耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の製造方法
【課題】 ＲＨ含有量が少ないか、またはＲＨを含まない、耐食性に優れるＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の製造方法を提供すること。
【解決手段】 重希土類元素（ＲＨ：ＤｙおよびＴｂから選択される少なくとも１種）含有量が４．５ｍａｓｓ％以下のＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石に対し、酸素分圧が１×１０３Ｐａ〜１×１０５Ｐａで水蒸気分圧が１０００Ｐａ未満であり、かつ、酸素分圧と水蒸気分圧の比率（酸素分圧／水蒸気分圧）が１〜２００００の雰囲気下、２００℃〜４５０℃で熱処理を行う工程を含み、かつ、熱処理を行った温度からの磁石の降温を、少なくとも１００℃に至るまで６５０℃／時間以上の平均冷却速度で行うことを特徴とする。
【解決手段】 重希土類元素（ＲＨ：ＤｙおよびＴｂから選択される少なくとも１種）含有量が４．５ｍａｓｓ％以下のＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石に対し、酸素分圧が１×１０３Ｐａ〜１×１０５Ｐａで水蒸気分圧が１０００Ｐａ未満であり、かつ、酸素分圧と水蒸気分圧の比率（酸素分圧／水蒸気分圧）が１〜２００００の雰囲気下、２００℃〜４５０℃で熱処理を行う工程を含み、かつ、熱処理を行った温度からの磁石の降温を、少なくとも１００℃に至るまで６５０℃／時間以上の平均冷却速度で行うことを特徴とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の製造方法に関する。より詳細には、重希土類元素（ＲＨ：ＤｙおよびＴｂから選択される少なくとも１種）含有量が少ないか、またはＲＨを含まない、耐食性に優れるＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石に代表されるＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石は、資源的に豊富で安価な材料が用いられ、かつ、高い磁気特性を有していることから今日様々な分野で使用されているが、反応性の高い希土類元素：Ｒを含むため、大気中で酸化腐食されやすいという特質を有する。従って、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石は、通常、その表面に金属被膜や樹脂被膜などの耐食性被膜を形成して実用に供されるが、ハイブリッド自動車や電気自動車の駆動モータとして使用されたり、空調機のコンプレッサーなどに組み込まれたりするＩＰＭ（Ｉｎｔｅｒｉｏｒ Ｐｅｒｍａｎｅｎｔ Ｍａｇｎｅｔ）モータなどのように、磁石が部品に埋め込まれて使用される態様の場合には、必ずしもこのような耐食性被膜を磁石の表面に形成することは必要とされない。しかしながら、磁石が製造されてから部品に埋め込まれるまでの期間における磁石の耐食性の確保は当然に必要である。
上記の通り、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石に対して耐食性を付与する方法としては、その表面に金属被膜や樹脂被膜などの耐食性被膜を形成する方法が代表的であるが、近年、酸化性雰囲気下での熱処理（酸化熱処理）を磁石に対して行うことによって磁石の表面を改質する方法が簡易耐食性向上技術として注目されている。例えば、特許文献１や特許文献２には、酸素を利用して酸化性雰囲気を形成して熱処理する方法が記載され、特許文献３〜特許文献６には、水蒸気を単独で利用して、或いは、水蒸気に酸素を組み合わせて酸化性雰囲気を形成して熱処理する方法が記載されている。しかしながら、これらの方法で磁石に対して表面改質を行っても、温度や湿度の管理がされていない輸送環境や保管環境などのような、温度や湿度が変動することで磁石の表面に微細な結露を繰り返し生じさせてしまう環境では必ずしも十分な耐食性が得られないこと、特許文献３〜特許文献６においては、水蒸気分圧は１０ｈＰａ（１０００Ｐａ）以上が好適とされているが、このような水蒸気分圧が高い雰囲気下で熱処理を行うと、磁石の表面で起こる酸化反応によって水素が副産物として大量に生成し、磁石が生成した水素を吸蔵して脆化することで磁気特性が低下してしまうことが本発明者らの検討によって明らかになった。そこで本発明者らは、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石に対するより優れた表面改質方法として、酸素分圧と、特許文献３〜特許文献６において不適とされている１０ｈＰａ未満の水蒸気分圧を適切に制御した酸化性雰囲気下での熱処理方法、具体的には、酸素分圧が１×１０２Ｐａ〜１×１０５Ｐａで水蒸気分圧が０．１Ｐａ〜１０００Ｐａ（但し１０００Ｐａを除く）の雰囲気下、２００℃〜６００℃で熱処理を行う方法を特許文献７において提案した。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第２８４４２６９号公報
【特許文献２】特開２００２−５７０５２号公報
【特許文献３】特開２００６−１５６８５３号公報
【特許文献４】特開２００６−２１０８６４号公報
【特許文献５】特開２００７−１０３５２３号公報
【特許文献６】特開２００７−２０７９３６号公報
【特許文献７】国際公開第２００９／０４１６３９号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石が使用環境において高温に晒される場合には、その保磁力の低下に対する対策が必要とされる。こうした対策の一つとして、Ｒとして含まれる軽希土類元素（ＲＬ：ＮｄおよびＰｒから選択される少なくとも１種）の一部を、ＲＨに置換することで保磁力を向上させる方法が知られている。しかしながら、ＲＨは希少資源であるので使用量の削減が求められる他、ＲＬのＲＨによる置換割合が大きくなると残留磁束密度が低下するという問題がある。そこで、より少ないＲＨの使用量で残留磁束密度の低下を抑制しつつ保磁力を向上させる方法が各種提案されているが、こうしたＲＨ含有量の少ないＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石や、ＲＨを含まない磁石においても、当然のことながら耐食性の確保が必要となる。
そこで本発明は、ＲＨ含有量が少ないか、またはＲＨを含まない、耐食性に優れるＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは、上記の点に鑑みて鋭意検討を行う過程において、特許文献７において提案したＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石に対する表面改質方法を、ＲＨ含有量が少ない磁石や、ＲＨを含まない磁石に対して適用したところ、期待通りの表面改質効果が得られる一方で、全く意外なことに、ＲＨ含有量が多い磁石では起こらない保磁力低下が起こることがわかった。そこで、この現象の解消を図るべくさらに検討を重ねた結果、所定の条件での熱処理を行った後の磁石の降温を急速に行うことが、この現象の解消に有効であることを見出した。
【０００６】
上記の知見に基づいて完成された本発明の耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の製造方法は、請求項１記載の通り、ＲＨ含有量が４．５ｍａｓｓ％以下のＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石に対し、酸素分圧が１×１０３Ｐａ〜１×１０５Ｐａで水蒸気分圧が１０００Ｐａ未満であり、かつ、酸素分圧と水蒸気分圧の比率（酸素分圧／水蒸気分圧）が１〜２００００の雰囲気下、２００℃〜４５０℃で熱処理を行う工程を含み、熱処理を行った温度からの磁石の降温を、少なくとも１００℃に至るまで６５０℃／時間以上の平均冷却速度で行うことを特徴とする。
また、請求項２記載の製造方法は、請求項１記載の製造方法において、平均冷却速度を２０００℃／時間以下とすることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、ＲＨ含有量が少ないか、またはＲＨを含まないＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石に対し、保磁力低下を起こすことなくその表面改質を行うことによって優れた耐食性を付与することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の製造方法に好適に採用することができる連続処理炉の一例の概略図（側面図）である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明の耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の製造方法は、ＲＨ含有量が４．５ｍａｓｓ％以下のＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石に対し、酸素分圧が１×１０３Ｐａ〜１×１０５Ｐａで水蒸気分圧が１０００Ｐａ未満であり、かつ、酸素分圧と水蒸気分圧の比率（酸素分圧／水蒸気分圧）が１〜２００００の雰囲気下、２００℃〜４５０℃で熱処理を行う工程を含み、熱処理を行った温度からの磁石の降温を、少なくとも１００℃に至るまで６５０℃／時間以上の平均冷却速度で行うことを特徴とするものである。
