説明

模様を有するベニヤの製造方法、及び、模様を有するベニヤの製造装置

ベニヤシート中のリグニンを軟化させ、ベニヤシートを起伏のある形状又は波形形状に押圧するピッチ及び深さを有する相補型波形押圧ローラの間でベニヤシートを押圧し、波形の波頭部を取り除くよう押圧したベニヤシートに表面仕上げを行う手段及び段階を夫々有する、模様を有するベニヤ片を製造する方法及び装置。ベニヤシート中のリグニンを軟化させ、ベニヤシートをプレートの起伏のある形状又は波形形状の表面に載置し、押圧ローラがベニヤシートを表面に向かって押圧し起伏のある形状又は波形形状のベニヤにするようにベニヤシートを押圧ローラで押圧し、波形の頂部を取り除くよう押圧したベニヤシートに表面仕上げを行う手段及び段階を夫々有する、別の模様を有するベニヤ片の製造方法及び装置。ベニヤシート中のリグニンを軟化させ、ベニヤシートを起伏のある形状又は波形形状の表面を有するプレートの波形形状の表面に載置し、波形形状の表面を持つ可撓性プラテンを用い、可撓性プラテンの波形形状の表面がベニヤシートをプレートの波形形状の表面に向かって押圧し起伏のある形状又は波形形状のベニヤにするように、ベニヤシートをプレートの表面の溝及び頂部に押圧し、波形の頂部を取り除くよう押圧したベニヤシートに表面仕上げを行う手段及び段階を夫々有する、模様を有するベニヤ片を製造する更に別の模様を有するベニヤ片の製造方法及び装置。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、木製品の製造方法、及び、木製品の製造装置に関する。本文中にて、模様を有する木製ベニヤの製造方法、及び、模様を有する木製ベニヤの製造装置を開示する。本発明は、他分野にも応用される。
【背景技術】
【0002】
模様を有する木製ベニヤの製造方法、及び、模様を有する木製ベニヤの製造装置と、他の模様を有する木製品の製造方法、及び、他の模様を有する木製品の製造装置は知られている。これらの方法及び装置は、例えば、特許文献1、2、3、4、5に記載されており、これらの文献の開示内容は、参照により、本明細書に援用される。この列挙は、すべての関連する技術の完全な調査が完了したこと、又は列挙されたものよりも更に関連する技術が存在しないこと、又は列挙された技術が特許性にとって重要であることの表示となることを意図したものではない。又、そのような表示を結果的に意味するものでもない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】米国特許第7108031号明細書
【特許文献2】米国特許第6481476号明細書
【特許文献3】米国特許第6298888号明細書
【特許文献4】米国特許第6139965号明細書
【特許文献5】米国特許第4865912号明細書《関連出願の相互参照》 本出願は、2007年11月19日付で出願した米国仮特許出願第60/988,846号明細書の利益を35U.S.C.§119(e)に基づいて主張する特許出願であり、これらの開示を参照により本明細書に援用する。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【0004】
本発明の一態様によれば、模様を有するベニヤ片の製造方法は、ベニヤシートに含まれるリグニンを軟化させることと、前記ベニヤシートを起伏のある形状又は波形形状に押圧するピッチ及び深さを有する相補型波形押圧ローラの間で前記ベニヤシートを押圧することと、前記波形の波頭部を取り除くよう前記押圧したベニヤシートに表面仕上げを行うこととを有し、模様を有するベニヤ片を製造する。
【0005】
本発明の別の態様によれば、模様を有するベニヤ片の製造方法は、ベニヤシートに含まれるリグニンを軟化させることと、前記ベニヤシートを起伏のある形状又は波形形状の表面を有するプレートの前記起伏のある形状又は波形形状の表面に載置することと、押圧ローラが前記ベニヤシートを前記表面に向かって押圧し起伏のある形状又は波形形状のベニヤにするように前記ベニヤシートを前記押圧ローラで前記表面の溝と頂部に押圧することと、前記波形の波頭部を取り除くよう前記押圧したベニヤシートに表面仕上げを行うこととを有し、模様を有するベニヤ片を製造する。
