樹脂カウンターおよび樹脂カウンターの製造方法
【課題】外力の印加した場合にも、意匠性が維持される樹脂カウンターを提供する。
【解決手段】本発明では、少なくとも使用面側の一部に被覆部が形成された樹脂カウンターであって、該被覆部は、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子を含有してなることを特徴とし、前記ふっ素樹脂粒子の被覆部中の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であることを特徴とする樹脂カウンターを提供する。
【解決手段】本発明では、少なくとも使用面側の一部に被覆部が形成された樹脂カウンターであって、該被覆部は、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子を含有してなることを特徴とし、前記ふっ素樹脂粒子の被覆部中の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であることを特徴とする樹脂カウンターを提供する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、外力を印加した場合にも、意匠性が維持される樹脂カウンターに関する。
【背景技術】
【０００２】
洗面所、トイレ、浴室、キッチン等で使用される樹脂カウンターは、不飽和ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等のプラスチック材料を注型、プレス等の方法で成形して作製されている。これら樹脂カウンターは生活用品として利用されるため、外観美が求められており、着色したもの、透明なもの、無機充填材を添加したもの、表面に透明層を形成して意匠性を高めたもの、大理石調意匠のものなどが用いられている。
【０００３】
しかしながら、樹脂カウンター表面には、長期間の使用により、手垢、水垢、石鹸かすなどの汚れが付着し、外観を損ねるという問題があった。
これら汚れを除去するために、スポンジやたわしで洗浄することで、汚れは除去されるが、同時に樹脂カウンター表面にスポンジやたわしで擦ったことによる傷が発生し、結果として外観美を損なうという問題があった。
特にクレンザー等を用いて洗浄した場合には、顕著に傷が発生し、著しく外観美を損なうという問題があった。
【０００４】
このような課題を解決するために、表面に親水性塗膜を形成した樹脂製人工大理石（例えば、特許文献１参照。）やコロイダルシリカを含む保護皮膜を形成した樹脂製人工大理石（例えば、特許文献２参照。）などが開示されている。
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−２９９９７１
【特許文献２】特開２００５−１３２６７３
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１記載の親水性塗膜を形成した樹脂製人工大理石では、親水性塗膜によって汚れの付着が低減され、除去性にも優れるが、スポンジなどで擦った場合には容易に傷が発生し、耐傷性は十分ではなかった。
【０００７】
また、特許文献２記載のコロイダルシリカを含む保護皮膜を形成した樹脂製人工大理石は、鉛筆硬度が向上し、耐傷性がある程度向上していたが、やはりクレンザー等を用いて洗浄した場合には容易に傷が発生し、耐傷性は十分ではなかった。
【０００８】
本発明は、上記問題を解決するためになされたもので、外力を印加した場合にも、意匠性が維持される樹脂カウンターを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために本発明では、少なくとも外表面に被覆部が形成された樹脂カウンターであって、該被覆部は、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子を含有してなることを特徴とし、前記ふっ素樹脂粒子の被覆部中の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であることを特徴とする樹脂カウンターを提供する。
【００１０】
本発明の好ましい態様においては、前記被覆部の表面には、前記ふっ素樹脂粒子の自形に対応した凸部を有する凹凸構造が形成されているようにする。
【００１１】
本発明の好ましい態様においては、前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が、前記被覆部の膜厚よりも大きいようにする。
【００１２】
本発明の好ましい態様においては、前記被覆部の膜厚が０．３〜２０μｍとする。
本発明のさらに好ましい態様においては、前記被覆部の膜厚が０．３〜８μｍとする。
【００１３】
本発明の好ましい態様においては、前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が０．１〜２０μｍであるようにする。
本発明のさらに好ましい態様においては、前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が０．１〜８μｍであるようにする。
【００１４】
本発明の好ましい態様においては、前記被覆部が略透明であるようにする。
【００１５】
本発明では、樹脂カウンターへ、ふっ素樹脂粒子と（Ｃ）次の構造式で表される化合物[―（ＳｉＲ１Ｒ２）―（ＮＲ３）―]ｎ（式中、Ｒ１ 、Ｒ２ 、Ｒ３ は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルシリル基、アルコキシ基、又はこれらの基以外で主鎖のケイ素及び窒素に直結する基が炭素である基、ｎは整数である）を含有し、前記ふっ素樹脂粒子の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であることを特徴とするコーティング液を塗布した後、前記コーティング液を加熱することで硬化させ、前記樹脂カウンターの外表面上に、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子を含有する被覆部を形成することを特徴とする樹脂カウンターの製造方法を提供する。
【００１６】
本発明では、樹脂カウンターへ、ふっ素樹脂粒子と（Ｄ）（Ｄ−１）下記一般式（１）で表される化合物、Ｒa Ｓｉ（ＯＲ４ ）4-a ・・・・・（１）（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、Ｒ４は１価の有機基、ａは１〜２の整数を示す。）（Ｄ−２）下記一般式（２）で表される化合物およびＳｉ（ＯＲ５ ）4 ・・・・・（２）（式中、Ｒ５ は１価の有機基を示す。）（Ｄ−３）下記一般式（３）で表される化合物 Ｒ６b（Ｒ７Ｏ）3-bＳｉ−（Ｒ１０）d−Ｓｉ(ＯＲ８）3-cＲ９c ・・・・・（３）〔式中、Ｒ６ 〜Ｒ９ はそれぞれ１価の有機基、ｂ〜ｃは０〜２の整数、Ｒ１０ は酸素原子、フェニレン基または−（ＣＨ2）ｍ−で表される基（ここで、ｍは１〜６の整数である）、ｄは０または１を示す。〕の群から選ばれた少なくとも１種の化合物、またはその加水分解物を含有し、前記ふっ素樹脂粒子の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であることを特徴とするコーティング液を塗布した後、前記コーティング液を加熱することで硬化させ、前記樹脂カウンターの使用面側に、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子を含有する被覆部を形成することを特徴とする樹脂カウンターの製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、外力を印加した場合にも、意匠性が維持される樹脂カウンターを提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下に、本発明の最良の形態について説明する。
本発明の一形態は、少なくとも使用面側の一部に被覆部が形成された樹脂カウンターであって、該被覆部は、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子を含有してなることを特徴とし、前記ふっ素樹脂粒子の被覆部中の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であることを特徴とする。そうすることで外力を印加した場合にも、意匠性が維持される樹脂カウンターの提供を可能とした。
【００１９】
ここで、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種は、基材上にシロキサンネットワークを構築するものであり、一部シロキサンネットワークを形成しない未反応残基が存在していてもよい。
また、シリカには微量の金属、窒素、水素が含まれていてもよく、所謂水ガラス等も含む。
【００２０】
また、前記被覆部はシロキサンネットワーク中にふっ素樹脂粒子が分散した形態であってもよく、被覆部の表面にふっ素樹脂粒子の自形に対応した凸部を有する凹凸構造が形成されていてもよい。
【００２１】
ここで、ふっ素樹脂粒子は滑り性が良好であり、表面エネルギーも小さいため、外力を印加した場合にも、樹脂カウンターの意匠性が維持される作用が良好に発揮される。
また、ふっ素樹脂粒子は可塑性を有するため、被覆部にある程度の柔軟性を付与するため外力を印加した場合にも樹脂カウンター表面への追従性が向上し、樹脂カウンターの意匠性が維持される作用が良好に発揮される。
被覆部の表面にふっ素樹脂粒子の自形に対応した凸部を有する凹凸構造が形成されていると、外力を印加した場合に、被覆部との接触面積が低下するため、より樹脂カウンターの意匠性が維持される作用が良好に発揮されるため望ましい。
【００２２】
本発明では、前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が、前記被覆部の膜厚より大きいようにすることが好ましい。
そうすることで、被覆部の表面に確実にふっ素樹脂粒子の自形に対応した凸部を有する凹凸構造が形成される。
【００２３】
ふっ素樹脂粒子の含有量が１％未満であると、外力を印加した場合に、樹脂カウンターの意匠性が維持される作用が十分発揮されないし、２０％以上では、被覆部中のシロキサンネットワークが粗となるため、やはり外力を印加した場合に、樹脂カウンターの意匠性が維持される作用が十分発揮されない。
【００２４】
ここで、被覆部中のふっ素樹脂粒子の含有量とは、被覆部の総重量に対するふっ素樹脂粒子の重量比であり、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の重量はＳｉＯ２換算重量である。
【００２５】
本発明では、前記被覆部の膜厚が０．３〜２０μｍであるようにするのが好ましい。
ここで、本発明において膜厚とは、シロキサンネットワークの膜厚であり、ふっ素樹脂粒子が一部露出している場合、露出部を含まない部分の厚みを意味し、走査型電子顕微鏡等による断面観察によって測定することができる。
０．３μｍより膜厚が小さいと、外力を印加した場合に、樹脂カウンターの意匠性が維持される作用が十分発揮されないし、２０μｍ以上になると被覆部にクラックが入るなどするため、やはり外力を印加した場合に、樹脂カウンターの意匠性が維持される作用が十分発揮されない。
【００２６】
本発明では、前記被覆部の膜厚が０．３〜８μｍであるようにするのがより好ましい。
膜厚が８μｍ以下であると、種々の塗布方法を用いて容易に被覆部を形成することができるとともに、被覆部の外観も向上する。
【００２７】
本発明では、前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が０．１〜２０μｍであるようにする。
平均粒径が０．１μｍより小さいと、外力を印加にした場合に、基材の意匠性を維持する作用が低下し、２０μｍより大きくなると、基材の意匠性を損なうこととなる。
【００２８】
本発明では、前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が０．１〜８μｍであるようにする。
平均粒径が８μｍ以下であると、種々の塗布方法を用いて容易に被覆部を形成することができるとともに、被覆部の外観も向上する。
【００２９】
本発明の好ましい態様においては、前記被覆部の膜厚が０．３〜８μｍかつ、ふっ素樹脂粒子の平均粒径が０．５〜２０μｍかつ、前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が被覆部の膜厚よりも大きいようにする。
そうすることで、確実に被覆部にふっ素樹脂粒子の自形に対応した凸部を有する凹凸構造が形成され、基材の意匠性が維持される作用が良好に発揮される被覆部が、外観良く形成される。
【００３０】
本発明の複合材の好ましい製造方法としては、樹脂カウンターへ、ふっ素樹脂粒子と（Ｃ）次の構造式で表される化合物[―（ＳｉＲ１Ｒ２）―（ＮＲ３）―]ｎ（式中、Ｒ１ 、Ｒ２ 、Ｒ３ は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルシリル基、アルコキシ基、又はこれらの基以外で主鎖のケイ素及び窒素に直結する基が炭素である基、ｎは整数である）を含有し、前記ふっ素樹脂粒子の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であることを特徴とするコーティング液を塗布した後、前記コーティング液を加熱することで硬化させ、前記樹脂カウンターの使用面側に、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子を含有する被覆部を形成する方法が挙げられる。
【００３１】
ここで、（Ｃ）次の構造式で表される化合物[―（ＳｉＲ１Ｒ２）―（ＮＲ３）―]ｎ（式中、Ｒ１ 、Ｒ２ 、Ｒ３ は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルシリル基、アルコキシ基、又はこれらの基以外で主鎖のケイ素及び窒素に直結する基が炭素である基、ｎは整数である）は加熱によりシリカへの転化が生じ、基材上にシロキサンネットワークを形成する。
シリカ転化を生じさせるためには１００℃以上で加熱することが望ましく、１５０℃以上で加熱すると、より転化反応が促進され望ましい。
【００３２】
また、加熱温度が高くなると、樹脂カウンターが溶融、あるいは熱分解してしまうため、形状が変形したり、樹脂自体がぼろぼろになってしまうことがある。樹脂カウンターの耐熱性の観点からは２５０℃以下が望ましい。
また、ふっ素樹脂粒子の耐熱性から３５０℃以下であることがより好ましい。
【００３３】