【００１０】
熱処理を行う工程における酸素分圧を１×１０３Ｐａ〜１×１０５Ｐａと規定するのは、酸素分圧が１×１０３Ｐａよりも小さいと、雰囲気中の酸素量が少なすぎることで、磁石の表面改質に時間がかかりすぎたり、磁石のその保持部材と接する部分の表面改質が十分に行われないことにより、当該部分に十分な耐食性や安定性が付与されなかったり当該部分に保持部材との接点跡が残ってしまったりする恐れがあるからである。一方、酸素分圧を１×１０５Ｐａより大きくしても、酸素分圧を大きくすることによる磁石の表面改質効果はさほど認められず、コストアップを招来するだけになってしまう恐れがあるからである。磁石の表面に対して所望する改質をより効果的かつ低コストに行うためには、酸素分圧は１×１０３Ｐａ〜５×１０４Ｐａが望ましく、１×１０４Ｐａ〜３×１０４Ｐａがより望ましい。水蒸気分圧を１０００Ｐａ未満と規定するのは、水蒸気分圧が１０００Ｐａ以上であると、雰囲気中の水蒸気量が多すぎることで、磁石の表面を優れた耐食性を発揮する安定なものに改質することができない恐れがあるからである。磁石の表面に対して所望する改質をより効果的かつ低コストに行うためには、水蒸気分圧は７００Ｐａ以下が望ましく、４５Ｐａ以下がより望ましい。なお、水蒸気分圧の下限は特段制限されるものではないが、通常、１Ｐａが望ましい。酸素分圧と水蒸気分圧の比率を１〜２００００と規定するのは、当該比率が１よりも小さいと、雰囲気中の酸素量に対する水蒸気量が多すぎることで、磁石の表面を優れた耐食性を発揮する安定なものに改質することができない恐れがあるからである。一方、当該比率が２００００よりも大きい雰囲気は特殊環境といえ、実用的でないからである。磁石の表面に対して所望する改質をより効果的かつ低コストに行うためには、当該比率は１０〜１００００が望ましく、３００〜５０００がより望ましく、４５０〜４０００がさらに望ましい。処理室内の雰囲気は、例えば、これらの酸化性ガスを所定の分圧となるように個別に導入することによって形成してもよいし、これらの酸化性ガスが所定の分圧で含まれる露点を有する大気を導入することによって形成してもよい。また、処理室内には、窒素ガスやアルゴンガスなどの不活性ガスを共存させてもよい。雰囲気の全圧を大気圧やその近傍の圧力（具体的には例えば９×１０４Ｐａ〜１．２×１０５Ｐａ）とすれば、特別な圧力調整手段を必要とすることなく所定の雰囲気を容易に形成して磁石の表面改質を行うことができる。
【００１１】
熱処理の温度を２００℃〜４５０℃と規定するのは、２００℃よりも低いと、磁石の表面に対して所望する改質を行い難くなる恐れがある一方、熱処理温度が４５０℃よりも高いと、磁石の磁気特性に悪影響を及ぼす恐れがあるからである。熱処理の温度は２４０℃〜４３０℃が望ましく、２８０℃〜４００℃がより望ましい。熱処理の時間は１分間〜３時間が望ましく、１５分間〜２．５時間がより望ましい。時間が短すぎると、磁石の表面に対して所望する改質を行い難くなる恐れがある一方、時間が長すぎると、磁石の磁気特性に悪影響を及ぼす恐れがある。
【００１２】
なお、磁石を常温から熱処理を行う温度まで昇温する工程は、酸素分圧が１×１０３Ｐａ〜１×１０５Ｐａで水蒸気分圧が１Ｐａ〜１００Ｐａの雰囲気下で行うことが望ましい。このような雰囲気下で昇温することにより、磁石の表面に少なからず自然吸着している水分を早期に脱離させることで、磁石の表面に存在する水分が昇温の際に磁石に対して悪影響を与えることを極力回避することができる。平均昇温速度は、例えば１００℃／時間〜２０００℃／時間とすればよい。なお、本発明において「常温」とは、表面改質が行われるＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石が昇温を開始する時点で置かれている環境の温度（例えば室温）を指し、例示的には、日本工業規格のＪＩＳ Ｚ ８７０３において５℃〜３５℃と規定されている温度を意味する。
【００１３】
本発明において特徴付けられる、熱処理を行った後の磁石を降温する工程は、熱処理温度から少なくとも１００℃に至るまで６５０℃／時間以上の平均冷却速度で行う。本発明者らの検討によれば、上述した条件での熱処理を行うことで表面改質されたＲＨ含有量が４．５ｍａｓｓ以下の磁石の保磁力は、熱処理後の降温工程における冷却速度に大きく依存し（とりわけ４００℃〜２００℃の温度域における冷却速度に依存するようである）、冷却速度が遅いと保磁力低下が起こる。この保磁力低下は、本発明者らが全く予測していなかった現象であり、ＲＨ含有量が４．５ｍａｓｓ％を超える磁石では起こらない。そこで、本発明では、熱処理を行った温度からの磁石の降温を、少なくとも１００℃に至るまで６５０℃／時間以上の平均冷却速度で行うことで、熱処理後の降温時における保磁力低下を抑制する。平均冷却速度の上限は特段制限されるものではないが、簡易な方法で低コストに降温を行うためには、２０００℃／時間とすることが望ましい。磁石の温度が１００℃に達した後のさらなる降温の際は、上記の平均冷却速度を維持してもよいし、維持しなくてもよい。なお、熱処理を行った磁石を降温する工程は、磁石の熱処理を行うに際しての昇温工程において採用する雰囲気と同じ雰囲気を採用して行うことが、工程中に磁石の表面が結露することで磁石が腐食して磁気特性が低下するといった現象を防ぐことができる点において望ましい。
【００１４】
熱処理を行った後の磁石を上記の平均冷却速度で降温するための具体的手段は特段限定されるものではない。例えば、磁石に対する昇温工程、熱処理工程、降温工程を、内部に雰囲気ガスを流通させることでその雰囲気の制御が可能なＳＵＳ，Ｔｉ，Ｍｏ，Ｎｂなどの材質からなる耐熱性容器に磁石を収容し、磁石を収容した耐熱性容器をバッチ式の熱処理炉の処理室に収容して耐熱性容器の内部の雰囲気を制御しながら行う場合、磁石の降温に用いる雰囲気ガスの流量を増加したり温度を下げたりすることにより、所望する平均冷却速度で磁石を降温することができる。所望する平均冷却速度での磁石の降温は、磁石を収容した耐熱性容器を収容した処理室内を大気開放する方法、耐熱性容器に収容する磁石の個数を減らす方法、磁石を収容した耐熱性容器を熱処理炉から取り出して別途に冷却する方法などによっても行うことができる。また、磁石に対する昇温工程、熱処理工程、降温工程を、磁石が収容された処理室内の環境を順次それぞれの工程を行うための環境に変化させることができるバッチ式の熱処理炉を用いて行う場合、降温工程を、磁石の降温に用いる雰囲気ガスを処理室内に導入することによって行うこととし、その流量を増加したり温度を下げたりすることにより、所望する平均冷却速度で磁石を降温することができる。
【００１５】
また、磁石に対する昇温工程、熱処理工程、降温工程を、内部がそれぞれの工程を行うための環境に制御された領域に分割され、各領域に磁石を順次移動させることができる連続処理炉（例えば図１に示すようなもの）を用いて行う場合、所望する平均冷却速度での磁石の降温は、降温領域における磁石の降温環境を適切に制御することによって行うことができる。例えば図１に示す連続処理炉においては、ベルトコンベアなどの移動手段によって磁石を図の左から右に移動させながら各処理を施す。矢印は図略の給気手段と排気手段によって形成される各領域における雰囲気ガスの流れである。昇温領域の入口および降温領域の出口は、例えばエアカーテンで区画され、昇温領域と熱処理領域の境界および熱処理領域と降温領域の境界は、例えば矢印の雰囲気ガスの流れにより区画される（これらの区画は機械的にシャッターで行われてもよい）。大量の磁石に対して安定した品質の表面改質を連続的に行うことができるこのような連続処理炉を用いる場合、所望する平均冷却速度での磁石の降温は、降温領域において用いる雰囲気ガスの流量を増加したり温度を下げたりする方法や、移動手段の移動速度を調整する方法によって行うことができる。
【００１６】
上記の工程によってＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の表面に形成される表面改質層の厚みは０．５μｍ〜１０μｍが望ましい。厚みが薄すぎると十分な耐食性を発揮しない恐れがある一方、厚みが厚すぎると磁石の磁気特性に悪影響を及ぼす恐れがある。
