説明

脱硝触媒の再生用薬剤およびそれを用いた再生方法

【課題】 各種劣化に対応できる汎用性の高い再生用薬剤、具体的には下記の特性を有する再生用薬剤およびそれを用いた触媒の再生方法を提供する。
【解決手段】 チタン(Ti)、バナジウム(V)およびモリブデン(Mo)またはタングステン(W)の各酸化物を含有する触媒組成物粉末を、MoまたはWの可溶性オキソ酸塩を含む水溶液に分散させたことを特徴とする使用済脱硝触媒の再生用薬剤。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、アンモニア還元脱硝用触媒の再生用薬剤および該薬剤を用いた触媒の再生方法に係り、特に各種蓄積性毒物により劣化した触媒や、触媒担体金属またはダストとして飛来してきた酸化鉄の触媒作用により、排ガス中のSO2酸化率が上昇した劣化触媒を、廃水を発生させることなく、再生することができる薬剤と、それを用いた再生方法に関する。
【背景技術】
【0002】
酸化チタンを主成分とする脱硝触媒を用い、排ガス中の窒素酸化物をアンモニアで還元する脱硝方法(特開昭50−128681号公報等)は、国内外で広く実用されるようになってから約20年経過し、用いられている触媒量も膨大な量になっている。これら膨大な量の触媒が現在その使命を終えて使用済触媒として大量に排出される時期がきており、再利用法の確立が急務になってきている。
【0003】
酸化チタン系脱硝触媒の場合、上記例を含め触媒の劣化の多くは排ガス中に含まれるカリウム、ナトリウムなどのアルカリ金属元素、カルシウムなどのアルカリ土類金属元素を含むダストから、前記元素が触媒中に移動して劣化することが知られており、その再生方法も多数発明されている。また、重油または石炭焚ボイラの排ガス脱硝の場合には、ダスト中の鉄化合物やバナジウム成分の付着、または基材に金属基板を使用する場合には、基材の腐食による触媒中の鉄成分の増加などにより、SO2酸化率が上昇し、後流部の熱交換器の腐食を起こすため、触媒の交換や再生が行われている。
【0004】
このようにアンモニア還元脱硝触媒の劣化原因は千差万別と言っても過言ではなく、その再生方法も多岐にわたっているが、その多くは劣化原因となった成分を水や薬液で洗浄除去後、活性成分を新たに担持する方法が主流になっている。しかし、このような方法では、大量の洗浄水や薬液が廃水として排出され、また活性成分担持後に賦活化のための焼成が必要になるなど、大掛かりな装置と廃液処理設備を必要とする。このため、本発明者らは、硫酸を含む水溶液に触媒成分を分散したスラリーをコーティングする、洗浄を必要としない触媒の再生法を提案した(特許文献1)。
【特許文献1】特開2000−24520号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
上記従来技術は何れも、劣化原因によっては再生効果が大きく、実用性が高い技術であるものの、前述のようにプラント毎に異なる原因で劣化した触媒を同様の簡単な操作で再生するには限界があった。
【0006】
本発明の課題は、各種劣化に対応できる汎用性の高い再生用薬剤、具体的には下記の特性を有する再生用薬剤およびそれを用いた触媒の再生方法を提供することにある。
【0007】
(1) 劣化原因に拠らず、高い再生処理が得られる薬剤
(2) 水洗、酸洗などの廃水を発生する操作を行わない使用済触媒に適用可能な再生用薬剤
(3) 触媒性能の低下を回復させるだけでなく、上昇したSO2酸化率の低減もできる薬剤
(4) 高温での賦活処理を必要とせず、乾燥またはそれに類する低温処理で高い再生が可能な薬剤
【課題を解決するための手段】
【0008】
上記課題は、チタン(Ti)、バナジウム(V)及びモリブデン(Mo)の酸化物を主成分とする触媒組成物粉末、またはTi、V及びタングステン(W)の酸化物を主成分とする触媒組成物粉末を、MoまたはWの可溶性酸素酸塩を溶解させた水溶液に分散させたスラリを再生薬剤として用いることにより達成される。
【0009】
すなわち、本願で特許請求される発明は下記のとおりである。
(1)チタン(Ti)、バナジウム(V)およびモリブデン(Mo)またはタングステン(W)の各酸化物を含有する触媒組成物粉末を、MoまたはWの可溶性オキソ酸塩を含む水溶液に分散させたことを特徴とする使用済脱硝触媒の再生用薬剤。
