感熱転写方式を用いた画像形成方法
【課題】高速プリントを行った場合も、サーマルヘッドとインクシートとの融着およびインクシートと受像シートとの融着がなく、ムラ、皺などの故障の無い良好な画質であり、かつ画像堅牢性の優れたプリントが得られる画像形成方法を提供する。
【解決手段】基材フィルムの一方の面に熱転写可能な色材を含有する熱転写層を有し、他方の面に耐熱滑性層が形成されている熱転写シートと、
支持体上に、ポリエステルおよび／またはポリカーボネート系ポリマーを含む少なくとも１層の受容層を有する感熱転写受像シートとを、
該熱転写シートの熱転写層と該感熱転写受像シートの受容層とが接するよう重ねあわせ、サーマルヘッドから画像信号に応じた熱エネルギーを付与することにより画像を形成する画像形成方法。
【解決手段】基材フィルムの一方の面に熱転写可能な色材を含有する熱転写層を有し、他方の面に耐熱滑性層が形成されている熱転写シートと、
支持体上に、ポリエステルおよび／またはポリカーボネート系ポリマーを含む少なくとも１層の受容層を有する感熱転写受像シートとを、
該熱転写シートの熱転写層と該感熱転写受像シートの受容層とが接するよう重ねあわせ、サーマルヘッドから画像信号に応じた熱エネルギーを付与することにより画像を形成する画像形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感熱転写方式を用いた画像形成方法に関し、特に、高速プリントを行った場合も、サーマルヘッドとインクシートとの融着およびインクシートと受像シートとの融着がなく、ムラ、皺などの故障の無い良好な画質であり、かつ画像堅牢性の優れたプリントが得られる画像形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、種々の熱転写記録方法が知られているが、中でも染料拡散転写記録方式は、銀塩写真の画質に最も近いカラーハードコピーが作製できるプロセスとして注目されている（例えば、非特許文献１及び２参照）。しかも、銀塩写真に比べて、ドライであること、デジタルデータから直接可視像化できる、複製作りが簡単であるなどの利点を持っている。
【０００３】
この染料拡散転写記録方式では、色素を含有する感熱転写シート（以下、インクシートともいう。）と感熱転写受像シート（以下、受像シートともいう。）とを重ね合わせ、次いで、電気信号によって発熱が制御されるサーマルヘッドによってインクシートを加熱することでインクシート中の色素を受像シートに転写して画像情報の記録を行うものであり、シアン、マゼンタ、イエローの３色を重ねて記録することで色の濃淡に連続的な変化を有するカラー画像を転写記録することができる。
【０００４】
この方式の新たな用途として開拓された利用分野の一つとして、例えばＰＯＳ（Ｐｏｉｎｔ Ｏｆ Ｓａｌｅｓ）システム用の熱転写記録ラベル又は熱転写記録タグが挙げられる。従来の食品用ラベル用途や衣料タグ用途では長期間過酷な条件下で使用されることは比較的稀であったが、配送用ラベルや航空バゲッジタグ等の流通管理用途で使用される機会が増加しており、バーコード等の精密記録が必要で、高画質であることが要望されている。また、記録体が過酷な条件に曝されることがあり、熱転写記録用受像紙の紙力強度の改良が要望されている。
これに対して、例えば特許文献１には、支持体としてクレープ紙またはクルパック紙を用いることが開示されている。しかし、クレープ紙やクルラップ紙を支持体として用いた場合、塗布から乾燥までの間に紙中に水分が吸収されてしまい、しかも乾燥後も紙中に水分が残存して、受容層の経時による鮮鋭性の低下を引き起こすという問題があった。
【特許文献１】特開平９−２２０８６３号公報
【非特許文献１】「情報記録（ハードコピー）とその材料の新展開」，(株)東レリサーチセンター発行，１９９３年，ｐ．２４１−２８５
【非特許文献２】「プリンター材料の開発」，(株)シーエムシー発行，１９９５年，ｐ．１８０
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
熱転写シートによりサーマルヘッドで画像形成を行う際に高速で処理を行うと、サーマルヘッドが高温に加熱されている為、基材フイルムがポリエステルフイルム等の熱可塑性フイルムである場合には、サーマルヘッドがインクシートの基材フイルムに融着し、サーマルヘッドの良好な走行性が阻害され、熱転写シートに破損、皺等が発生するという問題がある。また、画像形成を行う際に高速で処理を行なうとサーマルヘッドの加熱時間が不十分で、転写した色素が受容層中に十分に拡散せず、受容層表層付近に存在し、画像光堅牢性が悪化するという問題がある。
従って、本発明は、高速プリントを行った場合も、サーマルヘッドとインクシートとの融着およびインクシートと受像シートとの融着がなく、ムラ、皺などの故障の無い良好な画質であり、かつ画像堅牢性の優れたプリントが得られる画像形成方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、高速で処理してもサーマルヘッドとインクシートの融着およびインクシートと受像シートの融着が発生することなく、プリントの高速化が達成できることを見い出した。また、このように高速で処理する際にも、ポリエステル及び／又はポリカーボネート系ポリマーを含有する受像シートであれば、画像堅牢性の優れた画像を形成することができることがわかった。本発明はこのような知見に基づきなされるに至ったものである。
【０００７】
上記課題は下記の手段により達成された。
（１）基材フィルムの一方の面に熱転写可能な色材を含有する熱転写層を有し、他方の面に耐熱滑性層が形成されている熱転写シートと、
支持体上に、ポリエステルおよび／またはポリカーボネート系ポリマーを含む少なくとも１層の受容層を有する感熱転写受像シートとを、
該熱転写シートの熱転写層と該感熱転写受像シートの受容層とが接するよう重ねあわせ、サーマルヘッドから画像信号に応じた熱エネルギーを付与することにより画像を形成することを特徴とする画像形成方法。
（２）前記耐熱滑性層が、２個以上のイソシアネート基を有する化合物とポリマーとの反応で得られたポリマーを含有することを特徴とする（１）に記載の画像形成方法。
（３）前記耐熱滑性層の厚みが０．１〜２．０μｍであることを特徴とする（１）または（２）に記載の画像形成方法。
（４）前記熱転写シートに、下記一般式（７）又は（８）で表される少なくとも１種の色素を含むことを特徴とする（１）〜（３）のいずれか１項に記載の画像形成方法。
【０００８】
【化１】
【０００９】
（一般式（７）中、Ｒ51およびＲ52は各々独立に置換基を表す。ｎ８は０〜５の整数を表す。ｎ９は０〜４の整数を表す。）
【００１０】
【化２】
【００１１】
（一般式（８）中、Ｒ61は置換基を表し、Ｒ62、Ｒ63およびＲ64は各々独立に水素原子または置換基を表す。ｎ１０は０〜４の整数を表す。）
（５）前記熱転写シートに、下記一般式（９）、（１０）又は（１１）のいずれかで表される少なくとも１種の色素を含むことを特徴とする（１）〜（４）のいずれか１項に記載の画像形成方法。
【００１２】
【化３】
【００１３】
（一般式（９）中、Ｒ71およびＲ73は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ72およびＲ74は各々独立に置換基を表す。ｎ１１は０〜４の整数を表す。ｎ１２は０〜２の整数を表す。）
【００１４】
【化４】
【００１５】
（一般式（１０）中、Ｒ81は水素原子または置換基を表す。Ｒ82およびＲ84は各々独立に置換基を表す。ｎ１３は０〜４の整数を表す。ｎ１４は０〜２の整数を表す。）
【００１６】
【化５】
【００１７】
（一般式（１１）中、Ｒ91は水素原子または置換基を表す。Ｒ92は置換基を表す。Ｒ93およびＲ94は各々独立に水素原子または置換基を表す。ｎ１５は０〜２の整数を表す。Ｚ1およびＺ2は、どちら一方が＝Ｎ−であり、他方が＝Ｃ(Ｒ95)−を表す。Ｚ3およびＺ4は各々独立に＝Ｎ−または＝Ｃ(Ｒ95)−を表す。ここで、Ｒ95は水素原子または置換基を表す。）
（６）前記感熱転写シートに、下記一般式（１２）又は（１３）で表される少なくとも１種の色素を含むことを特徴とする（１）〜（５）のいずれか１項に記載の画像形成方法。
【００１８】
【化６】
【００１９】
（一般式（１２）中、Ｒ101およびＲ102は各々独立に置換基を表す。Ｒ103およびＲ104は各々独立に水素原子または置換基を表す。ｎ１６およびｎ１７は各々独立に０〜４の整数を表す。）
【００２０】
【化７】
【００２１】
（一般式（１３）中、Ｒ111およびＲ113は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ112およびＲ114は各々独立に置換基を表す。ｎ１８は０〜４の整数を表す。ｎ１９は０〜２の整数を表す。）
（７）画像形成時の前記感熱転写受像シートの搬送速度が１２５ｍｍ／秒以上であることを特徴とする（１）〜（６）のいずれか１項に記載の画像形成方法。
【発明の効果】
【００２２】
本発明により、高速で処理してもサーマルヘッドとインクシートの融着およびインクシートと受像シートの融着が発生することなく、ムラ、皺などの故障の無い良好な画質であり、かつ画像堅牢性の優れたプリントを提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の感熱転写受像シートは、基材上に染料受容層（受容層）が形成されている。受容層と支持体との間には下地層が形成されていることが好ましく、例えば白地調整層、帯電調節層、接着層、プライマー層が形成される。また、下地層と基材との間には断熱層が形成されていることが好ましい。さらに、基材の裏面側にはカール調整層、筆記層、帯電調整層が形成されていることが好ましい。各層の塗布は、ロールコート、バーコート、グラビアコート、グラビアリバースコート等の一般的な方法で行われる。
【００２４】
[受容層ポリマー]
本発明の受容層に使用される熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリ塩化ビニル・ポリ塩化ビニリデン等のハロゲン化ポリマー・ポリ酢酸ビニル・エチレン酢酸ビニル共重合体・塩化ビニル酢酸ビニル共重合体・ポリアクリルエステル・ポリスチレン・ポリスチレンアクリル等のビニル系樹脂、ポリビニルホルマール・ポリビニルブチラール・ポリビニルアセタール等のアセタール系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリプチレンテレフタレート、ポリカプロラクトン（プラクセルＨ−５、ダイセル化学（株）製）等のポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、特開平０４−２９６５９５号公報や特開２００２−２６４５４３号公報に記載セルロース系樹脂やセルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５５１−０.２、ＣＡＢ３２１−０.１、以上、イーストマンケミカル製）等のセルロース系樹脂、ポリプロピレン等のポリオレフィンン系樹脂、尿素樹脂・メラミン樹脂・ベンゾグアナミン樹脂等のポリアミド系樹脂、等が挙げられる。これらの樹脂は、相溶する範囲内で任意にブレンドし、用いることもできる。特開昭57-169370号、同57-207250号、同60-25793号公報等にも受容層を形成した樹脂が開示されている。上記ポリマー中でもポリカーボネート、ポリエステル、ポリウレタン、ポリ塩化ビニルおよびその共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、ポリカプロラクトンまたはこれらの混合物を含有することが好ましく、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリ塩化ビニルおよびその共重合体またはこれらの混合物がさらに好ましく、ポリカーボネート、ポリエステルまたはこれらの混合物が特に好ましい。
本発明は、受容層にポリエステルおよび/またはポリカーボネート系ポリマーを含有するものである。
これらのポリマーは単独で使用しても、混合物として用いてもよい。
【００２５】
[ポリエステル系樹脂]
本発明の受容層に用いるポリエステル系樹脂について、さらに詳しく説明する。
ポリエステルはジカルボン酸成分（その誘導体含む）とジオール成分（その誘導体を含む）との重縮合により得られるものである。ポリエステル樹脂は、芳香環および/または脂環を含有する。脂環式ポリエステルの技術については、特開平５−２３８１６７号公報に記載の技術が染料取り込み能と像の安定性の点で有効である。
【００２６】
ジカルボン酸成分としては、イソフタル酸、トリメリット酸、テレフタル酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、それらの２種以上の混合物から選ばれる。好ましくは、イソフタル酸、トリメリット酸、テレフタル酸、またはそれらの２種以上の混合物から選ばれる。ジカルボン酸成分として脂環族を有するものを含有させることは、耐光性向上の観点からより望ましい。より好ましくは、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸およびイソフタル酸を使用する。ジカルボン酸成分は、イソフタル酸５０〜１００ｍｏｌ％、トリメリット酸０〜１ｍｏｌ％、テレフタル酸０〜５０ｍｏｌ％、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸０〜１５ｍｏｌ％の割合で、合計１００ｍｏｌ％となるように使用する。
【００２７】
ジオール成分は、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、トリシクロデカンジメタノール、１，４−ブタンジオール、ビスフェノール、またはそれらの２種以上の混合物から選ぶことができる。好ましくは、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、トリシクロデカンジメタノールから選ばれる。ジオール成分として脂環成分を含ませるようにすると、耐光性向上の観点からより望ましい。トリシクロデカンジメタノール以外にもシクロヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール、シクロヘキサンジエタノール等の脂環式ジオール成分を使用することができる。好ましい脂環式ジオール成分はトリシクロデカンジメタノールである。ジオール成分は、エチレングリコール０〜５０ｍｏｌ％、ポリエチレングリコール０〜１０ｍｏｌ％、トリシクロデカンジメタノール０〜９０ｍｏｌ％、好ましくは３０〜９０ｍｏｌ％、より好ましくは４０〜９０ｍｏｌ％、１，４−ブタンジオール０〜５０ｍｏｌ％、ビスフェノールＡ ０〜５０ｍｏｌ％の割合で、合計１００ｍｏｌ％となるように使用する。
【００２８】
本発明で使用するポリエステル樹脂は、上記少なくともジカルボン酸成分およびジオール成分を使用し、分子量（質量平均分子量（Mw））約11000以上、好ましくは約15000以上、より好ましくは約17000以上有するように重縮合したものを使用する。分子量があまり低いものを使用すると、形成される受容層の弾性率が低くなり、また耐熱性も足りなくなるので、熱転写シートと受像シートとの離型性を確保することが難しくなる。分子量は、弾性率を上げる観点から大きいほど望ましく、受容層形成時に塗布液溶媒に溶かすことができなくなるとか、受容層を塗布乾燥後に基材シートとの接着性に悪影響が出る等の弊害が生じない限り、特に限定されないが、好ましくは約25000以下、高くても約30000程度となる。なお、エステル樹脂の合成法は、従来公知の方法を使用すればよい。
【００２９】
飽和ポリエステルとしては例えばバイロン２００、バイロン２９０、バイロン６００等（以上、東洋紡（株）製）、ＫＡ−１０３８Ｃ（荒川化学（株）製）、ＴＰ２２０、ＴＰ２３５（以上、日本合成（株）製）等が用いられる。
【００３０】
[ポリカーボネート]
本発明の受容層に用いるポリカーボネート樹脂について、さらに詳しく説明する。
ポリカーボネートは、炭酸とジオールをユニットとするポリエステルを意味し、ジオールにホスゲンを反応させる方法あるいは炭酸エステルを反応させる方法等により合成できる。
【００３１】
ジオール成分としては、ビスフェノールＡ、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ノナンジオール、４，４’−ビシクロ（２，２，２）ヘプト−２−イリデンビスフェノール、４，４’−（オクタヒドロ−４，７−メタノ−５Ｈ−インデン−５−イリデン）ビスフェノール及び２，２’，６，６’−テトラクロロビスフェノールＡが挙げられ、ビスフェノールＡ、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ブタンジオール、ペンタンジオールが好ましく、ビスフェノールＡ、エチレングリコール、ブタンジオールがより好ましく、ビスフェノールＡ、エチレングリコールが特に好ましい。本発明で使用するポリカーボネートは、少なくとも上記の１種のジオール成分を使用するが、複数のジオールを混合して使用してもよい。
【００３２】
本発明のポリカーボネートの特に好ましい態様であるビスフェノール−Ａポリカーボネートについて、詳しく説明する。ビスフェノール−Ａポリカーボネートを中心とする未変性のポリカーボネートの技術は米国特許第４，６９５，２８６号明細書に記載されている。本発明のポリカーボネートは分子量（質量平均分子量（Mw））約1000以上、好ましくは約3000以上、より好ましくは約5000以上、特に好ましくは約10000以上の重縮合したものを使用する。Ｍａｋｒｏｌｏｎ−５７００（Ｂａｙｅｒ ＡＧ）及びＬＥＸＡＮ−１４１（Ｇｅｎｅｒａｌ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ社）等のポリカーボネートを例として挙げることができる。
【００３３】
ビスフェノールＡとエチレングリコールのようなジオールを混合して変性ポリカーボネートの技術が米国特許第４，９２７，８０３号明細書に記載されている。ポリエーテルブロック単位は、炭素原子数２〜約１０個の線状脂肪族ジオールから形成することができるが、エチレングリコールから形成されたものが好ましい。本発明の好ましい実施態様では、ポリエーテルブロック単位は数分子量約４，０００〜約５０，０００を有し、またビスフェノール−Ａポリカーボネートブロック単位は数分子量約１５，０００〜約２５０，０００を有する。ブロックコポリマー全体の分子量は、約３０，０００〜約３００，０００であることが好ましい。Ｍａｋｒｏｌｏｎ ＫＬ３−１０１３（Ｂａｙｅｒ ＡＧ）を例として挙げることができる。
【００３４】
これらの未変性および変性ビスフェノール−Ａポリカーボネートを混合することも好ましく、未変性ビスフェノール−Ａポリカーボネートとポリエーテル変性ポリカーボネートとを質量比８０：２０〜１０：９０で配合することが好ましく、耐指紋性向上の観点から質量比５０：５０〜４０：６０の質量比が特に好ましい。未変性および変性ビスフェノール−Ａポリカーボネートのブレンド技術に関しては特開平６−２２７１６０号公報にも記載されている。
【００３５】
本発明の受容層に使用される熱可塑性樹脂の好ましい実施態様として、上記ポリカーボネートと上記ポリエステルのブレンド系をあげることができる。このブレンド系では、ポリカーボネートとポリエステルの相溶性が確保できることが好ましい。ポリエステルは、好ましくは、約４０〜約１００℃のＴｇを示し、またポリカーボネートは約１００〜約２００℃のＴｇを示す。ポリエステルは、好ましくは、ポリカーボネートよりも低いＴｇを示し、そしてポリカーボネートに対してポリマー可塑剤として作用する。最終のポリエステル／ポリカーボネートブレンドのＴｇは、好ましくは４０℃〜１００℃である。より高いＴｇのポリエステル及びポリカーボネートのポリマーも、可塑剤を添加することで有用となりうる。
【００３６】
