説明

熱可塑性ポリマー組成物

【課題】成形加工時の条件によっては、熱や酸素等の作用により熱可塑性ポリマー組成物の加工安定性の向上。
【解決手段】熱可塑性ポリマー、式(1)


(式中、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表し、Xは、ヘテロ原子及び/又は環状基を含んでいてもよい炭素数1〜24のn価のアルコール残基を表し、mは1〜4の整数を表す。ここでアルコール残基とは、アルコールのOHからHを除いた基を表す。)で表される化合物、及び、式(2)C2n+2(2)(式中、nは4〜12の整数を表す。)
で表される化合物を含有する熱可塑性ポリマー組成物。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、熱可塑性ポリマー組成物等に関する。
【背景技術】
【0002】
熱可塑性ポリマーは透明性に優れ、耐衝撃性も良好であることから、食品包装容器、日用雑貨品に広く使用されている。熱可塑性ポリマー組成物として、熱可塑性ポリマーと式(1)

(式中、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表し、Xは、ヘテロ原子及び/又は環状基を含んでいてもよい炭素数1〜24のn価のアルコール残基を表し、mは1〜4の整数を表す。ここでアルコール残基とは、アルコールのOHからHを除いた基を表す。)
で表される化合物とを含有する熱可塑性ポリマー組成物(特許文献1〜3)が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開昭59−25826号公報
【特許文献2】米国特許3644482号明細書
【特許文献3】米国特許3330859号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
成形加工時の条件によっては、熱や酸素等の作用により該熱可塑性ポリマー組成物の加工安定性が悪化する場合があった。
【課題を解決するための手段】
【0005】
かかる課題を解決するために、本発明者らは鋭意検討した結果、加工安定性が一層向上した熱可塑性ポリマー組成物を見出し、以下の[1]〜[6]記載の発明に至った。
[1] 熱可塑性ポリマー、式(1)

(式中、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表し、Xは、ヘテロ原子及び/又は環状基を含んでいてもよい炭素数1〜24のn価のアルコール残基を表し、mは1〜4の整数を表す。ここでアルコール残基とは、アルコールのOHからHを除いた基を表す。)
で表される化合物、及び、式(2)
2n+2 (2)
(式中、nは4〜12の整数を表す。)
で表される化合物を含有する熱可塑性ポリマー組成物であり、式(1)で表される化合物と式(2)で表される化合物との合計重量が、熱可塑性ポリマー100重量部に対して0.001〜3重量部である熱可塑性ポリマー組成物。
【0006】
[2] 式(1)

(式中、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表し、Xは、ヘテロ原子及び/又は環状基を含んでいてもよい炭素数1〜24のn価のアルコール残基を表し、mは1〜4の整数を表す。ここでアルコール残基とは、アルコールのOHからHを除いた基を表す。)
で表される化合物と、式(2)
2n+2 (2)
(式中、nは4〜12の整数を表す。)
で表される化合物とを含有することを特徴とする安定剤組成物。
[3] 式(1)で表される化合物が、n−オクタデシル−β−(4’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−t−ブチルフェニル)プロピオネート、3,9−ビス[2−{3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ}−1,1−ジメチルエチル]−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5・5]ウンデカン又はペンタエリスリトールテトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]であることを特徴とする[2]記載の安定剤組成物。
[4] 式(2)で表される化合物がアリトール、イジトール、ガラクチトール、ソルビトール、タリトール又はマンニトールである[2]又は[3]記載の安定剤組成物。
【0007】
[5] 熱可塑性ポリマーに[2]〜[4]のいずれか一項記載の安定剤組成物を混合する工程を含むことを特徴とする熱可塑性ポリマー組成物の製造方法。
【0008】
[6] 熱可塑性ポリマーを加工安定化させるための[2]〜[4]のいずれか一項記載の安定剤組成物の使用。
【発明の効果】
【0009】
本発明の熱可塑性ポリマー組成物は、加工安定性に優れる。
【発明を実施するための形態】
【0010】
以下、本発明について詳細に説明する。
【0011】
本発明の熱可塑性ポリマー組成物は、熱可塑性ポリマー、前記式(1)で表される化合物(以下、化合物(1)と記すことがある)、及び、前記式(2)で表される化合物(以下、化合物(2)と記すことがある)を含有する。
【0012】
化合物(1)において、炭素数1〜6のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基などの炭素数1〜6の直鎖状アルキル基、i−プロピル基、i−ブチル基、t−ブチル基、i‐ペンチル基、t−ペンチル基、t−ヘキシル基などの炭素数3〜6の分枝状アルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などの炭素数3〜6のシクロアルキル基が挙げられる。
【0013】
炭素数1〜24の1価のアルコール残基としては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、i−プロパノール、n−ブタノール、t−ブタノール、n−ヘキサノール、n−オクタノール、n−デカノール、n−ドデカノール、n−テトラデカノール、n−ヘキサデカノール、n−オクタデカノールの残基が挙げられる。
【0014】
炭素数1〜24の2価のアルコールの残基としては、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,8−オクタンジオール、1,10−デカンジオール、1,12−ドデカンジオール、1,14−テトラデカンジオール、1,16−ヘキサデカンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、3,9−ビス(1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5・5]ウンデカンの残基が挙げられる。
【0015】
炭素数1〜24の3価のアルコールの残基としては、グリセロールの残基が挙げられる。
【0016】
炭素数1〜24の4価のアルコールの残基としては、エリスリトール、ペンタエリスリトールの残基が挙げられる。
【0017】
化合物(1)としては、例えば、β−(5−t−ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロピオン酸とメタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、エチレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、チオエチレングリコール、スピログリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,N’−ビス(ヒドロキシエチル)オキサミド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシクロ[2,2,2]オクタンおよびそれらの混合物などの一価または多価アルコールとのエステル、
【0018】
β−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸とメタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、エチレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、チオエチレングリコール、スピログリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,N’−ビス(ヒドロキシエチル)オキサミド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシクロ[2,2,2]オクタンおよびそれらの混合物などの一価または多価アルコールとのエステル、
【0019】
β−(3,5−ジシクロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸とメタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、エチレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、チオエチレングリコール、スピログリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,N’−ビス(ヒドロキシエチル)オキサミド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシクロ[2,2,2]オクタンおよびそれらの混合物などの一価または多価アルコールとのエステルが挙げられる。
【0020】
化合物(1)としては、n−オクタデシル−β−(4’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−t−ブチルフェニル)プロピオネート(BASF社製、イルガノックス(登録商標)1076、以下、化合物(1−1)と記すことがある)、3,9−ビス[2−{3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ}−1,1−ジメチルエチル]−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5・5]ウンデカン(住友化学製、スミライザー(登録商標)GA−80、以下、化合物(1−2)と記すことがある)又はペンタエリスリトールテトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート](BASF社製、イルガノックス(登録商標)1010、以下、化合物(1−3)と記すことがある)が好ましい。
【0021】
化合物(2)において、nは、4〜12の整数であり、好ましくは5〜8であり、より好ましくは6である。
【0022】
化合物(2)としては、例えば、エリトリトール、トレイトール、アラビニトール、キシリトール、アドニトール、アリトール、イジトール、ガラクチトール、ソルビトール、タリトール、マンニトール、ボレミトール、ペルセイトール、オクチトール等の炭素数4〜12の糖アルコールを挙げることができる。
【0023】
化合物(2)としては、D体、L体などの光学活性体であっても、DL体などの光学的に不活性なものであってもよい。
化合物(2)としては、Fisher投影式で下記のように表されるアリトール、イジトール、ガラクチトール、ソルビトール、タリトール又はマンニトール等のnが6の糖アルコールが好ましく、ソルビトール又はマンニトールがより好ましい。
【0024】

