表示装置および電子機器
【課題】視差バリアパターンが位置ずれするのを抑制することが可能な表示装置を提供する。
【解決手段】この液晶表示装置（表示装置）１００は、表面上に薄膜トランジスタ３が形成されたＴＦＴ基板１と、薄膜トランジスタ３を挟むように、ＴＦＴ基板１と対向するように配置されたＣＦ基板２と、ＣＦ基板２の薄膜トランジスタ３側とは反対側の表面上に直接形成された視差バリアパターン４０とを備える。
【解決手段】この液晶表示装置（表示装置）１００は、表面上に薄膜トランジスタ３が形成されたＴＦＴ基板１と、薄膜トランジスタ３を挟むように、ＴＦＴ基板１と対向するように配置されたＣＦ基板２と、ＣＦ基板２の薄膜トランジスタ３側とは反対側の表面上に直接形成された視差バリアパターン４０とを備える。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置および電子機器に関し、特に、視差バリアパターンを備える表示装置および電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、視差バリアパターンを備える表示装置および電子機器が知られている（たとえば、特許文献１参照）。
【０００３】
上記特許文献１には、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）が形成されたＴＦＴ基板と、ＴＦＴ基板に対向するように設けられたカウンター基板（カラーフィルター（ＣＦ）基板）と、ＴＦＴ基板とカウンター基板との間に挟持された液晶層とを備えたマルチプル視野ディスプレイ（表示装置）が開示されている。また、カウンター基板の液晶層とは反対側の表面上には、偏光子が形成されている。偏光子のカウンター基板とは反対側の表面上には、立体（３Ｄ）画像や異なる２つの画像を表示するための視差バリアが配置されている。なお視差バリアは、視差バリア基板と、視差バリア基板の表面上に形成され複数の開口部（スリット）を有する視差バリアアパーチャアレイ（視差バリアパターン）とから構成されている。そして、上記特許文献１には明確に記載されていないが、カウンター基板の表面上に形成された偏光子と、視差バリアの視差バリアアパーチャアレイとが、接着材層などを用いて貼り合わせられることにより、カウンター基板と視差バリアとが固定されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−２０６０８９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記特許文献１に記載の表示装置では、偏光子と視差バリアアパーチャアレイとが接着材層を用いて貼り合わせられた場合には、視差バリアアパーチャアレイがカウンター基板側に設けられる画素やカラーフィルターに対して位置ずれする場合があるという問題点がある。
【０００６】
この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、この発明の１つの目的は、視差バリアパターンが位置ずれするのを抑制することが可能な表示装置および電子機器を提供することである。
【課題を解決するための手段および発明の効果】
【０００７】
上記目的を達成するために、この発明の第１の局面における表示装置は、表面上にトランジスタ素子が形成された素子基板と、トランジスタ素子を挟むように、素子基板と対向するように配置された対向基板と、素子基板または対向基板のうちいずれか一方の基板のトランジスタ素子側とは反対側の表面上に直接形成された視差バリアパターンとを備える。
【０００８】
この第１の局面による表示装置では、視差バリアパターンを素子基板または対向基板のうちいずれか一方の基板のトランジスタ素子側とは反対側の表面上に直接形成することによって、たとえば、素子基板または対向基板のうちいずれか一方の基板のトランジスタ素子側とは反対側の表面と、視差バリアパターンとの間に接着材層などの別個の層を設けて視差バリアパターンを基板に配置する場合と異なり、視差バリアパターンと基板との間に余分な層がないので、視差バリアパターンが位置ずれするのを抑制することができる。また、視差バリアパターンと素子基板または対向基板のうちいずれか一方の基板との間に別個に層を設ける場合と異なり、層の厚み（膜厚ムラ）に起因して、視差バリアパターンと素子基板または対向基板のうちいずれか一方の基板との間の間隔が不均一になるのを抑制することができる。
【０００９】
上記第１の局面による表示装置において、好ましくは、視差バリアパターンは、素子基板または対向基板のうちいずれか一方の基板のトランジスタ素子側とは反対側の表面上に接着材層を介さずに直接接触するように形成されている。このように構成すれば、素子基板または対向基板のうちいずれか一方の基板のトランジスタ素子側とは反対側の表面上に接着材層を介して視差バリアパターンを形成する場合と異なり、接着材層を設けなくてよいので、視差バリアパターンが位置ずれするのを抑制することができる。また、視差バリアパターンと素子基板または対向基板のうちいずれか一方の基板との間に接着材層を設ける場合と異なり、接着材層の厚み（膜厚ムラ）に起因して、視差バリアパターンと素子基板または対向基板のうちいずれか一方の基板との間の間隔が不均一になるのを抑制することができる。
【００１０】
上記第１の局面による表示装置において、好ましくは、視差バリアパターンの端部は、視差バリアパターンが形成される素子基板または対向基板のうちいずれか一方の基板の端部よりも内側に形成されている。このように構成すれば、たとえば、視差バリアパターンの端部が平面的に見て素子基板および対向基板の端部と重なる位置に形成されている場合と異なり、表示装置の製造プロセスにおいて、大板状態の素子基板および対向基板を分断する際の分断箇所を確認しやすくすることができる。
【００１１】
上記第１の局面による表示装置において、好ましくは、素子基板または対向基板のうちいずれか一方の視差バリアパターンが形成された基板の厚みは、素子基板または対向基板のうちいずれか他方の視差バリアパターンが形成されていない基板の厚みよりも小さい。このように構成すれば、素子基板または対向基板のうちいずれか一方の視差バリアパターンが形成された基板の視差バリアパターン側とは反対側の表面上に、たとえばカラーフィルターなどの層を形成した際に、視差バリアパターンとカラーフィルターとの間の距離が小さくなるので、カラーフィルターと視差バリアパターンとの間の距離が小さい２画面表示の表示装置を容易に構成することができる。
【００１２】
上記第１の局面による表示装置において、好ましくは、視差バリアパターンは、対向基板のトランジスタ素子側とは反対側の表面上に直接形成されている。このように構成すれば、視差バリアパターンと対向基板との間に接着材層などを設ける場合と異なり、接着材層の厚み（膜厚ムラ）に起因して、たとえば、視差バリアパターンとカラーフィルターとの間の間隔が不均一になるのを抑制することができる。
【００１３】
上記第１の局面による表示装置において、好ましくは、視差バリアパターンは、素子基板のトランジスタ素子側とは反対側の表面上に直接形成されている。このように構成すれば、視差バリアパターンと素子基板との間に接着材層などを設ける場合と異なり、接着材層の厚み（膜厚ムラ）に起因して、たとえば、視差バリアパターンとトランジスタ素子との間の間隔が不均一になるのを抑制することができる。
【００１４】
上記第１の局面による表示装置において、好ましくは、視差バリアパターンのトランジスタ素子側とは反対側の表面上に形成された保護膜と、保護膜のトランジスタ素子側とは反対側の表面上に形成された偏光板とをさらに備える。このように構成すれば、表示装置の製造プロセス中に、保護膜により視差バリアパターンの表面が保護されるので、視差バリアパターンの表面がキズつくのを抑制することができるとともに、表示装置の面押し強度（機械的強度）を向上させることができる。また、保護膜を視差バリアパターンの表面上に形成することにより、視差バリアパターンが形成される基板上の表面が平坦面状になるので、偏光板を保護膜の表面上に形成しやすくすることができる。
【００１５】
上記第１の局面による表示装置において、好ましくは、視差バリアパターンのトランジスタ素子側とは反対側の表面上に形成された偏光板と、偏光板のトランジスタ素子側とは反対側の表面上に形成された保護膜とをさらに備える。このように構成すれば、保護膜により偏光板の表面が保護されるので、偏光板の表面がキズつくのを抑制することができるとともに、表示装置の面押し強度（機械的強度）を向上させることができる。
【００１６】
上記第１の局面による表示装置において、好ましくは、視差バリアパターンは、金属層または樹脂層のうちいずれか一方からなる。このように構成すれば、金属層からなる視差バリアパターンまたは樹脂層からなる視差バリアパターンが形成された表示装置を得ることができる。
【００１７】
この場合、好ましくは、視差バリアパターンは、対向基板のトランジスタ素子側とは反対側の表面上に直接形成された複数の開口部を有する金属層からなるとともに、素子基板側と導通している。このように構成すれば、金属層からなる視差バリアパターンにより、表示装置の外部からの静電気をシールド（遮蔽）するとともに、静電気を視差バリアパターンを介して素子基板側に逃がすことができる。これにより、対向基板のトランジスタ素子側とは反対側の表面上に、視差バリアパターンとは別個にシールド層を設ける必要がないので、その分、部品点数を削減することができるとともに、表示装置の構造を簡素化することができる。
【００１８】
上記視差バリアパターンと素子基板側とが導通している表示装置において、好ましくは、視差バリアパターンの一部分は、露出するように構成されており、視差バリアパターンの露出した部分と、素子基板側とを導通させるための導通部材をさらに備える。このように構成すれば、容易に視差バリアパターンと導通部材とを接続できるとともに、静電気を視差バリアパターンを介して素子基板側に逃がすことができる。