本発明の複合材の好ましい製造方法としては、樹脂カウンターへ、ふっ素樹脂粒子と（Ｄ）（Ｄ−１）下記一般式（１）で表される化合物、Ｒa Ｓｉ（ＯＲ４ ）4-a ・・・・・（１）（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、Ｒ４は１価の有機基、ａは１〜２の整数を示す。）（Ｄ−２）下記一般式（２）で表される化合物およびＳｉ（ＯＲ５ ）4 ・・・・・（２）（式中、Ｒ５ は１価の有機基を示す。）（Ｄ−３）下記一般式（３）で表される化合物Ｒ６b（Ｒ７Ｏ）3-bＳｉ−（Ｒ１０）d−Ｓｉ(ＯＲ８）3-cＲ９c ・・・・・（３）〔式中、Ｒ６ 〜Ｒ９ はそれぞれ１価の有機基、ｂ〜ｃは０〜２の整数、Ｒ１０ は酸素原子、フェニレン基または−（ＣＨ2）ｍ−で表される基（ここで、ｍは１〜６の整数である）、ｄは０または１を示す。〕の群から選ばれた少なくとも１種の化合物、またはその加水分解物とを含有し、前記ふっ素樹脂粒子の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であることを特徴とするコーティング液を塗布した後、前記コーティング液を硬化させ、樹脂カウンター上に、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子を含有する被覆部を形成する方法があげられる。
【００３４】
樹脂カウンターへ、本発明のふっ素樹脂粒子と（Ｃ）次の構造式で表される化合物[―（ＳｉＲ１Ｒ２）―（ＮＲ３）―]ｎ（式中、Ｒ１ 、Ｒ２ 、Ｒ３ は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルシリル基、アルコキシ基、又はこれらの基以外で主鎖のケイ素及び窒素に直結する基が炭素である基、ｎは整数である）とを含有し、ふっ素樹脂粒子の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であることを特徴とするコーティング液を塗布した後、前記コーティング液を加熱することで硬化させ、被覆部を形成する方法によれば、Ｓｉ−ＮのＳｉ−Ｏへの転化によりシロキサンネットワークを形成するため収縮が小さく、より緻密な被覆部が形成されるため、より外力を印加にした場合に、樹脂カウンターの意匠性を維持する作用が良好に発揮される。
【００３５】
以下、本発明の樹脂カウンターと、樹脂カウンターの製造方法について具体的に説明する。
本発明において、樹脂カウンターとしては、不飽和ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等のプラスチック材料を注型、プレス等の方法で成形して作製され、着色したもの、透明なもの、無機充填材を添加したもの、表面に透明層を形成して意匠性を高めたもの、大理石調意匠のものなどが用いられる。
【００３６】
また本発明において、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種は、樹脂カウンター表面にシロキサンネットワークを形成し、ふっ素樹脂粒子を含有する被覆部を形成するものである。
【００３７】
本発明において、ふっ素樹脂粒子とは、ふっ素樹脂の粒状物を意味し、球形のものが好ましい。
【００３８】
次に、ふっ素樹脂粒子としては、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリクロロトリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレンコポリマー、エチレン−テトラフルオロエチレンコポリマー、エチレン−クロロトリフルオロエチレンコポリマー、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテルコポリマー、パーフルオロシクロポリマー、ビニルエーテル−フルオロオレフィンコポリマー、ビニルエステル−フルオロオレフィンコポリマー、テトラフルオロエチレン−ビニルエーテルコポリマー、クロロトリフルオロエチレン−ビニルエーテルコポリマー、テトラフルオロエチレンウレタン架橋体、テトラフルオロエチレンエポキシ架橋体、テトラフルオロエチレンアクリル架橋体、テトラフルオロエチレンメラミン架橋体等フルオロ基を含有するポリマーが挙げられる。
【００３９】
本発明において、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子を含有してなる被覆部とは、シロキサンネットワーク中に、ふっ素樹脂粒子が分散した形態であってもよく、被覆部の表面にふっ素樹脂粒子の自形に対応した凸部を有する凹凸構造が形成されていてもよい。
【００４０】
本発明において、外力を印加した場合にも、基材の意匠性が維持されるとは、例えば固形物との接触による傷発生による意匠性の低下を抑制する作用を意味し、より具体的には、例えば、付着した汚れを洗浄するために、スポンジやたわしで擦った場合に、傷が発生して意匠性が低下することを抑制する作用を意味する。
【００４１】
本発明において、略透明とは、樹脂カウンターの質感が損なわれない程度の透明性を有し、外観上、基材の意匠性を確認できる程度の透明性を意味する。
例えば着色、絵柄の存在するカウンターの場合は、それらが確認できる程度の透明性を意味する。
【００４２】
本発明において、（Ｃ）次の構造式で表される化合物[―（ＳｉＲ１Ｒ２）―（ＮＲ３）―]ｎ（式中、Ｒ１ 、Ｒ２ 、Ｒ３ は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルシリル基、アルコキシ基、又はこれらの基以外で主鎖のケイ素及び窒素に直結する基が炭素である基、ｎは整数である）において、アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシル等が挙げられる。アルケニル基としては、ビニル、アリル、ブレニル、ペンテニル、ヘキセニル、ブチニル、オクテニル、デセニル等が挙げられる。アリール基としては、フェニル、トリル、キシリル、ナフチル等が挙げられる。
【００４３】
本発明において、（Ｄ）（Ｄ−１）下記一般式（１）で表される化合物、Ｒa Ｓｉ（ＯＲ４ ）4-a ・・・・・（１）（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、Ｒ４は１価の有機基、ａは１〜２の整数を示す。）（Ｄ−２）下記一般式（２）で表される化合物およびＳｉ（ＯＲ５ ）4 ・・・・・（２）（式中、Ｒ５ は１価の有機基を示す。）（Ｄ−３）下記一般式（３）で表される化合物Ｒ６b（Ｒ７Ｏ）3-bＳｉ−（Ｒ１０）d−Ｓｉ(ＯＲ８）3-cＲ９c ・・・・・（３）〔式中、Ｒ６ 〜Ｒ９ はそれぞれ１価の有機基、ｂ〜ｃは０〜２の整数、Ｒ１０ は酸素原子、フェニレン基または−（ＣＨ2）ｍ−で表される基（ここで、ｍは１〜６の整数である）、ｄは０または１を示す。〕の群から選ばれた少なくとも１種の化合物、またはその加水分解物を含んでなる塗布液において、一般式（１）で表される化合物の具体例としては、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリ−ｎ−プロポキシシラン、トリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、トリ−ｎ−ブトキシシラン、トリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、トリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、トリフェノキシシラン、フルオロトリメトキシシラン、フルオロトリエトキシシラン、フルオロトリ−ｎ−プロポキシシラン、フルオロトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、フルオロトリ−ｎ−ブトキシシラン、フルオロトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、フルオロトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、フルオロトリフェノキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、メチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、メチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、メチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、メチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリフェノキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、エチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、エチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、エチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、エチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、エチルトリフェノキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ビニルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ビニルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ビニルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ビニルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ビニルトリフェノキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ｎ−プロピルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ｎ−プロピルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ｎ−プロピルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ｎ−プロピルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ｎ−プロピルトリフェノキシシラン、ｉ−プロピルトリメトキシシラン、ｉ−プロピルトリエトキシシラン、ｉ−プロピルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ｉ−プロピルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ｉ−プロピルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ｉ−プロピルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ｉ−プロピルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ｉ−プロピルトリフェノキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−ブチルトリエトキシシラン、ｎ−ブチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ｎ−ブチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ｎ−ブチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ｎ−ブチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ｎ−ブチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ｎ−ブチルトリフェノキシシラン、ｓｅｃ−ブチルトリメトキシシラン、ｓｅｃ−ブチルトリエトキシシラン、ｓｅｃ−ブチル−トリ−ｎ−プロポキシシラン、ｓｅｃ−ブチル−トリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ｓｅｃ−ブチル−トリ−ｎ−ブトキシシラン、ｓｅｃ−ブチル−トリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ｓｅｃ−ブチル−トリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ｓｅｃ−ブチル−トリフェノキシシラン、ｔ−ブチルトリメトキシシラン、ｔ−ブチルトリエトキシシラン、ｔ−ブチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ｔ−ブチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ｔ−ブチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ｔ−ブチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ｔ−ブチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ｔ−ブチルトリフェノキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリ−ｎ−プロポキシシラン、フェニルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、フェニルトリ−ｎ−ブトキシシラン、フェニルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、フェニルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、フェニルトリフェノキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−トリフロロプロピルトリメトキシシラン、γ−トリフロロプロピルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチル−ジ−ｎ−プロポキシシラン、ジメチル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ジメチル−ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジメチル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジメチル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジメチルジフェノキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチル−ジ−ｎ−プロポキシシラン、ジエチル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ジエチル−ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジエチル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジエチル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジエチルジフェノキシシラン、ジ−ｎ−プロピルジメトキシシラン、ジ−ｎ−プロピルジエトキシシラン、ジ−ｎ−プロピル−ジ−ｎ−プロポキシシラン、ジ−ｎ−プロピル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ジ−ｎ−プロピル−ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジ−ｎ−プロピル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジ−ｎ−プロピル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジ−ｎ−プロピル−ジ−フェノキシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピルジメトキシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピルジエトキシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピル−ジ−ｎ−プロポキシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピル−ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピル−ジ−フェノキシシラン、ジ−ｎ−ブチルジメトキシシラン、ジ−ｎ−ブチルジエトキシシラン、ジ−ｎ−ブチル−ジ−ｎ−プロポキシシラン、ジ−ｎ−ブチル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ジ−ｎ−ブチル−ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジ−ｎ−ブチル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジ−ｎ−ブチル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジ−ｎ−ブチル−ジ−フェノキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチルジメトキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチルジエトキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチル−ジ−ｎ−プロポキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチル−ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチル−ジ−フェノキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジメトキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジエトキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジ−ｎ−プロポキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジ−フェノキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニル−ジ−エトキシシラン、ジフェニル−ジ−ｎ−プロポキシシラン、ジフェニル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ジフェニル−ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジフェニル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジフェニル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジフェニルジフェノキシシラン、ジビニルトリメトキシシランなどを挙げることができる。
【００４４】
本発明において、一般式（２）で表される化合物の具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラフェノキシシランなどが挙げられる。
【００４５】
本発明において、一般式（３）で表される化合物の具体例としては、ヘキサメトキシジシロキサン、ヘキサエトキシジシロキサン、ヘキサフェノキシジシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタメトキシ−３−メチルジシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタエトキシ−３−メチルジシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタフェノキシ−３−メチルジシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタメトキシ−３−エチルジシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタエトキシ−３−エチルジシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタフェノキシ−３−エチルジシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタメトキシ−３−フェニルジシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタエトキシ−３−フェニルジシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタフェノキシ−３−フェニルジシロキサン、１，１，３，３−テトラメトキシ−１，３−ジメチルジシロキサン、１，１，３，３−テトラエトキシ−１，３−ジメチルジシロキサン、１，１，３，３−テトラフェノキシ−１，３−ジメチルジシロキサン、１，１，３，３−テトラメトキシ−１，３−ジエチルジシロキサン、１，１，３，３−テトラエトキシ−１，３−ジエチルジシロキサン、１，１，３，３−テトラフェノキシ−１，３−ジエチルジシロキサン、１，１，３，３−テトラメトキシ−１，３−ジフェニルジシロキサン、１，１，３，３−テトラエトキシ−１，３−ジフェニルジシロキサン、１，１，３，３−テトラフェノキシ−１，３−ジフェニルジシロキサン、１，１，３−トリメトキシ−１，３，３−トリメチルジシロキサン、１，１，３−トリエトキシ−１，３，３−トリメチルジシロキサン、１，１，３−トリフェノキシ−１，３，３−トリメチルジシロキサン、１，１，３−トリメトキシ−１，３，３−トリエチルジシロキサン、、１，１，３−トリエトキシ−１，３，３−トリエチルジシロキサン、、１，１，３−トリフェノキシ−１，３，３−トリエチルジシロキサン、、１，１，３−トリメトキシ−１，３，３−トリフェニルジシロキサン、１，１，３−トリエトキシ−１，３，３−トリフェニルジシロキサン、１，１，３−トリフェノキシ−１，３，３−トリフェニルジシロキサン、１，３−ジメトキシ−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、１，３−ジエトキシ−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、１，３−ジフェノキシ−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、１，３−ジメトキシ−１，１，３，３−テトラエチルジシロキサン、１，３−ジエトキシ−１，１，３，３−テトラエチルジシロキサン、１，３−ジフェノキシ−１，１，３，３−テトラエチルジシロキサン、１，３−ジメトキシ−１，１，３，３−テトラフェニルジシロキサン、１，３−ジエトキシ−１，１，３，３−テトラフェニルジシロキサン、１，３−ジフェノキシ−１，１，３，３−テトラフェニルジシロキサン、ヘキサメトキシジシラン、ヘキサエトキシジシラン、ヘキサフェノキシジシラン、１，１，１，２，２−ペンタメトキシ−２−メチルジシラン、１，１，１，２，２−ペンタエトキシ−２−メチルジシラン、１，１，１，２，２−ペンタフェノキシ−２−メチルジシラン、１，１，１，２，２−ペンタメトキシ−２−エチルジシラン、１，１，１，２，２−ペンタエトキシ−２−エチルジシラン、１，１，１，２，２−ペンタフェノキシ−２−エチルジシラン、１，１，１，２，２−ペンタメトキシ−２−フェニルジシラン、１，１，１，２，２−ペンタエトキシ−２−フェニルジシラン、１，１，１，２，２−ペンタフェノキシ−２−フェニルジシラン、１，１，２，２−テトラメトキシ−１，２−ジメチルジシラン、１，１，２，２−テトラエトキシ−１，２−ジメチルジシラン、１，１，２，２−テトラフェノキシ−１，２−ジメチルジシラン、１，１，２，２−テトラメトキシ−１，２−ジエチルジシラン、１，１，２，２−テトラエトキシ−１，２−ジエチルジシラン、１，１，２，２−テトラフェノキシ−１，２−ジエチルジシラン、１，１，２，２−テトラメトキシ−１，２−ジフェニルジシラン、１，１，２，２−テトラエトキシ−１，２−ジフェニルジシラン、１，１，２，２−テトラフェノキシ−１，２−ジフェニルジシラン、１，１，２−トリメトキシ−１，２，２−トリメチルジシラン、１，１，２−トリエトキシ−１，２，２−トリメチルジシラン、１，１，２−トリフェノキシ−１，２，２−トリメチルジシラン、１，１，２−トリメトキシ−１，２，２−トリエチルジシラン、、１，１，２−トリエトキシ−１，２，２−トリエチルジシラン、、１，１，２−トリフェノキシ−１，２，２−トリエチルジシラン、、１，１，２−トリメトキシ−１，２，２−トリフェニルジシラン、１，１，２−トリエトキシ−１，２，２−トリフェニルジシラン、、１，１，２−トリフェノキシ−１，２，２−トリフェニルジシラン、１，２−ジメトキシ−１，１，２，２−テトラメチルジシラン、１，２−ジエトキシ−１，１，２，２−テトラメチルジシラン、１，２−ジフェノキシ−１，１，２，２−テトラメチルジシラン、１，２−ジメトキシ−１，１，２，２−テトラエチルジシラン、１，２−ジエトキシ−１，１，２，２−テトラエチルジシラン、１，２−ジフェノキシ−１，１，２，２−テトラエチルジシラン、１，２−ジメトキシ−１，１，２，２−テトラフェニルジシラン、１，２−ジエトキシ−１，１，２，２−テトラフェニルジシラン、１，２−ジフェノキシ−１，１，２，２−テトラフェニルジシラン、ビス（トリメトキシシリル）メタン、ビス（トリエトキシシリル）メタン、ビス（トリ−ｎ−プロポキシシリル）メタン、ビス（トリ−ｉ−プロポキシシリル）メタン、ビス（トリ−ｎ−ブトキシシリル）メタン、ビス（トリ−ｓｅｃ−ブトキシシリル）メタン、ビス（トリ−ｔ−ブトキシシリル）メタン、１，２−ビス（トリメトキシシリル）エタン、１，２−ビス（トリエトキシシリル）エタン、１，２−ビス（トリ−ｎ−プロポキシシリル）エタン、１，２−ビス（トリ−ｉ−プロポキシシリル）エタン、１，２−ビス（トリ−ｎ−ブトキシシリル）エタン、１，２−ビス（トリ−ｓｅｃ−ブトキシシリル）エタン、１，２−ビス（トリ−ｔ−ブトキシシリル）エタン、１−（ジメトキシメチルシリル）−１−（トリメトキシシリル）メタン、１−（ジエトキシメチルシリル）−１−（トリエトキシシリル）メタン、１−（ジ−ｎ−プロポキシメチルシリル）−１−（トリ−ｎ−プロポキシシリル）メタン、１−（ジ−ｉ−プロポキシメチルシリル）−１−（トリ−ｉ−プロポキシシリル）メタン、１−（ジ−ｎ−ブトキシメチルシリル）−１−（トリ−ｎ−ブトキシシリル）メタン、１−（ジ−ｓｅｃ−ブトキシメチルシリル）−１−（トリ−ｓｅｃ−ブトキシシリル）メタン、１−（ジ−ｔ−ブトキシメチルシリル）−１−（トリ−ｔ−ブトキシシリル）メタン、１−（ジメトキシメチルシリル）−２−（トリメトキシシリル）エタン、１−（ジエトキシメチルシリル）−２−（トリエトキシシリル）エタン、１−（ジ−ｎ−プロポキシメチルシリル）−２−（トリ−ｎ−プロポキシシリル）エタン、１−（ジ−ｉ−プロポキシメチルシリル）−２−（トリ−ｉ−プロポキシシリル）エタン、１−（ジ−ｎ−ブトキシメチルシリル）−２−（トリ−ｎ−ブトキシシリル）エタン、１−（ジ−ｓｅｃ−ブトキシメチルシリル）−２−（トリ−ｓｅｃ−ブトキシシリル）エタン、１−（ジ−ｔ−ブトキシメチルシリル）−２−（トリ−ｔ−ブトキシシリル）エタン、ビス（ジメトキシメチルシリル）メタン、ビス（ジエトキシメチルシリル）メタン、ビス（ジ−ｎ−プロポキシメチルシリル）メタン、ビス（ジ−ｉ−プロポキシメチルシリル）メタン、ビス（ジ−ｎ−ブトキシメチルシリル）メタン、ビス（ジ−ｓｅｃ−ブトキシメチルシリル）メタン、ビス（ジ−ｔ−ブトキシメチルシリル）メタン、１，２−ビス（ジメトキシメチルシリル）エタン、１，２−ビス（ジエトキシメチルシリル）エタン、１，２−ビス（ジ−ｎ−プロポキシメチルシリル）エタン、１，２−ビス（ジ−ｉ−プロポキシメチルシリル）エタン、１，２−ビス（ジ−ｎ−ブトキシメチルシリル）エタン、１，２−ビス（ジ−ｓｅｃ−ブトキシメチルシリル）エタン、１，２−ビス（ジ−ｔ−ブトキシメチルシリル）エタン、１，２−ビス（トリメトキシシリル）ベンゼン、１，２−ビス（トリエトキシシリル）ベンゼン、１，２−ビス（トリ−ｎ−プロポキシシリル）ベンゼン、１，２−ビス（トリ−ｉ−プロポキシシリル）ベンゼン、１，２−ビス（トリ−ｎ−ブトキシシリル）ベンゼン、１，２−ビス（トリ−ｓｅｃ−ブトキシシリル）ベンゼン、１，２−ビス（トリ-t- ブトキシシリル）ベンゼン、１，３−ビス（トリメトキシシリル）ベンゼン、１，３−ビス（トリエトキシシリル）ベンゼン、１，３−ビス（トリ−ｎ−プロポキシシリル）ベンゼン、１，３−ビス（トリ−ｉ−プロポキシシリル）ベンゼン、１，３−ビス（トリ−ｎ−ブトキシシリル）ベンゼン、１，３−ビス（トリ−ｓｅｃ−ブトキシシリル）ベンゼン、１，３−ビス（トリ−ｔ−ブトキシシリル）ベンゼン、１，４−ビス（トリメトキシシリル）ベンゼン、１，４−ビス（トリエトキシシリル）ベンゼン、１，４−ビス（トリ−ｎ−プロポキシシリル）ベンゼン、１，４−ビス（トリ−ｉ−プロポキシシリル）ベンゼン、１，４−ビス（トリ−ｎ−ブトキシシリル）ベンゼン、１，４−ビス（トリ−ｓｅｃ−ブトキシシリル）ベンゼン、１，４−ビス（トリ−ｔ−ブトキシシリル）ベンゼンなどを挙げることができる。
