断熱被覆を製造するための組成物
本発明は、少なくとも１種の放射線吸収化合物及び少なくとも１種のIR‐反射体‐成分を包含する断熱被覆の製造のための組成物、この配向され硬化した組成物を包含する断熱被覆、及びその製法に関する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、少なくとも１種の放射線吸収化合物及び少なくとも１種のIR‐反射体‐成分を包含する断熱被覆を製造するための組成物、この配向され硬化した組成物を包含する断熱被覆、及びその製法に関する。
【０００２】
熱輻射の遮蔽問題は、殊に、住居‐、事務所‐又は工場建築物の絶縁で、殊に、大規模な窓面積を有する建築物において、しかし又、輸送手段、例えば、自動車及び公共の交通手段において生じている。
【０００３】
断熱、殊に、波長範囲８００nm〜２０００nmの熱輻射を遮蔽するために、広汎に熱輻射を反射する物質を使用することは知られている。これらの種類の物質は、例えば、コレステリックIR‐反射層である。
【０００４】
形態異方性物質の加熱の際に、液晶相、いわゆる中間相が生じ得る。個々の相は、一方で、分子‐重心の空間配列によって、他方で、縦軸に関する分子配列によって異なる（G.W. Gray, P.A. Winsor, Liquid Crystals and Plastic Crystals, Ellis Horwood Limited, Chichester, 1974）。
【０００５】
ネマチック液晶相は、分子‐縦軸の平行配向を特徴とする（一次元的配列状態）。ネマチック相を形成する分子はキラルであるという前提下に、いわゆるキラルのネマチック（コレステリック）相が生じ、その際、分子の縦軸はそれに垂直のらせん状超格子を形成する（H. Baessler, Festkoerperprobleme XI, 1971）。分子縦軸の均等整列を有する仮定的な２層の間の距離をピッチと称する。
【０００６】
キラル分子部分は、液晶分子自体で存在することもでき、ネマチック相に添加物として加えることもでき、それによってキラルネマチック相が生じられる。この現象は、最初に、コレステロール誘導体で試された（例えば、H. Baessler, M.M. Labes, J. Chem. Phys. 52, 631(1970))。キラル添加物の濃度の変化によって、キラルのネマチック相のピッチ及びそれに伴い選択的に反射される放射線の波長範囲が変えられる。
【０００７】
キラルネマチック相は、特別な光学的特性を有する：高い旋光性及び円偏光の選択反射によってキラルネマチック相内部に生じる卓越した円偏光二色性。そのようなキラルネマチック系は、実用への重要な可能性を示す。
【０００８】
透明な断熱被覆は公知である。即ち、EP‐Ａ７２７３０６は、２枚のガラス板とその間にある、超微細粒子が一緒に分散されている層から成る合せガラスを記載している。中間層は断熱及びUV‐吸収のために用いられる。
【０００９】
JP‐Ａ‐２８１４０３／９２は、１枚の透明なプレート及びIR‐線を幅広い波長範囲に渡り反射する１枚の被覆から、及び近似IRの波長を選択的に反射しかつ可視光の高透過性を有するコレステリック液晶製の１枚の波長‐フィルターから成るラミネートを記載している。IR吸収成分の使用は記載されていない。
【００１０】
DE‐A‐１９８１７０６９は、IR‐線を反射するコレステリック液晶ポリマー及び吸光性色料から成る、IR‐線反射性色料を記載している。色料とは、その最高吸収が３５０〜７５０nmの範囲にある化合物が解される。IR‐線を吸収する成分の使用は記載されていない。
【００１１】
WO‐A‐９９／１９２６７は、１層以上のコレステリックIR‐反射層を包含する断熱被覆を記載している。被覆は透明かつ無色である。当然、有効な断熱を、数層のコレステリック層だけで得ている。
【００１２】
本発明の課題は、できるだけ薄い、有効な、調色された断熱被覆を製造することであった。
【００１３】
この課題は、
i）少なくとも１種の、一般式I：
【００１４】
【化１】
［式中、
Ｐは、塩基及び求核基に対して安定で、場合によりアリール置換基を有し、‐ＣＯ‐ＮＨ‐ＣＯ‐、‐ＣＯＯＨ及び‐ＣＯ‐Ｏ‐ＣＯ‐基から成る基を含有しない、共役多環状基を表わし、
Ｒは、Ｃ１〜Ｃ８‐アルキル基（その炭素鎖は、‐Ｏ‐、‐Ｓ‐、‐ＮＲ１‐、‐ＣＯ‐及び‐ＳＯ２‐から選択される１個以上の基によって遮断されていてよく、この際、炭素鎖は、場合により、１個以上のＣ１〜Ｃ６‐アルコキシ又は１個の窒素原子を介して結合した場合により他のヘテロ原子を含有し及び／又は芳香族である５‐〜７‐員の複素環基から選択される同じ又は異なる基で置換されている）、又はＣ５〜Ｃ８‐シクロアルキル基（その炭素骨格は、‐Ｏ‐、‐Ｓ‐、‐ＮＲ１‐、‐ＣＯ‐及び‐ＳＯ２‐から選択される１個以上の基によって遮断されていてよく、この際、炭素骨格は、場合により、１個以上のＣ１〜Ｃ６‐アルキルによって置換されている）を表わし、
Ｒ１は、水素又はＣ１〜Ｃ６‐アルキルを表わし、
Halは、塩素及び／又は臭素を表わし、
ｍは、０〜１５の数を表わし、かつ
nは、１〜１６の数を表わし、この際、合計ｍ＋n≦１６である］の放射線吸収性の三級‐アルキルフェノキシ置換の多環状化合物Ａ
及び
ii）少なくとも１種の硬化可能なIR‐反射体‐成分Ｂ（これは、
a）少なくとも１種のアキラルでネマチックの重合可能なモノマー及び少なくとも１種のキラルの重合可能なモノマー、
ｂ）少なくとも１種のコレステリックの重合可能なモノマー、
ｃ）少なくとも１種のコレステリックの架橋結合可能なポリマー、又は
ｄ）重合可能な希釈剤中の少なくとも１種のコレステリックポリマー
を含有する）
を包含する、断熱被覆を製造するための組成物によって解明された。
【００１５】
成分ＢのIR‐反射体‐特性は、成分Ｂの配向及び硬化により、モノマーa）又はｂ）の重合によって得られる配向されたコレステリックポリマーの少なくとも１部、又は配向されたポリマーｃ）又はｄ）の少なくとも１部が、IR‐スペクトル範囲の波長に相応するらせん状超格子のピッチを有することに起因すると考えられる。
【００１６】
本発明の範囲における硬化とは、モノマーの重合も、ポリマーの架橋結合も解される。
【００１７】
放射吸収化合物Ａとは、赤外線（IR‐線）のスペクトル範囲で、即ち、波長＞７５０nm〜約１ｍｍ、有利に７５１nm〜約２０００nmで、及び／又は可視スペクトル範囲で、即ち、波長３５０〜７５０nm、有利に５５０〜７５０nmのスペクトル範囲で、及び／又は紫外線（UV‐線）のスペクトル範囲で、即ち、波長１０nm〜＜３５０nm、有利に１００nm〜３４９nmのスペクトル範囲で吸収する化合物が解される。化合物Ａは、有利に、赤外線、殊に７５１〜２０００nmのスペクトル範囲で、及び／又は可視スペクトル範囲、殊に５５０〜７５０nmの範囲で吸収する。化合物Ａは、特に有利に、赤外線、殊に７５１〜２０００nmのスペクトル範囲で、及び可視スペクトル範囲、殊に５５０〜７５０nmのスペクトル範囲で吸収する。
【００１８】
化合物Ａは、純物質として、又は位置異性体の混合物として、又は物質混合物として使用され得る。
【００１９】
式Iの化合物Ａは、例えば、PCT‐出願PCT／EP０２／０３２７９に記載されていて、反応条件において塩基及び求核基に対して安定した共役多環状基Ｐをベースとしている。基Ｐは、殊に、‐ＣＯ‐ＮＨ‐ＣＯ‐、‐ＣＯＯＨ及び‐ＣＯ‐Ｏ‐ＣＯ‐基から成る基を含有しない。
【００２０】
基Ｐは、塩基性では攻撃され得ないアリール置換基、例えば、非置換の、アルキル‐及び／又はアルコキシ置換のアリール、殊に、フェニル、又はヘタリール、例えば、２‐、３‐及び４‐ピリジル及びピリミジルを有することができる。このアリール置換基は、環骨格に直接結合しているか、又は更に後記の多環状イミドの場合には、イミド窒素原子に結合していてもよい。
【００２１】
そのようなアリール置換基Ｐでは、三級‐アルキルフェノキシ基は、アリール置換基を介して基Ｐに結合していてよく、要するに、例えば、ジフェニルジケトピロロピロール又はＮ，Ｎ’‐ジフェニルペリレン‐３，４；９，１０‐テトラカルボン酸ジイミドでは、フェニル基の４‐又は３，５‐位を介して結合していてよい。
【００２２】
Ｐは、有利に、ナフタリン、アントラセン、フェナントレン、テトラセン、ペリレン、テリレン、クァテリレン、パンタリレン及びヘキサリレン、アントラキノン、インダンスロン、Ｎ‐置換のナフタリン‐１，８‐ジカルボン酸‐モノイミド（次から、”ナフタルモノイミド”と略称する”）、Ｎ，Ｎ’‐二置換のナフタリン‐１，８：４，５‐テトラカルボン酸ジイミド（略称”ナフタルイミド”）、Ｎ‐置換のペリレン‐３，４‐ジカルボン酸モノイミド（略称”ペリルモノイミド”）、Ｎ，Ｎ’‐二置換のペリレン‐３，４：９，１０‐テトラカルボン酸ジイミド（略称”ペリルイミド”）、Ｎ，Ｎ’‐二置換のテリレン‐３，４：１１，１２‐テトラカルボン酸ジイミド（略称”テリルイミド”）、Ｎ，Ｎ’‐二置換のクァテリレン‐３，４：１３，１４‐テトラカルボン酸ジイミド（略称”クァテリルイミド”）、アクリジン、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジナフトフラン、ベンズイミダゾール、ベンズチアゾール、フェナジン、ジオキサジン、キナクリドン、金属フタロシアニン、金属ナフタロシアニン、金属ポルフィリン、クマリン、ジベンゾフラノン、ジナフトフラノン、ベンズイミダゾロン、インジゴ化合物、チオインジゴ化合物、キノフタロン、ナフトキノフタロン及びジケトピロロピロールの群から成る塩基安定基を表わす。
【００２３】
この際、ナフタリン、キナクリドン、ジケトピロロピロール、ジオキサジン、インダンスロン、金属フタロシアニン、金属ナフタロシアニン、ナフタルモノイミド、ペリルモノイミド、ペリルイミド、テリルイミド及びクァテリルイミドの群から成る基Ｐが特に有利であり、この際、金属フタロシアニン、金属ナフタロシアニン、金属ポルフィリン、テリルイミド及びクァテリルイミドが極めて特に有利である。この中で、クァテリルイミドが殊に有利である。
【００２４】
化合物Ｉを特徴付ける三級‐アルキルフェノキシ基及び場合により付加的に存在するハロゲン原子は、直接又は前記のように、場合により存在するアリール置換基を介して、基Ｐの環骨格に結合していてよい。勿論、２つの結合形態が化合物Ｉ中にあってもよい。より大きな基Ｐ、例えば、ペリルモノイミド、ペリルイミド、テリルイミド及びクァテリルイミドは、三級‐アルキルフェノキシ基を、有利に直接環骨格に有するか、又は少なくとも直結した三級‐アルキルフェノキシ基をアリーレン結合の三級‐アルキルフェノキシ基に付加的に有する。
【００２５】
共役環骨格の大きさに応じて、化合物Ｉは、少なくとも１個〜１６個までの（n：１〜１６）、殊に、２〜８個の三級‐アルキルフェノキシ基を含有する。
【００２６】
特に有利な基Ｐについて、一般的に好適で有利な範囲の合計ｍ＋nを例として挙げる：ナフタリン：１〜４、殊に１〜２；キナクリドン：１〜８、殊に２〜４；ジケトピロロピロール：１〜６、殊に２〜４；ジオキサジン：１〜８、殊に２〜４；インダンスロン：１〜６、殊に２〜４；金属フタロシアニン：１〜１６、殊に４〜８；金属ナフタロシアニン：１〜１６、殊に８〜１６；ナフタルモノイミド：１〜４、殊に１〜２；ペリルモノイミド：１〜６、殊に１〜３；ペリルイミド：１〜８、殊に２〜６；テリルイミド：１〜１２、殊に２〜８；クァテリルイミド：１〜１４、殊に２〜８。
【００２７】
基Ｐが、三級‐アルキルフェノキシ基の結合には用いられない付加的なアリール置換基を有する場合には、当然、可能な最大合計ｍ＋nは相応に低下する。
【００２８】
三級‐アルキルフェノキシ基及び場合により存在するHal‐置換基は、基Ｐを介して、有利に統計学的に分配されている。
【００２９】
次に、式Ｉ中に現れる基Ｒ及びＲ１及びその置換基の好適な例を挙げる。
Ｃ１〜Ｃ６‐アルキルは、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、二級‐ブチル、三級‐ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、三級‐ペンチル、ヘキシル及び２‐メチルペンチルを表わす。Ｃ１〜Ｃ８‐アルキルは、これらの基の他に、更に例えば、ヘプチル、１‐エチルペンチル、オクチル、２‐エチルヘキシル及びイソオクチルを表わす。
その炭素鎖が１個以上の基‐Ｏ‐によって遮断されていてよいＣ１〜Ｃ８‐アルキルは、例えば、２‐メトキシエチル、２‐エトキシエチル、２‐プロポキシエチル、２‐イソプロポキシエチル、２‐ブトキシエチル、２‐及び３‐メトキシプロピル、２‐及び３‐エトキシプロピル、２‐及び３‐プロポキシプロピル、２‐及び３‐ブトキシプロピル、２‐及び４‐メトキシブチル、２‐及び４‐エトキシブチル、２‐及び４‐プロポキシブチル、３，６‐ジオキサヘプチル、３，６‐ジオキサオクチル、４，８‐ジオキサノニル、３，７‐ジオキサオクチル、３，７‐ジオキサノニル、４，７‐ジオキサオクチル、４，７‐ジオキサノニル、２‐及び４‐ブトキシブチル、４，８‐ジオキサデシル、３，６，９‐トリオキサデシル及び３，６，９‐トリオキサウンデシルを表わす。
【００３０】
その炭素鎖が１個以上の基‐Ｓ‐によって遮断されていてよいＣ１〜Ｃ８‐アルキルは、例えば、２‐メトキシチオエチル、２‐エチルチオエチル、２‐プロピルチオエチル、２‐イソプロピルチオエチル、２‐ブチルチオエチル、２‐及び３‐メチルチオプロピル、２‐及び３‐エチルチオプロピル、２‐及び３‐プロピルチオプロピル、２‐及び３‐ブチルチオプロピル、２‐及び４‐メチルチオブチル、２‐及び４‐エチルチオブチル、２‐及び４‐プロピルチオブチル、３，６‐ジチアヘプチル、３，６‐ジチアオクチル、４，８‐ジチアノニル、３，７‐ジチアオクチル、３，７‐ジチアノニル、４，７‐ジチアオクチル、４，７‐ジチアノニル、２‐及び４‐ブチルチオブチル、４，８‐ジチアデシル、３，６，９‐トリチアデシル及び３，６，９‐トリチアウンデシルを表わす。
【００３１】
その炭素鎖が１個以上の基‐ＮＲ１‐によって遮断されていてよいＣ１〜Ｃ８‐アルキルは、例えば、２‐モノメチル‐及び２‐モノエチルアミノエチル、２‐ジメチルアミノエチル、２‐及び３‐ジメチルアミノプロピル、３‐モノイソプロピルアミノプロピル、２‐及び４‐モノプロピルアミノブチル、２‐及び４‐モノメチルアミノブチル、６‐メチル‐３，６−ジアザヘプチル、３，６‐ジメチル‐３，６‐ジアザヘプチル、３，６‐ジアザオクチル、３，６‐ジメチル‐３，６‐ジアザオクチル、９‐メチル‐３，６，９‐トリアザデシル、３，６，９‐トリメチル‐３，６，９‐トリアザデシル、３，６，９‐トリアザウンデシル及び３，６，９‐トリメチル‐３，６，９‐トリアザウンデシルを表わす。
【００３２】
その炭素鎖が１個以上の基‐ＣＯ‐によって遮断されていてよいＣ１〜Ｃ８‐アルキルは、例えば、プロパン‐２−オン‐１−イル、ブタンー３‐オン‐１‐イル、ブタン‐３‐オン‐２‐イル及び２‐エチル‐ペンタン‐３‐オン‐１‐イルを表わす。
【００３３】
その炭素鎖が１個以上の基‐ＳＯ２‐によって遮断されていてよいＣ１〜Ｃ８‐アルキルは、例えば、２‐メチルスルホニルエチル、２‐エチルスルホニルエチル、２‐プロピルスルホニルエチル、２‐イソプロピルスルホニルエチル、２‐ブチルスルホニルエチル、２‐及び３‐メチルスルホニルプロピル、２‐及び３‐エチルスルホニルプロピル、２‐及び３‐プロピルスルホニルプロピル、２‐及び３‐ブチルスルホニルプロピル、２‐及び４‐メチルスルホニルブチル、２‐及び４‐エチルスルホニルブチル、２‐及び４‐プロピルスルホニルブチル及び４‐ブチルスルホニルブチルを表わす。
【００３４】
Ｃ１〜Ｃ６‐アルコキシは、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、二級‐ブトキシ、三級‐ブトキシ、ペントキシ、イソペントキシ、ネオペントキシ、三級‐ペントキシ及びヘキソキシを表わす。
【００３５】
場合により他のヘテロ原子を含有する及び／又は芳香族系であってよい、窒素原子を介して結合された５‐〜７‐員の複素環基は、例えば、ピロール、ピラゾール、イミダゾール、トリアゾール、ピロリジン、ピラゾリン、ピラゾリジン、イミダゾリン、イミダゾリジン、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、ピペリジン、ピペラジン、オキサゾール、イソオキサゾール、トリアゾール、イソトリアゾール、インドール、キノリン、イソキノリン又はキナルジンを表わす。
【００３６】
その炭素骨格が、‐Ｏ‐、‐Ｓ‐、‐ＮＲ１‐、‐ＣＯ‐及び‐ＳＯ２‐から選択される１個以上の基によって遮断されていてよい（この際、炭素骨格は、１個以上のＣ１〜Ｃ６‐アルキルによって置換されていてよい）Ｃ５〜Ｃ８‐シクロアルキルは、例えば、シクロペンチル、２‐及び３‐メチルシクロペンチル、２‐及び３‐エチルシクロペンチル、シクロヘキシル、２‐、３‐及び４‐メチルシクロヘキシル、２‐、３‐及び４‐エチルシクロヘキシル、３‐及び４‐プロピルシクロヘキシル、３‐及び４‐イソプロピルシクロヘキシル、３‐及び４‐ブチルシクロヘキシル、３‐及び４‐ｓ‐ブチルシクロヘキシル、３‐及び４‐ｔ‐ブチルシクロヘキシル、シクロヘプチル、２‐、３‐及び４‐メチルシクロヘプチル、２‐、３‐及び４‐エチルシクロヘプチル、３‐及び４‐プロピルシクロヘプチル、３‐及び４‐イソプロピルシクロヘプチル、３‐及び４‐ブチルシクロヘプチル、３‐及び４‐ｓ‐ブチルシクロヘプチル、３‐及び４‐ｔ‐ブチルシクロヘプチル、シクロオクチル、２‐、３‐、４‐及び５‐メチルシクロオクチル、２‐、３‐、４‐及び５‐エチルシクロオクチル、３‐、４‐及び５‐プロピルシクロオクチル、２‐ジオキサニル、４‐モルホリニル、２‐及び３‐テトラヒドロフリル、１‐、２‐及び３‐ピロリジニル及び１‐、２‐、３‐及び４‐ピペリジルを表わす。
【００３７】