(2)MoまたはWの可溶性オキソ酸塩が、ヘプタモリブデン酸アンモニウムまたはメタタングステン酸アンモニウムであることを特徴とする(1)記載の薬剤。
(3)使用済脱硝触媒を、(1)または(2)記載の薬剤に浸漬後、乾燥することを特徴とする前記触媒の再生方法。
(4)使用済脱硝触媒に、(1)または(2)記載の再生薬剤をスプレーした後、乾燥することを特徴とする前記触媒の再生方法。
【発明の効果】
【0010】
本発明の再生用薬剤によれば、廃水を大量に発生する水洗や薬洗に頼ることなく、各種劣化触媒の活性を回復させ、しかも上昇したSO2酸化率を引き下げることが可能である。その結果、再生コストで大きな比率を占める廃液処理が不要にできる。さらに、本発明の再生薬剤の製法は焼成のような高温での賦活処理が不要のため、再生設備も簡略化できる。
【0011】
また、廃液処理が不要なことと、焼成などの専用炉を必要としないため、現地で抜出し、再生処理を行う簡易再生が可能であるだけでなく、再生薬剤がスラリ状で、浸漬のみならず、スプレー法でも触媒表面に担持できるため、応用範囲が広く、汎用触媒再生薬剤として利用価値が高い。
【発明を実施するための最良の形態】
【0012】
以下、本発明の原理を詳細に説明する。本発明者等は、各種触媒毒で劣化した触媒や、SO2酸化率の高くなった触媒などを、水洗や薬洗で洗浄することなく、含浸またはコーティング処理により再生できる方法を確立するため、各種触媒毒物を無毒化できる薬剤について鋭意研究した結果、Moまたは、およびWのオキソ酸塩が無毒化剤として優れていることを見出した。即ち、これらのオキソ酸塩は、排ガス中のダストに含有されるカルシウム、ストロンチウムなどのアルカリ物質と安定かつ溶解度の低い化合物を形成する。このため、これらのオキソ酸塩の溶液にTi/V/MoまたはTi/V/W組成物を分散させたスラリを、再生用薬剤として各種劣化原因で劣化した触媒に触れさせると、図1に示すように、可溶性のMo又はWの酸素酸イオンを含む溶液は、触媒層を矢印2の方向に移動し、触媒表面や細孔内の触媒毒と安定な化合物を作って沈殿(不溶性オキソ酸塩3)を形成し、それら毒物を無害化すると同時に、触媒細孔を閉塞させ、触媒毒の表面への移動を防止する。一方、本発明の再生用薬剤に含まれる微粒の触媒成分は、触媒細孔内には入れず、触媒表面に活性の高い新しい活性成分層1を形成する。これに対して、再生用薬剤がMoまたはWの酸素酸塩を含まない場合には、図2に示すように、触媒細孔内には水のみが入るため、触媒毒は溶解後、矢印6の方向に拡散移動して、表層に形成された活性な触媒成分層1に到達し、触媒の活性低下を引き起こし、高い再生率が得られくなる。さらに、水に溶解した触媒毒が乾燥により触媒表層に移動すると、触媒毒が表面に同伴されるため、活性成分層の活性は更に低下する。
【0013】
以上のように本発明の再生用薬剤を使用した場合には、触媒内の毒物の大半は無害かつ溶解度の低い化合物となって触媒内部に沈殿するため、それらが表面に形成された活性な触媒成分層に移動することがなくなる。
【0014】
さらに本発明の特筆すべき効果は、MoやWのオキソ酸イオンが硫酸鉄や酸化鉄などの付着性成分や金属機材の腐食成分とも安定な沈殿を形成するか、またはその上に吸着して、SO2酸化活性をも隠蔽する効果があることである。オキソ酸塩を含まない場合には、これらのFe化合物は溶解して触媒表面に移動し、SO2酸化率を上昇させ、再生された触媒は、以前より高いSO2酸化率を呈することが多々あるが、本発明では酸素酸イオンの上記隠蔽効果により、極めて低いSO2酸化率を達成することが可能である。
【0015】
本発明でいう触媒組成物は、特開昭50−128681号公報等などの公知の脱硝触媒組成物の調製法に準じて作られたTi/V/MoまたはTi/V/W触媒粉末であり、通常V含有量が2〜10原子%、MoまたはW含有量が2〜15原子%の範囲であり、特にVが4〜7原子%、MoまたはWが5〜10原子%の範囲のものが好結果を与えやすい。これらの触媒組成物は微粉砕機で粉砕され、通常、平均粒径1〜2μmの微粉末とし、これをMoまたはWのオキソ酸塩水溶液に固形分濃度として5〜35重量%、通常、10~25重量%の範囲で懸濁させる。MoまたはWのオキソ酸塩は、水に溶解性の高いものであれば特に限定はされないが、ヘプタモリブデン酸アンモニウム、メタタングステン酸アンモニウムが、溶解度が高く好結果を与えやすく、その濃度は、水に対し5〜30重量%が好ましい。