【0025】
化合物(II)は、市販品をそのまま使用すればよい。また、化合物(II)は、無水物であってもよいし、水和物であってもよい。
【0026】
熱可塑性ポリマーとしては、ポリエチレン系樹脂(高密度ポリエチレン(HD−PE)、低密度ポリエチレン(LD−PE)、直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE)、エチレン−ビニルアルコール共重合体(EVOH)、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)など)、ポリプロピレン系樹脂(結晶性プロピレン単独重合体、プロピレン−エチレンランダム共重合体、プロピレン−α−オレフィンランダム共重合体、プロピレン−エチレン−α−オレフィン共重合体、プロピレン単独重合体成分または主にプロピレンからなる共重合体成分と、プロピレンとエチレンおよび/またはα−オレフィンの共重合体成分からなるポリプロピレン系ブロック共重合体など)、メチルペンテンポリマー、ポリスチレン系樹脂(ポリ(p−メチルスチレン)、ポリ(α−メチルスチレン)などのポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体(ABS)、特殊アクリルゴム−アクリロニトリル−スチレン共重合体、アクリロニトリル−塩素化ポリエチレン−スチレン共重合体など)、ポリブタジエン系樹脂(ポリブタジエンゴム(BR)、スチレンブタジエン共重合体(SBR)、スチレン−ブタジエンブロック共重合体(SBS)、BRもしくはSBRもしくはSBSで改質した耐衝撃性ポリスチレン(HI−PS)など)、塩素化ポリエチレン、ポリクロロプレン、塩素化ゴム、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、メタクリル樹脂、フッ素樹脂、ポリアセタール、グラフト化ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエステル樹脂(たとえばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートなど)、ポリ乳酸樹脂(PLA)、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、芳香族ポリエステル樹脂、ジアリルフタレートプリポリマー、シリコーン樹脂、1,2−ポリブタジエン、ポリイソプレン、ブタジエン/アクリロニトリル共重合体、エチレン−メチルメタクリレート共重合体などが挙げられ、成形加工性の良さから、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリスチレン系樹脂及びポリブタジエン系樹脂が好ましく、ポリエチレン系樹脂及びポリブタジエン系樹脂がより好ましい。
【0027】
本発明の熱可塑性ポリマー組成物中の化合物(1)と化合物(2)との合計重量は、熱可塑性ポリマー100重量部に対して、好ましくは0.001〜3重量部、より好ましくは0.02〜2重量部、さらに好ましくは0.02〜1重量部であり、さらにより好ましくは0.05〜0.8重量部であり、特に好ましくは0.08〜0.7重量部であり、化合物(1)と化合物(2)との重量比は、好ましくは化合物(1):化合物(2)=99.9:0.1〜5:95、より好ましくは98:2〜10:90である。
【0028】
本発明の熱可塑性ポリマー組成物は、本発明の効果を阻害しない範囲で、添加剤(化合物(1)及び化合物(2)を除く)を含んでいてもよい。かかる添加剤としては、例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、金属不活性化剤、造核剤、滑剤、帯電防止剤、難燃剤、充填剤、顔料、無機充填剤などを挙げることができる。
【0029】
ここで、フェノール系酸化防止剤としては、例えば2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、2,4,6−トリ−t−ブチルフェノール、2,6−ジ−t−ブチルフェノール、2−t−ブチル−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−4−エチルフェノール、2,6−ジ−t− ブチル−4−n−ブチルフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−4−イソブチルフェノール、2,6−ジシクロペンチル−4−メチルフェノール、2−(α−メチルシクロヘキシル)−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジオクダデシル−4−メチルフェノール、2,4,6−トリシクロヘキシルフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−4−メトキシメチルフェノール、2,6−ジ−ノニル−4−メチルフェノール、2,4−ジメチル−6−(1’−メチルウンデシル−1’−イル)フェノール、2,4−ジメチル−6−(1’−メチルヘプタデシル−1’−イル)フェノール、2,4−ジメチル−6−(1’−メチルトリデシル−1’−イル)フェノールおよびそれらの混合物などのアルキル化モノフェノール、
【0030】
2,4−ジオクチルチオメチル−6−t−ブチルフェノール、2,4−ジオクチルチオメチル−6−メチルフェノール、2,4−ジオクチルチオメチル−6−エチルフェノール、2,6−ジドデシルチオメチル−4−ノニルフェノールおよびそれらの混合物などのアルキルチオメチルフェノール、
【0031】
2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス[4−メチル−6−(α−メチルシクロヘキシル)フェノール]]、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−シクロヘキシルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−ノニルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェノール)、2,2’−エチリデンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェノール)、2,2’−エチリデンビス(4−イソブチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス[6−(α−メチルベンジル)−4−ノニルフェノール]、2,2’−メチレンビス[6−(α,α−ジメチルベンジル)−4−ノニルフェノール]、4,4’−メチレンビス(6−t−ブチル−2−メチルフェノール)、4,4’−メチレンビス(2,6−ジ−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(5−t−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、2,6−ビス(3−t−ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシベンジル)−4−メチルフェノール、1,1,3−トリス(5−t−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、1,1−ビス(5−t−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−3−n−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコール ビス[3,3−ビス−3’−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル]ブチレート]、ビス(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ジシクロペンタジエン、ビス[2−(3’−t−ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−メチルベンジル)−6−t−ブチル−4−メチルフェニル]テレフタレート、1,1−ビス(3,5−ジメチル−2−ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(5−t−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−4−n−ドデシルメルカプトブタン、1,1,5,5−テトラ(5−t−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ペンタンおよびそれらの混合物などアルキリデンビスフェノールおよびその誘導体、
【0032】
4−ヒドロキシラウリル酸アニリド、4−ヒドロキシステアリン酸アニリド、オクチル−N−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)カルバネートおよびそれらの混合物などアシルアミノフェノール誘導体、
【0033】
2,2’−チオビス(6−t−ブチルフェノール)、2,2’−チオビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−チオビス(4−オクチルフェノール)、、4,4’− チオビス(2−メチル−6−t− ブチルフェノール)、4,4’−(2,6−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)ジスルフィドなどヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、
【0034】
3,5,3’,5’−テトラ−t−ブチル−4,4’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)アミン、ビス(4−t−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)ジチオテレフタレート、ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)スルフィド、イソオクチル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテートおよびそれらの混合物などO−ベンジル誘導体、N−ベンジル誘導体、S−ベンジル誘導体などのベンジル誘導体
【0035】