有利な三級‐アルキルフェノキシ基の例として、ｐ‐（１，１‐ジメチルプロピル）フェノキシ、ｐ‐（１，１‐ジメチルブチル）フェノキシ、ｐ‐（１，１‐ジメチルペンチル）フェノキシ、ｐ‐（１，１，３，３‐テトラメチルブチル）フェノキシ、ｐ‐（２‐シクロペンチル‐１，１‐ジメチルエチル）フェノキシ、ｐ‐（２‐シクロヘキシル‐１，１‐ジメチルエチル）フェノキシ、ｐ‐（２‐シクロヘプチルー１，１‐ジメチルエチル）フェノキシ及びｐ‐（１，１‐ジメチル‐２‐（４‐モルホリニル）エチル）フェノキシが挙げられる。ｐ‐（１，１，３，３‐テトラメチルブチル）フェノキシが特に有利である。
【００３８】
特に有利なナフタルモノイミド、ペリルモノイミド、ペリルイミド、テリルイミド及びクァテリルイミドは、イミド窒素原子に、殊に、次の塩基安定置換基Ｒ２を有する：
その炭素鎖が、‐Ｏ‐、‐Ｓ‐、‐ＮＲ１‐、‐ＣＯ‐及び‐ＳＯ２‐から選択される１個以上の基によって遮断されていてよい（この際、炭素鎖は、場合によりＣ１〜Ｃ６‐アルコキシ及び場合により他のヘテロ原子を含有する、及び／又は芳香性である１個の窒素原子を介して結合された５‐〜７‐員の複素環基から選択される同じ又は異なる基で１個以上置換されていてよい）Ｃ１〜Ｃ３０‐アルキル；
その炭素骨格が、‐Ｏ‐、‐Ｓ‐、‐ＮＲ１‐、‐ＣＯ‐及び‐ＳＯ２‐から選択される１種以上の基によって遮断されていてよい（この際、炭素骨格は、場合により、１個以上のＣ１〜Ｃ６‐アルコキシによって置換されていてよい）Ｃ５〜Ｃ８‐シクロアルキル；
各々１個以上のＣ１〜Ｃ１８‐アルキル、Ｃ１〜Ｃ６‐アルコキシ、シアノ、‐ＣＯＮＨ‐Ｒ１及び／又は‐ＮＨ‐ＣＯＲ１によって置換されていてよい、アリール又はヘタリール、例えば、フェニル、ナフチル、アントラセニル、フェナントレニル、ピロリル、ピラゾリル、イミダゾリル、オキサゾリル、チアゾリル、ピリジニル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、インドリル、キノリニル、イソキノリニル又はキナルジニル。
【００３９】
これらの置換基について詳細には、前記の基に補足して、例えば、次の基が挙げられる：
Ｃ１〜Ｃ３０‐アルキルは、前記のアルキル基のほかに、更に、例えば、ノニル、イソノニル、デシル、イソデシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、イソトリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル及びエイコシル（表示イソノニル、イソデシル及びイソトリデシル及び更に前記の表示イソオクチルは通称表示であり、オキソ合成によって得られるアルコールから由来する）を表わす；
基‐Ｏ‐又は‐Ｓ‐によって遮断されたＣ１〜Ｃ３０‐アルキルは、例えば、３，６，９‐トリオキサドデシル、３，６，９，１２‐テトラオキサトリデシル及び３，６，９，１２‐テトラオキサテトラデシル；３，６，９‐トリチアドデシル、３，６，９，１２‐テトラチアトリデシル及び３，６，９，１２‐テトラチアテトラデシルを表わす；
置換基‐ＣＯ‐ＮＨＲ１‐及び‐ＮＨ‐ＣＯＲ１‐は、例えば、カルバモイル、メチルアミノカルボニル、エチルアミノカルボニル、プロピルアミノカルボニル、ブチルアミノカルボニル、ペンチルアミノカルボニル、ヘキシルアミノカルボニル、ヘプチルアミノカルボニル、オクチルアミノカルボニル、ノニルアミノカルボニル及びデシルアミノカルボニル；ホルミルアミノ、アセチルアミノ及びプロピオニルアミノを表わす；
各々１個以上のＣ１〜Ｃ１８‐アルキル、Ｃ１〜Ｃ６‐アルコキシ、シアノ、‐ＣＯＮＨ‐Ｒ１及び／又は‐ＮＨ‐ＣＯＲ１によって置換されていてよいアリール又はヘタリールは、例えば、２‐、３‐及び４‐メチルフェニル、２，４‐、２，５‐、３，５‐及び２，６‐ジメチルフェニル、２，４，６‐トリメチルフェニル、２‐、３‐及び４‐エチルフェニル、２，４‐、２，５‐、３，５‐及び２，６‐ジエチルフェニル、２，４，６‐トリエチルフェニル、２‐、３‐及び４‐プロピルフェニル、２，４‐、２，５‐、３，５‐及び２，６‐ジプロピルフェニル、２，４，６‐トリプロピルフェニル、２‐、３‐及び４‐イソプロピルフェニル、２，４‐、２，５‐、３，５‐及び２，６‐ジイソプロピルフェニル、２，４，６‐トリイソプロピルフェニル、２‐、３‐及び４‐ブチルフェニル、２，４‐、２，５‐、３，５‐及び２，６‐ジブチルフェニル、２，４，６‐トリブチルフェニル、２‐、３‐及び４‐イソブチルフェニル、２，４‐、２，５‐、３，５‐及び２，６‐ジイソブチルフェニル、２，４，６‐トリイソブチルフェニル、２‐、３‐及び４‐ｓ‐ブチルフェニル、２，４‐、２，５‐、３，５‐及び２，６‐ジ‐ｓ‐ブチルフェニル、２，４，６‐トリ‐ｓ‐ブチルフェニル、２‐、３‐及び４‐ｔ‐ブチルフェニル、２，４‐、２，５‐、３，５‐及び２，６‐ジ‐ｔ‐ブチルフェニル及び２，４，６‐トリ‐ｔ‐ブチルフェニル；２‐、３‐及び４‐メトキシフェニル、２，４‐、２，５‐、３，５‐及び２，６‐ジメトキシフェニル、２，４，６‐トリメトキシフェニル、２‐、３‐及び４‐エトキシフェニル、２，４‐、２，５‐、３，５‐及び２，６‐ジエトキシフェニル、２，４，６‐トリエトキシフェニル、２‐、３‐及び４‐プロポキシフェニル、２，４‐、２，５‐、３，５‐及び２，６‐ジプロポキシフェニル、２‐、３‐及び４‐イソプロポキシフェニル、２，４‐、２，５‐、３，５‐及び２，６‐ジイソプロポキシフェニル及び２‐、３‐及び４‐ブトキシフェニル；２‐、３‐及び４‐シアノフェニル；３‐及び４‐カルボキシアミドフェニル、３‐及び４‐Ｎ‐（メチル）カルボキシアミドフェニル及び３‐及び４‐Ｎ‐（エチル）カルボキシアミドフェニル；３‐及び４‐アセチルアミノフェニル、３‐及び４‐プロピオニルアミノフェニル及び３‐及び４‐ブチリルアミノフェニルを表わす。
【００４０】
特に有利な化合物Ａは、式中のＰが、式II：
【００４１】
【化２】
［式中、Ｒ２は、前記の塩基安定イミド窒素原子‐置換基に相応する］のN，Ｎ’‐二置換のクァテリレン‐３，４：１３，１４‐テトラカルボン酸ジイミドを表わす化合物である。
【００４２】
式中のＰがクァテリルイミドIIを表わす、特に有利な式Iの化合物Ａにおいて、
Ｒは、有利に、Ｈ、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、三級‐ブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、又はモルホリニル、特に有利に、Ｈ、メチル、エチル、ブチル又は三級‐ブチル及び殊に三級‐ブチルを表わし、
Ｒ２は、有利に、置換されたフェニル、特に有利に、１〜３個のＣ１〜Ｃ４‐アルキルによって置換されたフェニル及び殊に２，６‐ジイソプロピルフェニルを表わし、
nは、有利に２〜１０、特に有利に４〜８及び殊に６を表わし、かつ
ｍは、０〜４、特に有利に０〜２及び殊に０を表わす。
【００４３】
n個の三級‐アルキルフェノキシ置換基及びｍ個の置換基Halは、クァテリレン系を介して有利に統計的に分配されている。２個のイミド‐窒素原子間の仮定軸の両側に、各々同様に４個の置換基が存在することが特に有利である。
【００４４】
式Iの化合物は、一般式III：
【００４５】
【化３】
のハロゲニドを、塩基の存在下に、不活性の窒素塩基性溶剤中で、一般式IV：
【００４６】
【化４】
の三級‐アルキルフェノールと反応させる方法によって得ることができる。
【００４７】
不活性の窒素塩基性溶剤として、ここでは殊に、極性溶剤、特に、窒素複素環、例えば、ピリジン、ピリミジン、キノリン、イソキノリン、キナルジン及び有利にＮ‐メチルピロリドン、及びカルボン酸アミド、例えば、Ｎ，Ｎ‐ジメチルホルムアミド及びＮ，Ｎ‐ジメチルアセトアミドが好適である。
【００４８】
溶剤量は、ハロゲニドIIIの溶解性に依存して、通例、ハロゲニドIII １ｇ当たり溶剤２〜４０ｇ、有利に４〜２５ｇである。
【００４９】
塩基として、殊に、非求核性化合物又は極めて弱い求核性の化合物が好適である。そのような塩基の例は、無水の形で使用されるアルカリ金属水酸化物、例えば、水酸化カリウム及び‐ナトリウム、アルカリ金属炭酸塩、例えば、炭酸カリウム及び‐ナトリウム、及び三級アルコールのアルカリ金属アルコラート、例えば、リチウム‐、ナトリウム‐及びカリウム‐ｔ‐ブチラートである。
【００５０】
通例、置換すべきハロゲン原子１モル当たり、塩基０．８〜１．５、有利に１．０〜１．２モル当量が使用される。
【００５１】
出発物質として使用されるハロゲニドIIIは、一般に公知であり、又は公知方法により、非ハロゲン化共役多環状化合物と、ハロゲン化剤、殊に、元素ハロゲンとの反応によって得られる。ハロゲン原子をアリール置換基に結合して含有するハロゲニドIIIは、公知方法で、通例、多環状系へのハロゲン化アリール基の導入を経て得られる。
【００５２】
ハロゲニドIII対フェノールIVのモル比は、置換すべきハロゲン原子の数に依存している。一般に、ハロゲニドIII中の交換すべきハロゲン原子１モル当たりフェノールIV１〜２、有利に１〜１．３モルを使用する。
【００５３】
反応温度は、通例、５０〜２００℃、有利に、６０〜１４０℃である。
【００５４】
反応を、保護ガス、例えば、窒素又はアルゴン下に実施することが推奨される。
【００５５】
反応時間は、ハロゲニドIIIの反応性に依存して、約２〜４８時間である。
【００５６】
反応条件（フェノールIV及び塩基の量及び反応温度）の選択によって、ハロゲン交換を有利に調整することができ、従って、式中の全ハロゲン原子が交換されている（ｍ＝０）生成物Iも、なおハロゲンを含有する生成物Iも、問題なく製造することができる。所望の場合には、ハロゲンを、引き続き更に生成物Iから除去することができる。出発生成物IIIから、所望により、異なる生成物Iを製造することもできる。
【００５７】
成分Ｂにおいて、有利な群a）のモノマーは、WO９９／１９２６７及びドイツ国特許出願Ｐ１０２０３９３８．０に記載されていていて、全範囲でそれについて引用される。群a）のアキラルでネマチックの重合可能なモノマーは、有利に二官能的に重合可能であり、有利に、一般式Ｖ：
Ｚ１−（Ｙ１−Ａ１）Ｖ−Ｙ２−Ｍ−Ｙ３−（Ａ２−Ｙ４）Ｗ−Ｚ２ （Ｖ）
［式中、
Ｚ１、Ｚ２は、これを介して重合が行なわれ得る同じ又は異なる反応基又はそのような反応基を含有する基を表わし、この際、反応基とは、Ｃ＝Ｃ‐二重結合、Ｃ≡Ｃ‐三重結合、オキシラン‐、チイラン‐、アジラン‐、シアネート‐、チオシアネート‐、イソシアネート‐、カルボン酸‐、ヒドロキシ‐又はアミノ基のことであり、この際、Ｃ＝Ｃ‐二重結合が特に有利であり、
Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４は、相互に無関係で、化学結合、Ｏ、Ｓ、‐ＣＯ‐Ｏ‐、‐Ｏ‐ＣＯ‐、‐Ｏ‐ＣＯ‐Ｏ‐、‐ＣＯ‐Ｓ‐、‐Ｓ‐ＣＯ‐、‐ＣＯ‐Ｎ（Ｒ３）‐、‐Ｎ（Ｒ３）‐ＣＯ‐、‐Ｎ（Ｒ３）‐ＣＯ‐Ｏ‐、‐Ｏ‐ＣＯ‐Ｎ（Ｒ３）‐、‐Ｎ（Ｒ３）‐ＣＯ‐Ｎ（Ｒ３）‐、‐ＣＨ２‐Ｏ‐、‐Ｏ‐ＣＨ２‐、有利に、‐ＣＯ‐Ｏ‐、‐Ｏ‐ＣＯ‐又は‐Ｏ‐ＣＯ‐Ｏ‐を表わし、
この際、Ｒ３は水素又はＣ１〜Ｃ４‐アルキルを表わし、
Ａ１、Ａ２は、同じ又は異なるスペーサー、例えば、酸素、硫黄、場合により１個置換された窒素によって遮断されていてよい直鎖状のＣ２〜Ｃ３０‐アルキレン基、有利に、Ｃ２〜Ｃ１２‐アルキレン基を表わし、この際、これらの遮断基は隣接していてはならず、この際、好適なアミン置換基はＣ１〜Ｃ４‐アルキル基を包含し、この際、アルキレン鎖は弗素、塩素、臭素、シアン、メチル又はエチルによって置換されていてよく、かつこの際、特に有利に、Ａ１及びＡ２は、−（ＣＨ２）−ｎ（n＝２〜６）を表わし、
ｖ、ｗは、０又は１であり、
Ｍは、有利に、一般式VI：
（Ｔ‐Ｙ５）ｍ‐Ｔ （VI）
を有するメソゲン（mesogene）基を表わし、
この際、
Ｔは、同じ又は異なる２価の同素環状脂肪族系、複素環状脂肪族系、同素芳香族系又は複素芳香族系基、有利に、１，４−結合の非置換の、又は１個以上、例えば、１〜４個置換されたベンゾール環：
【００５８】
【化５】
を表わし、
この際、
Ｒ４は、弗素、塩素、臭素、Ｃ１〜Ｃ２０‐アルキル、Ｃ１〜Ｃ２０‐アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ２０‐アルキルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ２０‐アルキルカルボニルオキシ、ヒドロキシ、ニトロ、ＣＨＯ又はＣＮ、有利に、塩素、臭素又はＣ１〜Ｃ４‐アルキル、殊に、メチルを表わし、かつ
nは、０〜４、有利に０〜２、殊に、０又は１の整数を表わし、
Ｙ５は、同じ又は異なる架橋結合員‐ＣＯ‐Ｏ‐、‐Ｏ‐ＣＯ‐、‐ＣＨ２‐Ｏ‐、‐Ｏ‐ＣＨ２‐、‐ＣＯ‐Ｓ‐、‐Ｓ‐ＣＯ‐、‐ＣＨ２‐Ｓ‐、‐Ｓ‐ＣＨ２、‐ＣＨ＝Ｎ‐又は‐Ｎ＝ＣＨ‐又は直接結合、有利に‐ＣＯ‐Ｏ‐又は‐Ｏ‐ＣＯ‐を表わし、かつ
ｍは、０〜３、有利に、０、１又は２の整数を表わす］に相応する。
【００５９】
メソゲン基は、置換された１，４‐ジオキシベンゾール‐構成要素、殊に、メチル‐置換の１，４‐ジオキシベンゾール‐構成要素を有することが有利である。
特に有利なメソゲン基は、次の構造VII：
【００６０】
【化６】
［式中、
Ｒ４は、弗素、塩素、臭素、Ｃ１〜Ｃ２０‐アルキル、Ｃ１〜Ｃ２０‐アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ２０‐アルキルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ２０‐アルキルカルボニルオキシ、ヒドロキシ、ニトロ、ＣＨＯ又はＣＮを表わし、かつ
nは、０〜４の整数を表わす］を有する。
【００６１】
メソゲン基VII中のＲ４は、特に有利に、塩素、臭素又はＣ１〜Ｃ４‐アルキル、殊に、メチルを表わし、nは０〜２、殊に０又は１、特に１を表わす。
【００６２】
極めて特に有利なメソゲン基は、次の構造VIII：
【００６３】
【化７】
を有する。
【００６４】
群a）のキラルの重合可能なモノマーは、有利に、式IX：
［（Ｚ１‐Y１）ｏ‐A３‐Y２‐M‐Y３］ｎＸ［Y３‐M‐Y２‐A４‐（Y１‐Ｚ１）Ｐ］ｍ （IX）
［式中、
Ｚ１、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３及びＭは、前記のものであり、
o、ｐは０又は１を表わし、この際、o及びｐは同時に０を表わしてはならず、
A３及びA４は、同じ又は異なっていて、かつ
A３は、o＝１である場合には、A１と同様に定義され、又はo＝０である場合には、酸素、硫黄、場合により１個置換された窒素によって遮断されていてよい直鎖のＣ２〜Ｃ３０‐アルキレン基、有利にＣ２〜Ｃ１２‐アルキレン基を表わし、この際、これらの遮断基は隣接していてはならず、この際、好適なアミン置換基はＣ１〜Ｃ４‐アルキル基を包含し、この際、アルキル基は、弗素、塩素、臭素、シアン、メチル又はエチルによって置換されていてよく、かつこの際、A３は、特に有利に、ＣＨ３（ＣＨ２）ｌ‐基（ｌ＝１〜７）を表わし、
A４は、ｐ＝１である場合には、A１と同様に定義され、又はｐ＝０である場合には、酸素、硫黄、場合により１個置換された窒素によって遮断されていてよい直鎖のＣ２〜Ｃ３０‐アルキル基、有利にＣ２〜Ｃ１２‐アルキル基を表わし、この際、これらの遮断基は隣接していてはならず、この際、好適なアミン置換基はＣ１〜Ｃ４‐アルキル基を包含し、この際、アルキル基は、弗素、塩素、臭素、シアン、メチル又はエチルによって置換されていてよく、かつこの際、A３は、特に有利に、ＣＨ３（ＣＨ２）ｌ‐基（ｌ＝１〜７）を表わし、
n、ｍは、０、１又は２を表わし、この際、合計n＋ｍは、１又は２、有利に２であり、かつ
Ｘは、キラル基を表わす］に相応する。
【００６５】
一般式IXの化合物のキラル基Ｘでは、特に比較的容易な入手性に基づき、殊に、糖、ジナフチル‐又はジフェニル誘導体及び光学活性グリコール、アルコール又はアミノ酸から誘導される基が有利である。糖とは、殊に、ペントース及びヘキソース及びそれから誘導される誘導体が挙げられる。
【００６６】
基Ｘの例は、次の構造を有し、この際、末端の線は各々遊離の原子価を表わす：
【００６７】
【化８】
【００６８】
【化９】
［この際、
Ｌ１は、Ｃ１〜Ｃ４‐アルキル、Ｃ１〜Ｃ４‐アルコキシ、ハロゲン、ＣＯＯＲ５、ＯＣＯＲ５、ＮＨＣＯＲ５であり、Ｒ５は、Ｃ１〜Ｃ４‐アルキル又は水素を表わす］。
【００６９】
【化１０】
が特に有利である。
【００７０】
更に、次の構造を有するキラル基も好適である：
【００７１】
【化１１】
【００７２】
前記の基A１、A２、A３、A４、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＬ１の定義において、Ｃ１〜Ｃ２０‐アルキルは、殊に、メチル、エチル、n‐プロピル、イソプロピル、n‐ブチル、二級‐ブチル、イソブチル、三級‐ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル及びエイコシルを表わし、
Ｃ１〜Ｃ４‐アルキルは、殊に、メチル、エチル、n‐プロピル、イソプロピル、n‐ブチル、二級‐ブチル、イソブチル又は三級‐ブチルを表わし、
Ｃ１〜Ｃ２０‐アルコキシは、殊に、そのアルキル基が前記のＣ１〜Ｃ２０‐アルキル基に相応するアルコキシ基を表わし、かつ
Ｃ２〜Ｃ３０‐アルキレンは、殊に、前記のＣ２〜Ｃ２０‐アルキル基の２価の基に相応するアルキレン基、及び直鎖のＣ２１〜Ｃ３０‐同族体を表わす。
【００７３】
特別な１実施態様において、ネマチックアキラルの重合可能なモノマーは、次の構造式Ｘを有する：
【００７４】
【化１２】
【００７５】
もう１つの特別な実施態様において、キラルの重合可能なモノマーは、次の構造式XI又はXIIを有する：
【００７６】
【化１３】