【0016】
本発明の再生用薬剤は、上記溶液に触媒組成物粉末を分散させて得られるが、この時、分散促進のため少量の界面活性剤の添加、pH調整用の酸、アルカリの添加、強度向上のためのシリカゾルなどのゾル状物、あるいは結合剤の添加がなされてもよい。
【0017】
本発明の再生用薬剤の具体的な使用方法は、通常、使用済み触媒を水洗や薬洗などの前処理を行わない状態で、本発明の再生用薬剤の中に浸漬するか、スプレーなどの方法で触媒表面に吹き付けて、触媒表面に触媒成分を30g/m2〜200g/m2の範囲で担持後、乾燥する方法が好ましく採用される。高い温度で焼成しても害はないが、本発明の触媒は通常の脱硝反応温度で十分賦活化されるため、乾燥操作以上の熱の処理は通常不要である。なお、上記処理において、使用済触媒に付着したダストの機械的除去、また触媒の水洗や薬剤による洗浄を併用してもよいことは言うまでもない。
【実施例】
【0018】
以下具体例を用いて本発明を詳細に説明する。
[実施例1]
酸化チタン粉末20kgにヘプタモリブデン酸アンモニウム((NH46 ・Mo7 24・4H2 O)を2.5kg、メタバナジン酸アンモニウム2.33kg、蓚酸3.0kgとに水を加えてニーダで混練してペースト状にしたものを直径3mmの柱状に造粒後、流動層乾燥器で乾燥、500℃で2時間焼成し、続いてハンマーミルで粉砕して1μm以下の粒子が50%以上の含まれる触媒活性成分を得た(V含有量:7原子%)。
【0019】
これとは別に、水にヘプタモリブデン酸アンモニムを溶解し濃度5重量%の溶液を800g作成した。本溶液に上記触媒活性成分粉末を200g添加し、激しく攪拌して本発明の再生用薬剤を得た。
本再生用薬剤の効果を確かめるため、石炭と油の混焼ボイラの排ガス脱硝に約8年使用された触媒(Ti/Mo/Vが94.5/5/0.5原子比の触媒成分を無機繊維と共に混練後、厚みが0.3mmのSUS430製メタルラス基材表面に塗布後焼成した板状触媒、以下、劣化触媒Aと称する)の100角形状のものを上記再生用薬剤に浸漬後、風乾、さらに120℃で2時間乾燥した。
【0020】
[実施例2]
実施例1のヘプタモリブデン酸アンモニウム溶液の濃度を5重量%から10重量%に変更し、他は同様にして再生薬剤を得、実施例1と同様な再生試験を行った。
[実施例3]
実施例1のヘプタモリブデン酸アンモニウム2.33kgをメタタングステン酸アンモニウム溶液(WO3:50%) 6.59kgに変更、他は同様にして再生用薬剤を得、実施例1と同様な再生試験を行った。
【0021】
[実施例4〜6]
実施例1〜3の再生試験に用いた触媒に変えて、同様の組成ではあるが、灰中の酸化鉄成分とメタルラス基材の腐食に伴うFe化合物により酸化率上昇の著しい触媒(以下、劣化触媒Bと称する)を用いて、実施例1と同様な再生試験を行った。
【0022】
[比較例1及び2]
実施例2及び5の再生薬剤に変えて、触媒活性成分を水だけに分散させたものを再生薬剤に用い、実施例1と同様な再生試験を行った。
[比較例3及び4]
実施例1及び4の再生薬剤の担持に変えて、活性成分として硫酸バナジウム溶液(Vとして3重量%溶液)に含浸後、乾燥、その後、450℃で2時間焼成して賦活させた触媒を得、実施例1と同様な再生試験を行った。
【0023】
得られた実施例1〜6及び比較例1〜4の触媒を20×100の触媒片に切り出し、表1及び表2の条件で脱硝性能およびSO2酸化率を測定した。得られた結果を、再生前の性能と合わせて表3に示した。
【0024】
表3において、実施例1の再生試験によるものは何れも再生前及び比較例になる再生触媒に比べ、高い脱硝性能と低いSO2酸化率を示している。特に実施例2及び5と比較例1及び2とを比較するとSO2酸化率には顕著な差異が認められ、本発明になる薬剤がSO2酸化率抑制に高い活性を示すことは明白である。
【0025】
【表1】