2,4−ビス(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルアニリノ)−1,3,5−トリアジン、2−n−オクチルチオ−4,6−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルアニリノ)−1,3,5−トリアジン、2−n−オクチルチオ−4,6−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェノキシ)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−フェノキシ)−1,3,5−トリアジン、トリス(4−t−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)イソシアヌレート、トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルエチル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピル)−1,3,5−トリアジン、トリス(3,5−ジシクロヘキシル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、トリス[2−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシシンナモイルオキシ)エチル]イソシアヌレートおよびそれらの混合物などのトリアジン誘導体、
【0036】
ジオクタデシル−2,2−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−2−ヒドロキシベンジル)マロネート、ジオクタデシル−2−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)マロネート、ジドデシルメルカプトエチル−2,2−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)マロネート、ビス[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェニル]−2,2−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)マロネートおよびそれらの混合物などのヒドロキシベンジル化マロネート誘導体などヒドロキシベンジル化マロネート誘導体、
【0037】
1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、1,4−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2,3,5,6−テトラメチルベンゼン、2,4,6−トリス(3,5−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)フェノールおよびそれらの混合物など芳香族ヒドロキシベンジル誘導体、
【0038】
ジメチル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−5−t−ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチルベンジルホスホネート、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホン酸モノエステルのカルシウム塩およびそれらの混合物などベンジルホスホネート誘導体、
【0039】
3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル酢酸とメタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、エチレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、チオエチレングリコール、スピログリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,N’−ビス(ヒドロキシエチル)オキサミド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシクロ[2,2,2]オクタンおよびそれらの混合物などの一価または多価アルコールとのエステル、
【0040】
N,N’−ビス[3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオニル]ヒドラジン、N,N’−ビス[3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオニル]ヘキサメチレンジアミン、N,N’−ビス[3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオニル]トリメチレンジアミンおよびそれらの混合物などのβ−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸のアミドなど、
【0041】
α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロール及びそれらの混合物などのトコフェロールなどが挙げられる。
【0042】
ヒドロキノン及びアルキル化ヒドロキノンの酸化防止剤としては、例えば、2,6−ジ−t−ブチル−4−メトキシフェノール、2,5−ジ−t−ブチルヒドロキノン、2,5−ジ−t−アミルヒドロキノン、2,6−ジフェニル−4−オクタデシルオキシフェノール、2,6−ジ−t−ブチルヒドロキノン、2,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシアニソール、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル ステアレート、ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル) アジペートおよびそれらの混合物などが挙げられる。
【0043】
イオウ系酸化防止剤としては、例えばジラウリル 3,3’−チオジプロピオネート、トリデシル 3,3’−チオジプロピオネート、ジミリスチル 3,3’−チオジプロピオネート、ジステアリル 3,3’−チオジプロピオネート、ラウリル ステアリル 3,3’−チオジプロピオネート、ネオペンタンテトライルテトラキス(3−ラウリルチオプロピオネート)などが挙げられる。
【0044】
リン系酸化防止剤としては、例えばトリフェニルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、トリラウリルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジステアリル ペンタエリスリトール ジホスファイト、ジイソデシル ペンタエリスリトール ジホスファイト、ビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエリスリトール ジホスファイト、ビス(2,4−ジ−t−ブチル−6−メチルフェニル)ペンタエリスリトール ジホスファイト、ビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトール ジホスファイト、ビス(2,4,6−トリ−t−ブチルフェニル)ペンタエリスリトール ジホスファイト、トリステアリルソルビトールトリホスファイト、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4,4’−ジフェニレンジホスホナイト、2,2’−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)2−エチルヘキシル ホスファイト、2,2’−エチリデンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル) フルオロ ホスファイト、ビス(2,4−ジ−t−ブチル−6−メチルフェニル) エチルホスファイト、ビス(2,4−ジ−t−ブチル−6−メチルフェニル) メチルホスファイト、2−(2,4,6−トリ−t−ブチルフェニル)−5−エチル−5−ブチル−1,3,2−オキサホスホリナン、2,2’,2”−ニトリロ[トリエチル−トリス(3,3’,5,5’−テトラ−t−ブチル−1,1’−ビフェニル−2,2’−ジイル) ホスファイトおよびそれらの混合物などが挙げられる。
【0045】
紫外線吸収剤としては、例えばフェニル サリシレート、4−t−ブチルフェニル サリシレート、2,4−ジ−t−ブチルフェニル 3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシベンゾエート、4−t−オクチルフェニル サリシレート、ビス(4−t−ブチルベンゾイル)レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、ヘシサデシル 3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル 3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシベンゾエート、2−メチル−4,6−ジ−t−ブチルフェニル 3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシベンゾエートおよびそれらの混合物などのサリシレート誘導体、
【0046】
2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、ビス(5−ベンゾイル−4−ヒドロキシ−2−メトキシフェニル)メタン、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノンおよびそれらの混合物などの2−ヒドロキシベンゾフェノン誘導体、
【0047】