【００７７】
アキラルネマチックモノマー対キラルモノマーの量比は、これらのモノマーから生じるポリマーが、配向後に、IR‐スペクトル範囲での波長に相応する、らせん超格子のピッチを有するように選択される。この際、量比は、ネマチック及びキラルモノマーの種類に依存し、個々の場合で決められるべきである。
【００７８】
選択的に、成分Ｂとして、少なくとも１種の群ｂ）のコレステリックの重合可能なモノマーを使用することができる。
【００７９】
有利な群ｂ）のモノマーは、それについて全範囲で引用されるDE‐Ａ１９６０２８４８に記載されている。殊に、モノマーｂ）は、少なくとも１種の、式XIII：
（Ｚ１−Ｙ１−Ａ１−Ｙ２−Ｍ１−Ｙ３）ｎＸ （XIII）
のコレステリックの重合合可能なモノマーを包含する。
【００８０】
ここで、変数は、群a）のモノマーの場合と同様に定義される。有利な実施態様が相応に当てはまる。
【００８１】
選択的に、成分Ｂとして、少なくとも１種の群ｃ）の架橋結合可能なコレステリックポリマーを使用することができる。
【００８２】
有利な群ｃ）のポリマーは、例えば、DE‐Ａ１９７１３６３８に記載されているコレステリックセルロース誘導体、殊に、
（１）セルロースのヒドロキシアルキルエーテルと、
（２）飽和、脂肪族又は芳香族カルボン酸及び
（３）不飽和モノ‐又はジカルボン酸
とのコレステリック混合エステルである。
【００８３】
成分（１）のエーテル‐官能基を介して結合されたヒドロキシアルキル基が、直鎖又は分枝鎖のＣ２〜Ｃ１０‐ヒドロキシアルキル基、殊に、ヒドロキシプロピル‐及び／又はヒドロキシエチル基を包含する混合エステルが特に有利である。使用可能な混合エステルの成分（１）は、有利に、分子量約５００〜約１百万を有する。有利に、セルロースのアンヒドログルコース‐単位は、ヒドロキシアルキル基で、平均モル置換度２〜４でエーテル化されている。セルロース中のヒドロキシアルキル基は、同じ又は異なっていてよい。そのうち５０％までがアルキル基（殊に、Ｃ１〜Ｃ１０‐アルキル基）によって代えられてよい。その１例は、ヒドロキシプロピルメチルセルロースである。
【００８４】
使用可能な混合エステルの成分（２）として、直鎖脂肪族Ｃ１〜Ｃ１０‐カルボン酸、殊に、Ｃ２〜Ｃ６‐カルボン酸、分枝鎖脂肪族Ｃ４〜Ｃ１０‐カルボン酸、殊に、Ｃ４〜Ｃ６‐カルボン酸又は直鎖又は分枝鎖のハロゲンカルボン酸が使用可能である。成分（２）は、安息香酸又は脂肪族置換の脂肪族カルボン酸、殊に、フェニル酢酸であってもよい。成分（２）は、特に有利に、酢酸、プロピオン酸、n‐酪酸、イソ酪酸又はn‐バレリアン酸、殊に、プロピオン酸、３‐Cl‐プロピオン酸、n‐酪酸又はイソ酪酸から選択される。
【００８５】
成分（３）は、有利に、不飽和Ｃ３〜Ｃ１２‐モノ‐又はジカルボン酸又はそのようなジカルボン酸の半エステル、殊に、α，β‐エチレン系不飽和Ｃ３〜Ｃ６‐モノ‐又はジカルボン酸又はジカルボン酸の半エステルから選択される。
【００８６】
使用可能な混合エステルの成分（３）は、特に有利に、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、ビニル酢酸、マレイン酸、フマル酸又はウンデセン酸、殊に、アクリル酸又はメタクリル酸から選択される。
【００８７】
成分（１）は、有利に、成分（２）及び（３）で、平均モル置換度１．５〜３、殊に、１．６〜２．７、特に有利に２．３〜２．６でエステル化されている。成分（１）のOH‐基の有利に約１〜３０％、殊に、１〜２０％又は１〜１０％、特に有利に約５〜７％が、成分（３）でエステル化されている。
【００８８】
成分（２）対成分（３）の量比は、ポリマーの反射波長を決定する。
【００８９】
好適な群ｃ）のポリマーは、更に、DE‐A１９７１７３７１に記載された、プロパルギル末端化のコレステリックポリエステル又はポリカルボネートである。
【００９０】
これらの化合物の内、直接又は１個の結合員を介してポリエステル又はポリカーボネートに結合している、少なくとも１種の式：Ｒ６Ｃ≡Ｃ‐ＣＨ２‐［式中、Ｒ６は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ４‐アルキル、アリール又はAr‐Ｃ１〜Ｃ４‐アルキル（例えば、ベンジル又はフェネチル）を表わす］のプロパルギル末端基を有するポリエステル又はポリカーボネートが有利である。結合員は、次の基から有利に選択される：
【００９１】
【化１４】
［式中、Ｒ７は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ４‐アルキル又はフェニルを表わし、Ｚは、Ｏ、Ｓ又はNR８を表わし、かつＲ８は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ４‐アルキル又はフェニルを表わす］。
【００９２】
ポリエステルにおける、プロパルギル末端基は、有利に、
【００９３】
【化１５】
を介して結合している。
【００９４】
ポリエステルは、有利に、
（４）少なくとも１種の芳香族又は芳香脂肪族ジカルボン酸単位及び／又は少なくとも１種の芳香族又は芳香脂肪族ヒドロキシカルボン酸単位及び
（５）少なくとも１種のジオール単位を含有する。
【００９５】
有利なジカルボン酸単位は、式：
【００９６】
【化１６】
の単位、殊に、式：
【００９７】
【化１７】
の単位である［式中、各フェニル基又はナフチル基は、相互に無関係で、Ｃ１〜Ｃ４‐アルキル、Ｃ１〜Ｃ４‐アルコキシ、ハロゲン又はフェニルから選択される、１、２又は３個の置換基を有することができ、この際、前記式中において、
Ｗは、NR９、Ｓ、O、（CH２)ｒO（CH２)ｑ、（ＣＨ２)ｓ又は単結合を表わし、
Ｒ９は、アルキル又は水素を表わし、
ｓは、１〜１５の整数を表わし、かつ
ｒ及びｑは、相互に無関係で、０〜１０の整数を表わす］。
【００９８】
有利なヒドロキシカルボン酸単位は、式：
【００９９】
【化１８】
の単位であり、この際、各フェニル基又はナフチル基は、相互に無関係で、Ｃ１〜Ｃ４‐アルキル、Ｃ１〜Ｃ４‐アルコキシ、ハロゲン又はフェニルから選択される、１、２又は３個の置換基を有することができる。
【０１００】
有利なジオール単位は、式：
【０１０１】
【化１９】
【０１０２】
【化２０】
の単位、殊に、式：
【０１０３】
【化２１】
の単位であり、前記式中、
Ｌは、アルキル、アルコキシ、ハロゲン、COOR１１、OCOR１１、CONHR１１又はNHCOR１１を表わし、
Ｘは、Ｓ、Ｏ、Ｎ、CH２又は単結合をあらわし、
Ａは、単結合、（ＣＨ２）ｎ、Ｏ（ＣＨ２）ｎ、Ｓ（ＣＨ２）ｎ、NR１１（ＣＨ２）ｎ 、
【０１０４】
【化２２】
を表わし、
Ｒ１１は、アルキル又は水素を表わし、
Ｒ１０は、水素、ハロゲン、アルキル又はフェニルを表わし、かつ
nは、１〜１５の整数を表わす。
【０１０５】
少なくとも１種の式：
【０１０６】
【化２３】
のジカルボン酸単位、及び少なくとも１種の式：
【０１０７】
【化２４】
のジオール単位を含有するポリエステルが有利であり、
この際、Ｒ１０は、Ｈ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ４‐アルキル、殊に、ＣＨ３又はＣ（ＣＨ３）３、又はフェニルを表わす。
【０１０８】
他の有利な化合物は、式： Ｐ‐Ｙ‐Ｂ‐ＣＯ‐Ｏ‐Ａ‐Ｏ‐ＣＯ‐Ｂ‐Ｙ‐Ｐ のジエステルであり、式中のＰは、前記で定義した式のプロパルギル末端基を表わし、Ｙは、Ｏ、Ｓ又はＮＲ１２（Ｒ１２＝Ｃ１〜Ｃ４‐アルキル）を表わし、Ｂは、
【０１０９】
【化２５】
を表わし、この際、各フェニル基又はナフチル基は、相互に無関係で、Ｃ１〜Ｃ４‐アルキル、Ｃ１〜Ｃ４‐アルコキシ、ハロゲン又はフェニルから選択される、１、２又は３個の置換基を有することができ、かつＡは（隣接の酸素原子と一緒に）、前記のジオールの１つを表わす。
【０１１０】
特に有利なジエステルは、式中のＢが、
【０１１１】
【化２６】
を表わす前記式のものであり、殊に、式：
ＨＣ≡ＣＣＨ２Ｏ‐Ｂ‐ＣＯ‐Ｏ‐Ａ‐Ｏ‐ＣＯ‐Ｂ‐ＯＣＨ２‐Ｃ≡ＣＨ
のジエステルであり、式中、
（６）Ｂは、
【０１１２】
【化２７】
を表わし、かつＡは、
【０１１３】
【化２８】
を表わし、又は
（７）Ｂは、式：
【０１１４】
【化２９】
を表わし、かつＡは、（６）に挙げたものである。
【０１１５】
他の有利な化合物は、少なくとも１種の前記式、殊に、式：
【０１１６】
【化３０】
のジオール単位を組み込んで含有するポリカルボネートである。
【０１１７】
この際、有利なポリカルボネートは、ジオール単位として、少なくとも１種の式：
【０１１８】
【化３１】
のメソゲン単位及び式：
【０１１９】
【化３２】
のキラル単位及び場合により、式：
【０１２０】
【化３３】
の非‐キラル単位を含有するものであり、この際、Ｒ１０は前記のもの、殊に、Ｈ又はＣＨ３を表わす。
【０１２１】
特に有利なポリカルボネートは、式： ＨＣ≡ＣＣＨ２Ｏ‐Ｒ１３‐ＣＯ ［式中、Ｒ１３は、
【０１２２】
【化３４】
を表わす］のプロパルギル末端基を有するものである。
【０１２３】
更に、群ｃ）のポリマーとして、非‐末端位に感光性の基も含有するコレステリックポリカルボネートが好適である。そのようなポリカルボネートは、DE‐Ａ１９６３１６５８に記載されている。それらは、有利に、式XIV：
【０１２４】
【化３５】
に相応し、この際、モル比ｗ／ｘ／ｙ／ｚは、約１〜２０／約１〜５／約０〜１０／約０〜１０である。モル比ｗ／ｘ／ｙ／ｚが、約１〜５／約１〜２／約０〜５／約０〜５であることが特に有利である。
【０１２５】
式XIVにおいて、
Ａは、式：
【０１２６】
【化３６】
のメソゲン基を表わし、
Ｂは、式：
【０１２７】
【化３７】
のキラル基を表わし、
Ｄは、式：
【０１２８】
【化３８】
の感光性基を表わし、
Ｅは、他の、式：
【０１２９】
【化３９】
の非‐キラル基を表わし、この際、前記の式において、
Ｌは、アルキル、アルコキシ、ハロゲン、COOR１５、OCOR１５、CONHR１５又はNHCOR１５を表わし
Ｘは、Ｓ、Ｏ、Ｎ、ＣＨ２又は単結合を表わし、
Ｒ１５は、アルキル又は水素を表わし、
Ａは、単結合、（ＣＨ２）ｎ、Ｏ（ＣＨ２）ｎ、Ｓ（ＣＨ２）ｎ、ＮＲ（ＣＨ２）ｎ、
【０１３０】
【化４０】
を表わし、
Ｒ１４は、水素、ハロゲン、アルキル又はフェニルを表わし、かつ
nは、１〜１５の整数を表わす。
【０１３１】
Ｒ１４が、アルキル、ハロゲンを表わし、Ａが、単結合をあらわし、又はＲ１４がＨ又はアルキルを表わし、Ａが
【０１３２】
【化４１】
を表わす場合には、可溶性を改善する基が重要である。その例は、
【０１３３】
【化４２】
である。
イソソルビッド、イソマンニッド及び／又はイソイジッドは、有利なキラル成分である。
キラルジオール構造単位の割合は、所望の反射特性に応じて、有利に、ジオール構造単位の総含量の１〜８０モル％、特に有利に２〜２０モル％の範囲にある。
選択的に、成分Ｂとして、重合可能な希釈剤中のコレステリックポリマー（群ｄ））を使用することができる。
有利な群ｄ）の」ポリマーは、例えば、それについて全面的に引用されるUS‐Ａ‐０８８３４７４５に記載されている架橋結合可能なコレステリックコポリイソシアネートである。そのようなコポリイソシアネートは、式：
【０１３４】
【化４３】
及び場合により、式：
【０１３５】
【化４４】
の繰返し単位を有し、
この際、
Ｒ１６は、キラル脂肪族又は芳香族基を表わし、
Ｒ１７は、架橋結合可能な基を表わし、かつ
Ｒ１８は、アキラル基を表わす。
の繰返し単位を有する。
【０１３６】
他の記載がない限り、ここで、”アルキル”（例えば、アルコキシ、ジアルキル、アルキルチオ等の意味においても）とは、分枝鎖及び非分枝鎖のＣ１〜Ｃ１２‐アルキル、有利に、Ｃ３〜Ｃ１２‐、特に有利に、Ｃ４〜Ｃ１０‐、殊に、Ｃ６〜Ｃ１０‐アルキルのことである。
【０１３７】
Ｒ１６は、有利に、（キラル）分枝鎖又は非分枝鎖のアルキル‐、アルコキシアルキル‐、アルキルチオアルキル‐、シクロアルキル‐、アルキルフェニル‐又はＣ３〜Ｃ９‐エポキシアルキル基又はＣ１〜Ｃ６‐脂肪酸とＣ１〜Ｃ６‐アルカノールとのエステルの基又はＣ３〜Ｃ９‐ジアルキルケトンから選択される。エステル基は脂肪酸部分を介しても、アルカノール基を介しても、Ｎ‐原子に結合していてよい。基Ｒ１６は、同じ又は異なる、アルコキシ基、ジ‐Ｃ１〜Ｃ４‐アルキルアミノ基、ＣＮ、ハロゲン原子又はＣ１〜Ｃ４‐アルキルチオ基から選択される、１、２又は３個の置換基を有することができる。
【０１３８】
Ｒ１６は、有利に、アルキル、アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ６‐脂肪酸とＣ１〜Ｃ６‐アルカノールとのエステルの基、Ｃ３〜Ｃ９‐ジアルキルケトン及びエポキシド化Ｃ３〜Ｃ９‐エポキシアルキル基から選択され、この際、Ｒ１６は、同じ又は異なる、アルコキシ、ハロゲン、ＣＮ又はＣＦ３から選択される１又は２個の基によって置換されていてよい。 分枝鎖又は非分枝鎖のアルキル‐又はアルコキシ基の有利な置換基は、アルコキシ基、ハロゲン原子又はＣＮから選択され、Ｃ１〜Ｃ６‐脂肪酸とＣ１〜Ｃ６‐アルカノールとのエステルの有利な置換基は、アルコキシ基、ハロゲン原子、ＣＮ又はＣＦ３から選択され、かつＣ３〜Ｃ９‐ジアルキルケトンの置換基は、アルコキシ基、ハロゲン原子又はＣＮから選択される。
【０１３９】
基Ｒ１６の主鎖は、殊に、３〜１２、殊に、６〜１０、有利に６〜８員（Ｃ‐、Ｏ‐及び／又はＳ‐原子）の鎖長を有する。次の基から選択される基Ｒ１６が特に有利である：
【０１４０】
【化４５】
【０１４１】
【化４６】
【０１４２】
使用可能なコポリイソシアネートの成分XVは、極めて特に有利に、２，６‐ジメチルヘプチルイソシアネートから誘導される。
【０１４３】
使用可能なコポリイソシアネートの基Ｒ１７は、有利に、Ｃ３〜Ｃ１１‐アルケニル基、Ｃ４〜Ｃ１１‐ビニルエーテル基（＝ビニル‐Ｃ２〜Ｃ９‐アルキルエーテル）、エチレン系不飽和Ｃ３〜Ｃ１１‐カルボン酸基及びエチレン系不飽和Ｃ３〜Ｃ６‐モノカルボン酸とＣ２〜Ｃ６‐アルカノールとのエステルから選択され、この際、Ｎ‐原子への結合は、エステルのアルカノール基を介して行なわれる。メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、n‐ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、２‐エチルヘキシルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、n‐ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、２‐エチルヘキシルメタクリレート、殊に、エチルアクリレート又はエチルメタクリレートから選択される基が特に有利である。
【０１４４】
基Ｒ１８は、有利に、基Ｒ１６と同じ意味を有する。しかし、これはアキラルであり、即ち、これはキラル中心を有しないか又はラセミ混合物として存在する。
【０１４５】
基Ｒ１８の主鎖は、４〜１２、殊に６〜１０、有利に６〜８員（Ｃ‐、Ｏ‐及び／又はＳ‐原子）の鎖長を有することが特に有利である。本発明によるコポリイソシアネートの成分XVIIは、極めて特に有利に、n‐ヘキシルイソシアネート、n‐ヘプチルイソシアネート又はn‐オクチルイソシアネートから誘導される。
【０１４６】
成分XV、XVI及びXVIIは、有利に、モル量比XV：XVI：XVII約１〜２０：１〜２０：５０〜９８、殊に、約５〜１５：５〜１５：６５〜９０、特に有利に、約１５：１０：７５で存在している。
【０１４７】
単位XV、XVI及びXVIIは、使用可能なコポリイソシアネート中で統計的に分配されていてよい。
【０１４８】
本発明による組成物の成分Ｂとして、有利に、少なくとも１種のアキラルネマチックの重合可能なモノマー及びキラルの重合可能なモノマーからなる混合物、即ち、群a）が使用される。
【０１４９】
化合物Ａ又は化合物Ａの合計は、成分Ｂの総質量に対して、有利に、０．０１〜２０質量％、特に有利に、０．０１〜１５質量％、極めて特に有利に０．０１〜１０質量％、殊に、０．０１〜７質量％及び特別に０．０１〜５質量％の量で存在する。
【０１５０】
組成物は、成分Ａ及びＢの完全混合物であるか、又は好適な希釈剤中の成分Ａ及びＢの溶液又は分散液である。この際、希釈剤の成分は、組成物の総質量に対して、有利に、５〜９５質量％、特に有利に、３０〜８０質量％、殊に、４０〜７０質量％である。
【０１５１】
群a）又はｂ）の化合物の好適な希釈剤は、直鎖又は分枝鎖のエステル、特に、酢酸エステル、環状エーテル及びエステル、アルコール、ラクトン、脂肪族及び芳香族炭化水素、例えば、トルオール、キシロール及びシクロヘキサン、及びケトン、アミド、Ｎ‐アルキルピロリドン、特に、Ｎ‐メチルピロリドン、及び殊に、テトラヒドロフラン（THF）、ジオキサン及びメチルエチルケトン（MEK）である。
【０１５２】
群ｃ）のポリマーの好適な希釈剤は、例えば、エーテル及び環状エーテル、例えば、テトラヒドロフラン又はジオキサン、塩素化炭化水素、例えば、ジクロルメタン、トリクトルメタン、四塩化炭素、ジクロルエタン、１，１，２，２‐テトラクロルエタン、１‐クロルナフタリン、クロルベンゾール又は１，２‐ジクロルベンゾールである。これらの希釈剤は、特に、ポリエステル及びポリカルボネートに好適である。セルロース誘導体の好適な希釈剤は、例えば、エーテル、例えば、ジオキサン、又はケトン、例えば、アセトンである。コポリイソシアネートを群ｄ）のポリマーとして使用する場合には、例えば、US‐Ａ‐０８８３４７４５に記載されている重合可能な希釈剤を使用することが重要である。そのような重合可能な希釈剤は、例えば、次のものである：