【００１９】
この発明の第２の局面による電子機器は、上記のいずれかの構成を有する表示装置を備える。このように構成すれば、視差バリアパターンが基板に対して位置ずれするのを抑制することが可能な液晶表示装置を備えた電子機器を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の第１実施形態による液晶表示装置の平面図である。
【図２】図１の２００−２００線に沿った断面図である。
【図３】本発明の第１実施形態による視差バリアパターンが形成された液晶表示装置の画素の断面図である。
【図４】本発明の第２実施形態による視差バリアパターンが形成された液晶表示装置の断面図である。
【図５】本発明の第３実施形態による視差バリアパターンが形成された液晶表示装置の断面図である。
【図６】本発明の第４実施形態による視差バリアパターンが形成された液晶表示装置の断面図である。
【図７】本発明の第５実施形態による液晶表示装置の平面図である。
【図８】図７の３００−３００線に沿った断面図である。
【図９】本発明の第１〜第５実施形態による液晶表示装置を用いた電子機器の第１の例を説明するための図である。
【図１０】本発明の第１〜第５実施形態による液晶表示装置を用いた電子機器の第２の例を説明するための図である。
【図１１】本発明の第１〜第５実施形態による液晶表示装置を用いた電子機器の第３の例を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
【００２２】
（第１実施形態）
図１〜図３を参照して、本発明の第１実施形態による液晶表示装置１００の構成について説明する。なお、第１実施形態では、ＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｅ Ｆｉｅｌｄ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モードの液晶表示装置１００に本発明を適用した例について説明する。また、液晶表示装置１００は、本発明の「表示装置」の一例である。
【００２３】
本発明の第１実施形態による液晶表示装置１００では、図１および図２に示すように、ガラスからなるＴＦＴ基板１と、ガラスからなるＣＦ（カラーフィルター）基板２とが対向するように配置されている。図２に示すように、ＣＦ基板２の厚みｔ１は、約１００μｍであり、ＴＦＴ基板１の厚みｔ２は、約６００μｍである。つまり、ＣＦ基板２は、ＴＦＴ基板１よりも薄く形成されている。これにより、後述するカラーフィルター（ＣＦ）２０と、後述する視差バリアパターン４０との間の距離が小さくなるように構成されている。なお、画像（映像）を分離することにより２つの異なる画像（映像）を表示させる２画面表示を行う際には、カラーフィルター２０と視差バリアパターン４０との距離は、約１００μｍである。また、画像（映像）を分離することにより立体（３Ｄ）表示を行う際には、カラーフィルター２０と視差バリアパターン４０との距離は、約１ｍｍである。つまり２画面表示を行う際は、立体表示を行う場合に比べ、カラーフィルター２０と視差バリアパターン４０との距離を非常に短くしなければならない。また、ＴＦＴ基板１のＺ１方向側の表面上には、画素選択用の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）３と、画素電極４と、共通電極５とが形成されている。
【００２４】
また、１つの画素の詳細な断面構造としては、図３に示すように、ＴＦＴ基板１のＺ１方向側の表面上には、ゲート電極６が設けられている。また、ゲート電極６上とＴＦＴ基板１上とには、ＳｉＮ膜またはＳｉＯ２膜などからなるゲート絶縁膜７ａを含む絶縁膜７が形成されている。ゲート絶縁膜７ａを介してゲート電極６と平面的に見て重なるように下層のａ−Ｓｉ層と、上層のｎ型の導電性を有するｎ＋ａ−Ｓｉ層との２層構造（図示せず）からなる半導体層８が形成されている。
【００２５】
半導体層８上には、ゲート電極６と平面的に見て重なるように、ソース電極９およびドレイン電極１０が形成されている。また、平面的に見て、ソース電極９とドレイン電極１０とに挟まれる半導体層８の領域は、チャネル領域８ａとして機能する。そして、画素選択用の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）３は、ゲート電極６、ゲート絶縁膜７ａ、半導体層８、ソース電極９、および、ドレイン電極１０から構成されている。
【００２６】
また、ソース電極９、ドレイン電極１０および絶縁膜７を覆うように、ＳｉＮ膜などからなる層間絶縁膜１１が形成されている。層間絶縁膜１１には、ドレイン電極１０に対応する領域にコンタクトホール１１ａが形成されている。層間絶縁膜１１の表面上には、アクリル系の樹脂などの有機膜からなる平坦化膜１２が形成されている。また、平坦化膜１２には、コンタクトホール１２ａが形成されている。また、画素電極４は、平坦化膜１２の表面上にコンタクトホール１１ａおよびコンタクトホール１２ａを介してドレイン電極１０と接続するように、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ：酸化インジウムスズ）やＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ：酸化亜鉛）などの透明電極から形成されている。
【００２７】
また、平坦化膜１２および画素電極４の表面上には、低温で形成されたＳｉＯ２やＳｉＮ膜などからなるパッシベーション膜１３が形成されている。また、共通電極５は、パッシベーション膜１３の表面上に、ＩＴＯやＩＺＯなどの透明電極から形成されている。共通電極５には、複数の開口部５ａが設けられており、開口部５ａを介して画素電極４と共通電極５との間で電界が発生するように構成されている。上記のように、画素電極４と共通電極５との間の横方向の電界によって液晶が駆動されるＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｅ Ｆｉｅｌｄ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式の液晶表示装置１００が構成されている。
【００２８】
また、共通電極５上には、ポリイミドなどの有機膜からなる配向膜１４が形成されている。配向膜１４は、共通電極５の表面上を覆うように形成されるとともに、共通電極５の開口部５ａを介して、パッシベーション膜１３と接触するように形成されている。また、ＴＦＴ基板１のＺ２方向側の表面上には、偏光板１５が設けられている。このように、薄膜トランジスタ３、層間絶縁膜１１、平坦化膜１２、画素電極４、パッシベーション膜１３、共通電極５および配向膜１４により、素子・絶縁膜形成部１００ａが構成されている。
【００２９】
また、図２に示すように、ＣＦ基板２のＺ２方向側の表面上には、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）および青（Ｂ）のカラーフィルター２０が形成されている。なお、液晶表示装置１００には、複数の画素２１が設けられており、画素２１ごとにカラーフィルター２０が設けられている。
【００３０】
また、図３に示すように、ＣＦ基板２のＺ２方向側の表面上には、樹脂などから形成されるブラックマトリクス２２が形成されている。ブラックマトリクス２２は、平面的に見て、画素２１の境界上に形成されるとともに、マトリクス状に形成されている。また、ブラックマトリクス２２およびカラーフィルター２０のＺ２方向側の表面上には、保護膜としてのオーバーコート層２３が形成されている。また、オーバーコート層２３のＺ２方向側の表面上には、ポリイミドなどの有機膜からなる配向膜２４が形成されている。このように、カラーフィルター２０、ブラックマトリクス２２、オーバーコート層２３および配向膜２４により、樹脂層形成部１００ｂが構成されている。
【００３１】
また、ＴＦＴ基板１とＣＦ基板２とは、シール材３０（図２参照）により貼り合わされており、ＴＦＴ基板１のＺ１方向側に形成された配向膜１４と、ＣＦ基板２のＺ２方向側に形成された配向膜２４との間には、液晶層３１が封入されている。
【００３２】
ここで、第１実施形態では、視差バリアパターン４０は、図２に示すように、接着材層を介さずにＣＦ基板２のＺ１方向側の表面上に直接接触するように形成されている。またこの視差バリアパターン４０は、薄いＣＦ基板２の表面上に形成されているが、まず厚いＣＦ基板２を薄く加工した後に視差バリアパターン４０が形成されている。さらに、ＣＦ基板２のＺ２方向側の表面上にブラックマトリクス２２、カラーフィルター２０、オーバーコート層２３を形成し、ＴＦＴ基板１と貼り合せた後、改めてＣＦ基板２のＺ１方向側の表面を薄く加工し、その後で視差バリアパターン４０を形成している。このように視差バリアパターン４０を最後に形成することは、視差バリアパターン４０をＣＦ基板２に最初に形成しておく場合に比べ、ＴＦＴ基板１の基板厚よりも非常に薄いＣＦ基板２において、比較的容易に形成することが可能となる。また、この視差バリアパターン４０は、クロム（Ｃｒ）、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）またはニッケル（Ｎｉ）などの金属層、または、樹脂層などからなるとともに、遮光性を有している。また、図１に示すように、視差バリアパターン４０には、Ｙ方向に延びるように形成される複数の略矩形状の開口部（スリット）４０ａが設けられている。この開口部４０ａと開口部４０ａとの間の視差バリアパターン４０によって、光を遮光するように構成されている。
【００３３】