2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ−t−ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(5’−t−ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−t−オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3’−s−ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−4’−オクチルオキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ−t−アミル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−[2’−ヒドロキシ−3’,5’−ビス(α,α−ジメチルベンジル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[(3’−t−ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)−5’−(2−オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル]−5−クロロベンゾトリアゾール、2−[3’−t−ブチル−5’−[2−(2−エチルヘキシルオキシ)カルボニルエチル]−2’−ヒドロキシフェニル]−5−クロロベンゾトリアゾール、2−[3’−t−ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル]−5−クロロベンゾトリアゾール、2−[3’−t−ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル]ベンゾトリアゾール、2−[3’−t−ブチル−2’−ヒドロキシ−5−(2−オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル]ベンゾトリアゾール、2−[3’−t−ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−[2−(2−エチルヘキシルオキシ)カルボニルエチル]フェニル]ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−3−(3,4,5,6−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5−メチルフェニル]ベンゾトリアゾール、2−(3,5−ジ−t−ブチル−2−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3’−ドデシル−2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾールおよび2−[3’−t−ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−イソオクチルオキシカルボニルエチル)フェニル]ベンゾトリアゾールの混合物、2,2’−メチレンビス[6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール、2,2’−メチレンビス[4−t−ブチル−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール]、ポリ(3〜11)(エチレングリコール)と2−[3’−t−ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル]ベンゾトリアゾールとの縮合物、ポリ(3〜11)(エチレングリコール)とメチル 3−[3−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル]プロピオネートとの縮合物、2−エチルヘキシル 3−[3−t−ブチル−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−ヒドロキシフェニル]プロピオネート、オクチル 3−[3−t−ブチル−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−ヒドロキシフェニル]プロピオネート、メチル 3−[3−t−ブチル−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−ヒドロキシフェニル]プロピオネート、3−[3−t−ブチル−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−ヒドロキシフェニル]プロピオン酸およびそれらの混合物などの2−(2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。
【0048】
光安定剤としては、例えばビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル) セバケート、ビス((2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル) スクシネート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル) セバケート、ビス(N−オクトキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル) セバケート、ビス(N−ベンジルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(N−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)2−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2−ブチルマロネート、ビス(1−アクロイル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル) 2,2−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2−ブチルマロネート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジルデカンジオエート、2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル メタクリレート、4−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ]−1−[2−(3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ)エチル]−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、2−メチル−2−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)アミノ−N−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)プロピオンアミド、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジノールおよび1−トリデカノールとの混合エステル化物、
【0049】
1,2,3,4−ブタンテトラボン酸と2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジノールおよび1−トリデカノールとの混合エステル化物、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジノールおよび3、9−ビス(2−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5・5]ウンデカンとの混合エステル化物、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジノールおよび3,9−ビス(2−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5・5]ウンデカンとの混合エステル化物、ジメチルサクシネートと1−(2−ヒドロキシエチル)−4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンとの重縮合物、ポリ[(6−モルホリノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル)((2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ)ヘキサメチレン((2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ)]、ポリ[(6−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)イミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル((2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ)ヘキサメチレン((2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ))、N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと1,2−ジブロモエタンとの重縮合物、N,N’,4,7−テトラキス[4,6−ビス(N−ブチル−N−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)アミノ)−1,3,5−トリアジン−2−イル]−4,7−ジアザデカン−1,10ジアミン、N,N’,4−トリス[4,6−ビス(N−ブチル−N−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)アミノ)−1,3,5−トリアジン−2−イル]−4,7−ジアザデカン−1,10−ジアミン、N,N’,4,7−テトラキス[4,6−ビス(N−ブチル−N−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)アミノ)−1,3,5−トリアジン−2−イル]−4,7−ジアザデカン−1,10−ジアミン、N,N’,4−トリス[4,6−ビス(N−ブチル−N−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)アミノ)−1,3,5−トリアジン−2−イル]−4,7−ジアザデカン−1,10−ジアミンおよびそれらの混合物などのヒンダードアミン系光安定剤、
【0050】
エチル α−シアノ−β,β−ジフェニルアクリレート、イソオクチル α−シアノ−β,β−ジフェニルアクリレート、メチル α−カルボメトキシシンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル−p−メトキシシンナメート、ブチルα−シアノ−β−メチル−p−メトキシシンナメート、メチル α−カルボメトキシ−p−メトキシシンナメートおよびN−(β−カルボメトキシ−β−シアノビニル)−2−メチルインドリンおよびそれらの混合物などのアクリレート系光安定剤、
【0051】
2,2’−チオビス−[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール]のニッケル錯体、ニッケルジブチルジチオカルバメート、モノアルキルエステルのニッケル塩、ケトキシムのニッケル錯体およびそれらの混合物などのニッケル系光安定剤、