α，β‐不飽和モノ‐又はジカルボン酸、殊に、Ｃ３〜Ｃ６‐モノ‐又はジカルボン酸とＣ１〜Ｃ１２‐アルカノール、Ｃ２〜Ｃ１２‐アルカンジオール又はそのＣ１〜Ｃ６‐アルキルエーテル及びフェニルエーテルとのエステル、例えば、アクリレート及びメタクリレート、ヒドロキシエチル‐又はヒドロキシプロピルアクリレート又は‐メタクリレート及び２‐エトキシエチルアクリレート又は‐メタクリレート；
ビニル‐Ｃ１〜Ｃ１２‐アルキルエーテル、例えば、ビニルエチル‐、ビニルヘキシル‐又はビニルオクチルエーテル；
Ｃ１〜Ｃ１２‐カルボン酸のビニルエステル、例えば、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルラウレート；
Ｃ３〜Ｃ９‐エポキシド、例えば、１，２‐ブチレンオキシド、スチロールオキシド；
N‐ビニルピロリドン、N‐ビニルカプロラクタム、N‐ビニルホルムアミド；
ビニル芳香族化合物、例えば、スチロール、α‐メチルスチロール、クロルスチロール、及び
２個以上の架橋結合可能な基を有する化合物、例えば、ジオール（ポリエチレングリコールを含む）とアクリル‐又はメタクリル酸とのジエステル又はジビニルベンゾール。
【０１５３】
有利な重合可能な希釈剤の例は、２‐エポキシエチルアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート及びテトラエチレングリコールジメタクリレートである。特に有利な重合可能な希釈剤は、スチロールである。
【０１５４】
群a）、ｂ）又はｃ）の混合物は、少量で、重合可能な希釈剤を含有することもできる。a）、ｂ）又はｃ）に添加可能な、有利な重合可能な溶剤は、アクリレート、殊に高級官能性アクリレート、例えば、ビス、トリス‐又はテトラアクリレート、特に有利に高沸騰オリゴアクリレートである。有利な添加量は、混合物の総質量に対して、約５質量％である。
【０１５５】
本発明による組成物は、粘性及び流展性の調製のために、添加成分と混合させることができる。
【０１５６】
例えば、ポリマー結合剤及び／又は重合によってポリマー結合剤に変換され得るモノマー化合物が使用可能である。そのような結合剤として、例えば、有機溶剤中に可溶性のポリエステル、セルロースエステル、ポリウレタン、シリコーン、ポリエーテル‐又はポリエステル変性化シリコーンが好適である。セルロースエステル、例えば、セルロースアセトブチレートが特に有利に使用される。
【０１５７】
少量の好適な流展剤の添加も有利である。使用されるコレステルの量に対して、約０．００５〜１質量％、殊に、０．０１〜０．５質量％が使用可能である。好適な流展剤は、例えば、グリコール、シリコーン油及び殊に、アクリレートポリマー、例えば、Firma Byk-Chemieの商標Byk 361又はByk 358で得られるアクリレートコポリマー及びFa. Tegoの商標Tego flow ZFS 460で得られる変性化のシリコーン不含のアクリレートポリマーである。
【０１５８】
組成物は、場合により、UV‐及び風化作用に対する安定剤を含有する。それには、例えば、２，４‐ジヒドロキシベンゾフェノン誘導体、２‐シアン‐３，３‐ジフェニルアクリレートの誘導体、２，２’，４，４’‐テトラヒドロキシベンゾフェノンの誘導体、オルトヒドロキシフェニルベンズトリアゾルの誘導体、サリチル酸エステル、オルトヒドロキシフェニル‐ｓ‐トリアジン又は立体障害のアミンが好適である。これらの物質を単独で又は有利に混合物の形で使用することができる。
【０１５９】
更に、本発明による組成物は、それが光化学的に重合されるべき場合には、市販の光重合開始剤を含有することができる。電子線による硬化にはそれは必要ない。好適な光重合開始剤は、例えば、イソブチル‐ベンゾインエーテル、２，４，６‐トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、１‐ヒドロキシシクロヘキシル‐フェニルケトン、２‐ベンジル‐２−ジメチルアミノ‐１‐（４‐モルホリノフェニル）‐フラン‐１‐オン、ベンゾフェノン及び１‐ヒドロキシシクロヘキシル‐フェニルケトンの混合物、２，２‐ジメトキシ‐２‐フェニルアセトフェノン、過弗化ジフェニルチタノセン、２‐メチル‐１‐（４‐［メチルチオ］フェニル）‐２‐（４‐モルフォリニル）‐１‐プロパノン、２‐ヒドロキシ‐２‐メチル‐１−フェニルプロパン‐１‐オン、４‐（２‐ヒドロキシ‐エトキシ）フェニル‐２‐ヒドロキシ‐２‐プロピルケトン、２，２‐ジエトキシアセトフェノン、４‐ベンゾイル‐４’‐メチルジフェニル‐スルフィド、エチル‐４‐（ジメチル‐アミノ）ベンゾエート、２‐イソプロピルチオキサントン及び４‐イソプロピル‐チオキサントンの混合物、２‐（ジメチルアミノ）エチルベンゾエート、ｄ，ｌ‐カンファー‐キノン、エチル‐ｄ，ｌ‐カンファーキノン、ベンゾフェノン及び４‐メチルベンゾフェノンの混合物、ベンゾフェノン、４，４’‐ビスジメチルアミン‐ベンゾフェノン、（η５‐シクロペンタジエニル）（η６‐イソプロピルフェニル）‐鉄（II）‐ヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウム‐ヘキサフルオロホスフェート又はトリフェニルスルホニウム塩の混合物、及びブタンジオールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、４‐（１，１‐ジメチルエチル）シクロヘキシルアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート及びトリプロピレングリコールジアクリレートである。
【０１６０】
本発明の目的は、断熱被覆の製造のための前記組成物の使用でもある。
【０１６１】
本発明のもう１つの目的は、本発明による組成物の少なくとも１層の配向された硬化層を包含する断熱被覆である。
【０１６２】
本発明による断熱被覆は、有利に、IR‐スペクトル範囲の波長に相応する、らせん状超格子のピッチを有する、少なくとも１種のIR−線反射性硬化コレステリックポリマーを包含する。
【０１６３】
コレステリックポリマーは、例えば、前記の群a）、ｂ）、ｃ）又はｄ）の成分Ｂの配向及び硬化によって得られる。
【０１６４】
断熱被覆が少なくとも２層を包含する場合には、IR‐線を反射するポリマーは、異なる層において、IR‐スペクトル範囲の波長に相応するらせん状超格子の、有利に各々異なるピッチ及び／又は対立したキラル性（対掌性（Haendigkeit））を有する。同様に、少なくとも２層の断熱被覆において、各々２つの、有利に隣接した層のらせん状超格子のピッチが、同一であるが、そのキラル性は対立している場合が有利である。同時に、少なくとも２層の断熱被覆において、同一のピッチ及び同一のキラル性のらせん状超格子を有する２層間に、透過円偏光の回転方向を逆転させる媒体、殊に、いわゆる、λ／２‐シート又は‐プレートが存在する場合が有利である。
【０１６５】
断熱被覆は、有利に１〜１０層、特に有利に１〜４層及び特別には２層を包含する。２層は、らせん状超格子のピッチにおいて、又はキラル性において異なっていることが有利である。２層は、同一のらせん状超格子のピッチを有するが、対立したキラル性を有することが特に有利である。
【０１６６】
本発明のもう１つの目的は、本発明による断熱被覆の製法であり、この際、本発明による組成物を支持体上に載せ、場合により配向させ、硬化させる。硬化は、有利に、群a）又はｂ）のモノマー又は群ｄ）の溶剤の重合によって、又は群ｃ）のポリマーの架橋結合によって行なわれる。
【０１６７】
更なる層の製造のために、塗布、配向及び硬化の過程を繰返し、この際、そこで有利に、最初の組成物とは異なる本発明による組成物を使用し、従って、群a）又はｂ）のモノマーの重合によって得られる配向されたコレステリックポリマー又は群ｃ）又はｄ）の配向されたコレステリックポリマーは、異なる層で、最初の層のそれとは別のらせん状超格子のピッチ及び／又は対立したキラル性を有する。選択的に又は補充的に、同一のピッチのらせん状超格子及び同一のキラル性を有する２層の間に、透過円偏光の回転方向を逆転させる媒体、殊に、いわゆる、λ／２‐シート又は‐プレートを組み込ませることができる。
【０１６８】
有利な組成物及び断熱被覆についての前記の説明が、ここで相応に当てはまる。
【０１６９】
支持体は透明であることが有利である。透明な支持体は、例えば、ガラス構成要素、窓ガラス、自動車ガラス又は絶縁目的のためにガラス上に接着すべきシートであってよい。
【０１７０】
支持体上へのコレステリックIR‐反射層の塗布は、常法で、例えば、空気‐ドクター塗布、ドクター塗布、空気ナイフ塗布、圧搾塗布、浸漬塗布、反転ローラー塗布、転写ローラー塗布、グラビア塗布、”キス‐コーティング（kiss-coating）”、流延塗布、噴霧塗布、回転塗布から選択される方法又は加圧法、例えば、高‐、低‐、フレキソ‐、オフセット‐又はスクリーン圧法で行なうことができる。
【０１７１】
本発明による組成物は、支持体上への塗布の前に、各々好適な希釈剤で希釈することができる。好適な希釈剤は前記されている。
【０１７２】
塗布されたIR‐反射層の硬化は、熱的に、光化学的に又は電子線によって行なうことができる。
【０１７３】
硬化は、当然、コレステリック相で、かつコレステリック相の保持下に行われるべきである。
【０１７４】
数層が塗布される場合には、これらは各々個別に塗布され、場合により配向され、場合により乾燥され、かつ硬化されてよい。しかし、数層又は塗布すべき全層を、１回の塗布過程で、重ね塗り（nass-in-nass）で、被覆すべき対象上に塗布すること、場合により一緒に乾燥させること、及びその後に一緒に硬化させることも可能である。しかし、異なる反射特性を有する異なった層の間で、相互拡散が生じないことが、コレステリック層の同時塗布のための前提である。
【０１７５】
コレステリック層の同時塗布には、流延法、殊に、ナイフ‐又はドクター流延法、押出‐又は掻取り流延法及びカスケード流延法が好適である。前記の流延法は、例えば、DE‐A‐１９５０４９３０、EP‐A‐４３１６３０、DE‐A‐３７３３０３１、及びEP‐A‐４５２９５９に記載されていて、それについて明確に引用される。
【０１７６】
本発明による組成物は、殊に、色付けされた絶縁窓又は断熱性透明建築部材の製造に、又は熱輻射に対する住居‐、事務所‐又は工業建築の絶縁に好適である。更に、本発明による組成物は、自動車分野における使用に、殊に、断熱性の色付けされた合せガラス板の製造に好適である。従って、本発明による断熱被覆を備えた目的物は、本発明のもう１つの目的である。
【０１７７】
本発明による断熱被覆は、化合物Ａの存在に基づいて、色調、有利に、帯青色又は帯緑色の色調を有する。更に、化合物Ａは有利にIR‐線を吸収し、従って、非反射IR‐線は吸収されて、透過しないので、被覆の断熱特性は改善される。
【０１７８】
本発明による断熱被覆は、ISO 9050 により決定された、波長範囲３５０〜７５０nmの光の透過を、少なくとも７０％、有利に少なくとも７２％有する。
【０１７９】
次の実施例により本発明を説明するが、これに限定されるものではない。
【０１８０】
例
ネマチックでアキラルの重合可能なモノマーとして、式Ｘの化合物を使用した。
【０１８１】
キラルの重合可能なモノマーとして、式XIの化合物を使用した。
【０１８２】
化合物Ａとして、式Ｉ［式中のＰは、クァテリレン骨格に６個の三級‐アルキルフェノキシ‐基で対称的に置換されていて（n＝６）、かつハロゲン置換基を持たない（ｍ＝０）式IIのクァテリルイミドを表わし、かつ式中のＲ２は、アルキル‐置換のフェニルを表わす］の化合物を使用した。この化合物は次からIaとして表示される。
【０１８３】
溶剤として、テトラヒドロフラン（THF)を使用した。
【０１８４】
化合物Ｘ、XI及びIa、流展剤ByK 361（１０％の；Fa. ByK Chemie）及び光重合開始剤Fa. Ciba製のIrgacure 184の混合物を、表１に挙げたTHF１０ｇ中の濃度で、ドクターを用いて、表１に各々挙げた湿潤層厚で、PET‐シート上に塗布した。約８５℃での溶剤の蒸発後に、均質な透明の帯緑色の層が生じた。これをUV‐ランプで硬化させた。
【０１８５】
【表１】
【０１８６】
可視的な評価によって、表２に示した結果を得た。
【０１８７】
【表２】
【０１８８】
IOS 9050 による実験Ｂ及びＣでの透過の測定により、可視的評価を確認した。その結果を次の表３に総括する。
【０１８９】
【表３】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、少なくとも１種の放射線吸収化合物及び少なくとも１種のIR‐反射体‐成分を包含する断熱被覆を製造するための組成物、この配向され硬化した組成物を包含する断熱被覆、及びその製法に関する。
【０００２】
熱輻射の遮蔽問題は、殊に、住居‐、事務所‐又は工場建築物の絶縁で、殊に、大規模な窓面積を有する建築物において、しかし又、輸送手段、例えば、自動車及び公共の交通手段において生じている。
【０００３】
断熱、殊に、波長範囲８００nm〜２０００nmの熱輻射を遮蔽するために、広汎に熱輻射を反射する物質を使用することは知られている。これらの種類の物質は、例えば、コレステリックIR‐反射層である。
【０００４】
形態異方性物質の加熱の際に、液晶相、いわゆる中間相が生じ得る。個々の相は、一方で、分子‐重心の空間配列によって、他方で、縦軸に関する分子配列によって異なる（G.W. Gray, P.A. Winsor, Liquid Crystals and Plastic Crystals, Ellis Horwood Limited, Chichester, 1974）。
【０００５】
ネマチック液晶相は、分子‐縦軸の平行配向を特徴とする（一次元的配列状態）。ネマチック相を形成する分子はキラルであるという前提下に、いわゆるキラルのネマチック（コレステリック）相が生じ、その際、分子の縦軸はそれに垂直のらせん状超格子を形成する（H. Baessler, Festkoerperprobleme XI, 1971）。分子縦軸の均等整列を有する仮定的な２層の間の距離をピッチと称する。
【０００６】
キラル分子部分は、液晶分子自体で存在することもでき、ネマチック相に添加物として加えることもでき、それによってキラルネマチック相が生じられる。この現象は、最初に、コレステロール誘導体で試された（例えば、H. Baessler, M.M. Labes, J. Chem. Phys. 52, 631(1970))。キラル添加物の濃度の変化によって、キラルのネマチック相のピッチ及びそれに伴い選択的に反射される放射線の波長範囲が変えられる。
【０００７】
キラルネマチック相は、特別な光学的特性を有する：高い旋光性及び円偏光の選択反射によってキラルネマチック相内部に生じる卓越した円偏光二色性。そのようなキラルネマチック系は、実用への重要な可能性を示す。
【０００８】
透明な断熱被覆は公知である。即ち、EP‐Ａ７２７３０６は、２枚のガラス板とその間にある、超微細粒子が一緒に分散されている層から成る合せガラスを記載している。中間層は断熱及びUV‐吸収のために用いられる。
【０００９】
JP‐Ａ‐２８１４０３／９２は、１枚の透明なプレート及びIR‐線を幅広い波長範囲に渡り反射する１枚の被覆から、及び近似IRの波長を選択的に反射しかつ可視光の高透過性を有するコレステリック液晶製の１枚の波長‐フィルターから成るラミネートを記載している。IR吸収成分の使用は記載されていない。
【００１０】
DE‐A‐１９８１７０６９は、IR‐線を反射するコレステリック液晶ポリマー及び吸光性色料から成る、IR‐線反射性色料を記載している。色料とは、その最高吸収が３５０〜７５０nmの範囲にある化合物が解される。IR‐線を吸収する成分の使用は記載されていない。
【００１１】
WO‐A‐９９／１９２６７は、１層以上のコレステリックIR‐反射層を包含する断熱被覆を記載している。被覆は透明かつ無色である。当然、有効な断熱を、数層のコレステリック層だけで得ている。
【００１２】
本発明の課題は、できるだけ薄い、有効な、調色された断熱被覆を製造することであった。
【００１３】
この課題は、
i）少なくとも１種の、一般式I：
【００１４】
【化１】
［式中、
Ｐは、塩基及び求核基に対して安定で、場合によりアリール置換基を有し、‐ＣＯ‐ＮＨ‐ＣＯ‐、‐ＣＯＯＨ及び‐ＣＯ‐Ｏ‐ＣＯ‐基から成る基を含有しない、共役多環状基を表わし、
Ｒは、Ｃ１〜Ｃ８‐アルキル基（その炭素鎖は、‐Ｏ‐、‐Ｓ‐、‐ＮＲ１‐、‐ＣＯ‐及び‐ＳＯ２‐から選択される１個以上の基によって遮断されていてよく、この際、炭素鎖は、場合により、１個以上のＣ１〜Ｃ６‐アルコキシ又は１個の窒素原子を介して結合した場合により他のヘテロ原子を含有し及び／又は芳香族である５‐〜７‐員の複素環基から選択される同じ又は異なる基で置換されている）、又はＣ５〜Ｃ８‐シクロアルキル基（その炭素骨格は、‐Ｏ‐、‐Ｓ‐、‐ＮＲ１‐、‐ＣＯ‐及び‐ＳＯ２‐から選択される１個以上の基によって遮断されていてよく、この際、炭素骨格は、場合により、１個以上のＣ１〜Ｃ６‐アルキルによって置換されている）を表わし、
Ｒ１は、水素又はＣ１〜Ｃ６‐アルキルを表わし、
Halは、塩素及び／又は臭素を表わし、
ｍは、０〜１５の数を表わし、かつ
nは、１〜１６の数を表わし、この際、合計ｍ＋n≦１６である］の放射線吸収性の三級‐アルキルフェノキシ置換の多環状化合物Ａ
及び
ii）少なくとも１種の硬化可能なIR‐反射体‐成分Ｂ（これは、
a）少なくとも１種のアキラルでネマチックの重合可能なモノマー及び少なくとも１種のキラルの重合可能なモノマー、
ｂ）少なくとも１種のコレステリックの重合可能なモノマー、
ｃ）少なくとも１種のコレステリックの架橋結合可能なポリマー、又は
ｄ）重合可能な希釈剤中の少なくとも１種のコレステリックポリマー
を含有する）
を包含する、断熱被覆を製造するための組成物によって解明された。
【００１５】
成分ＢのIR‐反射体‐特性は、成分Ｂの配向及び硬化により、モノマーa）又はｂ）の重合によって得られる配向されたコレステリックポリマーの少なくとも１部、又は配向されたポリマーｃ）又はｄ）の少なくとも１部が、IR‐スペクトル範囲の波長に相応するらせん状超格子のピッチを有することに起因すると考えられる。