また、視差バリアパターン４０は、視差バリアパターン４０の開口部４０ａからカラーフィルター２０の３つの色（赤（Ｒ）、緑（Ｇ）および青（Ｂ））のうち、２つの色が視認可能に構成されている。また、視差バリアパターン４０のＸ方向およびＹ方向の端部は、平面的に見て、ＣＦ基板２のＸ方向およびＹ方向の端部よりも約０．５ｍｍの幅Ｌ分内側に形成されている。また、図２に示すように、視差バリアパターン４０のＺ１方向側の表面上には、偏光板４１が設けられている。
【００３４】
また、ＴＦＴ基板１のＺ２方向側の表面上に形成された偏光板１５のＺ２方向側の表面上には、バックライト５０が設けられており、ＴＦＴ基板１からＣＦ基板２（Ｚ１方向側）に向かってバックライト５０から光が出射されるように構成されている。また、バックライト５０は、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）５１と、ＬＥＤ５１からの光を導くための導光板５２と、導光板５２のＺ２方向側の表面上に設けられた反射シート５３と、導光板５２のＺ１方向側の表面上に設けられた拡散シート５４と、拡散シートのＺ１方向側の表面上に設けられたプリズムシート５５とを備えている。拡散シート５４は、ＬＥＤ５１から導光板５２を介して照射される光をプリズムシート５５に向かって均一に拡散させる機能を有する。プリズムシート５５は、拡散シート５４からの光をＴＦＴ基板１側に透過させるとともに、集光する機能を有する。
【００３５】
第１実施形態では、上記のように、視差バリアパターン４０をＣＦ基板２の薄膜トランジスタ３側とは反対側の表面上に直接形成することによって、たとえば、ＣＦ基板２の薄膜トランジスタ３側とは反対側の表面と、視差バリアパターン４０との間に接着材層などの別個の層を設けて視差バリアパターン４０をＣＦ基板２に配置する場合と異なり、視差バリアパターン４０とＣＦ基板２との間に余分な層がないので、視差バリアパターン４０が位置ずれするのを抑制することができる。また、視差バリアパターン４０とＣＦ基板２との間に別個に層を設ける場合と異なり、層の厚み（膜厚ムラ）に起因して、視差バリアパターン４０とＣＦ基板２との間の間隔が不均一になるのを抑制することができる。
【００３６】
また、第１実施形態では、上記のように、視差バリアパターン４０を、ＣＦ基板２の薄膜トランジスタ３側とは反対側の表面上に接着材層を介さずに直接接触するように形成することによって、ＣＦ基板２の薄膜トランジスタ３側とは反対側の表面上に接着材層を介して視差バリアパターン４０を形成する場合と異なり、接着材層を設けなくてよいので、視差バリアパターン４０が位置ずれするのを抑制することができる。また、視差バリアパターン４０とＣＦ基板２との間に接着材層を設ける場合と異なり、接着材層の厚み（膜厚ムラ）に起因して、視差バリアパターン４０とＣＦ基板２との間の間隔が不均一になるのを抑制することができる。
【００３７】
また、第１実施形態では、上記のように、視差バリアパターン４０の端部を、視差バリアパターン４０が形成されるＣＦ基板２の端部よりも内側に形成することによって、たとえば、視差バリアパターン４０の端部が平面的に見てＣＦ基板２の端部と重なる位置に形成されている場合と異なり、液晶表示装置１００の製造プロセスにおいて、大板状態のＣＦ基板２を分断する際の分断箇所を確認しやすくすることができる。
【００３８】
また、第１実施形態では、上記のように、視差バリアパターン４０が形成されたＣＦ基板２の厚みｔ１を、視差バリアパターン４０が形成されていないＴＦＴ基板１の厚みｔ２よりも小さくすることによって、視差バリアパターン４０とカラーフィルター２０との間の距離が小さくなるので、カラーフィルター２０と視差バリアパターン４０との間の距離が小さい２画面表示の液晶表示装置１００を容易に構成することができる。
【００３９】
また、第１実施形態では、上記のように、視差バリアパターン４０を、ＣＦ基板２の薄膜トランジスタ３側とは反対側の表面上に直接形成することによって、視差バリアパターン４０とカラーフィルター２０との間の間隔が一定になるので、視差バリアパターン４０と対向基板２との間に接着材層などを設ける場合と異なり、接着材層の厚み（膜厚ムラ）に起因して、視差バリアパターン４０とカラーフィルター２０との間の間隔が不均一になるのを抑制することができる。
【００４０】
また、第１実施形態では、上記のように、視差バリアパターン４０を、金属層または樹脂層のうちいずれか一方にすることによって、金属層からなる視差バリアパターン４０または樹脂層からなる視差バリアパターン４０が形成された液晶表示装置１００を得ることができる。
【００４１】
（第２実施形態）
次に、図４を参照して、視差バリアパターンをＣＦ基板のＺ１方向側（液晶層とは反対側）の表面上に直接接触するように形成した上記第１実施形態とは異なり、視差バリアパターンをＴＦＴ基板のＺ２方向側（液晶層とは反対側）の表面上に直接接触するように形成した。
【００４２】
本発明の第２実施形態による液晶表示装置１０１では、視差バリアパターン４０は、ＴＦＴ基板１のＺ２方向側（液晶層３１とは反対側）の表面上に直接接触するように形成されている。また、ＴＦＴ基板１の厚みｔ３は、約１００μｍであり、ＣＦ基板２の厚みｔ４は、約６００μｍである。つまり、ＴＦＴ基板１は、ＣＦ基板２よりも薄く形成されている。これにより、薄膜トランジスタ３と視差バリアパターン４０との間の距離が小さくなるように構成されている。また、視差バリアパターン４０のＺ２方向側の表面上には、偏光板１５が形成されている。偏光板１５のＺ２方向側の表面上には、バックライト５０が設けられている。なお、第２実施形態のその他の構成は、上記第１実施形態と同様である。
【００４３】
第２実施形態では、上記のように、視差バリアパターン４０を、ＴＦＴ基板１の薄膜トランジスタ３側とは反対側の表面上に直接形成することによって、視差バリアパターン４０とＴＦＴ基板１との間に接着材層などを設ける場合と異なり、接着材層の厚み（膜厚ムラ）に起因して、視差バリアパターン４０と薄膜トランジスタ３との間の間隔が不均一になるのを抑制することができる。
【００４４】
なお、第２実施形態のその他の効果は、上記第１実施形態と同様である。
【００４５】
（第３実施形態）
次に、図５を参照して、視差バリアパターンのＺ１方向側（液晶層とは反対側）の表面上に直接偏光板を形成した上記第１実施形態とは異なり、視差バリアパターンのＺ１方向側（液晶層とは反対側）の表面上に保護膜を介して偏光板を形成した。
【００４６】
本発明の第３実施形態による液晶表示装置１０２では、ＣＦ基板２のＺ１方向側（液晶層３１とは反対側）の表面上に直接接触するように形成された視差バリアパターン４０のＺ１方向側の表面上には、樹脂などからなる保護膜４２が形成されている。具体的には、保護膜４２は、アクリル系の樹脂またはエポキシ系の透明樹脂などからなるとともに、塗布法などを用いて形成される。また、保護膜４２のＺ１方向側の表面上には、偏光板４１が形成されている。なお、第３実施形態のその他の構成は、上記第１実施形態と同様である。
【００４７】
第３実施形態では、上記のように、保護膜４２を、視差バリアパターン４０の薄膜トランジスタ３側とは反対側の表面上に形成し、偏光板４１を、保護膜４２の薄膜トランジスタ３側とは反対側の表面上に形成することによって、液晶表示装置１０２の製造プロセス中に、保護膜４２により視差バリアパターン４０の表面を保護できるので、視差バリアパターン４０の表面がキズつくのを抑制することができるとともに、液晶表示装置１０２の面押し強度（機械的強度）を向上させることができる。また、保護膜４２を視差バリアパターン４０の表面上に形成することにより、視差バリアパターン４０が形成される基板上の表面が平坦面状になるので、偏光板４１を保護膜４２の表面上に形成しやすくすることができる。
【００４８】
なお、第３実施形態のその他の効果は、上記第１実施形態と同様である。
【００４９】
（第４実施形態）
次に、図６を参照して、ＣＦ基板の表面上の偏光板のＺ１方向側の表面上に何も形成されていない上記第１実施形態とは異なり、ＣＦ基板の表面上の偏光板のＺ１方向側の表面上に保護カバーを形成した例について説明する。
【００５０】
本発明の第４実施形態による液晶表示装置１０３では、視差バリアパターン４０は、ＣＦ基板２のＺ１方向側（液晶層３１とは反対側）の表面上に直接接触するように形成されている。また、視差バリアパターン４０のＺ１方向側（液晶層３１とは反対側）の表面上には、偏光板４１が形成されている。また、偏光板４１のＺ１方向側（液晶層３１とは反対側）の表面上には、ガラスなどからなる保護カバー４３が形成されている。なお、第４実施形態のその他の構成は、上記第１実施形態と同様である。
【００５１】
第４実施形態では、上記のように、偏光板４１を視差バリアパターン４０の薄膜トランジスタ３側とは反対側の表面上に形成し、保護カバー４３を偏光板４１の薄膜トランジスタ３側とは反対側の表面上に形成することによって、保護カバー４３により偏光板４１の表面が保護されるので、偏光板４１の表面がキズつくのを抑制することができるとともに、液晶表示装置１０３の面押し強度（機械的強度）を向上させることができる。
【００５２】
なお、第４実施形態のその他の効果は、上記第１実施形態と同様である。
【００５３】
（第５実施形態）
次に、図７および図８を参照して、ＣＦ基板の表面上に形成された視差バリアパターンとＴＦＴ基板側とが電気的に接続されていない上記第１実施形態とは異なり、ＣＦ基板の表面上に形成された視差バリアパターンとＴＦＴ基板側とを電気的に接続する例について説明する。
【００５４】