【0052】
4,4’−ジオクチルオキシオキサニリド、2,2’−ジエトキシオキサニリド、2,2’−ジオクチルオキシ−5,5’−ジ−t−ブチルアニリド、2,2’−ジドデシルオキシ−5,5’−ジ−t−ブチルアニリド、2−エトキシ−2’−エチルオキサニリド、N,N’−ビス(3−ジメチルアミノプロピル)オキサミド、2−エトキシ−5−t−ブチル−2’−エトキシアニリド、2−エトキシ−5,4’−ジ−t−ブチル−2’−エチルオキサニリドおよびそれらの混合物などのオキサミド系光安定剤、
【0053】
2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−[2,4−ジヒドロキシフェニル−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロピルオキシフェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス(4−メチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−ブチルオキシプロポキシ)フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−オクチルオキシプロポキシ)フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジンおよびそれらの混合物などの2−(2−ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン系光安定剤などが挙げられる。
【0054】
安定剤としては上記の他に、例えばN,N−ジベンジルヒドロキシアミン、N,N−ジエチルヒドロキシアミン、N,N−ジオクチルヒドロキシアミン、N,N−ジラウリルヒドロキシアミン、N,N−ジテトラデシルヒドロキシアミン、N,N−ジヘキサデシルヒドロキシアミン、N,N−ジオクタデシルヒドロキシアミン、N−ヘキサデシル−N−オクタデシルヒドロキシアミン、N−ヘプタデシル−N−オクタデシルヒドロキシアミンおよびそれらの混合物などのヒドロキシルアミンなども挙げられる。
【0055】
滑剤としては、例えばパラフィン、ワックス等の脂肪族炭化水素、炭素数8〜22の高級脂肪族酸、炭素数8〜22の高級脂肪族酸の金属(Al、Ca、Mg、Zn)塩、炭素数8〜22の脂肪族アルコール、ポリグリコール、炭素数4〜22の高級脂肪酸と炭素数4〜18の脂肪族1価アルコールとのエステル、炭素数8〜22の高級脂肪族アマイド、シリコーン油、ロジン誘導体などが挙げられる。
【0056】
これらの添加剤のうち好ましく用いられるものは、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤である。
【0057】
より好ましいフェノール系酸化防止剤としては、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、2,4,6−トリ−t−ブチルフェノール、2,4−ジオクチルチオメチル−6−メチルフェノール、2,2’−チオビス(6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス[4−メチル−6−(α−メチルシクロヘキシル)フェノール]]、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−シクロヘキシルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェノール)、2,2’−エチリデンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェノール)、4,4’−メチレンビス(6−t−ブチル−2−メチルフェノール)、4,4’−メチレンビス(2,6−ジ−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(5−t−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、1,1,3−トリス(5−t−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、エチレングリコール ビス[3,3−ビス−3’−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル]ブチレート]、
【0058】
2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−フェノキシ)−1,3,5−トリアジン、トリス(4−t−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)イソシアヌレート、ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、トリス[2−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシシンナモイルオキシ)エチル]イソシアヌレート、ジエチル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジ−n−オクタデシル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホン酸モノエステルのカルシウム塩、n−オクタデシル 3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネ−ト、ネオペンタンテトライルテトラキス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシシンナメート)、チオジエチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシシンナメート)、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、3,6−ジオキサオクタメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシシンナメート)、ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシシンナメート)、トリエチレングリコール ビス(5−t−チル−4−ヒドロキシ−3−メチルシンナメート)、3,9−ビス[2−(3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ)−1,1−ジメチルエチル]−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5・5]ウンデカン、N,N’−ビス[3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオニル]ヒドラジン、N,N’−ビス[3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオニル]ヘキサメチレンジアミンなどが挙げられ、これらはそれぞれ単独または2種以上を使用し得る。
【0059】
より好ましいリン系酸化防止剤としては、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトール ジホスファイト、ビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエリスリトール ジホスファイト、ビス(2,4−ジ−t−ブチル−6−メチルフェニル)ペンタエリスリトール ジホスファイト、ビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトール ジホスファイト、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4,4’−ジフェニレンジホスホナイト、2,2’−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)2−エチルヘキシルホスファイト、2,2’−エチリデンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル) フルオロ ホスファイト、ビス(2,4−ジ−t−ブチル−6−メチルフェニル) エチルホスファイト、2−(2,4,6−トリ−t−ブチルフェニル)−5−エチル−5−ブチル−1,3,2−オキサホスホリナン、2,2’,2’’−ニトリロ[トリエチル−トリス(3,3’,5,5’−テトラ−t−ブチル−1,1’−ビフェニル−2,2’−ジイル) ホスファイトなどが挙げられ、これらはそれぞれ単独または2種以上を使用し得る。
【0060】
より好ましい紫外線吸収剤としては、例えばフェニル サリシレート、4−t−ブチルフェニル サリシレート、2,4−ジ−t−ブチルフェニル 3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシベンゾエート、4−t−オクチルフェニルサリシレート、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、ビス(5−ベンゾイル−4−ヒドロキシ−2−メトキシフェニル)メタン、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ−t−ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(5’−t−ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−t−オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3’−s−ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−4’−オクチルオキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ−t−アミル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−[2’−ヒドロキシ−3’,5’−ビス(α,α−ジメチルベンジル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾールなどが挙げられ、これらはそれぞれ単独または2種以上を使用し得る。
【0061】
