地盤注入装置及び地盤注入工法
【課題】高価な部材を用いることなく簡単な構成で地盤に適切な注入量の地盤改良材を注入することができる地盤注入装置及び地盤注入工法を提供する。
【解決手段】本発明の地盤注入装置１０は、注入部５と貯蔵部２と圧送手段３と検出部６と、圧送手段３が圧送する地盤改良材の全体量に対し注入部５側に流れる量の比である注入比を所定比率範囲内で変更可能に注入部５及び貯蔵部２の間で地盤改良材を分配する分配部４と、流量が所定量以下且つ圧力が所定圧力以下の場合は、注入比を増加させる制御信号を分配部４に出力する注入比増加部７１と流量が所定量超又は圧力が所定圧力超の場合は、注入比を減少させる制御信号を分配部４に出力する注入比減少部７２と流量が所定流量と等しく且つ圧力が所定圧力以下の場合は注入比を維持する制御信号を出力する注入比維持ステップとをもつ制御部７と、を有することを特徴とする。
【解決手段】本発明の地盤注入装置１０は、注入部５と貯蔵部２と圧送手段３と検出部６と、圧送手段３が圧送する地盤改良材の全体量に対し注入部５側に流れる量の比である注入比を所定比率範囲内で変更可能に注入部５及び貯蔵部２の間で地盤改良材を分配する分配部４と、流量が所定量以下且つ圧力が所定圧力以下の場合は、注入比を増加させる制御信号を分配部４に出力する注入比増加部７１と流量が所定量超又は圧力が所定圧力超の場合は、注入比を減少させる制御信号を分配部４に出力する注入比減少部７２と流量が所定流量と等しく且つ圧力が所定圧力以下の場合は注入比を維持する制御信号を出力する注入比維持ステップとをもつ制御部７と、を有することを特徴とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、地盤中に地盤改良材を注入する地盤注入装置及び地盤注入工法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から地盤を改良するために、地盤に一つあるいは複数の管を差し込み、地盤改良材である地盤改良材を地盤に注入する工法及び装置が利用されており、例えば特許文献１に開示されている多点地盤注入工法及び装置がある。
【０００３】
ところで、地盤改良材を注入する際に地盤の種類などにより、単位時間当たりに注入する量が異なり、ある程度その量が一定になるように制御する必要がある。制御がうまくいかず量が多くなることで地盤が破壊されたり、量が足りないことで地盤が十分に改良されなかったりする。
【特許文献１】特開２０００−４５２５９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、地盤改良材を注入するためのポンプなどの装置において、単位時間当たりに所定量になるように適切な制御が可能な装置は高価であったりする。
【０００５】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたもので、高価な部材を用いることなく簡単な構成で地盤に適切な注入量の地盤改良材を注入することができる地盤注入装置及び地盤注入工法を提供することを解決すべき課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するための請求項１に係る発明の構成上の特徴は、
地盤中に差し込まれ、吐出口をもつ注入部と、
地盤中に注入するための地盤改良材が貯蔵されている貯蔵部と、
前記貯蔵部から前記注入部に単位時間当たり所定量以上で前記地盤改良材を圧送する圧送手段と、
前記地盤改良材が前記吐出口から流出する単位時間当たり流量及び圧力を検出し、前記流量に応じた流量信号及び前記圧力に応じた圧力信号を出力する検出部と、
前記注入部及び前記圧送手段の間に位置し、前記圧送手段が圧送する前記地盤改良材の全体量に対し前記注入部側に流れる量の比である注入比を所定比率範囲内で変更可能に前記注入部及び前記貯蔵部の間で前記地盤改良材を分配する分配部と、
前記注入比が前記所定比率範囲内の上限でなく且つ前記流量信号により前記流量が前記所定量以下且つ前記圧力信号により前記圧力が所定圧力以下の場合は、前記注入比を増加させる制御信号を前記分配部に出力する注入比増加部と、前記流量信号により前記流量が前記所定量超又は前記圧力信号により前記圧力が所定圧力超であって、前記注入比が前記所定比率範囲内の下限でない場合は、前記注入比を減少させる制御信号を前記分配部に出力する注入比減少部と、前記流量信号により前記流量が前記所定流量と等しく且つ前記圧力信号より前記圧力が所定圧力以下の場合は前記注入比を維持する制御信号を前記分配部に出力する注入比維持部とをもつ制御部と、を有することである。
【０００７】
また請求項２に係る発明の構成上の特徴は、請求項１において、前記圧送手段は、単位時間当たり前記所定量以上であり且つ一定量で前記地盤改良材を圧送する手段であることである。
【０００８】
また請求項３に係る発明の構成上の特徴は、請求項１又は２において、前記分配部は、前記圧送手段、前記注入部、及び前記貯蔵部の間を弁体を回転させて切り替える三方弁と前記弁体を動作させる駆動部とをもつことである。
【０００９】
また請求項４に係る発明の構成上の特徴は、請求項１〜３の何れか１項において、前記注入部の１つに対して前記分配部が少なくとも１つ対応することである。
【００１０】
上記課題を解決するための請求項５に係る発明の構成上の特徴は、
地盤中に注入するための地盤改良材が貯蔵されている貯蔵部から単位時間当たり所定量以上で前記地盤改良材を地盤中に差し込まれている注入部へと圧送手段によって圧送する圧送ステップと、
前記地盤改良材が前記注入部の吐出口から地盤中に流出する単位時間当たり流量及び圧力を検出し、前記流量に応じた流量信号及び前記圧力に応じた圧力信号を出力する検出ステップと、
前記圧送手段が圧送する前記地盤改良材の全体量に対し前記注入部側に流れる量の比である注入比を所定比率範囲内で変更可能に前記注入部及び前記貯蔵部の間で前記地盤改良材を分配する分配ステップと、
前記注入比が前記所定比率範囲内の上限でなく且つ前記流量信号により前記流量が前記所定量以下且つ前記圧力信号により前記圧力が所定圧力以下の場合は、前記注入比を増加させる制御信号を出力する注入比増加ステップと、
前記流量信号により前記流量が前記所定量超又は前記圧力信号により前記圧力が所定圧力超であって、前記注入比が前記所定比率範囲内の下限でない場合は、前記注入比を減少させる制御信号を出力する注入比減少ステップと、