【００１７】
本発明が適用されるＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石としては、例えば、下記の製造方法によって製造されたＲＨ含有量が４．５ｍａｓｓ％以下のものが挙げられる。
２５ｍａｓｓ％以上４０ｍａｓｓ％以下の希土類元素Ｒと、０．６ｍａｓｓ％〜１．６ｍａｓｓ％のＢ（硼素）と、残部Ｆｅおよび不可避不純物とを包含する合金を用意する。ここで、Ｒは重希土類元素ＲＨを含んでいてもよい。また、Ｂの一部はＣ（炭素）によって置換されていてもよいし、Ｆｅの一部は（５０ｍａｓｓ％以下）は、他の遷移金属元素（例えば、ＣｏまたはＮｉ）によって置換されていてもよい。この合金は、種々の目的により、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｐｂ、およびＢｉからなる群から選択された少なくとも１種の添加元素Ｍを０．０１〜１．０ｍａｓｓ％程度含有していてもよい。
上記の合金は、原料合金の溶湯を例えばストリップキャスト法によって急冷して好適に作製され得る。以下、ストリップキャスト法による急冷凝固合金の作製を説明する。
まず、上記組成を有する原料合金をアルゴン雰囲気中において高周波溶解によって溶解し、原料合金の溶湯を形成する。次に、この溶湯を１３５０℃程度に保持した後、単ロール法によって急冷し、例えば厚さ約０．３ｍｍのフレーク状合金鋳塊を得る。こうして作製した合金鋳片を、次の水素粉砕処理前に例えば１〜１０ｍｍのフレーク状に粉砕する。なお、ストリップキャスト法による原料合金の製造方法は、例えば、米国特許第５、３８３、９７８号明細書に開示されている。
［粗粉砕工程］
上記のフレーク状に粗く粉砕された合金鋳片を水素炉の内部へ収容する。次に、水素炉の内部で水素脆化処理（以下、「水素粉砕処理」や単に「水素処理」と称する場合がある）工程を行う。水素粉砕処理後の粗粉砕粉合金粉末を水素炉から取り出す際、粗粉砕粉が大気と接触しないように、不活性雰囲気下で取り出し動作を実行することが好ましい。そうすれば、粗粉砕粉が酸化・発熱することが防止され、磁石の磁気特性の低下が抑制できるからである。
水素粉砕処理によって、希土類合金は０．１ｍｍ〜数ｍｍ程度の大きさに粉砕され、その平均粒径は５００μｍ以下となる。水素粉砕処理後、脆化した原料合金をより細かく解砕するとともに冷却することが好ましい。比較的高い温度状態のまま原料を取り出す場合は、冷却処理の時間を相対的に長くすればよい。
［微粉砕工程］
次に、粗粉砕粉に対してジェットミル粉砕装置を用いて微粉砕を実行する。本実施形態で使用するジェットミル粉砕装置にはサイクロン分級機が接続されている。ジェットミル粉砕装置は、粗粉砕工程で粗く粉砕された希土類合金（粗粉砕粉）の供給を受け、粉砕機内で粉砕する。粉砕機内で粉砕された粉末はサイクロン分級機を経て回収タンクに集められる。こうして、０．１〜２０μｍ程度の微粉末を得ることができる。このような微粉砕に用いる粉砕装置は、ジェットミルに限定されず、アトライタやボールミルであってもよい。粉砕に際して、ステアリン酸亜鉛などの潤滑剤を粉砕助剤として用いてもよい。
［プレス成形］
本実施形態では、上記方法で作製された磁性粉末に対し、例えばロッキングミキサー内で潤滑剤を例えば０．３ｍａｓｓ％添加・混合し、潤滑剤で合金粉末粒子の表面を被覆する。次に、上述の方法で作製した磁性粉末を公知のプレス装置を用いて配向磁界中で成形する。印加する磁界の強度は、例えば１．０〜１．７テスラ（Ｔ）である。また、成形圧力は、成形体のグリーン密度が例えば４〜４．５ｇ／ｃｍ３程度になるように設定される。
［焼結工程］
上記の粉末成形体に対して、例えば、１０００〜１２００℃の範囲内の温度で１０〜２４０分間行う。６５０〜１０００℃の範囲内の温度で１０〜２４０分間保持する工程と、その後、上記の保持温度よりも高い温度（例えば、１０００〜１２００℃）で焼結を更に進める工程とを順次行ってもよい。焼結時、特に液相が生成されるとき（温度が６５０〜１０００℃の範囲内にあるとき）、粒界相中のＲリッチ相が融け始め、液相が形成される。その後、焼結が進行し、焼結磁石体が形成される。焼結工程の後、時効処理（４００℃〜７００℃）や寸法調整のための研削を行ってもよい。
【００１８】
本発明の製造方法によって製造される表面改質されたＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石は、優れた耐食性が酸化熱処理によって付与されているとともに、熱処理後の降温時における保磁力低下が抑制されているので、例えば、ハイブリッド自動車や電気自動車の駆動モータとして使用されたり、空調機のコンプレッサーなどに組み込まれたりするＩＰＭモータでの使用に適したものである。なお、本発明の製造方法によって製造される表面改質されたＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石を用いてＩＰＭモータを製造する場合、ロータの内部に磁石を埋め込む工程を経て行えばよい。
【実施例】
【００１９】
以下、本発明を実施例によってさらに詳細に説明するが、本発明はこれに限定して解釈されるものではない。
【００２０】
（実施例１）
Ｎｄ：２０．８、Ｐｒ：５．９、Ｄｙ：３．０、Ｂ：０．９３、Ｃｏ：２．０、Ｃｕ：０．１、Ａｌ：０．１５、Ｇａ：０．０７、残部：Ｆｅ（単位はｍａｓｓ％）の組成を有する厚さ０．２ｍｍ〜０．３ｍｍの合金薄片をストリップキャスト法により作製した。
次に、この合金薄片を容器に充填し、水素処理装置内に収容した。そして、水素処理装置内を圧力５００ｋＰａの水素ガスで満たすことにより、室温で合金薄片に水素吸蔵させた後、放出させた。このような水素処理を行うことにより、合金薄片を脆化し、大きさ約０．１５ｍｍ〜０．２ｍｍの粗粉砕粉末を作製した。
上記の水素処理により作製した粗粉砕粉末に対し粉砕助剤として０．０４ｍａｓｓ％のステアリン酸亜鉛を添加し混合した後、ジェットミル装置による粉砕工程を行うことにより、粉末粒径が約３μｍの微粉末を作製した。
こうして作製した微粉末をプレス装置により成形し、粉末成形体を作製した。具体的には、印加磁界中で粉末粒子を磁界配向した状態で圧縮し、プレス成形を行った。その後、成形体をプレス装置から抜き出し、真空炉により１０５０℃で４時間の焼結工程を行い、焼結体ブロックを得た。
得られた焼結体ブロックを真空中にて４９０℃で２．５時間の時効処理を行った後、その表面に対し研削加工を行って寸法調整し、厚さ６ｍｍ×縦７ｍｍ×横７ｍｍの焼結磁石を得た。
【００２１】
上記の方法で得た焼結磁石を超音波水洗した後、図１に示した構成を有する連続処理炉を用いて、昇温工程、熱処理工程、降温工程を実行し、表面改質を行った。なお、焼結磁石の温度の測定は、熱電対を装着した温度測定用磁石の温度をモニタリングすることにより行った。
（１）昇温工程
常温（２５℃を意味する。以下同じ）から熱処理を行う温度（４２０℃）までの昇温を、露点−４０℃の大気（酸素分圧２００００Ｐａ，水蒸気分圧１９Ｐａ，酸素分圧／水蒸気分圧＝１０５２）の雰囲気下、５００℃／時間の平均昇温速度で行った。
（２）熱処理工程
露点０℃の大気（酸素分圧２００００Ｐａ，水蒸気分圧６００Ｐａ，酸素分圧／水蒸気分圧＝３３．３）の雰囲気下、４２０℃で３０分間の熱処理を行った。
（３）降温工程
昇温工程において採用した雰囲気と同じ雰囲気下、４２０℃から１００℃までの降温を６９０℃／時間の平均冷却速度で行った。なお、平均冷却速度の調整は、降温に用いる雰囲気ガスの流量を調整することにより行った。
【００２２】
以上の方法で焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは１．７μｍであった。なお、改質層の厚みは、表面改質された焼結磁石を樹脂埋め研磨後、イオンビーム断面加工装置（ＳＭ０９０１０：日本電子社製）を用いて試料作製し、電界放出型走査電子顕微鏡（Ｓ−４３００：日立ハイテクノロジー社製）を用いて断面観察を行うことによって測定した。
【００２３】
（実施例２）
熱処理工程を露点−４０℃の大気（酸素分圧２００００Ｐａ，水蒸気分圧１９Ｐａ，酸素分圧／水蒸気分圧＝１０５２）の雰囲気下、４２０℃で２０分間行ったこと以外は実施例１と同じ方法で焼結磁石の表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは１．６μｍであった。
【００２４】
（実施例３）
