表示装置及び表示装置の製造方法
【課題】表示品位が良好であって、且つ、高精細化に対応可能な表示装置及びこの表示装置を製造するための製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】複数の画素ＰＸによって構成され、かつ、１画素内に発光色の異なる複数種類の表示素子４０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）からなるサブ画素を備えて構成され、第１表示素子４０Ｒが配列されたストライプ状の第１サブ画素列ＲＬと、第１表示素子とは発光色が異なる第２表示素子４０Ｇが配列されたストライプ状の第２サブ画素列ＧＬと、を備え、第１サブ画素列ＲＬ及び第２サブ画素列ＧＬは、それぞれのサブ画素列が延在する方向とは直交する方向の幅が広い有効部ＲＥ及びＧＥと、有効部より狭い幅であって隣接する有効部を連結する連結部ＲＣ及びＧＣと、を有し、１画素ＰＸ内において、第１サブ画素列ＲＬの有効部ＲＥと第２サブ画素列ＧＬの連結部ＧＣとが隣接することを特徴とする。
【解決手段】複数の画素ＰＸによって構成され、かつ、１画素内に発光色の異なる複数種類の表示素子４０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）からなるサブ画素を備えて構成され、第１表示素子４０Ｒが配列されたストライプ状の第１サブ画素列ＲＬと、第１表示素子とは発光色が異なる第２表示素子４０Ｇが配列されたストライプ状の第２サブ画素列ＧＬと、を備え、第１サブ画素列ＲＬ及び第２サブ画素列ＧＬは、それぞれのサブ画素列が延在する方向とは直交する方向の幅が広い有効部ＲＥ及びＧＥと、有効部より狭い幅であって隣接する有効部を連結する連結部ＲＣ及びＧＣと、を有し、１画素ＰＸ内において、第１サブ画素列ＲＬの有効部ＲＥと第２サブ画素列ＧＬの連結部ＧＣとが隣接することを特徴とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、表示装置及び表示装置の製造方法に係り、特に、インクジェット方式などの選択塗布方式により塗布された液滴により光活性層を形成した表示装置、及び、この表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、平面表示装置として、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置が注目されている。この有機ＥＬ表示装置は、自発光性素子であることから、視野角が広く、バックライトを必要とせず薄型化が可能であり、消費電力が抑えられ、且つ応答速度が速いといった特徴を有している。
【０００３】
これらの特徴から、有機ＥＬ表示装置は、液晶表示装置に代わる、次世代平面表示装置の有力候補として注目を集めている。このような有機ＥＬ表示装置は、陽極と陰極との間に発光機能を有する有機化合物を含む光活性層を挟持した有機ＥＬ素子をマトリックス状に配置することにより構成されたアレイ基板を備えている。光活性層は、例えば、高分子系材料を用いてインクジェット法などの選択塗布方式により形成される。
【０００４】
このような選択塗布方式を採用することにより、材料利用効率を向上することができ、製造コストを低下することが可能となる。この選択塗布方式において、特に、カラー表示タイプの有機ＥＬ表示装置を形成する場合、画素毎に対応した発光色の液滴を塗布する必要がある。このため、塗布位置及び液適量を高精度に制御することが要求される。
【０００５】
特許文献１に記載のように、同一発光色の有機ＥＬ素子を一方向に並べて配列した均一幅のストライプ構造を適用した場合、塗布された液滴がストライプの伸びる方向に広がり、膜厚分布の均一化が期待できる。
【特許文献１】特開２００２−２２１９１７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、高精細化しようとした場合、ストライプの幅が狭くなり、塗布位置のずれに対するマージンが小さくなる。このため、塗布された液滴が隣接する画素間を区画する隔壁を乗り越えてしまい、対応する発光色以外の液滴が混入し、混色といった表示不良を生ずるおそれがある。
【０００７】
また、ストライプの幅に合わせて液滴の径を小さくした場合、液適量が少なくなり、しかも、画素のアスペクト比（画素の幅方向の長さに対するストライプの伸びる方向の長さの比）が高くなるため、塗布された液滴が十分に広がらず、画素内での膜厚分布が不均一になるおそれがある。このような不均一な膜厚分布の光活性層は、発光特性の低下を招き、表示不良を生ずるおそれがある。なお、液滴の径を小さくして、液適量を増やすために複数回にわたって同一画素に液滴を塗布するように構成した場合、塗布に要する時間が長くなり、結果的に製造コストの増大を招いてしまう。