本発明の第５実施形態による液晶表示装置１０４では、図７に示すように、ＣＦ基板２のＺ１方向側の表面上に形成された視差バリアパターン４０は、複数の開口部４０ａを有するとともに、クロム（Ｃｒ）、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）またはニッケル（Ｎｉ）などの金属層からなる。また、視差バリアパターン４０は、スパッタ法や蒸着法などを用いてＣＦ基板２のＺ１方向側の表面上に形成される。また、視差バリアパターン４０は、図８に示すように、視差バリアパターン４０の外周部の一部分が露出したバリア層露出部４０ｂを含んでいる。なお、バリア層露出部４０ｂのＺ１方向側の表面上には、保護膜４２および偏光板４１は形成されていない。また、バリア層露出部４０ｂは、導電性の接着材層または金属配線などからなる導通部材４４により、ＴＦＴ基板１側に設けられた配線と電気的に接続されるとともに、接地されている。また、視差バリアパターン４０は、ＣＦ基板２のＺ１方向側からの静電気などを遮断するためのシールド層としての機能を有しており、静電気から液晶表示装置１０４を保護することが可能である。また、シールド層としての視差バリアパターン４０に帯電した静電気は、導通部材４４を介して、液晶表示装置１０４の外部に逃がすように構成されている。なお、第５実施形態のその他の構成は、上記第１実施形態と同様である。
【００５５】
第５実施形態では、上記のように、視差バリアパターン４０を、ＣＦ基板２の薄膜トランジスタ３側とは反対側の表面上に直接形成された複数の開口部（スリット）４０ａを有する金属層にするとともに、ＴＦＴ基板１側と導通させることによって、金属層からなる視差バリアパターン４０により、液晶表示装置１０４の外部からの静電気をシールド（遮蔽）するとともに、ＴＦＴ基板１側に逃がすことができる。これにより、ＣＦ基板２の薄膜トランジスタ３のＺ１方向側の表面上に、視差バリアパターン４０とは別個にシールド層を設ける必要がないので、その分、部品点数を削減することができるとともに、液晶表示装置１０４の構造を簡素化することができる。
【００５６】
また、第５実施形態では、上記のように、視差バリアパターン４０のバリア層露出部４０ｂと、ＴＦＴ基板１側とを導通させるための導通部材４４を備えることによって、容易に視差バリアパターン４０と導通部材４４とを接続できるとともに、静電気を視差バリアパターン４０を介して容易にＴＦＴ基板１側に逃がすことができる。
【００５７】
なお、第５実施形態のその他の効果は、上記第１実施形態と同様である。
【００５８】
（応用例）
図９〜図１１は、それぞれ、上記した本発明の液晶表示装置１００、１０１、１０２、１０３および１０４を用いた電子機器の第１の例〜第３の例を説明するための図である。図９〜図１１を参照して、本発明の第１〜第５実施形態による液晶表示装置１００〜１０４を用いた電子機器について説明する。
【００５９】
本発明の第１〜第５実施形態による液晶表示装置１００〜１０４は、図９に示すように、第１の例としてのＰＣ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ Ｃｏｍｐｕｔｅｒ）４００、第２の例としての携帯電話５００、および、第３の例としての情報携帯端末６００（ＰＤＡ：Ｐｅｒｓｏｎａｌ Ｄｉｇｉｔａｌ Ａｓｓｉｓｔａｎｔｓ）などに用いることが可能である。
【００６０】
図９の第１の例によるＰＣ４００においては、キーボードなどの入力部４１０および表示画面４２０などに本発明の第１〜第５実施形態による液晶表示装置１００〜１０４を用いることが可能である。図１０の第２の例による携帯電話５００においては、表示画面５１０に本発明の第１〜第５実施形態による液晶表示装置１００〜１０４が用いられる。図１１の第３の例による情報携帯端末６００においては、表示画面６１０に本発明の第１〜第５実施形態による液晶表示装置１００〜１０４が用いられる。
【００６１】
なお、今回開示された実施形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態の説明ではなく特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる。
【００６２】
たとえば、上記第１〜第５実施形態では、本発明の表示装置の一例として液晶表示装置を示したが、本発明はこれに限らない。たとえば、本発明をＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）装置などの表示装置に適用してもよい。
【００６３】
また、上記第１〜第４実施形態では、本発明の表示装置の一例として、横電界モードの液晶表示装置を示したが、本発明はこれに限らない。たとえば、縦電界モードの液晶表示装置を用いてもよい。
【００６４】
また、上記第５実施形態では、視差バリアパターンとＴＦＴ基板側とを導通部材により電気的に接続する例を示したが、本発明はこれに限らない。たとえば、視差バリアの液晶層とは反対側の表面上にＩＴＯなどの透明電極を形成し、透明電極とＴＦＴ基板側とを導通部材により電気的に接続してもよい。この場合、視差バリアパターンを樹脂により形成するとともに、透明電極をシールド層として機能させてもよい。
【００６５】
また、上記第１〜第５実施形態では、視差バリアパターンに複数の矩形状の開口部を設ける例を示したが、本発明はこれに限らない。たとえば、視差バリアパターンを平面的に見て市松模様状のステップバリアパターンに形成してもよいし、視差バリアパターンに複数の円形の開口部を設けてもよいし、視差バリアパターンの開口部が階段状（斜め）に設けられた斜めストライプバリアパターンに形成してもよい。
【００６６】
また、上記第１〜第４実施形態では、視差バリアパターンに略矩形形状の開口部（スリット）を設ける例を示したが、本発明はこれに限らない。たとえば、視差バリアパターンを短冊状に形成してもよい。この場合、短冊状の視差バリアパターンによって、光が遮光される。
【００６７】
また、第１〜第５実施形態では、視差バリアパターンの端部が、視差バリアパターンが形成されるＣＦ基板または対向基板のうちいずれか一方の基板の端部よりも内側に形成する例を示したが、本発明はこれに限らない。たとえば、視差バリアパターンの端部が、視差バリアパターンが形成されるＣＦ基板または対向基板のうちいずれか一方の基板の端部まで形成されていてもよい。
【符号の説明】
【００６８】
１ ＴＦＴ基板（素子基板） ２ ＣＦ基板（対向基板） ３ 薄膜トランジスタ（トランジスタ素子） ４０ 視差バリアパターン ４０ａ 開口部 ４１ 偏光板 ４２ 保護膜 ４３ 保護カバー（保護膜） ４４ 導通部材 １００、１０１、１０２、１０３、１０４ 液晶表示装置（表示装置） ４００ ＰＣ（電子機器） ５００ 携帯電話（電子機器） ６００ 情報携帯端末（電子機器）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置および電子機器に関し、特に、視差バリアパターンを備える表示装置および電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、視差バリアパターンを備える表示装置および電子機器が知られている（たとえば、特許文献１参照）。
【０００３】
上記特許文献１には、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）が形成されたＴＦＴ基板と、ＴＦＴ基板に対向するように設けられたカウンター基板（カラーフィルター（ＣＦ）基板）と、ＴＦＴ基板とカウンター基板との間に挟持された液晶層とを備えたマルチプル視野ディスプレイ（表示装置）が開示されている。また、カウンター基板の液晶層とは反対側の表面上には、偏光子が形成されている。偏光子のカウンター基板とは反対側の表面上には、立体（３Ｄ）画像や異なる２つの画像を表示するための視差バリアが配置されている。なお視差バリアは、視差バリア基板と、視差バリア基板の表面上に形成され複数の開口部（スリット）を有する視差バリアアパーチャアレイ（視差バリアパターン）とから構成されている。そして、上記特許文献１には明確に記載されていないが、カウンター基板の表面上に形成された偏光子と、視差バリアの視差バリアアパーチャアレイとが、接着材層などを用いて貼り合わせられることにより、カウンター基板と視差バリアとが固定されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−２０６０８９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記特許文献１に記載の表示装置では、偏光子と視差バリアアパーチャアレイとが接着材層を用いて貼り合わせられた場合には、視差バリアアパーチャアレイがカウンター基板側に設けられる画素やカラーフィルターに対して位置ずれする場合があるという問題点がある。
【０００６】
この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、この発明の１つの目的は、視差バリアパターンが位置ずれするのを抑制することが可能な表示装置および電子機器を提供することである。
【課題を解決するための手段および発明の効果】
【０００７】
上記目的を達成するために、この発明の第１の局面における表示装置は、表面上にトランジスタ素子が形成された素子基板と、トランジスタ素子を挟むように、素子基板と対向するように配置された対向基板と、素子基板または対向基板のうちいずれか一方の基板のトランジスタ素子側とは反対側の表面上に直接形成された視差バリアパターンとを備える。
【０００８】
この第１の局面による表示装置では、視差バリアパターンを素子基板または対向基板のうちいずれか一方の基板のトランジスタ素子側とは反対側の表面上に直接形成することによって、たとえば、素子基板または対向基板のうちいずれか一方の基板のトランジスタ素子側とは反対側の表面と、視差バリアパターンとの間に接着材層などの別個の層を設けて視差バリアパターンを基板に配置する場合と異なり、視差バリアパターンと基板との間に余分な層がないので、視差バリアパターンが位置ずれするのを抑制することができる。また、視差バリアパターンと素子基板または対向基板のうちいずれか一方の基板との間に別個に層を設ける場合と異なり、層の厚み（膜厚ムラ）に起因して、視差バリアパターンと素子基板または対向基板のうちいずれか一方の基板との間の間隔が不均一になるのを抑制することができる。