本発明のさらなる好ましい実施態様では、未変性ビスフェノール−Ａポリカーボネートとポリエステルポリマーとを、最終ブレンドのＴｇを望ましい値にし、しかもコストを最小限に抑えるような質量比でブレンドする。ポリカーボネートとポリエステルポリマーとは、約７５：２５〜２５：７５の質量比で都合よく配合することができるが、約６０：４０〜約４０：６０の質量比で配合するとより好ましい。特開平６−２２７１６１号公報にはポリカーボネートとポリエステルとのブレンド系の技術が開示されている。
【００３７】
本発明の受容層に用いるポリカーボネートにおいて、ポリマー末端が少なくとも２個のヒドロキシル基を有する平均分子量約１０００〜約１０，０００ポリカーボネートとヒドロキシル基と反応する架橋剤との反応により、受容層に架橋ポリマー網状構造を形成させてもよい。特開平６−１５５９３３号公報に記載のように、多官能性イソシアネートなどの架橋剤を技術も開示され、転写後の色素供与体への粘着性を改良できる。さらに特開平８−３９９４２号公報に開示の技術のように、ポリカーボネートとイソシアネートの架橋反応の際、ジブチル錫ジアセテートを用いた感熱色素転写用色素受容要素を構成とする技術が開示されており、架橋反応の促進のみならず画像安定性や耐指紋性などを改良できる。
【００３８】
本発明の受容層は、溶剤塗布によらずに、上記ポリマー樹脂の溶融物を押し出しコーティングすることによってキャストすることができる。この押し出しコーティングの技術はエンサイクロピィーディアオブポリマーサイエンスアンドテクニークス（Encyclopedia of Polymer Science and Enginieering）第３巻（John Wiley, New York）、１９８５年５６３頁や、第６巻１９８６年６０８頁に記載されている。特開平７−１７９０７５号公報にも感熱色素転写材用に関する技術が開示されており、本技術も好適に使用することができる。ポリマー樹脂としては、シクロヘキサンジカルボキシレートとエチレングリコール／ビスフェノール−Ａ−ジエタノールの５０／５０モル％混合物（ＣＯＰＯＬ；登録商標）とを縮合して得られたコポリマーが特に好ましい。
【００３９】
なお色素の染着性の程度については以下のようにして定義される。受像シートにイエロー、マゼンタ、シアン、ブラックの４色を２５６階調のベタ画像を形成するよう出力し、得られた画像の反射濃度を測定して、最も反射濃度の高いものを染着性が良い受容ポリマーと定義する。なお、受容ポリマーの染着性は、プリンター、インクシートによって異なり得るので注意が必要である。
【００４０】
本発明に用いられるバインダーは、加工脆性と画像保存性の点でガラス転移温度（Ｔｇ）が−３０℃〜１００℃の範囲のものが好ましく、より好ましくは０℃〜９０℃の範囲、さらに好ましくは３０℃〜８０℃の範囲である。バインダーとして２種以上のポリマーをブレンドして用いることも可能で、この場合、組成分を考慮し加重平均したＴｇが上記の範囲に入ることが好ましい。また、相分離した場合やコア−シェル構造を有する場合には加重平均したＴｇが上記の範囲に入ることが好ましい。
【００４１】
このガラス転移温度（Ｔｇ）は下記式で計算することができる。
1／Tg＝Σ(Xi／Tgi)
ここでは、ポリマーはｉ＝１からｎまでのｎ個のモノマー成分が共重合しているとする。Xiはi番目のモノマーの質量分率（ΣXi=1）、Tgiはi番目のモノマーの単独重合体のガラス転移温度（絶対温度）である。ただしΣはｉ＝１からｎまでの和をとる。尚、各モノマーの単独重合体ガラス転移温度の値（Tgi）は「Polymer Handbook(3rd Edition)」(J.Brandrup, E.H.Immergut著(Wiley-Interscience、1989))の値を採用できる。
バインダーに用いられるポリマーの重合方法は、一括重合法、モノマー（連続・分割）添加法、エマルジョン添加法が好ましい。
【００４２】
＜離型剤＞
また、受容層には、画像形成時に熱転写シートとの熱融着を防ぐために、離型剤を配合することもできる。離型剤は、例えば、ポリエチレンワックス、アミドワックス、テフロン（登録商標）パウダー等の固形ワックス類；シリコーンオイル、リン酸エステル系化合物、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤およびその他当該技術分野で公知の離型剤を使用することができ、フッ素系界面活性剤等に代表されるフッ素系化合物、シリコーン系界面活性剤、シリコーンオイル及び／又はその硬化物等のシリコーン系化合物が好ましく用いられる。離型剤の添加量は、受容ポリマーに対して０．２〜３０質量部が好ましい。
【００４３】
シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイル、および変性シリコーンオイルやその硬化物が使用できる。ストレートシリコーンオイルには、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルがあり、ジメチルシリコーンオイルとしては、ＫＦ９６−１０、ＫＦ９６−１００、ＫＦ９６−１０００、ＫＦ９６Ｈ−１００００、ＫＦ９６Ｈ−１２５００、ＫＦ９６Ｈ−１０００００（いずれも商品名、信越化学工業(株)製）等を挙げられ、ジメチルシリコーンオイルとしては、ＫＦ５０−１００、ＫＦ５４、ＫＦ５６（いずれも商品名、信越化学工業(株)製）等が挙げられる。
【００４４】
変性シリコーンオイルは、反応性シリコーンオイルと非反応性シリコーンオイルに分類できる。反応性シリコーンオイルには、アミノ変性、エポキシ変性、カルボキシル変性、ヒドロキシ変性、メタクリル変性、メルカプト変性、フェノール変性、片末端反応性・異種官能基変性がある。アミノ変性シリコーンオイルとしては、ＫＦ−３９３、ＫＦ−８５７、ＫＦ−８５８、Ｘ−２２−３６８０、Ｘ−２２−３８０１Ｃ、ＫＦ−８０１０、Ｘ−２２−１６１Ａ、ＫＦ−８０１２（いずれも商品名、信越化学工業(株)製）等が挙げられ、エポキシ変性シリコーンオイルとしては、ＫＦ−１００Ｔ、ＫＦ−１０１、ＫＦ−６０−１６４、ＫＦ−１０３、Ｘ−２２−３４３、Ｘ−２２−３０００Ｔ（いずれも商品名、信越化学工業(株)製）等が挙げられる。カルボキシル変性シリコーンオイルとしては、Ｘ−２２−１６２Ｃ（商品名、信越化学工業(株)製）等が挙げられ、ヒドロキシ変性シリコーンオイルとしては、Ｘ−２２−１６０ＡＳ、ＫＦ−６００１、ＫＦ−６００２、ＫＦ−６００３、Ｘ−２２−１７０ＤＸ、Ｘ−２２−１７６ＤＸ、Ｘ−２２−１７６Ｄ、Ｘ−２２−１７６ＤＦ（いずれも商品名、信越化学工業(株)製）等が挙げられ、メタクリル変性シリコーンオイルとしては、Ｘ−２２−１６４Ａ、Ｘ−２２−１６４Ｃ、Ｘ−２４−８２０１、Ｘ−２２−１７４Ｄ、Ｘ−２２−２４２６（いずれも商品名、信越化学工業(株)製）等が挙げられる。
【００４５】
反応性シリコーンオイルとしては、硬化させて使用することもでき、反応硬化型、光硬化型、触媒硬化型等に分類できる。このなかで反応硬化型のシリコーンオイルが特に好ましく、反応硬化型シリコーンオイルとしては、アミノ変性シリコーンオイルとエポキシ変性シリコーンオイルとを反応硬化させたものが好ましい。また、触媒硬化型あるいは光硬化型シリコーンオイルとしては、ＫＳ−７０５Ｆ−ＰＳ、ＫＳ−７０５Ｆ−ＰＳ−１、ＫＳ−７７０−ＰＬ−３〔触媒硬化型シリコーンオイル：いずれも商品名、信越化学工業(株)製〕、ＫＳ−７２０、ＫＳ−７７４−ＰＬ−３〔光硬化型シリコーンオイル：いずれも商品名、信越化学工業(株)製〕等が挙げられる。これら硬化型シリコーンオイルの添加量は受容層を構成する樹脂の０．５〜３０質量％が好ましい。離型剤は、ポリエステルおよびポリカーボネート系ポリマーを合計したものの１００質量部に対して２〜４質量％、好ましくは２〜３質量％程度使用する。その量が少なすぎると、離型性を確実に確保することができず、また多すぎると保護層が受像シートに転写しなくなってしまう。
【００４６】
非反応性シリコーンオイルとしては、ポリエーテル変性、メチルスチリル変性、アルキル変性、高級脂肪酸エステル変性、親水性特殊変性、高級アルコキシ変性、フッ素変性等がある。ポリエーテル変性シリコーン（ＫＦ−６０１２、商品名、信越化学工業(株)製）が挙げられ、メチルスチル変性シリコーンシリコーンオイルとしては、（２４−５１０、ＫＦ４１−４１０、いずれも商品名、信越化学工業(株)製）等が挙げられる。また、下記一般式１〜３のいずれかで表される変性シリコーンも使用することができる。
【００４７】
【化８】
【００４８】
一般式１中、Ｒは水素原子、またはアリール基、若しくはシクロアルキル基で置換されても良い直鎖または分岐のアルキル基を表す。ｍ、ｎは２０００以下の整数を表し、ａ、ｂは３０以下の整数を表す。
【００４９】
【化９】
【００５０】
一般式２中、Ｒは水素原子、またはアリール基、若しくはシクロアルキル基で置換されても良い直鎖または分岐のアルキル基を表す。ｍは２０００以下の整数を表し、ａ、ｂは３０以下の整数を表す。
【００５１】
【化１０】
【００５２】
一般式３中、Ｒは水素原子、またはアリール基、若しくはシクロアルキル基で置換されても良い直鎖または分岐のアルキル基を表す。Ｒ１は単結合または２価の連結基を表し、Ｅは置換基を有してもよいエチレン基を表し、Ｐは置換基を有してもよいプロピレン基を表す。ｍ、ｎは２０００以下の整数を表し、ａ、ｂは３０以下の整数を表す。
【００５３】
上記のようなシリコーンオイルは「シリコーンハンドブック」（日刊工業新聞社刊）に記載されており、硬化型シリコーンオイルの硬化技術として、特開平８−１０８６３６号公報や特開２００２−２６４５４３号公報に記載の技術が好ましく使用できる。
【００５４】
（下地層）
受容層と支持体との間には下地層が形成されていることが好ましく、例えば白地調整層、帯電調節層、接着層、プライマー層が形成される。これらの層については、例えば特許第３５８５５９９号明細書、特許第２９２５２４４号明細書などに記載されたものと同様にして形成することができる。
【００５５】
（基材シート）
本発明の基材シートとしては、紙類、プラスチックフィルム等が使用でき、紙類では、各種紙単体もしくは加工紙等いずれも使用可能で、例えば、上質紙、コート紙、アート紙、キャストコート紙、板紙等の他、樹脂エマルジョンや合成ゴムラテックス等の含浸紙、合成樹脂内添紙などが挙げられ、合成紙では、ポリスチレン系合成紙やポリオレフィン系合成紙等が良好に使用できる。
【００５６】
また、プラスチックフィルムでは、ポリプロピレンなどのポリオレフィン系樹脂フィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルムなどのポリエステル系樹脂フィルム、硬質ポリ塩化ビニルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリアミドフィルム、ポリアクリロニトリルフィルム、ポリメタクリレートフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルフォンフィルム、ポリアリレートフィルムなどが使用できる。これらのプラスチックフィルムでは透明なフィルムだけではなく、白色顔料や、充填剤等を加えて成膜した白色不透明のフィルム、或いは発泡させたフィルムも使用できる。尚、これらの材料はそれぞれ単独でも使用できるが、他の材料と組み合わせた積層体として使用してもよい。
【００５７】
基材として透明性を有する基材を用いることができ、この場合は実用上、延伸したポリプロピレンまたはポリエチレンテレフタレートフィルムを用いることが良い。それによって、ＯＨＰ投影機にかけて、使用できたり、また、シールタイプでは貼着される対象物の表面の外観が損なわれることなく、透過できるものが得られる。尚、この場合はもちろん、色材受容層、粘着剤層等、熱転写受像シートの貼着する部分は透明性を有していることが望ましい。
【００５８】
また、上記の基材シートの表面及びまたは裏面に易接着処理した基材シートも使用できる。本発明では、特に限定されないが、帯電性の高いプラスチックベースの基材シートを用いることが好ましい。熱転写受像シートの基材シートの厚みは、通常３〜３００μｍ程度であり、本発明においては、機械的適性等を考慮し、７５〜１７５μｍの基材シートを用いるのが好ましい。また、基材シートとその上に設ける層との密着性が乏しい場合には、その表面に易接着処理やコロナ放電処理を施すのが好ましい。
【００５９】
次に、本発明に用いられる感熱転写シート（インクシート）について説明する。
熱転写画像形成の際に、上述した感熱転写受像シートと併せて使用されるインクシートは、支持体上に拡散転写染料を含む色素層を設けたものである。色素層の塗布は、ロールコート、バーコート、グラビアコート、グラビアリバースコート等の一般的な方法で行われる。
【００６０】
インクシート基材の材質は、ポリエステルフイルム、ポリスチレンフイルム、ポリスルフォンフイルム、ポリイミドフイルム、ポリビニルアルコールフイルム若しくはセロファン等のプラスチックフイルムが適している。本発明の好ましい実施態様では、熱転写色素供与材料はポリエチレンテレフタレート支持体上にシアン色素、マゼンタ色素およびイエロー色素を逐次繰返し領域で塗布したものからなり、前記熱転写工程を各色素毎に逐次実施して三色の転写画像を形成する。勿論、この熱転写工程を単色で実施した際には、モノクロームの転写画像が得られる。
【００６１】
（熱転写層）
本発明に用いられるインクシートの熱転写層（色素層）には、イエロー色素として前記一般式（７）又は（８）で表される少なくとも１種の色素を含むことが好ましく、マゼンタ色素として前記一般式（９）、（１０）又は（１１）で表される少なくとも１種の色素を含むことが好ましく、シアン色素として前記一般式（１２）又は（１３）で表される少なくとも１種の色素を含むことが好ましい。
以下に上記の好ましい色素を説明する。
最初に、一般式（７）で表される色素について、詳細に説明する。
【００６２】
【化１１】
【００６３】
一般式（７）中、Ｒ51およびＲ52は各々独立に置換基を表す。ｎ８は０〜５の整数を表し、ｎ９は、０〜４の整数を表す。
【００６４】
一般式（７）中、Ｒ51およびＲ52は各々独立に水素原子または置換基を表す。
ここで該置換基をさらに詳しく説明する。該置換基の例としては、ハロゲン原子、アルキル基（シクロアルキル基（環数は問わない）を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基（環数は問わない）を含む）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ、アミノ基（アルキアミノ基、アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基、アルキルチオ基、スルファモイル基、アルキルもしくはアリールスルフィニル基、アルキルもしくはアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールもしくはヘテロ環アゾ基、イミド基を挙げることができ、それぞれの基はさらに置換基を有していても良い。
【００６５】
以下に、前記Ｒ51およびＲ52をさらに詳しく説明する。
Ｒ51およびＲ52で表されるハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子が挙げられる。中でも塩素原子、臭素原子が好ましく、特に塩素原子が好ましい。
【００６６】
Ｒ51およびＲ52で表されるアルキル基にはシクロアルキル基およびビシクロアルキル基が含まれる。アルキル基としては直鎖、分岐の置換もしくは無置換のアルキル基が含まれる。直鎖、分岐の置換もしくは無置換のアルキル基は炭素数１〜３０のアルキル基が好ましい。例としてはメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、エイコシル、２−クロロエチル、２−シアノエチル、または２−エチルヘキシルを挙げることができる。シクロアルキル基としては置換もしくは無置換のシクロアルキル基が含まれる。置換もしくは無置換のシクロアルキル基は、炭素数３〜３０のシクロアルキル基が好ましい。例としては、シクロヘキシル、シクロペンチル、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシルを挙げることができる。ビシクロアルキル基としては、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例として、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル）を挙げることができる。さらに環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。以下に説明する置換基の中のアルキル基（例えばアルキルチオ基のアルキル基）もこのような概念のアルキル基を表す。
Ｒ51およびＲ52で表されるアルケニル基にはシクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基が含まれる。アルケニル基としては直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルケニル基を表す。アルケニル基としては、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルケニル基が好ましい。例としてはビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイルを挙げることができる。シクロアルケニル基としては、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基が好ましい。例としては、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イルが挙げられる。ビシクロアルケニル基としては、置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基が含まれる。ビシクロアルケニル基としては炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基が好ましい。例として、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イルを挙げることができる。
【００６７】
Ｒ51およびＲ52で表されるアルキニル基は、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキニル基が好ましく、例えば、エチニル、またはプロパルギルが挙げられる。
【００６８】
Ｒ51およびＲ52で表されるアリール基は、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリール基が好ましく、例えば、フェニル、ｐ−トリル、ナフチル、ｍ−クロロフェニル、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニルが挙げられる。
【００６９】
Ｒ51およびＲ52で表されるヘテロ環基は、５又は６員の置換もしくは無置換の芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基が好ましく、それらはさらに縮環していてもよい。更に好ましくは、炭素数３〜３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。ヘテロ環基の例には、置換位置を限定しないで例示（すなわち、環として例示）すると、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、ピリミジン、トリアジン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、シンノリン、フタラジン、キノキサリン、ピロール、インドール、フラン、ベンゾフラン、チオフェン、ベンゾチオフェン、ピラゾール、イミダゾール、ベンズイミダゾール、トリアゾール、オキサゾール、ベンズオキサゾール、チアゾール、ベンゾチアゾール、イソチアゾール、ベンズイソチアゾール、チアジアゾール、イソオキサゾール、ベンズイソオキサゾール、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、イミダゾリジン、チアゾリンなどが挙げられる。
