発光デバイス(LED)をその上に有する半導体ウエハ裏面を加工する方法およびその方法により形成されたLED
半導体ウエハを加工することは、第1の厚さを有する半導体ウエハ上に複数の発光デバイス(LED)を形成することを含むことができる。ウエハ上の複数のLEDをキャリアの表面と接触させ、ウエハをキャリアに結合する。ウエハの第1の厚さは、ウエハの裏面を加工することによって、第1の厚さよりも小さい第2の厚さまで低減される。キャリアがウエハ上の複数のLEDから分離され、ウエハが切削されて複数のLEDが互いに分離される。関係するデバイスも開示されている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、マイクロエレクトロニクスデバイスに関し、より詳細には、発光デバイス(LED)の製造、およびその方法により形成されたLEDに関する。
【背景技術】
【0002】
本出願は、2003年11月12日出願の「LED with Reduced Thickness Substrate」という名称の、本出願の譲受人に譲渡された米国仮出願第60/519,396号の利益を主張するものであり、参照によりその開示のすべてが本明細書に組み込まれる。
【0003】
SiCベースの発光デバイス内の炭化ケイ素(SiC)基板の厚さは、それらのデバイスを所与の電流レベルで動作させるのに必要な順方向電圧に影響を与えることが知られている。例えば、Cree,Inc.製のSiCベースの発光ダイオードC450−CB230−E1000は、約250μm(±25μm)の基板厚さを有し、約20mAの順方向動作電流において、約3.5ボルトの関連する順方向動作電圧を有する。さらに、LEDのSiC基板の厚さを低減すると、順方向電圧が低下し、これによって、そのようなダイオードにおける電力消費の低減を達成することができる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
多くの小型電子デバイスは、厚さを低減させた個々のデバイスを組み入れることによって、電子デバイスの全体の厚さを低減できることが知られている。例えば、携帯電話の製造業者は、表面実装型LEDチップを使用して、携帯電話のディスプレイのバックライトに使用される構成部品の厚さを低減することができる。したがって、SiC基板の厚さを低減すると、当該デバイスを、このような種類の小型電子デバイスにおいて使用することも可能となる。
【0005】
例えば、SiCウエハの裏面にイオンを注入することによって、低温/室温においてSiC上にオーミックコンタクトが形成されることが知られている。しかしながら、注入されたSiC基板がオーミックコンタクトの形成前に薄層化される場合には、ドープされた領域が薄層化を行う間に除去される可能性があり、このことはイオン注入を無駄にしうる。したがって、遅い段階において注入が実施されることがあるので、オーミックコンタクトを形成するために堆積された金属は、基板上に堆積されたときにオーム特性を有しない可能性がある。オーミックコンタクトの形成のためのイオン注入については、例えば、特許文献1および2において考察されており、それらの開示の全体を、本明細書に完全に記載されたかのように参照により組み入む。
【0006】
例えばニッケルなどの金属を堆積させ、その金属を高温(例えば、900℃を超える温度)でアニーリングすることによって、金属のオーミックコンタクトが形成されることも知られている。高温アニーリングは、SiC基板上に備えられた窒化ガリウムベースの材料のエピタキシャル層を損傷する可能性がある。
【0007】
【特許文献1】米国特許出願第09/787,189号明細書
【特許文献2】米国特許出願公開第2002/0179910号明細書
【特許文献3】米国特許第6,201,262号明細書
【特許文献4】米国特許第6,187,606号明細書
【特許文献5】米国特許第6,120,600号明細書
【特許文献6】米国特許第5,912,477号明細書
【特許文献7】米国特許第5,739,554号明細書
【特許文献8】米国特許第5,631,190号明細書
【特許文献9】米国特許第5,604,135号明細書
【特許文献10】米国特許第5,523,589号明細書
【特許文献11】米国特許第5,416,342号明細書
【特許文献12】米国特許第5,393,993号明細書
【特許文献13】米国特許第5,338,944号明細書
【特許文献14】米国特許第5,210,051号明細書
【特許文献15】米国特許第5,027,168号明細書
【特許文献16】米国特許第4,966,862号明細書
【特許文献17】米国特許第4,918,497号明細書
【特許文献18】米国特許出願公開第2003/0006418 A1号明細書
【特許文献19】米国特許出願公開第2002/0123164 Al号明細書
【特許文献20】米国特許出願公開第2004/0056260号明細書
【特許文献21】米国特許出願第10/916,113号明細書
【特許文献22】米国特許出願第10/815,293号明細書
【非特許文献1】Boehlen et al., "Laser micro-machining of high density optical structures on large substrates," Exitech Ltd.
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明による実施形態は、発光デバイス(LED)をその上に有する半導体ウエハ裏面を加工する方法およびその方法により形成されたLEDを提供することができる。これらの実施形態に従って、半導体ウエハを加工する方法には、複数の発光デバイス(LED)を第1の厚さを有する半導体ウエハ上に形成することを含めることができる。ウエハ上の複数のLEDが、キャリア(carrier)に結合される。ウエハの第1の厚さが、ウエハの裏面を加工することによって、第1の厚さよりも小さい第2の厚さに低減される。キャリアがウエハ上の複数のLEDから分離され、ウエハを切削することにより複数のLEDが互いに分離される。
【0009】
本発明によるいくつかの実施形態において、第1の厚さは、約250μmから約400μmである。本発明によるいくつかの実施形態において、ウエハの第1の厚さを低減することは、ウエハの裏面に研磨、ラッピング、および/またはエッチングを施して、ウエハの第1の厚さを約150μm未満の第2の厚さに低減することを含む。本発明によるいくつかの実施形態において、ウエハの第1の厚さを低減することは、ウエハの裏面に研磨、ラッピング、および/またはエッチングを施して、ウエハの第1の厚さを約120μm未満の第2の厚さに低減することを含む。本発明によるいくつかの実施形態において、ウエハの裏面を研磨することは、インフィード研磨機(in−feed grinder)またはクリープフィード研磨機(creep feed grinder)を使用してウエハの裏面を研磨することを含む。
【0010】
本発明によるいくつかの実施形態においては、ウエハを切削することは、鋸刃(saw blade)を使用してウエハを切削して、分離された複数のLEDに直線縁部を形成することを含む。本発明によるいくつかの実施形態においては、ウエハを切削することは、ウエハ上に切り込み線(score line)を切削し、ウエハ上の複数のLED間にベベル溝(beveled groove)を形成することと、ウエハ上の複数のLEDを切り込み線に沿って互いに分離することとを含む。本発明によるいくつかの実施形態においては、ウエハを切削することは、鋸刃のベベル先端(beveled tip)の長さ程度よりも小さい、ウエハ表面からの深さまで、ウエハを鋸刃で切削することを含む。本発明によるいくつかの実施形態において、この深さは、約120μm未満である。
【0011】
本発明によるいくつかの実施形態において、ウエハの第1の厚さを第2の厚さまで低減することは、複数のLEDと反対側のウエハの裏側表面を加工して、光取り出しを向上することに後続される。複数のそれぞれのコンタクトは、それぞれの接着パッド(bonding pad)を複数のLED上に形成すべき場所と反対側の裏側表面上に形成される。本発明によるいくつかの実施形態において、複数のそれぞれのコンタクトを形成することは、レーザアニーリングを使用して、複数のオーミックコンタクトを形成することを含む。
【0012】
本発明によるいくつかの実施形態において、加工することは、裏側表面をエッチングすることを含む。本発明によるいくつかの実施形態において、加工することは、裏側表面をレーザパターニングすることを含む。
【0013】
本発明によるいくつかの実施形態において、ウエハ上の複数のLEDからキャリアを分離することは、複数のLEDのキャリアからの分離を生じさせるのに十分な程度に接着層を加熱、溶解または溶解することを含む。
【0014】
本発明によるいくつかの実施形態において、ウエハは、炭化ケイ素ウエハまたはサファイアウエハである。
【0015】
本発明によるいくつかの実施形態において、炭化ケイ素(SiC)基板上の発光デバイス(LED)の第1の厚さは、約150μm未満である。本発明によるいくつかの実施形態において、炭化ケイ素(SiC)基板に関連する順方向電圧は、約3.4ボルトである。本発明によるいくつかの実施形態において、SiC基板は、4H−SiCまたは6H−SiCである。
【発明を実施するための最良の形態】
【0016】
本発明の実施形態の示されている添付の図面を参照して、以下に本発明をより詳細に説明する。しかしながら、本発明は、本明細書に記載される実施形態に限定されると解釈すべきではない。そうではなく、これらの実施形態は、本開示を詳細で完全なものとし、本発明の範囲を当業者に詳細に伝えるために提示されるものである。図面においては、層および領域の厚さが、明瞭性のために誇張してある。類似の番号は、全体を通して類似の要素を示している。本明細書において使用される場合、「および/または」という用語は、1つまたは複数の関連する列挙項目の任意および全ての組合せを含む。