【０００９】
上記第１の局面による表示装置において、好ましくは、視差バリアパターンは、素子基板または対向基板のうちいずれか一方の基板のトランジスタ素子側とは反対側の表面上に接着材層を介さずに直接接触するように形成されている。このように構成すれば、素子基板または対向基板のうちいずれか一方の基板のトランジスタ素子側とは反対側の表面上に接着材層を介して視差バリアパターンを形成する場合と異なり、接着材層を設けなくてよいので、視差バリアパターンが位置ずれするのを抑制することができる。また、視差バリアパターンと素子基板または対向基板のうちいずれか一方の基板との間に接着材層を設ける場合と異なり、接着材層の厚み（膜厚ムラ）に起因して、視差バリアパターンと素子基板または対向基板のうちいずれか一方の基板との間の間隔が不均一になるのを抑制することができる。
【００１０】
上記第１の局面による表示装置において、好ましくは、視差バリアパターンの端部は、視差バリアパターンが形成される素子基板または対向基板のうちいずれか一方の基板の端部よりも内側に形成されている。このように構成すれば、たとえば、視差バリアパターンの端部が平面的に見て素子基板および対向基板の端部と重なる位置に形成されている場合と異なり、表示装置の製造プロセスにおいて、大板状態の素子基板および対向基板を分断する際の分断箇所を確認しやすくすることができる。
【００１１】
上記第１の局面による表示装置において、好ましくは、素子基板または対向基板のうちいずれか一方の視差バリアパターンが形成された基板の厚みは、素子基板または対向基板のうちいずれか他方の視差バリアパターンが形成されていない基板の厚みよりも小さい。このように構成すれば、素子基板または対向基板のうちいずれか一方の視差バリアパターンが形成された基板の視差バリアパターン側とは反対側の表面上に、たとえばカラーフィルターなどの層を形成した際に、視差バリアパターンとカラーフィルターとの間の距離が小さくなるので、カラーフィルターと視差バリアパターンとの間の距離が小さい２画面表示の表示装置を容易に構成することができる。
【００１２】
上記第１の局面による表示装置において、好ましくは、視差バリアパターンは、対向基板のトランジスタ素子側とは反対側の表面上に直接形成されている。このように構成すれば、視差バリアパターンと対向基板との間に接着材層などを設ける場合と異なり、接着材層の厚み（膜厚ムラ）に起因して、たとえば、視差バリアパターンとカラーフィルターとの間の間隔が不均一になるのを抑制することができる。
【００１３】
上記第１の局面による表示装置において、好ましくは、視差バリアパターンは、素子基板のトランジスタ素子側とは反対側の表面上に直接形成されている。このように構成すれば、視差バリアパターンと素子基板との間に接着材層などを設ける場合と異なり、接着材層の厚み（膜厚ムラ）に起因して、たとえば、視差バリアパターンとトランジスタ素子との間の間隔が不均一になるのを抑制することができる。
【００１４】
上記第１の局面による表示装置において、好ましくは、視差バリアパターンのトランジスタ素子側とは反対側の表面上に形成された保護膜と、保護膜のトランジスタ素子側とは反対側の表面上に形成された偏光板とをさらに備える。このように構成すれば、表示装置の製造プロセス中に、保護膜により視差バリアパターンの表面が保護されるので、視差バリアパターンの表面がキズつくのを抑制することができるとともに、表示装置の面押し強度（機械的強度）を向上させることができる。また、保護膜を視差バリアパターンの表面上に形成することにより、視差バリアパターンが形成される基板上の表面が平坦面状になるので、偏光板を保護膜の表面上に形成しやすくすることができる。
【００１５】
上記第１の局面による表示装置において、好ましくは、視差バリアパターンのトランジスタ素子側とは反対側の表面上に形成された偏光板と、偏光板のトランジスタ素子側とは反対側の表面上に形成された保護膜とをさらに備える。このように構成すれば、保護膜により偏光板の表面が保護されるので、偏光板の表面がキズつくのを抑制することができるとともに、表示装置の面押し強度（機械的強度）を向上させることができる。
【００１６】
上記第１の局面による表示装置において、好ましくは、視差バリアパターンは、金属層または樹脂層のうちいずれか一方からなる。このように構成すれば、金属層からなる視差バリアパターンまたは樹脂層からなる視差バリアパターンが形成された表示装置を得ることができる。
【００１７】
この場合、好ましくは、視差バリアパターンは、対向基板のトランジスタ素子側とは反対側の表面上に直接形成された複数の開口部を有する金属層からなるとともに、素子基板側と導通している。このように構成すれば、金属層からなる視差バリアパターンにより、表示装置の外部からの静電気をシールド（遮蔽）するとともに、静電気を視差バリアパターンを介して素子基板側に逃がすことができる。これにより、対向基板のトランジスタ素子側とは反対側の表面上に、視差バリアパターンとは別個にシールド層を設ける必要がないので、その分、部品点数を削減することができるとともに、表示装置の構造を簡素化することができる。
【００１８】
上記視差バリアパターンと素子基板側とが導通している表示装置において、好ましくは、視差バリアパターンの一部分は、露出するように構成されており、視差バリアパターンの露出した部分と、素子基板側とを導通させるための導通部材をさらに備える。このように構成すれば、容易に視差バリアパターンと導通部材とを接続できるとともに、静電気を視差バリアパターンを介して素子基板側に逃がすことができる。
【００１９】
この発明の第２の局面による電子機器は、上記のいずれかの構成を有する表示装置を備える。このように構成すれば、視差バリアパターンが基板に対して位置ずれするのを抑制することが可能な液晶表示装置を備えた電子機器を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の第１実施形態による液晶表示装置の平面図である。
【図２】図１の２００−２００線に沿った断面図である。
【図３】本発明の第１実施形態による視差バリアパターンが形成された液晶表示装置の画素の断面図である。
【図４】本発明の第２実施形態による視差バリアパターンが形成された液晶表示装置の断面図である。
【図５】本発明の第３実施形態による視差バリアパターンが形成された液晶表示装置の断面図である。
【図６】本発明の第４実施形態による視差バリアパターンが形成された液晶表示装置の断面図である。
【図７】本発明の第５実施形態による液晶表示装置の平面図である。
【図８】図７の３００−３００線に沿った断面図である。
【図９】本発明の第１〜第５実施形態による液晶表示装置を用いた電子機器の第１の例を説明するための図である。
【図１０】本発明の第１〜第５実施形態による液晶表示装置を用いた電子機器の第２の例を説明するための図である。
【図１１】本発明の第１〜第５実施形態による液晶表示装置を用いた電子機器の第３の例を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
【００２２】
（第１実施形態）
図１〜図３を参照して、本発明の第１実施形態による液晶表示装置１００の構成について説明する。なお、第１実施形態では、ＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｅ Ｆｉｅｌｄ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モードの液晶表示装置１００に本発明を適用した例について説明する。また、液晶表示装置１００は、本発明の「表示装置」の一例である。
【００２３】
本発明の第１実施形態による液晶表示装置１００では、図１および図２に示すように、ガラスからなるＴＦＴ基板１と、ガラスからなるＣＦ（カラーフィルター）基板２とが対向するように配置されている。図２に示すように、ＣＦ基板２の厚みｔ１は、約１００μｍであり、ＴＦＴ基板１の厚みｔ２は、約６００μｍである。つまり、ＣＦ基板２は、ＴＦＴ基板１よりも薄く形成されている。これにより、後述するカラーフィルター（ＣＦ）２０と、後述する視差バリアパターン４０との間の距離が小さくなるように構成されている。なお、画像（映像）を分離することにより２つの異なる画像（映像）を表示させる２画面表示を行う際には、カラーフィルター２０と視差バリアパターン４０との距離は、約１００μｍである。また、画像（映像）を分離することにより立体（３Ｄ）表示を行う際には、カラーフィルター２０と視差バリアパターン４０との距離は、約１ｍｍである。つまり２画面表示を行う際は、立体表示を行う場合に比べ、カラーフィルター２０と視差バリアパターン４０との距離を非常に短くしなければならない。また、ＴＦＴ基板１のＺ１方向側の表面上には、画素選択用の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）３と、画素電極４と、共通電極５とが形成されている。
【００２４】
また、１つの画素の詳細な断面構造としては、図３に示すように、ＴＦＴ基板１のＺ１方向側の表面上には、ゲート電極６が設けられている。また、ゲート電極６上とＴＦＴ基板１上とには、ＳｉＮ膜またはＳｉＯ２膜などからなるゲート絶縁膜７ａを含む絶縁膜７が形成されている。ゲート絶縁膜７ａを介してゲート電極６と平面的に見て重なるように下層のａ−Ｓｉ層と、上層のｎ型の導電性を有するｎ＋ａ−Ｓｉ層との２層構造（図示せず）からなる半導体層８が形成されている。
【００２５】
半導体層８上には、ゲート電極６と平面的に見て重なるように、ソース電極９およびドレイン電極１０が形成されている。また、平面的に見て、ソース電極９とドレイン電極１０とに挟まれる半導体層８の領域は、チャネル領域８ａとして機能する。そして、画素選択用の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）３は、ゲート電極６、ゲート絶縁膜７ａ、半導体層８、ソース電極９、および、ドレイン電極１０から構成されている。