【００７０】
Ｒ51およびＲ52で表されるアルコキシ基は、置換もしくは無置換のアルコキシ基が含まれる。置換もしくは無置換のアルコキシ基としては、炭素原子数が１〜３０のアルコキシ基が好ましい。アルコキシ基の例には、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｎ−オクチルオキシ、メトキシエトキシ、ヒドロキシエトキシおよび３−カルボキシプロポキシなどを挙げることができる。
【００７１】
Ｒ51およびＲ52で表されるアリールオキシ基は、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基が好ましい。アリールオキシ基の例には、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、２−テトラデカノイルアミノフェノキシなどを挙げることができる。
【００７２】
Ｒ51およびＲ52で表されるホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基が好ましい。アシルオキシ基の例には、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシなどを挙げることができる。
【００７３】
Ｒ51およびＲ52で表されるカルバモイルオキシ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基が好ましい。カルバモイルオキシ基の例には、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシなどを挙げることができる。
【００７４】
Ｒ51およびＲ52で表されるアルコキシカルボニルオキシ基は、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基が好ましい。アルコキシカルボニルオキシ基の例には、メトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ、ｎ−オクチルカルボニルオキシなどを挙げることができる。
【００７５】
Ｒ51およびＲ52で表されるアリールオキシカルボニルオキシ基は、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基が好ましい。アリールオキシカルボニルオキシ基の例には、フェノキシカルボニルオキシ、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシなどを挙げることができる。
【００７６】
Ｒ51およびＲ52で表されるアミノ基はアルキアミノ基、アリールアミノ基を含む。アミノ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールアミノ基が好ましい。アミノ基の例には、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、Ｎ-メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ、ヒドロキシエチルアミノ、カルボキシエチルアミノ、スルフォエチルアミノ、３，５−ジカルボキシアニリノなどを挙げることができる。
【００７７】
Ｒ51およびＲ52で表されるアシルアミノ基は、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基が好ましい。アシルアミノ基の例には、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノなどを挙げることができる。
【００７８】
Ｒ51およびＲ52で表されるアミノカルボニルアミノ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ基が好ましい。アミノカルボニルアミノ基の例には、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノなどを挙げることができる。
【００７９】
Ｒ51およびＲ52で表されるアルコキシカルボニルアミノ基は、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基が好ましい。アルコキシカルボニルアミノ基の例には、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノなどを挙げることができる。
【００８０】
Ｒ51およびＲ52で表されるアリールオキシカルボニルアミノ基は、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基が好ましい。アリールオキシカルボニルアミノ基の例には、フェノキシカルボニルアミノ、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノなどを挙げることができる。
【００８１】
Ｒ51およびＲ52で表されるスルファモイルアミノ基は、炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基が好ましい。スルファモイルアミノ基の例には、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノなどを挙げることができる。
【００８２】
Ｒ51およびＲ52で表されるアルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ基が好ましい。アルキルスルホニルアミノ基およびアリールスルホニルアミノ基の例には、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノなどを挙げることができる。
【００８３】
Ｒ51およびＲ52で表されるアルキルチオ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基が好ましい。アルキルチオ基の例には、メチルチオ、エチルチオ、ｎ−ヘキサデシルチオなどを挙げることができる。
【００８４】
Ｒ51およびＲ52で表されるスルファモイル基は、炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイル基が好ましい。スルファモイル基の例には、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−アセチルスルファモイル、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル）などを挙げることができる。
【００８５】
Ｒ51およびＲ52で表されるアルキルもしくはアリールスルフィニル基は、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルフィニル基、６〜３０の置換又は無置換のアリールスルフィニル基が好ましい。アルキルもしくはアリールスルフィニル基の例には、例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、ｐ−メチルフェニルスルフィニルなどを挙げることができる。
【００８６】
Ｒ51およびＲ52で表されるアルキルもしくはアリールスルホニル基は、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルホニル基、６〜３０の置換又は無置換のアリールスルホニル基が好ましい。アルキルもしくはアリールスルホニル基の例には、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−トルエンスルホニルなどを挙げることができる。
【００８７】
Ｒ51およびＲ52で表されるアシル基は、ホルミル基、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数４〜３０の置換もしくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基が好ましい。アシル基の例には、例えば、アセチル、ピバロイル、２−クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル、２−ピリジルカルボニル、２−フリルカルボニルなどを挙げることができる。
【００８８】
Ｒ51およびＲ52で表されるアリールオキシカルボニル基は、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基が好ましい。アリールオキシカルボニル基の例には、フェノキシカルボニル、ｏ−クロロフェノキシカルボニル、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニルなどを挙げることができる。
【００８９】
Ｒ51およびＲ52で表されるアルコキシカルボニル基は、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基が好ましい。アルコキシカルボニル基の例には、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルなどを挙げることができる。
【００９０】
Ｒ51およびＲ52で表されるカルバモイル基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイル基が好ましい。カルバモイル基の例には、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイルなどを挙げることができる。
【００９１】
Ｒ51およびＲ52で表されるアリールもしくはヘテロ環アゾ基は、例えば、フェニルアゾ、４−メトキシフェニルアゾ、４−ピバロイルアミノフェニルアゾ、２−ヒドロキシ−４−プロパノイルフェニルアゾなどを挙げることができる。
【００９２】
Ｒ51およびＲ52で表されるイミド基は、例えば、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミドなどを挙げることができる。
【００９３】
Ｒ51およびＲ52は、好ましくは各々独立水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロ環基であり、より好ましくは水素原子、置換または無置換のアルキル基である。
【００９４】
Ｒ51は、好ましくは、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロ環基であり、より好ましくは水素原子、置換または無置換のアルキル基であり、更に好ましくは水素原子、炭素数１〜６のアルキル基である。最も好ましくは炭素数１〜６のアルキル基である。
【００９５】
Ｒ52の例には、好ましくは、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロ環基であり、より好ましくは水素原子、置換または無置換のアルキル基であり、より好ましくは炭素数６〜１０のアリールオキシカルボニル基、炭素数１〜６のアルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のカルバモイル基であり、最も好ましくは置換カルバモイル基である。
【００９６】
一般式（７）で表される色素の好ましい置換基の組み合わせについては種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である化合物がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である化合物が最も好ましい。
【００９７】
一般式（８）で表される色素について、詳細に説明する。
【００９８】
【化１２】
【００９９】
一般式（８）中、Ｒ61は置換基を表す。Ｒ62、Ｒ63およびＲ64は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ61〜Ｒ64における置換基としては前述したＲ51およびＲ52で説明したものが挙げられる。ｎ１０は０〜４の整数を表す。
【０１００】
Ｒ61の例には、好ましくは、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロ環基であり、より好ましくは水素原子、置換または無置換のアルキル基であり、より好ましくは水素原子、炭素数１〜６のアルキル基である。最も好ましくは炭素数１〜６のアルキル基である。
Ｒ62、Ｒ63の例には、好ましくは水素原子、または置換もしくは無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロ環基である。より好ましくは水素原子または置換もしくは無置換のアルキル基であり、より好ましくは水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基である。
Ｒ64の例には、好ましくは各々独立に、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロ環基であり、より好ましくは水素原子、置換または無置換のアルキル基であり、好ましくは水素原子、炭素数１〜６のアルキル基であり、より好ましくは水素原子である。
【０１０１】
一般式（８）で表される色素の好ましい置換基の組み合わせについては種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である化合物がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である化合物が最も好ましい。
【０１０２】
一般式（９）または（１０）で表される色素について、詳細に説明する。
【０１０３】
【化１３】
【０１０４】
一般式（９）中、Ｒ71およびＲ73は各々独立に水素原子または置換基を表し、Ｒ72およびＲ74は各々独立に置換基を表す。ｎ１１は０〜４の整数を表す。ｎ１２は０〜２の整数を表す。Ｒ71〜Ｒ74における置換基としては、前述したＲ51、Ｒ52で説明したものが挙げられる。
【０１０５】
Ｒ71、Ｒ73の例としては、一般式（７）のＲ51で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基であり、さらに好ましくは、水素原子である。
【０１０６】
Ｒ72、Ｒ74の例としては、一般式（７）のＲ51で述べたような置換基が挙げられる。好ましくはアルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシであり、より好ましくはアルコキシ基、アリールオキシ基である。各基は置換基を有していてもよい。
【０１０７】
【化１４】
【０１０８】
一般式（１０）中、Ｒ81は水素原子または置換基を表す。Ｒ82、Ｒ84は各々独立に置換基を表す。ｎ１３は０〜４の整数を表し、ｎ１４は０〜２の整数を表す。Ｒ81、Ｒ82、Ｒ84における置換基としては、前述したＲ51、Ｒ52で説明したものが挙げられる。
【０１０９】
Ｒ81の例としては、Ｒ51、Ｒ52で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基であり、さらに好ましくは、水素原子である。
【０１１０】
Ｒ82、Ｒ84の例としては、一般式（７）のＲ51で述べたような置換基が挙げられる。好ましくはアルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシであり、より好ましくはアルコキシ基、アリールオキシ基である。各基は置換基を有していてもよい。
【０１１１】
一般式（９）または（１０）で表される色素の好ましい置換基の組み合わせについては種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である化合物がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である化合物が最も好ましい。
【０１１２】
一般式（１１）で表される色素について、詳細に説明する。
【０１１３】
【化１５】
【０１１４】
一般式（１１）中、Ｒ91は水素原子または置換基を表す。Ｒ93およびＲ94は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ92は置換基を表す。ｎ１５は０〜２の整数を表す。Ｚ1、Ｚ2は、どちら一方が＝Ｎ−であり、他方が＝Ｃ(Ｒ95)−を表す。Ｚ3、Ｚ4は各々独立に＝Ｎ−または＝Ｃ(Ｒ95)−を表す。Ｒ95は水素原子または置換基を表す。Ｒ91〜Ｒ95における置換基としては、前述したＲ51、Ｒ52で説明したものが挙げられる。
【０１１５】
Ｒ91は、好ましくは、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロ環基、置換もしくは無置換のアミノであり、より好ましくは置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基である。
【０１１６】
Ｒ92の例としては、一般式（７）のＲ51で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは、水素原子、置換または無置換のアルキル基である。
【０１１７】
Ｒ93、Ｒ94の例としては、Ｒ51、Ｒ52で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基であり、さらに好ましくは置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基である。
【０１１８】
Ｒ95の例としては、一般式（７）のＲ51で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは、水素原子、置換または無置換のアルキル基である。
【０１１９】
一般式（１１）で表される色素の好ましい置換基の組み合わせについては種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である化合物がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である化合物が最も好ましい。
【０１２０】
一般式（１２）または（１３）で表される色素について、詳細に説明する。
【０１２１】
【化１６】
【０１２２】
Ｒ101およびＲ102は各々独立に置換基を表し、Ｒ103およびＲ104は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ101〜Ｒ104における置換基としては、前述したＲ51、Ｒ52で説明したものが挙げられる。ｎ１６およびｎ１７は各々独立に０〜４の整数を表す。
【０１２３】
Ｒ101の例としては、一般式（７）のＲ51で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくはアミノ基（アルキルアミノ基、アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基であり、さらに好ましくはアシルアミノ基である。
Ｒ102の例としては、一般式（７）のＲ51で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは、置換または無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基である。
Ｒ103、Ｒ104の例としては、Ｒ51、Ｒ52で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは置換もしくは無置換のアルキル基、または置換もしくは無置換のアリール基であり、さらに好ましくは置換もしくは無置換のアルキル基である。
