回折光を観察することができる。
【0034】
一方、裏面では入射光cが光透過性を持つ透明な被転写体11と接着層9を透過し、回折構造形成層6の端面に形成されているエンボス加工面7で回折光dを生じさせるとともに、反射層8よって反射され、再び接着層9と被転写体11を通過して図示する方向へと進み、回折光を観察する事が出来る。尚、エンボス加工面4と7とでは各々異なった形状に加工できるため、表裏で異なる画像の回折光が観察できる偽造防止媒体12となる。
【0035】
以下に、本発明の回折構造転写箔13とそれを用いて転写層10を被転写体11に転写した偽造防止媒体12を構成する各層の材質と形成方法などについて解説する。
【0036】
<支持体>
まず、支持体1としては、樹脂フィルムやシートが使用され、その樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、耐熱ポリ塩化ビニル樹脂等でなるフィルムやシート等が挙げられる。これらの樹脂の中で、耐熱性が高く厚みが安定している事から、ポリエチレンテレフタレート樹脂のシートやフィルムが好ましく使用できる。
【0037】
また、これら樹脂シートやフィルムには、帯電防止処理、マット加工、エンボス処理、文字や絵柄の印刷、レーザーマーキング等の加工を施したフィルムも使用することができる。
【0038】
<剥離性保護層>
剥離性保護層2としては、樹脂に滑剤を添加したものが使用できる。樹脂としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、湿気硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂等が使用できる。例えば、アクリル樹脂やポリエステル樹脂、ポリアミドイミド樹脂である。また、滑剤としてはポリエチレンパウダーや、カルナバロウ等のワックスを使用する事ができ、20重量部まで添加する事が可能である。これらは剥離性保護層2として、支持体1上にグラビア印刷法やマイクログラビア法等、公知の塗布方法によって形成される。
【0039】
<回折構造形成層>
回折構造形成層3、6の表面に形成される回折構造であるエンボス加工面4、7は、レリーフ型回折格子や体積型回折格子等の回折構造体が利用できる。
【0040】
上記レリーフ型回折格子は、その表面に微細な凹凸パターンの形態で回折格子を記録したもので、本発明の回折構造写箔においては、回折構造形成層3、6のエンボス加工面4、7とで各々異なる凹凸パターンで加工する事が可能である。
【0041】
このような凹凸パターンは、例えば、二光束干渉法を使用して感光性樹脂の表面に互いに可干渉の2本の光線を照射してこの感光性樹脂表面に干渉縞を生成させ、この干渉縞を凹凸の形態で感光性樹脂に記録する事で形成できる。尚、この二光束性干渉法によって形成された干渉縞も回折格子であり、前記2本の光線の選択によって任意の立体画像を回折格子パターンとして記録する事が可能である。また、観察する角度に応じて異なる画像(以下チェンジング画像と言う)が見られるように記録する事も可能である。
【0042】
本発明の回折構造転写箔13及び偽造防止媒体12に用いられる回折格子構造となるパターンを記録する方法については、前記二光束干渉法の他にもイメージホログラムやリッ
プマンホログラム、レインボーホログラム、インテグラルホログラムなど、従来から知られているホログラムの製造方法により作製が可能である。
【0043】
また、上記レリーフ型回折格子の凹凸パターンは、電子線硬化型樹脂の表面に電子線を照射して、回折格子となる縞状パターンに露光する事によって回折構造物を形成する事も可能である。この場合には、その干渉縞を1本ごとに制御する事ができるため、ホログラムと同様に任意の立体画像やチェンジング画像を記録する事ができる。また、画像をドット状の画素領域に分割し、この画素領域ごとに異なる回折格子を記録し、これら画祖の集合で全体の画像を表現する事も可能である。画素は円形のドットの他、星形のドットでも良い。
【0044】