【００２６】
また、ソース電極９、ドレイン電極１０および絶縁膜７を覆うように、ＳｉＮ膜などからなる層間絶縁膜１１が形成されている。層間絶縁膜１１には、ドレイン電極１０に対応する領域にコンタクトホール１１ａが形成されている。層間絶縁膜１１の表面上には、アクリル系の樹脂などの有機膜からなる平坦化膜１２が形成されている。また、平坦化膜１２には、コンタクトホール１２ａが形成されている。また、画素電極４は、平坦化膜１２の表面上にコンタクトホール１１ａおよびコンタクトホール１２ａを介してドレイン電極１０と接続するように、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ：酸化インジウムスズ）やＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ：酸化亜鉛）などの透明電極から形成されている。
【００２７】
また、平坦化膜１２および画素電極４の表面上には、低温で形成されたＳｉＯ２やＳｉＮ膜などからなるパッシベーション膜１３が形成されている。また、共通電極５は、パッシベーション膜１３の表面上に、ＩＴＯやＩＺＯなどの透明電極から形成されている。共通電極５には、複数の開口部５ａが設けられており、開口部５ａを介して画素電極４と共通電極５との間で電界が発生するように構成されている。上記のように、画素電極４と共通電極５との間の横方向の電界によって液晶が駆動されるＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｅ Ｆｉｅｌｄ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式の液晶表示装置１００が構成されている。
【００２８】
また、共通電極５上には、ポリイミドなどの有機膜からなる配向膜１４が形成されている。配向膜１４は、共通電極５の表面上を覆うように形成されるとともに、共通電極５の開口部５ａを介して、パッシベーション膜１３と接触するように形成されている。また、ＴＦＴ基板１のＺ２方向側の表面上には、偏光板１５が設けられている。このように、薄膜トランジスタ３、層間絶縁膜１１、平坦化膜１２、画素電極４、パッシベーション膜１３、共通電極５および配向膜１４により、素子・絶縁膜形成部１００ａが構成されている。
【００２９】
また、図２に示すように、ＣＦ基板２のＺ２方向側の表面上には、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）および青（Ｂ）のカラーフィルター２０が形成されている。なお、液晶表示装置１００には、複数の画素２１が設けられており、画素２１ごとにカラーフィルター２０が設けられている。
【００３０】
また、図３に示すように、ＣＦ基板２のＺ２方向側の表面上には、樹脂などから形成されるブラックマトリクス２２が形成されている。ブラックマトリクス２２は、平面的に見て、画素２１の境界上に形成されるとともに、マトリクス状に形成されている。また、ブラックマトリクス２２およびカラーフィルター２０のＺ２方向側の表面上には、保護膜としてのオーバーコート層２３が形成されている。また、オーバーコート層２３のＺ２方向側の表面上には、ポリイミドなどの有機膜からなる配向膜２４が形成されている。このように、カラーフィルター２０、ブラックマトリクス２２、オーバーコート層２３および配向膜２４により、樹脂層形成部１００ｂが構成されている。
【００３１】
また、ＴＦＴ基板１とＣＦ基板２とは、シール材３０（図２参照）により貼り合わされており、ＴＦＴ基板１のＺ１方向側に形成された配向膜１４と、ＣＦ基板２のＺ２方向側に形成された配向膜２４との間には、液晶層３１が封入されている。
【００３２】
ここで、第１実施形態では、視差バリアパターン４０は、図２に示すように、接着材層を介さずにＣＦ基板２のＺ１方向側の表面上に直接接触するように形成されている。またこの視差バリアパターン４０は、薄いＣＦ基板２の表面上に形成されているが、まず厚いＣＦ基板２を薄く加工した後に視差バリアパターン４０が形成されている。さらに、ＣＦ基板２のＺ２方向側の表面上にブラックマトリクス２２、カラーフィルター２０、オーバーコート層２３を形成し、ＴＦＴ基板１と貼り合せた後、改めてＣＦ基板２のＺ１方向側の表面を薄く加工し、その後で視差バリアパターン４０を形成している。このように視差バリアパターン４０を最後に形成することは、視差バリアパターン４０をＣＦ基板２に最初に形成しておく場合に比べ、ＴＦＴ基板１の基板厚よりも非常に薄いＣＦ基板２において、比較的容易に形成することが可能となる。また、この視差バリアパターン４０は、クロム（Ｃｒ）、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）またはニッケル（Ｎｉ）などの金属層、または、樹脂層などからなるとともに、遮光性を有している。また、図１に示すように、視差バリアパターン４０には、Ｙ方向に延びるように形成される複数の略矩形状の開口部（スリット）４０ａが設けられている。この開口部４０ａと開口部４０ａとの間の視差バリアパターン４０によって、光を遮光するように構成されている。
【００３３】
また、視差バリアパターン４０は、視差バリアパターン４０の開口部４０ａからカラーフィルター２０の３つの色（赤（Ｒ）、緑（Ｇ）および青（Ｂ））のうち、２つの色が視認可能に構成されている。また、視差バリアパターン４０のＸ方向およびＹ方向の端部は、平面的に見て、ＣＦ基板２のＸ方向およびＹ方向の端部よりも約０．５ｍｍの幅Ｌ分内側に形成されている。また、図２に示すように、視差バリアパターン４０のＺ１方向側の表面上には、偏光板４１が設けられている。
【００３４】
また、ＴＦＴ基板１のＺ２方向側の表面上に形成された偏光板１５のＺ２方向側の表面上には、バックライト５０が設けられており、ＴＦＴ基板１からＣＦ基板２（Ｚ１方向側）に向かってバックライト５０から光が出射されるように構成されている。また、バックライト５０は、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）５１と、ＬＥＤ５１からの光を導くための導光板５２と、導光板５２のＺ２方向側の表面上に設けられた反射シート５３と、導光板５２のＺ１方向側の表面上に設けられた拡散シート５４と、拡散シートのＺ１方向側の表面上に設けられたプリズムシート５５とを備えている。拡散シート５４は、ＬＥＤ５１から導光板５２を介して照射される光をプリズムシート５５に向かって均一に拡散させる機能を有する。プリズムシート５５は、拡散シート５４からの光をＴＦＴ基板１側に透過させるとともに、集光する機能を有する。
【００３５】
第１実施形態では、上記のように、視差バリアパターン４０をＣＦ基板２の薄膜トランジスタ３側とは反対側の表面上に直接形成することによって、たとえば、ＣＦ基板２の薄膜トランジスタ３側とは反対側の表面と、視差バリアパターン４０との間に接着材層などの別個の層を設けて視差バリアパターン４０をＣＦ基板２に配置する場合と異なり、視差バリアパターン４０とＣＦ基板２との間に余分な層がないので、視差バリアパターン４０が位置ずれするのを抑制することができる。また、視差バリアパターン４０とＣＦ基板２との間に別個に層を設ける場合と異なり、層の厚み（膜厚ムラ）に起因して、視差バリアパターン４０とＣＦ基板２との間の間隔が不均一になるのを抑制することができる。
【００３６】
また、第１実施形態では、上記のように、視差バリアパターン４０を、ＣＦ基板２の薄膜トランジスタ３側とは反対側の表面上に接着材層を介さずに直接接触するように形成することによって、ＣＦ基板２の薄膜トランジスタ３側とは反対側の表面上に接着材層を介して視差バリアパターン４０を形成する場合と異なり、接着材層を設けなくてよいので、視差バリアパターン４０が位置ずれするのを抑制することができる。また、視差バリアパターン４０とＣＦ基板２との間に接着材層を設ける場合と異なり、接着材層の厚み（膜厚ムラ）に起因して、視差バリアパターン４０とＣＦ基板２との間の間隔が不均一になるのを抑制することができる。
【００３７】
また、第１実施形態では、上記のように、視差バリアパターン４０の端部を、視差バリアパターン４０が形成されるＣＦ基板２の端部よりも内側に形成することによって、たとえば、視差バリアパターン４０の端部が平面的に見てＣＦ基板２の端部と重なる位置に形成されている場合と異なり、液晶表示装置１００の製造プロセスにおいて、大板状態のＣＦ基板２を分断する際の分断箇所を確認しやすくすることができる。
【００３８】
また、第１実施形態では、上記のように、視差バリアパターン４０が形成されたＣＦ基板２の厚みｔ１を、視差バリアパターン４０が形成されていないＴＦＴ基板１の厚みｔ２よりも小さくすることによって、視差バリアパターン４０とカラーフィルター２０との間の距離が小さくなるので、カラーフィルター２０と視差バリアパターン４０との間の距離が小さい２画面表示の液晶表示装置１００を容易に構成することができる。
【００３９】
また、第１実施形態では、上記のように、視差バリアパターン４０を、ＣＦ基板２の薄膜トランジスタ３側とは反対側の表面上に直接形成することによって、視差バリアパターン４０とカラーフィルター２０との間の間隔が一定になるので、視差バリアパターン４０と対向基板２との間に接着材層などを設ける場合と異なり、接着材層の厚み（膜厚ムラ）に起因して、視差バリアパターン４０とカラーフィルター２０との間の間隔が不均一になるのを抑制することができる。
【００４０】
また、第１実施形態では、上記のように、視差バリアパターン４０を、金属層または樹脂層のうちいずれか一方にすることによって、金属層からなる視差バリアパターン４０または樹脂層からなる視差バリアパターン４０が形成された液晶表示装置１００を得ることができる。
【００４１】