【0017】
本明細書で使用する用語は、特定の実施形態を説明する目的だけのものであり、本発明の限定を意図するものではない。本明細書で使用されるとき、文脈が特に明確に示さない限り、単数形「a」、「an」、および「the」には複数形も含めることを意図するものである。さらに、この明細書で使用される場合、用語「含む」、「備える」は、記述する形態(feature)、整数(integer)、ステップ、動作、要素、および/または構成要素の存在を明示するが、1つまたは複数のその他の形態、整数、ステップ、動作、要素、構成要素、および/またはそれらの群の存在を除外するものではないことが理解されるだろう。
【0018】
また、層、領域または基板などの要素が別の要素の「上に」ある、または「上に」延びていると言及されるときには、この要素は、当該他の要素の上に直接あるか、またはその上方に直接延びていることが可能であり、あるいは介在要素が存在することも可能である。対照的に、ある要素が、別の要素の「上に直接」ある、または「上に直接」延びていると言及される場合には、介在要素は存在しない。また、ある要素が、別の要素に「接続」または「結合」されていると言及されるときには、この要素が、当該他の要素に直接に接続または結合されていることが可能であり、あるいは介在要素が存在することも可能であることが理解されるだろう。対照的に、ある要素が別の要素に「直接に接続」されている、または「直接に結合」されていると言及されるときには、介在要素は存在しない。類似の番号は、明細書全体を通して類似の要素を指している。
【0019】
第1の、第2の、などの用語が、様々な要素、構成要素、領域、層および/または区分を説明するために本明細書において使用されるが、これらの要素、構成要素、領域、層および/または区分は、これらの用語により限定されるべきでないことが理解されるだろう。これらの用語は、1つの要素、構成要素、領域、層または区分を、別の領域、層または区分から区別するためにのみ使用されている。したがって、本発明の教示から逸脱することなく、以下で議論される第1の要素、構成要素、領域、層または区分を、第2の要素、構成要素、領域、層または区分と呼ぶことができる。
【0020】
さらに、「下部の」または「底部の」および「上部の」または「頂部の」などの相対的用語は、本明細書において、図面に示されるような1つの要素の別の要素との関係を説明するために使用されることがある。相対的用語は、図面に描写された位置付けに加えて、異なるデバイスの位置付けを包含することが意図されていることが理解されるだろう。例えば、図中のデバイスが反転された場合、他の要素の「下部」側にあると説明された要素が、当該他の要素の「上部」側に位置付けられることになる。例示的用語「下部の」は、それゆえ、図面の特定の位置付けに応じて「下部の」および「上部の」の両方の位置付けを包含することができる。同様に、1つの図中のデバイスが反転された場合、他の要素の「下に」と説明された要素が、当該他の要素の「上に」位置付けられることになる。例示的用語「下に」は、それゆえ、上および下の位置付けの両方を包含することができる。
【0021】
本発明の実施形態が、本明細書において、本発明の理想化された実施形態の略図である断面図(および/または平面図)を参照して説明される。そのようなものとして、例えば製造技法および/または許容誤差の結果としての説明図の形からの変形形態が予期されるべきである。したがって、本発明の実施形態は、本明細書で示される領域の特定の形に限定されるものとして解釈されるべきではなく、例えば製造などの結果である形の偏差を含む。例えば、長方形として図示または説明されるエッチングされた領域は、一般に丸みのある、または曲がった形態を有するだろう。したがって、図面に示した領域は本質的に図式的であり、それらの形は、デバイスの領域の正確な形を示すことを意図されておらず、また本発明の範囲を限定することを意図されていない。
【0022】
特段の定めがない限り、本明細書で使用される(技術用語および科学用語を含む)すべての用語は、本発明の属する分野の当業者により通常理解されるのと同じ意味を有する。一般に用いられる辞書で定義されるような用語は、関連技術の文脈における意味と一致した意味を有するものと解釈されるべきであり、本明細書において明示的に定義されない限り、理想化された又は過度に形式的な意味に解釈はされない。
【0023】
当業者は、別の形態に「隣接して」配置されている構造または形態への言及は、隣接する形態と重なり合う部分又は隣接する形態の下に横たわる部分を有することができることも理解するだろう。
【0024】
本明細書において使用するとき、用語「オーミックコンタクト」は、それに関連するインピーダンスが、実質的にすべての予期される動作周波数において、実質的にインピーダンス=V/Iの関係によって与えられる(すなわち、オーミックコンタクトに関連するインピーダンスは、すべての動作周波数において実質的に同一である)コンタクトを指し、ここでVはコンタクトの両端での電圧であり、Iは電流である。例えば、本発明のいくつかの実施形態において、オーミックコンタクトを、約10e−03Ωcm2未満、また実施形態によっては、約10e−04Ωcm2未満の特定のコンタクト抵抗を有するコンタクトとすることができる。したがって、整流性であるか、または、例えば約10e−03Ωcm2より大きいような高い特定のコンタクト抵抗を有するコンタクトは、本明細書においてその用語を使用する場合において、オーミックコンタクトではない。
【0025】
本明細書で記述する、発光デバイス(LED)は、発光ダイオード、レーザダイオードおよび/または他の半導体デバイスとすることができ、これらのデバイスは、シリコン、炭化ケイ素、窒化ガリウムおよび/または他の半導体材料を含むことができる1つまたは複数の半導体層と、サファイア、ケイ素、炭化ケイ素、GaNおよび/または他のマイクロエレクトロニクス基板を含むことができる基板と、金属および/または他の導電層を含むことができる1つまたは複数のコンタクト層を含む。いくつかの実施形態において、紫外、青色および/または緑色LEDを設けてもよい。
【0026】
当業者には理解されるように、本発明の多くの実施形態は、多数の異なる基板とエピタキシャル層との組合せとともに利用することができる。例えば、他の組合せとしては、GaP基板上のAlGaInPダイオード、GaAs基板上のInGaAsダイオード、GaAs基板上のAlGaAsダイオード、SiCまたはサファイア(A1203)基板上の炭化ケイ素(SiC)ダイオード、および/または窒化ガリウム、炭化ケイ素、窒化アルミニウム、サファイア、酸化亜鉛および/または他の基板上の窒化物ベースダイオードが挙げられる。
【0027】
特に、LEDはNorth Carolina州DurhamのCree,Inc.が製造および販売するデバイスとすることができる。本発明は、本明細書に完全に記載されたかのように参照によりその開示が組み込まれている特許文献3〜17に説明されているような、LEDおよび/またはレーザとの使用に適している。他の好適なLEDおよび/またはレーザが、特許文献18および特許文献19に説明されている。さらに、完全に記載されたかのように参照により本明細書にその開示が組み込まれている特許文献20に説明されているものなどの、リン被覆(phosphor coated)LEDも、本発明の実施形態において使用するのに適している。これらのLEDおよび/またはレーザは、基板を介して光放出が生じるように動作を構成することができる。そのような実施形態においては、例えば上記の特許文献19に説明されているように、基板をパターニングし、デバイスの光出力を強めることができる。
【0028】
以下により詳細に記述するように、本発明による実施形態は、例えばウエハをその裏面から加工して発光デバイス(LED)が取り付けられたウエハの厚さを低減することにより、発光デバイスを備えた半導体ウエハを加工する方法を提供することができる。ウエハは、部分的に挿入された鋸刃のベベル先端が、ウエハの切削されなかった部分を分割(break)することによってその上の複数のLEDを互いに分離することを可能にするのに十分なほど深く、ウエハの表面下を切削するのを可能にする厚さまで、薄層化することができる。より具体的には、ウエハは、鋸刃のベベル先端の長さよりも短い水準まで表面下を切削し、それによって、鋸刃の直線縁部が、ウエハの表面(またはその上)に露出されたままになるようにしてもよい。言い換えると、ベベル先端の部分挿入により形成された切り込み線に沿ってウエハを分割することによって複数のLEDを互いに分離することを可能にするのに十分な深さまで、鋸刃のベベル先端の部分的な挿入によりウエハを切削することができる。
【0029】
したがって、ウエハ100’の裏面103は、鋸刃のベベル先端の部分的挿入によって、ウエハ上の複数のLEDを互いに分離することができるようにするのに十分なほど、薄層化することができる。鋸刃のベベル先端を部分的に挿入することによって、ウエハの厚さの低減に起因して複数のものを互いに分離することを可能にしながら、そうでなければ有害な幾何学形状の形成を回避することができる。
【0030】
図1に示すように、ウエハ(すなわち、基板)100は、厚さ(t1)が約250ミクロンから約400ミクロンである。複数の発光デバイス(LED)110が、ウエハ100の裏面103の反対側である、ウエハ100の表面上に形成されている。複数のLEDは、通常複数のGaNベースのエピタキシャル層がその上に堆積されたSiCまたはサファイアなどの絶縁性基板または半導体基板(またはウエハ)を備える、GaNベースの発光ダイオードとすることができることが理解されるだろう。エピタキシャル層は、エネルギーが加えされると発光するp−n接合を有する活性領域を備える。本発明のいくつかの実施形態において、ウエハは、4H−SiC、6H−SiCまたは当業者に知られている別の種類の材料で構成されたSiCウエハである。
【0031】