【００４６】
本発明において、コーティング液の塗布方法としては、例えばディッピング法、スピンコート法、スプレー法、印刷法、フローコート法、ロールコート法ならびにこれらの併用等、既知の塗布手段を適宜採用することができる。膜厚は、ディッピング法における引き上げ速度やスピンコート法における基板回転速度などを変化させることと、コーティング液の濃度や粘度を変えることにより制御することができる。
【実施例】
【００４７】
以下に実施例をあげて、本発明をより具体的に説明する。
【００４８】
図１、図２、図３は、本発明の様々なパターンの樹脂カウンター表面の断面図である。
【００４９】
樹脂カウンター１の表面には被覆部２が設けられており、該被覆部２は、シロキサンネットワーク３とふっ素樹脂粒子４からなり、該被覆部２は外力を印加した場合にも、基材の意匠性を維持する作用を発揮する。
【００５０】
このような樹脂カウンターは、例えば、汚れを洗浄するために、スポンジやたわしで擦るような外力の印加があった場合でも樹脂カウンターの意匠性を維持することができる。
ここで、ふっ素樹脂粒子は滑り性が良好であり、表面エネルギーも小さいため、外力を印加した場合にも、樹脂カウンターの意匠性が維持される作用が良好に発揮される。
また、ふっ素樹脂粒子は可塑性を有するため、被覆部にある程度の柔軟性を付与するため外力を印加した場合にも樹脂カウンター表面への追従性が向上し、樹脂カウンターの意匠性が維持される作用が良好に発揮される。
【００５１】
被覆部２に含有されるふっ素樹脂粒子４は、図１のようにシロキサンネットワーク３中に分散した状態であっても良いし、図２のようにふっ素樹脂粒子４の一部が露出していても良く、図３のようにふっ素樹脂粒子４より形成される凸部をシロキサンネットワーク３が覆った状態であっても良い。
被覆部の表面にふっ素樹脂粒子の自形に対応した凸部を有する凹凸構造が形成されていると、外力を印加した場合に、被覆部との接触面積が低下するため、より樹脂カウンターの意匠性が維持される作用が良好に発揮されるため望ましい。
【００５２】
次いで、樹脂カウンターの好ましい製造方法について、実験結果をもとに説明する。
【００５３】
本発明の樹脂カウンターの被覆部の観察には、日立製作所（株）製の走査型電子顕微鏡Ｓ４１００を用いた。
被覆部の膜厚は、断面観察により調べられる。また、被覆部の膜厚とは、シロキサンネットワーク３の厚み（図中Δｔで示す）であり、ふっ素樹脂粒子による凸部の厚みは含まない。
【００５４】
（実施例１）
注型成形された透明なエポキシ樹脂カウンターを１００×１００ｍｍに切り出したものを基材として用いた。
表１の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、１５０℃で６０分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は５μｍであった。
コーティング液中の不揮発分中（ポリシラザン液の不揮発分はＳｉＯ２換算濃度）のふっ素樹脂粒子の含有量は５．０重量％であった。
被覆部の膜厚は０．５μｍであった。
【００５５】
【表１】
【００５６】
（実施例２）
基材は、実施例１同様のものを用いた。
表２の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、１５０℃で６０分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は１０μｍであった。
コーティング液中の不揮発分中（ポリシラザン液の不揮発分はＳｉＯ２換算濃度）のふっ素樹脂粒子の含有量は５．０重量％であった。
被覆部の膜厚は２．０μｍであった。
【００５７】
【表２】
【００５８】
（実施例３）
基材は、実施例１同様のものを用いた。
表３の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、１５０℃で６０分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は５μｍであった。
コーティング液中の不揮発分中（ポリシラザン液の不揮発分はＳｉＯ２換算濃度）のふっ素樹脂粒子の含有量は１５．０重量％であった。
被覆部の膜厚は０．５μｍであった。
【００５９】
【表３】
【００６０】
（実施例４）
基材は、実施例１同様のものを用いた。
表４の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、１５０℃で６０分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は０．３μｍであった。
コーティング液中の不揮発分中（ポリシラザン液の不揮発分はＳｉＯ２換算濃度）のふっ素樹脂粒子の含有量は５．０重量％であった。
被覆部の膜厚は２．０μｍであった。
【００６１】
【表４】
【００６２】
（実施例５）
基材は、実施例１同様のものを用いた。
表５の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、１５０℃で６０分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は５μｍであった。
コーティング液中の不揮発分中（ポリシロキサンオリゴマー液の不揮発分はＳｉＯ２換算濃度）のふっ素樹脂粒子の含有量は５．０重量％であった。
被覆部の膜厚は２．０μｍであった。
【００６３】
【表５】
【００６４】
（実施例６）
基材は、実施例１同様のものを用いた。
表６の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、１５０℃で６０分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は２２μｍであった。
コーティング液中の不揮発分中（ポリシラザン液の不揮発分はＳｉＯ２換算濃度）のふっ素樹脂粒子の含有量は１０．０重量％であった。
被覆部の膜厚は２．０μｍであった。
【００６５】
【表６】
【００６６】
（比較例１）
注型成形された透明なエポキシ樹脂カウンターを１００×１００ｍｍに切り出したものを比較例として用いた。
【００６７】
（比較例２）
実施例１のコーティング液から、ふっ素樹脂粒子を除いた以外は、実施例１と同様にして、被覆部を形成した。
被覆部の膜厚は０．５μｍであった。
【００６８】
（比較例３）
基材は実施例１同様のものを用いた。
表７の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、１５０℃で６０分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は０．３μｍであった。
コーティング液中の不揮発分中（ポリシラザン液の不揮発分はＳｉＯ２換算濃度）のふっ素樹脂粒子の含有量は０．１重量％であった。
被覆部の膜厚は０．５μｍであった。
【００６９】
【表７】
【００７０】
（比較例４）
基材は実施例１同様のものを用いた。
表８の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、１５０℃で６０分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は５μｍであった。
コーティング液中の不揮発分中（ポリシロキサンオリゴマー液の不揮発分はＳｉＯ２換算濃度）のふっ素樹脂粒子の含有量は２５．０重量％であった。
被覆部の膜厚は２．０μｍであった。
【００７１】
【表８】
【００７２】
（評価方法）
（１）外観
目視にて外観を評価した。
判定基準 ○：基材の意匠性を完全に維持している △：基材の意匠性がやや低下しているが、基材の意匠は確認できる ×：基材の意匠性を著しく損なっており、基材の意匠が確認できない
（２）外力を印加したときの意匠性の維持性の評価
スポンジを２０×２０ｍｍに切り出したものを摺動子として用いた。スポンジにクリームクレンザーを含ませ、さらに荷重を加えた状態で、基材表面で往復摺動させた後、基材の意匠変化を目視にて判定した。
荷重は５０ｇと２００ｇの場合それぞれについて評価し、摺動回数は１００回とした。荷重５０ｇでは女性が通常の洗浄を行ったときのスポンジへの荷重を想定し、荷重２００ｇでは女性が、頑固な汚れを除去するために、力をこめて洗浄を行ったときのスポンジへの荷重を想定して設定した。
判定基準 ◎：傷の発生なく、意匠性変化なし ○：微小な傷が発生するものの、意匠性は維持 △：傷発生し、意匠性がやや低下 ×：顕著に傷が発生し、著しく意匠性を損なう
【００７３】
（評価結果）
評価結果を表９に示す。
【００７４】
【表９】
【００７５】
本発明の実施例１〜５は、被覆部を形成した後でも基材の意匠性が完全に維持されていた。実施例６では実施例１〜５に比べるとやや透明性が劣るものの、基材の意匠性は確認できた。
実施例１〜６では、通常の洗浄を行ったときの荷重を想定した外力を印加したときにも、基材の意匠性が維持されている。
実施例２、４の複合材は、頑固な汚れを除去するために、力をこめて洗浄を行ったときの荷重を想定した外力を印加したときにも、基材の意匠性が維持されていた。
【００７６】
表９から明らかなように、比較例１では通常の洗浄を行ったときの荷重を想定した外力を印加したときに顕著に傷が発生し、著しく基材の意匠性が損なわれる結果であった。
ふっ素樹脂粒子を含有しない被覆部を形成した比較例２〜４では、比較例１に比べるとわずかに外力を印加した場合の意匠維持性が発揮されているが、頑固な汚れを除去するために、力をこめて洗浄を行ったときの荷重を想定した外力を印加したときには、顕著に傷が発生し、著しく基材の意匠性が損なわれる結果であった。
【００７７】
図４は、本発明の樹脂カウンターの概略図である。
【産業上の利用可能性】
【００７８】
本発明の樹脂カウンターは、洗面所、トイレ、浴室、キッチン等で使用されるカウンター等に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００７９】
【図１】本発明の樹脂カウンターの断面図である。
【図２】本発明の樹脂カウンターの断面図である。
【図３】本発明の樹脂カウンターの断面図である。
【図４】本発明の樹脂カウンターの概略図である。
【符号の説明】
【００８０】
１ ：樹脂カウンター
２ ：被覆部
３ ：シロキサンネットワーク
４ ：ふっ素樹脂粒子
【技術分野】
【０００１】
本発明は、外力を印加した場合にも、意匠性が維持される樹脂カウンターに関する。
【背景技術】
【０００２】
洗面所、トイレ、浴室、キッチン等で使用される樹脂カウンターは、不飽和ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等のプラスチック材料を注型、プレス等の方法で成形して作製されている。これら樹脂カウンターは生活用品として利用されるため、外観美が求められており、着色したもの、透明なもの、無機充填材を添加したもの、表面に透明層を形成して意匠性を高めたもの、大理石調意匠のものなどが用いられている。
【０００３】
しかしながら、樹脂カウンター表面には、長期間の使用により、手垢、水垢、石鹸かすなどの汚れが付着し、外観を損ねるという問題があった。
これら汚れを除去するために、スポンジやたわしで洗浄することで、汚れは除去されるが、同時に樹脂カウンター表面にスポンジやたわしで擦ったことによる傷が発生し、結果として外観美を損なうという問題があった。
特にクレンザー等を用いて洗浄した場合には、顕著に傷が発生し、著しく外観美を損なうという問題があった。
【０００４】
このような課題を解決するために、表面に親水性塗膜を形成した樹脂製人工大理石（例えば、特許文献１参照。）やコロイダルシリカを含む保護皮膜を形成した樹脂製人工大理石（例えば、特許文献２参照。）などが開示されている。
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−２９９９７１
【特許文献２】特開２００５−１３２６７３
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１記載の親水性塗膜を形成した樹脂製人工大理石では、親水性塗膜によって汚れの付着が低減され、除去性にも優れるが、スポンジなどで擦った場合には容易に傷が発生し、耐傷性は十分ではなかった。
【０００７】
また、特許文献２記載のコロイダルシリカを含む保護皮膜を形成した樹脂製人工大理石は、鉛筆硬度が向上し、耐傷性がある程度向上していたが、やはりクレンザー等を用いて洗浄した場合には容易に傷が発生し、耐傷性は十分ではなかった。
【０００８】
本発明は、上記問題を解決するためになされたもので、外力を印加した場合にも、意匠性が維持される樹脂カウンターを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために本発明では、少なくとも外表面に被覆部が形成された樹脂カウンターであって、該被覆部は、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子を含有してなることを特徴とし、前記ふっ素樹脂粒子の被覆部中の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であることを特徴とする樹脂カウンターを提供する。
【００１０】
本発明の好ましい態様においては、前記被覆部の表面には、前記ふっ素樹脂粒子の自形に対応した凸部を有する凹凸構造が形成されているようにする。
【００１１】
本発明の好ましい態様においては、前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が、前記被覆部の膜厚よりも大きいようにする。
【００１２】
本発明の好ましい態様においては、前記被覆部の膜厚が０．３〜２０μｍとする。
本発明のさらに好ましい態様においては、前記被覆部の膜厚が０．３〜８μｍとする。
【００１３】
本発明の好ましい態様においては、前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が０．１〜２０μｍであるようにする。
本発明のさらに好ましい態様においては、前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が０．１〜８μｍであるようにする。
【００１４】
本発明の好ましい態様においては、前記被覆部が略透明であるようにする。