内部に雰囲気ガスを流通させることでその雰囲気を制御するためのガス導入路とガス排出路を備えたＳＵＳ製の耐熱性容器に焼結磁石を収容し、焼結磁石を収容した耐熱性容器をバッチ式の熱処理炉の処理室に収容して耐熱性容器の内部の雰囲気を制御しながら昇温工程と熱処理工程を実行した後、降温工程を、耐熱性容器の内部を降温工程のための雰囲気とした後に耐熱性容器を熱処理炉から取り出して別途に冷却することで１８００℃／時間の平均冷却速度で実行したこと以外は実施例１と同じ方法で焼結磁石の表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは１．７μｍであった。
【００２５】
（実施例４）
Ｎｄ：１９．８、Ｐｒ：５．７、Ｄｙ：４．３、Ｂ：０．９３、Ｃｏ：２．０、Ｃｕ：０．１、Ａｌ：０．１５、Ｇａ：０．０７、残部：Ｆｅ（単位はｍａｓｓ％）の組成を有する厚さ０．２ｍｍ〜０．３ｍｍの合金薄片を用いて焼結磁石を作製したことと、熱処理工程を４００℃で３０分間行ったこと以外は実施例３と同じ方法で焼結磁石の表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは１．５μｍであった。
【００２６】
（実施例５）
Ｎｄ：１９．８、Ｐｒ：５．７、Ｄｙ：４．３、Ｂ：０．９３、Ｃｏ：２．０、Ｃｕ：０．１、Ａｌ：０．１５、Ｇａ：０．０７、残部：Ｆｅ（単位はｍａｓｓ％）の組成を有する厚さ０．２ｍｍ〜０．３ｍｍの合金薄片を用いて焼結磁石を作製したことと、熱処理工程を露点−４０℃の大気（酸素分圧２００００Ｐａ，水蒸気分圧１９Ｐａ，酸素分圧／水蒸気分圧＝１０５２）の雰囲気下、４２０℃で２０分間行ったことと、７５０℃／時間の平均冷却速度で降温工程を行ったこと以外は実施例１と同じ方法で焼結磁石の表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは１．８μｍであった。
【００２７】
（実施例６）
Ｎｄ：３０．５、Ｂ：０．９５、Ｃｏ：０．９、Ｃｕ：０．１、Ａｌ：０．１、Ｇａ：０．１、残部：Ｆｅ（単位はｍａｓｓ％）の組成を有する厚さ０．２ｍｍ〜０．３ｍｍの合金薄片を用いて焼結磁石を作製したことと、熱処理工程を３４０℃で１２０分間行ったこと以外は実施例３と同じ方法で焼結磁石の表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは１．２μｍであった。
【００２８】
（実施例７）
Ｎｄ：２３．０、Ｐｒ：６．６、Ｄｙ：１．２、Ｂ：１．００、Ｃｏ：２．０、Ｃｕ：０．１、Ａｌ：０．２、残部：Ｆｅ（単位はｍａｓｓ％）の組成を有する厚さ０．２ｍｍ〜０．３ｍｍの合金薄片を用いて焼結磁石を作製したことと、熱処理工程を露点−４０℃の大気（酸素分圧２００００Ｐａ，水蒸気分圧１９Ｐａ，酸素分圧／水蒸気分圧＝１０５２）の雰囲気下、３００℃で１２０分間行ったことと、７５０℃／時間の平均冷却速度で降温工程を行ったこと以外は実施例１と同じ方法で焼結磁石の表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは０．９μｍであった。
【００２９】
（比較例１）
４２０℃／時間の平均冷却速度で降温工程を行ったこと以外は実施例１と同じ方法で焼結磁石の表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは１．６μｍであった。
【００３０】
（比較例２）
５３０℃／時間の平均冷却速度で降温工程を行ったこと以外は実施例２と同じ方法で焼結磁石の表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは１．７μｍであった。
【００３１】
（比較例３）
５３０℃／時間の平均冷却速度で降温工程を行ったこと以外は実施例４と同じ方法で焼結磁石の表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは１．６μｍであった。
【００３２】
（比較例４）
４９０℃／時間の平均冷却速度で降温工程を行ったこと以外は実施例６と同じ方法で焼結磁石の表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは１．３μｍであった。
【００３３】
（比較例５）
５３０℃／時間の平均冷却速度で降温工程を行ったこと以外は実施例７と同じ方法で焼結磁石の表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは０．９μｍであった。
【００３４】
（参考例１）
Ｎｄ：１８．１、Ｐｒ：５．２、Ｄｙ：６．５、Ｂ：０．９５、Ｃｏ：２．０、Ｃｕ：０．１、Ａｌ：０．１５、Ｇａ：０．０７、残部：Ｆｅ（単位はｍａｓｓ％）の組成を有する厚さ０．２ｍｍ〜０．３ｍｍの合金薄片を用いて焼結磁石を作製したことと、熱処理工程を４００℃で３０分間行ったことと、６９０℃／時間の平均冷却速度で降温工程を行ったこと以外は実施例１と同じ方法で焼結磁石の表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは１．６μｍであった。
【００３５】
（参考例２）
Ｎｄ：１５．４、Ｐｒ：４．３、Ｄｙ：１１．７、Ｂ：０．９５、Ｃｏ：２．０、Ｃｕ：０．１、Ａｌ：０．１５、Ｇａ：０．０７、残部：Ｆｅ（単位はｍａｓｓ％）の組成を有する厚さ０．２ｍｍ〜０．３ｍｍの合金薄片を用いて焼結磁石を作製したことと、熱処理工程を４００℃で３０分間行ったことと、６９０℃／時間の平均冷却速度で降温工程を行ったこと以外は実施例１と同じ方法で焼結磁石の表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは１．７μｍであった。
【００３６】
（参考例３）
４２０℃／時間の平均冷却速度で降温工程を行ったこと以外は参考例１と同じ方法で焼結磁石の表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは１．７μｍであった。
【００３７】
（参考例４）
４２０℃／時間の平均冷却速度で降温工程を行ったこと以外は参考例２と同じ方法で焼結磁石の表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは１．６μｍであった。
【００３８】
（磁気特性評価）
実施例１〜７、比較例１〜５、参考例１〜４のそれぞれにおいて表面改質を行った焼結磁石の固有保磁力を、表面改質を行う前の焼結磁石の固有保磁力と比較し、下記の数式で固有保磁力劣化率を算出した。結果を表１に示す。なお、固有保磁力の測定は、磁気測定装置（ＴＰＮ−２−１０：東英工業社製）を用いて行った。
固有保磁力劣化率（％）＝（（Ａ−Ｂ）／Ａ）×１００
Ａ：表面改質前の焼結磁石の固有保磁力（２０個の平均値）
Ｂ：表面改質後の焼結磁石の固有保磁力（２０個の平均値）
【００３９】
（耐食性評価）
実施例１〜７、比較例１〜５、参考例１〜４のそれぞれにおいて表面改質を行った焼結磁石に対し、温度：６０℃×相対湿度：９０％の高温高湿条件下での耐食性試験を２４時間行い、試験後の表面発錆の有無を外観観察により調べた。試験に供した各２０個の磁石のうち表面発錆が認められた磁石の個数を表１に示す。
【００４０】
【表１】
【００４１】
（まとめ）
参考例から明らかなように、ＲＨ含有量が多い（具体的には６．５ｍａｓｓ％以上）焼結磁石は、熱処理後の降温の際の平均冷却速度にかかわらず固有保磁力劣化率は極めて低い数値であり、降温時における保磁力低下は認められなかった。これに対し、実施例と比較例から明らかなように、ＲＨ含有量が少ない焼結磁石は、熱処理後の降温の際の平均冷却速度が遅いと固有保磁力劣化率が高い数値となり、降温時における保磁力低下が認められたが、平均冷却速度を速めることで固有保磁力劣化率の改善が図られ、降温時における保磁力低下を抑制することができた。なお、降温の際の平均冷却速度が遅いことによる保磁力低下は、ＲＨ含有量が少なくとも４．５ｍａｓｓ％の焼結磁石において認められ、平均冷却速度が少なくとも６５０℃／時間で保磁力低下の抑制効果が認められた（別途の実験による）。焼結磁石の表面改質によって付与された耐食性は、実施例、比較例、参考例の間で差異はなく、いずれにおいても優れたものであった。
【産業上の利用可能性】
【００４２】
本発明は、ＲＨ含有量が少ないか、またはＲＨを含まない、耐食性に優れるＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石を、工程中に保磁力低下を起こすことなく製造する方法を提供することができる点において産業上の利用可能性を有する。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の製造方法に関する。より詳細には、重希土類元素（ＲＨ：ＤｙおよびＴｂから選択される少なくとも１種）含有量が少ないか、またはＲＨを含まない、耐食性に優れるＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石に代表されるＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石は、資源的に豊富で安価な材料が用いられ、かつ、高い磁気特性を有していることから今日様々な分野で使用されているが、反応性の高い希土類元素：Ｒを含むため、大気中で酸化腐食されやすいという特質を有する。従って、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石は、通常、その表面に金属被膜や樹脂被膜などの耐食性被膜を形成して実用に供されるが、ハイブリッド自動車や電気自動車の駆動モータとして使用されたり、空調機のコンプレッサーなどに組み込まれたりするＩＰＭ（Ｉｎｔｅｒｉｏｒ Ｐｅｒｍａｎｅｎｔ Ｍａｇｎｅｔ）モータなどのように、磁石が部品に埋め込まれて使用される態様の場合には、必ずしもこのような耐食性被膜を磁石の表面に形成することは必要とされない。しかしながら、磁石が製造されてから部品に埋め込まれるまでの期間における磁石の耐食性の確保は当然に必要である。