【0006】
本発明の更に別の態様によれば、模様を有するベニヤ片の製造方法は、ベニヤシートに含まれるリグニンを軟化させることと、前記ベニヤシートを起伏のある形状又は波形形状の表面を有するプレートの前記波形形状の表面に載置することと、波形形状の表面を持つ可撓性プラテンを用い、前記可撓性プラテンの前記波形形状の表面が前記ベニヤシートを前記プレートの前記波形形状の表面に向かって押圧し起伏のある形状又は波形形状のベニヤにするように、前記ベニヤシートを前記プレートの前記表面の溝及び頂部に押圧することと、前記波形の頂部を取り除くよう前記押圧したベニヤシートに表面仕上げを行うこととを有し、模様を有するベニヤ片を製造する。
【0007】
例として、本発明のこれらの態様によれば、前記ベニヤシートに含まれる前記リグニンを軟化させることは、前記ベニヤシートを加熱することを含む。
【0008】
例として、本発明のこれらの態様によれば、前記ベニヤシートを加熱することは、前記ベニヤシートを蒸し機器で蒸すことを含む。
【0009】
更には、例として、本発明のこれらの態様によれば、前記波形を除去することなく前記ベニヤシートを乾燥させることを含むことを特徴とする方法である。
【0010】
例として、本発明のこれらの態様によれば、前記ベニヤシートを乾燥させることは、前記ベニヤシートにベニヤ乾燥炉を通過させることを含む。
【0011】
例として、本発明のこれらの態様によれば、前記押圧したベニヤシートに前記表面仕上げを行うことは、前記ベニヤシートを研磨することを含む。
【0012】
例として、本発明のこれらの態様によれば、前記押圧したベニヤシートに前記表面仕上げを行うことは、前記波形の頂部又は波頭部を取り除くことを含む。
【0013】
本発明の別の態様によれば、模様を有するベニヤ片の製造装置は、ベニヤシートに含まれるリグニンを軟化させる加熱機器と、相補型波形押圧ローラの間で前記ベニヤシートを押圧する前記相補型波形押圧ローラを備える。前記相補型波形押圧ローラは前記ベニヤシートを起伏のある形状又は波形形状に押圧するピッチ及び深さを有する。装置はさらに、前記波形の波頭部を取り除くよう前記押圧したベニヤシートに表面仕上げを行う表面仕上げ機器を備え、模様を有するベニヤ片が製造される。
【0014】
例として、本発明のこの態様によれば、前記加熱機器は蒸し機器を含む。
【0015】
更には、例として、本発明のこの態様によれば、装置は前記波形を除去することなく前記ベニヤシートを乾燥させるベニヤ乾燥炉を含む。
【0016】
例として、本発明のこの態様によれば、前記表面仕上げ機器は、研磨機器を含む。
【0017】
例として、本発明のこの態様によれば、前記表面仕上げ機器は、前記波形の波頭部を取り除く機器を含む。
【0018】
本発明の別の態様によれば、模様を有するベニヤ片の製造装置は、ベニヤシートに含まれるリグニンを軟化させる加熱機器と、起伏のある形状又は波形形状の表面を有するプレートと、前記ベニヤシートを前記表面に向かって押圧し起伏のある形状又は波形形状のベニヤにするよう前記ベニヤシートを前記表面の溝と頂部に押圧する押圧ローラと、前記波形の頂部を取り除くよう前記押圧したベニヤシートに表面仕上げを行う表面仕上げ機器とを備える。
【0019】
例として、本発明のこの態様によれば、前記加熱機器は、蒸し機器を含む。
【0020】
更には、例として、本発明のこの態様によれば、前記波形を除去することなく前記ベニヤシートを乾燥させる機器を含むことを特徴とする装置。
【0021】
例として、本発明のこの態様によれば、前記波形を除去することなく前記ベニヤシートを乾燥させる機器は、ベニヤ乾燥炉を含む。
【0022】
例として、本発明のこの態様によれば、前記表面仕上げ機器は、研磨機器を含む。
【0023】
例として、本発明のこの態様によれば、前記表面仕上げ機器は、前記波形の頂部を取り除く機器を含む。
【0024】