【００１５】
本発明では、樹脂カウンターへ、ふっ素樹脂粒子と（Ｃ）次の構造式で表される化合物[―（ＳｉＲ１Ｒ２）―（ＮＲ３）―]ｎ（式中、Ｒ１ 、Ｒ２ 、Ｒ３ は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルシリル基、アルコキシ基、又はこれらの基以外で主鎖のケイ素及び窒素に直結する基が炭素である基、ｎは整数である）を含有し、前記ふっ素樹脂粒子の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であることを特徴とするコーティング液を塗布した後、前記コーティング液を加熱することで硬化させ、前記樹脂カウンターの外表面上に、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子を含有する被覆部を形成することを特徴とする樹脂カウンターの製造方法を提供する。
【００１６】
本発明では、樹脂カウンターへ、ふっ素樹脂粒子と（Ｄ）（Ｄ−１）下記一般式（１）で表される化合物、Ｒa Ｓｉ（ＯＲ４ ）4-a ・・・・・（１）（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、Ｒ４は１価の有機基、ａは１〜２の整数を示す。）（Ｄ−２）下記一般式（２）で表される化合物およびＳｉ（ＯＲ５ ）4 ・・・・・（２）（式中、Ｒ５ は１価の有機基を示す。）（Ｄ−３）下記一般式（３）で表される化合物 Ｒ６b（Ｒ７Ｏ）3-bＳｉ−（Ｒ１０）d−Ｓｉ(ＯＲ８）3-cＲ９c ・・・・・（３）〔式中、Ｒ６ 〜Ｒ９ はそれぞれ１価の有機基、ｂ〜ｃは０〜２の整数、Ｒ１０ は酸素原子、フェニレン基または−（ＣＨ2）ｍ−で表される基（ここで、ｍは１〜６の整数である）、ｄは０または１を示す。〕の群から選ばれた少なくとも１種の化合物、またはその加水分解物を含有し、前記ふっ素樹脂粒子の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であることを特徴とするコーティング液を塗布した後、前記コーティング液を加熱することで硬化させ、前記樹脂カウンターの使用面側に、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子を含有する被覆部を形成することを特徴とする樹脂カウンターの製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、外力を印加した場合にも、意匠性が維持される樹脂カウンターを提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下に、本発明の最良の形態について説明する。
本発明の一形態は、少なくとも使用面側の一部に被覆部が形成された樹脂カウンターであって、該被覆部は、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子を含有してなることを特徴とし、前記ふっ素樹脂粒子の被覆部中の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であることを特徴とする。そうすることで外力を印加した場合にも、意匠性が維持される樹脂カウンターの提供を可能とした。
【００１９】
ここで、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種は、基材上にシロキサンネットワークを構築するものであり、一部シロキサンネットワークを形成しない未反応残基が存在していてもよい。
また、シリカには微量の金属、窒素、水素が含まれていてもよく、所謂水ガラス等も含む。
【００２０】
また、前記被覆部はシロキサンネットワーク中にふっ素樹脂粒子が分散した形態であってもよく、被覆部の表面にふっ素樹脂粒子の自形に対応した凸部を有する凹凸構造が形成されていてもよい。
【００２１】
ここで、ふっ素樹脂粒子は滑り性が良好であり、表面エネルギーも小さいため、外力を印加した場合にも、樹脂カウンターの意匠性が維持される作用が良好に発揮される。
また、ふっ素樹脂粒子は可塑性を有するため、被覆部にある程度の柔軟性を付与するため外力を印加した場合にも樹脂カウンター表面への追従性が向上し、樹脂カウンターの意匠性が維持される作用が良好に発揮される。
被覆部の表面にふっ素樹脂粒子の自形に対応した凸部を有する凹凸構造が形成されていると、外力を印加した場合に、被覆部との接触面積が低下するため、より樹脂カウンターの意匠性が維持される作用が良好に発揮されるため望ましい。
【００２２】
本発明では、前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が、前記被覆部の膜厚より大きいようにすることが好ましい。
そうすることで、被覆部の表面に確実にふっ素樹脂粒子の自形に対応した凸部を有する凹凸構造が形成される。
【００２３】
ふっ素樹脂粒子の含有量が１％未満であると、外力を印加した場合に、樹脂カウンターの意匠性が維持される作用が十分発揮されないし、２０％以上では、被覆部中のシロキサンネットワークが粗となるため、やはり外力を印加した場合に、樹脂カウンターの意匠性が維持される作用が十分発揮されない。
【００２４】
ここで、被覆部中のふっ素樹脂粒子の含有量とは、被覆部の総重量に対するふっ素樹脂粒子の重量比であり、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の重量はＳｉＯ２換算重量である。
【００２５】
本発明では、前記被覆部の膜厚が０．３〜２０μｍであるようにするのが好ましい。
ここで、本発明において膜厚とは、シロキサンネットワークの膜厚であり、ふっ素樹脂粒子が一部露出している場合、露出部を含まない部分の厚みを意味し、走査型電子顕微鏡等による断面観察によって測定することができる。
０．３μｍより膜厚が小さいと、外力を印加した場合に、樹脂カウンターの意匠性が維持される作用が十分発揮されないし、２０μｍ以上になると被覆部にクラックが入るなどするため、やはり外力を印加した場合に、樹脂カウンターの意匠性が維持される作用が十分発揮されない。
【００２６】
本発明では、前記被覆部の膜厚が０．３〜８μｍであるようにするのがより好ましい。
膜厚が８μｍ以下であると、種々の塗布方法を用いて容易に被覆部を形成することができるとともに、被覆部の外観も向上する。
【００２７】
本発明では、前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が０．１〜２０μｍであるようにする。
平均粒径が０．１μｍより小さいと、外力を印加にした場合に、基材の意匠性を維持する作用が低下し、２０μｍより大きくなると、基材の意匠性を損なうこととなる。
【００２８】
本発明では、前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が０．１〜８μｍであるようにする。
平均粒径が８μｍ以下であると、種々の塗布方法を用いて容易に被覆部を形成することができるとともに、被覆部の外観も向上する。
【００２９】
本発明の好ましい態様においては、前記被覆部の膜厚が０．３〜８μｍかつ、ふっ素樹脂粒子の平均粒径が０．５〜２０μｍかつ、前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が被覆部の膜厚よりも大きいようにする。
そうすることで、確実に被覆部にふっ素樹脂粒子の自形に対応した凸部を有する凹凸構造が形成され、基材の意匠性が維持される作用が良好に発揮される被覆部が、外観良く形成される。
【００３０】
本発明の複合材の好ましい製造方法としては、樹脂カウンターへ、ふっ素樹脂粒子と（Ｃ）次の構造式で表される化合物[―（ＳｉＲ１Ｒ２）―（ＮＲ３）―]ｎ（式中、Ｒ１ 、Ｒ２ 、Ｒ３ は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルシリル基、アルコキシ基、又はこれらの基以外で主鎖のケイ素及び窒素に直結する基が炭素である基、ｎは整数である）を含有し、前記ふっ素樹脂粒子の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であることを特徴とするコーティング液を塗布した後、前記コーティング液を加熱することで硬化させ、前記樹脂カウンターの使用面側に、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子を含有する被覆部を形成する方法が挙げられる。
【００３１】
ここで、（Ｃ）次の構造式で表される化合物[―（ＳｉＲ１Ｒ２）―（ＮＲ３）―]ｎ（式中、Ｒ１ 、Ｒ２ 、Ｒ３ は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルシリル基、アルコキシ基、又はこれらの基以外で主鎖のケイ素及び窒素に直結する基が炭素である基、ｎは整数である）は加熱によりシリカへの転化が生じ、基材上にシロキサンネットワークを形成する。
シリカ転化を生じさせるためには１００℃以上で加熱することが望ましく、１５０℃以上で加熱すると、より転化反応が促進され望ましい。
【００３２】
また、加熱温度が高くなると、樹脂カウンターが溶融、あるいは熱分解してしまうため、形状が変形したり、樹脂自体がぼろぼろになってしまうことがある。樹脂カウンターの耐熱性の観点からは２５０℃以下が望ましい。
また、ふっ素樹脂粒子の耐熱性から３５０℃以下であることがより好ましい。
【００３３】
本発明の複合材の好ましい製造方法としては、樹脂カウンターへ、ふっ素樹脂粒子と（Ｄ）（Ｄ−１）下記一般式（１）で表される化合物、Ｒa Ｓｉ（ＯＲ４ ）4-a ・・・・・（１）（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、Ｒ４は１価の有機基、ａは１〜２の整数を示す。）（Ｄ−２）下記一般式（２）で表される化合物およびＳｉ（ＯＲ５ ）4 ・・・・・（２）（式中、Ｒ５ は１価の有機基を示す。）（Ｄ−３）下記一般式（３）で表される化合物Ｒ６b（Ｒ７Ｏ）3-bＳｉ−（Ｒ１０）d−Ｓｉ(ＯＲ８）3-cＲ９c ・・・・・（３）〔式中、Ｒ６ 〜Ｒ９ はそれぞれ１価の有機基、ｂ〜ｃは０〜２の整数、Ｒ１０ は酸素原子、フェニレン基または−（ＣＨ2）ｍ−で表される基（ここで、ｍは１〜６の整数である）、ｄは０または１を示す。〕の群から選ばれた少なくとも１種の化合物、またはその加水分解物とを含有し、前記ふっ素樹脂粒子の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であることを特徴とするコーティング液を塗布した後、前記コーティング液を硬化させ、樹脂カウンター上に、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子を含有する被覆部を形成する方法があげられる。
【００３４】
樹脂カウンターへ、本発明のふっ素樹脂粒子と（Ｃ）次の構造式で表される化合物[―（ＳｉＲ１Ｒ２）―（ＮＲ３）―]ｎ（式中、Ｒ１ 、Ｒ２ 、Ｒ３ は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルシリル基、アルコキシ基、又はこれらの基以外で主鎖のケイ素及び窒素に直結する基が炭素である基、ｎは整数である）とを含有し、ふっ素樹脂粒子の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であることを特徴とするコーティング液を塗布した後、前記コーティング液を加熱することで硬化させ、被覆部を形成する方法によれば、Ｓｉ−ＮのＳｉ−Ｏへの転化によりシロキサンネットワークを形成するため収縮が小さく、より緻密な被覆部が形成されるため、より外力を印加にした場合に、樹脂カウンターの意匠性を維持する作用が良好に発揮される。
【００３５】
以下、本発明の樹脂カウンターと、樹脂カウンターの製造方法について具体的に説明する。
本発明において、樹脂カウンターとしては、不飽和ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等のプラスチック材料を注型、プレス等の方法で成形して作製され、着色したもの、透明なもの、無機充填材を添加したもの、表面に透明層を形成して意匠性を高めたもの、大理石調意匠のものなどが用いられる。
【００３６】
また本発明において、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種は、樹脂カウンター表面にシロキサンネットワークを形成し、ふっ素樹脂粒子を含有する被覆部を形成するものである。
【００３７】
本発明において、ふっ素樹脂粒子とは、ふっ素樹脂の粒状物を意味し、球形のものが好ましい。
【００３８】
次に、ふっ素樹脂粒子としては、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリクロロトリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレンコポリマー、エチレン−テトラフルオロエチレンコポリマー、エチレン−クロロトリフルオロエチレンコポリマー、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテルコポリマー、パーフルオロシクロポリマー、ビニルエーテル−フルオロオレフィンコポリマー、ビニルエステル−フルオロオレフィンコポリマー、テトラフルオロエチレン−ビニルエーテルコポリマー、クロロトリフルオロエチレン−ビニルエーテルコポリマー、テトラフルオロエチレンウレタン架橋体、テトラフルオロエチレンエポキシ架橋体、テトラフルオロエチレンアクリル架橋体、テトラフルオロエチレンメラミン架橋体等フルオロ基を含有するポリマーが挙げられる。
【００３９】
本発明において、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子を含有してなる被覆部とは、シロキサンネットワーク中に、ふっ素樹脂粒子が分散した形態であってもよく、被覆部の表面にふっ素樹脂粒子の自形に対応した凸部を有する凹凸構造が形成されていてもよい。
【００４０】
本発明において、外力を印加した場合にも、基材の意匠性が維持されるとは、例えば固形物との接触による傷発生による意匠性の低下を抑制する作用を意味し、より具体的には、例えば、付着した汚れを洗浄するために、スポンジやたわしで擦った場合に、傷が発生して意匠性が低下することを抑制する作用を意味する。
【００４１】
本発明において、略透明とは、樹脂カウンターの質感が損なわれない程度の透明性を有し、外観上、基材の意匠性を確認できる程度の透明性を意味する。
例えば着色、絵柄の存在するカウンターの場合は、それらが確認できる程度の透明性を意味する。
【００４２】
