説明

窒化物含有成型体及び単結晶窒化物の製造方法

【課題】アモノサーマル法による単結晶窒化物の製造において、原料としての窒化物含有成型体ならびにこれを用いた単結晶窒化物の製造方法を提供する。
【解決手段】周期表第13族元素の窒化物と鉱化剤とを含有する窒化物含有組成物をプレス成型等により窒化物含有成型体Bを成型する。つづいて、該窒化物含有成型体Bと種結晶Aとを、超臨界状態のアンモニア及び/又はアンモニア誘導体(溶媒C)中に配置することにより、窒化物含有成型体Bを構成する窒化物含有組成物を超臨界状態のアンモニア及び/又はアンモニア誘導体に溶解し、溶解した窒化物含有成型体Bを種結晶Aに供給して結晶育成する。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、周期表第13族元素の窒化物を含有する窒化物含有成型体、また、アモノサーマル法による単結晶窒化物の製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、金属の窒化物が注目されており、中でも、単結晶窒化ガリウム(以下、窒化ガリウムのことをGaNと表記する。)は、発光ダイオード及びレーザーダイオード等の電子素子に適用されて特に注目されている。
GaN単結晶の製造方法としては、例えば、基板上にMOCVD法によりGaN結晶をエピタキシャル成長させる方法が知られている。しかし、この方法ではGaN格子欠陥の形成が避けられず、他の製造方法の開発が強く求められている。
【0003】
単結晶GaNの他の製造方法としては、例えば、非特許文献1に、高温、高圧で超臨界状態のアンモニアからなる溶媒中に原料GaNと種結晶と結晶化のための鉱化剤であるKNHとを配置し、原料GaNと鉱化剤を溶媒に溶解させ、溶解したGaNを種結晶に供給して結晶育成させるアモノサーマル法が報告されている。このアモノサーマル法で使用される原料GaNとしては、特許文献1には、GaNからなるペレットが記載され、特許文献2には、多結晶GaN粉末が記載されている。
また、焼結多結晶GaNを原料GaNとして用いる方法(特許文献3参照)や、冷間プレスして小さくしたGaN粉末を用いる方法が提案されている(非特許文献2参照)。
【特許文献1】特開2004−168656号公報
【特許文献2】特表2004−53391号公報
【特許文献3】特表2005−508822号公報
【非特許文献1】アール・ドゥイリンスキ(R. Dwilinski)、「アクタ フィジカ ポロニカ エイ(ACTA PHYSICA POLONICA A)」、第88号、1995年
【非特許文献2】バルカス(Balkas)ら、「ジャーナル オブ クリスタル グロース(Journal of Crystal Growth)」、第208号、2000年、p.100
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかし、特許文献1のようなGaNペレットは、溶媒へのGaNの溶解度が低いため、結晶の成長速度が遅く、単結晶の生産性が低かった。工業的に利用価値の高い大きさの単結晶を得るためには数ヶ月を要するため、アモノサーマル法による単結晶の製造では、生産性が低いことは特に大きな問題である。
また、特許文献3のような焼結多結晶GaNを製造することは非常に困難であり、量産性が低く、工業的ではなかった。例えば、特許文献3では、GaNの粉末又は冷間圧縮ピルを容器に封入し、温度1150〜1300℃、圧力1〜10kbarという高温高圧条件下で加圧して焼結多結晶GaNを製造している。
また、非特許文献2に記載の方法で得られたGaNは見かけ密度が低く、多孔質であるため水分を吸着しやすく、保存性に欠けている上に、崩壊して元の粉末に戻りやすいため、工業的には使用困難であった。