（第２実施形態）
次に、図４を参照して、視差バリアパターンをＣＦ基板のＺ１方向側（液晶層とは反対側）の表面上に直接接触するように形成した上記第１実施形態とは異なり、視差バリアパターンをＴＦＴ基板のＺ２方向側（液晶層とは反対側）の表面上に直接接触するように形成した。
【００４２】
本発明の第２実施形態による液晶表示装置１０１では、視差バリアパターン４０は、ＴＦＴ基板１のＺ２方向側（液晶層３１とは反対側）の表面上に直接接触するように形成されている。また、ＴＦＴ基板１の厚みｔ３は、約１００μｍであり、ＣＦ基板２の厚みｔ４は、約６００μｍである。つまり、ＴＦＴ基板１は、ＣＦ基板２よりも薄く形成されている。これにより、薄膜トランジスタ３と視差バリアパターン４０との間の距離が小さくなるように構成されている。また、視差バリアパターン４０のＺ２方向側の表面上には、偏光板１５が形成されている。偏光板１５のＺ２方向側の表面上には、バックライト５０が設けられている。なお、第２実施形態のその他の構成は、上記第１実施形態と同様である。
【００４３】
第２実施形態では、上記のように、視差バリアパターン４０を、ＴＦＴ基板１の薄膜トランジスタ３側とは反対側の表面上に直接形成することによって、視差バリアパターン４０とＴＦＴ基板１との間に接着材層などを設ける場合と異なり、接着材層の厚み（膜厚ムラ）に起因して、視差バリアパターン４０と薄膜トランジスタ３との間の間隔が不均一になるのを抑制することができる。
【００４４】
なお、第２実施形態のその他の効果は、上記第１実施形態と同様である。
【００４５】
（第３実施形態）
次に、図５を参照して、視差バリアパターンのＺ１方向側（液晶層とは反対側）の表面上に直接偏光板を形成した上記第１実施形態とは異なり、視差バリアパターンのＺ１方向側（液晶層とは反対側）の表面上に保護膜を介して偏光板を形成した。
【００４６】
本発明の第３実施形態による液晶表示装置１０２では、ＣＦ基板２のＺ１方向側（液晶層３１とは反対側）の表面上に直接接触するように形成された視差バリアパターン４０のＺ１方向側の表面上には、樹脂などからなる保護膜４２が形成されている。具体的には、保護膜４２は、アクリル系の樹脂またはエポキシ系の透明樹脂などからなるとともに、塗布法などを用いて形成される。また、保護膜４２のＺ１方向側の表面上には、偏光板４１が形成されている。なお、第３実施形態のその他の構成は、上記第１実施形態と同様である。
【００４７】
第３実施形態では、上記のように、保護膜４２を、視差バリアパターン４０の薄膜トランジスタ３側とは反対側の表面上に形成し、偏光板４１を、保護膜４２の薄膜トランジスタ３側とは反対側の表面上に形成することによって、液晶表示装置１０２の製造プロセス中に、保護膜４２により視差バリアパターン４０の表面を保護できるので、視差バリアパターン４０の表面がキズつくのを抑制することができるとともに、液晶表示装置１０２の面押し強度（機械的強度）を向上させることができる。また、保護膜４２を視差バリアパターン４０の表面上に形成することにより、視差バリアパターン４０が形成される基板上の表面が平坦面状になるので、偏光板４１を保護膜４２の表面上に形成しやすくすることができる。
【００４８】
なお、第３実施形態のその他の効果は、上記第１実施形態と同様である。
【００４９】
（第４実施形態）
次に、図６を参照して、ＣＦ基板の表面上の偏光板のＺ１方向側の表面上に何も形成されていない上記第１実施形態とは異なり、ＣＦ基板の表面上の偏光板のＺ１方向側の表面上に保護カバーを形成した例について説明する。
【００５０】
本発明の第４実施形態による液晶表示装置１０３では、視差バリアパターン４０は、ＣＦ基板２のＺ１方向側（液晶層３１とは反対側）の表面上に直接接触するように形成されている。また、視差バリアパターン４０のＺ１方向側（液晶層３１とは反対側）の表面上には、偏光板４１が形成されている。また、偏光板４１のＺ１方向側（液晶層３１とは反対側）の表面上には、ガラスなどからなる保護カバー４３が形成されている。なお、第４実施形態のその他の構成は、上記第１実施形態と同様である。
【００５１】
第４実施形態では、上記のように、偏光板４１を視差バリアパターン４０の薄膜トランジスタ３側とは反対側の表面上に形成し、保護カバー４３を偏光板４１の薄膜トランジスタ３側とは反対側の表面上に形成することによって、保護カバー４３により偏光板４１の表面が保護されるので、偏光板４１の表面がキズつくのを抑制することができるとともに、液晶表示装置１０３の面押し強度（機械的強度）を向上させることができる。
【００５２】
なお、第４実施形態のその他の効果は、上記第１実施形態と同様である。
【００５３】
（第５実施形態）
次に、図７および図８を参照して、ＣＦ基板の表面上に形成された視差バリアパターンとＴＦＴ基板側とが電気的に接続されていない上記第１実施形態とは異なり、ＣＦ基板の表面上に形成された視差バリアパターンとＴＦＴ基板側とを電気的に接続する例について説明する。
【００５４】
本発明の第５実施形態による液晶表示装置１０４では、図７に示すように、ＣＦ基板２のＺ１方向側の表面上に形成された視差バリアパターン４０は、複数の開口部４０ａを有するとともに、クロム（Ｃｒ）、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）またはニッケル（Ｎｉ）などの金属層からなる。また、視差バリアパターン４０は、スパッタ法や蒸着法などを用いてＣＦ基板２のＺ１方向側の表面上に形成される。また、視差バリアパターン４０は、図８に示すように、視差バリアパターン４０の外周部の一部分が露出したバリア層露出部４０ｂを含んでいる。なお、バリア層露出部４０ｂのＺ１方向側の表面上には、保護膜４２および偏光板４１は形成されていない。また、バリア層露出部４０ｂは、導電性の接着材層または金属配線などからなる導通部材４４により、ＴＦＴ基板１側に設けられた配線と電気的に接続されるとともに、接地されている。また、視差バリアパターン４０は、ＣＦ基板２のＺ１方向側からの静電気などを遮断するためのシールド層としての機能を有しており、静電気から液晶表示装置１０４を保護することが可能である。また、シールド層としての視差バリアパターン４０に帯電した静電気は、導通部材４４を介して、液晶表示装置１０４の外部に逃がすように構成されている。なお、第５実施形態のその他の構成は、上記第１実施形態と同様である。
【００５５】
第５実施形態では、上記のように、視差バリアパターン４０を、ＣＦ基板２の薄膜トランジスタ３側とは反対側の表面上に直接形成された複数の開口部（スリット）４０ａを有する金属層にするとともに、ＴＦＴ基板１側と導通させることによって、金属層からなる視差バリアパターン４０により、液晶表示装置１０４の外部からの静電気をシールド（遮蔽）するとともに、ＴＦＴ基板１側に逃がすことができる。これにより、ＣＦ基板２の薄膜トランジスタ３のＺ１方向側の表面上に、視差バリアパターン４０とは別個にシールド層を設ける必要がないので、その分、部品点数を削減することができるとともに、液晶表示装置１０４の構造を簡素化することができる。
【００５６】
また、第５実施形態では、上記のように、視差バリアパターン４０のバリア層露出部４０ｂと、ＴＦＴ基板１側とを導通させるための導通部材４４を備えることによって、容易に視差バリアパターン４０と導通部材４４とを接続できるとともに、静電気を視差バリアパターン４０を介して容易にＴＦＴ基板１側に逃がすことができる。
【００５７】
なお、第５実施形態のその他の効果は、上記第１実施形態と同様である。
【００５８】
（応用例）
図９〜図１１は、それぞれ、上記した本発明の液晶表示装置１００、１０１、１０２、１０３および１０４を用いた電子機器の第１の例〜第３の例を説明するための図である。図９〜図１１を参照して、本発明の第１〜第５実施形態による液晶表示装置１００〜１０４を用いた電子機器について説明する。
【００５９】
本発明の第１〜第５実施形態による液晶表示装置１００〜１０４は、図９に示すように、第１の例としてのＰＣ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ Ｃｏｍｐｕｔｅｒ）４００、第２の例としての携帯電話５００、および、第３の例としての情報携帯端末６００（ＰＤＡ：Ｐｅｒｓｏｎａｌ Ｄｉｇｉｔａｌ Ａｓｓｉｓｔａｎｔｓ）などに用いることが可能である。
【００６０】
図９の第１の例によるＰＣ４００においては、キーボードなどの入力部４１０および表示画面４２０などに本発明の第１〜第５実施形態による液晶表示装置１００〜１０４を用いることが可能である。図１０の第２の例による携帯電話５００においては、表示画面５１０に本発明の第１〜第５実施形態による液晶表示装置１００〜１０４が用いられる。図１１の第３の例による情報携帯端末６００においては、表示画面６１０に本発明の第１〜第５実施形態による液晶表示装置１００〜１０４が用いられる。
【００６１】
なお、今回開示された実施形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態の説明ではなく特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる。
【００６２】
たとえば、上記第１〜第５実施形態では、本発明の表示装置の一例として液晶表示装置を示したが、本発明はこれに限らない。たとえば、本発明をＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）装置などの表示装置に適用してもよい。
【００６３】
また、上記第１〜第４実施形態では、本発明の表示装置の一例として、横電界モードの液晶表示装置を示したが、本発明はこれに限らない。たとえば、縦電界モードの液晶表示装置を用いてもよい。
【００６４】