【0026】
【表2】

【0027】
【表3】

【図面の簡単な説明】
【0028】

【図1】本発明の原理を説明するための触媒層の模式図。
【図2】本発明の再生用薬剤を使用しない場合の、図1と比較した触媒層の模式図。
【符号の説明】
【0029】
1…活性成分層、2…Mo又はWのオキソ酸塩の移動方向、3…触媒毒と反応したMoまたはWの不溶性オキソ酸塩、4…劣化触媒層、5…水に溶解した触媒毒を含む劣化触媒、6…触媒毒を含む溶液の移動、7…乾燥・拡散により移動析出した触媒毒成分。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
チタン(Ti)、バナジウム(V)およびモリブデン(Mo)またはタングステン(W)の各酸化物を含有する触媒組成物粉末を、MoまたはWの可溶性オキソ酸塩を含む水溶液に分散させたことを特徴とする使用済脱硝触媒の再生用薬剤。
【請求項2】
MoまたはWの可溶性オキソ酸塩が、ヘプタモリブデン酸アンモニウムまたはメタタングステン酸アンモニウムであることを特徴とする請求項1記載の薬剤。
【請求項3】
使用済脱硝触媒を、請求項1または2記載の薬剤に浸漬後、乾燥することを特徴とする前記触媒の再生方法。
【請求項4】
使用済脱硝触媒に、請求項1または2記載の再生薬剤をスプレーした後、乾燥することを特徴とする前記触媒の再生方法。

【図1】
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【図2】
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【公開番号】特開2006−167526(P2006−167526A)
【公開日】平成18年6月29日(2006.6.29)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2004−360779(P2004−360779)
【出願日】平成16年12月14日(2004.12.14)
【出願人】(000005441)バブコック日立株式会社 (683)
【Fターム(参考)】