そこで、本発明は、アモノサーマル法による単結晶の生産性が高く、工業的に利用可能な窒化物含有成型体を提供することを目的とする。また、アモノサーマル法において単結晶窒化物を高い生産性で製造でき、工業的である単結晶窒化物の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本発明の窒化物含有成型体は、周期表第13族元素の窒化物と鉱化剤とを含有する窒化物含有組成物が成型されたことを特徴とする。
本発明の窒化物含有成型体においては、周期表第13族元素の窒化物が、窒化ガリウムであることが好ましい。
本発明の窒化物含有成型体においては、窒化物含有組成物中の鉱化剤含有量が2質量%以上であることが好ましい。
また、本発明の窒化物含有成型体においては、鉱化剤がハロゲン化塩であることが好ましい。
本発明の単結晶窒化物の製造方法は、上述した窒化物含有成型体と種結晶とを、超臨界状態のアンモニア及び/又はアンモニア誘導体中に配置し、
前記窒化物含有成型体を構成する窒化物含有組成物を超臨界状態のアンモニア及び/又はアンモニア誘導体に溶解し、溶解した窒化物含有成型体を前記種結晶に供給して結晶育成することを特徴とする。
【発明の効果】
【0006】
本発明の窒化物含有成型体は、アモノサーマル法での単結晶製造に用いた場合に単結晶の生産性が高く、工業的に利用可能である。
本発明の単結晶窒化物の製造方法によれば、アモノサーマル法において単結晶窒化物を高い生産性で製造できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0007】
(窒化物含有成型体)
本発明の窒化物含有成型体は、窒化物含有組成物が成型されたものであり、窒化物含有組成物は周期表第13族元素の窒化物(以下、13族窒化物と略す。)と鉱化剤とを含有するものである。
13族窒化物としては、窒化アルミニウム、GaN、窒化インジウム、窒化タリウムが挙げられる。これらの中でも、発光ダイオード及びレーザーダイオード等の電子素子として特に有用であることから、GaNが好ましい。また、本発明は、13族窒化物がGaNである場合にとりわけ効果が発揮される。
【0008】
13族窒化物は、容易に入手できることから、多結晶体であることが好ましい。多結晶体の中でも、より高品質の単結晶窒化物が得られることから、微結晶の多結晶体であることが好ましい。
13族窒化物は、平均粒径は500μm以下の粉体であることが好ましく、50μm以下の粉体であることがより好ましく、10μm以下の粉体であることが特に好ましい。平均粒径が小さい程、13族窒化物の比表面積が大きくなり、単結晶窒化物製造時に超臨界状態のアンモニア及び/又はアンモニア誘導体との相溶性が向上し、溶解速度がより速くなる。ただし、13族窒化物の平均粒径は1μm以上であることが好ましい。13族窒化物の平均粒径が1μm未満であると、溶解しなかった1μm未満の13族窒化物が熱対流により種結晶上に供給され、種結晶上に付着して単結晶の育成を阻害するおそれがある。
【0009】
13族窒化物中の酸素含有量は0.2質量%以下であることが好ましく、0.1質量%以下であることがより好ましく、0.05質量%以下であることが特に好ましい。13族窒化物中の酸素含有量が0.2質量%を超えると得られる単結晶窒化物中の酸素含有量が多くなるため、純度が低下する傾向にある。
また、13族窒化物の形態としては特に限定されず、例えば、凝集体でもよいし、凝集体を粉砕したものでもよい。
【0010】
13族窒化物の製造方法としては特に制限されない。以下に、13族窒化物の製造方法の一例として、多結晶GaNの製造方法を示す。
本例の多結晶GaNの製造方法では、まず、横型管状炉に原料である金属Gaを充填し、この横型管状炉中にアンモニアガスを連続的に流通させながら、900〜1100℃まで昇温する。そして、その温度を保ったまま1〜5時間反応させた後、常温まで降温して、多結晶GaNを得る。この製造方法は、多結晶GaN中の酸素含有量を容易に0.1質量%以下にできるという利点を有するため好ましいが、この製造方法以外の方法で多結晶GaNを製造しても構わない。
【0011】
(鉱化剤)