また、上記第５実施形態では、視差バリアパターンとＴＦＴ基板側とを導通部材により電気的に接続する例を示したが、本発明はこれに限らない。たとえば、視差バリアの液晶層とは反対側の表面上にＩＴＯなどの透明電極を形成し、透明電極とＴＦＴ基板側とを導通部材により電気的に接続してもよい。この場合、視差バリアパターンを樹脂により形成するとともに、透明電極をシールド層として機能させてもよい。
【００６５】
また、上記第１〜第５実施形態では、視差バリアパターンに複数の矩形状の開口部を設ける例を示したが、本発明はこれに限らない。たとえば、視差バリアパターンを平面的に見て市松模様状のステップバリアパターンに形成してもよいし、視差バリアパターンに複数の円形の開口部を設けてもよいし、視差バリアパターンの開口部が階段状（斜め）に設けられた斜めストライプバリアパターンに形成してもよい。
【００６６】
また、上記第１〜第４実施形態では、視差バリアパターンに略矩形形状の開口部（スリット）を設ける例を示したが、本発明はこれに限らない。たとえば、視差バリアパターンを短冊状に形成してもよい。この場合、短冊状の視差バリアパターンによって、光が遮光される。
【００６７】
また、第１〜第５実施形態では、視差バリアパターンの端部が、視差バリアパターンが形成されるＣＦ基板または対向基板のうちいずれか一方の基板の端部よりも内側に形成する例を示したが、本発明はこれに限らない。たとえば、視差バリアパターンの端部が、視差バリアパターンが形成されるＣＦ基板または対向基板のうちいずれか一方の基板の端部まで形成されていてもよい。
【符号の説明】
【００６８】
１ ＴＦＴ基板（素子基板） ２ ＣＦ基板（対向基板） ３ 薄膜トランジスタ（トランジスタ素子） ４０ 視差バリアパターン ４０ａ 開口部 ４１ 偏光板 ４２ 保護膜 ４３ 保護カバー（保護膜） ４４ 導通部材 １００、１０１、１０２、１０３、１０４ 液晶表示装置（表示装置） ４００ ＰＣ（電子機器） ５００ 携帯電話（電子機器） ６００ 情報携帯端末（電子機器）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面上にトランジスタ素子が形成された素子基板と、
前記トランジスタ素子を挟むように、前記素子基板と対向するように配置された対向基板と、
前記素子基板または前記対向基板のうちいずれか一方の基板の前記トランジスタ素子側とは反対側の表面上に直接形成された視差バリアパターンとを備える、表示装置。
【請求項２】
前記視差バリアパターンは、前記素子基板または前記対向基板のうちいずれか一方の基板の前記トランジスタ素子側とは反対側の表面上に接着材層を介さずに直接接触するように形成されている、請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記視差バリアパターンの端部は、視差バリアパターンが形成される前記素子基板または前記対向基板のうちいずれか一方の基板の端部よりも内側に形成されている、請求項１または２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記素子基板または前記対向基板のうちいずれか一方の前記視差バリアパターンが形成された基板の厚みは、前記素子基板または前記対向基板のうちいずれか他方の前記視差バリアパターンが形成されていない基板の厚みよりも小さい、請求項１〜３のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項５】
前記視差バリアパターンは、前記対向基板の前記トランジスタ素子側とは反対側の表面上に直接形成されている、請求項１〜４のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項６】
前記視差バリアパターンは、前記素子基板の前記トランジスタ素子側とは反対側の表面上に直接形成されている、請求項１〜４のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項７】
前記視差バリアパターンの前記トランジスタ素子側とは反対側の表面上に形成された保護膜と、
前記保護膜の前記トランジスタ素子側とは反対側の表面上に形成された偏光板とをさらに備える、請求項１〜６のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項８】
前記視差バリアパターンの前記トランジスタ素子側とは反対側の表面上に形成された偏光板と、
前記偏光板の前記トランジスタ素子側とは反対側の表面上に形成された保護膜とをさらに備える、請求項１〜６のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項９】
前記視差バリアパターンは、金属層または樹脂層のうちいずれか一方からなる、請求項１〜８のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記視差バリアパターンは、前記対向基板の前記トランジスタ素子側とは反対側の表面上に直接形成された複数の開口部を有する金属層からなるとともに、前記素子基板側と導通している、請求項９に記載の表示装置。
【請求項１１】
前記視差バリアパターンの一部分は、露出するように構成されており、
前記視差バリアパターンの露出した部分と、前記素子基板側とを導通させるための導通部材をさらに備える、請求項１０に記載の表示装置。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の表示装置を備える電子機器。
【請求項１】
表面上にトランジスタ素子が形成された素子基板と、
前記トランジスタ素子を挟むように、前記素子基板と対向するように配置された対向基板と、
前記素子基板または前記対向基板のうちいずれか一方の基板の前記トランジスタ素子側とは反対側の表面上に直接形成された視差バリアパターンとを備える、表示装置。
【請求項２】
前記視差バリアパターンは、前記素子基板または前記対向基板のうちいずれか一方の基板の前記トランジスタ素子側とは反対側の表面上に接着材層を介さずに直接接触するように形成されている、請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記視差バリアパターンの端部は、視差バリアパターンが形成される前記素子基板または前記対向基板のうちいずれか一方の基板の端部よりも内側に形成されている、請求項１または２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記素子基板または前記対向基板のうちいずれか一方の前記視差バリアパターンが形成された基板の厚みは、前記素子基板または前記対向基板のうちいずれか他方の前記視差バリアパターンが形成されていない基板の厚みよりも小さい、請求項１〜３のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項５】
前記視差バリアパターンは、前記対向基板の前記トランジスタ素子側とは反対側の表面上に直接形成されている、請求項１〜４のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項６】
前記視差バリアパターンは、前記素子基板の前記トランジスタ素子側とは反対側の表面上に直接形成されている、請求項１〜４のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項７】
前記視差バリアパターンの前記トランジスタ素子側とは反対側の表面上に形成された保護膜と、
前記保護膜の前記トランジスタ素子側とは反対側の表面上に形成された偏光板とをさらに備える、請求項１〜６のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項８】
前記視差バリアパターンの前記トランジスタ素子側とは反対側の表面上に形成された偏光板と、
前記偏光板の前記トランジスタ素子側とは反対側の表面上に形成された保護膜とをさらに備える、請求項１〜６のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項９】
前記視差バリアパターンは、金属層または樹脂層のうちいずれか一方からなる、請求項１〜８のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記視差バリアパターンは、前記対向基板の前記トランジスタ素子側とは反対側の表面上に直接形成された複数の開口部を有する金属層からなるとともに、前記素子基板側と導通している、請求項９に記載の表示装置。
【請求項１１】
前記視差バリアパターンの一部分は、露出するように構成されており、
前記視差バリアパターンの露出した部分と、前記素子基板側とを導通させるための導通部材をさらに備える、請求項１０に記載の表示装置。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の表示装置を備える電子機器。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【公開番号】特開２０１１−１６９９４２（Ｐ２０１１−１６９９４２Ａ）
【公開日】平成２３年９月１日（２０１１．９．１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−３０９８３（Ｐ２０１０−３０９８３）
【出願日】平成２２年２月１６日（２０１０．２．１６）
【出願人】（０００００２１８５）ソニー株式会社 (34,172)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年９月１日（２０１１．９．１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年２月１６日（２０１０．２．１６）
【出願人】（０００００２１８５）ソニー株式会社 (34,172)
【Ｆターム（参考）】
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