説明

炭素ナノチューブ−金属−高分子ナノ複合材料の製造方法

【課題】ネックレス構造で金属が装飾された炭素ナノチューブを高分子基地内で均一に分散させた金属粒子によって、電子波吸収及び遮蔽特性を向上させるようにした炭素ナノチューブ−金属−高分子ナノ複合材料の製造方法を提供する。
【解決手段】炭素ナノチューブ−金属−高分子ナノ複合材料の製造方法は、炭素ナノチューブのコロイド溶液にポリオール還元剤及び金属前駆体を投入した後、加熱して炭素ナノチューブ−金属ナノ複合粉末を製造する段階と、前記炭素ナノチューブ−金属ナノ複合粉末を高分子樹脂内で分散させる段階、及び前記高分子樹脂を硬化させて炭素ナノチューブ−金属−高分子ナノ複合材料を形成する段階、とを包含することを特徴とする。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、炭素ナノチューブ−金属−高分子ナノ複合材料の製造方法に関する。特に、ネックレス構造で金属が装飾された炭素ナノチューブが高分子基地内に均一に分散されるようにする炭素ナノチューブ−金属−高分子ナノ複合材料の製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
炭素ナノチューブは、1991年Ijima教授の発見以来、既存の炭素繊維を凌駕する優秀な機械的特性、電気伝導度、熱伝導度を示すなど、その特性が非常に優秀である。その特性のため、炭素ナノチューブに対する数多い研究が進行されている。また、炭素ナノチューブは、GHz帯域で優秀な電子波遮蔽及び吸収特性を有しているので、最近、炭素ナノチューブ−金属−高分子ナノ複合材料の研究が活発に進行されている。
【0003】
しかし、炭素ナノチューブが高分子基地内で均一に分散されないことによって、電子波遮蔽及び吸収特性が減少するという問題が生じている。すなわち、炭素ナノチューブが高分子基地内で均一に分散されないという限界があるため、電子波遮蔽及び吸収特性の減少が問題となっている。前記の問題を解決するために、Feを内部に包含する炭素ナノチューブを使用することによって、電子波吸収特性を増加させる研究が進行されたことがある(非特許文献1)。また、Z.Fanは、いろいろな種類の高分子基地内での炭素ナノチューブの分散と、炭素ナノチューブの電子波吸収特性に関する研究を行ったことがある(非特許文献2)。この他にも炭素ナノチューブの熱処理を通じて電気伝導度を高めることによって電子波遮蔽特性を向上させる研究も進行されている(非特許文献3)。しかし、上述の従来方法などは、依然として電子波吸収及び遮蔽特性を向上させることにおいて限界に直面している。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【0004】
【非特許文献1】R.Che,Adv.Mater.Vol.16,No.5,2004,pp.401−405
【非特許文献2】Material Science and Engineering B.Vol.132,2006
【非特許文献3】Y.Huang、Carbon.Vol.45,2007,pp.1614−1621
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
したがって、本発明が解決しようとする課題は、ネックレス構造で金属が装飾された炭素ナノチューブを高分子基地内で均一に分散させて、金属粒子によって電子波吸収及び遮蔽特性を向上させるようにした、炭素ナノチューブ−金属−高分子ナノ複合材料の製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【0006】
前記の課題を解決するための本発明による炭素ナノチューブ−金属−高分子ナノ複合材料の製造方法は、炭素ナノチューブのコロイド溶液にポリオール還元剤及び金属前駆体を投入した後、加熱して炭素ナノチューブ−金属ナノ複合粉末を製造する段階と、前記炭素ナノチューブ−金属ナノ複合粉末を高分子樹脂内で分散させる段階、及び前記高分子樹脂を硬化させて炭素ナノチューブ−金属−高分子ナノ複合材料を形成する段階を包含することを特徴とする。
【0007】
前記コロイド溶液の溶媒は、非極性溶媒またはポリオール溶媒を使用することができる。
【0008】
前記非極性溶液は、イソオクタン(iso−octane)、トリエチルアミン(triethylamine)、エチレンクロリド(Ethylene chloride)、メチレンクロリド(Methylene chloride)、4塩化炭素(carbon tetrachloride)、トルエン(Toluene)、ベンジルエーテル(benzyl ether)、イソプロピルエーテル(isopropyl ether)、ブチルエーテル(Butyl ether)、ジエチルエーテル(Diethyl ether)、オクチルエーテル(octylether)、ジフェニルエーテル(Diphenylether)、ヘキサン(Hexane)、クロロホルム(Chloroform)、ジメチルホルムアルデヒド(Dimethylformaldehyde)、テトラヒドロフラン(Tetrahydrofuran)、ベンゼン(Benzene)、1,2−ジクロロベンゼン(1,2−Dichlorobenzene)、メチルアセテート(Methyl acetate)、エチルアセテート(ethyl acetate)、ブチルアルコール(Butyl alchol)、ブタノール(Butanol)、または、キシレン(xylene)が好ましい。