また、誘起表面レリーフ形成法によって、前記凹凸パターンを形成する事も可能である。すなわち、アゾベンゼンを鎖側に持つポリマーのアモルファス薄膜に対して、青色〜緑色に渡る範囲の或る波長を有した数十mW/cm2 程度の比較的弱い光を照射する事によって、数μmスケールでポリマー分子の移動を起こし、結果、薄膜表面に凹凸によるレリーフを形成する事ができる。
【0045】
そして、このように形成された凹凸パターンを有するレリーフ型のマスター版の表面に電気メッキ法で金属膜を形成する事によって、レリーフ型マスター版の凹凸パターンを複製し、これをプレス版とする。そして、支持体1上に積層される樹脂層にこのプレス版を熱圧着し、この表面に微細な凹凸パターンでなる回折構造を転写することにより、エンボス加工面4、7が形成された回折構造形成層3、6とすることができる。
【0046】
前記レリーフ型回折格子による回折構造形成層3、6に適用される樹脂としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線あるいは電子線硬化性樹脂等が使用できる。例えば、熱
可塑性樹脂では、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂等が挙げられる。また、反応性水酸基を有するアクリルポリオールやポリエステルポリオール等にポリイソシアネートを架橋剤として添加して架橋させたウレタン樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂等が使用できる。また、紫外線あるいは電子線硬化性樹脂としては、エポキシ(メタ)アクリル、ウレタン(メタ)アクリレート等が使用できる。
【0047】
また、回折構造形成層3、6として、多層薄膜である光学多層干渉膜、コレステリック液晶の層、観察する角度に応じて異なる色彩を見る事ができる粉末を含有するインキ等が利用可能である。
【0048】
前記光学多層干渉膜は、金属薄膜、セラミックス薄膜、又は、それらを併設してなる複合薄膜として、各層の光学特性と層の組み合わせの関係による適当な数の層が積層されていれば良い。例えば、屈折率の異なる薄膜を積層する場合、高屈折率の薄膜と低屈折率の薄膜とを組み合わせても良く、また特定の組み合わせを交互に積層するようにしても、いずれでもよい。それらの層による光学的条件を満たす適当な組み合わせにより、所望の光学的効果(ここでは構造色)を発現する光学多層干渉薄膜を得ることができる。
【0049】
このような光学多層干渉膜に用いられる材料の例を以下に挙げる。尚、化学式の後ろに続くカッコ内の数値は、それぞれの屈折率nを示す。
【0050】
まず、セラミックスとしては、Sb2 3 (3.0)、Fe2 3 (2.7)、TiO2 (2.6)、CdS(2.6)、CeO2 (2.3)、ZnS(2.3)、PbCl2 (2.3)、CdO(2.2)、Sb2 3 (2.0)、WO3 (2.0)、SiO(2.0)、Si2 3 (2.5)、In2 3 (2.0)、PbO(2.6)、Ta2 3 (2.4)、ZnO(2.1)、ZrO2 (2.0)、MgO(1.6)、Si2 2
1.5)、MgF2 (1.4)、CeF3 (1.6)、CaF2 (1.3〜1.4)、AlF3 (1.6)、Al2 3 (1.6)、GaO(1.7)等があり、また、金属系の材料としては、Al、Fe、Mg、Zn、Au、Ag、Cr、Ni、Cu、Si等の金属単体もしくは合金が挙げられる。
【0051】
また、低屈折率の材料としては、例えば有機ポリマーのうち、ポリエチレン(1.51)、ポリプロピレン(1.49)、ポリテトラフロロエチレン(1.35)、ポリメチルメタアクリレート(1.49)、ポリスチレン(1.60)等がある。但し、ここでカッコ内の数値はそれぞれの屈折率nを示す。これらの高屈折率材料もしくは20〜70%の光透過率とした金属薄膜より少なくとも一種、低屈折率材料より少なくとも一種をそれぞれ選択し、所定の厚さで交互に積層させる事により、可視光における特定の波長だけを吸収あるいは反射するようになる。
【0052】
前記の各材料から屈折率、反射率、透過率等の光学特性や耐候性、層間密着性などに基づき適宜選択され、薄膜として積層される事によって光学的な波長干渉を発生させる多層薄膜を形成する。形成方法は、膜厚、成膜速度、積層数、あるいは光学膜厚等の制御が可能な公知の方法が使用できる。例えば真空蒸着法やスパッタリング法、CVD法等である。尚、前記光学膜厚とはn・dで与えられる量であり、nは屈折率、またdは膜厚である。