【０１２４】
【化１７】
【０１２５】
一般式（１３）中、Ｒ111およびＲ113は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ112およびＲ114は各々独立に置換基を表す。ｎ１８は、０〜４の整数を表し、ｎ１９は、０〜２の整数を表す。Ｒ111〜Ｒ114における置換基としては、前述したＲ51、Ｒ52で説明したものが挙げられる。
【０１２６】
Ｒ111、Ｒ113の例としては、Ｒ51、Ｒ52で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基である。
【０１２７】
Ｒ112、Ｒ114の例としては、水素原子や一般式（７）のＲ51で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは水素原子である。
【０１２８】
一般式（１２）または（１３）で表される色素の好ましい置換基の組み合わせについては種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である化合物がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である化合物が最も好ましい。
【０１２９】
以下に、一般式（７）〜（１３）で表される色素の具体例を以下に示すが本発明に用いられる色素は、下記の例に限定されるものではない。
【０１３０】
【化１８】
【０１３１】
【化１９】
【０１３２】
【化２０】
【０１３３】
【化２１】
【０１３４】
【化２２】
【０１３５】
【化２３】
【０１３６】
これらの各々の色素は熱転写層（色素層）中にそれぞれ１０〜９０質量％含有されることが好ましく、２０〜８０質量％含有されることがより好ましい。
また熱転写層の塗布量は、０．１〜１．０ｇ／ｍ2（固形分換算、以下本発明における塗布量は特に断りのない限り、固形分換算の数値である。）が好ましく、更に好ましくは０．１５〜０．６０ｇ／ｍ2である。熱転写層の膜厚は０．１〜２．０μｍであることが好ましく、更に好ましくは０．１〜１．０μｍである。
【０１３７】
熱転写層のバインダーとしては、好ましいものを例示すれば、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、エチルヒドロキシセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、酢酸セルロース、酪酸セルロース等のセルロース系樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド等のビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、フェノキシ樹脂等が挙げられる。これらの中で、耐熱性、色素の移行性等の観点から、ブチラール系樹脂、ポリエステル系樹脂等が特に好ましい。
より好ましいポリエステル樹脂は、酸成分の２分の１以上がテレフタル酸であり、更に好ましくは酸成分の３分の２以上がテレフタル酸であり、最も好ましくは酸成分の４分の３以上がテレフタル酸である。これにより、感熱転写受像シートとの融着を防ぐことができる。本発明のポリエステルは特開平９−２９５３８９号公報に記載の方法などにより得ることができる。
【０１３８】
（耐熱滑性層）
本発明の熱転写シートは基材の一方の面に、サーマルヘッドの熱によるスティッキングや印字しわ等の悪影響を防止するため、耐熱滑性層を設ける。該耐熱滑性層にはバインダーとしてポリマーを含有することが好ましい。該ポリマーは好ましくはポリエステル系樹脂、ポリアクリル酸エステル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、スチレンアクリレート系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルクロリド樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアセトアセタール樹脂等のポリビニルアセタール樹脂等の熱可塑性樹脂或はこれらのシリコーン変性物等が用いられ、これらの中で特に好ましい樹脂は、ポリビニルブチラール樹脂及びポリアセトアセタール樹脂等のポリビニルアセタール樹脂或はこれらのシリコーン変性物の如くイソシアネート基と反応する水酸基を有する樹脂である。
【０１３９】
本発明の好ましい実施形態では、耐熱滑性層に耐熱性、塗膜性及び基材との密着性を付与させる目的でイソシアネート基を２個以上持った化合物（２個以上のイソシアネート基を有する化合物）を架橋剤として併用することが好ましい。これらのイソシアネートとしては従来公知の塗料、接着剤、ポリウレタンの合成等に使用されているいずれのイソシアネート化合物でもよい。これらのイソシアネート化合物は、例えば、タケネート（武田薬品製）、バーノック（大日本インキ化学製）、コロネート（日本ポリウレタン製）、ヂュラネート（旭化成工業製）、ディスモジュール（バイエル製）等の商品名で入手して本発明で使用することができる。
【０１４０】
該イソシアネート化合物の添加量は、耐熱滑性層を構成するポリマーバインダー（樹脂バインダー）１００質量部に対し５〜２００質量部の範囲が適当である。ＮＣＯ／ＯＨの比では０．８〜２．０程度の範囲が好ましい。イソシアネート化合物の含有量が少なすぎると架橋密度が低く耐熱性が不十分で、一方、多すぎると形成される塗膜の収縮が制御できない、硬化時間が長くなる、未反応のＮＣＯ基が耐熱滑性層中に残存し空気中の水分と反応する等マイナスに働く。
【０１４１】
これらの樹脂からなる耐熱滑性層に添加あるいは上塗りする滑り性付加剤としては、リン酸エステル、シリコーンオイル、グラファイトパウダー、シリコーン系グラフトポリマー、アクリロシロキサン、アリールシロキサン等のシリコーン重合体が挙げられるが、好ましくは、ポリオール、例えば、ポリアルコール高分子化合物とポリイソシアネート化合物及びリン酸エステル系化合物からなる層であり、さらに充填剤を添加することがより好ましい。
【０１４２】
また、本発明では上記の材料から耐熱滑性層を形成するに当り、耐熱滑性層のスリップ性を向上させる目的でワックス、高級脂肪酸アミド、エステル、界面活性剤等の熱離型剤や滑剤或いはフッ素樹脂のような有機粉末、シリカ、クレー、タルク、炭酸カルシウム等の無機粒子を包含させることができる。
【０１４３】
耐熱滑性層を形成するには、上記の如き材料をアセトン、メチルエチルケトン、トルエン、キシレン等の適当な溶剤中に溶解又は分散させて塗工液を調製し、この塗工液をグラビアコーター、ロールコーター、ワイヤーバー等の慣用の塗工手段により塗工及び乾燥し、次いで加熱処理によって架橋処理することによって形成される。その塗工量即ち耐熱滑性層の厚みも重要であって、本発明では固形分基準で、好ましくは２．０ｇ／ｍ２以下、より好ましくは０．１〜２．０ｇ／ｍ２、さらに好ましくは０．１〜１．０ｇ／ｍ２の厚みで充分な性能を有する耐熱滑性層を形成することができる。
【０１４４】
本発明の画像形成方法は、熱転写シートの熱転写層と感熱転写受像シートの受容層とが接するよう重ねあわせ、サーマルヘッドから画像信号に応じた熱エネルギーを付与することにより画像を形成する。
熱転写時の熱エネルギーの付与手段は、従来公知の付与手段のいずれも使用することができ、例えば、サーマルプリンター（例えば、日立製作所製、商品名、ビデオプリンターＶＹ−１００）等の記録装置によって記録時間をコントロールすることにより、５〜１００ｍＪ／ｍｍ2程度の熱エネルギーを付与することによって所期の目的を十分に達成することができる。画像形成方法は例えば特開２００５−８８５４５号公報などに記載された方法と同様にして行うことができる。
本発明では、消費者にプリント物を提供するまでの時間を短縮するという観点から、１枚のプリント時間は８秒未満が好ましく、３〜８秒がより好ましい。
本発明は、感熱転写記録方式を利用したプリンター、複写機などに利用することができる。
一方、画像形成時の感熱転写受像シートの搬送速度においては、本発明では、好ましくは１２５ｍｍ／秒以上、より好ましくは１２５ｍｍ／秒以上２００ｍｍ／秒以下、さらに好ましくは１２５ｍｍ／秒以上１９０ｍｍ／秒以下、最も好ましくは１２５ｍｍ／秒以上１７５ｍｍ/秒以下である場合に、極めて効果的に本発明の効果を奏する。なお、感熱転写受像シートの搬送速度とは、画像形成時の感熱転写受像シートの搬送速度とは、感熱転写受像シートがサーマルヘッドの下を往復するときの速度である。
【０１４５】
熱昇華記録または熱転写記録を行なうように構成されたサーマルプリンターにおいて、具体的に説明する。
例えば、図１では、搬送ローラー２８により矢印方向に搬送して使用済みの熱転写シートをリボンカートリッジ内で巻き取りつつサーマルヘッド１０の発熱部１１への通電による感熱転写記録を行なうように構成されている。熱転写シートの熱転写層には、各色材層イエロー、マゼンタ、シアンが各々感熱転写受像シートの記録面の面積に対応して順次形成されている関係上、搬送ローラー２８の回転方向の切り替えにより、感熱転写受像シートはサーマルヘッド１０の下を往復し、各色が表面に施されることとなる。画像形成時の感熱転写受像シートの搬送速度とは、感熱転写受像シートが発熱部１１の下を往復するときの速度である。
【０１４６】
また、本発明の感熱転写受像シートは、支持体を適宜選択することにより、熱転写記録可能な枚葉またはロール状の感熱転写受像シート、カード類、透過型原稿作成用シート等の各種用途に適用することもできる。
【０１４７】
以下、本発明を実施例に基づき更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例中で、部または％とあるのは、特に断りのない限り質量基準である。
【実施例】
【０１４８】
（比較例１０１）
（インクシート１０１の作製）
厚さ６．０μｍのポリエステルフィルム（ルミラー、商品名、（株）東レ製）を基材フィルムとして用いた。その表面側に下記組成のイエロー、マゼンタ、シアン組成物をそれぞれ単色に塗布（乾膜時の塗布量１ｇ／ｍ2）した。
【０１４９】
＜染料層組成液＞
イエローインキ
色素（７）−１ ２．５部
色素（８）−１ ２．０部
ポリエステル１ ４．５部
メチルエチルケトン／トルエン （１／１） ９０部
マゼンタインキ
色素（９）−１ １．０部
色素（１０）−１ １．０部
色素（１１）−１ ２．５部
ポリエステル１ ４．５部
メチルエチルケトン／トルエン （１／１） ９０部
シアンインキ
色素（１２）−１ ２．０部
色素（１３）−１ ２．５部
ポリエステル１ ４．５部
メチルエチルケトン／トルエン （１／１） ９０部
【０１５０】
上記ポリエステル１は下記の組成のものである。
ポリエステル１
下記の酸成分およびジオール成分を下記モル比で重合させることで得られる数平均分子量２０００のポリエステル。
イソフタル酸 ５
テレフタル酸 ４５
エチレングリコール ５
ジエチレングリコール ４５
【０１５１】
（比較例１０２）
（インクシート１０２の作製）
厚さ６．０μｍのポリエステルフィルム（ルミラー、商品名、（株）東レ製）を基材フィルムとして用いた。そのフィルム背面側に耐熱滑性層（乾膜時の膜厚１．０μｍ）を形成し、それ以外は試料１０１と同様に作製した。
【０１５２】
＜耐熱滑性層組成液１＞
ポリビニルブチラール樹脂（エスレックＢＸ−１ 積水化学工業（株）製 １３．６部
リン酸エステル（プライサーフＡ２０８Ｓ 第一工業製薬（株）製） ０．８部
メチルエチルケトン ４２．９部
トルエン ４２．９部
【０１５３】
（本発明１０３）
（インクシート１０３の作製）
厚さ６．０μｍのポリエステルフィルム（ルミラー、商品名、（株）東レ製）を基材フィルムとして用いた。そのフィルム背面側に耐熱滑性層（乾膜時の膜厚１．０μｍ）を形成し、それ以外は試料１０１と同様に作製した。
【０１５４】
<耐熱滑性層組成液２>
ポリビニルブチラール樹脂（エスレックＢＸ−１ 積水化学工業（株）製） １３．６部
ポリイソシアネート硬化剤（タケネートＤ２１８ 武田薬品工業（株）製） ０．６部
リン酸エステル（プライサーフＡ２０８Ｓ 第一工業製薬（株）製） ０．８部
メチルエチルケトン ４２．５部
トルエン ４２．５部
【０１５５】
（受像シートの作成）
（比較例２０１）
（受像シート２０１の作製）
支持体として合成紙（ユポＦＰＧ２００、厚さ２００μｍ、商品名、ユポコーポレーション社製）を用い、この一方の面に下記組成の受容層を塗布した。受容層４．０ｇ／ｍ２となるように塗布を行い、乾燥は各層１１０℃で、３０秒間行った。
【０１５６】
受容層用塗工液１
（組成）
ポリブチルアクリレート（Ａｌｄｒｉｃｈ社製） ３０部
ポリメチルメタクリレート（Ａｌｄｒｉｃｈ社製） ７０部
アミノ変性シリコーン（信越化学工業（株）製 Ｘ−２２−３４３） ３部
エポキシ変性シリコーン（信越化学工業（株）製 ＫＦ−３９３） ３部
トルエン／メチルエチルケトン（１部／１部） ５００部
（塗布量） ２０ｍｌ／ｍ２
【０１５７】
（本発明２０２）
（受像シート２０２の作製）
受容層の塗工液を以下のものに変えた以外は、受像シート２０１と同様とした。
受容層用塗工液２
（組成）
ポリエステル樹脂（東洋紡（株）製 バイロン２００） １００部
アミノ変性シリコーン（信越化学工業（株）製 Ｘ−２２−３４３） ３部
エポキシ変性シリコーン（信越化学工業（株）製 ＫＦ−３９３） ３部
トルエン／メチルエチルケトン（１部／１部） ５００部
【０１５８】
（本発明２０３）
（受像シート２０３の作製）
受容層の塗工液を以下のものに変えた以外は、受像シート２０１と同様とした。
受容層用塗工液３
（組成）
ポリカーボネート樹脂（General Electric社製 ＬＥＸＡＮ−１４１） ３０部
ポリエステル樹脂（東洋紡（株）製 バイロン２００） ７０部
アミノ変性シリコーン（信越化学工業（株）製 Ｘ−２２−３４３） ３部
エポキシ変性シリコーン（信越化学工業（株）製 ＫＦ−３９３） ３部
塩化メチレン ５００部
【０１５９】
（画像形成）
上記インクシートと、上記受像シートを用いて、熱転写型プリンターＡ（ＤＰＢ１５００ 日本電産コパル（株）製）又は熱転写型プリンターＢ（特開平５−２７８２４７号公報の図６に記載のプリンター）により１５２ｍｍ×１０２ｍｍサイズ画像の出力を行った。なお、プリンターＡの搬送速度は７３ｍｍ／秒であった。熱転写型プリンターＢは、画像形成時の感熱転写受像シートの搬送速度を１２５ｍｍ／秒に設定してプリントを行った。この際、熱転写型プリンターＡでプリントした時と同等の濃度階調が得られるようサーマルヘッドの発熱量を調節した。黒ベタ画像を連続１０枚出力し、出力画像に融着やインク剥がれの有無を以下のランクで評価した。
５ 融着やインク剥がれなどが見られずほとんどムラがない
４ 若干のムラが見られるが、融着やインク剥がれは見られず実用上問題ない
３ 融着やインク剥がれは見られないが、明らかなムラが見られ、実用上問題である
２ 融着やインク剥がれがみられるが受像シートはプリンターから排出される
１ インクシートと受像シートが融着し、プリンターから排出されない
【０１６０】
また、皺の発生は、以下のランクで評価した。
○ 皺の発生が見られない
△ 若干の皺の発生が見られる
× 皺の発生が多く、実用上問題がある
【０１６１】
（耐光性試験）
上記画像試料に、３７０ｎｍでの光透過率５０％の紫外線カットフィルターおよび熱線カットフィルターを介してキセノン光（１０万ｌｘキセノン光照射器）を１４日間照射した。シアン初期濃度１．０での曝露後の残存率を算出し、評価した。なお、濃度は分光光度計（グレタグマクベス（株）社 ＳｐｅｃｔｒｏＥｙｅ）を用いて反射濃度を求めた。
残存率（％）＝［照射後の光学濃度／照射前の光学濃度］×１００（％）
◎：平均残存率が８０％以上
○：平均残存率が７０％以上８０％未満
△：平均残存率が６０％以上７０％未満
×：平均残存率が６０％未満
【０１６２】
【表１】
【０１６３】
上記表１から、本発明のインクシートと受像シートの組み合わせが、融着等、耐光性、皺の点で優れており、しかも搬送速度が速い場合にこの効果が顕著であることがわかる。
【図面の簡単な説明】
【０１６４】
【図１】本発明の感熱転写記録に用いられる熱記録装置の説明図である。
【符号の説明】
【０１６５】
１０ サーマルヘッド
１１ 発熱素子アレイ
１４ 記録紙（感熱転写受像シート）
１５ インクフイルム（感熱転写シート）
２５ プラテンドラム
２６ クランプ部材
２７ パルスモーター
２８,２９ ガイドローラ
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感熱転写方式を用いた画像形成方法に関し、特に、高速プリントを行った場合も、サーマルヘッドとインクシートとの融着およびインクシートと受像シートとの融着がなく、ムラ、皺などの故障の無い良好な画質であり、かつ画像堅牢性の優れたプリントが得られる画像形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、種々の熱転写記録方法が知られているが、中でも染料拡散転写記録方式は、銀塩写真の画質に最も近いカラーハードコピーが作製できるプロセスとして注目されている（例えば、非特許文献１及び２参照）。しかも、銀塩写真に比べて、ドライであること、デジタルデータから直接可視像化できる、複製作りが簡単であるなどの利点を持っている。
【０００３】
この染料拡散転写記録方式では、色素を含有する感熱転写シート（以下、インクシートともいう。）と感熱転写受像シート（以下、受像シートともいう。）とを重ね合わせ、次いで、電気信号によって発熱が制御されるサーマルヘッドによってインクシートを加熱することでインクシート中の色素を受像シートに転写して画像情報の記録を行うものであり、シアン、マゼンタ、イエローの３色を重ねて記録することで色の濃淡に連続的な変化を有するカラー画像を転写記録することができる。
【０００４】
この方式の新たな用途として開拓された利用分野の一つとして、例えばＰＯＳ（Ｐｏｉｎｔ Ｏｆ Ｓａｌｅｓ）システム用の熱転写記録ラベル又は熱転写記録タグが挙げられる。従来の食品用ラベル用途や衣料タグ用途では長期間過酷な条件下で使用されることは比較的稀であったが、配送用ラベルや航空バゲッジタグ等の流通管理用途で使用される機会が増加しており、バーコード等の精密記録が必要で、高画質であることが要望されている。また、記録体が過酷な条件に曝されることがあり、熱転写記録用受像紙の紙力強度の改良が要望されている。
これに対して、例えば特許文献１には、支持体としてクレープ紙またはクルパック紙を用いることが開示されている。しかし、クレープ紙やクルラップ紙を支持体として用いた場合、塗布から乾燥までの間に紙中に水分が吸収されてしまい、しかも乾燥後も紙中に水分が残存して、受容層の経時による鮮鋭性の低下を引き起こすという問題があった。
【特許文献１】特開平９−２２０８６３号公報
【非特許文献１】「情報記録（ハードコピー）とその材料の新展開」，(株)東レリサーチセンター発行，１９９３年，ｐ．２４１−２８５
【非特許文献２】「プリンター材料の開発」，(株)シーエムシー発行，１９９５年，ｐ．１８０
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
熱転写シートによりサーマルヘッドで画像形成を行う際に高速で処理を行うと、サーマルヘッドが高温に加熱されている為、基材フイルムがポリエステルフイルム等の熱可塑性フイルムである場合には、サーマルヘッドがインクシートの基材フイルムに融着し、サーマルヘッドの良好な走行性が阻害され、熱転写シートに破損、皺等が発生するという問題がある。また、画像形成を行う際に高速で処理を行なうとサーマルヘッドの加熱時間が不十分で、転写した色素が受容層中に十分に拡散せず、受容層表層付近に存在し、画像光堅牢性が悪化するという問題がある。