本発明の更に別の態様によれば、模様を有するベニヤ片の製造装置は、ベニヤシートに含まれるリグニンを軟化させる加熱機器と、上方を向く波形形状の表面を有するプレートと、下方を向く波形形状の表面を有する可撓性プラテンと、前記プラテンと前記プレートが前記ベニヤシートを波形ベニヤシートに押圧するよう前記ベニヤシートを前記プラテンの前記下方を向く波形形状の表面で前記プレートの前記上方を向く波形形状の表面の溝と頂部に向けて押圧する押圧ローラと、前記波形の頂部を取り除くよう押圧した前記ベニヤシートに表面仕上げを行う表面仕上げ機器とを備える、模様を有するベニヤ片の製造装置である。
【0025】
例として、本発明のこの態様によれば、前記加熱機器は、蒸し機器を含む。
【0026】
更には、例として、本発明のこの態様によれば、前記装置は前記波形を除去することなく前記ベニヤシートを乾燥させる機器を含む。
【0027】
例として、本発明のこの態様によれば、前記波形を除去することなく前記ベニヤシートを乾燥させる前記機器は、ベニヤ乾燥炉を含む。
【0028】
例として、本発明のこの態様によれば、前記表面仕上げ機器は、研磨機器を含む。
【0029】
例として、本発明のこの態様によれば、前記表面仕上げ機器は、前記波形の頂部を取り除く機器を含む。
【0030】
本発明の特徴については、本明細書及び添付図面の記載により理解される。
【図面の簡単な説明】
【0031】
【図1】模様を有するベニヤの製造方法を示す図である。
【図2】模様を有するベニヤの別の製造方法を示す図である。
【図3a】図1の圧延工程において部分的に処理されたベニヤシートの側面図である。
【図3b】図3aのベニヤシートに、図1の研磨工程にて除去される材料を処理するラインを重ねて示した図である。
【図3c】図1又は図2で示す研磨工程後の、図3a及び図3bで示すベニヤシートの側面図である。
【図3d】図3cで示すベニヤシートの平面図である。
【図4】処理前ベニヤシートの平面図である。
【図5】図1又は図2で示す工程後の、図4で示すシートの平面図である。
【図6】模様を有するベニヤの別の製造方法を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0032】
図3d及び図5に示す模様を有するベニヤ片50の製造工程は、図4に示すベニヤシート20に含まれるリグニンを軟化させることと、図1、図2、図3a及び図3bに示す起伏のある形状又は波形形状にベニヤシートを押圧するピッチ及び深さをそれぞれ有する相補型部材の間でベニヤシート20を押圧することと、起伏のある形状のベニヤシートに、波形の波頭部を取り除き、図3cに示す均一の厚さ38を有するシートにする表面仕上げを行うこととを有し、図5に示す模様を有するベニヤ片50を製造する。
【0033】
図1を参照するに、一つの図示された工程は以下のように進む。例えば、およそ1.2ミリメートルからおよそ1.5ミリメートル程度の厚さ22を有するベニヤ20は、バッチ処理または連続処理の蒸し機器24の中で蒸すことにより加熱され、ベニヤ20に含まれるリグニンを軟化させる。このようにして加熱されたベニヤ20は続いて、とりわけ、ベニヤ20を用いて製作されるべき物品のサイズに基づき、任意の望ましいピッチ28(実例として、およそ5センチメートルからおよそ10センチメートル程度)に設けられたローラの波頭部29を有し、およそ0.25ミリメートルから0.75ミリメートル程度の深さ30を有する二つの相補型波形押圧ローラ26a、26bの間で押圧され、起伏のある形状又は波形形状32を有するベニヤシート20になる。ベニヤ20は続いて、例えば、ベニヤ乾燥炉34で、波形を除去することなく乾燥される。乾燥したベニヤ20は、例えばサンダー36を用いた研磨にて表面仕上げを施され、ベニヤの厚さ38はおよそ0.25ミリメートルからおよそ0.75ミリメートル程度になる。この表面仕上げ工程を経て、波形の波頭部40は木目を横切って切断され取り除かれる。このような工程を経た模様を有するベニヤ片50の全体外観は変化する。模様を有するベニヤ50の交互に隣り合う領域52、54間において光の反射は変化し、図5に示す模様の効果を生じさせる。
【0034】