【0053】
また、コレステリック液晶の層は、その構成分子が光学活性を有し、薄層内ではネマッティック一軸配向しているが、隣接層間では相互に一定方向に一定角のねじれを起こしている螺旋構造を有している。そのピッチは数百nmから無限大まで分布する。この螺旋構造のため、コレステリック液晶は螺旋ピッチに相応した波長の光を選択的に反射し、青から赤まで煌びやかな色彩を持つ。
【0054】
次に、観察する角度に応じて異なる色彩を見る事ができる粉末としては、例えば、雲母などの層状物質が挙げられる。この雲母を還元二酸化チタンや酸化鉄で被覆した粉末を利用する事ができる。これらは、いわゆるフリップフロップ効果によって、波長分散性能を発揮する。これら粉末をインキ化して公知の印刷法または塗布法により、波長分散性能を有する層を形成する事ができる。
【0055】
<光反射層>
反射層5、8は、回折構造形成層3、6に直接接触して設ける必要はないが、回折構造形成層3、6に形成されるエンボス加工面4、7がレリーフ型回折格子の場合には、その凹凸パターンに光反射層5、8を直接接触して設けられる必要がある。この場合、光反射層5及び8によって反射した光は回折光である。
【0056】
上記光反射層5、8としては、反射輝度が高い点で金属薄膜が好ましく利用できる。この金属としては、例えば、Al、Sn、Cr、Ni、Cu、Au、真鍮等が挙げられる。そして、真空製膜法を利用してこの金属薄膜を形成する事ができる。真空製膜法としては、真空蒸着法、スパッタリング法等が適用でき、厚みは1〜1000nm程度に制御できれば良い。
【0057】
また、光反射層5、8として、高屈折率の透明薄膜を利用する事もできる。この透明薄膜は、回折構造形成層2、5の屈折率より0.2以上大きい屈折率を有するものが望ましく、例えば、屈折率2.0以上の透明材料から構成される薄膜である。
【0058】
このような透明材料としては、例えば、Sb2 3 (屈折率n=3.0)、Fe2 3 (n=2.7)、TiO2 (n=2.6)、Cds(n=2.6)、CeO2 (n=2.
3)、ZnS(n=2.3)、PbCl2 (n=2.3)、CdO(n=2.2)、Sb2 3 (n=2.0)、WO3 (n=2.0)、SiO(n=2.0)、Si2 3 (n=2.5)、In2 3 (n=2.0)、PbO(n=2.6)、Ta2 3 (n=2.4)、ZnO(n=2.1)、ZrO2 (n=2.0)等が挙げられる。そして、真空製膜法を利用してその薄膜を形成する事ができる。薄膜の厚みは1〜1000nm程度で良い。
【0059】
また、金属粉末や透明材料の粉末を含むインキを印刷して薄膜としても良い。この場合
、粉末としては粒子径500nm以下のものが好ましい。薄膜の厚みは0.1〜20μmが好ましく、印刷方式として、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法等、公知の印刷方法が利用できる。
【0060】
そして、この光反射層5、8は、次のような方法を各々別工程で行う事により、画像パターンに加工することができる。
【0061】
すなわち、その第1の方法は、前述の印刷方式を利用する方法である。また、第2の方法は、回折構造形成層3、6に画像パターン状の開口部を有するマスクを重ねて光反射層5、8を各々の工程で真空製膜することにより、画像パターン状に光反射層5、8を製膜する方法である。
【0062】
また、その第3の方法は、まず、溶剤溶解性の樹脂層をネガパターン状に設け、この溶剤溶解性樹脂層を被覆して全面一様に光反射層5及び8を形成した後、溶剤で前記の溶剤溶解性樹脂層を溶解して除去すると同時に、この溶剤溶解性樹脂層上に重ねられた反射層5及び8を除去する事によって、残存する光反射層5、8が画像パターン状に形成される方法である。
【0063】
また、その第4の方法は、まず、回折構造形成層3、6の上に、この回折構造形成層3、6から剥離しやすい樹脂層をネガパターン状に設け、この樹脂層を被覆して全面一様に光反射層5及び8を形成した後、粘着ロールや粘着紙等に押し当てる事によって粘着ロールや粘着紙等にネガパターン状に転写させて除去し、結果、光反射層5、8が各々画像パターン状に残存される方法である。
