基板搬送装置及び基板検査装置
【課題】 基板の検査などを行う際に、基板の搬送する際に基板に作用する応力を低減させる。
【解決手段】 ガラス基板Ｗを浮上させる基板浮上ステージ３を有し、ガラス基板Ｗの非素子形成面Ｗ２の側縁部に下側から当接する吸着部１６と、ガラス基板Ｗの素子形成部Ｗ１の側縁部に上側から当接する吸着補助部３０とを備え、吸着補助部３０は、エアシリンダ３１の下端に補助パッド部３３が取り付けられている。補助パッド部３３は、ガラス基板Ｗを搬送する前に、ガラス基板Ｗを押圧して吸着パッド部１８に押し付ける。
【解決手段】 ガラス基板Ｗを浮上させる基板浮上ステージ３を有し、ガラス基板Ｗの非素子形成面Ｗ２の側縁部に下側から当接する吸着部１６と、ガラス基板Ｗの素子形成部Ｗ１の側縁部に上側から当接する吸着補助部３０とを備え、吸着補助部３０は、エアシリンダ３１の下端に補助パッド部３３が取り付けられている。補助パッド部３３は、ガラス基板Ｗを搬送する前に、ガラス基板Ｗを押圧して吸着パッド部１８に押し付ける。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）や、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）といったフラットパネルディスプレィ（ＦＰＤ）等に用いられる基板の搬送に用いられる基板搬送装置、及びこれを備える基板検査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＬＣＤや、ＰＤＰなどのＦＰＤは、大型化の傾向にあり、これを製造する製造装置も大型化されている。ＦＰＤ用の基板には、主にガラス基板が用いられており、複数の製造工程を経て、基板表面に多数の画素や、駆動回路等が形成されている。このような製造工程では、大型のガラス基板を保持して搬送する基板搬送装置が使用されている。
【０００３】
ここで、基板を位置決めして保持する際には、基板の裏面に下側から当接する吸着パッドを使用することが知られている。ところが、製造前には平坦であったガラス基板も、成膜工程や、熱処理工程を経ることで、捩れや、反りが発生することがある。さらに、金属膜等がガラス基板の表面に形成されると、ガラス基板の熱膨張率と金属膜の熱膨張率との違いから応力が発生し、ガラス基板に捩れや、反りが発生することがある。このような捩れや、反りは、ガラス基板が大型化するにつれて発生しやすくなり、かつその捩れ量や、反り量（反り角度）も大きくなるため、ガラス基板を吸着し難くなることがある。このような場合に吸着エラーを防止するために、基板の四隅に上側から押圧する押さえ部材を備え、基板の側縁部分を押さえ部材によって押圧し、ガラス基板全体を均一な状態で位置決めしてから、吸着パッドで固定するような吸着装置が開発されている（例えば、特許文献１、特許文献２参照）。
【０００４】
さらに、基板を保持して搬送する基板搬送装置を備える装置の一例としては、顕微鏡を用いてガラス基板の表面の拡大像（ミクロ像）を取得して欠陥の有無を検査する基板検査装置があげられる。この種の基板検査装置においては、ガラス基板の特定の一辺に沿って上側エアシリンダと、下側エアシリンダとを配列したものがある（例えば、特許文献３参照）。ガラス基板が搬入されると、上側エアシリンダが伸縮動作して基板の上面に当接する。また、これと同時に、下側エアシリンダが伸縮動作して基板の下面に当接する。このようにして基板を上側、下側エアシリンダで挟持したら、基板を把持した状態を保ちながら、上側、下側エアシリンダを平行移動させる。このようにしてガラス基板を搬送しながら顕微鏡による検査が行われる。
【特許文献１】特開平８−３１３８１６号公報
【特許文献２】特開平８−２７４１４８号公報
【特許文献３】特開２０００−９６６１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、基板を上下方向から把持することで、ガラス基板に捩れや、反りが発生していた場合でも基板を確実に保持して搬送すること可能になるが、このようにしてガラス基板を搬送させると、ガラス基板の把持された部分に応力が集中的にかかってしまうという問題があった。特に、ガラス基板が大型化かつ薄肉化している場合には、傷等が発生し易くなるので、ＦＰＤの高品質化、及び生産性向上の観点から問題となっていた。
この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、基板の搬送する際に基板に作用する応力を低減させることである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の課題を解決する本発明の請求項１に係る発明は、基板を浮上させるステージと、前記ステージに沿って移動可能に設けられ、前記基板の端部の裏面に下側から当接して前記基板を吸着して保持する吸着部を有する搬送手段と、前記吸着部で前記基板を吸着保持するときに、前記基板表面に上方から当接して前記基板を前記吸着部に押し付けた後に、前記基板表面よりも上方に退避する吸着補助部と、を備えることを特徴とする基板搬送装置とした。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、基板の吸着をアシストする吸着補助部を設け、基板を吸着部に押し付けることで、基板の吸着不良を防止し、吸着補助部を基板表面から退避させた後に、搬送手段で基板を搬送させるので、基板を吸着保持した状態で基板搬送を行うにあたり、基板に作用する荷重を低減させることができる。したがって、基板の吸着不良によって工程を停止する必要がなくなると共に、基板に傷等が付き難くなるので、生産性向上、及び基板を用いて製造される製品の高品質化を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、図面を参照して本発明の第１の実施の形態について詳細に説明する。
図１には、この実施の形態に係る基板搬送装置を備える基板検査装置の構成が示されている。なお、基板は、種々の基板を用いることができるが、以下においては、ＦＰＤ用のガラス基板Ｗとする。さらに、ガラス基板Ｗの上面（表面）は、回路素子や、配線パターン等のパターンが形成される素子形成面Ｗ１とし、ガラス基板Ｗの下面（裏面）は、パターンが形成されない非素子形成面Ｗ２とする。
【０００９】
基板検査装置１は、床面に設置されるベース部２を有し、ベース部２上に細長の基板浮上ステージ３が固定されている。ベース部２の一端部側が基板搬入出部４となり、長手方向の略中央にガラス基板Ｗの外観検査を行う検査部５が設けられている。また、ベース部２の一端部側には、ガラス基板Ｗを搬入出する基板搬送ロボット６が設置されている。以下、基板浮上ステージ３の長手方向、つまりガラス基板Ｗを搬送する方向をＸ方向とし、Ｘ方向と直交する幅方向をＹ方向、上下方向（鉛直方向）をＺ方向とする。