前記流量信号により前記流量が前記所定量と等しく且つ前記圧力信号より前記圧力が所定圧力以下の場合は前記注入比を維持する制御信号を出力する注入比維持ステップと、を有することを特徴とすることである。
【００１１】
また請求項６に係る発明の構成上の特徴は、請求項５において、前記圧送ステップは、単位時間当たり前記所定量以上であり且つ一定量で前記地盤改良材を圧送するステップであることである。
【発明の効果】
【００１２】
請求項１に係る発明においては、地盤改良材を単位時間当たり所定量以上で圧送する圧送手段と地盤改良材を地盤中に吐出する注入部との間に分配部を有し、制御部が実際に注入部から吐出される地盤改良材の単位時間当たりの流量及び圧力によって、地盤改良材の注入部側及び貯蔵部側に分配される比率を維持又は変更する制御信号を出力することができる。
【００１３】
検出された値に基づき圧送手段をオン・オフすることによって所定量に制御する装置は、オンしてもすぐに所定量を圧送するようにはならず、オフしてもすぐに所定量から圧送を停止することが難しいため、注入量を適切に制御することが難しい。しかし、本発明の地盤注入装置は、圧送手段を所定量以上圧送するように作動させたまま分配部の注入比を変更するため、オン・オフによる注入量の大きな増減が発生せず注入量を制御しやすい。よって、注入量を調節することができる比較的高価な装置（圧送手段）を用いることなく、分配部で注入部と貯蓄部とに流入する比率を変更することで注入部での注入量を調節できるため、簡単な構成で地盤注入装置を実現できる。
【００１４】
ここで、単位時間当たり所定量とは、地盤に地盤改良材を吐出する際の地盤毎の適切な量である。また、検出部の流量信号及び圧力信号は、流量及び圧力のアナログ値や変換したデジタル値、あるいは所定値を超えたら何らかの値を出力するなどとすることができる。また、注入比は（注入部側に流れる量）／（全体量）で算出され、範囲は０〜１である。所定比率範囲は、０〜１の範囲内で任意に設定でき、例えば０〜１の範囲を設定できる。なお、注入比が１の場合は全て注入部に流れ、０の場合は貯蔵部側に全て流れる。
【００１５】
請求項２に係る発明においては、所定量以上で且つ一定量を圧送する圧送手段とすることで、定常運転中は圧送手段をオン・オフ以外の制御をしなくても良いため、本発明の地盤注入装置全体の制御が簡単になる。
【００１６】
請求項３に係る発明においては、分配部に三方弁を用いることで安価な部材で地盤注入装置を実現でき且つ構成も簡単である。
【００１７】
請求項４に係る発明においては、注入部毎に注入部側に流す比率を調節することができる分配部をもつため、注入部毎に地盤のより適正な注入量で地盤改良材を地盤に注入することができる。
【００１８】
請求項５に係る発明においては、圧送ステップで地盤に地盤改良材を吐出する際の適切な量である単位時間当たり所定量以上で地盤改良材を圧送し、注入比増加ステップ又は注入比減少ステップで実際に地盤に吐出される流量及び圧力によって、注入部又は貯蔵部に分配される比率を維持又は変更し、その制御信号を出力することができる。よって、圧送手段のオン・オフによる制御とは異なり、圧送手段から圧送される地盤改良材を分配ステップで注入部側と貯蔵部側とに分配する比率を注入比増加ステップ又は注入比減少ステップで変更することができるため、適切な量に制御しやすい。
【００１９】
請求項６に係る発明においては、請求項２と同様の効果を有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
本発明の代表的な実施形態を図１〜図４を参照して説明する。
【００２１】
（実施形態）
本実施形態の地盤注入装置１０は、図１に示されるように、タンク（貯蔵部）２と、ポンプ（圧送手段）３と、分配部４と、注入部５と、検出部６と、制御部７とを有する。
【００２２】
タンク２は、地盤１１中に注入する地盤改良材が貯蔵されており、後述するポンプ３と導管８１によって接続され、後述する分配部４とバイパス管８３によって接続される。
【００２３】
ポンプ３は、分配部４と導管８２によって接続され、地盤改良材をタンク２から吸い出し、分配部４へと単位時間当たり所定量以上且つ一定量で圧送する。
【００２４】
分配部４は、導管８２を介してポンプ３から地盤改良材が流入し、後述する注入部５とバイパス管８３を介してタンク２にその地盤改良材を流出する。分配部４は、ポンプ３、注入部５、及びタンク２の間を弁体（図示略）を回転させて切り替える三方弁（図示略）とその弁体を動作させる駆動部（図示略）とをもつ。分配部４は、弁体が回転することで注入部５側の開口率及びタンク２に戻る側の開口率がそれぞれ変更され、開口率によって分配部４に流入した全体量に対し注入部５側に流れる量の比である注入比が決まる。分配部４に注入する量を１とした場合、注入比は０〜１の範囲（所定比率範囲）内で変更可能である。
【００２５】
注入部５は、管であり途中に単位時間当たりの流量と圧力を検出する検出部６が取り付けられている。そして、分配部４と接続しているのとは反対側の端部が地盤１１中に差し込まれ、地盤１１中に差し込まれる管の途中あるいは先端に吐出口５１を有する。注入部５の先端が地盤１１に差し込まれ、地盤改良材を地盤１１中に吐出する方法としては、例えば以下のようなものがある。
【００２６】
注入部５は、図２に示されるように、予め地盤１１中に埋め込まれた注入部５より径の大きい外管５５の内部に挿入される。外管５５には略円形の開口部５５１が軸方向に複数箇所リング状に形成されている。この開口部５５１の形状は軸方向に長い略楕円径やスリット状など、適宜選択可能である。そして、開口部５５１には、外管５５内部から地盤改良材が吐出する圧力によって撓むことで開口部５５１が地盤１１側に開口する逆止弁５４が取り付けられている。注入部５は、地盤改良材が吐出する吐出口５１を有する地盤改良材用細管５２と液体又は気体によって膨張するパッカー５３が取り付けられたパッカー用細管（図示略）とが１つの束にまとめられて外管５５に挿入される。パッカー５３は、膨張したパッカー５３が地盤改良材を地盤に注入する位置の外管５５の開口部５５１を塞がないように、配置される。地盤改良材用細管５２の吐出口５１は、パッカー５３とパッカー５３との間に位置する。地盤改良材を地盤改良材用細管５２から吐出する前に、まずパッカー５３を膨張させ、地盤改良材細管５２の吐出口５１がパッカー５３で区切られるようにする。パッカー５３によって外管５５の内部が区切られた後に、ポンプ３が駆動し地盤改良材が吐出口５１から吐出される。吐出した地盤改良材はまず、外管５５内部を満たし、開口部５５１から地盤中に排出される。なお、地盤改良材を地盤１１に注入後、外管５５は地盤１１にそのまま埋め込まれる。