【0064】
また、その第5の方法は、全面一様に光反射層5及び8を形成し、この光反射層5及び8上に耐薬品性の樹脂層を画像パターン状に設け、アルカリ性または酸性のエッチング液を適用して露出している光反射層5、8を溶解して除去する方法である。この場合、光反射層5、8を画像パターン状に加工したした後、前記耐薬品性樹脂層を除去しても良いが、そのまま残存させて、耐薬品性を持たせるための保護層として利用する事もできる。
【0065】
また、その第6の方法は、全面一様に形成された光反射層5及び8上に感光性樹脂層を形成し、画像パターン状に露光・現像した後、アルカリ性または酸性のエッチング液を適用して露出した光反射層5及び8を溶解して除去する方法である。この場合も、残存する感光性樹脂層をそのまま残存させて、耐薬品性を持たせる保護層として利用する事ができる。
【0066】
また、その第7の方法は、全面一様に形成された光反射層5及び8にレーザー光を照射して除去する事により、残存する反射層5、8が画像パターン状となる方法である。
【0067】
この画像パターンとしては、明確な意味を持たないランダムなパターンでも良いが、絵柄、図形、模様、文字、数字、記号等のパターンとして、この画像パターンに認知可能な情報を付与させる事も可能である。但し、画像パターンは各々独立した状態で存在し、且
つ、画像パターン同士が電気的に絶縁された状態を保持している必要がある。
【0068】
<接着層>
接着層9としては、熱及び圧力によって被転写基材に接着するものであれば良く、公知の感熱性接着材料を使用する事ができる。
【0069】
<その他の層>
その他の層としては、各層間の密着性をより強固なものとするためにアンカー層を設けたり、回折構造形成層3、6を着色したり、文字や絵柄を印刷するために印刷層を追加する事ができ、これらのインキも周知の密着向上剤や接着剤、印刷インキがそれぞれ使用する事ができる。
【0070】
<偽造防止媒体>
本発明の回折構造転写箔13を被転写体11に重ね、熱圧着により接着した後、支持体1を剥離除去する事により、転写層10が転写されて偽造防止媒体12とする事ができる。この被転写体11としては、偽造防止を要する任意のものに利用できるが、光透過性を持った材料で、透明性が高い事が望ましい。例えば、ポリ塩化ビニル樹脂やポリエステル樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂を材質とする樹脂シートやフィルム基材、あるいは樹脂カードやこれらに類似する透明物品等が挙げられる。
【実施例】
【0071】
以下に、本発明の具体的実施例について説明する。
【0072】
<実施例1>
図1に示す支持体1として、厚さ25μmの透明なポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを使用し、その片面に下記組成物からなる剥離性保護層用のインキを塗布・乾燥し、膜厚2μmの剥離性保護層2を形成した。
【0073】
次に、下記組成物からなる回折構造形成層用のインキを塗布・乾燥し、膜厚1μmの層を形成した後、ロールエンボス法により回折格子形成用のプレス版を熱圧してその表面に回折格子を発生させるためのエンボス加工面4を形成し、回折構造形成層3とした。
【0074】
続いて、この回折構造形成層4の全面に真空蒸着法にてアルミニウム蒸着膜を膜厚50nmにて均一に形成し、光反射層5の薄膜を形成した。
【0075】
また、更にこの反射層5上に、前記回折構造形成層3とエンボス加工面4、光反射層5と同様の方法で同様の膜厚の回折構造形成層6とエンボス加工面7、光反射層8を形成した。
【0076】
最後に下記組成物からなる接着層用のインキを塗布・乾燥させて厚さ3μmの接着層9を形成し、本発明の回折構造転写箔13を製造した。
【0077】
「剥離保護層用インキ組成物」
ポリアミドイミド樹脂(Tg.250℃) 19.2重量部
ポリエチレンパウダー 0.8重量部
ジメチルアセトアミド 45.0重量部
トルエン 35.0重量部
「回折構造形成層用インキ組成物」
ウレタン樹脂 20.0重量部