より好ましい光安定剤としては、例えばビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル) セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル) セバケート、ビス(N−オクトキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル) セバケート、ビス(N−ベンジルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル) セバケート、ビス(N−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル) セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル) 2−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2−ブチルマロネート、ビス(1−アクロイル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル) 2,2−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2−ブチルマロネート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル) スクシネート、2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル メタクリレート、4−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ]−1−[2−(3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ)エチル]−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、2−メチル−2−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)アミノ−N−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)プロピオンアミド、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル) 1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、
【0062】
テトラキス(1,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル) 1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジノールおよび1−トリデカノールとの混合エステル化物、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジノールおよび1−トリデカノールとの混合エステル化物、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジノールおよび3,9−ビス(2−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5・5]ウンデカンとの混合エステル化物、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジノールおよび3,9−ビス(2−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5・5]ウンデカンとの混合エステル化物、ジメチル サクシネートと1−(2−ヒドロキシエチル)−4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンとの重縮合物、ポリ[(6−モルホリノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル)((2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ)ヘキサメチレン((2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ)]、ポリ[(6−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル)((2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ)ヘキサメチレン((2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ)]などが挙げられ、これらはそれぞれ単独または2種以上を使用し得る。
【0063】
本発明の熱可塑性ポリマー組成物の製造方法としては、例えば、熱可塑性ポリマーを混錬する際に、化合物(1)、化合物(2)及び必要に応じて添加剤を別々に配合する方法、例えば、化合物(1)、化合物(2)及び必要に応じて添加剤を混合して安定剤組成物を製造する工程、並びに前記工程で得られた安定剤組成物を熱可塑性ポリマーに混合する工程を含む方法などが挙げられる。化合物(1)及び化合物(2)の熱可塑性ポリマーへの分散性の観点から、後者の方法が好ましい。
【0064】
ここで、安定剤組成物を製造する工程としては、後述する安定剤組成物の製造方法で例示された方法が、同様に、例示される。
【0065】
安定剤組成物を熱可塑性ポリマーに混合する工程をさらに詳しく説明すると、例えば、熱可塑性ポリマーと上記安定剤組成物とをドライブレンドした後、一軸または多軸押出し機で溶融混練後、押出しを行ない熱可塑性ポリマー組成物のペレットを得る方法、例えば、シクロへキサンなどの溶剤に安定剤組成物を溶解させた溶液を、熱可塑性ポリマーの重合終了後のポリマー溶液に添加し、脱溶媒する方法などが挙げられる。
【0066】
得られた熱可塑性ポリマー組成物は、冷却することなく溶融状態のまま成形機に供給して成形してもよい。成形方法は特に限定されるものではなく、例えば射出成形法、押出成形法、押出ブロー成形法、射出ブロー成形法、二軸延伸ブロー成形法などの成形方法を用いることができる。
成形後、冷却することにより、本発明の熱可塑性ポリマー組成物からなる熱可塑性ポリマー成形体が得られる。得られる熱可塑性ポリマー成形体としては、例えばコイルボビン、コネクター、スイッチ、抵抗器部品、ソケット、リレー、コンデンサーケース、ヒューズ、モーター、オーブンレンジ、プリント基盤、IC製造装置、ランプなどの電子部品、エアーアウトレットガーニッシュ、フードベント、ディストリビューターキャップ、排ガスコントロールバルブなどの自動車部品、ギア、カムなどの機械部品、地板などの時計部品、底蓋、鏡胴、レバーなどのカメラ部品、リールなどのレジャー用品の部品、家電機器ハウジング、照明配線器具、フィルム、ボトル、繊維、浄化槽、便槽、バスタブ、ユニットバス、水タンク、船舶、薬品タンク、パイプ、波板、平板、塗料、化粧版、電気部品封入材、レジンコンクリートなどが挙げられる。
【0067】
本発明の安定剤組成物は、化合物(1)と化合物(2)とを含有する。
【0068】
本発明の安定剤組成物は、化合物(1)と化合物(2)とを99.9:0.1〜5:95(化合物(1):化合物(2))の重量比で含有することが好ましく、98:2〜10:90の重量比で含有することがより好ましい。
【0069】
本発明の安定剤組成物は、そのまま、熱可塑性ポリマーの加工安定剤として用いることができる。また、本発明の効果を阻害しない範囲で、上記の添加剤を含んでいてもよい。
【0070】
好ましい添加剤は上記のとおりであり、本発明の安定剤組成物中の化合物(3)の添加量は、安定剤組成物100重量部に対し、好ましくは0〜90部、より好ましくは0.1〜80部である。
【0071】
本発明の安定剤組成物の製造方法としては、例えば、化合物(1)、化合物(2)及び必要に応じて、上記添加剤を、ヘンシェルミキサ、スーパーミキサ、ハイスピードミキサなどの混合機で混合する方法、例えば、化合物(1)、化合物(2)及び添加剤の混合物をさらに押出成形する方法、例えば、化合物(1)、化合物(2)及び添加剤の混合物をさらに撹拌造粒する方法などが挙げられる。
【実施例】
【0072】
以下、実施例および比較例を挙げて本発明をより詳細に説明する。部及び%は、特に説明がない限り、重量基準を意味する。また、メルトフローレートをMFRと記載する。
【0073】
実施例1(安定剤組成物の製造)
化合物(1)としてn−オクタデシル−β−(4’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−t−ブチルフェニル)プロピオネート(BASFジャパン社製、イルガノックス(登録商標)1076、以下、化合物(1−1)と記すことがある)0.48部と、化合物(2)としてマンニトール0.12部とを混合して安定剤組成物を製造した。
【0074】
実施例2、3(安定剤組成物の製造)
実施例1において、化合物(1−1)の使用量をそれぞれ0.30部、0.12部とし、マンニトールの使用量をそれぞれ0.30部、0.48部とする以外は、実施例1と同様にして安定剤組成物を製造した。
【0075】
実施例4(熱可塑性ポリマー組成物の製造)
熱可塑性ポリマーとして旭化成製スチレン−ブタジエンブロック共重合体100部と、実施例1で得られた安定剤組成物0.6部とをドライブレンドした後、得られた樹脂組成物を、スクリュー径30mmの単軸押出機(田辺プラスチック社製、VS30−28型押出機)を用いて230℃、スクリュー回転数50rpmで混練押出して得られたストランドをペレタイザーで切断して熱可塑性ポリマー組成物のペレットを得た。
【0076】
実施例5、6(熱可塑性ポリマー組成物の製造)
実施例4において、実施例1で得られた安定剤組成物0.6部に替えて、実施例2、3でそれぞれ得られた安定剤組成物0.6部を使用する以外は実施例4と同様にして、熱可塑性ポリマー組成物のペレットを得た。
【0077】
比較例1
実施例4において、実施例1で得られた安定剤組成物0.6部に替えて、化合物(1−1)0.6部を使用する以外は実施例4と同様にして、熱可塑性ポリマー組成物のペレットを得た。
【0078】
試験例1(加工安定性試験)
実施例4〜6及び比較例1でそれぞれ得たペレットについて、押出加工時の運転時の加工性評価として滞留MFR試験を実施した。試験は、JIS K 7210に準拠し、メルトインデクサ(L217−E14011、テクノ・セブン社製)のシリンダー内を270℃にし、該シリンダー内に熱可塑性ポリマー組成物を30分滞留させた後に荷重2.16kgでのMFRを測定することにより実施した。結果を表1に示す。MFR値が大きいほど加工安定性に優れる。
表1中の加工安定性向上率とは、以下の式によって求めた値である。