【００２７】
また、地盤改良材が２種類の場合についても説明する。外管５５は１液の場合と同じため、説明を省略する。注入部５は、図３に示されるように、二重管の地盤改良材細管５６と第１吐出口５７及び第２吐出口５８を塞ぐように取り付けられている逆流防止の逆止弁５９とを有している。そして、地盤改良材用細管５６、パッカー５３及びパッカー用細管（図示略）が一緒に外管５５内部に挿入される。地盤改良材用細管５６は第１吐出口５７が逆止弁５９ａで塞がれている中心側に第１液が圧入され、第２吐出口５８が逆止弁５９ｂで塞がれている外周側に第２液が圧入される。第１液及び第２液はタンク２にそれぞれ別々に貯液される。逆止弁５９は、それぞれの液の圧力により撓み、吐出口５７，５８から液が吐出される。第１液及び第２液が吐出される前に、パッカー５３で外管５５内部は仕切られる。パッカー５３は、第１吐出口５７及び第２吐出口５８から吐出される地盤改良材が地盤１１に流入する外管５５の開口部５５１を塞がない位置に配置される。第１液及び第２液は、パッカー５３で仕切られて外管５５内部に充填されると圧力により開口部５５１を塞ぐように取り付けられている逆止弁５４が撓むことで地盤１１に流出する。
【００２８】
検出部６は、単位時間当たりの流量及び圧力を検出し、流量値を流量信号及び圧力値を圧力信号として、後述する制御部７に出力する。
【００２９】
制御部７は、ポンプ３、分配部４及び検出部６のそれぞれと通信ケーブル９１〜９３で接続されている。制御部７は、検出部６から流量信号及び圧力信号が入力され、それらの信号に基づき分配部４の注入比を変更するための制御信号を分配部４に出力する注入比増加部７１と注入比減少部７２と、注入比を変更しない制御信号を分配部４に出力する注入比維持部７３とをもつ。また、ポンプ３に対して、単位時間当たり所定量以上で圧送するオン信号又は圧送をしないオフ信号を出力する。
【００３０】
注入比増加部７１は、流量信号と所定量及び圧力信号と所定圧力を比較し、流量が所定量以下且つ圧力が所定圧力以下で且つ注入比が所定比率範囲内の上限ではない場合に、注入比を増加させるように開口率を変更し、変更した開口率（制御信号）を分配部４に出力する。
【００３１】
注入比減少部７２は、流量信号と所定量、圧力信号と所定圧力を比較し、流量が所定量超又は圧力が所定圧力超であって、注入比が所定比率範囲内の下限でない場合は、注入比を減少させるように開口率を変更し、変更した開口率（制御信号）を分配部４に出力する。
【００３２】
ここで、単位時間当たり所定量は、改良しようとしている地盤に地盤改良材を注入する適切な流量のことであり、所定圧力はポンプ３が破損しないための制限値より低い値である。
【００３３】
注入比維持部７３は、流量信号と所定量及び圧力信号と所定圧力を比較し、流量が所定量と等しく且つ圧力が所定圧力以下で且つ注入比が所定比率範囲内の上限ではない場合に、開口率を変更しない、つまり維持する制御信号を分配部４に出力する。
【００３４】
本実施形態の地盤注入装置１０は、一つの注入部５に対して、一つのポンプ３、一つの分配部４、１つの検出部６が対応し、一つの注入部ユニットを形成する。そして、制御部７は８つ又は１６の注入部ユニットを制御する。
【００３５】
本実施形態の地盤注入装置１０は、本発明の地盤注入工法に基づき制御される。地盤注入工法の代表的なフローチャートを図４に示す。図４は、制御部７で実行されるロジックの一例を示すフローチャートであり、これに限定されるものではない。
【００３６】
まず、単位時間当たり所定量、所定圧力及び１カ所当たり注入量を制御盤（図示略）にて入力する（初期設定ステップＳ１０１）。１カ所当たり注入量とは、地盤注入装置１０の注入部５を水平方向で複数箇所また鉛直方向で複数箇所挿入し、各箇所の注入量のことである。地盤１１の場所や深さにより注入量をそれぞれ設定して地盤改良材を注入する。例えば、図２及び図３に示されるように、１つの外管５５に開口部５５１が鉛直方向で複数有る場合、注入部５をもう一つ挿入し、パッカー５３で各注入部５を隔離することで、それぞれの注入箇所に適した注入量で注入する。制御盤は、制御部７が有する表示及び入力画面として、タッチパネル等によって各量を設定・変更できる。初期設定ステップＳ１０１では分配部４の注入比を、例えば１と設定する（タンク２側の注入比は０である）。次に、制御部７は初期設定ステップＳ１０１で設定した１カ所当たり注入量より若干多い吐出量、ポンプ圧送量をポンプ３毎に初期設定する（ポンプ圧送量設定ステップＳ１０２）。そして、制御部７はポンプ３にポンプ圧送量で圧送するようにオン信号を出力し（圧送ステップＳ１０３）、ポンプ検出部（図示略）によって検出されたポンプ３の圧送量を圧送量信号として受け取る（ポンプ圧送量検出ステップＳ１０４）。制御部７は、ポンプ圧送量検出ステップＳ１０４で検出された圧送量信号に基づき、ポンプ３のポンプ圧送量からポンプ圧送量誤差を算出し、許容誤差を超えている場合は、ポンプ３を停止し、ポンプ圧送量を若干減少させる調整を行い、ポンプ圧送量設定ステップＳ１０２に戻る（ポンプ圧送量調整ステップＳ１０５）。ここで、ポンプ圧送量誤差とはポンプ圧送量検出ステップＳ１０４で検出されたポンプ圧送量から１カ所当たり注入量を引いた当たりであり、許容誤差とは１カ所当たり注入量と許容できる注入量の上限との差である。
【００３７】
ポンプ３の圧送量から算出されるポンプ圧送量誤差が許容誤差の範囲内であれば、分配部４に流入する地盤改良材が、設定された注入比に従って、注入部５とタンク２とに流出させられる（分配ステップＳ１０６）。そして、検出部６によって検出された単位時間当たり流量を流量信号として受け取る（検出ステップＳ１０７）。
【００３８】