模様を有するベニヤ片50の別の製造工程は、ベニヤシート20に含まれるリグニンを軟化させ、ベニヤシート20を起伏のある形状又は波形形状の表面を有するプレートの起伏のある形状又は波形形状の表面に載置し、押圧ローラがベニヤシートをこの表面に向かって押圧し図3a及び図3bに示す起伏のある形状又は波形形状にするように、ベニヤシート20を押圧ローラでこの表面の溝と頂部に押圧し、押圧したベニヤシートに波形の頂部を取り除くべく図3cに示す表面仕上げを行い、図3d及び図5に示す模様を有するベニヤ片50を製造する。
【0035】
図2によると、この工程は以下のように進行する。およそ1.2ミリメートルからおよそ1.5ミリメートル程度の厚さ122を有するベニヤ120は、ベニヤ120に含まれるリグニンを軟化させるよう加熱される。このようにして加熱されたベニヤ120は、起伏のある形状又は波形形状の表面123を有するプレート121上に載置される。表面123の波形と概ね同じピッチ125を有する押圧ローラ126は、表面123の波形の溝と頂部に沿って走り、押圧ローラ126は軟化されたベニヤ120をプレート121に向かって押圧し、最初の実施例の工程のように起伏のある形状又は波形形状のベニヤ120’にする。ベニヤ120’は波形を除去することなく乾燥され、およそ0.25ミリメートルからおよそ0.75ミリメートル程度のベニヤの厚さ38になるべく表面仕上げを施される。この表面仕上げ工程を経て、波形の波頭部140は木目を横切って切断され取り除かれる。このような工程を経た模様を有するベニヤ50の全体外観及び光反射は、上記のように変化する。
【0036】
図6に示す工程の別の実施形態では、厚さ222を有する軟化したリグニンを含むベニヤシート220は、起伏のある形状又は波形形状の表面223を有するプレート221に載置される。表面223の波形と概ね同じピッチ225を有する起伏のある形状又は波形形状の表面224を有する可撓性プラテン226は、ベニヤシート220と噛み合う。負荷232(例示として、個別に制御される空気圧シリンダー又は油圧シリンダーが設けられている)は、上述の実施形態のように、起伏のある形状又は波形形状32をベニヤ220に与えるように、表面224の波形の溝及び頂部が軟化されたベニヤ220をプレート221に向かって押圧するよう可撓性プラテンに沿って印加される。可撓性プラテン226は、波形が作られるにつれ長さが短くなりベニヤ220に木目に沿って応力がかかるのを防ぐよう、押圧力232が一端から他端に向かうに従い、ベニヤ220を波形形状の表面へと押圧する。ベニヤ220は例示として二つのプレート234a、234b間で押圧された形状を保ち、波形を除去されることなく乾燥され、表面仕上げを施され(再び、例として研磨による)、図3c、図3d及び図5にて図示の、およそ0.25ミリメートルからおよそ0.75ミリメートル程度の厚さ38を有するベニヤ50になる。このような工程を経た模様を有するベニヤ50の全体外観及び光反射は上記のように変化する。
【0037】
本発明の工程は、表面仕上げの際に、ベニヤ20、120、220の繊維を圧縮しない。その結果、起伏のある又は模様を有するパターンを生成するのに、ベニヤ20、120、220の始めの厚さ22、122、222は、先行技術にて要求されている厚さ(およそ2ミリメートル以上)程大きい必要はない。したがって、本発明の工程で出るごみは少なくて済む。本発明の工程により製造されたベニヤは、先行技術の工程により製造された模様を有するベニヤに比べ、より滑らかで品質の良い表面を有する。加えて、上述の工程は生(濡れた)ベニヤ及び乾燥したベニヤのいずれにも実行でき、良い結果を得ることができる。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
模様を有するベニヤ片の製造方法であって、
ベニヤシートに含まれるリグニンを軟化させることと、
前記ベニヤシートを起伏のある形状又は波形形状に押圧するピッチ及び深さを有する相補型波形押圧ローラの間で前記ベニヤシートを押圧することと、
前記波形の波頭部を取り除くよう前記押圧したベニヤシートに表面仕上げを行うこととを有し、
模様を有するベニヤ片を製造する、方法。
【請求項2】
前記ベニヤシートに含まれる前記リグニンを軟化させることは、前記ベニヤシートを加熱することを含む、請求項1に記載の方法。
【請求項3】