鉱化剤は、超臨界状態のアンモニア及び/又はアンモニア誘導体中において、13族窒化物と錯体を形成して溶解を促進させるものである。また、本発明では、鉱化剤は13族窒化物のバインダとしての役割を果たす。
鉱化剤の具体例としては、フッ化アンモニウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、塩化アンモニウム、塩化ナトリウム、塩化カリウム、臭化アンモニウム、臭化ナトリウム、臭化カリウム、ヨウ化アンモニウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラ−n−ブチルアンモニウムアイオダイド、ヒドラジン塩酸塩などのハロゲン化塩などが挙げられる。
また、リチウムアミド、ナトリウムアミド、カリウムアミド等のアルカリ金属アミドや、LiN、Mg、Ca、NaN等の窒化アルカリ金属又は窒化アルカリ土類金属、フッ化水素、塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素、窒化クロム、窒化ニオブ、窒化ケイ素、窒化亜鉛、炭酸アンモニウム等が挙げられる。
これらの中でも、13族窒化物との錯体形成能が高く、溶媒溶解性が高いことから、ハロゲン化塩が好ましく、特に、フッ化アンモニウム、塩化アンモニウム、臭化アンモニウム、ヨウ化アンモニウムなどのハロゲン化アンモニウムがより好ましい。
【0012】
窒化物含有組成物中に含まれる鉱化剤は、1種でもよいし、2種以上であってもよい。ただし、窒化物含有成型体をアモノサーマル法による単結晶窒化物の製造に用いる場合には、使用する超臨界状態のアンモニア及び/又はアンモニア誘導体の種類や結晶育成条件に合わせて適切な鉱化剤を選択することが好ましい。適切な鉱化剤を選択することにより、超臨界状態における窒化物含有成型体の溶解速度及び結晶成長速度をより速くすることができる。
【0013】
窒化物含有組成物中に含まれる鉱化剤の量は、13族窒化物をより結着できることから、2質量%以上であることが好ましく、4質量%以上であることがより好ましい。ただし、原料GaNの量を充分に確保できる点から、50質量%以下であることが好ましく、40質量%以下であることがより好ましい。
【0014】
窒化物含有成型体の製造方法としては特に制限されず、例えば、13族窒化物と鉱化剤を混合して窒化物含有組成物を得た後、その窒化物含有組成物を金型に充填し、加圧プレスなどの成型器で圧縮する方法(プレス成型法)などが挙げられる。
上記プレス成型法における温度は鉱化剤の沸点もしくは昇華点以下であることが好ましい。
上記プレス成型法を行う雰囲気の相対湿度は70%以下であることが好ましく、50%以下であることがより好ましく、40%以下であることが特に好ましい。相対湿度が70%を超えると鉱化剤が吸湿するため、水分が混入した状態でアモノサーマルにより結晶成長させることになり、単結晶の純度が低下する傾向にある。
上記プレス成型法における雰囲気は、単結晶の純度を高くするため酸素が少ないことが好ましい。そのため、例えば、不活性ガスで置換したボックス内でプレス成型を行うことが好ましい。不活性ガスで置換したボックス内でプレス成型すれば、13族窒化物中の酸素含有量を容易に0.2質量%以下にできる。
プレス成型時の圧力は、得られる窒化物含有成型体の圧縮強度が高くなることから、30MPa以上であることが好ましく、40MPa以上であることがより好ましい。しかし、本発明では、バインダとしての役割を果たす鉱化剤を含有するため、プレス成型時の圧力は100MPa以下であればよく、特に60MPa以下であっても構わない。プレス成型時の圧力が低いほど、量産性が高くなる。
加圧時間は1分〜10時間であることが好ましく、3〜30分であることがより好ましい。
【0015】
窒化物含有成型体は、室温下、相対湿度が好ましくは70%以下、より好ましくは50%以下、特に好ましくは30%以下の雰囲気で保存するとよい。また、空気雰囲気下では組成が変化することがあるため、窒素ガスやアルゴンガスなどの不活性ガス中に保存することが好ましい。
【0016】