本発明において、（Ｃ）次の構造式で表される化合物[―（ＳｉＲ１Ｒ２）―（ＮＲ３）―]ｎ（式中、Ｒ１ 、Ｒ２ 、Ｒ３ は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルシリル基、アルコキシ基、又はこれらの基以外で主鎖のケイ素及び窒素に直結する基が炭素である基、ｎは整数である）において、アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシル等が挙げられる。アルケニル基としては、ビニル、アリル、ブレニル、ペンテニル、ヘキセニル、ブチニル、オクテニル、デセニル等が挙げられる。アリール基としては、フェニル、トリル、キシリル、ナフチル等が挙げられる。
【００４３】
本発明において、（Ｄ）（Ｄ−１）下記一般式（１）で表される化合物、Ｒa Ｓｉ（ＯＲ４ ）4-a ・・・・・（１）（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、Ｒ４は１価の有機基、ａは１〜２の整数を示す。）（Ｄ−２）下記一般式（２）で表される化合物およびＳｉ（ＯＲ５ ）4 ・・・・・（２）（式中、Ｒ５ は１価の有機基を示す。）（Ｄ−３）下記一般式（３）で表される化合物Ｒ６b（Ｒ７Ｏ）3-bＳｉ−（Ｒ１０）d−Ｓｉ(ＯＲ８）3-cＲ９c ・・・・・（３）〔式中、Ｒ６ 〜Ｒ９ はそれぞれ１価の有機基、ｂ〜ｃは０〜２の整数、Ｒ１０ は酸素原子、フェニレン基または−（ＣＨ2）ｍ−で表される基（ここで、ｍは１〜６の整数である）、ｄは０または１を示す。〕の群から選ばれた少なくとも１種の化合物、またはその加水分解物を含んでなる塗布液において、一般式（１）で表される化合物の具体例としては、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリ−ｎ−プロポキシシラン、トリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、トリ−ｎ−ブトキシシラン、トリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、トリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、トリフェノキシシラン、フルオロトリメトキシシラン、フルオロトリエトキシシラン、フルオロトリ−ｎ−プロポキシシラン、フルオロトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、フルオロトリ−ｎ−ブトキシシラン、フルオロトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、フルオロトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、フルオロトリフェノキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、メチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、メチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、メチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、メチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリフェノキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、エチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、エチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、エチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、エチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、エチルトリフェノキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ビニルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ビニルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ビニルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ビニルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ビニルトリフェノキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ｎ−プロピルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ｎ−プロピルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ｎ−プロピルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ｎ−プロピルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ｎ−プロピルトリフェノキシシラン、ｉ−プロピルトリメトキシシラン、ｉ−プロピルトリエトキシシラン、ｉ−プロピルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ｉ−プロピルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ｉ−プロピルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ｉ−プロピルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ｉ−プロピルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ｉ−プロピルトリフェノキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−ブチルトリエトキシシラン、ｎ−ブチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ｎ−ブチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ｎ−ブチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ｎ−ブチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ｎ−ブチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ｎ−ブチルトリフェノキシシラン、ｓｅｃ−ブチルトリメトキシシラン、ｓｅｃ−ブチルトリエトキシシラン、ｓｅｃ−ブチル−トリ−ｎ−プロポキシシラン、ｓｅｃ−ブチル−トリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ｓｅｃ−ブチル−トリ−ｎ−ブトキシシラン、ｓｅｃ−ブチル−トリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ｓｅｃ−ブチル−トリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ｓｅｃ−ブチル−トリフェノキシシラン、ｔ−ブチルトリメトキシシラン、ｔ−ブチルトリエトキシシラン、ｔ−ブチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ｔ−ブチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ｔ−ブチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ｔ−ブチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ｔ−ブチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ｔ−ブチルトリフェノキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリ−ｎ−プロポキシシラン、フェニルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、フェニルトリ−ｎ−ブトキシシラン、フェニルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、フェニルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、フェニルトリフェノキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−トリフロロプロピルトリメトキシシラン、γ−トリフロロプロピルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチル−ジ−ｎ−プロポキシシラン、ジメチル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ジメチル−ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジメチル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジメチル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジメチルジフェノキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチル−ジ−ｎ−プロポキシシラン、ジエチル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ジエチル−ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジエチル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジエチル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジエチルジフェノキシシラン、ジ−ｎ−プロピルジメトキシシラン、ジ−ｎ−プロピルジエトキシシラン、ジ−ｎ−プロピル−ジ−ｎ−プロポキシシラン、ジ−ｎ−プロピル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ジ−ｎ−プロピル−ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジ−ｎ−プロピル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジ−ｎ−プロピル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジ−ｎ−プロピル−ジ−フェノキシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピルジメトキシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピルジエトキシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピル−ジ−ｎ−プロポキシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピル−ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジ−ｉｓｏ−プロピル−ジ−フェノキシシラン、ジ−ｎ−ブチルジメトキシシラン、ジ−ｎ−ブチルジエトキシシラン、ジ−ｎ−ブチル−ジ−ｎ−プロポキシシラン、ジ−ｎ−ブチル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ジ−ｎ−ブチル−ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジ−ｎ−ブチル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジ−ｎ−ブチル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジ−ｎ−ブチル−ジ−フェノキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチルジメトキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチルジエトキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチル−ジ−ｎ−プロポキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチル−ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチル−ジ−フェノキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジメトキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジエトキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジ−ｎ−プロポキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジ−フェノキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニル−ジ−エトキシシラン、ジフェニル−ジ−ｎ−プロポキシシラン、ジフェニル−ジ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ジフェニル−ジ−ｎ−ブトキシシラン、ジフェニル−ジ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ジフェニル−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ジフェニルジフェノキシシラン、ジビニルトリメトキシシランなどを挙げることができる。
【００４４】
本発明において、一般式（２）で表される化合物の具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラフェノキシシランなどが挙げられる。