図2によると、本発明のいくつかの実施形態において、(複数のLED110を備える)ウエハ100とウエハキャリア105とが、複数のLEDと接触している接着層120を介して互いに結合されており、したがって、例えばウエハ100の裏面103にアクセスできるようにウエハキャリア105を研磨機に取り付けることによって、アセンブリ全体を加工の対象とすることができる。ウエハ100/複数のLED110は、ワックスなどの当業者に知られており、複数のLEDまたはウエハキャリアに適用することができる任意の技法を用いて、ウエハキャリア105に結合することができることが理解されるだろう。さらに、用語「接触」は、直接接触および間接接触を含み、間接接触の場合には、例えば(上記の接着層などの)1つまたは複数の介在要素が複数のLEDとウエハとの間に存在し、それによって、これらの2つの要素を互いに結合することができ、またキャリアを保持する間にウエハの裏面を加工することができることが理解されるだろう。
【0032】
図3によると、本発明によるいくつかの実施形態において、ウエハ100の裏面103が加工され、ウエハ100の厚さがt1よりも小さい厚さt2に低減されて薄層化ウエハ100’が形成される。厚さt2はt1よりも小さく、それによってベベル先端を有する鋸刃が、鋸刃の先端のベベルのおおよその長さよりも小さい深さまで裏面103の表面下を切削することが可能となることが理解されるだろう。したがって、ベベル先端を裏面103に部分的に挿入し、鋸刃の直線縁部が裏面103の上に露出されたままにすることができる。
【0033】
本発明によるいくつかの実施形態において、ウエハ100の厚さが、インフィード研磨機またはクリープフィード研磨機などの研磨機を使用して低減される。本発明の他の実施形態においては、ウエハ100の厚さが、研磨を伴い又は伴わずに、ラッピング、化学エッチングもしくは反応性イオンエッチング、またはこれらの手法の組合せを使用して低減される。本発明のさらに他の実施形態においては、エッチングを使用して薄層化したウエハ(すなわち、ウエハを薄層化した後)の裏面を処理し、エピ層の成長が改善されるようにウエハへの損傷を低減することができる。
【0034】
上述の実施形態では、(鋸刃の直線縁部が露出されたままとなるような)ベベル先端の部分的な挿入について言及しているが、本発明のいくつかの実施形態においては、ベベル先端をさらに挿入して、鋸刃の直線縁部のわずかな部分が薄層化されたウエハ100’の表面下に挿入されるようにすることもできることが理解されるだろう。さらに、そのようにして形成されたLEDは、ベベル先端が部分的に挿入される実施形態と実質的に同じ便益(例えば、光引き出しの向上およびリン被覆の共形堆積(conformal deposition)の改善など)をもたらすことができることが理解されるだろう。したがって、鋸刃の直線縁部のわずかな部分が薄層化されたウエハ100’の表面下に挿入される実施形態は、特許請求の主題の範囲内であることが理解されるであろう。
【0035】
本発明のいくつかの実施形態において、ウエハ100は、約150ミクロン未満の厚さまで薄層化される。本発明の他の実施形態において、ウエハ100は、約120ミクロン未満の厚さまで薄層化される。本発明のいくつかの実施形態においては、ウエハ100は、インフィード研磨機またはクリープフィード研磨機を使用して薄層化される。
【0036】
ベベル先端の部分挿入は、薄層化ウエハ100’の低減された厚さと結びついて、例えば、ウエハ全体を切削するのではなく薄層化されたウエハ100’を分割することによって、複数のLEDを互いに分離ことを可能にする。裏面103が加工されてウエハ100’が十分に薄くなると、ウエハキャリア105を、例えば接着層120を加熱して、アセンブリから取り外し、それによって薄層化ウエハ100’およびその上にある複数のLEDを図4に示すように取り外すことができる。本発明の他の実施形態において、例えば図2を参照して示したような、これらの要素を結合するのに使用される構造に基づき、適当な方法を使用して、ウエハキャリア105をアセンブリから取り除くことができる。例えば、構造を溶解または融解させて、ウエハキャリア105をアセンブリから分離してもよい。
【0037】
オーミックコンタクト107は、例えば、本出願の譲受人に共有で譲渡された、その開示が参照により本明細書に組み込まれている特許文献21で検討されているようなレーザアニーリングを使用して、ウエハ100’の裏面103に形成することができる。ウエハがウエハキャリアに結合されている間に、オーミックコンタクトを薄層化したウエハ100’上に形成することができることが理解されるだろう。本発明のいくつかの実施形態においては、例えば図5に示すように、ウエハをキャリアから取り外した後に、オーミックコンタクトを薄層化したウエハ100’上に形成することができる。接着パッド106は、オーミックコンタクトと反対側の、複数のLED110上に形成することができる。鋸刃30を使用してウエハ100’を切削し、複数のLEDをパッケージングのために分離することができる。鋸刃30は、ウエハ100’全体を切削して、分離された複数のLED110間の薄層化されたウエハ100’に直線縁部を形成するか、または、薄層化されたウエハ100’を十分に切削し、したがって鋸刃30により形成された切り込み線に沿って圧力をかけることによって、LED110を互いに分離できるようにすることができることが理解されるだろう。
【0038】
図6に示すような本発明の他の実施形態においては、鋸刃30は、薄層化されたウエハ100’中に、ベベル先端131の長さより小さい深さまで部分的に挿入されて、薄層化されたウエハ100’内にベベル溝17が形成される。鋸30は、ベベル先端131が部分的に挿入されるときに鋸30の直線縁部31が露出されたままとなるように、薄層化されたウエハ100’中に部分的に挿入され、ベベル溝17上の薄層化されたウエハ100’内に望ましくない幾何学形状が形成されるのが回避される。さらに、薄層化されたウエハ100’の厚さが薄いために、ベベル溝17は、薄層化されたウエハ100’中に十分に侵入し、その結果、図7に示すように溝(または切り込み線)に沿って薄層化されたウエハ100’を分割することにより、複数のLEDを互いに分離することができる。さらに、図5を参照して先に考察したように、接着パッド106およびオーミックコンタクト107を複数のLED上に形成することができる。
【0039】
本発明の実施形態によるさらなる態様においては、レーザで裏面103をパターニングすること、または一般に「荒加工(roughing)」と呼ばれるものを含めて、ウエハ100’の裏面103を加工することによりLEDからの光取り出しをさらに向上させることができる。レーザパターニングは、単独またはステップ状に行うことができる。裏面103をパターニングすることによって、例えばランダム化(randomization)パターンを設けることにより、光取り出しを向上することができる。本発明の実施形態は、特に、デバイスの表面積のためにウエハ100’の傾斜した側壁の有効性が低減される可能性のある、大面積のデバイスに適している。さらに、ウエハ100’の対向する面(すなわち、前面および裏面103)の片面または両面をパターニングしてもよい。ウエハ100’は、参照によりその全開示が本明細書に組み込まれている特許文献22に説明されているようなレーザパターニングシステムを使用してパターニングしてもよい。
【0040】
本発明のいくつかの実施形態において、ウエハ100’をパターニングするのに使用するレーザはエキシマパルスレーザであるが、基板から材料を除去するのに適した任意のレーザシステムを使用することができる。例えば、レーザシステムは、3倍波および/または4倍波のYAGレーザとすることができる。本発明の特定の実施形態においては、レーザは、308nmの波長を有するが、248nm、193nm、157nm、355nmまたは266nmなどの他の波長を使用することもできる。さらに、水ミストおよび/またはアシストガスなどの、当業者には知られている補助プロセスを使用して、表面損傷の軽減および/またはレーザ吸収の増大を行ってもよい。レーザの複数のパルスを使用して、基板から材料を除去してもよい。基板から材料を制御可能に除去するのに適した任意のエネルギーを使用してもよい。例えば、約4.2J/パルスの308nmのパルスレーザを、本発明の特定の実施形態において使用することができる。
【0041】
図8は、本発明のいくつかの実施形態に従ってレーザパターニングされた裏面103を有する、ウエハ100’上のLEDの断面図である。図9は、図8の発光デバイスの等角透視図である。3次元パターン120が、上述のようなレーザを使用して裏面103に形成されている。図8および9に示されている実施形態においては、LED110は、ウエハ100’の反対側104(すなわち、前面)上に形成されている。図8および9より分かるように、パターン120は、ウエハ100の裏面103上の連続する境界線130によって包囲されている。
【0042】
図10および11は、本発明にさらなる実施形態によるウエハ100’の断面図である。図10および11より分かるように、断面において、ウエハ100’内に広がる曲面200またはウエハ100’から突出する曲面210をレーザパターニングによって設けることができる。曲面200、210は、放物曲線とすることができる。そのような曲線は、例えば、放物線状構造を設けるために基板材料の選択的除去を提供する一連のマスクの使用を伴いレーザ光を制御することにより、設けることができる。本発明の特定の実施形態においては、曲面は、基板内にレンズをもたらすことができる。本発明の他の実施形態においては、曲面は、正弦波パターンの溝をもたらすことができる。
【0043】
複数の曲線構造を図10および11に示してあるが、ウエハ100’は、曲面ウエハ100’をもたらすように単一の曲線に成形することもできる。曲面ウエハ100’は、両面に曲面を有していてもよい。また、発光デバイスを、ウエハ100’の曲面上に設けてもよい。
【0044】