【０００８】
この発明は、上述した問題点に鑑みなされたものであって、その目的は、表示品位が良好であって、且つ、高精細化に対応可能な表示装置及びこの表示装置を製造するための製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
この発明の第１の態様による表示装置は、
複数の画素によって構成され、かつ、１画素内に発光色の異なる複数種類の表示素子からなるサブ画素を備えて構成され、
第１表示素子が配列されたストライプ状の第１サブ画素列と、
前記第１表示素子とは発光色が異なる第２表示素子が配列されたストライプ状の第２サブ画素列と、を備え、
前記第１サブ画素列及び前記第２サブ画素列は、それぞれのサブ画素列が延在する方向とは直交する方向の幅が広い有効部と、有効部より狭い幅であって隣接する有効部を連結する連結部と、を有し、
１画素内において、前記第１サブ画素列の有効部と前記第２サブ画素列の連結部とが隣接することを特徴とする。
【００１０】
この発明の第２の態様による表示装置の製造方法は、
複数の画素によって構成され、かつ、１画素内に発光色の異なる複数種類の表示素子からなるサブ画素を備えて構成され、
第１表示素子が配列されたストライプ状の第１サブ画素列と、
前記第１表示素子とは発光色が異なる第２表示素子が配列されたストライプ状の第２サブ画素列と、を備え、
前記第１サブ画素列及び前記第２サブ画素列は、それぞれのサブ画素列が延在する方向とは直交する方向の幅が広い有効部と、有効部より狭い幅であって隣接する有効部を連結する連結部と、を有する表示装置の製造方法であって、
前記第１表示素子及び前記第２表示素子を構成する光活性層を形成するための液滴を、それぞれ前記第１サブ画素列及び前記第２サブ画素列の有効部に塗布することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
この発明によれば、表示品位が良好であって、且つ、高精細化に対応可能な表示装置及びこの表示装置を製造するための製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、この発明の一実施の形態に係る表示装置及びこの表示装置の製造方法について図面を参照して説明する。なお、この実施の形態では、表示装置として、自己発光型表示装置、例えば有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置を例にして説明する。
【００１３】
有機ＥＬ表示装置１は、図１に示すように、画像を表示する表示エリア１０２を有するアレイ基板１００を備えている。表示エリア１０２は、複数の画素ＰＸによって構成されている。
【００１４】
また、アレイ基板１００は、画素ＰＸの略行方向（すなわち図１のＹ方向）に沿って配置された複数の走査線Ｙｍ（ｍ＝１、２、…）と、走査線Ｙｍと直交する略列方向（すなわち図１のＸ方向）に沿って配置された複数の信号線Ｘｎ（ｎ＝１、２、…）と、有機ＥＬ素子４０の第１電極６０側に電源を供給するための電源供給線Ｐと、を備えている。
【００１５】
さらに、アレイ基板１００は、表示エリア１０２の外周に沿った周辺エリア１０４に、走査線Ｙｍのそれぞれに走査信号を供給する走査線駆動回路１０７の少なくとも一部と、信号線Ｘｎのそれぞれに映像信号を供給する信号線駆動回路１０８の少なくとも一部と、を備えている。すべての走査線Ｙｍは、走査線駆動回路１０７に接続されている。また、すべての信号線Ｘｎは、信号線駆動回路１０８に接続されている。
【００１６】
各画素ＰＸは、発光色の異なる複数種類の表示素子からなるサブ画素を備えて構成されている。すなわち、表示素子は、自発光素子である有機ＥＬ素子４０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）によって構成されている。つまり、赤色のサブ画素ＰＸＲは、主に赤色波長に対応した光を出射する有機ＥＬ素子４０Ｒを備えている。緑色のサブ画素ＰＸＧは、主に緑色波長に対応した光を出射する有機ＥＬ素子４０Ｇを備えている。青色のサブ画素ＰＸＢは、主に青色波長に対応した光を出射する有機ＥＬ素子４０Ｂを備えている。このように、各画素ＰＸは、サブ画素ＰＸ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）を備えている。
【００１７】