【００１０】
基板浮上ステージ３は、その上面に開口する複数の空気孔１０が全面に亘って所定の間隔で配設されている。この基板浮上ステージ３は、不図示のエアコンプレッサなどに接続されており、空気孔１０から上向きに圧搾エアを吐出させるように構成されている。なお、基板浮上ステージ３のＸ方向の長さは、ガラス基板ＷのＸ方向の長さよりも十分に長い。基板浮上ステージ３のＹ方向の幅は、ガラス基板Ｗの幅よりも短い。
【００１１】
また、ベース部２の両側面のそれぞれには、リニアガイド１１がＸ方向と平行になるように敷設されており、各リニアガイド１１には、搬送手段を構成するスライダ１２が往復移動自在に設けられている。これらスライダ１２は、同期して移動するように不図示に制御装置によって駆動制御されている。図２に示すように、スライダ１２は、リニアガイド１１に摺動自在に取り付けられる可動部１３を有している。可動部１３には、リニアモータなどリニアガイド１１に沿ってスライダ１２を往復移動させるために機構が内蔵されている。可動部１３の外側面には、支持部１４が可動部１３に対してＺ方向に移動自在に取り付けられている。支持部１４の上部には、Ｌ字型の板金１５を介して吸着部１６が固定されている。図１に示すように、吸着部１６は、各スライダ１２に、Ｘ方向に沿って所定の配置間隔で３つ配設されている。具体的には、ガラス基板ＷのＹ方向の側縁部の両隅部と、中央の３箇所に相当する位置に設けられている。さらに、各吸着部１６には、吸着パッド部１８が３つずつ、Ｘ方向に沿って設けられている。
【００１２】
図２及び図３に示すように、吸着部１６は、板金１５に固定される吸着部本体１７を有し、吸着部本体の上部には、吸着パッド部１８が上向きに突出するように設けられている。吸着パッド部１８は、略円柱形状を有し、その上面は平面になっており、上面の中央には孔１９が形成されている。この孔１９は、不図示の吸気ポンプに接続されており、ガラス基板Ｗの非素子形成面Ｗ２を吸着できるようになっている。このような吸着パッド部１８は、耐摩耗性を有し、ガラス基板Ｗを傷付けない程度の硬度を有する材料から製造されており、下端側を中心として、上端側が首振り自在に吸着部本体１７に支持されることが望ましい。そして、これら吸着パッド部１８は、スライダ１２の移動に伴ってベース部２の一端部側の基板搬入出部４からベース部２の他端部まで移動可能である。
【００１３】
基板搬入出部４には、複数のリフトピン２０が配設されている。リフトピン２０は、ガラス基板Ｗの大きさに対して十分に小さい径を有し、その先端部は、上側に凸となる球面形状になっている。このようなリフトピン２０は、不図示の昇降機構に支持されており、基板浮上ステージ３の上面に対して突没自在になっている。なお、図１において、リフトピン２０は、ガラス基板Ｗの四隅の近傍に対応する位置と、中央に対応する位置とに合計５つ設けられているが、リフトピン２０の数及び配置はこれに限定されるものではない。
【００１４】
ここで、図２及び図３に示すように、基板搬入出部４には、吸着補助部３０が設けられている。吸着補助部３０は、破線で示すガラス基板Ｗの四隅に対応する位置で、ガラス基板Ｗよりも高い位置に、不図示のフレームによってベース部２に固定されている。吸着補助部３０は、駆動手段であるエアシリンダ３１を有し、エアシリンダ３１のロッド３２は、鉛直方向で下向きに突出するように配置されている。さらに、ロッド３２の下端には、補助パッド部３３が取り付けられている。補助パッド部３３は、略円柱形状を有し、その外径は、対向配置される吸着パッド部１８の外径に略等しいが、吸着パッド部１８よりも大径であっても良いし、小径であっても良い。なお、この補助パッド部３３は、耐摩耗性に優れ、ガラス基板Ｗに当接した際にガラス基板Ｗを傷付けない程度の硬度を有する材料から製造されている。
【００１５】
さらに、図４を参照して吸着部１６と、吸着補助部３０の制御系について説明する。図４に示すように、吸着補助部３０の補助パッド部３３は、バルブ３４を介してエアコンプレッサ３５に配管接続されている。吸着部１６の吸着パッド部１８は、圧力センサ３６及びバルブ３７を介して、真空ポンプなどの吸引源３８に配管接続されている。圧力センサ３６は、吸着パッド部１８の圧力を検出するもので、その出力信号線は制御部３９に接続されている。さらに、制御部３９から出力される信号は、バルブ３４，３７と、エアコンプレッサ３５と、吸引源３８とに入力されるようになっている。
【００１６】
なお、図１に示す検査部５は、スライダ１２の軌道及び基板浮上ステージ３を跨ぐようにベース部２の側面に固定された門型フレーム４０と、門型フレーム４０の上部にＹ方向に移動自在に取り付けられた顕微鏡４１とを有している。この顕微鏡４１は、ＣＣＤ（電荷結合素子）などの撮像素子４２が取り付けられており、ガラス基板Ｗの表面の拡大画像を取得して外観検査を行うためのもので、不図示のモニタにガラス基板Ｗの素子形成面Ｗ１の拡大像を表示できるようになっている。
【００１７】
次に、この実施の形態の作用について説明する。なお、スライダ１２は、基板搬入出部４に予め待機しており、各吸着パッド部１８は、その上面が基板浮上ステージ３よりも下側の位置に待機しているものとする。
ガラス基板Ｗの検査を行う際には、基板搬送ロボット６が、他の工程から搬出されたガラス基板Ｗを搬送アーム６Ａ上に受け取り、搬送アーム６Ａを基板検査装置１の基板搬入出部４の上方に移動させる。ここで、搬送アーム６Ａにおけるガラス基板Ｗの吸着を解除し、基板搬入出部４から上昇してくるリフトピン２０でガラス基板Ｗを搬送アーム６Ａ上から持ち上げる。この状態で搬送アーム６Ａを後退させると、ガラス基板Ｗが基板搬入出部４に受け渡される。ここで、基板浮上ステージ３は、空気孔１０からエアを噴き出しているので、リフトピン２０を下げると、ガラス基板Ｗがエアによって基板浮上ステージ３の上面よりも僅かに上方に浮上させられる。
【００１８】
ガラス基板Ｗを浮上させたら、スライダ１２が支持部１４を上昇させ、吸着パッド部１８をガラス基板Ｗの非素子形成面Ｗ２の側縁部に下側から押し付ける。このとき、図４に示す制御部３９が吸引源３８を運転させると共に、バルブ３７を開状態に切り換えるので、吸着パッド部１８の上面にガラス基板Ｗが吸着される。圧力センサ３６は、それぞれの吸着パッド部１８の圧力を検出し、制御部３９に出力する。
【００１９】