図12および図13は、本発明のさらに別の実施形態によるウエハ100’の断面図である。図12および13から分かるように、曲面形態220および非曲面形態230、240の組合せを、単一のウエハ100’内に設けることができる。したがって、本発明の実施形態は、単一のウエハ100’内に、複数の異なる3次元幾何学形状パターンを備えることができる。
【0045】
図14から図16は、本発明のいくつかの実施形態によるレーザパターニングについての代替実施形態を示している。図14から分かるように、ポリママスク層300をウエハ100’上に設けることができる。図15において、ポリママスク層300がレーザパターニングされて、ウエハ100’に設けようとする形態に対応する3次元形態320を有するポリママスク310が得られる。図16において、マスク310がエッチングマスクとして使用され、ウエハ100’がエッチングされて3次元形態330が得られる。エッチングは、例えば、ドライエッチングとすることができる。従来のポリママスクおよびポリママスクを使用するエッチング技法を使用してもよい。さらに、レーザパターニングすることのできる他のマスク材料を使用してもよい。
【0046】
ポリマ層をレーザパターニングする技法は、当業者には既知である。例えば、そのような技法が、Boehlenらの文献に説明されている(非特許文献1を参照)。エッチングマスクがポリマエッチングマスクである本発明の特定の実施形態において、ポリマを、248nmレーザでパターニングすることができる。エッチングプロセスの特性をマスク310の特性を設計する上で考慮に入れて、ウエハ100’に所望の3次元幾何学形状パターンをもたらすことができる。例えば、マスク材料と炭化ケイ素ウエハとの間のエッチング速度の差を、マスクをパターニングするときに考慮することができる。
【0047】
エッチングマスクのパターニングはレーザパターニングで得られるので、エッチングマスクの形状は、レーザマスクの制御を通じて容易に調節することができる。したがって、例えば、エッチングマスクの形状は、エッチングマスクの炭化ケイ素に対する6対1のエッチング速度を考慮に入れて、形態をそれに応じて調節することができる。そのようなマスク特性の調節は、エッチングマスクのレーザパターニングを使用せずに提供するのは困難な場合がある。さらに、レーザパターニングの利用を通じて、例えばピラミッドおよびレンズなどの複数の幾何学形状を、それらをレーザマスク中に設計することにより、走査画像技法(scanning image technique)を用いて単一のステップで形成することが可能である。
【0048】
さらに、エッチング後のウエハの表面を、粗くするか、または平滑にすることができる。粗面は、例えばアルミニウムなどの材料の薄層をエッチングマスクと基板との間に配置してマイクロマスクを生成することによって、設けることができる。エッチングされるとき、マイクロマスクは、ウエハ100’の表面を粗くするように作用することができる。
【0049】
本開示の利益を考慮に入れると、当業者は、本発明の精神および範囲から逸脱することなく、多数の変更および修正を行うことが可能である。したがって、図示した実施形態は、例としての目的だけで記載したものであり、添付の特許請求の範囲によって定義される本発明を限定するものと捉えるべきではないことが理解されるべきである。したがって、添付の特許請求の範囲は、文字通り記載されている要素の組合せだけでなく、実質的に同一の方法で実質的に同一の機能を実施して実質的に同一の結果を得るための、すべての等価的要素を含むものと読み取るべきである。したがって、特許請求の範囲は、具体的に図示して説明したもの、概念的に均等なもの、および本発明の本質的な概念を組み入れるものを含むことを理解すべきである。
【図面の簡単な説明】
【0050】
【図1】本発明のいくつかの実施形態による、半導体ウエハを加工する方法を示す断面図である。
【図2】本発明のいくつかの実施形態による、半導体ウエハを加工する方法を示す断面図である。
【図3】本発明のいくつかの実施形態による、半導体ウエハを加工する方法を示す断面図である。
【図4】本発明のいくつかの実施形態による、半導体ウエハを加工する方法を示す断面図である。
【図5】本発明のいくつかの実施形態による、半導体ウエハを加工する方法を示す断面図である。
【図6】本発明のいくつかの実施形態による、半導体ウエハを加工する方法を示す断面図である。
【図7】本発明のいくつかの実施形態による、半導体ウエハを加工する方法を示す断面図である。
【図8】本発明の様々な実施形態による、レーザパターニングされたウエハを有する発光デバイスの断面図である。
【図9】本発明の様々な実施形態による、レーザパターニングされたウエハを有する発光デバイスの等角図である。
【図10】本発明の代替実施形態による、レーザパターニングされたウエハの断面図である。
【図11】本発明の代替実施形態による、レーザパターニングされたウエハの断面図である。
【図12】本発明の代替実施形態による、レーザパターニングされたウエハの断面図である。
【図13】本発明の代替実施形態による、レーザパターニングされたウエハの断面図である。
【図14】本発明の代替実施形態による、レーザパターニング技法による工程を示す断面図である。
【図15】本発明の代替実施形態による、レーザパターニング技法による工程を示す断面図である。
【図16】本発明の代替実施形態による、レーザパターニング技法による工程を示す断面図である。
【技術分野】
【0001】
本発明は、マイクロエレクトロニクスデバイスに関し、より詳細には、発光デバイス(LED)の製造、およびその方法により形成されたLEDに関する。
【背景技術】
【0002】
本出願は、2003年11月12日出願の「LED with Reduced Thickness Substrate」という名称の、本出願の譲受人に譲渡された米国仮出願第60/519,396号の利益を主張するものであり、参照によりその開示のすべてが本明細書に組み込まれる。
【0003】
SiCベースの発光デバイス内の炭化ケイ素(SiC)基板の厚さは、それらのデバイスを所与の電流レベルで動作させるのに必要な順方向電圧に影響を与えることが知られている。例えば、Cree,Inc.製のSiCベースの発光ダイオードC450−CB230−E1000は、約250μm(±25μm)の基板厚さを有し、約20mAの順方向動作電流において、約3.5ボルトの関連する順方向動作電圧を有する。さらに、LEDのSiC基板の厚さを低減すると、順方向電圧が低下し、これによって、そのようなダイオードにおける電力消費の低減を達成することができる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
多くの小型電子デバイスは、厚さを低減させた個々のデバイスを組み入れることによって、電子デバイスの全体の厚さを低減できることが知られている。例えば、携帯電話の製造業者は、表面実装型LEDチップを使用して、携帯電話のディスプレイのバックライトに使用される構成部品の厚さを低減することができる。したがって、SiC基板の厚さを低減すると、当該デバイスを、このような種類の小型電子デバイスにおいて使用することも可能となる。
【0005】
例えば、SiCウエハの裏面にイオンを注入することによって、低温/室温においてSiC上にオーミックコンタクトが形成されることが知られている。しかしながら、注入されたSiC基板がオーミックコンタクトの形成前に薄層化される場合には、ドープされた領域が薄層化を行う間に除去される可能性があり、このことはイオン注入を無駄にしうる。したがって、遅い段階において注入が実施されることがあるので、オーミックコンタクトを形成するために堆積された金属は、基板上に堆積されたときにオーム特性を有しない可能性がある。オーミックコンタクトの形成のためのイオン注入については、例えば、特許文献1および2において考察されており、それらの開示の全体を、本明細書に完全に記載されたかのように参照により組み入む。
【0006】
例えばニッケルなどの金属を堆積させ、その金属を高温(例えば、900℃を超える温度)でアニーリングすることによって、金属のオーミックコンタクトが形成されることも知られている。高温アニーリングは、SiC基板上に備えられた窒化ガリウムベースの材料のエピタキシャル層を損傷する可能性がある。
【0007】
【特許文献1】米国特許出願第09/787,189号明細書
【特許文献2】米国特許出願公開第2002/0179910号明細書
【特許文献3】米国特許第6,201,262号明細書
【特許文献4】米国特許第6,187,606号明細書
【特許文献5】米国特許第6,120,600号明細書
【特許文献6】米国特許第5,912,477号明細書
【特許文献7】米国特許第5,739,554号明細書
【特許文献8】米国特許第5,631,190号明細書
【特許文献9】米国特許第5,604,135号明細書
【特許文献10】米国特許第5,523,589号明細書
【特許文献11】米国特許第5,416,342号明細書
【特許文献12】米国特許第5,393,993号明細書
【特許文献13】米国特許第5,338,944号明細書
【特許文献14】米国特許第5,210,051号明細書
【特許文献15】米国特許第5,027,168号明細書
【特許文献16】米国特許第4,966,862号明細書
【特許文献17】米国特許第4,918,497号明細書
【特許文献18】米国特許出願公開第2003/0006418 A1号明細書
【特許文献19】米国特許出願公開第2002/0123164 Al号明細書
【特許文献20】米国特許出願公開第2004/0056260号明細書
【特許文献21】米国特許出願第10/916,113号明細書
【特許文献22】米国特許出願第10/815,293号明細書
【非特許文献1】Boehlen et al., "Laser micro-machining of high density optical structures on large substrates," Exitech Ltd.