上記の通り、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石に対して耐食性を付与する方法としては、その表面に金属被膜や樹脂被膜などの耐食性被膜を形成する方法が代表的であるが、近年、酸化性雰囲気下での熱処理（酸化熱処理）を磁石に対して行うことによって磁石の表面を改質する方法が簡易耐食性向上技術として注目されている。例えば、特許文献１や特許文献２には、酸素を利用して酸化性雰囲気を形成して熱処理する方法が記載され、特許文献３〜特許文献６には、水蒸気を単独で利用して、或いは、水蒸気に酸素を組み合わせて酸化性雰囲気を形成して熱処理する方法が記載されている。しかしながら、これらの方法で磁石に対して表面改質を行っても、温度や湿度の管理がされていない輸送環境や保管環境などのような、温度や湿度が変動することで磁石の表面に微細な結露を繰り返し生じさせてしまう環境では必ずしも十分な耐食性が得られないこと、特許文献３〜特許文献６においては、水蒸気分圧は１０ｈＰａ（１０００Ｐａ）以上が好適とされているが、このような水蒸気分圧が高い雰囲気下で熱処理を行うと、磁石の表面で起こる酸化反応によって水素が副産物として大量に生成し、磁石が生成した水素を吸蔵して脆化することで磁気特性が低下してしまうことが本発明者らの検討によって明らかになった。そこで本発明者らは、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石に対するより優れた表面改質方法として、酸素分圧と、特許文献３〜特許文献６において不適とされている１０ｈＰａ未満の水蒸気分圧を適切に制御した酸化性雰囲気下での熱処理方法、具体的には、酸素分圧が１×１０２Ｐａ〜１×１０５Ｐａで水蒸気分圧が０．１Ｐａ〜１０００Ｐａ（但し１０００Ｐａを除く）の雰囲気下、２００℃〜６００℃で熱処理を行う方法を特許文献７において提案した。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第２８４４２６９号公報
【特許文献２】特開２００２−５７０５２号公報
【特許文献３】特開２００６−１５６８５３号公報
【特許文献４】特開２００６−２１０８６４号公報
【特許文献５】特開２００７−１０３５２３号公報
【特許文献６】特開２００７−２０７９３６号公報
【特許文献７】国際公開第２００９／０４１６３９号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石が使用環境において高温に晒される場合には、その保磁力の低下に対する対策が必要とされる。こうした対策の一つとして、Ｒとして含まれる軽希土類元素（ＲＬ：ＮｄおよびＰｒから選択される少なくとも１種）の一部を、ＲＨに置換することで保磁力を向上させる方法が知られている。しかしながら、ＲＨは希少資源であるので使用量の削減が求められる他、ＲＬのＲＨによる置換割合が大きくなると残留磁束密度が低下するという問題がある。そこで、より少ないＲＨの使用量で残留磁束密度の低下を抑制しつつ保磁力を向上させる方法が各種提案されているが、こうしたＲＨ含有量の少ないＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石や、ＲＨを含まない磁石においても、当然のことながら耐食性の確保が必要となる。
そこで本発明は、ＲＨ含有量が少ないか、またはＲＨを含まない、耐食性に優れるＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは、上記の点に鑑みて鋭意検討を行う過程において、特許文献７において提案したＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石に対する表面改質方法を、ＲＨ含有量が少ない磁石や、ＲＨを含まない磁石に対して適用したところ、期待通りの表面改質効果が得られる一方で、全く意外なことに、ＲＨ含有量が多い磁石では起こらない保磁力低下が起こることがわかった。そこで、この現象の解消を図るべくさらに検討を重ねた結果、所定の条件での熱処理を行った後の磁石の降温を急速に行うことが、この現象の解消に有効であることを見出した。
【０００６】
上記の知見に基づいて完成された本発明の耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の製造方法は、請求項１記載の通り、ＲＨ含有量が４．５ｍａｓｓ％以下のＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石に対し、酸素分圧が１×１０３Ｐａ〜１×１０５Ｐａで水蒸気分圧が１０００Ｐａ未満であり、かつ、酸素分圧と水蒸気分圧の比率（酸素分圧／水蒸気分圧）が１〜２００００の雰囲気下、２００℃〜４５０℃で熱処理を行う工程を含み、熱処理を行った温度からの磁石の降温を、少なくとも１００℃に至るまで６５０℃／時間以上の平均冷却速度で行うことを特徴とする。
また、請求項２記載の製造方法は、請求項１記載の製造方法において、平均冷却速度を２０００℃／時間以下とすることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、ＲＨ含有量が少ないか、またはＲＨを含まないＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石に対し、保磁力低下を起こすことなくその表面改質を行うことによって優れた耐食性を付与することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の製造方法に好適に採用することができる連続処理炉の一例の概略図（側面図）である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明の耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の製造方法は、ＲＨ含有量が４．５ｍａｓｓ％以下のＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石に対し、酸素分圧が１×１０３Ｐａ〜１×１０５Ｐａで水蒸気分圧が１０００Ｐａ未満であり、かつ、酸素分圧と水蒸気分圧の比率（酸素分圧／水蒸気分圧）が１〜２００００の雰囲気下、２００℃〜４５０℃で熱処理を行う工程を含み、熱処理を行った温度からの磁石の降温を、少なくとも１００℃に至るまで６５０℃／時間以上の平均冷却速度で行うことを特徴とするものである。
【００１０】
熱処理を行う工程における酸素分圧を１×１０３Ｐａ〜１×１０５Ｐａと規定するのは、酸素分圧が１×１０３Ｐａよりも小さいと、雰囲気中の酸素量が少なすぎることで、磁石の表面改質に時間がかかりすぎたり、磁石のその保持部材と接する部分の表面改質が十分に行われないことにより、当該部分に十分な耐食性や安定性が付与されなかったり当該部分に保持部材との接点跡が残ってしまったりする恐れがあるからである。一方、酸素分圧を１×１０５Ｐａより大きくしても、酸素分圧を大きくすることによる磁石の表面改質効果はさほど認められず、コストアップを招来するだけになってしまう恐れがあるからである。磁石の表面に対して所望する改質をより効果的かつ低コストに行うためには、酸素分圧は１×１０３Ｐａ〜５×１０４Ｐａが望ましく、１×１０４Ｐａ〜３×１０４Ｐａがより望ましい。水蒸気分圧を１０００Ｐａ未満と規定するのは、水蒸気分圧が１０００Ｐａ以上であると、雰囲気中の水蒸気量が多すぎることで、磁石の表面を優れた耐食性を発揮する安定なものに改質することができない恐れがあるからである。磁石の表面に対して所望する改質をより効果的かつ低コストに行うためには、水蒸気分圧は７００Ｐａ以下が望ましく、４５Ｐａ以下がより望ましい。なお、水蒸気分圧の下限は特段制限されるものではないが、通常、１Ｐａが望ましい。酸素分圧と水蒸気分圧の比率を１〜２００００と規定するのは、当該比率が１よりも小さいと、雰囲気中の酸素量に対する水蒸気量が多すぎることで、磁石の表面を優れた耐食性を発揮する安定なものに改質することができない恐れがあるからである。一方、当該比率が２００００よりも大きい雰囲気は特殊環境といえ、実用的でないからである。磁石の表面に対して所望する改質をより効果的かつ低コストに行うためには、当該比率は１０〜１００００が望ましく、３００〜５０００がより望ましく、４５０〜４０００がさらに望ましい。処理室内の雰囲気は、例えば、これらの酸化性ガスを所定の分圧となるように個別に導入することによって形成してもよいし、これらの酸化性ガスが所定の分圧で含まれる露点を有する大気を導入することによって形成してもよい。また、処理室内には、窒素ガスやアルゴンガスなどの不活性ガスを共存させてもよい。雰囲気の全圧を大気圧やその近傍の圧力（具体的には例えば９×１０４Ｐａ〜１．２×１０５Ｐａ）とすれば、特別な圧力調整手段を必要とすることなく所定の雰囲気を容易に形成して磁石の表面改質を行うことができる。