【００１６】
本発明の範囲における硬化とは、モノマーの重合も、ポリマーの架橋結合も解される。
【００１７】
放射吸収化合物Ａとは、赤外線（IR‐線）のスペクトル範囲で、即ち、波長＞７５０nm〜約１ｍｍ、有利に７５１nm〜約２０００nmで、及び／又は可視スペクトル範囲で、即ち、波長３５０〜７５０nm、有利に５５０〜７５０nmのスペクトル範囲で、及び／又は紫外線（UV‐線）のスペクトル範囲で、即ち、波長１０nm〜＜３５０nm、有利に１００nm〜３４９nmのスペクトル範囲で吸収する化合物が解される。化合物Ａは、有利に、赤外線、殊に７５１〜２０００nmのスペクトル範囲で、及び／又は可視スペクトル範囲、殊に５５０〜７５０nmの範囲で吸収する。化合物Ａは、特に有利に、赤外線、殊に７５１〜２０００nmのスペクトル範囲で、及び可視スペクトル範囲、殊に５５０〜７５０nmのスペクトル範囲で吸収する。
【００１８】
化合物Ａは、純物質として、又は位置異性体の混合物として、又は物質混合物として使用され得る。
【００１９】
式Iの化合物Ａは、例えば、PCT‐出願PCT／EP０２／０３２７９に記載されていて、反応条件において塩基及び求核基に対して安定した共役多環状基Ｐをベースとしている。基Ｐは、殊に、‐ＣＯ‐ＮＨ‐ＣＯ‐、‐ＣＯＯＨ及び‐ＣＯ‐Ｏ‐ＣＯ‐基から成る基を含有しない。
【００２０】
基Ｐは、塩基性では攻撃され得ないアリール置換基、例えば、非置換の、アルキル‐及び／又はアルコキシ置換のアリール、殊に、フェニル、又はヘタリール、例えば、２‐、３‐及び４‐ピリジル及びピリミジルを有することができる。このアリール置換基は、環骨格に直接結合しているか、又は更に後記の多環状イミドの場合には、イミド窒素原子に結合していてもよい。
【００２１】
そのようなアリール置換基Ｐでは、三級‐アルキルフェノキシ基は、アリール置換基を介して基Ｐに結合していてよく、要するに、例えば、ジフェニルジケトピロロピロール又はＮ，Ｎ’‐ジフェニルペリレン‐３，４；９，１０‐テトラカルボン酸ジイミドでは、フェニル基の４‐又は３，５‐位を介して結合していてよい。
【００２２】
Ｐは、有利に、ナフタリン、アントラセン、フェナントレン、テトラセン、ペリレン、テリレン、クァテリレン、パンタリレン及びヘキサリレン、アントラキノン、インダンスロン、Ｎ‐置換のナフタリン‐１，８‐ジカルボン酸‐モノイミド（次から、”ナフタルモノイミド”と略称する”）、Ｎ，Ｎ’‐二置換のナフタリン‐１，８：４，５‐テトラカルボン酸ジイミド（略称”ナフタルイミド”）、Ｎ‐置換のペリレン‐３，４‐ジカルボン酸モノイミド（略称”ペリルモノイミド”）、Ｎ，Ｎ’‐二置換のペリレン‐３，４：９，１０‐テトラカルボン酸ジイミド（略称”ペリルイミド”）、Ｎ，Ｎ’‐二置換のテリレン‐３，４：１１，１２‐テトラカルボン酸ジイミド（略称”テリルイミド”）、Ｎ，Ｎ’‐二置換のクァテリレン‐３，４：１３，１４‐テトラカルボン酸ジイミド（略称”クァテリルイミド”）、アクリジン、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジナフトフラン、ベンズイミダゾール、ベンズチアゾール、フェナジン、ジオキサジン、キナクリドン、金属フタロシアニン、金属ナフタロシアニン、金属ポルフィリン、クマリン、ジベンゾフラノン、ジナフトフラノン、ベンズイミダゾロン、インジゴ化合物、チオインジゴ化合物、キノフタロン、ナフトキノフタロン及びジケトピロロピロールの群から成る塩基安定基を表わす。
【００２３】
この際、ナフタリン、キナクリドン、ジケトピロロピロール、ジオキサジン、インダンスロン、金属フタロシアニン、金属ナフタロシアニン、ナフタルモノイミド、ペリルモノイミド、ペリルイミド、テリルイミド及びクァテリルイミドの群から成る基Ｐが特に有利であり、この際、金属フタロシアニン、金属ナフタロシアニン、金属ポルフィリン、テリルイミド及びクァテリルイミドが極めて特に有利である。この中で、クァテリルイミドが殊に有利である。
【００２４】
化合物Ｉを特徴付ける三級‐アルキルフェノキシ基及び場合により付加的に存在するハロゲン原子は、直接又は前記のように、場合により存在するアリール置換基を介して、基Ｐの環骨格に結合していてよい。勿論、２つの結合形態が化合物Ｉ中にあってもよい。より大きな基Ｐ、例えば、ペリルモノイミド、ペリルイミド、テリルイミド及びクァテリルイミドは、三級‐アルキルフェノキシ基を、有利に直接環骨格に有するか、又は少なくとも直結した三級‐アルキルフェノキシ基をアリーレン結合の三級‐アルキルフェノキシ基に付加的に有する。
【００２５】
共役環骨格の大きさに応じて、化合物Ｉは、少なくとも１個〜１６個までの（n：１〜１６）、殊に、２〜８個の三級‐アルキルフェノキシ基を含有する。
【００２６】
特に有利な基Ｐについて、一般的に好適で有利な範囲の合計ｍ＋nを例として挙げる：ナフタリン：１〜４、殊に１〜２；キナクリドン：１〜８、殊に２〜４；ジケトピロロピロール：１〜６、殊に２〜４；ジオキサジン：１〜８、殊に２〜４；インダンスロン：１〜６、殊に２〜４；金属フタロシアニン：１〜１６、殊に４〜８；金属ナフタロシアニン：１〜１６、殊に８〜１６；ナフタルモノイミド：１〜４、殊に１〜２；ペリルモノイミド：１〜６、殊に１〜３；ペリルイミド：１〜８、殊に２〜６；テリルイミド：１〜１２、殊に２〜８；クァテリルイミド：１〜１４、殊に２〜８。
【００２７】
基Ｐが、三級‐アルキルフェノキシ基の結合には用いられない付加的なアリール置換基を有する場合には、当然、可能な最大合計ｍ＋nは相応に低下する。
【００２８】
三級‐アルキルフェノキシ基及び場合により存在するHal‐置換基は、基Ｐを介して、有利に統計学的に分配されている。
【００２９】
次に、式Ｉ中に現れる基Ｒ及びＲ１及びその置換基の好適な例を挙げる。
Ｃ１〜Ｃ６‐アルキルは、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、二級‐ブチル、三級‐ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、三級‐ペンチル、ヘキシル及び２‐メチルペンチルを表わす。Ｃ１〜Ｃ８‐アルキルは、これらの基の他に、更に例えば、ヘプチル、１‐エチルペンチル、オクチル、２‐エチルヘキシル及びイソオクチルを表わす。
その炭素鎖が１個以上の基‐Ｏ‐によって遮断されていてよいＣ１〜Ｃ８‐アルキルは、例えば、２‐メトキシエチル、２‐エトキシエチル、２‐プロポキシエチル、２‐イソプロポキシエチル、２‐ブトキシエチル、２‐及び３‐メトキシプロピル、２‐及び３‐エトキシプロピル、２‐及び３‐プロポキシプロピル、２‐及び３‐ブトキシプロピル、２‐及び４‐メトキシブチル、２‐及び４‐エトキシブチル、２‐及び４‐プロポキシブチル、３，６‐ジオキサヘプチル、３，６‐ジオキサオクチル、４，８‐ジオキサノニル、３，７‐ジオキサオクチル、３，７‐ジオキサノニル、４，７‐ジオキサオクチル、４，７‐ジオキサノニル、２‐及び４‐ブトキシブチル、４，８‐ジオキサデシル、３，６，９‐トリオキサデシル及び３，６，９‐トリオキサウンデシルを表わす。
【００３０】
その炭素鎖が１個以上の基‐Ｓ‐によって遮断されていてよいＣ１〜Ｃ８‐アルキルは、例えば、２‐メトキシチオエチル、２‐エチルチオエチル、２‐プロピルチオエチル、２‐イソプロピルチオエチル、２‐ブチルチオエチル、２‐及び３‐メチルチオプロピル、２‐及び３‐エチルチオプロピル、２‐及び３‐プロピルチオプロピル、２‐及び３‐ブチルチオプロピル、２‐及び４‐メチルチオブチル、２‐及び４‐エチルチオブチル、２‐及び４‐プロピルチオブチル、３，６‐ジチアヘプチル、３，６‐ジチアオクチル、４，８‐ジチアノニル、３，７‐ジチアオクチル、３，７‐ジチアノニル、４，７‐ジチアオクチル、４，７‐ジチアノニル、２‐及び４‐ブチルチオブチル、４，８‐ジチアデシル、３，６，９‐トリチアデシル及び３，６，９‐トリチアウンデシルを表わす。
【００３１】
その炭素鎖が１個以上の基‐ＮＲ１‐によって遮断されていてよいＣ１〜Ｃ８‐アルキルは、例えば、２‐モノメチル‐及び２‐モノエチルアミノエチル、２‐ジメチルアミノエチル、２‐及び３‐ジメチルアミノプロピル、３‐モノイソプロピルアミノプロピル、２‐及び４‐モノプロピルアミノブチル、２‐及び４‐モノメチルアミノブチル、６‐メチル‐３，６−ジアザヘプチル、３，６‐ジメチル‐３，６‐ジアザヘプチル、３，６‐ジアザオクチル、３，６‐ジメチル‐３，６‐ジアザオクチル、９‐メチル‐３，６，９‐トリアザデシル、３，６，９‐トリメチル‐３，６，９‐トリアザデシル、３，６，９‐トリアザウンデシル及び３，６，９‐トリメチル‐３，６，９‐トリアザウンデシルを表わす。
【００３２】
その炭素鎖が１個以上の基‐ＣＯ‐によって遮断されていてよいＣ１〜Ｃ８‐アルキルは、例えば、プロパン‐２−オン‐１−イル、ブタンー３‐オン‐１‐イル、ブタン‐３‐オン‐２‐イル及び２‐エチル‐ペンタン‐３‐オン‐１‐イルを表わす。
【００３３】
その炭素鎖が１個以上の基‐ＳＯ２‐によって遮断されていてよいＣ１〜Ｃ８‐アルキルは、例えば、２‐メチルスルホニルエチル、２‐エチルスルホニルエチル、２‐プロピルスルホニルエチル、２‐イソプロピルスルホニルエチル、２‐ブチルスルホニルエチル、２‐及び３‐メチルスルホニルプロピル、２‐及び３‐エチルスルホニルプロピル、２‐及び３‐プロピルスルホニルプロピル、２‐及び３‐ブチルスルホニルプロピル、２‐及び４‐メチルスルホニルブチル、２‐及び４‐エチルスルホニルブチル、２‐及び４‐プロピルスルホニルブチル及び４‐ブチルスルホニルブチルを表わす。
【００３４】
Ｃ１〜Ｃ６‐アルコキシは、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、二級‐ブトキシ、三級‐ブトキシ、ペントキシ、イソペントキシ、ネオペントキシ、三級‐ペントキシ及びヘキソキシを表わす。
【００３５】
場合により他のヘテロ原子を含有する及び／又は芳香族系であってよい、窒素原子を介して結合された５‐〜７‐員の複素環基は、例えば、ピロール、ピラゾール、イミダゾール、トリアゾール、ピロリジン、ピラゾリン、ピラゾリジン、イミダゾリン、イミダゾリジン、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、ピペリジン、ピペラジン、オキサゾール、イソオキサゾール、トリアゾール、イソトリアゾール、インドール、キノリン、イソキノリン又はキナルジンを表わす。
【００３６】
その炭素骨格が、‐Ｏ‐、‐Ｓ‐、‐ＮＲ１‐、‐ＣＯ‐及び‐ＳＯ２‐から選択される１個以上の基によって遮断されていてよい（この際、炭素骨格は、１個以上のＣ１〜Ｃ６‐アルキルによって置換されていてよい）Ｃ５〜Ｃ８‐シクロアルキルは、例えば、シクロペンチル、２‐及び３‐メチルシクロペンチル、２‐及び３‐エチルシクロペンチル、シクロヘキシル、２‐、３‐及び４‐メチルシクロヘキシル、２‐、３‐及び４‐エチルシクロヘキシル、３‐及び４‐プロピルシクロヘキシル、３‐及び４‐イソプロピルシクロヘキシル、３‐及び４‐ブチルシクロヘキシル、３‐及び４‐ｓ‐ブチルシクロヘキシル、３‐及び４‐ｔ‐ブチルシクロヘキシル、シクロヘプチル、２‐、３‐及び４‐メチルシクロヘプチル、２‐、３‐及び４‐エチルシクロヘプチル、３‐及び４‐プロピルシクロヘプチル、３‐及び４‐イソプロピルシクロヘプチル、３‐及び４‐ブチルシクロヘプチル、３‐及び４‐ｓ‐ブチルシクロヘプチル、３‐及び４‐ｔ‐ブチルシクロヘプチル、シクロオクチル、２‐、３‐、４‐及び５‐メチルシクロオクチル、２‐、３‐、４‐及び５‐エチルシクロオクチル、３‐、４‐及び５‐プロピルシクロオクチル、２‐ジオキサニル、４‐モルホリニル、２‐及び３‐テトラヒドロフリル、１‐、２‐及び３‐ピロリジニル及び１‐、２‐、３‐及び４‐ピペリジルを表わす。
【００３７】
有利な三級‐アルキルフェノキシ基の例として、ｐ‐（１，１‐ジメチルプロピル）フェノキシ、ｐ‐（１，１‐ジメチルブチル）フェノキシ、ｐ‐（１，１‐ジメチルペンチル）フェノキシ、ｐ‐（１，１，３，３‐テトラメチルブチル）フェノキシ、ｐ‐（２‐シクロペンチル‐１，１‐ジメチルエチル）フェノキシ、ｐ‐（２‐シクロヘキシル‐１，１‐ジメチルエチル）フェノキシ、ｐ‐（２‐シクロヘプチルー１，１‐ジメチルエチル）フェノキシ及びｐ‐（１，１‐ジメチル‐２‐（４‐モルホリニル）エチル）フェノキシが挙げられる。ｐ‐（１，１，３，３‐テトラメチルブチル）フェノキシが特に有利である。
【００３８】
特に有利なナフタルモノイミド、ペリルモノイミド、ペリルイミド、テリルイミド及びクァテリルイミドは、イミド窒素原子に、殊に、次の塩基安定置換基Ｒ２を有する：
その炭素鎖が、‐Ｏ‐、‐Ｓ‐、‐ＮＲ１‐、‐ＣＯ‐及び‐ＳＯ２‐から選択される１個以上の基によって遮断されていてよい（この際、炭素鎖は、場合によりＣ１〜Ｃ６‐アルコキシ及び場合により他のヘテロ原子を含有する、及び／又は芳香性である１個の窒素原子を介して結合された５‐〜７‐員の複素環基から選択される同じ又は異なる基で１個以上置換されていてよい）Ｃ１〜Ｃ３０‐アルキル；
その炭素骨格が、‐Ｏ‐、‐Ｓ‐、‐ＮＲ１‐、‐ＣＯ‐及び‐ＳＯ２‐から選択される１種以上の基によって遮断されていてよい（この際、炭素骨格は、場合により、１個以上のＣ１〜Ｃ６‐アルコキシによって置換されていてよい）Ｃ５〜Ｃ８‐シクロアルキル；
各々１個以上のＣ１〜Ｃ１８‐アルキル、Ｃ１〜Ｃ６‐アルコキシ、シアノ、‐ＣＯＮＨ‐Ｒ１及び／又は‐ＮＨ‐ＣＯＲ１によって置換されていてよい、アリール又はヘタリール、例えば、フェニル、ナフチル、アントラセニル、フェナントレニル、ピロリル、ピラゾリル、イミダゾリル、オキサゾリル、チアゾリル、ピリジニル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、インドリル、キノリニル、イソキノリニル又はキナルジニル。
【００３９】
これらの置換基について詳細には、前記の基に補足して、例えば、次の基が挙げられる：
Ｃ１〜Ｃ３０‐アルキルは、前記のアルキル基のほかに、更に、例えば、ノニル、イソノニル、デシル、イソデシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、イソトリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル及びエイコシル（表示イソノニル、イソデシル及びイソトリデシル及び更に前記の表示イソオクチルは通称表示であり、オキソ合成によって得られるアルコールから由来する）を表わす；
基‐Ｏ‐又は‐Ｓ‐によって遮断されたＣ１〜Ｃ３０‐アルキルは、例えば、３，６，９‐トリオキサドデシル、３，６，９，１２‐テトラオキサトリデシル及び３，６，９，１２‐テトラオキサテトラデシル；３，６，９‐トリチアドデシル、３，６，９，１２‐テトラチアトリデシル及び３，６，９，１２‐テトラチアテトラデシルを表わす；
置換基‐ＣＯ‐ＮＨＲ１‐及び‐ＮＨ‐ＣＯＲ１‐は、例えば、カルバモイル、メチルアミノカルボニル、エチルアミノカルボニル、プロピルアミノカルボニル、ブチルアミノカルボニル、ペンチルアミノカルボニル、ヘキシルアミノカルボニル、ヘプチルアミノカルボニル、オクチルアミノカルボニル、ノニルアミノカルボニル及びデシルアミノカルボニル；ホルミルアミノ、アセチルアミノ及びプロピオニルアミノを表わす；
各々１個以上のＣ１〜Ｃ１８‐アルキル、Ｃ１〜Ｃ６‐アルコキシ、シアノ、‐ＣＯＮＨ‐Ｒ１及び／又は‐ＮＨ‐ＣＯＲ１によって置換されていてよいアリール又はヘタリールは、例えば、２‐、３‐及び４‐メチルフェニル、２，４‐、２，５‐、３，５‐及び２，６‐ジメチルフェニル、２，４，６‐トリメチルフェニル、２‐、３‐及び４‐エチルフェニル、２，４‐、２，５‐、３，５‐及び２，６‐ジエチルフェニル、２，４，６‐トリエチルフェニル、２‐、３‐及び４‐プロピルフェニル、２，４‐、２，５‐、３，５‐及び２，６‐ジプロピルフェニル、２，４，６‐トリプロピルフェニル、２‐、３‐及び４‐イソプロピルフェニル、２，４‐、２，５‐、３，５‐及び２，６‐ジイソプロピルフェニル、２，４，６‐トリイソプロピルフェニル、２‐、３‐及び４‐ブチルフェニル、２，４‐、２，５‐、３，５‐及び２，６‐ジブチルフェニル、２，４，６‐トリブチルフェニル、２‐、３‐及び４‐イソブチルフェニル、２，４‐、２，５‐、３，５‐及び２，６‐ジイソブチルフェニル、２，４，６‐トリイソブチルフェニル、２‐、３‐及び４‐ｓ‐ブチルフェニル、２，４‐、２，５‐、３，５‐及び２，６‐ジ‐ｓ‐ブチルフェニル、２，４，６‐トリ‐ｓ‐ブチルフェニル、２‐、３‐及び４‐ｔ‐ブチルフェニル、２，４‐、２，５‐、３，５‐及び２，６‐ジ‐ｔ‐ブチルフェニル及び２，４，６‐トリ‐ｔ‐ブチルフェニル；２‐、３‐及び４‐メトキシフェニル、２，４‐、２，５‐、３，５‐及び２，６‐ジメトキシフェニル、２，４，６‐トリメトキシフェニル、２‐、３‐及び４‐エトキシフェニル、２，４‐、２，５‐、３，５‐及び２，６‐ジエトキシフェニル、２，４，６‐トリエトキシフェニル、２‐、３‐及び４‐プロポキシフェニル、２，４‐、２，５‐、３，５‐及び２，６‐ジプロポキシフェニル、２‐、３‐及び４‐イソプロポキシフェニル、２，４‐、２，５‐、３，５‐及び２，６‐ジイソプロポキシフェニル及び２‐、３‐及び４‐ブトキシフェニル；２‐、３‐及び４‐シアノフェニル；３‐及び４‐カルボキシアミドフェニル、３‐及び４‐Ｎ‐（メチル）カルボキシアミドフェニル及び３‐及び４‐Ｎ‐（エチル）カルボキシアミドフェニル；３‐及び４‐アセチルアミノフェニル、３‐及び４‐プロピオニルアミノフェニル及び３‐及び４‐ブチリルアミノフェニルを表わす。
【００４０】
特に有利な化合物Ａは、式中のＰが、式II：
【００４１】