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明による実施形態は、発光デバイス(LED)をその上に有する半導体ウエハ裏面を加工する方法およびその方法により形成されたLEDを提供することができる。これらの実施形態に従って、半導体ウエハを加工する方法には、複数の発光デバイス(LED)を第1の厚さを有する半導体ウエハ上に形成することを含めることができる。ウエハ上の複数のLEDが、キャリア(carrier)に結合される。ウエハの第1の厚さが、ウエハの裏面を加工することによって、第1の厚さよりも小さい第2の厚さに低減される。キャリアがウエハ上の複数のLEDから分離され、ウエハを切削することにより複数のLEDが互いに分離される。
【0009】
本発明によるいくつかの実施形態において、第1の厚さは、約250μmから約400μmである。本発明によるいくつかの実施形態において、ウエハの第1の厚さを低減することは、ウエハの裏面に研磨、ラッピング、および/またはエッチングを施して、ウエハの第1の厚さを約150μm未満の第2の厚さに低減することを含む。本発明によるいくつかの実施形態において、ウエハの第1の厚さを低減することは、ウエハの裏面に研磨、ラッピング、および/またはエッチングを施して、ウエハの第1の厚さを約120μm未満の第2の厚さに低減することを含む。本発明によるいくつかの実施形態において、ウエハの裏面を研磨することは、インフィード研磨機(in−feed grinder)またはクリープフィード研磨機(creep feed grinder)を使用してウエハの裏面を研磨することを含む。
【0010】
本発明によるいくつかの実施形態においては、ウエハを切削することは、鋸刃(saw blade)を使用してウエハを切削して、分離された複数のLEDに直線縁部を形成することを含む。本発明によるいくつかの実施形態においては、ウエハを切削することは、ウエハ上に切り込み線(score line)を切削し、ウエハ上の複数のLED間にベベル溝(beveled groove)を形成することと、ウエハ上の複数のLEDを切り込み線に沿って互いに分離することとを含む。本発明によるいくつかの実施形態においては、ウエハを切削することは、鋸刃のベベル先端(beveled tip)の長さ程度よりも小さい、ウエハ表面からの深さまで、ウエハを鋸刃で切削することを含む。本発明によるいくつかの実施形態において、この深さは、約120μm未満である。
【0011】
本発明によるいくつかの実施形態において、ウエハの第1の厚さを第2の厚さまで低減することは、複数のLEDと反対側のウエハの裏側表面を加工して、光取り出しを向上することに後続される。複数のそれぞれのコンタクトは、それぞれの接着パッド(bonding pad)を複数のLED上に形成すべき場所と反対側の裏側表面上に形成される。本発明によるいくつかの実施形態において、複数のそれぞれのコンタクトを形成することは、レーザアニーリングを使用して、複数のオーミックコンタクトを形成することを含む。
【0012】
本発明によるいくつかの実施形態において、加工することは、裏側表面をエッチングすることを含む。本発明によるいくつかの実施形態において、加工することは、裏側表面をレーザパターニングすることを含む。
【0013】
本発明によるいくつかの実施形態において、ウエハ上の複数のLEDからキャリアを分離することは、複数のLEDのキャリアからの分離を生じさせるのに十分な程度に接着層を加熱、溶解または溶解することを含む。
【0014】
本発明によるいくつかの実施形態において、ウエハは、炭化ケイ素ウエハまたはサファイアウエハである。
【0015】
本発明によるいくつかの実施形態において、炭化ケイ素(SiC)基板上の発光デバイス(LED)の第1の厚さは、約150μm未満である。本発明によるいくつかの実施形態において、炭化ケイ素(SiC)基板に関連する順方向電圧は、約3.4ボルトである。本発明によるいくつかの実施形態において、SiC基板は、4H−SiCまたは6H−SiCである。
【発明を実施するための最良の形態】
【0016】
本発明の実施形態の示されている添付の図面を参照して、以下に本発明をより詳細に説明する。しかしながら、本発明は、本明細書に記載される実施形態に限定されると解釈すべきではない。そうではなく、これらの実施形態は、本開示を詳細で完全なものとし、本発明の範囲を当業者に詳細に伝えるために提示されるものである。図面においては、層および領域の厚さが、明瞭性のために誇張してある。類似の番号は、全体を通して類似の要素を示している。本明細書において使用される場合、「および/または」という用語は、1つまたは複数の関連する列挙項目の任意および全ての組合せを含む。
【0017】
本明細書で使用する用語は、特定の実施形態を説明する目的だけのものであり、本発明の限定を意図するものではない。本明細書で使用されるとき、文脈が特に明確に示さない限り、単数形「a」、「an」、および「the」には複数形も含めることを意図するものである。さらに、この明細書で使用される場合、用語「含む」、「備える」は、記述する形態(feature)、整数(integer)、ステップ、動作、要素、および/または構成要素の存在を明示するが、1つまたは複数のその他の形態、整数、ステップ、動作、要素、構成要素、および/またはそれらの群の存在を除外するものではないことが理解されるだろう。
【0018】
また、層、領域または基板などの要素が別の要素の「上に」ある、または「上に」延びていると言及されるときには、この要素は、当該他の要素の上に直接あるか、またはその上方に直接延びていることが可能であり、あるいは介在要素が存在することも可能である。対照的に、ある要素が、別の要素の「上に直接」ある、または「上に直接」延びていると言及される場合には、介在要素は存在しない。また、ある要素が、別の要素に「接続」または「結合」されていると言及されるときには、この要素が、当該他の要素に直接に接続または結合されていることが可能であり、あるいは介在要素が存在することも可能であることが理解されるだろう。対照的に、ある要素が別の要素に「直接に接続」されている、または「直接に結合」されていると言及されるときには、介在要素は存在しない。類似の番号は、明細書全体を通して類似の要素を指している。
【0019】
第1の、第2の、などの用語が、様々な要素、構成要素、領域、層および/または区分を説明するために本明細書において使用されるが、これらの要素、構成要素、領域、層および/または区分は、これらの用語により限定されるべきでないことが理解されるだろう。これらの用語は、1つの要素、構成要素、領域、層または区分を、別の領域、層または区分から区別するためにのみ使用されている。したがって、本発明の教示から逸脱することなく、以下で議論される第1の要素、構成要素、領域、層または区分を、第2の要素、構成要素、領域、層または区分と呼ぶことができる。
【0020】
さらに、「下部の」または「底部の」および「上部の」または「頂部の」などの相対的用語は、本明細書において、図面に示されるような1つの要素の別の要素との関係を説明するために使用されることがある。相対的用語は、図面に描写された位置付けに加えて、異なるデバイスの位置付けを包含することが意図されていることが理解されるだろう。例えば、図中のデバイスが反転された場合、他の要素の「下部」側にあると説明された要素が、当該他の要素の「上部」側に位置付けられることになる。例示的用語「下部の」は、それゆえ、図面の特定の位置付けに応じて「下部の」および「上部の」の両方の位置付けを包含することができる。同様に、1つの図中のデバイスが反転された場合、他の要素の「下に」と説明された要素が、当該他の要素の「上に」位置付けられることになる。例示的用語「下に」は、それゆえ、上および下の位置付けの両方を包含することができる。
【0021】
本発明の実施形態が、本明細書において、本発明の理想化された実施形態の略図である断面図(および/または平面図)を参照して説明される。そのようなものとして、例えば製造技法および/または許容誤差の結果としての説明図の形からの変形形態が予期されるべきである。したがって、本発明の実施形態は、本明細書で示される領域の特定の形に限定されるものとして解釈されるべきではなく、例えば製造などの結果である形の偏差を含む。例えば、長方形として図示または説明されるエッチングされた領域は、一般に丸みのある、または曲がった形態を有するだろう。したがって、図面に示した領域は本質的に図式的であり、それらの形は、デバイスの領域の正確な形を示すことを意図されておらず、また本発明の範囲を限定することを意図されていない。
【0022】
特段の定めがない限り、本明細書で使用される(技術用語および科学用語を含む)すべての用語は、本発明の属する分野の当業者により通常理解されるのと同じ意味を有する。一般に用いられる辞書で定義されるような用語は、関連技術の文脈における意味と一致した意味を有するものと解釈されるべきであり、本明細書において明示的に定義されない限り、理想化された又は過度に形式的な意味に解釈はされない。
【0023】
当業者は、別の形態に「隣接して」配置されている構造または形態への言及は、隣接する形態と重なり合う部分又は隣接する形態の下に横たわる部分を有することができることも理解するだろう。
【0024】
本明細書において使用するとき、用語「オーミックコンタクト」は、それに関連するインピーダンスが、実質的にすべての予期される動作周波数において、実質的にインピーダンス=V/Iの関係によって与えられる(すなわち、オーミックコンタクトに関連するインピーダンスは、すべての動作周波数において実質的に同一である)コンタクトを指し、ここでVはコンタクトの両端での電圧であり、Iは電流である。例えば、本発明のいくつかの実施形態において、オーミックコンタクトを、約10e−03Ωcm2未満、また実施形態によっては、約10e−04Ωcm2未満の特定のコンタクト抵抗を有するコンタクトとすることができる。したがって、整流性であるか、または、例えば約10e−03Ωcm2より大きいような高い特定のコンタクト抵抗を有するコンタクトは、本明細書においてその用語を使用する場合において、オーミックコンタクトではない。
【0025】
本明細書で記述する、発光デバイス(LED)は、発光ダイオード、レーザダイオードおよび/または他の半導体デバイスとすることができ、これらのデバイスは、シリコン、炭化ケイ素、窒化ガリウムおよび/または他の半導体材料を含むことができる1つまたは複数の半導体層と、サファイア、ケイ素、炭化ケイ素、GaNおよび/または他のマイクロエレクトロニクス基板を含むことができる基板と、金属および/または他の導電層を含むことができる1つまたは複数のコンタクト層を含む。いくつかの実施形態において、紫外、青色および/または緑色LEDを設けてもよい。
【0026】