従って、本発明は、高速プリントを行った場合も、サーマルヘッドとインクシートとの融着およびインクシートと受像シートとの融着がなく、ムラ、皺などの故障の無い良好な画質であり、かつ画像堅牢性の優れたプリントが得られる画像形成方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、高速で処理してもサーマルヘッドとインクシートの融着およびインクシートと受像シートの融着が発生することなく、プリントの高速化が達成できることを見い出した。また、このように高速で処理する際にも、ポリエステル及び／又はポリカーボネート系ポリマーを含有する受像シートであれば、画像堅牢性の優れた画像を形成することができることがわかった。本発明はこのような知見に基づきなされるに至ったものである。
【０００７】
上記課題は下記の手段により達成された。
（１）基材フィルムの一方の面に熱転写可能な色材を含有する熱転写層を有し、他方の面に耐熱滑性層が形成されている熱転写シートと、
支持体上に、ポリエステルおよび／またはポリカーボネート系ポリマーを含む少なくとも１層の受容層を有する感熱転写受像シートとを、
該熱転写シートの熱転写層と該感熱転写受像シートの受容層とが接するよう重ねあわせ、サーマルヘッドから画像信号に応じた熱エネルギーを付与することにより画像を形成することを特徴とする画像形成方法。
（２）前記耐熱滑性層が、２個以上のイソシアネート基を有する化合物とポリマーとの反応で得られたポリマーを含有することを特徴とする（１）に記載の画像形成方法。
（３）前記耐熱滑性層の厚みが０．１〜２．０μｍであることを特徴とする（１）または（２）に記載の画像形成方法。
（４）前記熱転写シートに、下記一般式（７）又は（８）で表される少なくとも１種の色素を含むことを特徴とする（１）〜（３）のいずれか１項に記載の画像形成方法。
【０００８】
【化１】
【０００９】
（一般式（７）中、Ｒ51およびＲ52は各々独立に置換基を表す。ｎ８は０〜５の整数を表す。ｎ９は０〜４の整数を表す。）
【００１０】
【化２】
【００１１】
（一般式（８）中、Ｒ61は置換基を表し、Ｒ62、Ｒ63およびＲ64は各々独立に水素原子または置換基を表す。ｎ１０は０〜４の整数を表す。）
（５）前記熱転写シートに、下記一般式（９）、（１０）又は（１１）のいずれかで表される少なくとも１種の色素を含むことを特徴とする（１）〜（４）のいずれか１項に記載の画像形成方法。
【００１２】
【化３】
【００１３】
（一般式（９）中、Ｒ71およびＲ73は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ72およびＲ74は各々独立に置換基を表す。ｎ１１は０〜４の整数を表す。ｎ１２は０〜２の整数を表す。）
【００１４】
【化４】
【００１５】
（一般式（１０）中、Ｒ81は水素原子または置換基を表す。Ｒ82およびＲ84は各々独立に置換基を表す。ｎ１３は０〜４の整数を表す。ｎ１４は０〜２の整数を表す。）
【００１６】
【化５】
【００１７】
（一般式（１１）中、Ｒ91は水素原子または置換基を表す。Ｒ92は置換基を表す。Ｒ93およびＲ94は各々独立に水素原子または置換基を表す。ｎ１５は０〜２の整数を表す。Ｚ1およびＺ2は、どちら一方が＝Ｎ−であり、他方が＝Ｃ(Ｒ95)−を表す。Ｚ3およびＺ4は各々独立に＝Ｎ−または＝Ｃ(Ｒ95)−を表す。ここで、Ｒ95は水素原子または置換基を表す。）
（６）前記感熱転写シートに、下記一般式（１２）又は（１３）で表される少なくとも１種の色素を含むことを特徴とする（１）〜（５）のいずれか１項に記載の画像形成方法。
【００１８】
【化６】
【００１９】
（一般式（１２）中、Ｒ101およびＲ102は各々独立に置換基を表す。Ｒ103およびＲ104は各々独立に水素原子または置換基を表す。ｎ１６およびｎ１７は各々独立に０〜４の整数を表す。）
【００２０】
【化７】
【００２１】
（一般式（１３）中、Ｒ111およびＲ113は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ112およびＲ114は各々独立に置換基を表す。ｎ１８は０〜４の整数を表す。ｎ１９は０〜２の整数を表す。）
（７）画像形成時の前記感熱転写受像シートの搬送速度が１２５ｍｍ／秒以上であることを特徴とする（１）〜（６）のいずれか１項に記載の画像形成方法。
【発明の効果】
【００２２】
本発明により、高速で処理してもサーマルヘッドとインクシートの融着およびインクシートと受像シートの融着が発生することなく、ムラ、皺などの故障の無い良好な画質であり、かつ画像堅牢性の優れたプリントを提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の感熱転写受像シートは、基材上に染料受容層（受容層）が形成されている。受容層と支持体との間には下地層が形成されていることが好ましく、例えば白地調整層、帯電調節層、接着層、プライマー層が形成される。また、下地層と基材との間には断熱層が形成されていることが好ましい。さらに、基材の裏面側にはカール調整層、筆記層、帯電調整層が形成されていることが好ましい。各層の塗布は、ロールコート、バーコート、グラビアコート、グラビアリバースコート等の一般的な方法で行われる。
【００２４】
[受容層ポリマー]
本発明の受容層に使用される熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリ塩化ビニル・ポリ塩化ビニリデン等のハロゲン化ポリマー・ポリ酢酸ビニル・エチレン酢酸ビニル共重合体・塩化ビニル酢酸ビニル共重合体・ポリアクリルエステル・ポリスチレン・ポリスチレンアクリル等のビニル系樹脂、ポリビニルホルマール・ポリビニルブチラール・ポリビニルアセタール等のアセタール系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリプチレンテレフタレート、ポリカプロラクトン（プラクセルＨ−５、ダイセル化学（株）製）等のポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、特開平０４−２９６５９５号公報や特開２００２−２６４５４３号公報に記載セルロース系樹脂やセルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５５１−０.２、ＣＡＢ３２１−０.１、以上、イーストマンケミカル製）等のセルロース系樹脂、ポリプロピレン等のポリオレフィンン系樹脂、尿素樹脂・メラミン樹脂・ベンゾグアナミン樹脂等のポリアミド系樹脂、等が挙げられる。これらの樹脂は、相溶する範囲内で任意にブレンドし、用いることもできる。特開昭57-169370号、同57-207250号、同60-25793号公報等にも受容層を形成した樹脂が開示されている。上記ポリマー中でもポリカーボネート、ポリエステル、ポリウレタン、ポリ塩化ビニルおよびその共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、ポリカプロラクトンまたはこれらの混合物を含有することが好ましく、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリ塩化ビニルおよびその共重合体またはこれらの混合物がさらに好ましく、ポリカーボネート、ポリエステルまたはこれらの混合物が特に好ましい。
本発明は、受容層にポリエステルおよび/またはポリカーボネート系ポリマーを含有するものである。
これらのポリマーは単独で使用しても、混合物として用いてもよい。
【００２５】
[ポリエステル系樹脂]
本発明の受容層に用いるポリエステル系樹脂について、さらに詳しく説明する。
ポリエステルはジカルボン酸成分（その誘導体含む）とジオール成分（その誘導体を含む）との重縮合により得られるものである。ポリエステル樹脂は、芳香環および/または脂環を含有する。脂環式ポリエステルの技術については、特開平５−２３８１６７号公報に記載の技術が染料取り込み能と像の安定性の点で有効である。
【００２６】
ジカルボン酸成分としては、イソフタル酸、トリメリット酸、テレフタル酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、それらの２種以上の混合物から選ばれる。好ましくは、イソフタル酸、トリメリット酸、テレフタル酸、またはそれらの２種以上の混合物から選ばれる。ジカルボン酸成分として脂環族を有するものを含有させることは、耐光性向上の観点からより望ましい。より好ましくは、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸およびイソフタル酸を使用する。ジカルボン酸成分は、イソフタル酸５０〜１００ｍｏｌ％、トリメリット酸０〜１ｍｏｌ％、テレフタル酸０〜５０ｍｏｌ％、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸０〜１５ｍｏｌ％の割合で、合計１００ｍｏｌ％となるように使用する。
【００２７】
ジオール成分は、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、トリシクロデカンジメタノール、１，４−ブタンジオール、ビスフェノール、またはそれらの２種以上の混合物から選ぶことができる。好ましくは、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、トリシクロデカンジメタノールから選ばれる。ジオール成分として脂環成分を含ませるようにすると、耐光性向上の観点からより望ましい。トリシクロデカンジメタノール以外にもシクロヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール、シクロヘキサンジエタノール等の脂環式ジオール成分を使用することができる。好ましい脂環式ジオール成分はトリシクロデカンジメタノールである。ジオール成分は、エチレングリコール０〜５０ｍｏｌ％、ポリエチレングリコール０〜１０ｍｏｌ％、トリシクロデカンジメタノール０〜９０ｍｏｌ％、好ましくは３０〜９０ｍｏｌ％、より好ましくは４０〜９０ｍｏｌ％、１，４−ブタンジオール０〜５０ｍｏｌ％、ビスフェノールＡ ０〜５０ｍｏｌ％の割合で、合計１００ｍｏｌ％となるように使用する。
【００２８】
本発明で使用するポリエステル樹脂は、上記少なくともジカルボン酸成分およびジオール成分を使用し、分子量（質量平均分子量（Mw））約11000以上、好ましくは約15000以上、より好ましくは約17000以上有するように重縮合したものを使用する。分子量があまり低いものを使用すると、形成される受容層の弾性率が低くなり、また耐熱性も足りなくなるので、熱転写シートと受像シートとの離型性を確保することが難しくなる。分子量は、弾性率を上げる観点から大きいほど望ましく、受容層形成時に塗布液溶媒に溶かすことができなくなるとか、受容層を塗布乾燥後に基材シートとの接着性に悪影響が出る等の弊害が生じない限り、特に限定されないが、好ましくは約25000以下、高くても約30000程度となる。なお、エステル樹脂の合成法は、従来公知の方法を使用すればよい。
【００２９】
飽和ポリエステルとしては例えばバイロン２００、バイロン２９０、バイロン６００等（以上、東洋紡（株）製）、ＫＡ−１０３８Ｃ（荒川化学（株）製）、ＴＰ２２０、ＴＰ２３５（以上、日本合成（株）製）等が用いられる。
【００３０】
[ポリカーボネート]
本発明の受容層に用いるポリカーボネート樹脂について、さらに詳しく説明する。
ポリカーボネートは、炭酸とジオールをユニットとするポリエステルを意味し、ジオールにホスゲンを反応させる方法あるいは炭酸エステルを反応させる方法等により合成できる。
【００３１】
ジオール成分としては、ビスフェノールＡ、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ノナンジオール、４，４’−ビシクロ（２，２，２）ヘプト−２−イリデンビスフェノール、４，４’−（オクタヒドロ−４，７−メタノ−５Ｈ−インデン−５−イリデン）ビスフェノール及び２，２’，６，６’−テトラクロロビスフェノールＡが挙げられ、ビスフェノールＡ、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ブタンジオール、ペンタンジオールが好ましく、ビスフェノールＡ、エチレングリコール、ブタンジオールがより好ましく、ビスフェノールＡ、エチレングリコールが特に好ましい。本発明で使用するポリカーボネートは、少なくとも上記の１種のジオール成分を使用するが、複数のジオールを混合して使用してもよい。
【００３２】
本発明のポリカーボネートの特に好ましい態様であるビスフェノール−Ａポリカーボネートについて、詳しく説明する。ビスフェノール−Ａポリカーボネートを中心とする未変性のポリカーボネートの技術は米国特許第４，６９５，２８６号明細書に記載されている。本発明のポリカーボネートは分子量（質量平均分子量（Mw））約1000以上、好ましくは約3000以上、より好ましくは約5000以上、特に好ましくは約10000以上の重縮合したものを使用する。Ｍａｋｒｏｌｏｎ−５７００（Ｂａｙｅｒ ＡＧ）及びＬＥＸＡＮ−１４１（Ｇｅｎｅｒａｌ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ社）等のポリカーボネートを例として挙げることができる。
【００３３】
ビスフェノールＡとエチレングリコールのようなジオールを混合して変性ポリカーボネートの技術が米国特許第４，９２７，８０３号明細書に記載されている。ポリエーテルブロック単位は、炭素原子数２〜約１０個の線状脂肪族ジオールから形成することができるが、エチレングリコールから形成されたものが好ましい。本発明の好ましい実施態様では、ポリエーテルブロック単位は数分子量約４，０００〜約５０，０００を有し、またビスフェノール−Ａポリカーボネートブロック単位は数分子量約１５，０００〜約２５０，０００を有する。ブロックコポリマー全体の分子量は、約３０，０００〜約３００，０００であることが好ましい。Ｍａｋｒｏｌｏｎ ＫＬ３−１０１３（Ｂａｙｅｒ ＡＧ）を例として挙げることができる。
【００３４】
これらの未変性および変性ビスフェノール−Ａポリカーボネートを混合することも好ましく、未変性ビスフェノール−Ａポリカーボネートとポリエーテル変性ポリカーボネートとを質量比８０：２０〜１０：９０で配合することが好ましく、耐指紋性向上の観点から質量比５０：５０〜４０：６０の質量比が特に好ましい。未変性および変性ビスフェノール−Ａポリカーボネートのブレンド技術に関しては特開平６−２２７１６０号公報にも記載されている。
【００３５】
本発明の受容層に使用される熱可塑性樹脂の好ましい実施態様として、上記ポリカーボネートと上記ポリエステルのブレンド系をあげることができる。このブレンド系では、ポリカーボネートとポリエステルの相溶性が確保できることが好ましい。ポリエステルは、好ましくは、約４０〜約１００℃のＴｇを示し、またポリカーボネートは約１００〜約２００℃のＴｇを示す。ポリエステルは、好ましくは、ポリカーボネートよりも低いＴｇを示し、そしてポリカーボネートに対してポリマー可塑剤として作用する。最終のポリエステル／ポリカーボネートブレンドのＴｇは、好ましくは４０℃〜１００℃である。より高いＴｇのポリエステル及びポリカーボネートのポリマーも、可塑剤を添加することで有用となりうる。
【００３６】
本発明のさらなる好ましい実施態様では、未変性ビスフェノール−Ａポリカーボネートとポリエステルポリマーとを、最終ブレンドのＴｇを望ましい値にし、しかもコストを最小限に抑えるような質量比でブレンドする。ポリカーボネートとポリエステルポリマーとは、約７５：２５〜２５：７５の質量比で都合よく配合することができるが、約６０：４０〜約４０：６０の質量比で配合するとより好ましい。特開平６−２２７１６１号公報にはポリカーボネートとポリエステルとのブレンド系の技術が開示されている。
【００３７】
本発明の受容層に用いるポリカーボネートにおいて、ポリマー末端が少なくとも２個のヒドロキシル基を有する平均分子量約１０００〜約１０，０００ポリカーボネートとヒドロキシル基と反応する架橋剤との反応により、受容層に架橋ポリマー網状構造を形成させてもよい。特開平６−１５５９３３号公報に記載のように、多官能性イソシアネートなどの架橋剤を技術も開示され、転写後の色素供与体への粘着性を改良できる。さらに特開平８−３９９４２号公報に開示の技術のように、ポリカーボネートとイソシアネートの架橋反応の際、ジブチル錫ジアセテートを用いた感熱色素転写用色素受容要素を構成とする技術が開示されており、架橋反応の促進のみならず画像安定性や耐指紋性などを改良できる。
【００３８】
本発明の受容層は、溶剤塗布によらずに、上記ポリマー樹脂の溶融物を押し出しコーティングすることによってキャストすることができる。この押し出しコーティングの技術はエンサイクロピィーディアオブポリマーサイエンスアンドテクニークス（Encyclopedia of Polymer Science and Enginieering）第３巻（John Wiley, New York）、１９８５年５６３頁や、第６巻１９８６年６０８頁に記載されている。特開平７−１７９０７５号公報にも感熱色素転写材用に関する技術が開示されており、本技術も好適に使用することができる。ポリマー樹脂としては、シクロヘキサンジカルボキシレートとエチレングリコール／ビスフェノール−Ａ−ジエタノールの５０／５０モル％混合物（ＣＯＰＯＬ；登録商標）とを縮合して得られたコポリマーが特に好ましい。
【００３９】
なお色素の染着性の程度については以下のようにして定義される。受像シートにイエロー、マゼンタ、シアン、ブラックの４色を２５６階調のベタ画像を形成するよう出力し、得られた画像の反射濃度を測定して、最も反射濃度の高いものを染着性が良い受容ポリマーと定義する。なお、受容ポリマーの染着性は、プリンター、インクシートによって異なり得るので注意が必要である。
【００４０】
本発明に用いられるバインダーは、加工脆性と画像保存性の点でガラス転移温度（Ｔｇ）が−３０℃〜１００℃の範囲のものが好ましく、より好ましくは０℃〜９０℃の範囲、さらに好ましくは３０℃〜８０℃の範囲である。バインダーとして２種以上のポリマーをブレンドして用いることも可能で、この場合、組成分を考慮し加重平均したＴｇが上記の範囲に入ることが好ましい。また、相分離した場合やコア−シェル構造を有する場合には加重平均したＴｇが上記の範囲に入ることが好ましい。
【００４１】
このガラス転移温度（Ｔｇ）は下記式で計算することができる。
1／Tg＝Σ(Xi／Tgi)
ここでは、ポリマーはｉ＝１からｎまでのｎ個のモノマー成分が共重合しているとする。Xiはi番目のモノマーの質量分率（ΣXi=1）、Tgiはi番目のモノマーの単独重合体のガラス転移温度（絶対温度）である。ただしΣはｉ＝１からｎまでの和をとる。尚、各モノマーの単独重合体ガラス転移温度の値（Tgi）は「Polymer Handbook(3rd Edition)」(J.Brandrup, E.H.Immergut著(Wiley-Interscience、1989))の値を採用できる。
バインダーに用いられるポリマーの重合方法は、一括重合法、モノマー（連続・分割）添加法、エマルジョン添加法が好ましい。
【００４２】
＜離型剤＞
また、受容層には、画像形成時に熱転写シートとの熱融着を防ぐために、離型剤を配合することもできる。離型剤は、例えば、ポリエチレンワックス、アミドワックス、テフロン（登録商標）パウダー等の固形ワックス類；シリコーンオイル、リン酸エステル系化合物、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤およびその他当該技術分野で公知の離型剤を使用することができ、フッ素系界面活性剤等に代表されるフッ素系化合物、シリコーン系界面活性剤、シリコーンオイル及び／又はその硬化物等のシリコーン系化合物が好ましく用いられる。離型剤の添加量は、受容ポリマーに対して０．２〜３０質量部が好ましい。
【００４３】
シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイル、および変性シリコーンオイルやその硬化物が使用できる。ストレートシリコーンオイルには、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルがあり、ジメチルシリコーンオイルとしては、ＫＦ９６−１０、ＫＦ９６−１００、ＫＦ９６−１０００、ＫＦ９６Ｈ−１００００、ＫＦ９６Ｈ−１２５００、ＫＦ９６Ｈ−１０００００（いずれも商品名、信越化学工業(株)製）等を挙げられ、ジメチルシリコーンオイルとしては、ＫＦ５０−１００、ＫＦ５４、ＫＦ５６（いずれも商品名、信越化学工業(株)製）等が挙げられる。
【００４４】
変性シリコーンオイルは、反応性シリコーンオイルと非反応性シリコーンオイルに分類できる。反応性シリコーンオイルには、アミノ変性、エポキシ変性、カルボキシル変性、ヒドロキシ変性、メタクリル変性、メルカプト変性、フェノール変性、片末端反応性・異種官能基変性がある。アミノ変性シリコーンオイルとしては、ＫＦ−３９３、ＫＦ−８５７、ＫＦ−８５８、Ｘ−２２−３６８０、Ｘ−２２−３８０１Ｃ、ＫＦ−８０１０、Ｘ−２２−１６１Ａ、ＫＦ−８０１２（いずれも商品名、信越化学工業(株)製）等が挙げられ、エポキシ変性シリコーンオイルとしては、ＫＦ−１００Ｔ、ＫＦ−１０１、ＫＦ−６０−１６４、ＫＦ−１０３、Ｘ−２２−３４３、Ｘ−２２−３０００Ｔ（いずれも商品名、信越化学工業(株)製）等が挙げられる。カルボキシル変性シリコーンオイルとしては、Ｘ−２２−１６２Ｃ（商品名、信越化学工業(株)製）等が挙げられ、ヒドロキシ変性シリコーンオイルとしては、Ｘ−２２−１６０ＡＳ、ＫＦ−６００１、ＫＦ−６００２、ＫＦ−６００３、Ｘ−２２−１７０ＤＸ、Ｘ−２２−１７６ＤＸ、Ｘ−２２−１７６Ｄ、Ｘ−２２−１７６ＤＦ（いずれも商品名、信越化学工業(株)製）等が挙げられ、メタクリル変性シリコーンオイルとしては、Ｘ−２２−１６４Ａ、Ｘ−２２−１６４Ｃ、Ｘ−２４−８２０１、Ｘ−２２−１７４Ｄ、Ｘ−２２−２４２６（いずれも商品名、信越化学工業(株)製）等が挙げられる。
【００４５】
反応性シリコーンオイルとしては、硬化させて使用することもでき、反応硬化型、光硬化型、触媒硬化型等に分類できる。このなかで反応硬化型のシリコーンオイルが特に好ましく、反応硬化型シリコーンオイルとしては、アミノ変性シリコーンオイルとエポキシ変性シリコーンオイルとを反応硬化させたものが好ましい。また、触媒硬化型あるいは光硬化型シリコーンオイルとしては、ＫＳ−７０５Ｆ−ＰＳ、ＫＳ−７０５Ｆ−ＰＳ−１、ＫＳ−７７０−ＰＬ−３〔触媒硬化型シリコーンオイル：いずれも商品名、信越化学工業(株)製〕、ＫＳ−７２０、ＫＳ−７７４−ＰＬ−３〔光硬化型シリコーンオイル：いずれも商品名、信越化学工業(株)製〕等が挙げられる。これら硬化型シリコーンオイルの添加量は受容層を構成する樹脂の０．５〜３０質量％が好ましい。離型剤は、ポリエステルおよびポリカーボネート系ポリマーを合計したものの１００質量部に対して２〜４質量％、好ましくは２〜３質量％程度使用する。その量が少なすぎると、離型性を確実に確保することができず、また多すぎると保護層が受像シートに転写しなくなってしまう。
【００４６】
非反応性シリコーンオイルとしては、ポリエーテル変性、メチルスチリル変性、アルキル変性、高級脂肪酸エステル変性、親水性特殊変性、高級アルコキシ変性、フッ素変性等がある。ポリエーテル変性シリコーン（ＫＦ−６０１２、商品名、信越化学工業(株)製）が挙げられ、メチルスチル変性シリコーンシリコーンオイルとしては、（２４−５１０、ＫＦ４１−４１０、いずれも商品名、信越化学工業(株)製）等が挙げられる。また、下記一般式１〜３のいずれかで表される変性シリコーンも使用することができる。
【００４７】
【化８】
【００４８】
一般式１中、Ｒは水素原子、またはアリール基、若しくはシクロアルキル基で置換されても良い直鎖または分岐のアルキル基を表す。ｍ、ｎは２０００以下の整数を表し、ａ、ｂは３０以下の整数を表す。
【００４９】
【化９】
【００５０】
一般式２中、Ｒは水素原子、またはアリール基、若しくはシクロアルキル基で置換されても良い直鎖または分岐のアルキル基を表す。ｍは２０００以下の整数を表し、ａ、ｂは３０以下の整数を表す。
【００５１】
【化１０】
【００５２】
一般式３中、Ｒは水素原子、またはアリール基、若しくはシクロアルキル基で置換されても良い直鎖または分岐のアルキル基を表す。Ｒ１は単結合または２価の連結基を表し、Ｅは置換基を有してもよいエチレン基を表し、Ｐは置換基を有してもよいプロピレン基を表す。ｍ、ｎは２０００以下の整数を表し、ａ、ｂは３０以下の整数を表す。
【００５３】
上記のようなシリコーンオイルは「シリコーンハンドブック」（日刊工業新聞社刊）に記載されており、硬化型シリコーンオイルの硬化技術として、特開平８−１０８６３６号公報や特開２００２−２６４５４３号公報に記載の技術が好ましく使用できる。
【００５４】
（下地層）
受容層と支持体との間には下地層が形成されていることが好ましく、例えば白地調整層、帯電調節層、接着層、プライマー層が形成される。これらの層については、例えば特許第３５８５５９９号明細書、特許第２９２５２４４号明細書などに記載されたものと同様にして形成することができる。
【００５５】
（基材シート）
本発明の基材シートとしては、紙類、プラスチックフィルム等が使用でき、紙類では、各種紙単体もしくは加工紙等いずれも使用可能で、例えば、上質紙、コート紙、アート紙、キャストコート紙、板紙等の他、樹脂エマルジョンや合成ゴムラテックス等の含浸紙、合成樹脂内添紙などが挙げられ、合成紙では、ポリスチレン系合成紙やポリオレフィン系合成紙等が良好に使用できる。
【００５６】
また、プラスチックフィルムでは、ポリプロピレンなどのポリオレフィン系樹脂フィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルムなどのポリエステル系樹脂フィルム、硬質ポリ塩化ビニルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリアミドフィルム、ポリアクリロニトリルフィルム、ポリメタクリレートフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルフォンフィルム、ポリアリレートフィルムなどが使用できる。これらのプラスチックフィルムでは透明なフィルムだけではなく、白色顔料や、充填剤等を加えて成膜した白色不透明のフィルム、或いは発泡させたフィルムも使用できる。尚、これらの材料はそれぞれ単独でも使用できるが、他の材料と組み合わせた積層体として使用してもよい。
【００５７】
基材として透明性を有する基材を用いることができ、この場合は実用上、延伸したポリプロピレンまたはポリエチレンテレフタレートフィルムを用いることが良い。それによって、ＯＨＰ投影機にかけて、使用できたり、また、シールタイプでは貼着される対象物の表面の外観が損なわれることなく、透過できるものが得られる。尚、この場合はもちろん、色材受容層、粘着剤層等、熱転写受像シートの貼着する部分は透明性を有していることが望ましい。
【００５８】
また、上記の基材シートの表面及びまたは裏面に易接着処理した基材シートも使用できる。本発明では、特に限定されないが、帯電性の高いプラスチックベースの基材シートを用いることが好ましい。熱転写受像シートの基材シートの厚みは、通常３〜３００μｍ程度であり、本発明においては、機械的適性等を考慮し、７５〜１７５μｍの基材シートを用いるのが好ましい。また、基材シートとその上に設ける層との密着性が乏しい場合には、その表面に易接着処理やコロナ放電処理を施すのが好ましい。
【００５９】
次に、本発明に用いられる感熱転写シート（インクシート）について説明する。
熱転写画像形成の際に、上述した感熱転写受像シートと併せて使用されるインクシートは、支持体上に拡散転写染料を含む色素層を設けたものである。色素層の塗布は、ロールコート、バーコート、グラビアコート、グラビアリバースコート等の一般的な方法で行われる。
【００６０】
インクシート基材の材質は、ポリエステルフイルム、ポリスチレンフイルム、ポリスルフォンフイルム、ポリイミドフイルム、ポリビニルアルコールフイルム若しくはセロファン等のプラスチックフイルムが適している。本発明の好ましい実施態様では、熱転写色素供与材料はポリエチレンテレフタレート支持体上にシアン色素、マゼンタ色素およびイエロー色素を逐次繰返し領域で塗布したものからなり、前記熱転写工程を各色素毎に逐次実施して三色の転写画像を形成する。勿論、この熱転写工程を単色で実施した際には、モノクロームの転写画像が得られる。
【００６１】
（熱転写層）
本発明に用いられるインクシートの熱転写層（色素層）には、イエロー色素として前記一般式（７）又は（８）で表される少なくとも１種の色素を含むことが好ましく、マゼンタ色素として前記一般式（９）、（１０）又は（１１）で表される少なくとも１種の色素を含むことが好ましく、シアン色素として前記一般式（１２）又は（１３）で表される少なくとも１種の色素を含むことが好ましい。
以下に上記の好ましい色素を説明する。
最初に、一般式（７）で表される色素について、詳細に説明する。
【００６２】
【化１１】
【００６３】
一般式（７）中、Ｒ51およびＲ52は各々独立に置換基を表す。ｎ８は０〜５の整数を表し、ｎ９は、０〜４の整数を表す。
【００６４】
一般式（７）中、Ｒ51およびＲ52は各々独立に水素原子または置換基を表す。
ここで該置換基をさらに詳しく説明する。該置換基の例としては、ハロゲン原子、アルキル基（シクロアルキル基（環数は問わない）を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基（環数は問わない）を含む）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ、アミノ基（アルキアミノ基、アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基、アルキルチオ基、スルファモイル基、アルキルもしくはアリールスルフィニル基、アルキルもしくはアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールもしくはヘテロ環アゾ基、イミド基を挙げることができ、それぞれの基はさらに置換基を有していても良い。
【００６５】
以下に、前記Ｒ51およびＲ52をさらに詳しく説明する。
Ｒ51およびＲ52で表されるハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子が挙げられる。中でも塩素原子、臭素原子が好ましく、特に塩素原子が好ましい。
【００６６】
Ｒ51およびＲ52で表されるアルキル基にはシクロアルキル基およびビシクロアルキル基が含まれる。アルキル基としては直鎖、分岐の置換もしくは無置換のアルキル基が含まれる。直鎖、分岐の置換もしくは無置換のアルキル基は炭素数１〜３０のアルキル基が好ましい。例としてはメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、エイコシル、２−クロロエチル、２−シアノエチル、または２−エチルヘキシルを挙げることができる。シクロアルキル基としては置換もしくは無置換のシクロアルキル基が含まれる。置換もしくは無置換のシクロアルキル基は、炭素数３〜３０のシクロアルキル基が好ましい。例としては、シクロヘキシル、シクロペンチル、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシルを挙げることができる。ビシクロアルキル基としては、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例として、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル）を挙げることができる。さらに環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。以下に説明する置換基の中のアルキル基（例えばアルキルチオ基のアルキル基）もこのような概念のアルキル基を表す。
Ｒ51およびＲ52で表されるアルケニル基にはシクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基が含まれる。アルケニル基としては直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルケニル基を表す。アルケニル基としては、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルケニル基が好ましい。例としてはビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイルを挙げることができる。シクロアルケニル基としては、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基が好ましい。例としては、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イルが挙げられる。ビシクロアルケニル基としては、置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基が含まれる。ビシクロアルケニル基としては炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基が好ましい。例として、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イルを挙げることができる。
【００６７】
Ｒ51およびＲ52で表されるアルキニル基は、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキニル基が好ましく、例えば、エチニル、またはプロパルギルが挙げられる。
【００６８】
Ｒ51およびＲ52で表されるアリール基は、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリール基が好ましく、例えば、フェニル、ｐ−トリル、ナフチル、ｍ−クロロフェニル、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニルが挙げられる。
【００６９】
Ｒ51およびＲ52で表されるヘテロ環基は、５又は６員の置換もしくは無置換の芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基が好ましく、それらはさらに縮環していてもよい。更に好ましくは、炭素数３〜３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。ヘテロ環基の例には、置換位置を限定しないで例示（すなわち、環として例示）すると、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、ピリミジン、トリアジン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、シンノリン、フタラジン、キノキサリン、ピロール、インドール、フラン、ベンゾフラン、チオフェン、ベンゾチオフェン、ピラゾール、イミダゾール、ベンズイミダゾール、トリアゾール、オキサゾール、ベンズオキサゾール、チアゾール、ベンゾチアゾール、イソチアゾール、ベンズイソチアゾール、チアジアゾール、イソオキサゾール、ベンズイソオキサゾール、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、イミダゾリジン、チアゾリンなどが挙げられる。
【００７０】
Ｒ51およびＲ52で表されるアルコキシ基は、置換もしくは無置換のアルコキシ基が含まれる。置換もしくは無置換のアルコキシ基としては、炭素原子数が１〜３０のアルコキシ基が好ましい。アルコキシ基の例には、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｎ−オクチルオキシ、メトキシエトキシ、ヒドロキシエトキシおよび３−カルボキシプロポキシなどを挙げることができる。
【００７１】
Ｒ51およびＲ52で表されるアリールオキシ基は、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基が好ましい。アリールオキシ基の例には、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、２−テトラデカノイルアミノフェノキシなどを挙げることができる。
【００７２】
Ｒ51およびＲ52で表されるホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基が好ましい。アシルオキシ基の例には、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシなどを挙げることができる。
【００７３】
Ｒ51およびＲ52で表されるカルバモイルオキシ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基が好ましい。カルバモイルオキシ基の例には、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシなどを挙げることができる。
【００７４】
Ｒ51およびＲ52で表されるアルコキシカルボニルオキシ基は、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基が好ましい。アルコキシカルボニルオキシ基の例には、メトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ、ｎ−オクチルカルボニルオキシなどを挙げることができる。
【００７５】
Ｒ51およびＲ52で表されるアリールオキシカルボニルオキシ基は、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基が好ましい。アリールオキシカルボニルオキシ基の例には、フェノキシカルボニルオキシ、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシなどを挙げることができる。
【００７６】
Ｒ51およびＲ52で表されるアミノ基はアルキアミノ基、アリールアミノ基を含む。アミノ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールアミノ基が好ましい。アミノ基の例には、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、Ｎ-メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ、ヒドロキシエチルアミノ、カルボキシエチルアミノ、スルフォエチルアミノ、３，５−ジカルボキシアニリノなどを挙げることができる。
【００７７】
Ｒ51およびＲ52で表されるアシルアミノ基は、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基が好ましい。アシルアミノ基の例には、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノなどを挙げることができる。
【００７８】
Ｒ51およびＲ52で表されるアミノカルボニルアミノ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ基が好ましい。アミノカルボニルアミノ基の例には、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノなどを挙げることができる。
【００７９】
Ｒ51およびＲ52で表されるアルコキシカルボニルアミノ基は、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基が好ましい。アルコキシカルボニルアミノ基の例には、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノなどを挙げることができる。