さらに、制御部３９は、エアコンプレッサ３５を運転させ、ガラス基板Ｗの四隅の上方に待機している４つの吸着補助部３０を駆動させる。具体的には、エアシリンダ３１とエアコンプレッサとの間に設けられているバルブ３４を開く。その結果、各吸着補助部３０の補助パッド部３３が下降して、ガラス基板Ｗの素子形成面Ｗ１の四隅を上側から押圧し、補助パッド部３３及び吸着パッド部１８に挟まれるようにして、ガラス基板Ｗが下方の吸着パッド部１８に押し付けられる。制御部３９は、補助パッド部３３がガラス基板Ｗの素子形成面Ｗ１の側縁部を押圧したら、直ちにバルブ３４を閉じ、補助パッド部３３を待機位置まで上昇させる。これによって、ガラス基板Ｗが捩れていたり、反っていた場合でも、確実にガラス基板Ｗを吸着して保持できる。
【００２０】
このようにして、ガラス基板Ｗを吸着パッド部１８に吸着保持させたら、各スライダ１２がベース部２の他端部に向かって同期して移動を開始する。このとき、補助部３０は、基板搬入出部４に残ったままとなる。そして、ガラス基板Ｗ上のパターンが顕微鏡４１の下方に差し掛かったら、顕微鏡４１でパターンの拡大像を取得し、モニタに出力する。より詳細には、顕微鏡４１をＹ方向に移動させながらガラス基板Ｗの幅方向の拡大像を取得したら、各スライダ１２を同期して所定長だけ移動させ、次のパターンの拡大像を取得する。予定されている全てのパターンの拡大像を取得したら、各スライダ１２を後退させ、ガラス基板Ｗを基板搬入出部４に戻す。そして、吸着パッド部１８による吸着を解除し、リフトピン２０でガラス基板Ｗを持ち上げてから、基板搬送ロボット６でガラス基板Ｗを搬出する。
【００２１】
この実施の形態によれば、基板浮上ステージ３、スライダ１２、吸着部１６などから基板搬送装置を構成し、基板搬入出部４に吸着補助部３０を設けて、ガラス基板Ｗの特に反りやすい四隅を上方から押すようにしたので、吸着パッド部１８でガラス基板Ｗを確実に吸着することが可能になる。この場合に、補助パッド部３３は、下支点でガラス基板Ｗを吸着パッド部１８に押し付けるように、一往復だけ移動するので、ガラス基板Ｗを搬送する際には、吸着補助部３０はガラス基板Ｗから離間した位置に待機する。したがって、ガラス基板Ｗと吸着補助部３０とが接触する時間が短くなり、ガラス基板Ｗの負荷を低減させることができ、ガラス基板Ｗに傷等が付くことはない。また、吸着エラーによって、ガラス基板Ｗの検査が実施できなくなることがないので、生産効率を向上させることができる。
また、基板搬送装置に検査部５を設けることで基板検査装置１を構成したので、ガラス基板Ｗに傷等を付けることなく搬送しながら基板表面の外観検査を行うことが可能になる。したがって、ガラス基板Ｗを用いた製品の品質を向上させることができる。
【００２２】
なお、図２及び図３には、ガラス基板Ｗの隅部が上向きに反っているが、隅部が下向きに反っている場合でも同様の作用及び効果が得られる。また、制御部３９は、圧力センサ３６が吸着エラーを検出したときに４つの吸着補助部３０を駆動させるように構成しても良い。ここにおいて、吸着エラーとは、圧力センサ３６が吸着パッド部１８内の減圧を検出しない状態をいう。
【００２３】
次に、この発明の第２の実施の形態について説明する。なお、第１の実施の形態と同じ構成要素には同一の符号を付してある。また、重複する説明は省略する。
この実施の形態は、吸着補助部３０がスライダ１２に取り付けられていることを特徴とする。図５に示すように、スライダ１２の支持部１４の外側面には、支持フレーム５０が固定されている。この支持フレーム５０は、ガラス基板Ｗの端面よりも外側を通って上方に延びている。支持フレーム５０の内側には、Ｌ字状の板金５１が取り付けられており、ここに吸着補助部３０のエアシリンダ３１が吊り下げられている。エアシリンダ３１は、鉛直下向きに進退自在なロッド３２を有し、ロッド３２の下端には補助パッド部３３が取り付けられている。吸着補助部３０は、ガラス基板Ｗの四隅に対応する吸着パッド部１８のそれぞれの上方に、合計４つ設けられている。
【００２４】
この実施の形態では、ガラス基板Ｗが基板搬入出部４に移載されたら、ガラス基板Ｗをエア浮上させた状態で、吸着パッド部１８を上昇させてガラス基板Ｗの下方から当接させ、吸着保持する。この際に、吸着補助部３０を駆動させて、補助パッド部３３を降下させ、ガラス基板Ｗの上方から押し当てた後に、速やかに補助パッド部３３を上昇させる。これによって、ガラス基板Ｗが反っていた場合でも吸着パッド部１８に確実に吸着保持される。吸着パッド部１８がガラス基板Ｗの表面から離れたら、リニアモータを駆動させ、スライダ１２をＸ方向に沿ってベース部２の他端部側に向かって移動させ、検査部５による検査を行う。ここで、移動している間に、吸着パッド部１８からガラス基板Ｗが離れた場合には、その吸着パッド部１８の圧力センサ３６が吸着エラーを出力するので、スライダ１２を一端停止させた後に制御部３９がその吸着パッド部１８の上方に共に移動している吸着補助部３０を駆動させ、前記と同様にしてガラス基板Ｗを吸着パッド部１８に押し当て、再びガラス基板Ｗを吸着保持させる。なお、スライダ１２を一端停止させることなく、吸着パッド部１８をＺ方向に往復移動させて再びガラス基板Ｗを吸着保持させても良い。
【００２５】
この実施の形態によれば、吸着補助部３０を設けたので、ガラス基板Ｗを上側から吸着パッド部１８に押し付けることができ、ガラス基板Ｗが反っている場合でも、確実に吸着保持を行わせることができる。さらに、吸着補助部３０がスライダ１２に設けられているので、ガラス基板Ｗが移動する際に、常に吸着補助部３０を吸着パッド部１８の上方に待機させることができる。したがって、ガラス基板Ｗの移動中などに吸着が解除された場合でも、速やかに吸着保持された状態に復帰させることができる。
【００２６】
なお、本発明は、前記の各実施の形態に限定されずに広く応用することが可能である。
例えば、吸着部１６、吸着補助部３０の数及び配置は、各実施の形態に限定されず、ガラス基板Ｗの側縁部のほぼ全長に亘って配置するなど種々の形態をとることができる。例えば、第１の実施の形態の変形例を図６に示す。図６には、Ｘ方向に沿って、ガラス基板Ｗの搬送方向前側から、吸着部１６Ａ、吸着部１６Ｂ、吸着部１６Ｃが配設されている。吸着部１６Ａ，１６Ｃは、ガラス基板Ｗの両端部に相当する位置に設けられ、吸着パッド部１８がＸ方向にそれぞれ５つ配列されている。吸着部１６Ｂは、ガラス基板ＷのＸ方向の中央に設けられ、吸着パッド部１８がＸ方向に３つ配列されている。これに対して、基板搬入出部４には、Ｘ方向に沿って吸着補助部３０Ａ、吸着補助部３０Ｂ、吸着補助部３０Ｃが配置されている。吸着補助部３０Ａ，３０Ｃは、基板搬入出部４において、吸着部１６Ａ，１６Ｃの上方に配置されており、各吸着パッド部１８に対向するように６つの補助パッド部３３がそれぞれ配設されている。吸着補助部３０Ｂは、基板搬入出部４において、吸着部１６Ｂの上方に配置されており、各吸着パッド部１８に対向するように３つの補助パッド部３３が配設されている。この場合には、基板搬入出部４において、ガラス基板Ｗの隅部と、隅部の略中間を上方から押圧することで、ガラス基板Ｗをさらに確実に吸着保持させることが可能になる。特に、ガラス基板Ｗの側縁部が波打つように反っている場合でも全ての吸着パッド部１８に確実に吸着保持することが可能になる。なお、この配置は、第２の実施の形態に適用することも可能である。