前記ベニヤシートを加熱することは、前記ベニヤシートを蒸し機器で蒸すことを含む、請求項2に記載の方法。
【請求項4】
前記波形を除去することなく前記ベニヤシートを乾燥させることをさらに含む、請求項1に記載の方法。
【請求項5】
前記ベニヤシートを乾燥させることは、前記ベニヤシートにベニヤ乾燥炉を通過させることを含む、請求項4に記載の方法。
【請求項6】
前記押圧したベニヤシートに前記表面仕上げを行うことは、前記ベニヤシートを研磨することを含む、請求項1に記載の方法。
【請求項7】
前記押圧したベニヤシートに前記表面仕上げを行うことは、前記波形の波頭部を取り除くことを含む、請求項1に記載の方法。
【請求項8】
模様を有するベニヤ片の製造方法であって、
ベニヤシートに含まれるリグニンを軟化させることと、
前記ベニヤシートを起伏のある形状又は波形形状の表面を有するプレートの前記起伏のある形状又は波形形状の表面に載置することと、
押圧ローラが前記ベニヤシートを前記表面に向かって押圧し起伏のある形状又は波形形状のベニヤにするように前記ベニヤシートを前記押圧ローラで前記表面の溝と頂部に押圧することと、
前記波形の頂部を取り除くよう前記押圧したベニヤシートに表面仕上げを行うこととを有し、
模様を有するベニヤ片を製造する、方法。
【請求項9】
前記ベニヤシートに含まれる前記リグニンを軟化させることは、前記ベニヤシートを加熱することを含む、請求項8に記載の方法。
【請求項10】
前記ベニヤシートを加熱することは、前記ベニヤシートを蒸し機器で蒸すことを含む、請求項9に記載の方法。
【請求項11】
前記波形を除去することなく前記ベニヤシートを乾燥させることをさらに含む、請求項8に記載の方法。
【請求項12】
前記ベニヤシートを乾燥させることは、前記ベニヤシートにベニヤ乾燥炉を通過させることを含む、請求項11に記載の方法。
【請求項13】
前記押圧したベニヤシートに前記表面仕上げを行うことは、前記ベニヤシートを研磨することを含む、請求項8に記載の方法。
【請求項14】
前記押圧したベニヤシートに前記表面仕上げを行うことは、前記波形の頂部を取り除くことを含む、請求項8に記載の方法。
【請求項15】
模様を有するベニヤ片の製造方法であって、
ベニヤシートに含まれるリグニンを軟化させることと、
前記ベニヤシートを起伏のある形状又は波形形状の表面を有するプレートの前記波形形状の表面に載置することと、
波形形状の表面を持つ可撓性プラテンを用い、前記可撓性プラテンの前記波形形状の表面が前記ベニヤシートを前記プレートの前記波形形状の表面に向かって押圧し起伏のある形状又は波形形状のベニヤにするように、前記ベニヤシートを前記プレートの前記表面の溝及び頂部に押圧することと、
前記波形の頂部を取り除くよう前記押圧したベニヤシートに表面仕上げを行うこととを有し、
模様を有するベニヤ片を製造する、方法。
【請求項16】
前記ベニヤシートに含まれる前記リグニンを軟化させることは、前記ベニヤシートを加熱することを含む、請求項15に記載の方法。
【請求項17】
前記ベニヤシートを加熱することは、前記ベニヤシートを蒸し機器で蒸すことを含む、請求項16に記載の方法。
【請求項18】
前記波形を除去することなく前記ベニヤシートを乾燥させることをさらに含む、請求項15に記載の方法。
【請求項19】
前記ベニヤシートを乾燥させることは、前記ベニヤシートにベニヤ乾燥炉を通過させることを含む、請求項18に記載の方法。
【請求項20】
前記押圧されたベニヤシートに前記表面仕上げを行うことは、前記波形の頂部を取り除くことを含む、請求項15に記載の方法。
【請求項21】
模様を有するベニヤ片の製造装置であって、
ベニヤシートに含まれるリグニンを軟化させる加熱機器と、相補型波形押圧ローラの間で前記ベニヤシートを押圧する前記相補型波形押圧ローラと、前記波形の波頭部を取り除くよう前記押圧したベニヤシートに表面仕上げを行う表面仕上げ機器とを備え、模様を有するベニヤ片を製造し、
前記相補型波形押圧ローラは前記ベニヤシートを起伏のある形状又は波形形状に押圧するピッチ及び深さを有する、装置。
【請求項22】
前記加熱機器は、蒸し機器を含む、請求項21に記載の装置。
【請求項23】