【0009】
前記ポリオール溶媒は、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ヘキシレングリコール、1,2−ヘキサデカンジオール(1,2−hexadecanediol)、メチルグリコール、ブチルグリコール、ブチルトリグリコール、ブチルポリグリコール、ヘキシルグリコール、ヘキシルジグリコール、エチルへキシルグリコール、エチルへキシルジグリコール、アリールグリコール、フェニルグリコール、フェニルジグリコール、ベンジルグリコール、メチルプロピレングリコール、メチルプロピレンジグリコール、メチルプロピレントリグリコール、プロピルプロピレングリコール、プロピルプロピレンジグリコール、ブチルプロピレングリコール、ブチルプロピレンジグリコール、フェニルプロピレングリコール、または、メチルプロピレングリコールアセテートが好ましい。
【0010】
前記ポリオール還元剤は、ポリオール(polyol)を包含する化合物を使用することができる。
【0011】
前記金属前駆体は、Mg、Al、K、Ca、Sc、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Rb、Sr、Y、Zr、Mo、Ru、Rh、Pd、Ag、Cd、In、Sn、Cs、Ba、La、Ce、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、W、Cd、Sn、Hf、Ir、Pt、または、Pbを使用することができる。
【0012】
金属前駆体は、これに制限されなく、前記ポリオール還元剤によって還元可能な金属であれば本願発明の金属前駆体として使用することができる。
【0013】
前記炭素ナノチューブ−金属ナノ複合粉末の金属粒子のサイズは1nm〜1000nmであることが好ましい。
【0014】
前記炭素ナノチューブ−金属ナノ複合粉末は、ネックレス構造で金属粒子が装飾された形態であることが好ましい。
【0015】
前記炭素ナノチューブ−金属ナノ複合粉末が分散される高分子樹脂の粘度は、200cps〜30000cpsであることが好ましい。
【0016】
前記分散は、超音波処理によって実施されることが好ましい。前記超音波処理は、20〜80℃で30分〜48時間の間、実施されることができる。
【0017】
また、前記分散は、前記高分子樹脂内で前記炭素ナノチューブ−金属ナノ複合粉末が0.001〜50質量%に分散されることが好ましい。
【0018】
一方、前記硬化は、1〜10気圧、20〜300℃の温度条件で30分〜48時間の間、実施されることが好ましい。
【発明の効果】
【0019】
本発明によると、ネックレス構造で金属粒子が装飾された炭素ナノチューブが高分子基地内で均一に分散されることができるので、電子波吸収及び遮蔽特性が向上される。
【図面の簡単な説明】
【0020】
【図1】本発明による炭素ナノチューブ−金属−高分子ナノ複合材料の製造方法を説明するためのフローチャートである。
【図2】本発明の実施形態によって製造された炭素ナノチューブ−Niナノ複合粉末を示す電子顕微鏡写真図である。
【図3】本発明の実施形態によって製造された炭素ナノチューブ−Ni−エポキシナノ複合材料を示す電子顕微鏡写真図である。
【発明を実施するための形態】
【0021】
以下、本発明の好ましい実施形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。ただ、下記の実施形態は本発明の内容を理解するために提示されたことであり、当業者であれば本発明の技術的思想内で多くの変更が可能である。したがって、本発明の権利範囲はこのような実施形態に限定されない。
【0022】
図1は、本発明による炭素ナノチューブ−金属−高分子ナノ複合材料の製造方法を説明するためのフローチャートである。図1に図示したように、本発明による炭素ナノチューブ−金属−高分子ナノ複合材料の製造方法は、大別してポリオール工程(S10)と分散工程(S11)に区分される。
【0023】
ポリオール工程(S10)においては、炭素ナノチューブが均一に分散されたコロイド溶液を先ず形成する(S11)。次いで、ポリオール還元剤と金属前駆体を投入した後、加熱して前記金属前駆体を金属に還元させる(S12)。その後、S11工程で得た前記コロイド溶液とS12工程で得た前記金属を混合する。その結果、1〜1000nmサイズの金属粒子がネックレス構造に装飾された炭素ナノチューブ−金属ナノ複合粉末(S13)が形成される。
【0024】
前記炭素ナノチューブとして、単一壁の炭素ナノチューブ、または、多重壁の炭素ナノチューブを使用することができる。