【００２７】
また、第２の実施の形態の変形例を図７に示す。吸着部１６Ａ、吸着部１６Ｂ、及び吸着部１６Ｃのそれぞれの上方には、吸着補助部６０Ａ、吸着補助部６０Ｂ、吸着補助部６０Ｃが配設されている。吸着補助部６０Ａ、６０Ｃは、５つの吸着パッド部１８に対してガラス基板Ｗを同時に押圧できる補助パッド部６１Ａが１つのエアシリンダ３１に取り付けられている。吸着補助部６０Ｂは、３つの吸着パッド部１８に対してガラス基板Ｗを同時に押圧できる補助パッド部６１Ｂが１つのエアシリンダ３１に取り付けられている。この場合には、エアシリンダ３１を少なくした状態で、図６と同様の効果が得られる。なお、図７においては、吸着補助部６０Ａ、６０Ｂ、６０Ｃは、支持フレーム５０及び板金５１によってスライダ１２に固定されているが、基板搬入出部４においてベース部２に固定されても良い。
【００２８】
さらに、図８に示すように、Ｘ方向に沿って、ガラス基板Ｗの両端部と、中央に相当する位置に、吸着部１６Ｄ、吸着部１６Ｅ、吸着部１６Ｆを配設し、これに対応して３つの吸着補助部群７０Ａ，７０Ｂ，７０Ｃを配設しても良い。ここで、吸着部１６Ｄ，１６Ｆには、それぞれ３つの吸着パッド部１８がＸ方向に沿って配設されており、吸着パッド部１８のそれぞれに１つずつ圧力センサ３６が設けられている。吸着補助部群７０Ａ，７０Ｃは、３つの補助パッド部３３が配設された吸着補助部３０ＤがＸ方向に２つ配列されたもので、各補助パッド部３３は対向する吸着パッド部１８の上方に配置されている。１つの吸着補助部３０Ｄの含まれる３つのエアシリンダ３１は、１つのバルブ３４で駆動制御されている。吸着補助部群７０Ｂは、３つの補助パッド部３３が１つのバルブ３４で制御可能な吸着補助部３０Ｄを１つ有している。この場合には、吸着エラーを起こした吸着パッド部１８に対応する吸着補助部３０Ｄのみを駆動させる。例えば、ガラス基板Ｗの先端側の吸着部１６Ｄの３つの吸着パッド部１８のいずれかに接続されている圧力センサ３６が吸着エラーを検出したときには、制御部３９が最も先端側の吸着補助部３０Ｄのバルブ３４を開閉動作させ、３つの補助パッド部３３を同時に上下方向に１回往復移動させる。これによって、ガラス基板Ｗの先端側が吸着パッド部１８に押し付けられ、吸着エラーが解消される。吸着エラーが発生した箇所の吸着補助部３０Ｄを稼動させることで、ガラス基板Ｗが押圧する力を最小限に止めることができ、特にガラス基板Ｗが波打つように反っている場合に高い効果を発揮する。なお、エアシリンダ３１ごとにバルブ３４を設けて、補助パッド部３３を１つずつ制御できるようにしても良いし、近接する複数の吸着パッド部１８に対して一つの圧力センサ３６を設けて、いずれかの吸着パッド部１８がガラス基板Ｗを吸着できかったときに吸着エラーを出力するようにしても良い。
【００２９】
また、基板搬入出部４には、ガラス基板Ｗを位置決めする位置決め機構を設けても良い。位置決め機構としては、例えば、ガラス基板Ｗの側面に当接して位置決めの基準となる固定式の基準ピンと、ガラス基板Ｗの側面に当接してガラス基板Ｗを基準ピンに向かって押圧する移動式のピンとを有するものがあげられる。
さらに、ガラス基板Ｗの両方の側縁部を吸着保持する代わりに、一方の側縁部のみを吸着保持して搬送するようにしても良い。この場合の吸着補助部３０は、スライダ１２及び吸着部１６を有する片側のみに設けられる。吸着補助部３０は、エアシリンダ３１の代わりに、ソレノイド式のシリンダ等、補助パッド部３３、６１Ａ，６１Ｂを上下移動させて、ガラス基板Ｗの吸着保持をアシストできる動作を行うものを用いることができる。基板浮上ステージ３は、エアの代わりに窒素ガスや、アルゴンガス等を使用しても良い。また、基板浮上ステージ３は、静電気や、超音波を利用してガラス基板Ｗを浮上させても良い。
そして、ガラス基板Ｗを水平に配置する代わりに、ガラス基板Ｗを垂直に配置し、ガラス基板Ｗを挟むように吸着部１６と吸着補助部３０とを配置しても良い。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本発明の実施の形態に係る基板搬送装置及びこれを備える基板検査装置の構成を示す平面図である。
【図２】吸着部及び吸着補助部の構成を示す側面図である。
【図３】吸着部及び吸着補助部を示す斜視図である。
【図４】吸着部と吸着補助部の制御ブロック図である。
【図５】スライダに吸着補助部が取り付けられた構成を示す側面図である。
【図６】吸着部及び吸着補助部の配置を示す図である。
【図７】吸着補助部の構成の一例を示す図である。
【図８】吸着部と吸着補助部の一例を示す図である。
【符号の説明】
【００３１】
１ 基板検査装置
３ 基板浮上ステージ（ステージ）
４ 基板搬入出部
５ 検査部
１２ スライダ（搬送手段）
１６，１６Ａ〜１６Ｆ 吸着部
３０，３０Ａ〜３０Ｄ，６０Ａ〜６０Ｃ 吸着補助部
３９ 制御部
Ｗ ガラス基板（基板）
Ｗ１ 素子形成面（基板表面）
Ｗ２ 非素子形成面（裏面）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）や、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）といったフラットパネルディスプレィ（ＦＰＤ）等に用いられる基板の搬送に用いられる基板搬送装置、及びこれを備える基板検査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＬＣＤや、ＰＤＰなどのＦＰＤは、大型化の傾向にあり、これを製造する製造装置も大型化されている。ＦＰＤ用の基板には、主にガラス基板が用いられており、複数の製造工程を経て、基板表面に多数の画素や、駆動回路等が形成されている。このような製造工程では、大型のガラス基板を保持して搬送する基板搬送装置が使用されている。
【０００３】
ここで、基板を位置決めして保持する際には、基板の裏面に下側から当接する吸着パッドを使用することが知られている。ところが、製造前には平坦であったガラス基板も、成膜工程や、熱処理工程を経ることで、捩れや、反りが発生することがある。さらに、金属膜等がガラス基板の表面に形成されると、ガラス基板の熱膨張率と金属膜の熱膨張率との違いから応力が発生し、ガラス基板に捩れや、反りが発生することがある。このような捩れや、反りは、ガラス基板が大型化するにつれて発生しやすくなり、かつその捩れ量や、反り量（反り角度）も大きくなるため、ガラス基板を吸着し難くなることがある。このような場合に吸着エラーを防止するために、基板の四隅に上側から押圧する押さえ部材を備え、基板の側縁部分を押さえ部材によって押圧し、ガラス基板全体を均一な状態で位置決めしてから、吸着パッドで固定するような吸着装置が開発されている（例えば、特許文献１、特許文献２参照）。