そして、注入比が所定比率範囲内の上限でなく且つ流量信号が所定流量と同じで且つ圧力信号が所定圧力以下の場合に、分配部４の開口率を変更しない（維持する）制御信号を分配部に出力する（維持ステップＳ１０８）。注入比が所定比率範囲内の上限でなく且つ流量信号が所定量以下で且つ圧力信号が所定圧力以下の場合に、注入比を増加させる開口率を出力する（増加ステップＳ１０９）。流量が所定量超又は圧力が所定圧力超であって、注入比が所定比率範囲内の下限でない場合は、注入比を減少させる開口率を出力する（減少ステップＳ１１０）。本発明の地盤注入工法は、制御部７からポンプ３に地盤改良材の圧送を停止するオフ信号が出力されるまで、検出ステップＳ１０６と維持ステップＳ１０８、増加ステップＳ１０９、又は減少ステップＳ１１０とを繰り返す。注入比の変更つまり開口率の変更は、一定の値に増減させる方法あるいは流量と所定量との差に基づく注入比から増減させる率を変更する等が考えられる。
【００３９】
本実施形態の地盤注入装置１０及び地盤注入工法は、ポンプ３が地盤改良材を単位時間当たり所定量以上で圧送し、実際の流量及び圧力が所定量及び所定圧力によって、分配部４の注入部５側の開口率（注入比）を変えて分配する量を変更する。圧送手段３が地盤改良材を一定量で圧送しつ続け、分配部４にて注入部５とタンク２とに流入する比率を変更するため、オン・オフによる注入量の大きな増減が発生しにくく、注入部５が地盤１１に地盤改良材を注入する量を調節しやすい。そして、分配部４としては開口率（注入比）を変更するものでよいため、分配部４自体もそれほど高価な装置を用いることもなく、また装置全体の構成もシンプルである。そして、検出ステップＳ１０７で流量及び圧力を検出し、注入比維持ステップＳ１０８、注入比増加ステップＳ１０９又は注入比減少ステップＳ１１０にて分配部４の開口率（注入比）を変更する、を繰り返すことで適切な注入量で地盤１１に地盤改良材を注入できるため、工法もシンプルである。
【００４０】
（その他の実施形態）
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。例えば、地盤注入工法の注入比維持ステップＳ１０８、注入比増加ステップＳ１０９又は注入比減少ステップＳ１１０において、流量及び圧力を所定値と同時に比較しているが、流量を基本的に比較することで分配部４の開口率（注入比）を維持・変更し、圧力が所定圧力を超えた場合に開口率を変更するような割り込みを行うこともできる。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】本実施形態の地盤注入装置１０を模式的に示した説明図である。
【図２】本実施形態の地盤注入装置１０の地盤中に差し込まれた注入部５の構成を示す説明図である。
【図３】本実施形態の地盤注入装置１０の地盤中に差し込まれた注入部５の構成を示す説明図である。
【図４】本実施形態の地盤注入工法を表すフローチャート図である。
【符号の説明】
【００４２】
１０：地盤注入装置、１１：地盤、
２：タンク、
３：ポンプ、
４：分配部、
５：注入部、５１：吐出口、５２，５６：地盤改良材用細管、５３：パッカー、５４，
５９：逆止弁、５５：外管、５５１：開口部、５７：第１吐出口、５８：第２吐出口、
６：検出部、
７：制御部、７１：注入比増加部、７２：注入比減少部、
８１，８２：導管、８３：バイパス管、
９１〜９３：通信ケーブル。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、地盤中に地盤改良材を注入する地盤注入装置及び地盤注入工法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から地盤を改良するために、地盤に一つあるいは複数の管を差し込み、地盤改良材である地盤改良材を地盤に注入する工法及び装置が利用されており、例えば特許文献１に開示されている多点地盤注入工法及び装置がある。
【０００３】
ところで、地盤改良材を注入する際に地盤の種類などにより、単位時間当たりに注入する量が異なり、ある程度その量が一定になるように制御する必要がある。制御がうまくいかず量が多くなることで地盤が破壊されたり、量が足りないことで地盤が十分に改良されなかったりする。
【特許文献１】特開２０００−４５２５９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、地盤改良材を注入するためのポンプなどの装置において、単位時間当たりに所定量になるように適切な制御が可能な装置は高価であったりする。
【０００５】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたもので、高価な部材を用いることなく簡単な構成で地盤に適切な注入量の地盤改良材を注入することができる地盤注入装置及び地盤注入工法を提供することを解決すべき課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するための請求項１に係る発明の構成上の特徴は、
地盤中に差し込まれ、吐出口をもつ注入部と、
地盤中に注入するための地盤改良材が貯蔵されている貯蔵部と、
前記貯蔵部から前記注入部に単位時間当たり所定量以上で前記地盤改良材を圧送する圧送手段と、
前記地盤改良材が前記吐出口から流出する単位時間当たり流量及び圧力を検出し、前記流量に応じた流量信号及び前記圧力に応じた圧力信号を出力する検出部と、
前記注入部及び前記圧送手段の間に位置し、前記圧送手段が圧送する前記地盤改良材の全体量に対し前記注入部側に流れる量の比である注入比を所定比率範囲内で変更可能に前記注入部及び前記貯蔵部の間で前記地盤改良材を分配する分配部と、
前記注入比が前記所定比率範囲内の上限でなく且つ前記流量信号により前記流量が前記所定量以下且つ前記圧力信号により前記圧力が所定圧力以下の場合は、前記注入比を増加させる制御信号を前記分配部に出力する注入比増加部と、前記流量信号により前記流量が前記所定量超又は前記圧力信号により前記圧力が所定圧力超であって、前記注入比が前記所定比率範囲内の下限でない場合は、前記注入比を減少させる制御信号を前記分配部に出力する注入比減少部と、前記流量信号により前記流量が前記所定流量と等しく且つ前記圧力信号より前記圧力が所定圧力以下の場合は前記注入比を維持する制御信号を前記分配部に出力する注入比維持部とをもつ制御部と、を有することである。
【０００７】
また請求項２に係る発明の構成上の特徴は、請求項１において、前記圧送手段は、単位時間当たり前記所定量以上であり且つ一定量で前記地盤改良材を圧送する手段であることである。