【0025】
前記ポリオール還元剤は、ポリオール(polyol)を包含する化合物を使用することができる。前記ポリオール工程(S10)は、金属粒子を生成させる、速度は遅いが、金属粒子の形態とサイズを制御することが容易なメリットがある。
前記炭素ナノチューブ−金属ナノ複合粉末のサイズは、前記金属前駆体とポリオール還元剤の反応温度及び反応時間の工程変数によって変化する。反応温度及び時間が増加するほど粉末のサイズも増大する。
【0026】
前記コロイド溶液の溶媒は、ポリオール溶媒を使用することができる。前記ポリオール溶媒は、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ヘキシレングリコール、1,2−ヘキサデカンジオール(1,2−hexadecanediol)、メチルグリコール、ブチルグリコール、ブチルトリグリコール、ブチルポリグリコール、ヘキシルグリコール、ヘキシルジグリコール、エチルへキシルグリコール、エチルへキシルジグリコール、アリールグリコール、フェニルグリコール、フェニルジグリコール、ベンジルグリコール、メチルプロピレングリコール、メチルプロピレンジグリコール、メチルプロピレントリグリコール、プロピルプロピレングリコール、プロピルプロピレンジグリコール、ブチルプロピレングリコール、ブチルプロピレンジグリコール、フェニルプロピレングリコール、または、メチルプロピレングリコールアセテートを使用することができる。
【0027】
前記金属前駆体は、Mg、Al、K、Ca、Sc、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Rb、Sr、Y、Zr、Mo、Ru、Rh、Pd、Ag、Cd、In、Sn、Cs、Ba、La、Ce、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、W、Cd、Sn、Hf、Ir、Pt、及びPbを使用することができる。
【0028】
分散工程(S20)においては、20〜80℃で30分〜48時間の間、超音波を利用して前記高分子樹脂内で前記炭素ナノチューブ−金属ナノ複合粉末が0.001〜50質量%に分散される(S21)。前記高分子樹脂を1〜10気圧、20〜300℃の温度条件で30分〜48時間の間放置すると、前記高分子樹脂は、硬化・成形されて(S22)、炭素ナノチューブ−金属−高分子ナノ複合材料を形成することになる(S23)。前記高分子樹脂は、熱硬化樹脂を使用することができる。前記熱硬化樹脂はフェノール樹脂、エポキシ樹脂、またはポリイミド樹脂であることができる。
【0029】
また、前記高分子樹脂は、前記熱可塑性樹脂を使用することができる。前記熱可塑性樹脂は、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリ−4−メチルペンテン−1樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、アクリロニトリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、AS樹脂、ABS樹脂、エラストマー(elastomer)樹脂、フッ素樹脂、4フッ化エチレン樹脂、3フッ化エチレン樹脂、ポリフッ化ビニリデン樹脂、ポリフッ化ビニル樹脂、ニトロセルロース樹脂、セルロースアセテート樹脂、エチルセルロース樹脂、及びプロピレンセルロース樹脂であることができる。また、前記熱可塑性樹脂は、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンブチラート樹脂、ポリブチレンブチレート樹脂、イオノマー樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、芳香族ポリエステル樹脂、エコノール樹脂、及びポリアリレート樹脂で構成された群から選択されたいずれか1つとして、主軸に酸素原子(O)、窒素原子(N)、または硫黄原子(S)が置換されたベンゼンを包含する樹脂を使用することができる。
【0030】
一方、前記炭素ナノチューブ−金属ナノ複合粉末の分散時に、分散温度を工程変数として指定することができる。その結果、前記高分子樹脂の粘度を調節してその分散程度を調節することができる。前記高分子樹脂の粘度は、200cps〜30000cpsであることが好ましい。
【実施例】
【0031】
以下、具体的な製造方法を実施例によって詳細に説明する。先ず、炭素ナノチューブのコロイド溶液にNi金属とポリオール還元剤を添加する。その後、Ni金属とポリオール還元剤を190℃〜300℃で30分〜2時間の間反応させてNi金属がネックレス構造に装飾された炭素ナノチューブ−Niナノ複合粉末を製造した。このとき、炭素ナノチューブ−Niナノ複合粉末において、炭素ナノチューブの体積分率が50%になるように、Ni金属と炭素ナノチューブの量を調節して添加した。
【0032】