(加工安定性向上率)=(実施例において測定されたMFR値−比較例1において測定されたMFR値)/比較例1において測定されたMFR値×100
【0079】
【表1】

【0080】
実施例7(安定剤組成物の製造)
化合物(1)として3,9−ビス[2−{3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ}−1,1−ジメチルエチル]−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5・5]ウンデカン(住友化学製、スミライザー(登録商標)GA−80、以下、化合物(1−2)と記すことがある)0.1部と、化合物(2)としてマンニトール0.1部とを混合して安定剤組成物を製造した。
【0081】
実施例8(安定剤組成物の製造)
実施例7において、化合物(2)としてソルビトールを使用する以外は実施例7と同様にして安定剤組成物を製造した。
【0082】
実施例9(熱可塑性ポリマー組成物の製造)
熱可塑性ポリマーとして住友化学製ポリプロピレン100部と、実施例7で得られた安定剤組成物0.2部とをドライブレンドした後、得られた樹脂組成物を、スクリュー径30mmの単軸押出機(田辺プラスチック社製、VS30−28型押出機)を用いて230℃、スクリュー回転数50rpmで混練押出して得られたストランドをペレタイザーで切断して熱可塑性ポリマー組成物のペレットを得た。
【0083】
実施例10(熱可塑性ポリマー組成物の製造)
実施例9において、実施例7で得られた安定剤組成物に替えて実施例8で得られた安定剤組成物を0.2部用いる以外は実施例9と同様にして、熱可塑性ポリマー組成物のペレットを得た。
【0084】
比較例2
実施例9において、実施例7で得られた安定剤組成物に替えて、化合物(1−2)を0.1部用いる以外は実施例9と同様にして、熱可塑性ポリマー組成物のペレットを得た。
【0085】
試験例2(加工安定性試験)
実施例9、10及び比較例2で得たそれぞれ得たペレットについて、押出加工時の運転時の加工性評価として滞留MFR試験を実施した。試験は、JIS K 7210に準拠し、メルトインデクサ(L217−E14011、テクノ・セブン社製)のシリンダー内を270℃にし、該シリンダー内に熱可塑性ポリマー組成物を充填し、該シリンダー内に熱可塑性ポリマー組成物を30分滞留させた後に荷重2.16kgでのMFRを測定することにより実施した。結果を表2に示す。