【００１１】
熱処理の温度を２００℃〜４５０℃と規定するのは、２００℃よりも低いと、磁石の表面に対して所望する改質を行い難くなる恐れがある一方、熱処理温度が４５０℃よりも高いと、磁石の磁気特性に悪影響を及ぼす恐れがあるからである。熱処理の温度は２４０℃〜４３０℃が望ましく、２８０℃〜４００℃がより望ましい。熱処理の時間は１分間〜３時間が望ましく、１５分間〜２．５時間がより望ましい。時間が短すぎると、磁石の表面に対して所望する改質を行い難くなる恐れがある一方、時間が長すぎると、磁石の磁気特性に悪影響を及ぼす恐れがある。
【００１２】
なお、磁石を常温から熱処理を行う温度まで昇温する工程は、酸素分圧が１×１０３Ｐａ〜１×１０５Ｐａで水蒸気分圧が１Ｐａ〜１００Ｐａの雰囲気下で行うことが望ましい。このような雰囲気下で昇温することにより、磁石の表面に少なからず自然吸着している水分を早期に脱離させることで、磁石の表面に存在する水分が昇温の際に磁石に対して悪影響を与えることを極力回避することができる。平均昇温速度は、例えば１００℃／時間〜２０００℃／時間とすればよい。なお、本発明において「常温」とは、表面改質が行われるＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石が昇温を開始する時点で置かれている環境の温度（例えば室温）を指し、例示的には、日本工業規格のＪＩＳ Ｚ ８７０３において５℃〜３５℃と規定されている温度を意味する。
【００１３】
本発明において特徴付けられる、熱処理を行った後の磁石を降温する工程は、熱処理温度から少なくとも１００℃に至るまで６５０℃／時間以上の平均冷却速度で行う。本発明者らの検討によれば、上述した条件での熱処理を行うことで表面改質されたＲＨ含有量が４．５ｍａｓｓ以下の磁石の保磁力は、熱処理後の降温工程における冷却速度に大きく依存し（とりわけ４００℃〜２００℃の温度域における冷却速度に依存するようである）、冷却速度が遅いと保磁力低下が起こる。この保磁力低下は、本発明者らが全く予測していなかった現象であり、ＲＨ含有量が４．５ｍａｓｓ％を超える磁石では起こらない。そこで、本発明では、熱処理を行った温度からの磁石の降温を、少なくとも１００℃に至るまで６５０℃／時間以上の平均冷却速度で行うことで、熱処理後の降温時における保磁力低下を抑制する。平均冷却速度の上限は特段制限されるものではないが、簡易な方法で低コストに降温を行うためには、２０００℃／時間とすることが望ましい。磁石の温度が１００℃に達した後のさらなる降温の際は、上記の平均冷却速度を維持してもよいし、維持しなくてもよい。なお、熱処理を行った磁石を降温する工程は、磁石の熱処理を行うに際しての昇温工程において採用する雰囲気と同じ雰囲気を採用して行うことが、工程中に磁石の表面が結露することで磁石が腐食して磁気特性が低下するといった現象を防ぐことができる点において望ましい。
【００１４】
熱処理を行った後の磁石を上記の平均冷却速度で降温するための具体的手段は特段限定されるものではない。例えば、磁石に対する昇温工程、熱処理工程、降温工程を、内部に雰囲気ガスを流通させることでその雰囲気の制御が可能なＳＵＳ，Ｔｉ，Ｍｏ，Ｎｂなどの材質からなる耐熱性容器に磁石を収容し、磁石を収容した耐熱性容器をバッチ式の熱処理炉の処理室に収容して耐熱性容器の内部の雰囲気を制御しながら行う場合、磁石の降温に用いる雰囲気ガスの流量を増加したり温度を下げたりすることにより、所望する平均冷却速度で磁石を降温することができる。所望する平均冷却速度での磁石の降温は、磁石を収容した耐熱性容器を収容した処理室内を大気開放する方法、耐熱性容器に収容する磁石の個数を減らす方法、磁石を収容した耐熱性容器を熱処理炉から取り出して別途に冷却する方法などによっても行うことができる。また、磁石に対する昇温工程、熱処理工程、降温工程を、磁石が収容された処理室内の環境を順次それぞれの工程を行うための環境に変化させることができるバッチ式の熱処理炉を用いて行う場合、降温工程を、磁石の降温に用いる雰囲気ガスを処理室内に導入することによって行うこととし、その流量を増加したり温度を下げたりすることにより、所望する平均冷却速度で磁石を降温することができる。
【００１５】
また、磁石に対する昇温工程、熱処理工程、降温工程を、内部がそれぞれの工程を行うための環境に制御された領域に分割され、各領域に磁石を順次移動させることができる連続処理炉（例えば図１に示すようなもの）を用いて行う場合、所望する平均冷却速度での磁石の降温は、降温領域における磁石の降温環境を適切に制御することによって行うことができる。例えば図１に示す連続処理炉においては、ベルトコンベアなどの移動手段によって磁石を図の左から右に移動させながら各処理を施す。矢印は図略の給気手段と排気手段によって形成される各領域における雰囲気ガスの流れである。昇温領域の入口および降温領域の出口は、例えばエアカーテンで区画され、昇温領域と熱処理領域の境界および熱処理領域と降温領域の境界は、例えば矢印の雰囲気ガスの流れにより区画される（これらの区画は機械的にシャッターで行われてもよい）。大量の磁石に対して安定した品質の表面改質を連続的に行うことができるこのような連続処理炉を用いる場合、所望する平均冷却速度での磁石の降温は、降温領域において用いる雰囲気ガスの流量を増加したり温度を下げたりする方法や、移動手段の移動速度を調整する方法によって行うことができる。
【００１６】
上記の工程によってＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の表面に形成される表面改質層の厚みは０．５μｍ〜１０μｍが望ましい。厚みが薄すぎると十分な耐食性を発揮しない恐れがある一方、厚みが厚すぎると磁石の磁気特性に悪影響を及ぼす恐れがある。
【００１７】
本発明が適用されるＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石としては、例えば、下記の製造方法によって製造されたＲＨ含有量が４．５ｍａｓｓ％以下のものが挙げられる。
２５ｍａｓｓ％以上４０ｍａｓｓ％以下の希土類元素Ｒと、０．６ｍａｓｓ％〜１．６ｍａｓｓ％のＢ（硼素）と、残部Ｆｅおよび不可避不純物とを包含する合金を用意する。ここで、Ｒは重希土類元素ＲＨを含んでいてもよい。また、Ｂの一部はＣ（炭素）によって置換されていてもよいし、Ｆｅの一部は（５０ｍａｓｓ％以下）は、他の遷移金属元素（例えば、ＣｏまたはＮｉ）によって置換されていてもよい。この合金は、種々の目的により、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｐｂ、およびＢｉからなる群から選択された少なくとも１種の添加元素Ｍを０．０１〜１．０ｍａｓｓ％程度含有していてもよい。
上記の合金は、原料合金の溶湯を例えばストリップキャスト法によって急冷して好適に作製され得る。以下、ストリップキャスト法による急冷凝固合金の作製を説明する。
まず、上記組成を有する原料合金をアルゴン雰囲気中において高周波溶解によって溶解し、原料合金の溶湯を形成する。次に、この溶湯を１３５０℃程度に保持した後、単ロール法によって急冷し、例えば厚さ約０．３ｍｍのフレーク状合金鋳塊を得る。こうして作製した合金鋳片を、次の水素粉砕処理前に例えば１〜１０ｍｍのフレーク状に粉砕する。なお、ストリップキャスト法による原料合金の製造方法は、例えば、米国特許第５、３８３、９７８号明細書に開示されている。
［粗粉砕工程］
上記のフレーク状に粗く粉砕された合金鋳片を水素炉の内部へ収容する。次に、水素炉の内部で水素脆化処理（以下、「水素粉砕処理」や単に「水素処理」と称する場合がある）工程を行う。水素粉砕処理後の粗粉砕粉合金粉末を水素炉から取り出す際、粗粉砕粉が大気と接触しないように、不活性雰囲気下で取り出し動作を実行することが好ましい。そうすれば、粗粉砕粉が酸化・発熱することが防止され、磁石の磁気特性の低下が抑制できるからである。