このように製造された炭素ナノチューブ−Niナノ複合粉末をエポキシ樹脂に30〜80℃で超音波を利用して分散させた。以後、80〜120℃で硬化剤と一緒にエポキシ樹脂を成形させることによって、炭素ナノチューブ−Ni−エポキシナノ複合材料を製造した。図2は、前記で製造された炭素ナノチューブ−Niナノ複合粉末の電子顕微鏡写真図である。また、図3は、前記で製造された炭素ナノチューブ−Ni−エポキシナノ複合材料の電子顕微鏡写真である。
従来の技術は高分子基地内で炭素ナノチューブが凝集される問題を解決することができなかった。本発明は、前記問題を解決し、電子波吸収及び遮蔽特性を向上させるための工程を提示する。本発明によると、高分子基地内で炭素ナノチューブの凝集問題は発生されない。また、本発明によると、金属粒子と炭素ナノチューブが有機的な微細構造を形成するので、本発明のナノ複合材料は向上された電気伝導度を有し、GHz領域で電子波遮蔽及び吸収特性が向上されたメリットを有することになる。
【0033】
また、本発明のナノ複合材料が強磁性体金属を利用して製造された場合には、電子波吸収体として適用することができる。また、本発明のナノ複合材料が伝導性金属を利用して製造された場合には、電子波遮蔽剤として適用することができ、全部GHz帯域で適用することができる。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
炭素ナノチューブのコロイド溶液にポリオール還元剤及び金属前駆体を投入した後、加熱して炭素ナノチューブ−金属ナノ複合粉末を製造する段階と、
前記炭素ナノチューブ−金属ナノ複合粉末を高分子樹脂内で分散させる段階、及び前記高分子樹脂を硬化させて炭素ナノチューブ−金属−高分子ナノ複合材料を形成する段階、
とを包含することを特徴とする炭素ナノチューブ−金属−高分子ナノ複合材料の製造方法。
【請求項2】
前記コロイド溶液の溶媒は、非極性溶媒またはポリオール溶媒であることを特徴とする請求項1に記載の炭素ナノチューブ−金属−高分子ナノ複合材料の製造方法。
【請求項3】
前記非極性溶液は、イソオクタン(iso−octane)、トリエチルアミン(triethylamine)、エチレンクロリド(Ethylene chloride)、メチレンクロリド(Methylene chloride)、4塩化炭素(carbon tetrachloride)、トルエン(Toluene)、ベンジルエーテル(benzyl ether)、イソプロピルエーテル(isopropyl ether)、ブチルエーテル(Butyl ether)、ジエチルエーテル(Diethyl ether)、オクチルエーテル(octylether)、ジフェニルエーテル(Diphenylether)、ヘキサン(Hexane)、クロロホルム(Chloroform)、ジメチルホルムアルデヒド(Dimethylformaldehyde)、テトラヒドロフラン(Tetrahydrofuran)、ベンゼン(Benzene)、1,2−ジクロロベンゼン(1,2−Dichlorobenzene)、メチルアセテート(Methyl acetate)、エチルアセテート(ethyl acetate)、ブチルアルコール(Butyl alchol)、ブタノール(Butanol)、及びキシレン(xylene)で構成された群から選択されるいずれか1つであることを特徴とする請求項2に記載の炭素ナノチューブ−金属−高分子ナノ複合材料の製造方法。
【請求項4】
前記ポリオール溶媒は、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ヘキシレングリコール、1,2−ヘキサデカンジオール(1,2−hexadecanediol)、メチルグリコール、ブチルグリコール、ブチルトリグリコール、ブチルポリグリコール、ヘキシルグリコール、ヘキシルジグリコール、エチルへキシルグリコール、エチルへキシルジグリコール、アリールグリコール、フェニルグリコール、フェニルジグリコール、ベンジルグリコール、メチルプロピレングリコール、メチルプロピレンジグリコール、メチルプロピレントリグリコール、プロピルプロピレングリコール、プロピルプロピレンジグリコール、ブチルプロピレングリコール、ブチルプロピレンジグリコール、フェニルプロピレングリコール、及びメチルプロピレングリコールアセテートで構成された群から選択されるいずれか1つであることを特徴とする請求項2に記載の金属−高分子ナノ複合材料の製造方法。
【請求項5】
前記ポリオール還元剤は、ポリオール(polyol)を包含する化合物であることを特徴とする請求項1に記載の炭素ナノチューブ−金属−高分子ナノ複合材料の製造方法。
【請求項6】
前記金属前駆体は、Mg、Al、K、Ca、Sc、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Rb、Sr、Y、Zr、Mo、Ru、Rh、Pd、Ag、Cd、In、Sn、Cs、Ba、La、Ce、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、W、Cd、Sn、Hf、Ir、Pt、及びPbで構成された群から選択されたいずれか1つであることを特徴とする請求項1に記載の炭素ナノチューブ−金属−高分子ナノ複合材料の製造方法。