【００４５】
本発明において、一般式（３）で表される化合物の具体例としては、ヘキサメトキシジシロキサン、ヘキサエトキシジシロキサン、ヘキサフェノキシジシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタメトキシ−３−メチルジシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタエトキシ−３−メチルジシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタフェノキシ−３−メチルジシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタメトキシ−３−エチルジシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタエトキシ−３−エチルジシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタフェノキシ−３−エチルジシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタメトキシ−３−フェニルジシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタエトキシ−３−フェニルジシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタフェノキシ−３−フェニルジシロキサン、１，１，３，３−テトラメトキシ−１，３−ジメチルジシロキサン、１，１，３，３−テトラエトキシ−１，３−ジメチルジシロキサン、１，１，３，３−テトラフェノキシ−１，３−ジメチルジシロキサン、１，１，３，３−テトラメトキシ−１，３−ジエチルジシロキサン、１，１，３，３−テトラエトキシ−１，３−ジエチルジシロキサン、１，１，３，３−テトラフェノキシ−１，３−ジエチルジシロキサン、１，１，３，３−テトラメトキシ−１，３−ジフェニルジシロキサン、１，１，３，３−テトラエトキシ−１，３−ジフェニルジシロキサン、１，１，３，３−テトラフェノキシ−１，３−ジフェニルジシロキサン、１，１，３−トリメトキシ−１，３，３−トリメチルジシロキサン、１，１，３−トリエトキシ−１，３，３−トリメチルジシロキサン、１，１，３−トリフェノキシ−１，３，３−トリメチルジシロキサン、１，１，３−トリメトキシ−１，３，３−トリエチルジシロキサン、、１，１，３−トリエトキシ−１，３，３−トリエチルジシロキサン、、１，１，３−トリフェノキシ−１，３，３−トリエチルジシロキサン、、１，１，３−トリメトキシ−１，３，３−トリフェニルジシロキサン、１，１，３−トリエトキシ−１，３，３−トリフェニルジシロキサン、１，１，３−トリフェノキシ−１，３，３−トリフェニルジシロキサン、１，３−ジメトキシ−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、１，３−ジエトキシ−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、１，３−ジフェノキシ−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、１，３−ジメトキシ−１，１，３，３−テトラエチルジシロキサン、１，３−ジエトキシ−１，１，３，３−テトラエチルジシロキサン、１，３−ジフェノキシ−１，１，３，３−テトラエチルジシロキサン、１，３−ジメトキシ−１，１，３，３−テトラフェニルジシロキサン、１，３−ジエトキシ−１，１，３，３−テトラフェニルジシロキサン、１，３−ジフェノキシ−１，１，３，３−テトラフェニルジシロキサン、ヘキサメトキシジシラン、ヘキサエトキシジシラン、ヘキサフェノキシジシラン、１，１，１，２，２−ペンタメトキシ−２−メチルジシラン、１，１，１，２，２−ペンタエトキシ−２−メチルジシラン、１，１，１，２，２−ペンタフェノキシ−２−メチルジシラン、１，１，１，２，２−ペンタメトキシ−２−エチルジシラン、１，１，１，２，２−ペンタエトキシ−２−エチルジシラン、１，１，１，２，２−ペンタフェノキシ−２−エチルジシラン、１，１，１，２，２−ペンタメトキシ−２−フェニルジシラン、１，１，１，２，２−ペンタエトキシ−２−フェニルジシラン、１，１，１，２，２−ペンタフェノキシ−２−フェニルジシラン、１，１，２，２−テトラメトキシ−１，２−ジメチルジシラン、１，１，２，２−テトラエトキシ−１，２−ジメチルジシラン、１，１，２，２−テトラフェノキシ−１，２−ジメチルジシラン、１，１，２，２−テトラメトキシ−１，２−ジエチルジシラン、１，１，２，２−テトラエトキシ−１，２−ジエチルジシラン、１，１，２，２−テトラフェノキシ−１，２−ジエチルジシラン、１，１，２，２−テトラメトキシ−１，２−ジフェニルジシラン、１，１，２，２−テトラエトキシ−１，２−ジフェニルジシラン、１，１，２，２−テトラフェノキシ−１，２−ジフェニルジシラン、１，１，２−トリメトキシ−１，２，２−トリメチルジシラン、１，１，２−トリエトキシ−１，２，２−トリメチルジシラン、１，１，２−トリフェノキシ−１，２，２−トリメチルジシラン、１，１，２−トリメトキシ−１，２，２−トリエチルジシラン、、１，１，２−トリエトキシ−１，２，２−トリエチルジシラン、、１，１，２−トリフェノキシ−１，２，２−トリエチルジシラン、、１，１，２−トリメトキシ−１，２，２−トリフェニルジシラン、１，１，２−トリエトキシ−１，２，２−トリフェニルジシラン、、１，１，２−トリフェノキシ−１，２，２−トリフェニルジシラン、１，２−ジメトキシ−１，１，２，２−テトラメチルジシラン、１，２−ジエトキシ−１，１，２，２−テトラメチルジシラン、１，２−ジフェノキシ−１，１，２，２−テトラメチルジシラン、１，２−ジメトキシ−１，１，２，２−テトラエチルジシラン、１，２−ジエトキシ−１，１，２，２−テトラエチルジシラン、１，２−ジフェノキシ−１，１，２，２−テトラエチルジシラン、１，２−ジメトキシ−１，１，２，２−テトラフェニルジシラン、１，２−ジエトキシ−１，１，２，２−テトラフェニルジシラン、１，２−ジフェノキシ−１，１，２，２−テトラフェニルジシラン、ビス（トリメトキシシリル）メタン、ビス（トリエトキシシリル）メタン、ビス（トリ−ｎ−プロポキシシリル）メタン、ビス（トリ−ｉ−プロポキシシリル）メタン、ビス（トリ−ｎ−ブトキシシリル）メタン、ビス（トリ−ｓｅｃ−ブトキシシリル）メタン、ビス（トリ−ｔ−ブトキシシリル）メタン、１，２−ビス（トリメトキシシリル）エタン、１，２−ビス（トリエトキシシリル）エタン、１，２−ビス（トリ−ｎ−プロポキシシリル）エタン、１，２−ビス（トリ−ｉ−プロポキシシリル）エタン、１，２−ビス（トリ−ｎ−ブトキシシリル）エタン、１，２−ビス（トリ−ｓｅｃ−ブトキシシリル）エタン、１，２−ビス（トリ−ｔ−ブトキシシリル）エタン、１−（ジメトキシメチルシリル）−１−（トリメトキシシリル）メタン、１−（ジエトキシメチルシリル）−１−（トリエトキシシリル）メタン、１−（ジ−ｎ−プロポキシメチルシリル）−１−（トリ−ｎ−プロポキシシリル）メタン、１−（ジ−ｉ−プロポキシメチルシリル）−１−（トリ−ｉ−プロポキシシリル）メタン、１−（ジ−ｎ−ブトキシメチルシリル）−１−（トリ−ｎ−ブトキシシリル）メタン、１−（ジ−ｓｅｃ−ブトキシメチルシリル）−１−（トリ−ｓｅｃ−ブトキシシリル）メタン、１−（ジ−ｔ−ブトキシメチルシリル）−１−（トリ−ｔ−ブトキシシリル）メタン、１−（ジメトキシメチルシリル）−２−（トリメトキシシリル）エタン、１−（ジエトキシメチルシリル）−２−（トリエトキシシリル）エタン、１−（ジ−ｎ−プロポキシメチルシリル）−２−（トリ−ｎ−プロポキシシリル）エタン、１−（ジ−ｉ−プロポキシメチルシリル）−２−（トリ−ｉ−プロポキシシリル）エタン、１−（ジ−ｎ−ブトキシメチルシリル）−２−（トリ−ｎ−ブトキシシリル）エタン、１−（ジ−ｓｅｃ−ブトキシメチルシリル）−２−（トリ−ｓｅｃ−ブトキシシリル）エタン、１−（ジ−ｔ−ブトキシメチルシリル）−２−（トリ−ｔ−ブトキシシリル）エタン、ビス（ジメトキシメチルシリル）メタン、ビス（ジエトキシメチルシリル）メタン、ビス（ジ−ｎ−プロポキシメチルシリル）メタン、ビス（ジ−ｉ−プロポキシメチルシリル）メタン、ビス（ジ−ｎ−ブトキシメチルシリル）メタン、ビス（ジ−ｓｅｃ−ブトキシメチルシリル）メタン、ビス（ジ−ｔ−ブトキシメチルシリル）メタン、１，２−ビス（ジメトキシメチルシリル）エタン、１，２−ビス（ジエトキシメチルシリル）エタン、１，２−ビス（ジ−ｎ−プロポキシメチルシリル）エタン、１，２−ビス（ジ−ｉ−プロポキシメチルシリル）エタン、１，２−ビス（ジ−ｎ−ブトキシメチルシリル）エタン、１，２−ビス（ジ−ｓｅｃ−ブトキシメチルシリル）エタン、１，２−ビス（ジ−ｔ−ブトキシメチルシリル）エタン、１，２−ビス（トリメトキシシリル）ベンゼン、１，２−ビス（トリエトキシシリル）ベンゼン、１，２−ビス（トリ−ｎ−プロポキシシリル）ベンゼン、１，２−ビス（トリ−ｉ−プロポキシシリル）ベンゼン、１，２−ビス（トリ−ｎ−ブトキシシリル）ベンゼン、１，２−ビス（トリ−ｓｅｃ−ブトキシシリル）ベンゼン、１，２−ビス（トリ-t- ブトキシシリル）ベンゼン、１，３−ビス（トリメトキシシリル）ベンゼン、１，３−ビス（トリエトキシシリル）ベンゼン、１，３−ビス（トリ−ｎ−プロポキシシリル）ベンゼン、１，３−ビス（トリ−ｉ−プロポキシシリル）ベンゼン、１，３−ビス（トリ−ｎ−ブトキシシリル）ベンゼン、１，３−ビス（トリ−ｓｅｃ−ブトキシシリル）ベンゼン、１，３−ビス（トリ−ｔ−ブトキシシリル）ベンゼン、１，４−ビス（トリメトキシシリル）ベンゼン、１，４−ビス（トリエトキシシリル）ベンゼン、１，４−ビス（トリ−ｎ−プロポキシシリル）ベンゼン、１，４−ビス（トリ−ｉ−プロポキシシリル）ベンゼン、１，４−ビス（トリ−ｎ−ブトキシシリル）ベンゼン、１，４−ビス（トリ−ｓｅｃ−ブトキシシリル）ベンゼン、１，４−ビス（トリ−ｔ−ブトキシシリル）ベンゼンなどを挙げることができる。
【００４６】
本発明において、コーティング液の塗布方法としては、例えばディッピング法、スピンコート法、スプレー法、印刷法、フローコート法、ロールコート法ならびにこれらの併用等、既知の塗布手段を適宜採用することができる。膜厚は、ディッピング法における引き上げ速度やスピンコート法における基板回転速度などを変化させることと、コーティング液の濃度や粘度を変えることにより制御することができる。
【実施例】
【００４７】
以下に実施例をあげて、本発明をより具体的に説明する。
【００４８】
図１、図２、図３は、本発明の様々なパターンの樹脂カウンター表面の断面図である。
【００４９】
樹脂カウンター１の表面には被覆部２が設けられており、該被覆部２は、シロキサンネットワーク３とふっ素樹脂粒子４からなり、該被覆部２は外力を印加した場合にも、基材の意匠性を維持する作用を発揮する。
【００５０】
このような樹脂カウンターは、例えば、汚れを洗浄するために、スポンジやたわしで擦るような外力の印加があった場合でも樹脂カウンターの意匠性を維持することができる。
ここで、ふっ素樹脂粒子は滑り性が良好であり、表面エネルギーも小さいため、外力を印加した場合にも、樹脂カウンターの意匠性が維持される作用が良好に発揮される。
また、ふっ素樹脂粒子は可塑性を有するため、被覆部にある程度の柔軟性を付与するため外力を印加した場合にも樹脂カウンター表面への追従性が向上し、樹脂カウンターの意匠性が維持される作用が良好に発揮される。
【００５１】
被覆部２に含有されるふっ素樹脂粒子４は、図１のようにシロキサンネットワーク３中に分散した状態であっても良いし、図２のようにふっ素樹脂粒子４の一部が露出していても良く、図３のようにふっ素樹脂粒子４より形成される凸部をシロキサンネットワーク３が覆った状態であっても良い。
被覆部の表面にふっ素樹脂粒子の自形に対応した凸部を有する凹凸構造が形成されていると、外力を印加した場合に、被覆部との接触面積が低下するため、より樹脂カウンターの意匠性が維持される作用が良好に発揮されるため望ましい。
【００５２】
次いで、樹脂カウンターの好ましい製造方法について、実験結果をもとに説明する。
【００５３】
本発明の樹脂カウンターの被覆部の観察には、日立製作所（株）製の走査型電子顕微鏡Ｓ４１００を用いた。
被覆部の膜厚は、断面観察により調べられる。また、被覆部の膜厚とは、シロキサンネットワーク３の厚み（図中Δｔで示す）であり、ふっ素樹脂粒子による凸部の厚みは含まない。
【００５４】
（実施例１）
注型成形された透明なエポキシ樹脂カウンターを１００×１００ｍｍに切り出したものを基材として用いた。
表１の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、１５０℃で６０分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は５μｍであった。
コーティング液中の不揮発分中（ポリシラザン液の不揮発分はＳｉＯ２換算濃度）のふっ素樹脂粒子の含有量は５．０重量％であった。
被覆部の膜厚は０．５μｍであった。
【００５５】
【表１】
【００５６】
（実施例２）
基材は、実施例１同様のものを用いた。
表２の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、１５０℃で６０分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は１０μｍであった。
コーティング液中の不揮発分中（ポリシラザン液の不揮発分はＳｉＯ２換算濃度）のふっ素樹脂粒子の含有量は５．０重量％であった。
被覆部の膜厚は２．０μｍであった。
【００５７】
【表２】
【００５８】
（実施例３）
基材は、実施例１同様のものを用いた。
表３の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、１５０℃で６０分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は５μｍであった。
コーティング液中の不揮発分中（ポリシラザン液の不揮発分はＳｉＯ２換算濃度）のふっ素樹脂粒子の含有量は１５．０重量％であった。
被覆部の膜厚は０．５μｍであった。
【００５９】
【表３】
【００６０】
（実施例４）
基材は、実施例１同様のものを用いた。
表４の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、１５０℃で６０分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は０．３μｍであった。
コーティング液中の不揮発分中（ポリシラザン液の不揮発分はＳｉＯ２換算濃度）のふっ素樹脂粒子の含有量は５．０重量％であった。