窒化物含有成型体の形状は特に限定されず、例えば、円柱状、球状、角柱状などが挙げられる。窒化物含有成型体の大きさは、単結晶窒化物を製造する際に使用するオートクレーブの径に応じた大きさであればよく、例えば、外径100mmのオートクレーブに対しては、直径90mm、厚さ10mmの円柱状の窒化物含有成型体を使用すればよい。
【0017】
本発明の窒化物含有成型体は、13族窒化物だけでなく、鉱化剤を含んでおり、アモノサーマル法による単結晶窒化物製造時に窒化物含有成型体を超臨界状態のアンモニア及び/又はアンモニア誘導体中に配置した際に、13族窒化物の周囲に鉱化剤が高濃度に存在することになる。その結果、13族窒化物と鉱化剤とが錯体を形成しやすくなり、超臨界状態のアンモニア及び/又はアンモニア誘導体に溶解しやすくなるため、結晶の成長速度が速くなり、単結晶製造の生産性が向上する。
また、超臨界状態のアンモニア及び/又はアンモニア誘導体中に窒化物含有成型体を配置した際には、鉱化剤が先に溶解するため、窒化物含有成型体が多孔質になる。その結果、超臨界状態のアンモニア及び/又はアンモニア誘導体に対する13族窒化物の接触面積が大きくなる。このことによっても、溶解が促進されるものと考えられる。
さらに、13族窒化物にバインダの役割を果たす鉱化剤を混ぜることにより、窒化物含有成型体の成型時の成型条件を穏和な条件にでき、量産性が高くなる上に、大きさや仕様の変更にも容易に対応でき、スケールアップ時の再現性も高くなるため、工業的である。
【0018】
しかも、本発明の窒化物含有成型体では、表面積が小さくなり、吸湿性が低くなる。そのため、結晶育成時に水などの結晶育成阻害物質の持ち込みが少なくなる上に、保存性も向上する。また、未溶解で粉末状の13族窒化物が種結晶に供給されにくくなり、結晶育成の阻害要因が少なくなるため、結晶サイズを大きくすることができるものと考えられる。
【0019】
(単結晶窒化物の製造方法)
本発明の単結晶窒化物の製造方法の一例について説明する。
この例の単結晶窒化物の製造方法は、アモノサーマル法による単結晶窒化物の製造方法であり、まず、図1に示すように、円筒状のオートクレーブ10内に種結晶Aと窒化物含有成型体Bと窒化物の溶媒Cである超臨界状態のアンモニア及び/又はアンモニア誘導体を充填する。このとき、オートクレーブ10内の上部を結晶育成部11として種結晶Aを配置し、下部を原料溶解部12として窒化物含有成型体Bを配置する。
次いで、そのオートクレーブ10を、上下に温度勾配がつけられる電気炉20に設置し、上部の結晶育成部11の温度が常に下部の原料溶解部12の温度より低くなるように加熱する。原料溶解部12では、窒化物含有成型体中の13族窒化物と鉱化剤とが溶媒Cに溶解しつつ錯体を形成する。そして、その錯体は、熱対流により結晶育成部11の種結晶に供給され、供給された13族窒化物を原料とし、結晶育成部11の種結晶Aを核として結晶が育成する。
なお、鉱化剤は、13族窒化物と共に種結晶に到達した後には、13族窒化物から脱離して元の鉱化剤に戻るため、一定の濃度で循環利用される。
【0020】
この製造方法においては、超臨界状態のアンモニア及び/又はアンモニア誘導体は、臨界温度以上又は臨界圧力以上になっている。臨界温度及び臨界圧力は各化合物固有の値である。
アンモニア及び/又はアンモニア誘導体のうち、アンモニア誘導体としては、ヒドラジン、尿素、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチレンジアミン、メラミンなどが挙げられる。
アンモニア及び/又はアンモニア誘導体からなる溶媒中には、あらかじめ鉱化剤が含まれていてもよい。
【0021】
種結晶Aとしては、13族窒化物の単結晶又は多結晶、あるいは、13族窒化物の結晶構造に類似している結晶が使用される。13族窒化物の結晶構造に類似している結晶としては、例えば、13族窒化物がGaNである場合には、酸化亜鉛の単結晶、炭化ケイ素の単結晶、ガリウム酸リチウムの単結晶、二ホウ化ジルコニウムなども挙げられる。