【請求項7】
前記炭素ナノチューブは、単一壁の炭素ナノチューブ、または、多重壁の炭素ナノチューブであることを特徴とする請求項1に記載の炭素ナノチューブ−金属−高分子ナノ複合材料の製造方法。
【請求項8】
前記炭素ナノチューブ−金属ナノ複合粉末の金属粒子のサイズが1nm〜1000nmであることを特徴とする請求項1に記載の炭素ナノチューブ−金属−高分子ナノ複合材料の製造方法。
【請求項9】
前記炭素ナノチューブ−金属ナノ複合粉末は、金属粒子がネックレス構造で装飾された形態であることを特徴とする請求項1に記載の炭素ナノチューブ−金属−高分子ナノ複合材料の製造方法。
【請求項10】
前記炭素ナノチューブ−金属ナノ複合粉末が分散される高分子樹脂の粘度は、200cps〜30000cpsであることを特徴とする請求項1に記載の炭素ナノチューブ−金属−高分子ナノ複合材料の製造方法。
【請求項11】
前記分散は、超音波処理によって実施されることを特徴とする請求項1に記載の炭素ナノチューブ−金属−高分子ナノ複合材料の製造方法。
【請求項12】
前記超音波処理は、20〜80℃で30分〜48時間の間、実施されることを特徴とする請求項11に記載の炭素ナノチューブ−金属−高分子ナノ複合材料の製造方法。
【請求項13】
前記硬化は、1〜10気圧、20〜300℃の温度条件で30分〜48時間の間、実施されることを特徴とする請求項1に記載の炭素ナノチューブ−金属−高分子ナノ複合材料の製造方法。
【請求項14】
前記分散は、前記高分子樹脂内で前記炭素ナノチューブ−金属ナノ複合粉末が0.001〜50質量%に分散されることを特徴とする請求項1に記載の炭素ナノチューブ−金属−高分子ナノ複合材料の製造方法。
【請求項15】
前記高分子樹脂は、熱硬化樹脂であることを特徴とする請求項1に記載の炭素ナノチューブ−金属−高分子ナノ複合材料の製造方法。
【請求項16】
前記熱硬化樹脂は、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、及びポリイミド樹脂で構成された群から選択されたいずれか1つであることを特徴とする請求項15に記載の炭素ナノチューブ−金属−高分子ナノ複合材料の製造方法。
【請求項17】
前記高分子樹脂は、熱可塑性樹脂であることを特徴とする請求項1に記載の炭素ナノチューブ−金属−高分子ナノ複合材料の製造方法。
【請求項18】
前記熱可塑性樹脂は、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリ−4−メチルペンテン−1樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、アクリロニトリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、AS樹脂、ABS樹脂、エラストマー(elastomer)樹脂、フッ素樹脂、4フッ化エチレン樹脂、3フッ化エチレン樹脂、ポリフッ化ビニリデン樹脂、ポリフッ化ビニル樹脂、ニトロセルロース樹脂、セルロースアセテート樹脂、エチルセルロース樹脂、及びプロピレンセルロース樹脂で構成された群から選択されたいずれか1つであることを特徴とする請求項17に記載の炭素ナノチューブ−金属−高分子ナノ複合材料の製造方法。
【請求項19】
前記熱可塑性樹脂は、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンブチラート樹脂、ポリブチレンブチレート樹脂、イオノマー樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、芳香族ポリエステル樹脂、エコノール樹脂、及びポリアリレート樹脂で構成された群から選択されたいずれか1つとして、主軸に酸素原子(O)、窒素原子(N)、または硫黄原子(S)が置換されたベンゼンを包含することを特徴とする請求項17に記載の炭素ナノチューブ−金属−高分子ナノ複合材料の製造方法。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【公開番号】特開2010−31227(P2010−31227A)
【公開日】平成22年2月12日(2010.2.12)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2009−32369(P2009−32369)
【出願日】平成21年2月16日(2009.2.16)
【出願人】(592127149)韓国科学技術院 (129)
【氏名又は名称原語表記】KOREA ADVANCED INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
【住所又は居所原語表記】373−1,Gusung−dong,Yuseong−ku,Daejeon 305−701 KR
【Fターム(参考)】