【００８０】
Ｒ51およびＲ52で表されるアリールオキシカルボニルアミノ基は、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基が好ましい。アリールオキシカルボニルアミノ基の例には、フェノキシカルボニルアミノ、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノなどを挙げることができる。
【００８１】
Ｒ51およびＲ52で表されるスルファモイルアミノ基は、炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基が好ましい。スルファモイルアミノ基の例には、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノなどを挙げることができる。
【００８２】
Ｒ51およびＲ52で表されるアルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ基が好ましい。アルキルスルホニルアミノ基およびアリールスルホニルアミノ基の例には、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノなどを挙げることができる。
【００８３】
Ｒ51およびＲ52で表されるアルキルチオ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基が好ましい。アルキルチオ基の例には、メチルチオ、エチルチオ、ｎ−ヘキサデシルチオなどを挙げることができる。
【００８４】
Ｒ51およびＲ52で表されるスルファモイル基は、炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイル基が好ましい。スルファモイル基の例には、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−アセチルスルファモイル、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル）などを挙げることができる。
【００８５】
Ｒ51およびＲ52で表されるアルキルもしくはアリールスルフィニル基は、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルフィニル基、６〜３０の置換又は無置換のアリールスルフィニル基が好ましい。アルキルもしくはアリールスルフィニル基の例には、例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、ｐ−メチルフェニルスルフィニルなどを挙げることができる。
【００８６】
Ｒ51およびＲ52で表されるアルキルもしくはアリールスルホニル基は、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルホニル基、６〜３０の置換又は無置換のアリールスルホニル基が好ましい。アルキルもしくはアリールスルホニル基の例には、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−トルエンスルホニルなどを挙げることができる。
【００８７】
Ｒ51およびＲ52で表されるアシル基は、ホルミル基、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数４〜３０の置換もしくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基が好ましい。アシル基の例には、例えば、アセチル、ピバロイル、２−クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル、２−ピリジルカルボニル、２−フリルカルボニルなどを挙げることができる。
【００８８】
Ｒ51およびＲ52で表されるアリールオキシカルボニル基は、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基が好ましい。アリールオキシカルボニル基の例には、フェノキシカルボニル、ｏ−クロロフェノキシカルボニル、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニルなどを挙げることができる。
【００８９】
Ｒ51およびＲ52で表されるアルコキシカルボニル基は、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基が好ましい。アルコキシカルボニル基の例には、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルなどを挙げることができる。
【００９０】
Ｒ51およびＲ52で表されるカルバモイル基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイル基が好ましい。カルバモイル基の例には、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイルなどを挙げることができる。
【００９１】
Ｒ51およびＲ52で表されるアリールもしくはヘテロ環アゾ基は、例えば、フェニルアゾ、４−メトキシフェニルアゾ、４−ピバロイルアミノフェニルアゾ、２−ヒドロキシ−４−プロパノイルフェニルアゾなどを挙げることができる。
【００９２】
Ｒ51およびＲ52で表されるイミド基は、例えば、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミドなどを挙げることができる。
【００９３】
Ｒ51およびＲ52は、好ましくは各々独立水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロ環基であり、より好ましくは水素原子、置換または無置換のアルキル基である。
【００９４】
Ｒ51は、好ましくは、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロ環基であり、より好ましくは水素原子、置換または無置換のアルキル基であり、更に好ましくは水素原子、炭素数１〜６のアルキル基である。最も好ましくは炭素数１〜６のアルキル基である。
【００９５】
Ｒ52の例には、好ましくは、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロ環基であり、より好ましくは水素原子、置換または無置換のアルキル基であり、より好ましくは炭素数６〜１０のアリールオキシカルボニル基、炭素数１〜６のアルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のカルバモイル基であり、最も好ましくは置換カルバモイル基である。
【００９６】
一般式（７）で表される色素の好ましい置換基の組み合わせについては種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である化合物がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である化合物が最も好ましい。
【００９７】
一般式（８）で表される色素について、詳細に説明する。
【００９８】
【化１２】
【００９９】
一般式（８）中、Ｒ61は置換基を表す。Ｒ62、Ｒ63およびＲ64は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ61〜Ｒ64における置換基としては前述したＲ51およびＲ52で説明したものが挙げられる。ｎ１０は０〜４の整数を表す。
【０１００】
Ｒ61の例には、好ましくは、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロ環基であり、より好ましくは水素原子、置換または無置換のアルキル基であり、より好ましくは水素原子、炭素数１〜６のアルキル基である。最も好ましくは炭素数１〜６のアルキル基である。
Ｒ62、Ｒ63の例には、好ましくは水素原子、または置換もしくは無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロ環基である。より好ましくは水素原子または置換もしくは無置換のアルキル基であり、より好ましくは水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基である。
Ｒ64の例には、好ましくは各々独立に、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロ環基であり、より好ましくは水素原子、置換または無置換のアルキル基であり、好ましくは水素原子、炭素数１〜６のアルキル基であり、より好ましくは水素原子である。
【０１０１】
一般式（８）で表される色素の好ましい置換基の組み合わせについては種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である化合物がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である化合物が最も好ましい。
【０１０２】
一般式（９）または（１０）で表される色素について、詳細に説明する。
【０１０３】
【化１３】
【０１０４】
一般式（９）中、Ｒ71およびＲ73は各々独立に水素原子または置換基を表し、Ｒ72およびＲ74は各々独立に置換基を表す。ｎ１１は０〜４の整数を表す。ｎ１２は０〜２の整数を表す。Ｒ71〜Ｒ74における置換基としては、前述したＲ51、Ｒ52で説明したものが挙げられる。
【０１０５】
Ｒ71、Ｒ73の例としては、一般式（７）のＲ51で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基であり、さらに好ましくは、水素原子である。
【０１０６】
Ｒ72、Ｒ74の例としては、一般式（７）のＲ51で述べたような置換基が挙げられる。好ましくはアルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシであり、より好ましくはアルコキシ基、アリールオキシ基である。各基は置換基を有していてもよい。
【０１０７】
【化１４】
【０１０８】
一般式（１０）中、Ｒ81は水素原子または置換基を表す。Ｒ82、Ｒ84は各々独立に置換基を表す。ｎ１３は０〜４の整数を表し、ｎ１４は０〜２の整数を表す。Ｒ81、Ｒ82、Ｒ84における置換基としては、前述したＲ51、Ｒ52で説明したものが挙げられる。
【０１０９】
Ｒ81の例としては、Ｒ51、Ｒ52で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基であり、さらに好ましくは、水素原子である。
【０１１０】
Ｒ82、Ｒ84の例としては、一般式（７）のＲ51で述べたような置換基が挙げられる。好ましくはアルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシであり、より好ましくはアルコキシ基、アリールオキシ基である。各基は置換基を有していてもよい。
【０１１１】
一般式（９）または（１０）で表される色素の好ましい置換基の組み合わせについては種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である化合物がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である化合物が最も好ましい。
【０１１２】
一般式（１１）で表される色素について、詳細に説明する。
【０１１３】
【化１５】
【０１１４】
一般式（１１）中、Ｒ91は水素原子または置換基を表す。Ｒ93およびＲ94は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ92は置換基を表す。ｎ１５は０〜２の整数を表す。Ｚ1、Ｚ2は、どちら一方が＝Ｎ−であり、他方が＝Ｃ(Ｒ95)−を表す。Ｚ3、Ｚ4は各々独立に＝Ｎ−または＝Ｃ(Ｒ95)−を表す。Ｒ95は水素原子または置換基を表す。Ｒ91〜Ｒ95における置換基としては、前述したＲ51、Ｒ52で説明したものが挙げられる。
【０１１５】
Ｒ91は、好ましくは、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロ環基、置換もしくは無置換のアミノであり、より好ましくは置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基である。
【０１１６】
Ｒ92の例としては、一般式（７）のＲ51で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは、水素原子、置換または無置換のアルキル基である。
【０１１７】
Ｒ93、Ｒ94の例としては、Ｒ51、Ｒ52で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基であり、さらに好ましくは置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基である。
【０１１８】
Ｒ95の例としては、一般式（７）のＲ51で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは、水素原子、置換または無置換のアルキル基である。
【０１１９】
一般式（１１）で表される色素の好ましい置換基の組み合わせについては種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である化合物がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である化合物が最も好ましい。
【０１２０】
一般式（１２）または（１３）で表される色素について、詳細に説明する。
【０１２１】
【化１６】
【０１２２】
Ｒ101およびＲ102は各々独立に置換基を表し、Ｒ103およびＲ104は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ101〜Ｒ104における置換基としては、前述したＲ51、Ｒ52で説明したものが挙げられる。ｎ１６およびｎ１７は各々独立に０〜４の整数を表す。
【０１２３】
Ｒ101の例としては、一般式（７）のＲ51で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくはアミノ基（アルキルアミノ基、アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基であり、さらに好ましくはアシルアミノ基である。
Ｒ102の例としては、一般式（７）のＲ51で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは、置換または無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基である。
Ｒ103、Ｒ104の例としては、Ｒ51、Ｒ52で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは置換もしくは無置換のアルキル基、または置換もしくは無置換のアリール基であり、さらに好ましくは置換もしくは無置換のアルキル基である。
【０１２４】
【化１７】
【０１２５】
一般式（１３）中、Ｒ111およびＲ113は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ112およびＲ114は各々独立に置換基を表す。ｎ１８は、０〜４の整数を表し、ｎ１９は、０〜２の整数を表す。Ｒ111〜Ｒ114における置換基としては、前述したＲ51、Ｒ52で説明したものが挙げられる。
【０１２６】
Ｒ111、Ｒ113の例としては、Ｒ51、Ｒ52で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基である。
【０１２７】
Ｒ112、Ｒ114の例としては、水素原子や一般式（７）のＲ51で述べたような置換基が挙げられ、好ましい範囲も同じである。より好ましくは水素原子である。
【０１２８】
一般式（１２）または（１３）で表される色素の好ましい置換基の組み合わせについては種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である化合物がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である化合物が最も好ましい。
【０１２９】
以下に、一般式（７）〜（１３）で表される色素の具体例を以下に示すが本発明に用いられる色素は、下記の例に限定されるものではない。
【０１３０】
【化１８】
【０１３１】
【化１９】
【０１３２】
【化２０】
【０１３３】
【化２１】
【０１３４】
【化２２】
【０１３５】
【化２３】
【０１３６】
これらの各々の色素は熱転写層（色素層）中にそれぞれ１０〜９０質量％含有されることが好ましく、２０〜８０質量％含有されることがより好ましい。
また熱転写層の塗布量は、０．１〜１．０ｇ／ｍ2（固形分換算、以下本発明における塗布量は特に断りのない限り、固形分換算の数値である。）が好ましく、更に好ましくは０．１５〜０．６０ｇ／ｍ2である。熱転写層の膜厚は０．１〜２．０μｍであることが好ましく、更に好ましくは０．１〜１．０μｍである。
【０１３７】
熱転写層のバインダーとしては、好ましいものを例示すれば、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、エチルヒドロキシセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、酢酸セルロース、酪酸セルロース等のセルロース系樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド等のビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、フェノキシ樹脂等が挙げられる。これらの中で、耐熱性、色素の移行性等の観点から、ブチラール系樹脂、ポリエステル系樹脂等が特に好ましい。
より好ましいポリエステル樹脂は、酸成分の２分の１以上がテレフタル酸であり、更に好ましくは酸成分の３分の２以上がテレフタル酸であり、最も好ましくは酸成分の４分の３以上がテレフタル酸である。これにより、感熱転写受像シートとの融着を防ぐことができる。本発明のポリエステルは特開平９−２９５３８９号公報に記載の方法などにより得ることができる。
【０１３８】
（耐熱滑性層）
本発明の熱転写シートは基材の一方の面に、サーマルヘッドの熱によるスティッキングや印字しわ等の悪影響を防止するため、耐熱滑性層を設ける。該耐熱滑性層にはバインダーとしてポリマーを含有することが好ましい。該ポリマーは好ましくはポリエステル系樹脂、ポリアクリル酸エステル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、スチレンアクリレート系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルクロリド樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアセトアセタール樹脂等のポリビニルアセタール樹脂等の熱可塑性樹脂或はこれらのシリコーン変性物等が用いられ、これらの中で特に好ましい樹脂は、ポリビニルブチラール樹脂及びポリアセトアセタール樹脂等のポリビニルアセタール樹脂或はこれらのシリコーン変性物の如くイソシアネート基と反応する水酸基を有する樹脂である。
【０１３９】