【0022】
結晶育成部11の温度は100〜800℃であることが好ましく、300〜600℃であることがより好ましい。
原料溶解部12の温度は、結晶育成部11の温度より、10〜150℃高いことが好ましく、10〜100℃高いことがより好ましい。
また、オートクレーブ10内の圧力は70〜200MPaであることが好ましく、80〜170MPaであることがより好ましく、90〜150MPaであることが特に好ましい。
温度及び圧力を前記範囲にすることにより、容易に超臨界状態にすることができる。
【0023】
上記製造方法では、窒化物含有成型体を1種類のみ用いてもよいし、鉱化剤の含有量の異なる複数の窒化物含有成型体を用いてもよい。
【0024】
上記単結晶窒化物の製造方法では、粉末状より密度の高い窒化物含有成型体を原料として用いるため、オートクレーブの原料溶解部12内に、多結晶GaN粉末より多くの原料GaNを仕込むことができ、生産性が向上する。
上記単結晶窒化物の製造方法では、上記窒化物含有成型体を原料として用いるため、原料溶解部にて13族窒化物と鉱化剤とが錯体を容易に形成する上に、鉱化剤の溶解により窒化物含有成型体が多孔質になるため、13族窒化物と溶媒との接触面積が大きくなり、溶解速度を速くすることができる。したがって、単結晶窒化物の結晶成長速度を速くすることができ、生産性を向上させることができる。
また、窒化物含有成型体中の13族窒化物の溶解性が高いため、溶媒に溶解しなかった粉末状13族窒化物が熱対流により種結晶に供給される現象を抑えることができ、結晶育成の阻害を防止できるものと考えられる。さらに、窒化物含有成型体自体の表面積が小さいため、吸湿性が低く、水などの結晶育成阻害物質の持ち込み量を少なくできる。したがって、この製造方法で得られる単結晶窒化物は、結晶サイズが大きくなり、また、高純度になるものと考えられる。
また、この単結晶窒化物の製造方法では、超臨界状態のアンモニア及び/又はアンモニア誘導体に含ませておく鉱化剤量を減らせるため、種結晶の溶解を防ぐことができるものと考えられる。
【実施例】
【0025】
本発明を実施例によって更に具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【0026】
(実施例1)
多結晶GaN粉末0.4447gと鉱化剤である塩化アンモニウム0.2737gを瑪瑙鉢で粉砕混合し、これにより得られた混合物を円柱状の金型に充填した。この金型を錠剤成型器に装着し、金型内を真空ポンプにより減圧後、温度25℃、湿度60%の条件下、50MPaで加圧し、3分間放置した。金型内を常圧に戻した後、得られた成型体を金型から取り出した。得られた成型体は、直径10mm、厚さ3.5mm、見かけ密度2.6g/cmの灰白色ペレットであった。また、この灰白色ペレットは100N/mmの圧縮応力をかけても、さらに圧縮されるものの、破壊されることはなかった。
本実施例におけるGaN多結晶と塩化アンモニウムを粉末で使用した場合の体積は0.533cmであるが、ペレットにした場合の体積は0.275cmと小さくなるため、原料溶解部に仕込めるGaN多結晶と塩化アンモニウムの量を増やすことができ、生産性を高くすることができる。
【0027】
(実施例2)
多結晶GaN粉末0.4856gと鉱化剤である塩化アンモニウム0.1015gを瑪瑙鉢で粉砕混合し、これにより得られた混合物を円柱状の金型に充填した。この金型を錠剤成型器に装着し、金型内を真空ポンプにより減圧後、温度25℃、湿度60%の条件下、50MPaで加圧し、3分間放置した。金型内を常圧に戻した後、得られた成型体を金型から取り出した。得られた成型体は、直径10mm、厚さ3.3mm、見かけ密度3.7g/cmの灰白色ペレットであった。また、この灰白色ペレットは100N/mmの圧縮応力をかけても、さらに圧縮されるものの、破壊されることはなかった。