【化２】
［式中、Ｒ２は、前記の塩基安定イミド窒素原子‐置換基に相応する］のN，Ｎ’‐二置換のクァテリレン‐３，４：１３，１４‐テトラカルボン酸ジイミドを表わす化合物である。
【００４２】
式中のＰがクァテリルイミドIIを表わす、特に有利な式Iの化合物Ａにおいて、
Ｒは、有利に、Ｈ、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、三級‐ブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、又はモルホリニル、特に有利に、Ｈ、メチル、エチル、ブチル又は三級‐ブチル及び殊に三級‐ブチルを表わし、
Ｒ２は、有利に、置換されたフェニル、特に有利に、１〜３個のＣ１〜Ｃ４‐アルキルによって置換されたフェニル及び殊に２，６‐ジイソプロピルフェニルを表わし、
nは、有利に２〜１０、特に有利に４〜８及び殊に６を表わし、かつ
ｍは、０〜４、特に有利に０〜２及び殊に０を表わす。
【００４３】
n個の三級‐アルキルフェノキシ置換基及びｍ個の置換基Halは、クァテリレン系を介して有利に統計的に分配されている。２個のイミド‐窒素原子間の仮定軸の両側に、各々同様に４個の置換基が存在することが特に有利である。
【００４４】
式Iの化合物は、一般式III：
【００４５】
【化３】
のハロゲニドを、塩基の存在下に、不活性の窒素塩基性溶剤中で、一般式IV：
【００４６】
【化４】
の三級‐アルキルフェノールと反応させる方法によって得ることができる。
【００４７】
不活性の窒素塩基性溶剤として、ここでは殊に、極性溶剤、特に、窒素複素環、例えば、ピリジン、ピリミジン、キノリン、イソキノリン、キナルジン及び有利にＮ‐メチルピロリドン、及びカルボン酸アミド、例えば、Ｎ，Ｎ‐ジメチルホルムアミド及びＮ，Ｎ‐ジメチルアセトアミドが好適である。
【００４８】
溶剤量は、ハロゲニドIIIの溶解性に依存して、通例、ハロゲニドIII １ｇ当たり溶剤２〜４０ｇ、有利に４〜２５ｇである。
【００４９】
塩基として、殊に、非求核性化合物又は極めて弱い求核性の化合物が好適である。そのような塩基の例は、無水の形で使用されるアルカリ金属水酸化物、例えば、水酸化カリウム及び‐ナトリウム、アルカリ金属炭酸塩、例えば、炭酸カリウム及び‐ナトリウム、及び三級アルコールのアルカリ金属アルコラート、例えば、リチウム‐、ナトリウム‐及びカリウム‐ｔ‐ブチラートである。
【００５０】
通例、置換すべきハロゲン原子１モル当たり、塩基０．８〜１．５、有利に１．０〜１．２モル当量が使用される。
【００５１】
出発物質として使用されるハロゲニドIIIは、一般に公知であり、又は公知方法により、非ハロゲン化共役多環状化合物と、ハロゲン化剤、殊に、元素ハロゲンとの反応によって得られる。ハロゲン原子をアリール置換基に結合して含有するハロゲニドIIIは、公知方法で、通例、多環状系へのハロゲン化アリール基の導入を経て得られる。
【００５２】
ハロゲニドIII対フェノールIVのモル比は、置換すべきハロゲン原子の数に依存している。一般に、ハロゲニドIII中の交換すべきハロゲン原子１モル当たりフェノールIV１〜２、有利に１〜１．３モルを使用する。
【００５３】
反応温度は、通例、５０〜２００℃、有利に、６０〜１４０℃である。
【００５４】
反応を、保護ガス、例えば、窒素又はアルゴン下に実施することが推奨される。
【００５５】
反応時間は、ハロゲニドIIIの反応性に依存して、約２〜４８時間である。
【００５６】
反応条件（フェノールIV及び塩基の量及び反応温度）の選択によって、ハロゲン交換を有利に調整することができ、従って、式中の全ハロゲン原子が交換されている（ｍ＝０）生成物Iも、なおハロゲンを含有する生成物Iも、問題なく製造することができる。所望の場合には、ハロゲンを、引き続き更に生成物Iから除去することができる。出発生成物IIIから、所望により、異なる生成物Iを製造することもできる。
【００５７】
成分Ｂにおいて、有利な群a）のモノマーは、WO９９／１９２６７及びドイツ国特許出願Ｐ１０２０３９３８．０に記載されていていて、全範囲でそれについて引用される。群a）のアキラルでネマチックの重合可能なモノマーは、有利に二官能的に重合可能であり、有利に、一般式Ｖ：
Ｚ１−（Ｙ１−Ａ１）Ｖ−Ｙ２−Ｍ−Ｙ３−（Ａ２−Ｙ４）Ｗ−Ｚ２ （Ｖ）
［式中、
Ｚ１、Ｚ２は、これを介して重合が行なわれ得る同じ又は異なる反応基又はそのような反応基を含有する基を表わし、この際、反応基とは、Ｃ＝Ｃ‐二重結合、Ｃ≡Ｃ‐三重結合、オキシラン‐、チイラン‐、アジラン‐、シアネート‐、チオシアネート‐、イソシアネート‐、カルボン酸‐、ヒドロキシ‐又はアミノ基のことであり、この際、Ｃ＝Ｃ‐二重結合が特に有利であり、
Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４は、相互に無関係で、化学結合、Ｏ、Ｓ、‐ＣＯ‐Ｏ‐、‐Ｏ‐ＣＯ‐、‐Ｏ‐ＣＯ‐Ｏ‐、‐ＣＯ‐Ｓ‐、‐Ｓ‐ＣＯ‐、‐ＣＯ‐Ｎ（Ｒ３）‐、‐Ｎ（Ｒ３）‐ＣＯ‐、‐Ｎ（Ｒ３）‐ＣＯ‐Ｏ‐、‐Ｏ‐ＣＯ‐Ｎ（Ｒ３）‐、‐Ｎ（Ｒ３）‐ＣＯ‐Ｎ（Ｒ３）‐、‐ＣＨ２‐Ｏ‐、‐Ｏ‐ＣＨ２‐、有利に、‐ＣＯ‐Ｏ‐、‐Ｏ‐ＣＯ‐又は‐Ｏ‐ＣＯ‐Ｏ‐を表わし、
この際、Ｒ３は水素又はＣ１〜Ｃ４‐アルキルを表わし、
Ａ１、Ａ２は、同じ又は異なるスペーサー、例えば、酸素、硫黄、場合により１個置換された窒素によって遮断されていてよい直鎖状のＣ２〜Ｃ３０‐アルキレン基、有利に、Ｃ２〜Ｃ１２‐アルキレン基を表わし、この際、これらの遮断基は隣接していてはならず、この際、好適なアミン置換基はＣ１〜Ｃ４‐アルキル基を包含し、この際、アルキレン鎖は弗素、塩素、臭素、シアン、メチル又はエチルによって置換されていてよく、かつこの際、特に有利に、Ａ１及びＡ２は、−（ＣＨ２）−ｎ（n＝２〜６）を表わし、
ｖ、ｗは、０又は１であり、
Ｍは、有利に、一般式VI：
（Ｔ‐Ｙ５）ｍ‐Ｔ （VI）
を有するメソゲン（mesogene）基を表わし、
この際、
Ｔは、同じ又は異なる２価の同素環状脂肪族系、複素環状脂肪族系、同素芳香族系又は複素芳香族系基、有利に、１，４−結合の非置換の、又は１個以上、例えば、１〜４個置換されたベンゾール環：
【００５８】
【化５】
を表わし、
この際、
Ｒ４は、弗素、塩素、臭素、Ｃ１〜Ｃ２０‐アルキル、Ｃ１〜Ｃ２０‐アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ２０‐アルキルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ２０‐アルキルカルボニルオキシ、ヒドロキシ、ニトロ、ＣＨＯ又はＣＮ、有利に、塩素、臭素又はＣ１〜Ｃ４‐アルキル、殊に、メチルを表わし、かつ
nは、０〜４、有利に０〜２、殊に、０又は１の整数を表わし、
Ｙ５は、同じ又は異なる架橋結合員‐ＣＯ‐Ｏ‐、‐Ｏ‐ＣＯ‐、‐ＣＨ２‐Ｏ‐、‐Ｏ‐ＣＨ２‐、‐ＣＯ‐Ｓ‐、‐Ｓ‐ＣＯ‐、‐ＣＨ２‐Ｓ‐、‐Ｓ‐ＣＨ２、‐ＣＨ＝Ｎ‐又は‐Ｎ＝ＣＨ‐又は直接結合、有利に‐ＣＯ‐Ｏ‐又は‐Ｏ‐ＣＯ‐を表わし、かつ
ｍは、０〜３、有利に、０、１又は２の整数を表わす］に相応する。
【００５９】
メソゲン基は、置換された１，４‐ジオキシベンゾール‐構成要素、殊に、メチル‐置換の１，４‐ジオキシベンゾール‐構成要素を有することが有利である。
特に有利なメソゲン基は、次の構造VII：
【００６０】
【化６】
［式中、
Ｒ４は、弗素、塩素、臭素、Ｃ１〜Ｃ２０‐アルキル、Ｃ１〜Ｃ２０‐アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ２０‐アルキルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ２０‐アルキルカルボニルオキシ、ヒドロキシ、ニトロ、ＣＨＯ又はＣＮを表わし、かつ
nは、０〜４の整数を表わす］を有する。
【００６１】
メソゲン基VII中のＲ４は、特に有利に、塩素、臭素又はＣ１〜Ｃ４‐アルキル、殊に、メチルを表わし、nは０〜２、殊に０又は１、特に１を表わす。
【００６２】
極めて特に有利なメソゲン基は、次の構造VIII：
【００６３】
【化７】
を有する。
【００６４】
群a）のキラルの重合可能なモノマーは、有利に、式IX：
［（Ｚ１‐Y１）ｏ‐A３‐Y２‐M‐Y３］ｎＸ［Y３‐M‐Y２‐A４‐（Y１‐Ｚ１）Ｐ］ｍ （IX）
［式中、
Ｚ１、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３及びＭは、前記のものであり、
o、ｐは０又は１を表わし、この際、o及びｐは同時に０を表わしてはならず、
A３及びA４は、同じ又は異なっていて、かつ
A３は、o＝１である場合には、A１と同様に定義され、又はo＝０である場合には、酸素、硫黄、場合により１個置換された窒素によって遮断されていてよい直鎖のＣ２〜Ｃ３０‐アルキレン基、有利にＣ２〜Ｃ１２‐アルキレン基を表わし、この際、これらの遮断基は隣接していてはならず、この際、好適なアミン置換基はＣ１〜Ｃ４‐アルキル基を包含し、この際、アルキル基は、弗素、塩素、臭素、シアン、メチル又はエチルによって置換されていてよく、かつこの際、A３は、特に有利に、ＣＨ３（ＣＨ２）ｌ‐基（ｌ＝１〜７）を表わし、
A４は、ｐ＝１である場合には、A１と同様に定義され、又はｐ＝０である場合には、酸素、硫黄、場合により１個置換された窒素によって遮断されていてよい直鎖のＣ２〜Ｃ３０‐アルキル基、有利にＣ２〜Ｃ１２‐アルキル基を表わし、この際、これらの遮断基は隣接していてはならず、この際、好適なアミン置換基はＣ１〜Ｃ４‐アルキル基を包含し、この際、アルキル基は、弗素、塩素、臭素、シアン、メチル又はエチルによって置換されていてよく、かつこの際、A３は、特に有利に、ＣＨ３（ＣＨ２）ｌ‐基（ｌ＝１〜７）を表わし、
n、ｍは、０、１又は２を表わし、この際、合計n＋ｍは、１又は２、有利に２であり、かつ
Ｘは、キラル基を表わす］に相応する。
【００６５】
一般式IXの化合物のキラル基Ｘでは、特に比較的容易な入手性に基づき、殊に、糖、ジナフチル‐又はジフェニル誘導体及び光学活性グリコール、アルコール又はアミノ酸から誘導される基が有利である。糖とは、殊に、ペントース及びヘキソース及びそれから誘導される誘導体が挙げられる。
【００６６】
基Ｘの例は、次の構造を有し、この際、末端の線は各々遊離の原子価を表わす：
【００６７】
【化８】
【００６８】
【化９】
［この際、
Ｌ１は、Ｃ１〜Ｃ４‐アルキル、Ｃ１〜Ｃ４‐アルコキシ、ハロゲン、ＣＯＯＲ５、ＯＣＯＲ５、ＮＨＣＯＲ５であり、Ｒ５は、Ｃ１〜Ｃ４‐アルキル又は水素を表わす］。
【００６９】
【化１０】
が特に有利である。
【００７０】
更に、次の構造を有するキラル基も好適である：
【００７１】
【化１１】
【００７２】
前記の基A１、A２、A３、A４、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＬ１の定義において、Ｃ１〜Ｃ２０‐アルキルは、殊に、メチル、エチル、n‐プロピル、イソプロピル、n‐ブチル、二級‐ブチル、イソブチル、三級‐ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル及びエイコシルを表わし、
Ｃ１〜Ｃ４‐アルキルは、殊に、メチル、エチル、n‐プロピル、イソプロピル、n‐ブチル、二級‐ブチル、イソブチル又は三級‐ブチルを表わし、
Ｃ１〜Ｃ２０‐アルコキシは、殊に、そのアルキル基が前記のＣ１〜Ｃ２０‐アルキル基に相応するアルコキシ基を表わし、かつ
Ｃ２〜Ｃ３０‐アルキレンは、殊に、前記のＣ２〜Ｃ２０‐アルキル基の２価の基に相応するアルキレン基、及び直鎖のＣ２１〜Ｃ３０‐同族体を表わす。
【００７３】
特別な１実施態様において、ネマチックアキラルの重合可能なモノマーは、次の構造式Ｘを有する：
【００７４】
【化１２】
【００７５】
もう１つの特別な実施態様において、キラルの重合可能なモノマーは、次の構造式XI又はXIIを有する：
【００７６】
【化１３】
【００７７】
アキラルネマチックモノマー対キラルモノマーの量比は、これらのモノマーから生じるポリマーが、配向後に、IR‐スペクトル範囲での波長に相応する、らせん超格子のピッチを有するように選択される。この際、量比は、ネマチック及びキラルモノマーの種類に依存し、個々の場合で決められるべきである。
【００７８】
選択的に、成分Ｂとして、少なくとも１種の群ｂ）のコレステリックの重合可能なモノマーを使用することができる。
【００７９】
有利な群ｂ）のモノマーは、それについて全範囲で引用されるDE‐Ａ１９６０２８４８に記載されている。殊に、モノマーｂ）は、少なくとも１種の、式XIII：
（Ｚ１−Ｙ１−Ａ１−Ｙ２−Ｍ１−Ｙ３）ｎＸ （XIII）
のコレステリックの重合合可能なモノマーを包含する。
【００８０】
ここで、変数は、群a）のモノマーの場合と同様に定義される。有利な実施態様が相応に当てはまる。
【００８１】
選択的に、成分Ｂとして、少なくとも１種の群ｃ）の架橋結合可能なコレステリックポリマーを使用することができる。
【００８２】
有利な群ｃ）のポリマーは、例えば、DE‐Ａ１９７１３６３８に記載されているコレステリックセルロース誘導体、殊に、
（１）セルロースのヒドロキシアルキルエーテルと、
（２）飽和、脂肪族又は芳香族カルボン酸及び
（３）不飽和モノ‐又はジカルボン酸
とのコレステリック混合エステルである。
【００８３】
成分（１）のエーテル‐官能基を介して結合されたヒドロキシアルキル基が、直鎖又は分枝鎖のＣ２〜Ｃ１０‐ヒドロキシアルキル基、殊に、ヒドロキシプロピル‐及び／又はヒドロキシエチル基を包含する混合エステルが特に有利である。使用可能な混合エステルの成分（１）は、有利に、分子量約５００〜約１百万を有する。有利に、セルロースのアンヒドログルコース‐単位は、ヒドロキシアルキル基で、平均モル置換度２〜４でエーテル化されている。セルロース中のヒドロキシアルキル基は、同じ又は異なっていてよい。そのうち５０％までがアルキル基（殊に、Ｃ１〜Ｃ１０‐アルキル基）によって代えられてよい。その１例は、ヒドロキシプロピルメチルセルロースである。
【００８４】
使用可能な混合エステルの成分（２）として、直鎖脂肪族Ｃ１〜Ｃ１０‐カルボン酸、殊に、Ｃ２〜Ｃ６‐カルボン酸、分枝鎖脂肪族Ｃ４〜Ｃ１０‐カルボン酸、殊に、Ｃ４〜Ｃ６‐カルボン酸又は直鎖又は分枝鎖のハロゲンカルボン酸が使用可能である。成分（２）は、安息香酸又は脂肪族置換の脂肪族カルボン酸、殊に、フェニル酢酸であってもよい。成分（２）は、特に有利に、酢酸、プロピオン酸、n‐酪酸、イソ酪酸又はn‐バレリアン酸、殊に、プロピオン酸、３‐Cl‐プロピオン酸、n‐酪酸又はイソ酪酸から選択される。
【００８５】
成分（３）は、有利に、不飽和Ｃ３〜Ｃ１２‐モノ‐又はジカルボン酸又はそのようなジカルボン酸の半エステル、殊に、α，β‐エチレン系不飽和Ｃ３〜Ｃ６‐モノ‐又はジカルボン酸又はジカルボン酸の半エステルから選択される。
【００８６】
使用可能な混合エステルの成分（３）は、特に有利に、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、ビニル酢酸、マレイン酸、フマル酸又はウンデセン酸、殊に、アクリル酸又はメタクリル酸から選択される。
【００８７】
成分（１）は、有利に、成分（２）及び（３）で、平均モル置換度１．５〜３、殊に、１．６〜２．７、特に有利に２．３〜２．６でエステル化されている。成分（１）のOH‐基の有利に約１〜３０％、殊に、１〜２０％又は１〜１０％、特に有利に約５〜７％が、成分（３）でエステル化されている。
【００８８】
成分（２）対成分（３）の量比は、ポリマーの反射波長を決定する。
【００８９】
好適な群ｃ）のポリマーは、更に、DE‐A１９７１７３７１に記載された、プロパルギル末端化のコレステリックポリエステル又はポリカルボネートである。
【００９０】
これらの化合物の内、直接又は１個の結合員を介してポリエステル又はポリカーボネートに結合している、少なくとも１種の式：Ｒ６Ｃ≡Ｃ‐ＣＨ２‐［式中、Ｒ６は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ４‐アルキル、アリール又はAr‐Ｃ１〜Ｃ４‐アルキル（例えば、ベンジル又はフェネチル）を表わす］のプロパルギル末端基を有するポリエステル又はポリカーボネートが有利である。結合員は、次の基から有利に選択される：
【００９１】
【化１４】
［式中、Ｒ７は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ４‐アルキル又はフェニルを表わし、Ｚは、Ｏ、Ｓ又はNR８を表わし、かつＲ８は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ４‐アルキル又はフェニルを表わす］。
【００９２】
ポリエステルにおける、プロパルギル末端基は、有利に、
【００９３】
【化１５】
を介して結合している。
【００９４】
ポリエステルは、有利に、
（４）少なくとも１種の芳香族又は芳香脂肪族ジカルボン酸単位及び／又は少なくとも１種の芳香族又は芳香脂肪族ヒドロキシカルボン酸単位及び
（５）少なくとも１種のジオール単位を含有する。
【００９５】
有利なジカルボン酸単位は、式：
【００９６】
【化１６】
の単位、殊に、式：
【００９７】
【化１７】
の単位である［式中、各フェニル基又はナフチル基は、相互に無関係で、Ｃ１〜Ｃ４‐アルキル、Ｃ１〜Ｃ４‐アルコキシ、ハロゲン又はフェニルから選択される、１、２又は３個の置換基を有することができ、この際、前記式中において、
Ｗは、NR９、Ｓ、O、（CH２)ｒO（CH２)ｑ、（ＣＨ２)ｓ又は単結合を表わし、
Ｒ９は、アルキル又は水素を表わし、
ｓは、１〜１５の整数を表わし、かつ
ｒ及びｑは、相互に無関係で、０〜１０の整数を表わす］。
【００９８】
有利なヒドロキシカルボン酸単位は、式：
【００９９】
【化１８】