当業者には理解されるように、本発明の多くの実施形態は、多数の異なる基板とエピタキシャル層との組合せとともに利用することができる。例えば、他の組合せとしては、GaP基板上のAlGaInPダイオード、GaAs基板上のInGaAsダイオード、GaAs基板上のAlGaAsダイオード、SiCまたはサファイア(A1203)基板上の炭化ケイ素(SiC)ダイオード、および/または窒化ガリウム、炭化ケイ素、窒化アルミニウム、サファイア、酸化亜鉛および/または他の基板上の窒化物ベースダイオードが挙げられる。
【0027】
特に、LEDはNorth Carolina州DurhamのCree,Inc.が製造および販売するデバイスとすることができる。本発明は、本明細書に完全に記載されたかのように参照によりその開示が組み込まれている特許文献3〜17に説明されているような、LEDおよび/またはレーザとの使用に適している。他の好適なLEDおよび/またはレーザが、特許文献18および特許文献19に説明されている。さらに、完全に記載されたかのように参照により本明細書にその開示が組み込まれている特許文献20に説明されているものなどの、リン被覆(phosphor coated)LEDも、本発明の実施形態において使用するのに適している。これらのLEDおよび/またはレーザは、基板を介して光放出が生じるように動作を構成することができる。そのような実施形態においては、例えば上記の特許文献19に説明されているように、基板をパターニングし、デバイスの光出力を強めることができる。
【0028】
以下により詳細に記述するように、本発明による実施形態は、例えばウエハをその裏面から加工して発光デバイス(LED)が取り付けられたウエハの厚さを低減することにより、発光デバイスを備えた半導体ウエハを加工する方法を提供することができる。ウエハは、部分的に挿入された鋸刃のベベル先端が、ウエハの切削されなかった部分を分割(break)することによってその上の複数のLEDを互いに分離することを可能にするのに十分なほど深く、ウエハの表面下を切削するのを可能にする厚さまで、薄層化することができる。より具体的には、ウエハは、鋸刃のベベル先端の長さよりも短い水準まで表面下を切削し、それによって、鋸刃の直線縁部が、ウエハの表面(またはその上)に露出されたままになるようにしてもよい。言い換えると、ベベル先端の部分挿入により形成された切り込み線に沿ってウエハを分割することによって複数のLEDを互いに分離することを可能にするのに十分な深さまで、鋸刃のベベル先端の部分的な挿入によりウエハを切削することができる。
【0029】
したがって、ウエハ100’の裏面103は、鋸刃のベベル先端の部分的挿入によって、ウエハ上の複数のLEDを互いに分離することができるようにするのに十分なほど、薄層化することができる。鋸刃のベベル先端を部分的に挿入することによって、ウエハの厚さの低減に起因して複数のものを互いに分離することを可能にしながら、そうでなければ有害な幾何学形状の形成を回避することができる。
【0030】
図1に示すように、ウエハ(すなわち、基板)100は、厚さ(t1)が約250ミクロンから約400ミクロンである。複数の発光デバイス(LED)110が、ウエハ100の裏面103の反対側である、ウエハ100の表面上に形成されている。複数のLEDは、通常複数のGaNベースのエピタキシャル層がその上に堆積されたSiCまたはサファイアなどの絶縁性基板または半導体基板(またはウエハ)を備える、GaNベースの発光ダイオードとすることができることが理解されるだろう。エピタキシャル層は、エネルギーが加えされると発光するp−n接合を有する活性領域を備える。本発明のいくつかの実施形態において、ウエハは、4H−SiC、6H−SiCまたは当業者に知られている別の種類の材料で構成されたSiCウエハである。
【0031】
図2によると、本発明のいくつかの実施形態において、(複数のLED110を備える)ウエハ100とウエハキャリア105とが、複数のLEDと接触している接着層120を介して互いに結合されており、したがって、例えばウエハ100の裏面103にアクセスできるようにウエハキャリア105を研磨機に取り付けることによって、アセンブリ全体を加工の対象とすることができる。ウエハ100/複数のLED110は、ワックスなどの当業者に知られており、複数のLEDまたはウエハキャリアに適用することができる任意の技法を用いて、ウエハキャリア105に結合することができることが理解されるだろう。さらに、用語「接触」は、直接接触および間接接触を含み、間接接触の場合には、例えば(上記の接着層などの)1つまたは複数の介在要素が複数のLEDとウエハとの間に存在し、それによって、これらの2つの要素を互いに結合することができ、またキャリアを保持する間にウエハの裏面を加工することができることが理解されるだろう。
【0032】
図3によると、本発明によるいくつかの実施形態において、ウエハ100の裏面103が加工され、ウエハ100の厚さがt1よりも小さい厚さt2に低減されて薄層化ウエハ100’が形成される。厚さt2はt1よりも小さく、それによってベベル先端を有する鋸刃が、鋸刃の先端のベベルのおおよその長さよりも小さい深さまで裏面103の表面下を切削することが可能となることが理解されるだろう。したがって、ベベル先端を裏面103に部分的に挿入し、鋸刃の直線縁部が裏面103の上に露出されたままにすることができる。
【0033】
本発明によるいくつかの実施形態において、ウエハ100の厚さが、インフィード研磨機またはクリープフィード研磨機などの研磨機を使用して低減される。本発明の他の実施形態においては、ウエハ100の厚さが、研磨を伴い又は伴わずに、ラッピング、化学エッチングもしくは反応性イオンエッチング、またはこれらの手法の組合せを使用して低減される。本発明のさらに他の実施形態においては、エッチングを使用して薄層化したウエハ(すなわち、ウエハを薄層化した後)の裏面を処理し、エピ層の成長が改善されるようにウエハへの損傷を低減することができる。
【0034】
上述の実施形態では、(鋸刃の直線縁部が露出されたままとなるような)ベベル先端の部分的な挿入について言及しているが、本発明のいくつかの実施形態においては、ベベル先端をさらに挿入して、鋸刃の直線縁部のわずかな部分が薄層化されたウエハ100’の表面下に挿入されるようにすることもできることが理解されるだろう。さらに、そのようにして形成されたLEDは、ベベル先端が部分的に挿入される実施形態と実質的に同じ便益(例えば、光引き出しの向上およびリン被覆の共形堆積(conformal deposition)の改善など)をもたらすことができることが理解されるだろう。したがって、鋸刃の直線縁部のわずかな部分が薄層化されたウエハ100’の表面下に挿入される実施形態は、特許請求の主題の範囲内であることが理解されるであろう。
【0035】
本発明のいくつかの実施形態において、ウエハ100は、約150ミクロン未満の厚さまで薄層化される。本発明の他の実施形態において、ウエハ100は、約120ミクロン未満の厚さまで薄層化される。本発明のいくつかの実施形態においては、ウエハ100は、インフィード研磨機またはクリープフィード研磨機を使用して薄層化される。
【0036】
ベベル先端の部分挿入は、薄層化ウエハ100’の低減された厚さと結びついて、例えば、ウエハ全体を切削するのではなく薄層化されたウエハ100’を分割することによって、複数のLEDを互いに分離ことを可能にする。裏面103が加工されてウエハ100’が十分に薄くなると、ウエハキャリア105を、例えば接着層120を加熱して、アセンブリから取り外し、それによって薄層化ウエハ100’およびその上にある複数のLEDを図4に示すように取り外すことができる。本発明の他の実施形態において、例えば図2を参照して示したような、これらの要素を結合するのに使用される構造に基づき、適当な方法を使用して、ウエハキャリア105をアセンブリから取り除くことができる。例えば、構造を溶解または融解させて、ウエハキャリア105をアセンブリから分離してもよい。
【0037】
オーミックコンタクト107は、例えば、本出願の譲受人に共有で譲渡された、その開示が参照により本明細書に組み込まれている特許文献21で検討されているようなレーザアニーリングを使用して、ウエハ100’の裏面103に形成することができる。ウエハがウエハキャリアに結合されている間に、オーミックコンタクトを薄層化したウエハ100’上に形成することができることが理解されるだろう。本発明のいくつかの実施形態においては、例えば図5に示すように、ウエハをキャリアから取り外した後に、オーミックコンタクトを薄層化したウエハ100’上に形成することができる。接着パッド106は、オーミックコンタクトと反対側の、複数のLED110上に形成することができる。鋸刃30を使用してウエハ100’を切削し、複数のLEDをパッケージングのために分離することができる。鋸刃30は、ウエハ100’全体を切削して、分離された複数のLED110間の薄層化されたウエハ100’に直線縁部を形成するか、または、薄層化されたウエハ100’を十分に切削し、したがって鋸刃30により形成された切り込み線に沿って圧力をかけることによって、LED110を互いに分離できるようにすることができることが理解されるだろう。
【0038】
図6に示すような本発明の他の実施形態においては、鋸刃30は、薄層化されたウエハ100’中に、ベベル先端131の長さより小さい深さまで部分的に挿入されて、薄層化されたウエハ100’内にベベル溝17が形成される。鋸30は、ベベル先端131が部分的に挿入されるときに鋸30の直線縁部31が露出されたままとなるように、薄層化されたウエハ100’中に部分的に挿入され、ベベル溝17上の薄層化されたウエハ100’内に望ましくない幾何学形状が形成されるのが回避される。さらに、薄層化されたウエハ100’の厚さが薄いために、ベベル溝17は、薄層化されたウエハ100’中に十分に侵入し、その結果、図7に示すように溝(または切り込み線)に沿って薄層化されたウエハ100’を分割することにより、複数のLEDを互いに分離することができる。さらに、図5を参照して先に考察したように、接着パッド106およびオーミックコンタクト107を複数のLED上に形成することができる。
【0039】
本発明の実施形態によるさらなる態様においては、レーザで裏面103をパターニングすること、または一般に「荒加工(roughing)」と呼ばれるものを含めて、ウエハ100’の裏面103を加工することによりLEDからの光取り出しをさらに向上させることができる。レーザパターニングは、単独またはステップ状に行うことができる。裏面103をパターニングすることによって、例えばランダム化(randomization)パターンを設けることにより、光取り出しを向上することができる。本発明の実施形態は、特に、デバイスの表面積のためにウエハ100’の傾斜した側壁の有効性が低減される可能性のある、大面積のデバイスに適している。さらに、ウエハ100’の対向する面(すなわち、前面および裏面103)の片面または両面をパターニングしてもよい。ウエハ100’は、参照によりその全開示が本明細書に組み込まれている特許文献22に説明されているようなレーザパターニングシステムを使用してパターニングしてもよい。