【０００８】
また請求項３に係る発明の構成上の特徴は、請求項１又は２において、前記分配部は、前記圧送手段、前記注入部、及び前記貯蔵部の間を弁体を回転させて切り替える三方弁と前記弁体を動作させる駆動部とをもつことである。
【０００９】
また請求項４に係る発明の構成上の特徴は、請求項１〜３の何れか１項において、前記注入部の１つに対して前記分配部が少なくとも１つ対応することである。
【００１０】
上記課題を解決するための請求項５に係る発明の構成上の特徴は、
地盤中に注入するための地盤改良材が貯蔵されている貯蔵部から単位時間当たり所定量以上で前記地盤改良材を地盤中に差し込まれている注入部へと圧送手段によって圧送する圧送ステップと、
前記地盤改良材が前記注入部の吐出口から地盤中に流出する単位時間当たり流量及び圧力を検出し、前記流量に応じた流量信号及び前記圧力に応じた圧力信号を出力する検出ステップと、
前記圧送手段が圧送する前記地盤改良材の全体量に対し前記注入部側に流れる量の比である注入比を所定比率範囲内で変更可能に前記注入部及び前記貯蔵部の間で前記地盤改良材を分配する分配ステップと、
前記注入比が前記所定比率範囲内の上限でなく且つ前記流量信号により前記流量が前記所定量以下且つ前記圧力信号により前記圧力が所定圧力以下の場合は、前記注入比を増加させる制御信号を出力する注入比増加ステップと、
前記流量信号により前記流量が前記所定量超又は前記圧力信号により前記圧力が所定圧力超であって、前記注入比が前記所定比率範囲内の下限でない場合は、前記注入比を減少させる制御信号を出力する注入比減少ステップと、
前記流量信号により前記流量が前記所定量と等しく且つ前記圧力信号より前記圧力が所定圧力以下の場合は前記注入比を維持する制御信号を出力する注入比維持ステップと、を有することを特徴とすることである。
【００１１】
また請求項６に係る発明の構成上の特徴は、請求項５において、前記圧送ステップは、単位時間当たり前記所定量以上であり且つ一定量で前記地盤改良材を圧送するステップであることである。
【発明の効果】
【００１２】
請求項１に係る発明においては、地盤改良材を単位時間当たり所定量以上で圧送する圧送手段と地盤改良材を地盤中に吐出する注入部との間に分配部を有し、制御部が実際に注入部から吐出される地盤改良材の単位時間当たりの流量及び圧力によって、地盤改良材の注入部側及び貯蔵部側に分配される比率を維持又は変更する制御信号を出力することができる。
【００１３】
検出された値に基づき圧送手段をオン・オフすることによって所定量に制御する装置は、オンしてもすぐに所定量を圧送するようにはならず、オフしてもすぐに所定量から圧送を停止することが難しいため、注入量を適切に制御することが難しい。しかし、本発明の地盤注入装置は、圧送手段を所定量以上圧送するように作動させたまま分配部の注入比を変更するため、オン・オフによる注入量の大きな増減が発生せず注入量を制御しやすい。よって、注入量を調節することができる比較的高価な装置（圧送手段）を用いることなく、分配部で注入部と貯蓄部とに流入する比率を変更することで注入部での注入量を調節できるため、簡単な構成で地盤注入装置を実現できる。
【００１４】
ここで、単位時間当たり所定量とは、地盤に地盤改良材を吐出する際の地盤毎の適切な量である。また、検出部の流量信号及び圧力信号は、流量及び圧力のアナログ値や変換したデジタル値、あるいは所定値を超えたら何らかの値を出力するなどとすることができる。また、注入比は（注入部側に流れる量）／（全体量）で算出され、範囲は０〜１である。所定比率範囲は、０〜１の範囲内で任意に設定でき、例えば０〜１の範囲を設定できる。なお、注入比が１の場合は全て注入部に流れ、０の場合は貯蔵部側に全て流れる。
【００１５】
請求項２に係る発明においては、所定量以上で且つ一定量を圧送する圧送手段とすることで、定常運転中は圧送手段をオン・オフ以外の制御をしなくても良いため、本発明の地盤注入装置全体の制御が簡単になる。
【００１６】
請求項３に係る発明においては、分配部に三方弁を用いることで安価な部材で地盤注入装置を実現でき且つ構成も簡単である。
【００１７】
請求項４に係る発明においては、注入部毎に注入部側に流す比率を調節することができる分配部をもつため、注入部毎に地盤のより適正な注入量で地盤改良材を地盤に注入することができる。
【００１８】
請求項５に係る発明においては、圧送ステップで地盤に地盤改良材を吐出する際の適切な量である単位時間当たり所定量以上で地盤改良材を圧送し、注入比増加ステップ又は注入比減少ステップで実際に地盤に吐出される流量及び圧力によって、注入部又は貯蔵部に分配される比率を維持又は変更し、その制御信号を出力することができる。よって、圧送手段のオン・オフによる制御とは異なり、圧送手段から圧送される地盤改良材を分配ステップで注入部側と貯蔵部側とに分配する比率を注入比増加ステップ又は注入比減少ステップで変更することができるため、適切な量に制御しやすい。
【００１９】
請求項６に係る発明においては、請求項２と同様の効果を有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
本発明の代表的な実施形態を図１〜図４を参照して説明する。
【００２１】
（実施形態）
本実施形態の地盤注入装置１０は、図１に示されるように、タンク（貯蔵部）２と、ポンプ（圧送手段）３と、分配部４と、注入部５と、検出部６と、制御部７とを有する。
【００２２】
タンク２は、地盤１１中に注入する地盤改良材が貯蔵されており、後述するポンプ３と導管８１によって接続され、後述する分配部４とバイパス管８３によって接続される。
【００２３】
ポンプ３は、分配部４と導管８２によって接続され、地盤改良材をタンク２から吸い出し、分配部４へと単位時間当たり所定量以上且つ一定量で圧送する。
【００２４】
分配部４は、導管８２を介してポンプ３から地盤改良材が流入し、後述する注入部５とバイパス管８３を介してタンク２にその地盤改良材を流出する。分配部４は、ポンプ３、注入部５、及びタンク２の間を弁体（図示略）を回転させて切り替える三方弁（図示略）とその弁体を動作させる駆動部（図示略）とをもつ。分配部４は、弁体が回転することで注入部５側の開口率及びタンク２に戻る側の開口率がそれぞれ変更され、開口率によって分配部４に流入した全体量に対し注入部５側に流れる量の比である注入比が決まる。分配部４に注入する量を１とした場合、注入比は０〜１の範囲（所定比率範囲）内で変更可能である。