被覆部の膜厚は２．０μｍであった。
【００６１】
【表４】
【００６２】
（実施例５）
基材は、実施例１同様のものを用いた。
表５の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、１５０℃で６０分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は５μｍであった。
コーティング液中の不揮発分中（ポリシロキサンオリゴマー液の不揮発分はＳｉＯ２換算濃度）のふっ素樹脂粒子の含有量は５．０重量％であった。
被覆部の膜厚は２．０μｍであった。
【００６３】
【表５】
【００６４】
（実施例６）
基材は、実施例１同様のものを用いた。
表６の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、１５０℃で６０分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は２２μｍであった。
コーティング液中の不揮発分中（ポリシラザン液の不揮発分はＳｉＯ２換算濃度）のふっ素樹脂粒子の含有量は１０．０重量％であった。
被覆部の膜厚は２．０μｍであった。
【００６５】
【表６】
【００６６】
（比較例１）
注型成形された透明なエポキシ樹脂カウンターを１００×１００ｍｍに切り出したものを比較例として用いた。
【００６７】
（比較例２）
実施例１のコーティング液から、ふっ素樹脂粒子を除いた以外は、実施例１と同様にして、被覆部を形成した。
被覆部の膜厚は０．５μｍであった。
【００６８】
（比較例３）
基材は実施例１同様のものを用いた。
表７の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、１５０℃で６０分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は０．３μｍであった。
コーティング液中の不揮発分中（ポリシラザン液の不揮発分はＳｉＯ２換算濃度）のふっ素樹脂粒子の含有量は０．１重量％であった。
被覆部の膜厚は０．５μｍであった。
【００６９】
【表７】
【００７０】
（比較例４）
基材は実施例１同様のものを用いた。
表８の配合のコーティング液をスプレーコートにて基材に塗布した後、１５０℃で６０分加熱して、ふっ素樹脂粒子が分散した被覆部を形成した。
用いたふっ素樹脂粒子の平均粒径は５μｍであった。
コーティング液中の不揮発分中（ポリシロキサンオリゴマー液の不揮発分はＳｉＯ２換算濃度）のふっ素樹脂粒子の含有量は２５．０重量％であった。
被覆部の膜厚は２．０μｍであった。
【００７１】
【表８】
【００７２】
（評価方法）
（１）外観
目視にて外観を評価した。
判定基準 ○：基材の意匠性を完全に維持している △：基材の意匠性がやや低下しているが、基材の意匠は確認できる ×：基材の意匠性を著しく損なっており、基材の意匠が確認できない
（２）外力を印加したときの意匠性の維持性の評価
スポンジを２０×２０ｍｍに切り出したものを摺動子として用いた。スポンジにクリームクレンザーを含ませ、さらに荷重を加えた状態で、基材表面で往復摺動させた後、基材の意匠変化を目視にて判定した。
荷重は５０ｇと２００ｇの場合それぞれについて評価し、摺動回数は１００回とした。荷重５０ｇでは女性が通常の洗浄を行ったときのスポンジへの荷重を想定し、荷重２００ｇでは女性が、頑固な汚れを除去するために、力をこめて洗浄を行ったときのスポンジへの荷重を想定して設定した。
判定基準 ◎：傷の発生なく、意匠性変化なし ○：微小な傷が発生するものの、意匠性は維持 △：傷発生し、意匠性がやや低下 ×：顕著に傷が発生し、著しく意匠性を損なう
【００７３】
（評価結果）
評価結果を表９に示す。
【００７４】
【表９】
【００７５】
本発明の実施例１〜５は、被覆部を形成した後でも基材の意匠性が完全に維持されていた。実施例６では実施例１〜５に比べるとやや透明性が劣るものの、基材の意匠性は確認できた。
実施例１〜６では、通常の洗浄を行ったときの荷重を想定した外力を印加したときにも、基材の意匠性が維持されている。
実施例２、４の複合材は、頑固な汚れを除去するために、力をこめて洗浄を行ったときの荷重を想定した外力を印加したときにも、基材の意匠性が維持されていた。
【００７６】
表９から明らかなように、比較例１では通常の洗浄を行ったときの荷重を想定した外力を印加したときに顕著に傷が発生し、著しく基材の意匠性が損なわれる結果であった。
ふっ素樹脂粒子を含有しない被覆部を形成した比較例２〜４では、比較例１に比べるとわずかに外力を印加した場合の意匠維持性が発揮されているが、頑固な汚れを除去するために、力をこめて洗浄を行ったときの荷重を想定した外力を印加したときには、顕著に傷が発生し、著しく基材の意匠性が損なわれる結果であった。
【００７７】
図４は、本発明の樹脂カウンターの概略図である。
【産業上の利用可能性】
【００７８】
本発明の樹脂カウンターは、洗面所、トイレ、浴室、キッチン等で使用されるカウンター等に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００７９】
【図１】本発明の樹脂カウンターの断面図である。
【図２】本発明の樹脂カウンターの断面図である。
【図３】本発明の樹脂カウンターの断面図である。
【図４】本発明の樹脂カウンターの概略図である。
【符号の説明】
【００８０】
１ ：樹脂カウンター
２ ：被覆部
３ ：シロキサンネットワーク
４ ：ふっ素樹脂粒子
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも使用面側の一部に被覆部が形成された樹脂カウンターであって、該被覆部は、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子を含有してなることを特徴とし、前記ふっ素樹脂粒子の被覆部中の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であることを特徴とする樹脂カウンター。
【請求項２】
前記被覆部の表面には、前記ふっ素樹脂粒子の自形に対応した凸部を有する凹凸構造が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の樹脂カウンター。
【請求項３】
前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が、前記被覆部の膜厚よりも大きいことを特徴とする請求項２に記載の樹脂カウンター。
【請求項４】
前記被覆部の膜厚が０．３〜２０μｍであることを特徴とする請求項１乃至３いずれか１項に記載の樹脂カウンター。
【請求項５】
前記被覆部の膜厚が０．３〜８μｍであることを特徴とする請求項４に記載の樹脂カウンター。
【請求項６】
前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が０．１〜２０μｍであることを特徴とする請求項１乃至５いずれか１項に記載の樹脂カウンター。
【請求項７】
前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が０．１〜８μｍであることを特徴とする請求項６に記載の樹脂カウンター。
【請求項８】
前記被覆部が略透明であることを特徴とする請求項１乃至７いずれか１項に記載の樹脂カウンター。
【請求項９】
樹脂カウンターへ、ふっ素樹脂粒子と（Ｃ）次の構造式で表される化合物[―（ＳｉＲ１Ｒ２）―（ＮＲ３）―]ｎ（式中、Ｒ１ 、Ｒ２ 、Ｒ３ は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルシリル基、アルコキシ基、又はこれらの基以外で主鎖のケイ素及び窒素に直結する基が炭素である基、ｎは整数である）を含有し、前記ふっ素樹脂粒子の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であることを特徴とするコーティング液を塗布した後、前記コーティング液を加熱することで硬化させ、前記樹脂カウンターの使用面側に、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子を含有する被覆部を形成することを特徴とする樹脂カウンターの製造方法。
【請求項１０】
樹脂カウンターへ、ふっ素樹脂粒子と（Ｄ）（Ｄ−１）下記一般式（１）で表される化合物、Ｒa Ｓｉ（ＯＲ４ ）4-a ・・・・・（１）（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、Ｒ４は１価の有機基、ａは１〜２の整数を示す。）（Ｄ−２）下記一般式（２）で表される化合物およびＳｉ（ＯＲ５ ）4 ・・・・・（２）（式中、Ｒ５ は１価の有機基を示す。）（Ｄ−３）下記一般式（３）で表される化合物 Ｒ６b（Ｒ７Ｏ）3-bＳｉ−（Ｒ１０）d−Ｓｉ(ＯＲ８）3-cＲ９c ・・・・・（３）〔式中、Ｒ６ 〜Ｒ９ はそれぞれ１価の有機基、ｂ〜ｃは０〜２の整数、Ｒ１０ は酸素原子、フェニレン基または−（ＣＨ2）ｍ−で表される基（ここで、ｍは１〜６の整数である）、ｄは０または１を示す。〕の群から選ばれた少なくとも１種の化合物、またはその加水分解物を含有し、前記ふっ素樹脂粒子の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であることを特徴とするコーティング液を塗布した後、前記コーティング液を加熱することで硬化させ、前記樹脂カウンターの使用面側に、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子を含有する被覆部を形成することを特徴とする樹脂カウンターの製造方法。
【請求項１】
少なくとも使用面側の一部に被覆部が形成された樹脂カウンターであって、該被覆部は、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子を含有してなることを特徴とし、前記ふっ素樹脂粒子の被覆部中の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であることを特徴とする樹脂カウンター。
【請求項２】
前記被覆部の表面には、前記ふっ素樹脂粒子の自形に対応した凸部を有する凹凸構造が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の樹脂カウンター。
【請求項３】
前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が、前記被覆部の膜厚よりも大きいことを特徴とする請求項２に記載の樹脂カウンター。
【請求項４】
前記被覆部の膜厚が０．３〜２０μｍであることを特徴とする請求項１乃至３いずれか１項に記載の樹脂カウンター。
【請求項５】
前記被覆部の膜厚が０．３〜８μｍであることを特徴とする請求項４に記載の樹脂カウンター。
【請求項６】
前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が０．１〜２０μｍであることを特徴とする請求項１乃至５いずれか１項に記載の樹脂カウンター。
【請求項７】
前記ふっ素樹脂粒子の平均粒径が０．１〜８μｍであることを特徴とする請求項６に記載の樹脂カウンター。
【請求項８】
前記被覆部が略透明であることを特徴とする請求項１乃至７いずれか１項に記載の樹脂カウンター。
【請求項９】
樹脂カウンターへ、ふっ素樹脂粒子と（Ｃ）次の構造式で表される化合物[―（ＳｉＲ１Ｒ２）―（ＮＲ３）―]ｎ（式中、Ｒ１ 、Ｒ２ 、Ｒ３ は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルシリル基、アルコキシ基、又はこれらの基以外で主鎖のケイ素及び窒素に直結する基が炭素である基、ｎは整数である）を含有し、前記ふっ素樹脂粒子の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であることを特徴とするコーティング液を塗布した後、前記コーティング液を加熱することで硬化させ、前記樹脂カウンターの使用面側に、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子を含有する被覆部を形成することを特徴とする樹脂カウンターの製造方法。
【請求項１０】
樹脂カウンターへ、ふっ素樹脂粒子と（Ｄ）（Ｄ−１）下記一般式（１）で表される化合物、Ｒa Ｓｉ（ＯＲ４ ）4-a ・・・・・（１）（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、Ｒ４は１価の有機基、ａは１〜２の整数を示す。）（Ｄ−２）下記一般式（２）で表される化合物およびＳｉ（ＯＲ５ ）4 ・・・・・（２）（式中、Ｒ５ は１価の有機基を示す。）（Ｄ−３）下記一般式（３）で表される化合物 Ｒ６b（Ｒ７Ｏ）3-bＳｉ−（Ｒ１０）d−Ｓｉ(ＯＲ８）3-cＲ９c ・・・・・（３）〔式中、Ｒ６ 〜Ｒ９ はそれぞれ１価の有機基、ｂ〜ｃは０〜２の整数、Ｒ１０ は酸素原子、フェニレン基または−（ＣＨ2）ｍ−で表される基（ここで、ｍは１〜６の整数である）、ｄは０または１を示す。〕の群から選ばれた少なくとも１種の化合物、またはその加水分解物を含有し、前記ふっ素樹脂粒子の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であることを特徴とするコーティング液を塗布した後、前記コーティング液を加熱することで硬化させ、前記樹脂カウンターの使用面側に、（Ａ）シリカ、または平均組成式ＲｐＳｉＯ（４−ｐ）／２（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子を含有する被覆部を形成することを特徴とする樹脂カウンターの製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２００６−３４６０４８（Ｐ２００６−３４６０４８Ａ）
【公開日】平成１８年１２月２８日（２００６．１２．２８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−１７４３７１（Ｐ２００５−１７４３７１）
【出願日】平成１７年６月１４日（２００５．６．１４）
【出願人】（００００１００８７）東陶機器株式会社 (3,889)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年１２月２８日（２００６．１２．２８）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年６月１４日（２００５．６．１４）
【出願人】（００００１００８７）東陶機器株式会社 (3,889)
【Ｆターム（参考）】
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