【０００４】
さらに、基板を保持して搬送する基板搬送装置を備える装置の一例としては、顕微鏡を用いてガラス基板の表面の拡大像（ミクロ像）を取得して欠陥の有無を検査する基板検査装置があげられる。この種の基板検査装置においては、ガラス基板の特定の一辺に沿って上側エアシリンダと、下側エアシリンダとを配列したものがある（例えば、特許文献３参照）。ガラス基板が搬入されると、上側エアシリンダが伸縮動作して基板の上面に当接する。また、これと同時に、下側エアシリンダが伸縮動作して基板の下面に当接する。このようにして基板を上側、下側エアシリンダで挟持したら、基板を把持した状態を保ちながら、上側、下側エアシリンダを平行移動させる。このようにしてガラス基板を搬送しながら顕微鏡による検査が行われる。
【特許文献１】特開平８−３１３８１６号公報
【特許文献２】特開平８−２７４１４８号公報
【特許文献３】特開２０００−９６６１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、基板を上下方向から把持することで、ガラス基板に捩れや、反りが発生していた場合でも基板を確実に保持して搬送すること可能になるが、このようにしてガラス基板を搬送させると、ガラス基板の把持された部分に応力が集中的にかかってしまうという問題があった。特に、ガラス基板が大型化かつ薄肉化している場合には、傷等が発生し易くなるので、ＦＰＤの高品質化、及び生産性向上の観点から問題となっていた。
この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、基板の搬送する際に基板に作用する応力を低減させることである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の課題を解決する本発明の請求項１に係る発明は、基板を浮上させるステージと、前記ステージに沿って移動可能に設けられ、前記基板の端部の裏面に下側から当接して前記基板を吸着して保持する吸着部を有する搬送手段と、前記吸着部で前記基板を吸着保持するときに、前記基板表面に上方から当接して前記基板を前記吸着部に押し付けた後に、前記基板表面よりも上方に退避する吸着補助部と、を備えることを特徴とする基板搬送装置とした。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、基板の吸着をアシストする吸着補助部を設け、基板を吸着部に押し付けることで、基板の吸着不良を防止し、吸着補助部を基板表面から退避させた後に、搬送手段で基板を搬送させるので、基板を吸着保持した状態で基板搬送を行うにあたり、基板に作用する荷重を低減させることができる。したがって、基板の吸着不良によって工程を停止する必要がなくなると共に、基板に傷等が付き難くなるので、生産性向上、及び基板を用いて製造される製品の高品質化を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、図面を参照して本発明の第１の実施の形態について詳細に説明する。
図１には、この実施の形態に係る基板搬送装置を備える基板検査装置の構成が示されている。なお、基板は、種々の基板を用いることができるが、以下においては、ＦＰＤ用のガラス基板Ｗとする。さらに、ガラス基板Ｗの上面（表面）は、回路素子や、配線パターン等のパターンが形成される素子形成面Ｗ１とし、ガラス基板Ｗの下面（裏面）は、パターンが形成されない非素子形成面Ｗ２とする。
【０００９】
基板検査装置１は、床面に設置されるベース部２を有し、ベース部２上に細長の基板浮上ステージ３が固定されている。ベース部２の一端部側が基板搬入出部４となり、長手方向の略中央にガラス基板Ｗの外観検査を行う検査部５が設けられている。また、ベース部２の一端部側には、ガラス基板Ｗを搬入出する基板搬送ロボット６が設置されている。以下、基板浮上ステージ３の長手方向、つまりガラス基板Ｗを搬送する方向をＸ方向とし、Ｘ方向と直交する幅方向をＹ方向、上下方向（鉛直方向）をＺ方向とする。
【００１０】
基板浮上ステージ３は、その上面に開口する複数の空気孔１０が全面に亘って所定の間隔で配設されている。この基板浮上ステージ３は、不図示のエアコンプレッサなどに接続されており、空気孔１０から上向きに圧搾エアを吐出させるように構成されている。なお、基板浮上ステージ３のＸ方向の長さは、ガラス基板ＷのＸ方向の長さよりも十分に長い。基板浮上ステージ３のＹ方向の幅は、ガラス基板Ｗの幅よりも短い。
【００１１】
また、ベース部２の両側面のそれぞれには、リニアガイド１１がＸ方向と平行になるように敷設されており、各リニアガイド１１には、搬送手段を構成するスライダ１２が往復移動自在に設けられている。これらスライダ１２は、同期して移動するように不図示に制御装置によって駆動制御されている。図２に示すように、スライダ１２は、リニアガイド１１に摺動自在に取り付けられる可動部１３を有している。可動部１３には、リニアモータなどリニアガイド１１に沿ってスライダ１２を往復移動させるために機構が内蔵されている。可動部１３の外側面には、支持部１４が可動部１３に対してＺ方向に移動自在に取り付けられている。支持部１４の上部には、Ｌ字型の板金１５を介して吸着部１６が固定されている。図１に示すように、吸着部１６は、各スライダ１２に、Ｘ方向に沿って所定の配置間隔で３つ配設されている。具体的には、ガラス基板ＷのＹ方向の側縁部の両隅部と、中央の３箇所に相当する位置に設けられている。さらに、各吸着部１６には、吸着パッド部１８が３つずつ、Ｘ方向に沿って設けられている。
【００１２】
図２及び図３に示すように、吸着部１６は、板金１５に固定される吸着部本体１７を有し、吸着部本体の上部には、吸着パッド部１８が上向きに突出するように設けられている。吸着パッド部１８は、略円柱形状を有し、その上面は平面になっており、上面の中央には孔１９が形成されている。この孔１９は、不図示の吸気ポンプに接続されており、ガラス基板Ｗの非素子形成面Ｗ２を吸着できるようになっている。このような吸着パッド部１８は、耐摩耗性を有し、ガラス基板Ｗを傷付けない程度の硬度を有する材料から製造されており、下端側を中心として、上端側が首振り自在に吸着部本体１７に支持されることが望ましい。そして、これら吸着パッド部１８は、スライダ１２の移動に伴ってベース部２の一端部側の基板搬入出部４からベース部２の他端部まで移動可能である。