【００２５】
注入部５は、管であり途中に単位時間当たりの流量と圧力を検出する検出部６が取り付けられている。そして、分配部４と接続しているのとは反対側の端部が地盤１１中に差し込まれ、地盤１１中に差し込まれる管の途中あるいは先端に吐出口５１を有する。注入部５の先端が地盤１１に差し込まれ、地盤改良材を地盤１１中に吐出する方法としては、例えば以下のようなものがある。
【００２６】
注入部５は、図２に示されるように、予め地盤１１中に埋め込まれた注入部５より径の大きい外管５５の内部に挿入される。外管５５には略円形の開口部５５１が軸方向に複数箇所リング状に形成されている。この開口部５５１の形状は軸方向に長い略楕円径やスリット状など、適宜選択可能である。そして、開口部５５１には、外管５５内部から地盤改良材が吐出する圧力によって撓むことで開口部５５１が地盤１１側に開口する逆止弁５４が取り付けられている。注入部５は、地盤改良材が吐出する吐出口５１を有する地盤改良材用細管５２と液体又は気体によって膨張するパッカー５３が取り付けられたパッカー用細管（図示略）とが１つの束にまとめられて外管５５に挿入される。パッカー５３は、膨張したパッカー５３が地盤改良材を地盤に注入する位置の外管５５の開口部５５１を塞がないように、配置される。地盤改良材用細管５２の吐出口５１は、パッカー５３とパッカー５３との間に位置する。地盤改良材を地盤改良材用細管５２から吐出する前に、まずパッカー５３を膨張させ、地盤改良材細管５２の吐出口５１がパッカー５３で区切られるようにする。パッカー５３によって外管５５の内部が区切られた後に、ポンプ３が駆動し地盤改良材が吐出口５１から吐出される。吐出した地盤改良材はまず、外管５５内部を満たし、開口部５５１から地盤中に排出される。なお、地盤改良材を地盤１１に注入後、外管５５は地盤１１にそのまま埋め込まれる。
【００２７】
また、地盤改良材が２種類の場合についても説明する。外管５５は１液の場合と同じため、説明を省略する。注入部５は、図３に示されるように、二重管の地盤改良材細管５６と第１吐出口５７及び第２吐出口５８を塞ぐように取り付けられている逆流防止の逆止弁５９とを有している。そして、地盤改良材用細管５６、パッカー５３及びパッカー用細管（図示略）が一緒に外管５５内部に挿入される。地盤改良材用細管５６は第１吐出口５７が逆止弁５９ａで塞がれている中心側に第１液が圧入され、第２吐出口５８が逆止弁５９ｂで塞がれている外周側に第２液が圧入される。第１液及び第２液はタンク２にそれぞれ別々に貯液される。逆止弁５９は、それぞれの液の圧力により撓み、吐出口５７，５８から液が吐出される。第１液及び第２液が吐出される前に、パッカー５３で外管５５内部は仕切られる。パッカー５３は、第１吐出口５７及び第２吐出口５８から吐出される地盤改良材が地盤１１に流入する外管５５の開口部５５１を塞がない位置に配置される。第１液及び第２液は、パッカー５３で仕切られて外管５５内部に充填されると圧力により開口部５５１を塞ぐように取り付けられている逆止弁５４が撓むことで地盤１１に流出する。
【００２８】
検出部６は、単位時間当たりの流量及び圧力を検出し、流量値を流量信号及び圧力値を圧力信号として、後述する制御部７に出力する。
【００２９】
制御部７は、ポンプ３、分配部４及び検出部６のそれぞれと通信ケーブル９１〜９３で接続されている。制御部７は、検出部６から流量信号及び圧力信号が入力され、それらの信号に基づき分配部４の注入比を変更するための制御信号を分配部４に出力する注入比増加部７１と注入比減少部７２と、注入比を変更しない制御信号を分配部４に出力する注入比維持部７３とをもつ。また、ポンプ３に対して、単位時間当たり所定量以上で圧送するオン信号又は圧送をしないオフ信号を出力する。
【００３０】
注入比増加部７１は、流量信号と所定量及び圧力信号と所定圧力を比較し、流量が所定量以下且つ圧力が所定圧力以下で且つ注入比が所定比率範囲内の上限ではない場合に、注入比を増加させるように開口率を変更し、変更した開口率（制御信号）を分配部４に出力する。
【００３１】
注入比減少部７２は、流量信号と所定量、圧力信号と所定圧力を比較し、流量が所定量超又は圧力が所定圧力超であって、注入比が所定比率範囲内の下限でない場合は、注入比を減少させるように開口率を変更し、変更した開口率（制御信号）を分配部４に出力する。
【００３２】
ここで、単位時間当たり所定量は、改良しようとしている地盤に地盤改良材を注入する適切な流量のことであり、所定圧力はポンプ３が破損しないための制限値より低い値である。
【００３３】
注入比維持部７３は、流量信号と所定量及び圧力信号と所定圧力を比較し、流量が所定量と等しく且つ圧力が所定圧力以下で且つ注入比が所定比率範囲内の上限ではない場合に、開口率を変更しない、つまり維持する制御信号を分配部４に出力する。
【００３４】
本実施形態の地盤注入装置１０は、一つの注入部５に対して、一つのポンプ３、一つの分配部４、１つの検出部６が対応し、一つの注入部ユニットを形成する。そして、制御部７は８つ又は１６の注入部ユニットを制御する。
【００３５】
本実施形態の地盤注入装置１０は、本発明の地盤注入工法に基づき制御される。地盤注入工法の代表的なフローチャートを図４に示す。図４は、制御部７で実行されるロジックの一例を示すフローチャートであり、これに限定されるものではない。
【００３６】