前記波形を除去することなく前記ベニヤシートを乾燥させるベニヤ乾燥炉をさらに含む、請求項21に記載の装置。
【請求項24】
前記表面仕上げ機器は、研磨機器を含む、請求項21に記載の装置。
【請求項25】
前記表面仕上げ機器は、前記波形の波頭部を取り除く機器を含む、請求項21に記載の装置。
【請求項26】
模様を有するベニヤ片の製造装置であって、
ベニヤシートに含まれるリグニンを軟化させる加熱機器と、起伏のある形状又は波形形状の表面を有するプレートと、前記ベニヤシートを前記表面に向かって押圧し起伏のある形状又は波形形状のベニヤにするよう前記ベニヤシートを前記表面の溝と頂部に押圧する押圧ローラと、前記波形の頂部を取り除くよう前記押圧したベニヤシートに表面仕上げを行う表面仕上げ機器とを備える、装置。
【請求項27】
前記加熱機器は、蒸し機器を含む、請求項26に記載の装置。
【請求項28】
前記波形を除去することなく前記ベニヤシートを乾燥させる機器をさらに含む、請求項26に記載の装置。
【請求項29】
前記波形を除去することなく前記ベニヤシートを乾燥させる前記機器は、ベニヤ乾燥炉を含む、請求項28に記載の装置。
【請求項30】
前記表面仕上げ機器は、研磨機器を含む、請求項28に記載の装置。
【請求項31】
前記表面仕上げ機器は、前記波形の頂部を取り除く機器を含む、請求項28に記載の装置。
【請求項32】
模様を有するベニヤ片の製造装置であって、ベニヤシートに含まれるリグニンを軟化させる加熱機器と、上方を向く波形形状の表面を有するプレートと、下方を向く波形形状の表面を有する可撓性プラテンと、前記プラテンと前記プレートが前記ベニヤシートを波形ベニヤシートに押圧するよう前記ベニヤシートを前記プラテンの前記下方を向く波形形状の表面で前記プレートの前記上方を向く波形形状の表面の溝と頂部に向けて押圧する押圧ローラと、前記波形の頂部を取り除くよう押圧した前記ベニヤシートに表面仕上げを行う表面仕上げ機器とを備える、模様を有するベニヤ片を製造する、装置。
【請求項33】
前記加熱機器は、蒸し機器を含む、請求項32に記載の装置。
【請求項34】
前記波形を除去することなく前記ベニヤシートを乾燥させる機器をさらに含む、請求項32に記載の装置。
【請求項35】
前記波形を除去することなく前記ベニヤシートを乾燥させる前記機器は、ベニヤ乾燥炉を含む、請求項34に記載の装置。
【請求項36】
前記表面仕上げ機器は、研磨機器を含む、請求項34に記載の装置。
【請求項37】
前記表面仕上げ機器は、前記波形の頂部を取り除く機器を含む、請求項34に記載の装置。

【図1】
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【図2】
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【図3a】
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【図3b】
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【図3c】
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【図3d】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【公表番号】特表2011−502839(P2011−502839A)
【公表日】平成23年1月27日(2011.1.27)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2010−534113(P2010−534113)
【出願日】平成20年11月10日(2008.11.10)
【国際出願番号】PCT/US2008/082955
【国際公開番号】WO2009/067344
【国際公開日】平成21年5月28日(2009.5.28)
【出願人】(508374036)パダナ アーゲー (2)
【氏名又は名称原語表記】PADANA AG
【住所又は居所原語表記】Schutzengelstrasse 36,CH−6342 Baar (CH).
【Fターム(参考)】