の単位であり、この際、各フェニル基又はナフチル基は、相互に無関係で、Ｃ１〜Ｃ４‐アルキル、Ｃ１〜Ｃ４‐アルコキシ、ハロゲン又はフェニルから選択される、１、２又は３個の置換基を有することができる。
【０１００】
有利なジオール単位は、式：
【０１０１】
【化１９】
【０１０２】
【化２０】
の単位、殊に、式：
【０１０３】
【化２１】
の単位であり、前記式中、
Ｌは、アルキル、アルコキシ、ハロゲン、COOR１１、OCOR１１、CONHR１１又はNHCOR１１を表わし、
Ｘは、Ｓ、Ｏ、Ｎ、CH２又は単結合をあらわし、
Ａは、単結合、（ＣＨ２）ｎ、Ｏ（ＣＨ２）ｎ、Ｓ（ＣＨ２）ｎ、NR１１（ＣＨ２）ｎ 、
【０１０４】
【化２２】
を表わし、
Ｒ１１は、アルキル又は水素を表わし、
Ｒ１０は、水素、ハロゲン、アルキル又はフェニルを表わし、かつ
nは、１〜１５の整数を表わす。
【０１０５】
少なくとも１種の式：
【０１０６】
【化２３】
のジカルボン酸単位、及び少なくとも１種の式：
【０１０７】
【化２４】
のジオール単位を含有するポリエステルが有利であり、
この際、Ｒ１０は、Ｈ、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ４‐アルキル、殊に、ＣＨ３又はＣ（ＣＨ３）３、又はフェニルを表わす。
【０１０８】
他の有利な化合物は、式： Ｐ‐Ｙ‐Ｂ‐ＣＯ‐Ｏ‐Ａ‐Ｏ‐ＣＯ‐Ｂ‐Ｙ‐Ｐ のジエステルであり、式中のＰは、前記で定義した式のプロパルギル末端基を表わし、Ｙは、Ｏ、Ｓ又はＮＲ１２（Ｒ１２＝Ｃ１〜Ｃ４‐アルキル）を表わし、Ｂは、
【０１０９】
【化２５】
を表わし、この際、各フェニル基又はナフチル基は、相互に無関係で、Ｃ１〜Ｃ４‐アルキル、Ｃ１〜Ｃ４‐アルコキシ、ハロゲン又はフェニルから選択される、１、２又は３個の置換基を有することができ、かつＡは（隣接の酸素原子と一緒に）、前記のジオールの１つを表わす。
【０１１０】
特に有利なジエステルは、式中のＢが、
【０１１１】
【化２６】
を表わす前記式のものであり、殊に、式：
ＨＣ≡ＣＣＨ２Ｏ‐Ｂ‐ＣＯ‐Ｏ‐Ａ‐Ｏ‐ＣＯ‐Ｂ‐ＯＣＨ２‐Ｃ≡ＣＨ
のジエステルであり、式中、
（６）Ｂは、
【０１１２】
【化２７】
を表わし、かつＡは、
【０１１３】
【化２８】
を表わし、又は
（７）Ｂは、式：
【０１１４】
【化２９】
を表わし、かつＡは、（６）に挙げたものである。
【０１１５】
他の有利な化合物は、少なくとも１種の前記式、殊に、式：
【０１１６】
【化３０】
のジオール単位を組み込んで含有するポリカルボネートである。
【０１１７】
この際、有利なポリカルボネートは、ジオール単位として、少なくとも１種の式：
【０１１８】
【化３１】
のメソゲン単位及び式：
【０１１９】
【化３２】
のキラル単位及び場合により、式：
【０１２０】
【化３３】
の非‐キラル単位を含有するものであり、この際、Ｒ１０は前記のもの、殊に、Ｈ又はＣＨ３を表わす。
【０１２１】
特に有利なポリカルボネートは、式： ＨＣ≡ＣＣＨ２Ｏ‐Ｒ１３‐ＣＯ ［式中、Ｒ１３は、
【０１２２】
【化３４】
を表わす］のプロパルギル末端基を有するものである。
【０１２３】
更に、群ｃ）のポリマーとして、非‐末端位に感光性の基も含有するコレステリックポリカルボネートが好適である。そのようなポリカルボネートは、DE‐Ａ１９６３１６５８に記載されている。それらは、有利に、式XIV：
【０１２４】
【化３５】
に相応し、この際、モル比ｗ／ｘ／ｙ／ｚは、約１〜２０／約１〜５／約０〜１０／約０〜１０である。モル比ｗ／ｘ／ｙ／ｚが、約１〜５／約１〜２／約０〜５／約０〜５であることが特に有利である。
【０１２５】
式XIVにおいて、
Ａは、式：
【０１２６】
【化３６】
のメソゲン基を表わし、
Ｂは、式：
【０１２７】
【化３７】
のキラル基を表わし、
Ｄは、式：
【０１２８】
【化３８】
の感光性基を表わし、
Ｅは、他の、式：
【０１２９】
【化３９】
の非‐キラル基を表わし、この際、前記の式において、
Ｌは、アルキル、アルコキシ、ハロゲン、COOR１５、OCOR１５、CONHR１５又はNHCOR１５を表わし
Ｘは、Ｓ、Ｏ、Ｎ、ＣＨ２又は単結合を表わし、
Ｒ１５は、アルキル又は水素を表わし、
Ａは、単結合、（ＣＨ２）ｎ、Ｏ（ＣＨ２）ｎ、Ｓ（ＣＨ２）ｎ、ＮＲ（ＣＨ２）ｎ、
【０１３０】
【化４０】
を表わし、
Ｒ１４は、水素、ハロゲン、アルキル又はフェニルを表わし、かつ
nは、１〜１５の整数を表わす。
【０１３１】
Ｒ１４が、アルキル、ハロゲンを表わし、Ａが、単結合をあらわし、又はＲ１４がＨ又はアルキルを表わし、Ａが
【０１３２】
【化４１】
を表わす場合には、可溶性を改善する基が重要である。その例は、
【０１３３】
【化４２】
である。
イソソルビッド、イソマンニッド及び／又はイソイジッドは、有利なキラル成分である。
キラルジオール構造単位の割合は、所望の反射特性に応じて、有利に、ジオール構造単位の総含量の１〜８０モル％、特に有利に２〜２０モル％の範囲にある。
選択的に、成分Ｂとして、重合可能な希釈剤中のコレステリックポリマー（群ｄ））を使用することができる。
有利な群ｄ）の」ポリマーは、例えば、それについて全面的に引用されるUS‐Ａ‐０８８３４７４５に記載されている架橋結合可能なコレステリックコポリイソシアネートである。そのようなコポリイソシアネートは、式：
【０１３４】
【化４３】
及び場合により、式：
【０１３５】
【化４４】
の繰返し単位を有し、
この際、
Ｒ１６は、キラル脂肪族又は芳香族基を表わし、
Ｒ１７は、架橋結合可能な基を表わし、かつ
Ｒ１８は、アキラル基を表わす。
の繰返し単位を有する。
【０１３６】
他の記載がない限り、ここで、”アルキル”（例えば、アルコキシ、ジアルキル、アルキルチオ等の意味においても）とは、分枝鎖及び非分枝鎖のＣ１〜Ｃ１２‐アルキル、有利に、Ｃ３〜Ｃ１２‐、特に有利に、Ｃ４〜Ｃ１０‐、殊に、Ｃ６〜Ｃ１０‐アルキルのことである。
【０１３７】
Ｒ１６は、有利に、（キラル）分枝鎖又は非分枝鎖のアルキル‐、アルコキシアルキル‐、アルキルチオアルキル‐、シクロアルキル‐、アルキルフェニル‐又はＣ３〜Ｃ９‐エポキシアルキル基又はＣ１〜Ｃ６‐脂肪酸とＣ１〜Ｃ６‐アルカノールとのエステルの基又はＣ３〜Ｃ９‐ジアルキルケトンから選択される。エステル基は脂肪酸部分を介しても、アルカノール基を介しても、Ｎ‐原子に結合していてよい。基Ｒ１６は、同じ又は異なる、アルコキシ基、ジ‐Ｃ１〜Ｃ４‐アルキルアミノ基、ＣＮ、ハロゲン原子又はＣ１〜Ｃ４‐アルキルチオ基から選択される、１、２又は３個の置換基を有することができる。
【０１３８】
Ｒ１６は、有利に、アルキル、アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ６‐脂肪酸とＣ１〜Ｃ６‐アルカノールとのエステルの基、Ｃ３〜Ｃ９‐ジアルキルケトン及びエポキシド化Ｃ３〜Ｃ９‐エポキシアルキル基から選択され、この際、Ｒ１６は、同じ又は異なる、アルコキシ、ハロゲン、ＣＮ又はＣＦ３から選択される１又は２個の基によって置換されていてよい。 分枝鎖又は非分枝鎖のアルキル‐又はアルコキシ基の有利な置換基は、アルコキシ基、ハロゲン原子又はＣＮから選択され、Ｃ１〜Ｃ６‐脂肪酸とＣ１〜Ｃ６‐アルカノールとのエステルの有利な置換基は、アルコキシ基、ハロゲン原子、ＣＮ又はＣＦ３から選択され、かつＣ３〜Ｃ９‐ジアルキルケトンの置換基は、アルコキシ基、ハロゲン原子又はＣＮから選択される。
【０１３９】
基Ｒ１６の主鎖は、殊に、３〜１２、殊に、６〜１０、有利に６〜８員（Ｃ‐、Ｏ‐及び／又はＳ‐原子）の鎖長を有する。次の基から選択される基Ｒ１６が特に有利である：
【０１４０】
【化４５】
【０１４１】
【化４６】
【０１４２】
使用可能なコポリイソシアネートの成分XVは、極めて特に有利に、２，６‐ジメチルヘプチルイソシアネートから誘導される。
【０１４３】
使用可能なコポリイソシアネートの基Ｒ１７は、有利に、Ｃ３〜Ｃ１１‐アルケニル基、Ｃ４〜Ｃ１１‐ビニルエーテル基（＝ビニル‐Ｃ２〜Ｃ９‐アルキルエーテル）、エチレン系不飽和Ｃ３〜Ｃ１１‐カルボン酸基及びエチレン系不飽和Ｃ３〜Ｃ６‐モノカルボン酸とＣ２〜Ｃ６‐アルカノールとのエステルから選択され、この際、Ｎ‐原子への結合は、エステルのアルカノール基を介して行なわれる。メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、n‐ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、２‐エチルヘキシルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、n‐ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、２‐エチルヘキシルメタクリレート、殊に、エチルアクリレート又はエチルメタクリレートから選択される基が特に有利である。
【０１４４】
基Ｒ１８は、有利に、基Ｒ１６と同じ意味を有する。しかし、これはアキラルであり、即ち、これはキラル中心を有しないか又はラセミ混合物として存在する。
【０１４５】
基Ｒ１８の主鎖は、４〜１２、殊に６〜１０、有利に６〜８員（Ｃ‐、Ｏ‐及び／又はＳ‐原子）の鎖長を有することが特に有利である。本発明によるコポリイソシアネートの成分XVIIは、極めて特に有利に、n‐ヘキシルイソシアネート、n‐ヘプチルイソシアネート又はn‐オクチルイソシアネートから誘導される。
【０１４６】
成分XV、XVI及びXVIIは、有利に、モル量比XV：XVI：XVII約１〜２０：１〜２０：５０〜９８、殊に、約５〜１５：５〜１５：６５〜９０、特に有利に、約１５：１０：７５で存在している。
【０１４７】
単位XV、XVI及びXVIIは、使用可能なコポリイソシアネート中で統計的に分配されていてよい。
【０１４８】
本発明による組成物の成分Ｂとして、有利に、少なくとも１種のアキラルネマチックの重合可能なモノマー及びキラルの重合可能なモノマーからなる混合物、即ち、群a）が使用される。
【０１４９】
化合物Ａ又は化合物Ａの合計は、成分Ｂの総質量に対して、有利に、０．０１〜２０質量％、特に有利に、０．０１〜１５質量％、極めて特に有利に０．０１〜１０質量％、殊に、０．０１〜７質量％及び特別に０．０１〜５質量％の量で存在する。
【０１５０】
組成物は、成分Ａ及びＢの完全混合物であるか、又は好適な希釈剤中の成分Ａ及びＢの溶液又は分散液である。この際、希釈剤の成分は、組成物の総質量に対して、有利に、５〜９５質量％、特に有利に、３０〜８０質量％、殊に、４０〜７０質量％である。
【０１５１】
群a）又はｂ）の化合物の好適な希釈剤は、直鎖又は分枝鎖のエステル、特に、酢酸エステル、環状エーテル及びエステル、アルコール、ラクトン、脂肪族及び芳香族炭化水素、例えば、トルオール、キシロール及びシクロヘキサン、及びケトン、アミド、Ｎ‐アルキルピロリドン、特に、Ｎ‐メチルピロリドン、及び殊に、テトラヒドロフラン（THF）、ジオキサン及びメチルエチルケトン（MEK）である。
【０１５２】
群ｃ）のポリマーの好適な希釈剤は、例えば、エーテル及び環状エーテル、例えば、テトラヒドロフラン又はジオキサン、塩素化炭化水素、例えば、ジクロルメタン、トリクトルメタン、四塩化炭素、ジクロルエタン、１，１，２，２‐テトラクロルエタン、１‐クロルナフタリン、クロルベンゾール又は１，２‐ジクロルベンゾールである。これらの希釈剤は、特に、ポリエステル及びポリカルボネートに好適である。セルロース誘導体の好適な希釈剤は、例えば、エーテル、例えば、ジオキサン、又はケトン、例えば、アセトンである。コポリイソシアネートを群ｄ）のポリマーとして使用する場合には、例えば、US‐Ａ‐０８８３４７４５に記載されている重合可能な希釈剤を使用することが重要である。そのような重合可能な希釈剤は、例えば、次のものである：
α，β‐不飽和モノ‐又はジカルボン酸、殊に、Ｃ３〜Ｃ６‐モノ‐又はジカルボン酸とＣ１〜Ｃ１２‐アルカノール、Ｃ２〜Ｃ１２‐アルカンジオール又はそのＣ１〜Ｃ６‐アルキルエーテル及びフェニルエーテルとのエステル、例えば、アクリレート及びメタクリレート、ヒドロキシエチル‐又はヒドロキシプロピルアクリレート又は‐メタクリレート及び２‐エトキシエチルアクリレート又は‐メタクリレート；
ビニル‐Ｃ１〜Ｃ１２‐アルキルエーテル、例えば、ビニルエチル‐、ビニルヘキシル‐又はビニルオクチルエーテル；
Ｃ１〜Ｃ１２‐カルボン酸のビニルエステル、例えば、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルラウレート；
Ｃ３〜Ｃ９‐エポキシド、例えば、１，２‐ブチレンオキシド、スチロールオキシド；
N‐ビニルピロリドン、N‐ビニルカプロラクタム、N‐ビニルホルムアミド；
ビニル芳香族化合物、例えば、スチロール、α‐メチルスチロール、クロルスチロール、及び
２個以上の架橋結合可能な基を有する化合物、例えば、ジオール（ポリエチレングリコールを含む）とアクリル‐又はメタクリル酸とのジエステル又はジビニルベンゾール。
【０１５３】
有利な重合可能な希釈剤の例は、２‐エポキシエチルアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート及びテトラエチレングリコールジメタクリレートである。特に有利な重合可能な希釈剤は、スチロールである。
【０１５４】
群a）、ｂ）又はｃ）の混合物は、少量で、重合可能な希釈剤を含有することもできる。a）、ｂ）又はｃ）に添加可能な、有利な重合可能な溶剤は、アクリレート、殊に高級官能性アクリレート、例えば、ビス、トリス‐又はテトラアクリレート、特に有利に高沸騰オリゴアクリレートである。有利な添加量は、混合物の総質量に対して、約５質量％である。
【０１５５】
本発明による組成物は、粘性及び流展性の調製のために、添加成分と混合させることができる。
【０１５６】
例えば、ポリマー結合剤及び／又は重合によってポリマー結合剤に変換され得るモノマー化合物が使用可能である。そのような結合剤として、例えば、有機溶剤中に可溶性のポリエステル、セルロースエステル、ポリウレタン、シリコーン、ポリエーテル‐又はポリエステル変性化シリコーンが好適である。セルロースエステル、例えば、セルロースアセトブチレートが特に有利に使用される。
【０１５７】
少量の好適な流展剤の添加も有利である。使用されるコレステルの量に対して、約０．００５〜１質量％、殊に、０．０１〜０．５質量％が使用可能である。好適な流展剤は、例えば、グリコール、シリコーン油及び殊に、アクリレートポリマー、例えば、Firma Byk-Chemieの商標Byk 361又はByk 358で得られるアクリレートコポリマー及びFa. Tegoの商標Tego flow ZFS 460で得られる変性化のシリコーン不含のアクリレートポリマーである。
【０１５８】
組成物は、場合により、UV‐及び風化作用に対する安定剤を含有する。それには、例えば、２，４‐ジヒドロキシベンゾフェノン誘導体、２‐シアン‐３，３‐ジフェニルアクリレートの誘導体、２，２’，４，４’‐テトラヒドロキシベンゾフェノンの誘導体、オルトヒドロキシフェニルベンズトリアゾルの誘導体、サリチル酸エステル、オルトヒドロキシフェニル‐ｓ‐トリアジン又は立体障害のアミンが好適である。これらの物質を単独で又は有利に混合物の形で使用することができる。
【０１５９】
更に、本発明による組成物は、それが光化学的に重合されるべき場合には、市販の光重合開始剤を含有することができる。電子線による硬化にはそれは必要ない。好適な光重合開始剤は、例えば、イソブチル‐ベンゾインエーテル、２，４，６‐トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、１‐ヒドロキシシクロヘキシル‐フェニルケトン、２‐ベンジル‐２−ジメチルアミノ‐１‐（４‐モルホリノフェニル）‐フラン‐１‐オン、ベンゾフェノン及び１‐ヒドロキシシクロヘキシル‐フェニルケトンの混合物、２，２‐ジメトキシ‐２‐フェニルアセトフェノン、過弗化ジフェニルチタノセン、２‐メチル‐１‐（４‐［メチルチオ］フェニル）‐２‐（４‐モルフォリニル）‐１‐プロパノン、２‐ヒドロキシ‐２‐メチル‐１−フェニルプロパン‐１‐オン、４‐（２‐ヒドロキシ‐エトキシ）フェニル‐２‐ヒドロキシ‐２‐プロピルケトン、２，２‐ジエトキシアセトフェノン、４‐ベンゾイル‐４’‐メチルジフェニル‐スルフィド、エチル‐４‐（ジメチル‐アミノ）ベンゾエート、２‐イソプロピルチオキサントン及び４‐イソプロピル‐チオキサントンの混合物、２‐（ジメチルアミノ）エチルベンゾエート、ｄ，ｌ‐カンファー‐キノン、エチル‐ｄ，ｌ‐カンファーキノン、ベンゾフェノン及び４‐メチルベンゾフェノンの混合物、ベンゾフェノン、４，４’‐ビスジメチルアミン‐ベンゾフェノン、（η５‐シクロペンタジエニル）（η６‐イソプロピルフェニル）‐鉄（II）‐ヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウム‐ヘキサフルオロホスフェート又はトリフェニルスルホニウム塩の混合物、及びブタンジオールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、４‐（１，１‐ジメチルエチル）シクロヘキシルアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート及びトリプロピレングリコールジアクリレートである。
【０１６０】
本発明の目的は、断熱被覆の製造のための前記組成物の使用でもある。
【０１６１】
本発明のもう１つの目的は、本発明による組成物の少なくとも１層の配向された硬化層を包含する断熱被覆である。
【０１６２】
本発明による断熱被覆は、有利に、IR‐スペクトル範囲の波長に相応する、らせん状超格子のピッチを有する、少なくとも１種のIR−線反射性硬化コレステリックポリマーを包含する。
【０１６３】