まず、単位時間当たり所定量、所定圧力及び１カ所当たり注入量を制御盤（図示略）にて入力する（初期設定ステップＳ１０１）。１カ所当たり注入量とは、地盤注入装置１０の注入部５を水平方向で複数箇所また鉛直方向で複数箇所挿入し、各箇所の注入量のことである。地盤１１の場所や深さにより注入量をそれぞれ設定して地盤改良材を注入する。例えば、図２及び図３に示されるように、１つの外管５５に開口部５５１が鉛直方向で複数有る場合、注入部５をもう一つ挿入し、パッカー５３で各注入部５を隔離することで、それぞれの注入箇所に適した注入量で注入する。制御盤は、制御部７が有する表示及び入力画面として、タッチパネル等によって各量を設定・変更できる。初期設定ステップＳ１０１では分配部４の注入比を、例えば１と設定する（タンク２側の注入比は０である）。次に、制御部７は初期設定ステップＳ１０１で設定した１カ所当たり注入量より若干多い吐出量、ポンプ圧送量をポンプ３毎に初期設定する（ポンプ圧送量設定ステップＳ１０２）。そして、制御部７はポンプ３にポンプ圧送量で圧送するようにオン信号を出力し（圧送ステップＳ１０３）、ポンプ検出部（図示略）によって検出されたポンプ３の圧送量を圧送量信号として受け取る（ポンプ圧送量検出ステップＳ１０４）。制御部７は、ポンプ圧送量検出ステップＳ１０４で検出された圧送量信号に基づき、ポンプ３のポンプ圧送量からポンプ圧送量誤差を算出し、許容誤差を超えている場合は、ポンプ３を停止し、ポンプ圧送量を若干減少させる調整を行い、ポンプ圧送量設定ステップＳ１０２に戻る（ポンプ圧送量調整ステップＳ１０５）。ここで、ポンプ圧送量誤差とはポンプ圧送量検出ステップＳ１０４で検出されたポンプ圧送量から１カ所当たり注入量を引いた当たりであり、許容誤差とは１カ所当たり注入量と許容できる注入量の上限との差である。
【００３７】
ポンプ３の圧送量から算出されるポンプ圧送量誤差が許容誤差の範囲内であれば、分配部４に流入する地盤改良材が、設定された注入比に従って、注入部５とタンク２とに流出させられる（分配ステップＳ１０６）。そして、検出部６によって検出された単位時間当たり流量を流量信号として受け取る（検出ステップＳ１０７）。
【００３８】
そして、注入比が所定比率範囲内の上限でなく且つ流量信号が所定流量と同じで且つ圧力信号が所定圧力以下の場合に、分配部４の開口率を変更しない（維持する）制御信号を分配部に出力する（維持ステップＳ１０８）。注入比が所定比率範囲内の上限でなく且つ流量信号が所定量以下で且つ圧力信号が所定圧力以下の場合に、注入比を増加させる開口率を出力する（増加ステップＳ１０９）。流量が所定量超又は圧力が所定圧力超であって、注入比が所定比率範囲内の下限でない場合は、注入比を減少させる開口率を出力する（減少ステップＳ１１０）。本発明の地盤注入工法は、制御部７からポンプ３に地盤改良材の圧送を停止するオフ信号が出力されるまで、検出ステップＳ１０６と維持ステップＳ１０８、増加ステップＳ１０９、又は減少ステップＳ１１０とを繰り返す。注入比の変更つまり開口率の変更は、一定の値に増減させる方法あるいは流量と所定量との差に基づく注入比から増減させる率を変更する等が考えられる。
【００３９】
本実施形態の地盤注入装置１０及び地盤注入工法は、ポンプ３が地盤改良材を単位時間当たり所定量以上で圧送し、実際の流量及び圧力が所定量及び所定圧力によって、分配部４の注入部５側の開口率（注入比）を変えて分配する量を変更する。圧送手段３が地盤改良材を一定量で圧送しつ続け、分配部４にて注入部５とタンク２とに流入する比率を変更するため、オン・オフによる注入量の大きな増減が発生しにくく、注入部５が地盤１１に地盤改良材を注入する量を調節しやすい。そして、分配部４としては開口率（注入比）を変更するものでよいため、分配部４自体もそれほど高価な装置を用いることもなく、また装置全体の構成もシンプルである。そして、検出ステップＳ１０７で流量及び圧力を検出し、注入比維持ステップＳ１０８、注入比増加ステップＳ１０９又は注入比減少ステップＳ１１０にて分配部４の開口率（注入比）を変更する、を繰り返すことで適切な注入量で地盤１１に地盤改良材を注入できるため、工法もシンプルである。
【００４０】
（その他の実施形態）
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。例えば、地盤注入工法の注入比維持ステップＳ１０８、注入比増加ステップＳ１０９又は注入比減少ステップＳ１１０において、流量及び圧力を所定値と同時に比較しているが、流量を基本的に比較することで分配部４の開口率（注入比）を維持・変更し、圧力が所定圧力を超えた場合に開口率を変更するような割り込みを行うこともできる。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】本実施形態の地盤注入装置１０を模式的に示した説明図である。
【図２】本実施形態の地盤注入装置１０の地盤中に差し込まれた注入部５の構成を示す説明図である。
【図３】本実施形態の地盤注入装置１０の地盤中に差し込まれた注入部５の構成を示す説明図である。
【図４】本実施形態の地盤注入工法を表すフローチャート図である。
【符号の説明】
【００４２】
１０：地盤注入装置、１１：地盤、
２：タンク、
３：ポンプ、
４：分配部、
５：注入部、５１：吐出口、５２，５６：地盤改良材用細管、５３：パッカー、５４，
５９：逆止弁、５５：外管、５５１：開口部、５７：第１吐出口、５８：第２吐出口、
６：検出部、
７：制御部、７１：注入比増加部、７２：注入比減少部、
８１，８２：導管、８３：バイパス管、
９１〜９３：通信ケーブル。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
地盤中に差し込まれ、吐出口をもつ注入部と、
地盤中に注入するための地盤改良材が貯蔵されている貯蔵部と、
前記貯蔵部から前記注入部に単位時間当たり所定量以上で前記地盤改良材を圧送する圧送手段と、
前記地盤改良材が前記吐出口から流出する単位時間当たり流量及び圧力を検出し、前記流量に応じた流量信号及び前記圧力に応じた圧力信号を出力する検出部と、
前記注入部及び前記圧送手段の間に位置し、前記圧送手段が圧送する前記地盤改良材の全体量に対し前記注入部側に流れる量の比である注入比を所定比率範囲内で変更可能に前記注入部及び前記貯蔵部の間で前記地盤改良材を分配する分配部と、
前記注入比が前記所定比率範囲内の上限でなく且つ前記流量信号により前記流量が前記所定量以下且つ前記圧力信号により前記圧力が所定圧力以下の場合は前記注入比を増加させる制御信号を前記分配部に出力する注入比増加部と、前記流量信号により前記流量が前記所定量超又は前記圧力信号により前記圧力が所定圧力超であって前記注入比が前記所定比率範囲内の下限でない場合は前記注入比を減少させる制御信号を前記分配部に出力する注入比減少部と、前記流量信号により前記流量が前記所定流量と等しく且つ前記圧力信号より前記圧力が所定圧力以下の場合は前記注入比を維持する制御信号を前記分配部に出力する注入比維持部とをもつ制御部と、を有することを特徴とする地盤注入装置。
【請求項２】
前記圧送手段は、単位時間当たり前記所定量以上であり且つ一定量で前記地盤改良材を圧送する手段である請求項１に記載の地盤注入装置。