【0040】
本発明のいくつかの実施形態において、ウエハ100’をパターニングするのに使用するレーザはエキシマパルスレーザであるが、基板から材料を除去するのに適した任意のレーザシステムを使用することができる。例えば、レーザシステムは、3倍波および/または4倍波のYAGレーザとすることができる。本発明の特定の実施形態においては、レーザは、308nmの波長を有するが、248nm、193nm、157nm、355nmまたは266nmなどの他の波長を使用することもできる。さらに、水ミストおよび/またはアシストガスなどの、当業者には知られている補助プロセスを使用して、表面損傷の軽減および/またはレーザ吸収の増大を行ってもよい。レーザの複数のパルスを使用して、基板から材料を除去してもよい。基板から材料を制御可能に除去するのに適した任意のエネルギーを使用してもよい。例えば、約4.2J/パルスの308nmのパルスレーザを、本発明の特定の実施形態において使用することができる。
【0041】
図8は、本発明のいくつかの実施形態に従ってレーザパターニングされた裏面103を有する、ウエハ100’上のLEDの断面図である。図9は、図8の発光デバイスの等角透視図である。3次元パターン120が、上述のようなレーザを使用して裏面103に形成されている。図8および9に示されている実施形態においては、LED110は、ウエハ100’の反対側104(すなわち、前面)上に形成されている。図8および9より分かるように、パターン120は、ウエハ100の裏面103上の連続する境界線130によって包囲されている。
【0042】
図10および11は、本発明にさらなる実施形態によるウエハ100’の断面図である。図10および11より分かるように、断面において、ウエハ100’内に広がる曲面200またはウエハ100’から突出する曲面210をレーザパターニングによって設けることができる。曲面200、210は、放物曲線とすることができる。そのような曲線は、例えば、放物線状構造を設けるために基板材料の選択的除去を提供する一連のマスクの使用を伴いレーザ光を制御することにより、設けることができる。本発明の特定の実施形態においては、曲面は、基板内にレンズをもたらすことができる。本発明の他の実施形態においては、曲面は、正弦波パターンの溝をもたらすことができる。
【0043】
複数の曲線構造を図10および11に示してあるが、ウエハ100’は、曲面ウエハ100’をもたらすように単一の曲線に成形することもできる。曲面ウエハ100’は、両面に曲面を有していてもよい。また、発光デバイスを、ウエハ100’の曲面上に設けてもよい。
【0044】
図12および図13は、本発明のさらに別の実施形態によるウエハ100’の断面図である。図12および13から分かるように、曲面形態220および非曲面形態230、240の組合せを、単一のウエハ100’内に設けることができる。したがって、本発明の実施形態は、単一のウエハ100’内に、複数の異なる3次元幾何学形状パターンを備えることができる。
【0045】
図14から図16は、本発明のいくつかの実施形態によるレーザパターニングについての代替実施形態を示している。図14から分かるように、ポリママスク層300をウエハ100’上に設けることができる。図15において、ポリママスク層300がレーザパターニングされて、ウエハ100’に設けようとする形態に対応する3次元形態320を有するポリママスク310が得られる。図16において、マスク310がエッチングマスクとして使用され、ウエハ100’がエッチングされて3次元形態330が得られる。エッチングは、例えば、ドライエッチングとすることができる。従来のポリママスクおよびポリママスクを使用するエッチング技法を使用してもよい。さらに、レーザパターニングすることのできる他のマスク材料を使用してもよい。
【0046】
ポリマ層をレーザパターニングする技法は、当業者には既知である。例えば、そのような技法が、Boehlenらの文献に説明されている(非特許文献1を参照)。エッチングマスクがポリマエッチングマスクである本発明の特定の実施形態において、ポリマを、248nmレーザでパターニングすることができる。エッチングプロセスの特性をマスク310の特性を設計する上で考慮に入れて、ウエハ100’に所望の3次元幾何学形状パターンをもたらすことができる。例えば、マスク材料と炭化ケイ素ウエハとの間のエッチング速度の差を、マスクをパターニングするときに考慮することができる。
【0047】
エッチングマスクのパターニングはレーザパターニングで得られるので、エッチングマスクの形状は、レーザマスクの制御を通じて容易に調節することができる。したがって、例えば、エッチングマスクの形状は、エッチングマスクの炭化ケイ素に対する6対1のエッチング速度を考慮に入れて、形態をそれに応じて調節することができる。そのようなマスク特性の調節は、エッチングマスクのレーザパターニングを使用せずに提供するのは困難な場合がある。さらに、レーザパターニングの利用を通じて、例えばピラミッドおよびレンズなどの複数の幾何学形状を、それらをレーザマスク中に設計することにより、走査画像技法(scanning image technique)を用いて単一のステップで形成することが可能である。
【0048】
さらに、エッチング後のウエハの表面を、粗くするか、または平滑にすることができる。粗面は、例えばアルミニウムなどの材料の薄層をエッチングマスクと基板との間に配置してマイクロマスクを生成することによって、設けることができる。エッチングされるとき、マイクロマスクは、ウエハ100’の表面を粗くするように作用することができる。
【0049】
本開示の利益を考慮に入れると、当業者は、本発明の精神および範囲から逸脱することなく、多数の変更および修正を行うことが可能である。したがって、図示した実施形態は、例としての目的だけで記載したものであり、添付の特許請求の範囲によって定義される本発明を限定するものと捉えるべきではないことが理解されるべきである。したがって、添付の特許請求の範囲は、文字通り記載されている要素の組合せだけでなく、実質的に同一の方法で実質的に同一の機能を実施して実質的に同一の結果を得るための、すべての等価的要素を含むものと読み取るべきである。したがって、特許請求の範囲は、具体的に図示して説明したもの、概念的に均等なもの、および本発明の本質的な概念を組み入れるものを含むことを理解すべきである。
【図面の簡単な説明】
【0050】
【図1】本発明のいくつかの実施形態による、半導体ウエハを加工する方法を示す断面図である。
【図2】本発明のいくつかの実施形態による、半導体ウエハを加工する方法を示す断面図である。
【図3】本発明のいくつかの実施形態による、半導体ウエハを加工する方法を示す断面図である。
【図4】本発明のいくつかの実施形態による、半導体ウエハを加工する方法を示す断面図である。
【図5】本発明のいくつかの実施形態による、半導体ウエハを加工する方法を示す断面図である。
【図6】本発明のいくつかの実施形態による、半導体ウエハを加工する方法を示す断面図である。
【図7】本発明のいくつかの実施形態による、半導体ウエハを加工する方法を示す断面図である。
【図8】本発明の様々な実施形態による、レーザパターニングされたウエハを有する発光デバイスの断面図である。
【図9】本発明の様々な実施形態による、レーザパターニングされたウエハを有する発光デバイスの等角図である。
【図10】本発明の代替実施形態による、レーザパターニングされたウエハの断面図である。
【図11】本発明の代替実施形態による、レーザパターニングされたウエハの断面図である。
【図12】本発明の代替実施形態による、レーザパターニングされたウエハの断面図である。
【図13】本発明の代替実施形態による、レーザパターニングされたウエハの断面図である。
【図14】本発明の代替実施形態による、レーザパターニング技法による工程を示す断面図である。
【図15】本発明の代替実施形態による、レーザパターニング技法による工程を示す断面図である。
【図16】本発明の代替実施形態による、レーザパターニング技法による工程を示す断面図である。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
半導体ウエハを加工して発光デバイスを形成する方法であって、
第1の厚さを有する半導体ウエハ上に、複数の発光デバイス(LED)を形成することと、
前記ウエハ上の前記複数のLEDをキャリアの表面に接触させ、前記ウエハを前記キャリアに結合することと、
前記ウエハの前記第1の厚さを、前記ウエハの裏面を加工することによって、前記第1の厚さよりも小さい第2の厚さまで低減することと、
前記ウエハ上の前記複数のLEDから前記キャリアを分離することと、
前記ウエハを切削して、前記複数のLEDを分離することと
を含む方法。
【請求項2】
前記第1の厚さは、約250μmから約400μmの厚さを含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項3】
前記ウエハの前記第1の厚さを低減することは、前記ウエハの裏面を研磨、ラッピング、および/またはエッチングして、前記ウエハの前記第1の厚さを、約150μm未満の前記第2の厚さまで低減することを含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項4】
前記ウエハの前記第1の厚さを低減することは、前記ウエハの裏面を研磨、ラッピング、および/またはエッチングして、前記ウエハの前記第1の厚さを、約120μm未満の前記第2の厚さまで低減することを含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項5】
前記ウエハの裏面を研磨することは、インフィード研磨機またはクリープフィード研磨機を使用して、前記ウエハの裏面を研磨することを含むことを特徴とする請求項4に記載の方法。
【請求項6】
前記ウエハを切削することは、鋸刃を使用して前記ウエハを切削し、分離された複数のLEDに直線縁部を形成することを含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項7】
前記ウエハを切削することは、
前記ウエハ上に切り込み線を切削し、前記ウエハ上の前記複数のLED間にベベル溝を形成することと、
前記ウエハ上の前記複数のLEDを、前記切り込み線に沿って互いに分離することと
を含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項8】
前記ウエハを切削することは、鋸刃を用いて、前記鋸刃のベベル先端の長さ程度よりも小さい、ウエハの表面下の深さまで、前記ウエハを切削することを含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項9】