メチルエチルケトン 50.0重量部
酢酸エチル 30.0重量部
「接着層用インキ組成物」
塩化ビニル酢酸ビニル共重合樹脂 15.0重量部
アクリル樹脂(Tg.20℃) 10.0重量部
シリカ 1.0重量部
メチルエチルケトン 44.0重量部
トルエン 30.0重量部
次に、この回折構造転写箔を、予め文字や絵柄など所望の印刷を行った透明なプラスチックカード基材に重ね、温度120℃に熱した円型の真鍮製版を瞬間的に圧着させる転写機を用いて被転写体11に転写し、すぐに支持体2を剥離除去して偽造防止媒体12を製造した。
【0078】
上記実施例1で製造された偽造防止媒体12は、観察する角度に応じて異なる色彩や画像を見る事ができる回折光を発生させる回折構造を有しており、この回折構造は偽造防止媒体12の表面からだけでなく裏面においても、表面と同様に観察する角度によって回折光による色彩や画像を見る事ができ、表裏の回折光を目視で確認する事により真贋を判定する事が可能となり、従来にはない偽造防止効果の高い偽造防止媒体12とすることができた。
【図面の簡単な説明】
【0079】
【図1】本発明の回折構造転写箔の一実施の形態を断面で表した説明図である。
【図2】本発明の回折構造転写箔を用いた偽造防止媒体の一実施の形態を断面で表した説明図である。
【符号の説明】
【0080】
1‥‥支持体
2‥‥剥離性保護層
3‥‥回折構造形成層
4‥‥エンボス加工面
5‥‥光反射層
6‥‥回折構造形成層
7‥‥エンボス加工面
8‥‥光反射層
9‥‥接着層
10‥‥転写層
11‥‥被転写体
12‥‥偽造防止媒体
13‥‥回折構造転写箔
15‥‥印刷層

【特許請求の範囲】
【請求項1】
支持体の片面に剥離性保護層を介して、異なる回折構造が形成されている複数の回折構造形成層が積層され、該複数のうちの最後の回折構造形成層上には接着層が施されている回折構造転写箔であって、少なくとも前記支持体上には前記剥離性保護層、前記回折構造が形成されている第一の回折構造形成層、光反射層、前記第一の回折構造形成層とは異なる回折構造が形成されている第二の回折構造形成層、光反射層、接着層の6層が順に積層されていることを特徴とする回折構造転写箔。
【請求項2】
前記異なる回折構造が形成されている回折構造形成層の少なくとも1層が、光学多層干渉膜の多層薄膜またはコレステリック液晶の層または観察する角度に応じて異なる色彩を見ることができる印刷層であることを特徴とする請求項1記載の回折構造転写箔。
【請求項3】
前記異なる回折構造が形成されている回折構造形成層の少なくとも1層が、任意の特定波長のみを回折する回折格子であることを特徴とする請求項1記載の回折構造転写箔。
【請求項4】
前記光反射層の少なくとも1層が、前記回折構造形成層上に部分的にパターン化されて積層されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の回折構造物。
【請求項5】
前記剥離性保護層、回折構造形成層、光反射層の各層間に該各層の密着性を高める密着補助層及び/又は文字、記号、絵柄でなる印刷層が施されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の回折構造転写箔。
【請求項6】
請求項1乃至5のいずれかに記載の回折構造転写箔を用いて被転写体に転写された偽造防止媒体であって、前記被転写体は少なくとも回折構造転写箔の転写層が転写される部分が光透過性を有していることを特徴とする偽造防止媒体。

【図1】
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【図2】
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【公開番号】特開2009−134094(P2009−134094A)
【公開日】平成21年6月18日(2009.6.18)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2007−310312(P2007−310312)
【出願日】平成19年11月30日(2007.11.30)
【出願人】(000003193)凸版印刷株式会社 (10,630)
【Fターム(参考)】