【請求項３】
前記分配部は、前記圧送手段、前記注入部、及び前記貯蔵部の間を弁体を回転させて切り替える三方弁と前記弁体を動作させる駆動部とをもつ請求項１又は２に記載の地盤注入装置。
【請求項４】
前記注入部の１つに対して前記分配部が少なくとも１つ対応する請求項１〜３の何れか１項に記載の地盤注入装置。
【請求項５】
地盤中に注入するための地盤改良材が貯蔵されている貯蔵部から単位時間当たり所定量以上で前記地盤改良材を地盤中に差し込まれている注入部へと圧送手段によって圧送する圧送ステップと、
前記地盤改良材が前記注入部の吐出口から地盤中に流出する単位時間当たり流量及び圧力を検出し、前記流量に応じた流量信号及び前記圧力に応じた圧力信号を出力する検出ステップと、
前記圧送手段が圧送する前記地盤改良材の全体量に対し前記注入部側に流れる量の比である注入比を所定比率範囲内で変更可能に前記注入部及び前記貯蔵部の間で前記地盤改良材を分配する分配ステップと、
前記注入比が前記所定比率範囲内の上限でなく且つ前記流量信号により前記流量が前記所定量以下且つ前記圧力信号により前記圧力が所定圧力以下の場合は、前記注入比を増加させる制御信号を出力する注入比増加ステップと、
前記流量信号により前記流量が前記所定量超又は前記圧力信号により前記圧力が所定圧力超であって、前記注入比が前記所定比率範囲内の下限でない場合は、前記注入比を減少させる制御信号を出力する注入比減少ステップと、
前記流量信号により前記流量が前記所定量と等しく且つ前記圧力信号より前記圧力が所定圧力以下の場合は前記注入比を維持する制御信号を出力する注入比維持ステップと、を有することを特徴とする地盤注入工法。
【請求項６】
前記圧送ステップは、単位時間当たり前記所定量以上であり且つ一定量で前記地盤改良材を圧送するステップである請求項５に記載の地盤注入工法。
【請求項１】
地盤中に差し込まれ、吐出口をもつ注入部と、
地盤中に注入するための地盤改良材が貯蔵されている貯蔵部と、
前記貯蔵部から前記注入部に単位時間当たり所定量以上で前記地盤改良材を圧送する圧送手段と、
前記地盤改良材が前記吐出口から流出する単位時間当たり流量及び圧力を検出し、前記流量に応じた流量信号及び前記圧力に応じた圧力信号を出力する検出部と、
前記注入部及び前記圧送手段の間に位置し、前記圧送手段が圧送する前記地盤改良材の全体量に対し前記注入部側に流れる量の比である注入比を所定比率範囲内で変更可能に前記注入部及び前記貯蔵部の間で前記地盤改良材を分配する分配部と、
前記注入比が前記所定比率範囲内の上限でなく且つ前記流量信号により前記流量が前記所定量以下且つ前記圧力信号により前記圧力が所定圧力以下の場合は前記注入比を増加させる制御信号を前記分配部に出力する注入比増加部と、前記流量信号により前記流量が前記所定量超又は前記圧力信号により前記圧力が所定圧力超であって前記注入比が前記所定比率範囲内の下限でない場合は前記注入比を減少させる制御信号を前記分配部に出力する注入比減少部と、前記流量信号により前記流量が前記所定流量と等しく且つ前記圧力信号より前記圧力が所定圧力以下の場合は前記注入比を維持する制御信号を前記分配部に出力する注入比維持部とをもつ制御部と、を有することを特徴とする地盤注入装置。
【請求項２】
前記圧送手段は、単位時間当たり前記所定量以上であり且つ一定量で前記地盤改良材を圧送する手段である請求項１に記載の地盤注入装置。
【請求項３】
前記分配部は、前記圧送手段、前記注入部、及び前記貯蔵部の間を弁体を回転させて切り替える三方弁と前記弁体を動作させる駆動部とをもつ請求項１又は２に記載の地盤注入装置。
【請求項４】
前記注入部の１つに対して前記分配部が少なくとも１つ対応する請求項１〜３の何れか１項に記載の地盤注入装置。
【請求項５】
地盤中に注入するための地盤改良材が貯蔵されている貯蔵部から単位時間当たり所定量以上で前記地盤改良材を地盤中に差し込まれている注入部へと圧送手段によって圧送する圧送ステップと、
前記地盤改良材が前記注入部の吐出口から地盤中に流出する単位時間当たり流量及び圧力を検出し、前記流量に応じた流量信号及び前記圧力に応じた圧力信号を出力する検出ステップと、
前記圧送手段が圧送する前記地盤改良材の全体量に対し前記注入部側に流れる量の比である注入比を所定比率範囲内で変更可能に前記注入部及び前記貯蔵部の間で前記地盤改良材を分配する分配ステップと、
前記注入比が前記所定比率範囲内の上限でなく且つ前記流量信号により前記流量が前記所定量以下且つ前記圧力信号により前記圧力が所定圧力以下の場合は、前記注入比を増加させる制御信号を出力する注入比増加ステップと、
前記流量信号により前記流量が前記所定量超又は前記圧力信号により前記圧力が所定圧力超であって、前記注入比が前記所定比率範囲内の下限でない場合は、前記注入比を減少させる制御信号を出力する注入比減少ステップと、
前記流量信号により前記流量が前記所定量と等しく且つ前記圧力信号より前記圧力が所定圧力以下の場合は前記注入比を維持する制御信号を出力する注入比維持ステップと、を有することを特徴とする地盤注入工法。
【請求項６】
前記圧送ステップは、単位時間当たり前記所定量以上であり且つ一定量で前記地盤改良材を圧送するステップである請求項５に記載の地盤注入工法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２０１０−１２１２８２（Ｐ２０１０−１２１２８２Ａ）
【公開日】平成２２年６月３日（２０１０．６．３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−２９３２６１（Ｐ２００８−２９３２６１）
【出願日】平成２０年１１月１７日（２００８．１１．１７）
【出願人】（３９００２０４８８）太洋基礎工業株式会社 (15)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年６月３日（２０１０．６．３）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年１１月１７日（２００８．１１．１７）
【出願人】（３９００２０４８８）太洋基礎工業株式会社 (15)
【Ｆターム（参考）】
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