水素粉砕処理によって、希土類合金は０．１ｍｍ〜数ｍｍ程度の大きさに粉砕され、その平均粒径は５００μｍ以下となる。水素粉砕処理後、脆化した原料合金をより細かく解砕するとともに冷却することが好ましい。比較的高い温度状態のまま原料を取り出す場合は、冷却処理の時間を相対的に長くすればよい。
［微粉砕工程］
次に、粗粉砕粉に対してジェットミル粉砕装置を用いて微粉砕を実行する。本実施形態で使用するジェットミル粉砕装置にはサイクロン分級機が接続されている。ジェットミル粉砕装置は、粗粉砕工程で粗く粉砕された希土類合金（粗粉砕粉）の供給を受け、粉砕機内で粉砕する。粉砕機内で粉砕された粉末はサイクロン分級機を経て回収タンクに集められる。こうして、０．１〜２０μｍ程度の微粉末を得ることができる。このような微粉砕に用いる粉砕装置は、ジェットミルに限定されず、アトライタやボールミルであってもよい。粉砕に際して、ステアリン酸亜鉛などの潤滑剤を粉砕助剤として用いてもよい。
［プレス成形］
本実施形態では、上記方法で作製された磁性粉末に対し、例えばロッキングミキサー内で潤滑剤を例えば０．３ｍａｓｓ％添加・混合し、潤滑剤で合金粉末粒子の表面を被覆する。次に、上述の方法で作製した磁性粉末を公知のプレス装置を用いて配向磁界中で成形する。印加する磁界の強度は、例えば１．０〜１．７テスラ（Ｔ）である。また、成形圧力は、成形体のグリーン密度が例えば４〜４．５ｇ／ｃｍ３程度になるように設定される。
［焼結工程］
上記の粉末成形体に対して、例えば、１０００〜１２００℃の範囲内の温度で１０〜２４０分間行う。６５０〜１０００℃の範囲内の温度で１０〜２４０分間保持する工程と、その後、上記の保持温度よりも高い温度（例えば、１０００〜１２００℃）で焼結を更に進める工程とを順次行ってもよい。焼結時、特に液相が生成されるとき（温度が６５０〜１０００℃の範囲内にあるとき）、粒界相中のＲリッチ相が融け始め、液相が形成される。その後、焼結が進行し、焼結磁石体が形成される。焼結工程の後、時効処理（４００℃〜７００℃）や寸法調整のための研削を行ってもよい。
【００１８】
本発明の製造方法によって製造される表面改質されたＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石は、優れた耐食性が酸化熱処理によって付与されているとともに、熱処理後の降温時における保磁力低下が抑制されているので、例えば、ハイブリッド自動車や電気自動車の駆動モータとして使用されたり、空調機のコンプレッサーなどに組み込まれたりするＩＰＭモータでの使用に適したものである。なお、本発明の製造方法によって製造される表面改質されたＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石を用いてＩＰＭモータを製造する場合、ロータの内部に磁石を埋め込む工程を経て行えばよい。
【実施例】
【００１９】
以下、本発明を実施例によってさらに詳細に説明するが、本発明はこれに限定して解釈されるものではない。
【００２０】
（実施例１）
Ｎｄ：２０．８、Ｐｒ：５．９、Ｄｙ：３．０、Ｂ：０．９３、Ｃｏ：２．０、Ｃｕ：０．１、Ａｌ：０．１５、Ｇａ：０．０７、残部：Ｆｅ（単位はｍａｓｓ％）の組成を有する厚さ０．２ｍｍ〜０．３ｍｍの合金薄片をストリップキャスト法により作製した。
次に、この合金薄片を容器に充填し、水素処理装置内に収容した。そして、水素処理装置内を圧力５００ｋＰａの水素ガスで満たすことにより、室温で合金薄片に水素吸蔵させた後、放出させた。このような水素処理を行うことにより、合金薄片を脆化し、大きさ約０．１５ｍｍ〜０．２ｍｍの粗粉砕粉末を作製した。
上記の水素処理により作製した粗粉砕粉末に対し粉砕助剤として０．０４ｍａｓｓ％のステアリン酸亜鉛を添加し混合した後、ジェットミル装置による粉砕工程を行うことにより、粉末粒径が約３μｍの微粉末を作製した。
こうして作製した微粉末をプレス装置により成形し、粉末成形体を作製した。具体的には、印加磁界中で粉末粒子を磁界配向した状態で圧縮し、プレス成形を行った。その後、成形体をプレス装置から抜き出し、真空炉により１０５０℃で４時間の焼結工程を行い、焼結体ブロックを得た。
得られた焼結体ブロックを真空中にて４９０℃で２．５時間の時効処理を行った後、その表面に対し研削加工を行って寸法調整し、厚さ６ｍｍ×縦７ｍｍ×横７ｍｍの焼結磁石を得た。
【００２１】
上記の方法で得た焼結磁石を超音波水洗した後、図１に示した構成を有する連続処理炉を用いて、昇温工程、熱処理工程、降温工程を実行し、表面改質を行った。なお、焼結磁石の温度の測定は、熱電対を装着した温度測定用磁石の温度をモニタリングすることにより行った。
（１）昇温工程
常温（２５℃を意味する。以下同じ）から熱処理を行う温度（４２０℃）までの昇温を、露点−４０℃の大気（酸素分圧２００００Ｐａ，水蒸気分圧１９Ｐａ，酸素分圧／水蒸気分圧＝１０５２）の雰囲気下、５００℃／時間の平均昇温速度で行った。
（２）熱処理工程
露点０℃の大気（酸素分圧２００００Ｐａ，水蒸気分圧６００Ｐａ，酸素分圧／水蒸気分圧＝３３．３）の雰囲気下、４２０℃で３０分間の熱処理を行った。
（３）降温工程
昇温工程において採用した雰囲気と同じ雰囲気下、４２０℃から１００℃までの降温を６９０℃／時間の平均冷却速度で行った。なお、平均冷却速度の調整は、降温に用いる雰囲気ガスの流量を調整することにより行った。
【００２２】
以上の方法で焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは１．７μｍであった。なお、改質層の厚みは、表面改質された焼結磁石を樹脂埋め研磨後、イオンビーム断面加工装置（ＳＭ０９０１０：日本電子社製）を用いて試料作製し、電界放出型走査電子顕微鏡（Ｓ−４３００：日立ハイテクノロジー社製）を用いて断面観察を行うことによって測定した。
【００２３】
（実施例２）
熱処理工程を露点−４０℃の大気（酸素分圧２００００Ｐａ，水蒸気分圧１９Ｐａ，酸素分圧／水蒸気分圧＝１０５２）の雰囲気下、４２０℃で２０分間行ったこと以外は実施例１と同じ方法で焼結磁石の表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは１．６μｍであった。
【００２４】
（実施例３）
内部に雰囲気ガスを流通させることでその雰囲気を制御するためのガス導入路とガス排出路を備えたＳＵＳ製の耐熱性容器に焼結磁石を収容し、焼結磁石を収容した耐熱性容器をバッチ式の熱処理炉の処理室に収容して耐熱性容器の内部の雰囲気を制御しながら昇温工程と熱処理工程を実行した後、降温工程を、耐熱性容器の内部を降温工程のための雰囲気とした後に耐熱性容器を熱処理炉から取り出して別途に冷却することで１８００℃／時間の平均冷却速度で実行したこと以外は実施例１と同じ方法で焼結磁石の表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは１．７μｍであった。
【００２５】
（実施例４）
Ｎｄ：１９．８、Ｐｒ：５．７、Ｄｙ：４．３、Ｂ：０．９３、Ｃｏ：２．０、Ｃｕ：０．１、Ａｌ：０．１５、Ｇａ：０．０７、残部：Ｆｅ（単位はｍａｓｓ％）の組成を有する厚さ０．２ｍｍ〜０．３ｍｍの合金薄片を用いて焼結磁石を作製したことと、熱処理工程を４００℃で３０分間行ったこと以外は実施例３と同じ方法で焼結磁石の表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは１．５μｍであった。
【００２６】
（実施例５）
Ｎｄ：１９．８、Ｐｒ：５．７、Ｄｙ：４．３、Ｂ：０．９３、Ｃｏ：２．０、Ｃｕ：０．１、Ａｌ：０．１５、Ｇａ：０．０７、残部：Ｆｅ（単位はｍａｓｓ％）の組成を有する厚さ０．２ｍｍ〜０．３ｍｍの合金薄片を用いて焼結磁石を作製したことと、熱処理工程を露点−４０℃の大気（酸素分圧２００００Ｐａ，水蒸気分圧１９Ｐａ，酸素分圧／水蒸気分圧＝１０５２）の雰囲気下、４２０℃で２０分間行ったことと、７５０℃／時間の平均冷却速度で降温工程を行ったこと以外は実施例１と同じ方法で焼結磁石の表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは１．８μｍであった。
【００２７】
（実施例６）
Ｎｄ：３０．５、Ｂ：０．９５、Ｃｏ：０．９、Ｃｕ：０．１、Ａｌ：０．１、Ｇａ：０．１、残部：Ｆｅ（単位はｍａｓｓ％）の組成を有する厚さ０．２ｍｍ〜０．３ｍｍの合金薄片を用いて焼結磁石を作製したことと、熱処理工程を３４０℃で１２０分間行ったこと以外は実施例３と同じ方法で焼結磁石の表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは１．２μｍであった。
【００２８】
（実施例７）