前記深さは、約120μmより小さいことを特徴とする請求項8に記載の方法。
【請求項10】
前記ウエハの前記第1の厚さを前記第2の厚さまで低減することに続いて、
前記複数のLEDと反対側の前記ウエハの裏面を加工して光取り出しを向上させることと、
それぞれの接着パッドを前記複数のLED上に形成しようとする場所と反対側の裏側表面上に、複数のそれぞれのコンタクトを形成することと
を含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項11】
加工することは、前記裏側表面をエッチングすることを含むことを特徴とする請求項10に記載の方法。
【請求項12】
加工することは、前記裏側表面をレーザパターニングすることを含むことを特徴とする請求項10に記載の方法。
【請求項13】
複数のそれぞれのコンタクトを形成することは、レーザアニーリングを使用して複数のオーミックコンタクトを形成することを含むことを特徴とする請求項10に記載の方法。
【請求項14】
前記キャリアを前記ウエハ上の前記複数のLEDから分離することは、前記複数のLEDの前記キャリアからの分離を生じさせるのに十分なほど、接着層を、加熱、融解または溶解することを含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項15】
前記ウエハは、炭化ケイ素ウエハまたはサファイアウエハを含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項16】
半導体ウエハを加工して発光デバイスを形成する方法であって、
ある厚さを有する半導体ウエハ上に複数の発光デバイス(LED)を形成することと、
前記ウエハ上の前記複数のLEDをキャリアの表面に接触させて前記複数のLEDを前記キャリアに結合することと、
前記ウエハの厚さを、約150μm未満の厚さまで低減することと、
前記ウエハ上の前記複数のLEDから前記キャリアを分離することと、
鋸刃を用いて、前記鋸刃のベベル先端の長さ程度よりも小さい、ウエハの表面下の深さまで、前記ウエハを切削し、前記ウエハ上の前記複数のLEDを互いに分離することと
を含むことを特徴とする方法。
【請求項17】
前記ウエハの厚さを低減することは、前記ウエハの厚さを約120μm未満までさらに低減することをさらに含むことを特徴とする請求項16に記載の方法。
【請求項18】
前記ウエハの厚さを低減することに続いて、前記複数のLEDと反対側の前記ウエハの裏側表面を加工して光取り出しを向上させることを特徴とする請求項16に記載の方法。
【請求項19】
それぞれの接着パッドを前記複数のLED上に形成しようとする場所と反対側の裏側表面上に、複数のそれぞれのコンタクトを形成することをさらに含むことを特徴とする請求項18に記載の方法。
【請求項20】
前記ウエハは、炭化ケイ素ウエハまたはサファイアウエハを含むことを特徴とする請求項16に記載の方法。
【請求項21】
炭化ケイ素(SiC)基板上の発光デバイス(LED)であって、SiC基板上にLEDを備え、前記SiC基板は、約150μm未満の第1の厚さを有することを特徴とするLED。
【請求項22】
前記SiC基板に関連する順方向電圧は、約3.4ボルト未満であることを特徴とする請求項21に記載のLED。
【請求項23】
前記SiC基板は、4H−SiCまたは6H−SiCで構成されていることを特徴とする請求項21に記載のLED。
【請求項1】
半導体ウエハを加工して発光デバイスを形成する方法であって、
第1の厚さを有する半導体ウエハ上に、複数の発光デバイス(LED)を形成することと、
前記ウエハ上の前記複数のLEDをキャリアの表面に接触させ、前記ウエハを前記キャリアに結合することと、
前記ウエハの前記第1の厚さを、前記ウエハの裏面を加工することによって、前記第1の厚さよりも小さい第2の厚さまで低減することと、
前記ウエハ上の前記複数のLEDから前記キャリアを分離することと、
前記ウエハを切削して、前記複数のLEDを分離することと
を含む方法。
【請求項2】
前記第1の厚さは、約250μmから約400μmの厚さを含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項3】
前記ウエハの前記第1の厚さを低減することは、前記ウエハの裏面を研磨、ラッピング、および/またはエッチングして、前記ウエハの前記第1の厚さを、約150μm未満の前記第2の厚さまで低減することを含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項4】
前記ウエハの前記第1の厚さを低減することは、前記ウエハの裏面を研磨、ラッピング、および/またはエッチングして、前記ウエハの前記第1の厚さを、約120μm未満の前記第2の厚さまで低減することを含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項5】
前記ウエハの裏面を研磨することは、インフィード研磨機またはクリープフィード研磨機を使用して、前記ウエハの裏面を研磨することを含むことを特徴とする請求項4に記載の方法。
【請求項6】
前記ウエハを切削することは、鋸刃を使用して前記ウエハを切削し、分離された複数のLEDに直線縁部を形成することを含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項7】
前記ウエハを切削することは、
前記ウエハ上に切り込み線を切削し、前記ウエハ上の前記複数のLED間にベベル溝を形成することと、
前記ウエハ上の前記複数のLEDを、前記切り込み線に沿って互いに分離することと
を含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項8】
前記ウエハを切削することは、鋸刃を用いて、前記鋸刃のベベル先端の長さ程度よりも小さい、ウエハの表面下の深さまで、前記ウエハを切削することを含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項9】
前記深さは、約120μmより小さいことを特徴とする請求項8に記載の方法。
【請求項10】
前記ウエハの前記第1の厚さを前記第2の厚さまで低減することに続いて、
前記複数のLEDと反対側の前記ウエハの裏面を加工して光取り出しを向上させることと、
それぞれの接着パッドを前記複数のLED上に形成しようとする場所と反対側の裏側表面上に、複数のそれぞれのコンタクトを形成することと
を含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項11】
加工することは、前記裏側表面をエッチングすることを含むことを特徴とする請求項10に記載の方法。
【請求項12】
加工することは、前記裏側表面をレーザパターニングすることを含むことを特徴とする請求項10に記載の方法。
【請求項13】
複数のそれぞれのコンタクトを形成することは、レーザアニーリングを使用して複数のオーミックコンタクトを形成することを含むことを特徴とする請求項10に記載の方法。
【請求項14】
前記キャリアを前記ウエハ上の前記複数のLEDから分離することは、前記複数のLEDの前記キャリアからの分離を生じさせるのに十分なほど、接着層を、加熱、融解または溶解することを含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項15】
前記ウエハは、炭化ケイ素ウエハまたはサファイアウエハを含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項16】
半導体ウエハを加工して発光デバイスを形成する方法であって、
ある厚さを有する半導体ウエハ上に複数の発光デバイス(LED)を形成することと、
前記ウエハ上の前記複数のLEDをキャリアの表面に接触させて前記複数のLEDを前記キャリアに結合することと、
前記ウエハの厚さを、約150μm未満の厚さまで低減することと、
前記ウエハ上の前記複数のLEDから前記キャリアを分離することと、
鋸刃を用いて、前記鋸刃のベベル先端の長さ程度よりも小さい、ウエハの表面下の深さまで、前記ウエハを切削し、前記ウエハ上の前記複数のLEDを互いに分離することと
を含むことを特徴とする方法。
【請求項17】
前記ウエハの厚さを低減することは、前記ウエハの厚さを約120μm未満までさらに低減することをさらに含むことを特徴とする請求項16に記載の方法。
【請求項18】
前記ウエハの厚さを低減することに続いて、前記複数のLEDと反対側の前記ウエハの裏側表面を加工して光取り出しを向上させることを特徴とする請求項16に記載の方法。
【請求項19】
それぞれの接着パッドを前記複数のLED上に形成しようとする場所と反対側の裏側表面上に、複数のそれぞれのコンタクトを形成することをさらに含むことを特徴とする請求項18に記載の方法。
【請求項20】
前記ウエハは、炭化ケイ素ウエハまたはサファイアウエハを含むことを特徴とする請求項16に記載の方法。
【請求項21】
炭化ケイ素(SiC)基板上の発光デバイス(LED)であって、SiC基板上にLEDを備え、前記SiC基板は、約150μm未満の第1の厚さを有することを特徴とするLED。
【請求項22】
前記SiC基板に関連する順方向電圧は、約3.4ボルト未満であることを特徴とする請求項21に記載のLED。
【請求項23】
前記SiC基板は、4H−SiCまたは6H−SiCで構成されていることを特徴とする請求項21に記載のLED。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【公表番号】特表2007−511105(P2007−511105A)
【公表日】平成19年4月26日(2007.4.26)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2006−539938(P2006−539938)
【出願日】平成16年11月12日(2004.11.12)
【国際出願番号】PCT/US2004/037934
【国際公開番号】WO2005/048363
【国際公開日】平成17年5月26日(2005.5.26)
【出願人】(592054856)クリー インコーポレイテッド (468)
【氏名又は名称原語表記】CREE INC.
【Fターム(参考)】
【公表日】平成19年4月26日(2007.4.26)
【国際特許分類】
【出願日】平成16年11月12日(2004.11.12)
【国際出願番号】PCT/US2004/037934
【国際公開番号】WO2005/048363
【国際公開日】平成17年5月26日(2005.5.26)
【出願人】(592054856)クリー インコーポレイテッド (468)
【氏名又は名称原語表記】CREE INC.
【Fターム(参考)】
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