【００１３】
基板搬入出部４には、複数のリフトピン２０が配設されている。リフトピン２０は、ガラス基板Ｗの大きさに対して十分に小さい径を有し、その先端部は、上側に凸となる球面形状になっている。このようなリフトピン２０は、不図示の昇降機構に支持されており、基板浮上ステージ３の上面に対して突没自在になっている。なお、図１において、リフトピン２０は、ガラス基板Ｗの四隅の近傍に対応する位置と、中央に対応する位置とに合計５つ設けられているが、リフトピン２０の数及び配置はこれに限定されるものではない。
【００１４】
ここで、図２及び図３に示すように、基板搬入出部４には、吸着補助部３０が設けられている。吸着補助部３０は、破線で示すガラス基板Ｗの四隅に対応する位置で、ガラス基板Ｗよりも高い位置に、不図示のフレームによってベース部２に固定されている。吸着補助部３０は、駆動手段であるエアシリンダ３１を有し、エアシリンダ３１のロッド３２は、鉛直方向で下向きに突出するように配置されている。さらに、ロッド３２の下端には、補助パッド部３３が取り付けられている。補助パッド部３３は、略円柱形状を有し、その外径は、対向配置される吸着パッド部１８の外径に略等しいが、吸着パッド部１８よりも大径であっても良いし、小径であっても良い。なお、この補助パッド部３３は、耐摩耗性に優れ、ガラス基板Ｗに当接した際にガラス基板Ｗを傷付けない程度の硬度を有する材料から製造されている。
【００１５】
さらに、図４を参照して吸着部１６と、吸着補助部３０の制御系について説明する。図４に示すように、吸着補助部３０の補助パッド部３３は、バルブ３４を介してエアコンプレッサ３５に配管接続されている。吸着部１６の吸着パッド部１８は、圧力センサ３６及びバルブ３７を介して、真空ポンプなどの吸引源３８に配管接続されている。圧力センサ３６は、吸着パッド部１８の圧力を検出するもので、その出力信号線は制御部３９に接続されている。さらに、制御部３９から出力される信号は、バルブ３４，３７と、エアコンプレッサ３５と、吸引源３８とに入力されるようになっている。
【００１６】
なお、図１に示す検査部５は、スライダ１２の軌道及び基板浮上ステージ３を跨ぐようにベース部２の側面に固定された門型フレーム４０と、門型フレーム４０の上部にＹ方向に移動自在に取り付けられた顕微鏡４１とを有している。この顕微鏡４１は、ＣＣＤ（電荷結合素子）などの撮像素子４２が取り付けられており、ガラス基板Ｗの表面の拡大画像を取得して外観検査を行うためのもので、不図示のモニタにガラス基板Ｗの素子形成面Ｗ１の拡大像を表示できるようになっている。
【００１７】
次に、この実施の形態の作用について説明する。なお、スライダ１２は、基板搬入出部４に予め待機しており、各吸着パッド部１８は、その上面が基板浮上ステージ３よりも下側の位置に待機しているものとする。
ガラス基板Ｗの検査を行う際には、基板搬送ロボット６が、他の工程から搬出されたガラス基板Ｗを搬送アーム６Ａ上に受け取り、搬送アーム６Ａを基板検査装置１の基板搬入出部４の上方に移動させる。ここで、搬送アーム６Ａにおけるガラス基板Ｗの吸着を解除し、基板搬入出部４から上昇してくるリフトピン２０でガラス基板Ｗを搬送アーム６Ａ上から持ち上げる。この状態で搬送アーム６Ａを後退させると、ガラス基板Ｗが基板搬入出部４に受け渡される。ここで、基板浮上ステージ３は、空気孔１０からエアを噴き出しているので、リフトピン２０を下げると、ガラス基板Ｗがエアによって基板浮上ステージ３の上面よりも僅かに上方に浮上させられる。
【００１８】
ガラス基板Ｗを浮上させたら、スライダ１２が支持部１４を上昇させ、吸着パッド部１８をガラス基板Ｗの非素子形成面Ｗ２の側縁部に下側から押し付ける。このとき、図４に示す制御部３９が吸引源３８を運転させると共に、バルブ３７を開状態に切り換えるので、吸着パッド部１８の上面にガラス基板Ｗが吸着される。圧力センサ３６は、それぞれの吸着パッド部１８の圧力を検出し、制御部３９に出力する。
【００１９】
さらに、制御部３９は、エアコンプレッサ３５を運転させ、ガラス基板Ｗの四隅の上方に待機している４つの吸着補助部３０を駆動させる。具体的には、エアシリンダ３１とエアコンプレッサとの間に設けられているバルブ３４を開く。その結果、各吸着補助部３０の補助パッド部３３が下降して、ガラス基板Ｗの素子形成面Ｗ１の四隅を上側から押圧し、補助パッド部３３及び吸着パッド部１８に挟まれるようにして、ガラス基板Ｗが下方の吸着パッド部１８に押し付けられる。制御部３９は、補助パッド部３３がガラス基板Ｗの素子形成面Ｗ１の側縁部を押圧したら、直ちにバルブ３４を閉じ、補助パッド部３３を待機位置まで上昇させる。これによって、ガラス基板Ｗが捩れていたり、反っていた場合でも、確実にガラス基板Ｗを吸着して保持できる。
【００２０】
このようにして、ガラス基板Ｗを吸着パッド部１８に吸着保持させたら、各スライダ１２がベース部２の他端部に向かって同期して移動を開始する。このとき、補助部３０は、基板搬入出部４に残ったままとなる。そして、ガラス基板Ｗ上のパターンが顕微鏡４１の下方に差し掛かったら、顕微鏡４１でパターンの拡大像を取得し、モニタに出力する。より詳細には、顕微鏡４１をＹ方向に移動させながらガラス基板Ｗの幅方向の拡大像を取得したら、各スライダ１２を同期して所定長だけ移動させ、次のパターンの拡大像を取得する。予定されている全てのパターンの拡大像を取得したら、各スライダ１２を後退させ、ガラス基板Ｗを基板搬入出部４に戻す。そして、吸着パッド部１８による吸着を解除し、リフトピン２０でガラス基板Ｗを持ち上げてから、基板搬送ロボット６でガラス基板Ｗを搬出する。
【００２１】
この実施の形態によれば、基板浮上ステージ３、スライダ１２、吸着部１６などから基板搬送装置を構成し、基板搬入出部４に吸着補助部３０を設けて、ガラス基板Ｗの特に反りやすい四隅を上方から押すようにしたので、吸着パッド部１８でガラス基板Ｗを確実に吸着することが可能になる。この場合に、補助パッド部３３は、下支点でガラス基板Ｗを吸着パッド部１８に押し付けるように、一往復だけ移動するので、ガラス基板Ｗを搬送する際には、吸着補助部３０はガラス基板Ｗから離間した位置に待機する。したがって、ガラス基板Ｗと吸着補助部３０とが接触する時間が短くなり、ガラス基板Ｗの負荷を低減させることができ、ガラス基板Ｗに傷等が付くことはない。また、吸着エラーによって、ガラス基板Ｗの検査が実施できなくなることがないので、生産効率を向上させることができる。
また、基板搬送装置に検査部５を設けることで基板検査装置１を構成したので、ガラス基板Ｗに傷等を付けることなく搬送しながら基板表面の外観検査を行うことが可能になる。したがって、ガラス基板Ｗを用いた製品の品質を向上させることができる。
【００２２】