コレステリックポリマーは、例えば、前記の群a）、ｂ）、ｃ）又はｄ）の成分Ｂの配向及び硬化によって得られる。
【０１６４】
断熱被覆が少なくとも２層を包含する場合には、IR‐線を反射するポリマーは、異なる層において、IR‐スペクトル範囲の波長に相応するらせん状超格子の、有利に各々異なるピッチ及び／又は対立したキラル性（対掌性（Haendigkeit））を有する。同様に、少なくとも２層の断熱被覆において、各々２つの、有利に隣接した層のらせん状超格子のピッチが、同一であるが、そのキラル性は対立している場合が有利である。同時に、少なくとも２層の断熱被覆において、同一のピッチ及び同一のキラル性のらせん状超格子を有する２層間に、透過円偏光の回転方向を逆転させる媒体、殊に、いわゆる、λ／２‐シート又は‐プレートが存在する場合が有利である。
【０１６５】
断熱被覆は、有利に１〜１０層、特に有利に１〜４層及び特別には２層を包含する。２層は、らせん状超格子のピッチにおいて、又はキラル性において異なっていることが有利である。２層は、同一のらせん状超格子のピッチを有するが、対立したキラル性を有することが特に有利である。
【０１６６】
本発明のもう１つの目的は、本発明による断熱被覆の製法であり、この際、本発明による組成物を支持体上に載せ、場合により配向させ、硬化させる。硬化は、有利に、群a）又はｂ）のモノマー又は群ｄ）の溶剤の重合によって、又は群ｃ）のポリマーの架橋結合によって行なわれる。
【０１６７】
更なる層の製造のために、塗布、配向及び硬化の過程を繰返し、この際、そこで有利に、最初の組成物とは異なる本発明による組成物を使用し、従って、群a）又はｂ）のモノマーの重合によって得られる配向されたコレステリックポリマー又は群ｃ）又はｄ）の配向されたコレステリックポリマーは、異なる層で、最初の層のそれとは別のらせん状超格子のピッチ及び／又は対立したキラル性を有する。選択的に又は補充的に、同一のピッチのらせん状超格子及び同一のキラル性を有する２層の間に、透過円偏光の回転方向を逆転させる媒体、殊に、いわゆる、λ／２‐シート又は‐プレートを組み込ませることができる。
【０１６８】
有利な組成物及び断熱被覆についての前記の説明が、ここで相応に当てはまる。
【０１６９】
支持体は透明であることが有利である。透明な支持体は、例えば、ガラス構成要素、窓ガラス、自動車ガラス又は絶縁目的のためにガラス上に接着すべきシートであってよい。
【０１７０】
支持体上へのコレステリックIR‐反射層の塗布は、常法で、例えば、空気‐ドクター塗布、ドクター塗布、空気ナイフ塗布、圧搾塗布、浸漬塗布、反転ローラー塗布、転写ローラー塗布、グラビア塗布、”キス‐コーティング（kiss-coating）”、流延塗布、噴霧塗布、回転塗布から選択される方法又は加圧法、例えば、高‐、低‐、フレキソ‐、オフセット‐又はスクリーン圧法で行なうことができる。
【０１７１】
本発明による組成物は、支持体上への塗布の前に、各々好適な希釈剤で希釈することができる。好適な希釈剤は前記されている。
【０１７２】
塗布されたIR‐反射層の硬化は、熱的に、光化学的に又は電子線によって行なうことができる。
【０１７３】
硬化は、当然、コレステリック相で、かつコレステリック相の保持下に行われるべきである。
【０１７４】
数層が塗布される場合には、これらは各々個別に塗布され、場合により配向され、場合により乾燥され、かつ硬化されてよい。しかし、数層又は塗布すべき全層を、１回の塗布過程で、重ね塗り（nass-in-nass）で、被覆すべき対象上に塗布すること、場合により一緒に乾燥させること、及びその後に一緒に硬化させることも可能である。しかし、異なる反射特性を有する異なった層の間で、相互拡散が生じないことが、コレステリック層の同時塗布のための前提である。
【０１７５】
コレステリック層の同時塗布には、流延法、殊に、ナイフ‐又はドクター流延法、押出‐又は掻取り流延法及びカスケード流延法が好適である。前記の流延法は、例えば、DE‐A‐１９５０４９３０、EP‐A‐４３１６３０、DE‐A‐３７３３０３１、及びEP‐A‐４５２９５９に記載されていて、それについて明確に引用される。
【０１７６】
本発明による組成物は、殊に、色付けされた絶縁窓又は断熱性透明建築部材の製造に、又は熱輻射に対する住居‐、事務所‐又は工業建築の絶縁に好適である。更に、本発明による組成物は、自動車分野における使用に、殊に、断熱性の色付けされた合せガラス板の製造に好適である。従って、本発明による断熱被覆を備えた目的物は、本発明のもう１つの目的である。
【０１７７】
本発明による断熱被覆は、化合物Ａの存在に基づいて、色調、有利に、帯青色又は帯緑色の色調を有する。更に、化合物Ａは有利にIR‐線を吸収し、従って、非反射IR‐線は吸収されて、透過しないので、被覆の断熱特性は改善される。
【０１７８】
本発明による断熱被覆は、ISO 9050 により決定された、波長範囲３５０〜７５０nmの光の透過を、少なくとも７０％、有利に少なくとも７２％有する。
【０１７９】
次の実施例により本発明を説明するが、これに限定されるものではない。
【０１８０】
例
ネマチックでアキラルの重合可能なモノマーとして、式Ｘの化合物を使用した。
【０１８１】
キラルの重合可能なモノマーとして、式XIの化合物を使用した。
【０１８２】
化合物Ａとして、式Ｉ［式中のＰは、クァテリレン骨格に６個の三級‐アルキルフェノキシ‐基で対称的に置換されていて（n＝６）、かつハロゲン置換基を持たない（ｍ＝０）式IIのクァテリルイミドを表わし、かつ式中のＲ２は、アルキル‐置換のフェニルを表わす］の化合物を使用した。この化合物は次からIaとして表示される。
【０１８３】
溶剤として、テトラヒドロフラン（THF)を使用した。
【０１８４】
化合物Ｘ、XI及びIa、流展剤ByK 361（１０％の；Fa. ByK Chemie）及び光重合開始剤Fa. Ciba製のIrgacure 184の混合物を、表１に挙げたTHF１０ｇ中の濃度で、ドクターを用いて、表１に各々挙げた湿潤層厚で、PET‐シート上に塗布した。約８５℃での溶剤の蒸発後に、均質な透明の帯緑色の層が生じた。これをUV‐ランプで硬化させた。
【０１８５】
【表１】
【０１８６】
可視的な評価によって、表２に示した結果を得た。
【０１８７】
【表２】
【０１８８】
IOS 9050 による実験Ｂ及びＣでの透過の測定により、可視的評価を確認した。その結果を次の表３に総括する。
【０１８９】
【表３】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
i）少なくとも１種の、一般式I：
【化１】
［式中、
Ｐは、塩基及び求核基に対して安定で、場合によりアリール置換基を有し、‐ＣＯ‐ＮＨ‐ＣＯ‐、‐ＣＯＯＨ及び‐ＣＯ‐Ｏ‐ＣＯ‐基から成る基を含有しない、共役多環状基を表わし、
Ｒは、Ｃ１〜Ｃ８‐アルキル基（その炭素鎖は、‐Ｏ‐、‐Ｓ‐、‐ＮＲ１‐、‐ＣＯ‐及び‐ＳＯ２‐から選択される１個以上の基によって遮断されていてよく、この際、炭素鎖は、場合により、Ｃ１〜Ｃ６‐アルコキシ又は１個の窒素原子を介して結合した、場合により他のヘテロ原子を含有し及び／又は芳香族である５‐〜７‐員の複素環基から選択される同じ又は異なる基で一置換又は多置換されている）、又はＣ５〜Ｃ８‐シクロアルキル基（その炭素骨格は、‐Ｏ‐、‐Ｓ‐、‐ＮＲ１‐、‐ＣＯ‐及び‐ＳＯ２‐から選択される１個以上の基によって遮断されていてよく、この際、炭素骨格は、場合により、１個以上のＣ１〜Ｃ６‐アルキルによって置換されている）を表わし、
Ｒ１は、水素又はＣ１〜Ｃ６‐アルキルを表わし、
Halは、塩素及び／又は臭素を表わし、
ｍは、０〜１５の数を表わし、かつ
nは、１〜１６の数を表わし、この際、合計ｍ＋n≦１６である］の放射線吸収性の三級‐アルキルフェノキシ置換の多環状化合物Ａ
及び
ii）少なくとも１種の硬化可能なIR‐反射体‐成分Ｂ（これは、
a）少なくとも１種のアキラルでネマチックの重合可能なモノマー及び少なくとも１種のキラルの重合可能なモノマー、
ｂ）少なくとも１種のコレステリックの重合可能なモノマー、
ｃ）少なくとも１種のコレステリックの架橋結合可能なポリマー、又は
ｄ）重合可能な希釈剤中の少なくとも１種のコレステリックポリマー
を含有する）
を包含する組成物。
【請求項２】
一般式Ｉの化合物Ａにおいて、基Ｐは、ナフタリン、アントラセン、フェナントレン、テトラセン、ペリレン、テリレン、クァテリレン、ペンタリレン、ヘキサリレン、アントラキノン、インダンスロン、Ｎ‐置換のナフタリン‐１，８‐ジカルボン酸モノイミド、Ｎ，Ｎ’‐二置換のナフタリン‐１，８：４，５‐テトラカルボン酸ジイミド、Ｎ‐置換のペリレン‐３，４‐ジカルボン酸モノイミド、Ｎ，Ｎ’‐二置換のペリレン‐３，４：９，１０‐テトラカルボン酸ジイミド、Ｎ，Ｎ’‐二置換のテリレン‐３，４：１１，１２‐テトラカルボン酸ジイミド、Ｎ，Ｎ’‐二置換のクァテリレン‐３，４：１３，１４‐テトラカルボン酸ジイミド、アクリジン、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジナフトフラン、ベンズイミダゾール、ベンズチアゾール、フェナジン、ジオキサジン、キナクリドン、金属フタロシアニン、金属ナフタロシアニン、金属ポルフィリン、クマリン、ジベンゾフラノン、ジナフトフラノン、ベンズイミダゾロン、インジゴ化合物、チオインジゴ化合物、キノフタロン、ナフトキノフタロン及びジケトピロロピロールの群から成る塩基安定基を表わす、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
成分Ｂの総質量に対して、化合物Ａ０．０１〜２０質量％を包含する、請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項４】
成分Ｂは、少なくとも１種のアキラルでネマチックの重合可能なモノマー及び少なくとも１種のキラルの重合可能なモノマーを含有する、請求項１から３までのいずれか１項に記載の組成物。
【請求項５】
更に、光重合開始剤、結合剤、流展剤及びUV‐及び風化作用に対する安定剤から選択される少なくとも１種の助剤を包含する、請求項１から４までのいずれか１項に記載の組成物。
【請求項６】
断熱被覆の製造のための、請求項１から５までのいずれか１項に記載の組成物の使用。
【請求項７】
請求項１から５までのいずれか１項に記載の組成物の、少なくとも１種の配向され硬化した層を包含する断熱被覆。
【請求項８】
IR‐スペクトル範囲の波長に相応するらせん状超格子のピッチを有する、少なくとも１種の配向された、IR‐線反射性の硬化コレステリックポリマーを包含する、請求項７に記載の断熱被覆。
【請求項９】
少なくとも２層を包含し、この際、IR‐線を反射するポリマーは、異なる層において、各々異なるIR‐スペクトル範囲の波長に相応するらせん状超格子のピッチ及び／又は対立したキラル性を有する、請求項８に記載の断熱被覆。
【請求項１０】
請求項７又は８に記載の断熱被覆を製造するために、請求項１から５までのいずれか１項に記載の組成物を、支持体上に塗付し、場合により配向させ、かつ硬化させる方法。
【請求項１１】
硬化は、群a）又はｂ）のモノマー又は群ｄ）の溶剤の重合によって、又は群ｃ）のポリマーの架橋結合によって行なわれる、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
請求項７から９までのいずれか１項に記載の断熱被覆を備えた対象物。
【請求項１】
i）少なくとも１種の、一般式I：
【化１】
［式中、
Ｐは、塩基及び求核基に対して安定で、場合によりアリール置換基を有し、‐ＣＯ‐ＮＨ‐ＣＯ‐、‐ＣＯＯＨ及び‐ＣＯ‐Ｏ‐ＣＯ‐基から成る基を含有しない、共役多環状基を表わし、
Ｒは、Ｃ１〜Ｃ８‐アルキル基（その炭素鎖は、‐Ｏ‐、‐Ｓ‐、‐ＮＲ１‐、‐ＣＯ‐及び‐ＳＯ２‐から選択される１個以上の基によって遮断されていてよく、この際、炭素鎖は、場合により、Ｃ１〜Ｃ６‐アルコキシ又は１個の窒素原子を介して結合した、場合により他のヘテロ原子を含有し及び／又は芳香族である５‐〜７‐員の複素環基から選択される同じ又は異なる基で一置換又は多置換されている）、又はＣ５〜Ｃ８‐シクロアルキル基（その炭素骨格は、‐Ｏ‐、‐Ｓ‐、‐ＮＲ１‐、‐ＣＯ‐及び‐ＳＯ２‐から選択される１個以上の基によって遮断されていてよく、この際、炭素骨格は、場合により、１個以上のＣ１〜Ｃ６‐アルキルによって置換されている）を表わし、
Ｒ１は、水素又はＣ１〜Ｃ６‐アルキルを表わし、
Halは、塩素及び／又は臭素を表わし、
ｍは、０〜１５の数を表わし、かつ
nは、１〜１６の数を表わし、この際、合計ｍ＋n≦１６である］の放射線吸収性の三級‐アルキルフェノキシ置換の多環状化合物Ａ
及び
ii）少なくとも１種の硬化可能なIR‐反射体‐成分Ｂ（これは、
a）少なくとも１種のアキラルでネマチックの重合可能なモノマー及び少なくとも１種のキラルの重合可能なモノマー、
ｂ）少なくとも１種のコレステリックの重合可能なモノマー、
ｃ）少なくとも１種のコレステリックの架橋結合可能なポリマー、又は
ｄ）重合可能な希釈剤中の少なくとも１種のコレステリックポリマー
を含有する）
を包含する組成物。
【請求項２】
一般式Ｉの化合物Ａにおいて、基Ｐは、ナフタリン、アントラセン、フェナントレン、テトラセン、ペリレン、テリレン、クァテリレン、ペンタリレン、ヘキサリレン、アントラキノン、インダンスロン、Ｎ‐置換のナフタリン‐１，８‐ジカルボン酸モノイミド、Ｎ，Ｎ’‐二置換のナフタリン‐１，８：４，５‐テトラカルボン酸ジイミド、Ｎ‐置換のペリレン‐３，４‐ジカルボン酸モノイミド、Ｎ，Ｎ’‐二置換のペリレン‐３，４：９，１０‐テトラカルボン酸ジイミド、Ｎ，Ｎ’‐二置換のテリレン‐３，４：１１，１２‐テトラカルボン酸ジイミド、Ｎ，Ｎ’‐二置換のクァテリレン‐３，４：１３，１４‐テトラカルボン酸ジイミド、アクリジン、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジナフトフラン、ベンズイミダゾール、ベンズチアゾール、フェナジン、ジオキサジン、キナクリドン、金属フタロシアニン、金属ナフタロシアニン、金属ポルフィリン、クマリン、ジベンゾフラノン、ジナフトフラノン、ベンズイミダゾロン、インジゴ化合物、チオインジゴ化合物、キノフタロン、ナフトキノフタロン及びジケトピロロピロールの群から成る塩基安定基を表わす、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
成分Ｂの総質量に対して、化合物Ａ０．０１〜２０質量％を包含する、請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項４】
成分Ｂは、少なくとも１種のアキラルでネマチックの重合可能なモノマー及び少なくとも１種のキラルの重合可能なモノマーを含有する、請求項１から３までのいずれか１項に記載の組成物。
【請求項５】
更に、光重合開始剤、結合剤、流展剤及びUV‐及び風化作用に対する安定剤から選択される少なくとも１種の助剤を包含する、請求項１から４までのいずれか１項に記載の組成物。
【請求項６】
断熱被覆の製造のための、請求項１から５までのいずれか１項に記載の組成物の使用。
【請求項７】
請求項１から５までのいずれか１項に記載の組成物の、少なくとも１種の配向され硬化した層を包含する断熱被覆。
【請求項８】
IR‐スペクトル範囲の波長に相応するらせん状超格子のピッチを有する、少なくとも１種の配向された、IR‐線反射性の硬化コレステリックポリマーを包含する、請求項７に記載の断熱被覆。
【請求項９】
少なくとも２層を包含し、この際、IR‐線を反射するポリマーは、異なる層において、各々異なるIR‐スペクトル範囲の波長に相応するらせん状超格子のピッチ及び／又は対立したキラル性を有する、請求項８に記載の断熱被覆。
【請求項１０】
請求項７又は８に記載の断熱被覆を製造するために、請求項１から５までのいずれか１項に記載の組成物を、支持体上に塗付し、場合により配向させ、かつ硬化させる方法。
【請求項１１】
硬化は、群a）又はｂ）のモノマー又は群ｄ）の溶剤の重合によって、又は群ｃ）のポリマーの架橋結合によって行なわれる、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
請求項７から９までのいずれか１項に記載の断熱被覆を備えた対象物。
【公表番号】特表２００６−５０５６３２（Ｐ２００６−５０５６３２Ａ）
【公表日】平成１８年２月１６日（２００６．２．１６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００４−５１８７２１（Ｐ２００４−５１８７２１）
【出願日】平成１５年７月４日（２００３．７．４）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００３／００７２０１
【国際公開番号】ＷＯ２００４／００５４２７
【国際公開日】平成１６年１月１５日（２００４．１．１５）
【出願人】（５９５１２３０６９）ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト (847)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成１８年２月１６日（２００６．２．１６）
【国際特許分類】
【出願日】平成１５年７月４日（２００３．７．４）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００３／００７２０１
【国際公開番号】ＷＯ２００４／００５４２７
【国際公開日】平成１６年１月１５日（２００４．１．１５）
【出願人】（５９５１２３０６９）ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト (847)
【Ｆターム（参考）】
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