Ｎｄ：２３．０、Ｐｒ：６．６、Ｄｙ：１．２、Ｂ：１．００、Ｃｏ：２．０、Ｃｕ：０．１、Ａｌ：０．２、残部：Ｆｅ（単位はｍａｓｓ％）の組成を有する厚さ０．２ｍｍ〜０．３ｍｍの合金薄片を用いて焼結磁石を作製したことと、熱処理工程を露点−４０℃の大気（酸素分圧２００００Ｐａ，水蒸気分圧１９Ｐａ，酸素分圧／水蒸気分圧＝１０５２）の雰囲気下、３００℃で１２０分間行ったことと、７５０℃／時間の平均冷却速度で降温工程を行ったこと以外は実施例１と同じ方法で焼結磁石の表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは０．９μｍであった。
【００２９】
（比較例１）
４２０℃／時間の平均冷却速度で降温工程を行ったこと以外は実施例１と同じ方法で焼結磁石の表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは１．６μｍであった。
【００３０】
（比較例２）
５３０℃／時間の平均冷却速度で降温工程を行ったこと以外は実施例２と同じ方法で焼結磁石の表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは１．７μｍであった。
【００３１】
（比較例３）
５３０℃／時間の平均冷却速度で降温工程を行ったこと以外は実施例４と同じ方法で焼結磁石の表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは１．６μｍであった。
【００３２】
（比較例４）
４９０℃／時間の平均冷却速度で降温工程を行ったこと以外は実施例６と同じ方法で焼結磁石の表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは１．３μｍであった。
【００３３】
（比較例５）
５３０℃／時間の平均冷却速度で降温工程を行ったこと以外は実施例７と同じ方法で焼結磁石の表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは０．９μｍであった。
【００３４】
（参考例１）
Ｎｄ：１８．１、Ｐｒ：５．２、Ｄｙ：６．５、Ｂ：０．９５、Ｃｏ：２．０、Ｃｕ：０．１、Ａｌ：０．１５、Ｇａ：０．０７、残部：Ｆｅ（単位はｍａｓｓ％）の組成を有する厚さ０．２ｍｍ〜０．３ｍｍの合金薄片を用いて焼結磁石を作製したことと、熱処理工程を４００℃で３０分間行ったことと、６９０℃／時間の平均冷却速度で降温工程を行ったこと以外は実施例１と同じ方法で焼結磁石の表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは１．６μｍであった。
【００３５】
（参考例２）
Ｎｄ：１５．４、Ｐｒ：４．３、Ｄｙ：１１．７、Ｂ：０．９５、Ｃｏ：２．０、Ｃｕ：０．１、Ａｌ：０．１５、Ｇａ：０．０７、残部：Ｆｅ（単位はｍａｓｓ％）の組成を有する厚さ０．２ｍｍ〜０．３ｍｍの合金薄片を用いて焼結磁石を作製したことと、熱処理工程を４００℃で３０分間行ったことと、６９０℃／時間の平均冷却速度で降温工程を行ったこと以外は実施例１と同じ方法で焼結磁石の表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは１．７μｍであった。
【００３６】
（参考例３）
４２０℃／時間の平均冷却速度で降温工程を行ったこと以外は参考例１と同じ方法で焼結磁石の表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは１．７μｍであった。
【００３７】
（参考例４）
４２０℃／時間の平均冷却速度で降温工程を行ったこと以外は参考例２と同じ方法で焼結磁石の表面改質を行った。その結果、焼結磁石の表面に形成された改質層の厚みは１．６μｍであった。
【００３８】
（磁気特性評価）
実施例１〜７、比較例１〜５、参考例１〜４のそれぞれにおいて表面改質を行った焼結磁石の固有保磁力を、表面改質を行う前の焼結磁石の固有保磁力と比較し、下記の数式で固有保磁力劣化率を算出した。結果を表１に示す。なお、固有保磁力の測定は、磁気測定装置（ＴＰＮ−２−１０：東英工業社製）を用いて行った。
固有保磁力劣化率（％）＝（（Ａ−Ｂ）／Ａ）×１００
Ａ：表面改質前の焼結磁石の固有保磁力（２０個の平均値）
Ｂ：表面改質後の焼結磁石の固有保磁力（２０個の平均値）
【００３９】
（耐食性評価）
実施例１〜７、比較例１〜５、参考例１〜４のそれぞれにおいて表面改質を行った焼結磁石に対し、温度：６０℃×相対湿度：９０％の高温高湿条件下での耐食性試験を２４時間行い、試験後の表面発錆の有無を外観観察により調べた。試験に供した各２０個の磁石のうち表面発錆が認められた磁石の個数を表１に示す。
【００４０】
【表１】
【００４１】
（まとめ）
参考例から明らかなように、ＲＨ含有量が多い（具体的には６．５ｍａｓｓ％以上）焼結磁石は、熱処理後の降温の際の平均冷却速度にかかわらず固有保磁力劣化率は極めて低い数値であり、降温時における保磁力低下は認められなかった。これに対し、実施例と比較例から明らかなように、ＲＨ含有量が少ない焼結磁石は、熱処理後の降温の際の平均冷却速度が遅いと固有保磁力劣化率が高い数値となり、降温時における保磁力低下が認められたが、平均冷却速度を速めることで固有保磁力劣化率の改善が図られ、降温時における保磁力低下を抑制することができた。なお、降温の際の平均冷却速度が遅いことによる保磁力低下は、ＲＨ含有量が少なくとも４．５ｍａｓｓ％の焼結磁石において認められ、平均冷却速度が少なくとも６５０℃／時間で保磁力低下の抑制効果が認められた（別途の実験による）。焼結磁石の表面改質によって付与された耐食性は、実施例、比較例、参考例の間で差異はなく、いずれにおいても優れたものであった。
【産業上の利用可能性】
【００４２】
本発明は、ＲＨ含有量が少ないか、またはＲＨを含まない、耐食性に優れるＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石を、工程中に保磁力低下を起こすことなく製造する方法を提供することができる点において産業上の利用可能性を有する。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
重希土類元素（ＲＨ：ＤｙおよびＴｂから選択される少なくとも１種）含有量が４．５ｍａｓｓ％以下のＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石に対し、酸素分圧が１×１０３Ｐａ〜１×１０５Ｐａで水蒸気分圧が１０００Ｐａ未満であり、かつ、酸素分圧と水蒸気分圧の比率（酸素分圧／水蒸気分圧）が１〜２００００の雰囲気下、２００℃〜４５０℃で熱処理を行う工程を含み、かつ、熱処理を行った温度からの磁石の降温を、少なくとも１００℃に至るまで６５０℃／時間以上の平均冷却速度で行うことを特徴とする耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の製造方法。
【請求項２】
平均冷却速度を２０００℃／時間以下とすることを特徴とする請求項１記載の製造方法。
【請求項１】
重希土類元素（ＲＨ：ＤｙおよびＴｂから選択される少なくとも１種）含有量が４．５ｍａｓｓ％以下のＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石に対し、酸素分圧が１×１０３Ｐａ〜１×１０５Ｐａで水蒸気分圧が１０００Ｐａ未満であり、かつ、酸素分圧と水蒸気分圧の比率（酸素分圧／水蒸気分圧）が１〜２００００の雰囲気下、２００℃〜４５０℃で熱処理を行う工程を含み、かつ、熱処理を行った温度からの磁石の降温を、少なくとも１００℃に至るまで６５０℃／時間以上の平均冷却速度で行うことを特徴とする耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の製造方法。
【請求項２】
平均冷却速度を２０００℃／時間以下とすることを特徴とする請求項１記載の製造方法。
【図１】
【公開番号】特開２０１２−１４２４００（Ｐ２０１２−１４２４００Ａ）
【公開日】平成２４年７月２６日（２０１２．７．２６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２９３５３３（Ｐ２０１０−２９３５３３）
【出願日】平成２２年１２月２８日（２０１０．１２．２８）
【出願人】（０００００５０８３）日立金属株式会社 (2,051)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年７月２６日（２０１２．７．２６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１２月２８日（２０１０．１２．２８）
【出願人】（０００００５０８３）日立金属株式会社 (2,051)
【Ｆターム（参考）】
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