なお、図２及び図３には、ガラス基板Ｗの隅部が上向きに反っているが、隅部が下向きに反っている場合でも同様の作用及び効果が得られる。また、制御部３９は、圧力センサ３６が吸着エラーを検出したときに４つの吸着補助部３０を駆動させるように構成しても良い。ここにおいて、吸着エラーとは、圧力センサ３６が吸着パッド部１８内の減圧を検出しない状態をいう。
【００２３】
次に、この発明の第２の実施の形態について説明する。なお、第１の実施の形態と同じ構成要素には同一の符号を付してある。また、重複する説明は省略する。
この実施の形態は、吸着補助部３０がスライダ１２に取り付けられていることを特徴とする。図５に示すように、スライダ１２の支持部１４の外側面には、支持フレーム５０が固定されている。この支持フレーム５０は、ガラス基板Ｗの端面よりも外側を通って上方に延びている。支持フレーム５０の内側には、Ｌ字状の板金５１が取り付けられており、ここに吸着補助部３０のエアシリンダ３１が吊り下げられている。エアシリンダ３１は、鉛直下向きに進退自在なロッド３２を有し、ロッド３２の下端には補助パッド部３３が取り付けられている。吸着補助部３０は、ガラス基板Ｗの四隅に対応する吸着パッド部１８のそれぞれの上方に、合計４つ設けられている。
【００２４】
この実施の形態では、ガラス基板Ｗが基板搬入出部４に移載されたら、ガラス基板Ｗをエア浮上させた状態で、吸着パッド部１８を上昇させてガラス基板Ｗの下方から当接させ、吸着保持する。この際に、吸着補助部３０を駆動させて、補助パッド部３３を降下させ、ガラス基板Ｗの上方から押し当てた後に、速やかに補助パッド部３３を上昇させる。これによって、ガラス基板Ｗが反っていた場合でも吸着パッド部１８に確実に吸着保持される。吸着パッド部１８がガラス基板Ｗの表面から離れたら、リニアモータを駆動させ、スライダ１２をＸ方向に沿ってベース部２の他端部側に向かって移動させ、検査部５による検査を行う。ここで、移動している間に、吸着パッド部１８からガラス基板Ｗが離れた場合には、その吸着パッド部１８の圧力センサ３６が吸着エラーを出力するので、スライダ１２を一端停止させた後に制御部３９がその吸着パッド部１８の上方に共に移動している吸着補助部３０を駆動させ、前記と同様にしてガラス基板Ｗを吸着パッド部１８に押し当て、再びガラス基板Ｗを吸着保持させる。なお、スライダ１２を一端停止させることなく、吸着パッド部１８をＺ方向に往復移動させて再びガラス基板Ｗを吸着保持させても良い。
【００２５】
この実施の形態によれば、吸着補助部３０を設けたので、ガラス基板Ｗを上側から吸着パッド部１８に押し付けることができ、ガラス基板Ｗが反っている場合でも、確実に吸着保持を行わせることができる。さらに、吸着補助部３０がスライダ１２に設けられているので、ガラス基板Ｗが移動する際に、常に吸着補助部３０を吸着パッド部１８の上方に待機させることができる。したがって、ガラス基板Ｗの移動中などに吸着が解除された場合でも、速やかに吸着保持された状態に復帰させることができる。
【００２６】
なお、本発明は、前記の各実施の形態に限定されずに広く応用することが可能である。
例えば、吸着部１６、吸着補助部３０の数及び配置は、各実施の形態に限定されず、ガラス基板Ｗの側縁部のほぼ全長に亘って配置するなど種々の形態をとることができる。例えば、第１の実施の形態の変形例を図６に示す。図６には、Ｘ方向に沿って、ガラス基板Ｗの搬送方向前側から、吸着部１６Ａ、吸着部１６Ｂ、吸着部１６Ｃが配設されている。吸着部１６Ａ，１６Ｃは、ガラス基板Ｗの両端部に相当する位置に設けられ、吸着パッド部１８がＸ方向にそれぞれ５つ配列されている。吸着部１６Ｂは、ガラス基板ＷのＸ方向の中央に設けられ、吸着パッド部１８がＸ方向に３つ配列されている。これに対して、基板搬入出部４には、Ｘ方向に沿って吸着補助部３０Ａ、吸着補助部３０Ｂ、吸着補助部３０Ｃが配置されている。吸着補助部３０Ａ，３０Ｃは、基板搬入出部４において、吸着部１６Ａ，１６Ｃの上方に配置されており、各吸着パッド部１８に対向するように６つの補助パッド部３３がそれぞれ配設されている。吸着補助部３０Ｂは、基板搬入出部４において、吸着部１６Ｂの上方に配置されており、各吸着パッド部１８に対向するように３つの補助パッド部３３が配設されている。この場合には、基板搬入出部４において、ガラス基板Ｗの隅部と、隅部の略中間を上方から押圧することで、ガラス基板Ｗをさらに確実に吸着保持させることが可能になる。特に、ガラス基板Ｗの側縁部が波打つように反っている場合でも全ての吸着パッド部１８に確実に吸着保持することが可能になる。なお、この配置は、第２の実施の形態に適用することも可能である。
【００２７】
また、第２の実施の形態の変形例を図７に示す。吸着部１６Ａ、吸着部１６Ｂ、及び吸着部１６Ｃのそれぞれの上方には、吸着補助部６０Ａ、吸着補助部６０Ｂ、吸着補助部６０Ｃが配設されている。吸着補助部６０Ａ、６０Ｃは、５つの吸着パッド部１８に対してガラス基板Ｗを同時に押圧できる補助パッド部６１Ａが１つのエアシリンダ３１に取り付けられている。吸着補助部６０Ｂは、３つの吸着パッド部１８に対してガラス基板Ｗを同時に押圧できる補助パッド部６１Ｂが１つのエアシリンダ３１に取り付けられている。この場合には、エアシリンダ３１を少なくした状態で、図６と同様の効果が得られる。なお、図７においては、吸着補助部６０Ａ、６０Ｂ、６０Ｃは、支持フレーム５０及び板金５１によってスライダ１２に固定されているが、基板搬入出部４においてベース部２に固定されても良い。
【００２８】
さらに、図８に示すように、Ｘ方向に沿って、ガラス基板Ｗの両端部と、中央に相当する位置に、吸着部１６Ｄ、吸着部１６Ｅ、吸着部１６Ｆを配設し、これに対応して３つの吸着補助部群７０Ａ，７０Ｂ，７０Ｃを配設しても良い。ここで、吸着部１６Ｄ，１６Ｆには、それぞれ３つの吸着パッド部１８がＸ方向に沿って配設されており、吸着パッド部１８のそれぞれに１つずつ圧力センサ３６が設けられている。吸着補助部群７０Ａ，７０Ｃは、３つの補助パッド部３３が配設された吸着補助部３０ＤがＸ方向に２つ配列されたもので、各補助パッド部３３は対向する吸着パッド部１８の上方に配置されている。１つの吸着補助部３０Ｄの含まれる３つのエアシリンダ３１は、１つのバルブ３４で駆動制御されている。吸着補助部群７０Ｂは、３つの補助パッド部３３が１つのバルブ３４で制御可能な吸着補助部３０Ｄを１つ有している。この場合には、吸着エラーを起こした吸着パッド部１８に対応する吸着補助部３０Ｄのみを駆動させる。例えば、ガラス基板Ｗの先端側の吸着部１６Ｄの３つの吸着パッド部１８のいずれかに接続されている圧力センサ３６が吸着エラーを検出したときには、制御部３９が最も先端側の吸着補助部３０Ｄのバルブ３４を開閉動作させ、３つの補助パッド部３３を同時に上下方向に１回往復移動させる。これによって、ガラス基板Ｗの先端側が吸着パッド部１８に押し付けられ、吸着エラーが解消される。吸着エラーが発生した箇所の吸着補助部３０Ｄを稼動させることで、ガラス基板Ｗが押圧する力を最小限に止めることができ、特にガラス基板Ｗが波打つように反っている場合に高い効果を発揮する。なお、エアシリンダ３１ごとにバルブ３４を設けて、補助パッド部３３を１つずつ制御できるようにしても良いし、近接する複数の吸着パッド部１８に対して一つの圧力センサ３６を設けて、いずれかの吸着パッド部１８がガラス基板Ｗを吸着できかったときに吸着エラーを出力するようにしても良い。