本実施例におけるGaN多結晶と塩化アンモニウムを粉末で使用した場合の体積は0.548cmであるが、ペレットにした場合の体積は0.259cmと小さくなるため、原料溶解部に仕込めるGaN多結晶と塩化アンモニウムの量を増やすことができ、生産性を高くすることができる。
【0028】
(実施例3)
多結晶GaN粉末0.1244gと鉱化剤である臭化アンモニウム0.2944gを瑪瑙鉢で粉砕混合し、これにより得られた混合物を円柱状の金型に充填した。この金型を錠剤成型器に装着し、金型内を真空ポンプにより減圧後、29MPaで加圧し、5分間放置した。金型内を常圧に戻した後、得られた成型体を金型から取り出した。得られた成型体は、直径10mm、厚さ1.9mm、見かけ密度2.8g/cmの灰白色ペレットであった。また、この灰白色ペレットは100N/mmの圧縮応力をかけても、さらに圧縮されるものの、破壊されることはなかった。
【0029】
(実施例4)
多結晶GaN粉末0.2155gと鉱化剤であるヨウ化アンモニウム0.2185gを瑪瑙鉢で粉砕混合し、これにより得られた混合物を円柱状の金型に充填した。この金型を錠剤成型器に装着し、金型内を真空ポンプにより減圧後、42MPaで加圧し、6分間放置した。金型内を常圧に戻した後、得られた成型体を金型から取り出した。得られた成型体は、直径10mm、厚さ1.7mm、見かけ密度3.3g/cmの灰白色ペレットであった。また、この灰白色ペレットは100N/mmの圧縮応力をかけても、さらに圧縮されるものの、破壊されることはなかった。
【0030】
実施例1〜4では、鉱化剤がバインダとしての役割を果たすため、容易にペレットにでき、量産性が高く、工業的である。また、このような、鉱化剤を含むGaN含有成型体を、アモノサーマル法による単結晶GaNを製造に適用した場合には、単結晶の生産性が高い。
【0031】
(比較例1)
多結晶GaN粉末1.2531gを瑪瑙鉢で粉砕し、これを円柱状の金型に充填した。この金型を錠剤成型器に装着し、金型内を真空ポンプにより減圧後、温度25℃、湿度60%の条件下、50MPaで加圧し、3分間放置した。金型内を常圧に戻した後、得られた成型体を金型から取り出そうとしたところ、崩壊してしまい、完全な成型体として得られなかった。
【図面の簡単な説明】
【0032】
【図1】本発明の単結晶窒化物の製造方法の一例を示す断面図である。
【符号の説明】
【0033】
10 オートクレーブ
11 結晶育成部
12 原料溶解部
A 種結晶
B 窒化物含有成型体
C 溶媒

【特許請求の範囲】
【請求項1】
周期表第13族元素の窒化物と鉱化剤とを含有する窒化物含有組成物が成型されたことを特徴とする窒化物含有成型体。
【請求項2】
周期表第13族元素の窒化物が、窒化ガリウムであることを特徴とする請求項1に記載の窒化物含有成型体。
【請求項3】
窒化物含有組成物中の鉱化剤含有量が2質量%以上であることを特徴とする請求項1又は2に記載の窒化物含有成型体。
【請求項4】
鉱化剤が、ハロゲン化塩であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の窒化物含有成型体。
【請求項5】
請求項1〜4のいずれかに記載の窒化物含有成型体と種結晶とを、超臨界状態のアンモニア及び/又はアンモニア誘導体中に配置し、
前記窒化物含有成型体を構成する窒化物含有組成物を超臨界状態のアンモニア及び/又はアンモニア誘導体に溶解し、溶解した窒化物含有成型体を前記種結晶に供給して結晶育成することを特徴とする単結晶窒化物の製造方法。


【図1】
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【公開番号】特開2007−169075(P2007−169075A)
【公開日】平成19年7月5日(2007.7.5)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2005−364394(P2005−364394)
【出願日】平成17年12月19日(2005.12.19)
【出願人】(000230652)日本化成株式会社 (85)
【Fターム(参考)】