ポリプロピレンの場合、30分滞留後MFRが小さいほうが加工性が良い。
【0086】
【表2】

【0087】
実施例11(安定剤組成物の製造)
化合物(1)としてペンタエリスリトールテトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート](BASFジャパン社製、イルガノックス(登録商標)1010、以下、化合物(1−3)と記すことがある)0.1部と、化合物(2)としてマンニトール0.01部とを混合して安定剤組成物を製造した。
【0088】
実施例12(安定剤組成物の製造)
実施例11において、化合物(2)としてソルビトールを使用する以外は実施例11と同様にして安定剤組成物を製造した。
【0089】
実施例13(熱可塑性ポリマー組成物の製造)
熱可塑性ポリマーとして住友化学製ポリエチレン100部と、実施例11で得られた安定剤組成物0.11部とをドライブレンドした後、得られた樹脂組成物を、スクリュー径30mmの単軸押出機(田辺プラスチック社製、VS30−28型押出機)を用いて230℃、スクリュー回転数50rpmで混練押出して得られたストランドをペレタイザーで切断して熱可塑性ポリマー組成物のペレットを得た。
【0090】
実施例14(熱可塑性ポリマー組成物の製造)
実施例13において、実施例13で得られた安定剤組成物に替えて実施例12で得られた安定剤組成物を0.11部用いる以外は実施例13と同様にして、熱可塑性ポリマー組成物のペレットを得た。
【0091】
比較例3
実施例13において、実施例11で得られた安定剤組成物に替えて、化合物(1−3)を0.1部用いる以外は実施例13と同様にして、熱可塑性ポリマー組成物のペレットを得た。
【0092】
試験例3(加工安定性試験)
実施例12、13及び比較例3でそれぞれ得たペレットについて、押出加工時の運転時の加工性評価として滞留MFR試験を実施した。試験は、JIS K 7210に準拠し、メルトインデクサ(L217−E14011、テクノ・セブン社製)のシリンダー内を270℃にし、該シリンダー内に熱可塑性ポリマー組成物を30分滞留させた後に荷重2.16kgでのMFRを測定することにより実施した。結果を表3に示す。

ポリエチレンの場合は、MFRの変化の保持率が大きいほど加工安定性に優れる。
MFR保持率(%)=滞留30分のMFR/滞留前のMFR×100
【0093】
【表3】

【産業上の利用可能性】
【0094】
本発明の熱可塑性ポリマー組成物は、優れた加工安定性を有する。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
熱可塑性ポリマー、式(1)

(式中、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表し、Xは、ヘテロ原子及び/又は環状基を含んでいてもよい炭素数1〜24のn価のアルコール残基を表し、mは1〜4の整数を表す。ここでアルコール残基とは、アルコールのOHからHを除いた基を表す。)
で表される化合物、及び、式(2)
2n+2 (2)
(式中、nは4〜12の整数を表す。)
で表される化合物を含有する熱可塑性ポリマー組成物であり、式(1)で表される化合物と式(2)で表される化合物との合計重量が、熱可塑性ポリマー100重量部に対して0.001〜3重量部である熱可塑性ポリマー組成物。
【請求項2】
式(1)

(式中、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表し、Xは、ヘテロ原子及び/又は環状基を含んでいてもよい炭素数1〜24のn価のアルコール残基を表し、mは1〜4の整数を表す。ここでアルコール残基とは、アルコールのOHからHを除いた基を表す。)
で表される化合物と、式(2)
2n+2 (2)
(式中、nは4〜12の整数を表す。)
で表される化合物とを含有することを特徴とする安定剤組成物。
【請求項3】
式(1)で表される化合物が、n−オクタデシル−β−(4’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−t−ブチルフェニル)プロピオネート、3,9−ビス[2−{3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ}−1,1−ジメチルエチル]−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5・5]ウンデカン又はペンタエリスリトールテトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]であることを特徴とする請求項2記載の安定剤組成物。
【請求項4】
式(2)で表される化合物がアリトール、イジトール、ガラクチトール、ソルビトール、タリトール又はマンニトールである請求項2又は3記載の安定剤組成物。
【請求項5】
熱可塑性ポリマーに請求項2〜4のいずれか一項記載の安定剤組成物を混合する工程を含むことを特徴とする熱可塑性ポリマー組成物の製造方法。
【請求項6】
熱可塑性ポリマーを加工安定化させるための請求項2〜4のいずれか一項記載の安定剤組成物の使用。

【公開番号】特開2011−32461(P2011−32461A)
【公開日】平成23年2月17日(2011.2.17)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2010−141408(P2010−141408)
【出願日】平成22年6月22日(2010.6.22)
【出願人】(000002093)住友化学株式会社 (8,981)
【Fターム(参考)】