【００２９】
また、基板搬入出部４には、ガラス基板Ｗを位置決めする位置決め機構を設けても良い。位置決め機構としては、例えば、ガラス基板Ｗの側面に当接して位置決めの基準となる固定式の基準ピンと、ガラス基板Ｗの側面に当接してガラス基板Ｗを基準ピンに向かって押圧する移動式のピンとを有するものがあげられる。
さらに、ガラス基板Ｗの両方の側縁部を吸着保持する代わりに、一方の側縁部のみを吸着保持して搬送するようにしても良い。この場合の吸着補助部３０は、スライダ１２及び吸着部１６を有する片側のみに設けられる。吸着補助部３０は、エアシリンダ３１の代わりに、ソレノイド式のシリンダ等、補助パッド部３３、６１Ａ，６１Ｂを上下移動させて、ガラス基板Ｗの吸着保持をアシストできる動作を行うものを用いることができる。基板浮上ステージ３は、エアの代わりに窒素ガスや、アルゴンガス等を使用しても良い。また、基板浮上ステージ３は、静電気や、超音波を利用してガラス基板Ｗを浮上させても良い。
そして、ガラス基板Ｗを水平に配置する代わりに、ガラス基板Ｗを垂直に配置し、ガラス基板Ｗを挟むように吸着部１６と吸着補助部３０とを配置しても良い。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本発明の実施の形態に係る基板搬送装置及びこれを備える基板検査装置の構成を示す平面図である。
【図２】吸着部及び吸着補助部の構成を示す側面図である。
【図３】吸着部及び吸着補助部を示す斜視図である。
【図４】吸着部と吸着補助部の制御ブロック図である。
【図５】スライダに吸着補助部が取り付けられた構成を示す側面図である。
【図６】吸着部及び吸着補助部の配置を示す図である。
【図７】吸着補助部の構成の一例を示す図である。
【図８】吸着部と吸着補助部の一例を示す図である。
【符号の説明】
【００３１】
１ 基板検査装置
３ 基板浮上ステージ（ステージ）
４ 基板搬入出部
５ 検査部
１２ スライダ（搬送手段）
１６，１６Ａ〜１６Ｆ 吸着部
３０，３０Ａ〜３０Ｄ，６０Ａ〜６０Ｃ 吸着補助部
３９ 制御部
Ｗ ガラス基板（基板）
Ｗ１ 素子形成面（基板表面）
Ｗ２ 非素子形成面（裏面）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を浮上させるステージと、前記ステージに沿って移動可能に設けられ、前記基板の端部の裏面に下側から当接して前記基板を吸着して保持する吸着部を有する搬送手段と、前記吸着部で前記基板を吸着保持するときに、前記基板表面に上方から当接して前記基板を前記吸着部に押し付けた後に、前記基板表面よりも上方に退避する吸着補助部と、を備えることを特徴とする基板搬送装置。
【請求項２】
前記吸着補助部は、前記基板を前記ステージ上に搬入する位置に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項３】
前記吸着補助部は、前記搬送手段に取り付けられていることを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項４】
前記ガラス基板を吸着できない前記吸着部を検出し、そのような前記吸着部の上方に配置されている前記吸着補助部を駆動させる制御部を備えることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の基板搬送装置。
【請求項５】
前記搬送手段の経路上に、前記基板の外観を検査する検査部を設けたことを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の基板検査装置。
【請求項１】
基板を浮上させるステージと、前記ステージに沿って移動可能に設けられ、前記基板の端部の裏面に下側から当接して前記基板を吸着して保持する吸着部を有する搬送手段と、前記吸着部で前記基板を吸着保持するときに、前記基板表面に上方から当接して前記基板を前記吸着部に押し付けた後に、前記基板表面よりも上方に退避する吸着補助部と、を備えることを特徴とする基板搬送装置。
【請求項２】
前記吸着補助部は、前記基板を前記ステージ上に搬入する位置に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項３】
前記吸着補助部は、前記搬送手段に取り付けられていることを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項４】
前記ガラス基板を吸着できない前記吸着部を検出し、そのような前記吸着部の上方に配置されている前記吸着補助部を駆動させる制御部を備えることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の基板搬送装置。
【請求項５】
前記搬送手段の経路上に、前記基板の外観を検査する検査部を設けたことを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の基板検査装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【公開番号】特開２００６−１８８３１３（Ｐ２００６−１８８３１３Ａ）
【公開日】平成１８年７月２０日（２００６．７．２０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−１７４（Ｐ２００５−１７４）
【出願日】平成１７年１月４日（２００５．１．４）
【出願人】（００００００３７６）オリンパス株式会社 (11,466)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年７月２０日（２００６．７．２０）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年１月４日（２００５．１．４）
【出願人】（００００００３７６）オリンパス株式会社 (11,466)
【Ｆターム（参考）】
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