本発明の好ましい実施形態では、耐熱滑性層に耐熱性、塗膜性及び基材との密着性を付与させる目的でイソシアネート基を２個以上持った化合物（２個以上のイソシアネート基を有する化合物）を架橋剤として併用することが好ましい。これらのイソシアネートとしては従来公知の塗料、接着剤、ポリウレタンの合成等に使用されているいずれのイソシアネート化合物でもよい。これらのイソシアネート化合物は、例えば、タケネート（武田薬品製）、バーノック（大日本インキ化学製）、コロネート（日本ポリウレタン製）、ヂュラネート（旭化成工業製）、ディスモジュール（バイエル製）等の商品名で入手して本発明で使用することができる。
【０１４０】
該イソシアネート化合物の添加量は、耐熱滑性層を構成するポリマーバインダー（樹脂バインダー）１００質量部に対し５〜２００質量部の範囲が適当である。ＮＣＯ／ＯＨの比では０．８〜２．０程度の範囲が好ましい。イソシアネート化合物の含有量が少なすぎると架橋密度が低く耐熱性が不十分で、一方、多すぎると形成される塗膜の収縮が制御できない、硬化時間が長くなる、未反応のＮＣＯ基が耐熱滑性層中に残存し空気中の水分と反応する等マイナスに働く。
【０１４１】
これらの樹脂からなる耐熱滑性層に添加あるいは上塗りする滑り性付加剤としては、リン酸エステル、シリコーンオイル、グラファイトパウダー、シリコーン系グラフトポリマー、アクリロシロキサン、アリールシロキサン等のシリコーン重合体が挙げられるが、好ましくは、ポリオール、例えば、ポリアルコール高分子化合物とポリイソシアネート化合物及びリン酸エステル系化合物からなる層であり、さらに充填剤を添加することがより好ましい。
【０１４２】
また、本発明では上記の材料から耐熱滑性層を形成するに当り、耐熱滑性層のスリップ性を向上させる目的でワックス、高級脂肪酸アミド、エステル、界面活性剤等の熱離型剤や滑剤或いはフッ素樹脂のような有機粉末、シリカ、クレー、タルク、炭酸カルシウム等の無機粒子を包含させることができる。
【０１４３】
耐熱滑性層を形成するには、上記の如き材料をアセトン、メチルエチルケトン、トルエン、キシレン等の適当な溶剤中に溶解又は分散させて塗工液を調製し、この塗工液をグラビアコーター、ロールコーター、ワイヤーバー等の慣用の塗工手段により塗工及び乾燥し、次いで加熱処理によって架橋処理することによって形成される。その塗工量即ち耐熱滑性層の厚みも重要であって、本発明では固形分基準で、好ましくは２．０ｇ／ｍ２以下、より好ましくは０．１〜２．０ｇ／ｍ２、さらに好ましくは０．１〜１．０ｇ／ｍ２の厚みで充分な性能を有する耐熱滑性層を形成することができる。
【０１４４】
本発明の画像形成方法は、熱転写シートの熱転写層と感熱転写受像シートの受容層とが接するよう重ねあわせ、サーマルヘッドから画像信号に応じた熱エネルギーを付与することにより画像を形成する。
熱転写時の熱エネルギーの付与手段は、従来公知の付与手段のいずれも使用することができ、例えば、サーマルプリンター（例えば、日立製作所製、商品名、ビデオプリンターＶＹ−１００）等の記録装置によって記録時間をコントロールすることにより、５〜１００ｍＪ／ｍｍ2程度の熱エネルギーを付与することによって所期の目的を十分に達成することができる。画像形成方法は例えば特開２００５−８８５４５号公報などに記載された方法と同様にして行うことができる。
本発明では、消費者にプリント物を提供するまでの時間を短縮するという観点から、１枚のプリント時間は８秒未満が好ましく、３〜８秒がより好ましい。
本発明は、感熱転写記録方式を利用したプリンター、複写機などに利用することができる。
一方、画像形成時の感熱転写受像シートの搬送速度においては、本発明では、好ましくは１２５ｍｍ／秒以上、より好ましくは１２５ｍｍ／秒以上２００ｍｍ／秒以下、さらに好ましくは１２５ｍｍ／秒以上１９０ｍｍ／秒以下、最も好ましくは１２５ｍｍ／秒以上１７５ｍｍ/秒以下である場合に、極めて効果的に本発明の効果を奏する。なお、感熱転写受像シートの搬送速度とは、画像形成時の感熱転写受像シートの搬送速度とは、感熱転写受像シートがサーマルヘッドの下を往復するときの速度である。
【０１４５】
熱昇華記録または熱転写記録を行なうように構成されたサーマルプリンターにおいて、具体的に説明する。
例えば、図１では、搬送ローラー２８により矢印方向に搬送して使用済みの熱転写シートをリボンカートリッジ内で巻き取りつつサーマルヘッド１０の発熱部１１への通電による感熱転写記録を行なうように構成されている。熱転写シートの熱転写層には、各色材層イエロー、マゼンタ、シアンが各々感熱転写受像シートの記録面の面積に対応して順次形成されている関係上、搬送ローラー２８の回転方向の切り替えにより、感熱転写受像シートはサーマルヘッド１０の下を往復し、各色が表面に施されることとなる。画像形成時の感熱転写受像シートの搬送速度とは、感熱転写受像シートが発熱部１１の下を往復するときの速度である。
【０１４６】
また、本発明の感熱転写受像シートは、支持体を適宜選択することにより、熱転写記録可能な枚葉またはロール状の感熱転写受像シート、カード類、透過型原稿作成用シート等の各種用途に適用することもできる。
【０１４７】
以下、本発明を実施例に基づき更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例中で、部または％とあるのは、特に断りのない限り質量基準である。
【実施例】
【０１４８】
（比較例１０１）
（インクシート１０１の作製）
厚さ６．０μｍのポリエステルフィルム（ルミラー、商品名、（株）東レ製）を基材フィルムとして用いた。その表面側に下記組成のイエロー、マゼンタ、シアン組成物をそれぞれ単色に塗布（乾膜時の塗布量１ｇ／ｍ2）した。
【０１４９】
＜染料層組成液＞
イエローインキ
色素（７）−１ ２．５部
色素（８）−１ ２．０部
ポリエステル１ ４．５部
メチルエチルケトン／トルエン （１／１） ９０部
マゼンタインキ
色素（９）−１ １．０部
色素（１０）−１ １．０部
色素（１１）−１ ２．５部
ポリエステル１ ４．５部
メチルエチルケトン／トルエン （１／１） ９０部
シアンインキ
色素（１２）−１ ２．０部
色素（１３）−１ ２．５部
ポリエステル１ ４．５部
メチルエチルケトン／トルエン （１／１） ９０部
【０１５０】
上記ポリエステル１は下記の組成のものである。
ポリエステル１
下記の酸成分およびジオール成分を下記モル比で重合させることで得られる数平均分子量２０００のポリエステル。
イソフタル酸 ５
テレフタル酸 ４５
エチレングリコール ５
ジエチレングリコール ４５
【０１５１】
（比較例１０２）
（インクシート１０２の作製）
厚さ６．０μｍのポリエステルフィルム（ルミラー、商品名、（株）東レ製）を基材フィルムとして用いた。そのフィルム背面側に耐熱滑性層（乾膜時の膜厚１．０μｍ）を形成し、それ以外は試料１０１と同様に作製した。
【０１５２】
＜耐熱滑性層組成液１＞
ポリビニルブチラール樹脂（エスレックＢＸ−１ 積水化学工業（株）製 １３．６部
リン酸エステル（プライサーフＡ２０８Ｓ 第一工業製薬（株）製） ０．８部
メチルエチルケトン ４２．９部
トルエン ４２．９部
【０１５３】
（本発明１０３）
（インクシート１０３の作製）
厚さ６．０μｍのポリエステルフィルム（ルミラー、商品名、（株）東レ製）を基材フィルムとして用いた。そのフィルム背面側に耐熱滑性層（乾膜時の膜厚１．０μｍ）を形成し、それ以外は試料１０１と同様に作製した。
【０１５４】
<耐熱滑性層組成液２>
ポリビニルブチラール樹脂（エスレックＢＸ−１ 積水化学工業（株）製） １３．６部
ポリイソシアネート硬化剤（タケネートＤ２１８ 武田薬品工業（株）製） ０．６部
リン酸エステル（プライサーフＡ２０８Ｓ 第一工業製薬（株）製） ０．８部
メチルエチルケトン ４２．５部
トルエン ４２．５部
【０１５５】
（受像シートの作成）
（比較例２０１）
（受像シート２０１の作製）
支持体として合成紙（ユポＦＰＧ２００、厚さ２００μｍ、商品名、ユポコーポレーション社製）を用い、この一方の面に下記組成の受容層を塗布した。受容層４．０ｇ／ｍ２となるように塗布を行い、乾燥は各層１１０℃で、３０秒間行った。
【０１５６】
受容層用塗工液１
（組成）
ポリブチルアクリレート（Ａｌｄｒｉｃｈ社製） ３０部
ポリメチルメタクリレート（Ａｌｄｒｉｃｈ社製） ７０部
アミノ変性シリコーン（信越化学工業（株）製 Ｘ−２２−３４３） ３部
エポキシ変性シリコーン（信越化学工業（株）製 ＫＦ−３９３） ３部
トルエン／メチルエチルケトン（１部／１部） ５００部
（塗布量） ２０ｍｌ／ｍ２
【０１５７】
（本発明２０２）
（受像シート２０２の作製）
受容層の塗工液を以下のものに変えた以外は、受像シート２０１と同様とした。
受容層用塗工液２
（組成）
ポリエステル樹脂（東洋紡（株）製 バイロン２００） １００部
アミノ変性シリコーン（信越化学工業（株）製 Ｘ−２２−３４３） ３部
エポキシ変性シリコーン（信越化学工業（株）製 ＫＦ−３９３） ３部
トルエン／メチルエチルケトン（１部／１部） ５００部
【０１５８】
（本発明２０３）
（受像シート２０３の作製）
受容層の塗工液を以下のものに変えた以外は、受像シート２０１と同様とした。
受容層用塗工液３
（組成）
ポリカーボネート樹脂（General Electric社製 ＬＥＸＡＮ−１４１） ３０部
ポリエステル樹脂（東洋紡（株）製 バイロン２００） ７０部
アミノ変性シリコーン（信越化学工業（株）製 Ｘ−２２−３４３） ３部
エポキシ変性シリコーン（信越化学工業（株）製 ＫＦ−３９３） ３部
塩化メチレン ５００部
【０１５９】
（画像形成）
上記インクシートと、上記受像シートを用いて、熱転写型プリンターＡ（ＤＰＢ１５００ 日本電産コパル（株）製）又は熱転写型プリンターＢ（特開平５−２７８２４７号公報の図６に記載のプリンター）により１５２ｍｍ×１０２ｍｍサイズ画像の出力を行った。なお、プリンターＡの搬送速度は７３ｍｍ／秒であった。熱転写型プリンターＢは、画像形成時の感熱転写受像シートの搬送速度を１２５ｍｍ／秒に設定してプリントを行った。この際、熱転写型プリンターＡでプリントした時と同等の濃度階調が得られるようサーマルヘッドの発熱量を調節した。黒ベタ画像を連続１０枚出力し、出力画像に融着やインク剥がれの有無を以下のランクで評価した。
５ 融着やインク剥がれなどが見られずほとんどムラがない
４ 若干のムラが見られるが、融着やインク剥がれは見られず実用上問題ない
３ 融着やインク剥がれは見られないが、明らかなムラが見られ、実用上問題である
２ 融着やインク剥がれがみられるが受像シートはプリンターから排出される
１ インクシートと受像シートが融着し、プリンターから排出されない
【０１６０】
また、皺の発生は、以下のランクで評価した。
○ 皺の発生が見られない
△ 若干の皺の発生が見られる
× 皺の発生が多く、実用上問題がある
【０１６１】
（耐光性試験）
上記画像試料に、３７０ｎｍでの光透過率５０％の紫外線カットフィルターおよび熱線カットフィルターを介してキセノン光（１０万ｌｘキセノン光照射器）を１４日間照射した。シアン初期濃度１．０での曝露後の残存率を算出し、評価した。なお、濃度は分光光度計（グレタグマクベス（株）社 ＳｐｅｃｔｒｏＥｙｅ）を用いて反射濃度を求めた。
残存率（％）＝［照射後の光学濃度／照射前の光学濃度］×１００（％）
◎：平均残存率が８０％以上
○：平均残存率が７０％以上８０％未満
△：平均残存率が６０％以上７０％未満
×：平均残存率が６０％未満
【０１６２】
【表１】
【０１６３】
上記表１から、本発明のインクシートと受像シートの組み合わせが、融着等、耐光性、皺の点で優れており、しかも搬送速度が速い場合にこの効果が顕著であることがわかる。
【図面の簡単な説明】
【０１６４】
【図１】本発明の感熱転写記録に用いられる熱記録装置の説明図である。
【符号の説明】
【０１６５】
１０ サーマルヘッド
１１ 発熱素子アレイ
１４ 記録紙（感熱転写受像シート）
１５ インクフイルム（感熱転写シート）
２５ プラテンドラム
２６ クランプ部材
２７ パルスモーター
２８,２９ ガイドローラ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルムの一方の面に熱転写可能な色材を含有する熱転写層を有し、他方の面に耐熱滑性層が形成されている熱転写シートと、
支持体上に、ポリエステルおよび／またはポリカーボネート系ポリマーを含む少なくとも１層の受容層を有する感熱転写受像シートとを、
該熱転写シートの熱転写層と該感熱転写受像シートの受容層とが接するよう重ねあわせ、サーマルヘッドから画像信号に応じた熱エネルギーを付与することにより画像を形成することを特徴とする画像形成方法。
【請求項２】
前記耐熱滑性層が、２個以上のイソシアネート基を有する化合物とポリマーとの反応で得られたポリマーを含有することを特徴とする請求項１に記載の画像形成方法。
【請求項３】
前記耐熱滑性層の厚みが０．１〜２．０μｍであることを特徴とする請求項１または２に記載の画像形成方法。
【請求項４】
前記熱転写シートに、下記一般式（７）又は（８）で表される少なくとも１種の色素を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の画像形成方法。
【化１】
（一般式（７）中、Ｒ51およびＲ52は各々独立に置換基を表す。ｎ８は０〜５の整数を表す。ｎ９は０〜４の整数を表す。）
【化２】
（一般式（８）中、Ｒ61は置換基を表し、Ｒ62、Ｒ63およびＲ64は各々独立に水素原子または置換基を表す。ｎ１０は０〜４の整数を表す。）
【請求項５】
前記熱転写シートに、下記一般式（９）、（１０）又は（１１）のいずれかで表される少なくとも１種の色素を含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の画像形成方法。
【化３】
（一般式（９）中、Ｒ71およびＲ73は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ72およびＲ74は各々独立に置換基を表す。ｎ１１は０〜４の整数を表す。ｎ１２は０〜２の整数を表す。）
【化４】
（一般式（１０）中、Ｒ81は水素原子または置換基を表す。Ｒ82およびＲ84は各々独立に置換基を表す。ｎ１３は０〜４の整数を表す。ｎ１４は０〜２の整数を表す。）
【化５】
（一般式（１１）中、Ｒ91は水素原子または置換基を表す。Ｒ92は置換基を表す。Ｒ93およびＲ94は各々独立に水素原子または置換基を表す。ｎ１５は０〜２の整数を表す。Ｚ1およびＺ2は、どちら一方が＝Ｎ−であり、他方が＝Ｃ(Ｒ95)−を表す。Ｚ3およびＺ4は各々独立に＝Ｎ−または＝Ｃ(Ｒ95)−を表す。ここで、Ｒ95は水素原子または置換基を表す。）
【請求項６】
前記感熱転写シートに、下記一般式（１２）又は（１３）で表される少なくとも１種の色素を含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の画像形成方法。
【化６】
（一般式（１２）中、Ｒ101およびＲ102は各々独立に置換基を表す。Ｒ103およびＲ104は各々独立に水素原子または置換基を表す。ｎ１６およびｎ１７は各々独立に０〜４の整数を表す。）
【化７】
（一般式（１３）中、Ｒ111およびＲ113は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ112およびＲ114は各々独立に置換基を表す。ｎ１８は０〜４の整数を表す。ｎ１９は０〜２の整数を表す。）
【請求項７】
画像形成時の前記感熱転写受像シートの搬送速度が１２５ｍｍ／秒以上であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の画像形成方法。
【請求項１】
基材フィルムの一方の面に熱転写可能な色材を含有する熱転写層を有し、他方の面に耐熱滑性層が形成されている熱転写シートと、
支持体上に、ポリエステルおよび／またはポリカーボネート系ポリマーを含む少なくとも１層の受容層を有する感熱転写受像シートとを、
該熱転写シートの熱転写層と該感熱転写受像シートの受容層とが接するよう重ねあわせ、サーマルヘッドから画像信号に応じた熱エネルギーを付与することにより画像を形成することを特徴とする画像形成方法。
【請求項２】
前記耐熱滑性層が、２個以上のイソシアネート基を有する化合物とポリマーとの反応で得られたポリマーを含有することを特徴とする請求項１に記載の画像形成方法。
【請求項３】
前記耐熱滑性層の厚みが０．１〜２．０μｍであることを特徴とする請求項１または２に記載の画像形成方法。
【請求項４】
前記熱転写シートに、下記一般式（７）又は（８）で表される少なくとも１種の色素を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の画像形成方法。
【化１】
（一般式（７）中、Ｒ51およびＲ52は各々独立に置換基を表す。ｎ８は０〜５の整数を表す。ｎ９は０〜４の整数を表す。）
【化２】
（一般式（８）中、Ｒ61は置換基を表し、Ｒ62、Ｒ63およびＲ64は各々独立に水素原子または置換基を表す。ｎ１０は０〜４の整数を表す。）
【請求項５】
前記熱転写シートに、下記一般式（９）、（１０）又は（１１）のいずれかで表される少なくとも１種の色素を含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の画像形成方法。
【化３】
（一般式（９）中、Ｒ71およびＲ73は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ72およびＲ74は各々独立に置換基を表す。ｎ１１は０〜４の整数を表す。ｎ１２は０〜２の整数を表す。）
【化４】
（一般式（１０）中、Ｒ81は水素原子または置換基を表す。Ｒ82およびＲ84は各々独立に置換基を表す。ｎ１３は０〜４の整数を表す。ｎ１４は０〜２の整数を表す。）
【化５】
（一般式（１１）中、Ｒ91は水素原子または置換基を表す。Ｒ92は置換基を表す。Ｒ93およびＲ94は各々独立に水素原子または置換基を表す。ｎ１５は０〜２の整数を表す。Ｚ1およびＺ2は、どちら一方が＝Ｎ−であり、他方が＝Ｃ(Ｒ95)−を表す。Ｚ3およびＺ4は各々独立に＝Ｎ−または＝Ｃ(Ｒ95)−を表す。ここで、Ｒ95は水素原子または置換基を表す。）
【請求項６】
前記感熱転写シートに、下記一般式（１２）又は（１３）で表される少なくとも１種の色素を含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の画像形成方法。
【化６】
（一般式（１２）中、Ｒ101およびＲ102は各々独立に置換基を表す。Ｒ103およびＲ104は各々独立に水素原子または置換基を表す。ｎ１６およびｎ１７は各々独立に０〜４の整数を表す。）
【化７】
（一般式（１３）中、Ｒ111およびＲ113は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ112およびＲ114は各々独立に置換基を表す。ｎ１８は０〜４の整数を表す。ｎ１９は０〜２の整数を表す。）
【請求項７】
画像形成時の前記感熱転写受像シートの搬送速度が１２５ｍｍ／秒以上であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の画像形成方法。
【図１】
【公開番号】特開２００７−２３７６３１（Ｐ２００７−２３７６３１Ａ）
【公開日】平成１９年９月２０日（２００７．９．２０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−６５１７３（Ｐ２００６−６５１７３）
【出願日】平成１８年３月１０日（２００６．３．１０）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年９月２０日（２００７．９．２０）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年３月１０日（２００６．３．１０）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
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