各サブ画素ＰＸ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）は、それぞれ有機ＥＬ素子４０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）を駆動制御する画素回路を備えている。画素回路は、オン画素とオフ画素とを電気的に分離しかつオン画素への映像信号を保持する機能を有する画素スイッチ１０と、画素スイッチ１０を介して供給される映像信号に基づき有機ＥＬ素子４０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）へ所望の駆動電流を供給する駆動トランジスタ２０と、駆動トランジスタ２０のゲート−ソース間電位を所定期間保持する蓄積容量素子３０とを有している。これら画素スイッチ１０及び駆動トランジスタ２０は、例えば薄膜トランジスタにより構成され、ここでは、半導体層にポリシリコンを用いている。
【００１８】
各種有機ＥＬ素子４０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）は、基本的に同一構成であり、例えば、図２に示すように、サブ画素ＰＸ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）に対応して独立島状に形成された第１電極６０と、第１電極６０に対向して配置され全画素ＰＸに共通に形成された第２電極６６と、これら第１電極６０と第２電極６６との間に保持された光活性層６４と、によって構成されている。
【００１９】
画素スイッチ１０は、ここでは走査線Ｙｍと信号線Ｘｎとの交差部近傍に配置されている。画素スイッチ１０のゲート電極は走査線Ｙｍに接続され、ソース電極は信号線Ｘｎに接続され、ドレイン電極は蓄積容量素子３０を構成する一方の電極及び駆動トランジスタ２０のゲート電極に接続されている。駆動トランジスタ２０のソース電極は蓄積容量素子３０を構成する他方の電極及び電源供給線Ｐに接続され、ドレイン電極は有機ＥＬ素子４０の第１電極６０に接続されている。電源供給線Ｐは、表示エリア１０２の周囲に配置された図示しない第１電極電源線に接続されている。有機ＥＬ素子４０の第２電極６６は、表示エリア１０２の周囲に配置されコモン電位ここでは接地電位を供給する図示しない第２電極電源線に接続されている。
【００２０】
図２に示すように、アレイ基板１００は、配線基板１２０上に配置された複数の有機ＥＬ素子４０を備えている。なお、配線基板１２０は、ガラス基板やプラスチックシートなどの絶縁性支持基板上に、画素スイッチ１０、駆動トランジスタ２０、蓄積容量素子３０、走査線駆動回路１０７、信号線駆動回路１０８、各種配線（走査線、信号線、電源供給線等）などを備えて構成されたものとする。
【００２１】
有機ＥＬ素子４０を構成する第１電極６０は、配線基板１２０表面の絶縁膜（例えば平坦化層）上に配置され、陽極として機能する。
【００２２】
光活性層６４は、少なくとも発光層を含んでいる。この光活性層６４は、発光層以外の層として、例えば、各色共通に形成される正孔輸送層を備え、各サブ画素ＰＸ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）に形成される発光層と積層した２層構造で構成されても良いし、正孔注入層、ブロッキング層、電子輸送層、電子注入層、バッファ層などを含んでも良いし、またこれらを機能的に複合した層を含んでもよい。光活性層６２においては、発光層が有機系材料であればよく、発光層以外の層は無機系材料でも有機系材料でも構わない。発光層は、赤、緑、または青に発光する発光機能を有する有機化合物によって形成される。すなわち、赤色のサブ画素ＰＸＲの有機ＥＬ素子４０Ｒは、主に赤色に発光する光活性層６４Ｒを備えている。緑色のサブ画素ＰＸＧの有機ＥＬ素子４０Ｇは、主に緑色に発光する光活性層６４Ｇを備えている。青色のサブ画素ＰＸＢの有機ＥＬ素子４０Ｂは、主に青色に発光する光活性層６４Ｂを備えている。
【００２３】
第２電極６６は、光活性層６４（Ｒ、Ｇ、Ｂ）上に各有機ＥＬ素子４０に共通に配置される。この第２電極６６は、電子注入機能を有する金属材料によって形成され、陰極として機能している。
【００２４】
ところで、この実施の形態では、表示エリア１０２は、同一色のサブ画素つまり同一種類の有機ＥＬ素子が配列されたストライプ状のサブ画素列を備えている。例えば、図１に示すように、表示エリア１０２は、複数の赤色のサブ画素ＰＸＲが配列された赤色のサブ画素列ＲＬ、複数の緑色のサブ画素ＰＸＧが配列された緑色のサブ画素列ＧＬ、及び、複数の青色のサブ画素ＰＸＢが配列された青色のサブ画素列ＢＬを備えている。これらのサブ画素列は、サブ画素列の延びる方向（図１に示した例ではＸ方向）に直交する方向（図１に示した例ではＹ方向）に並んでいる。また、表示エリア１０２において、赤色のサブ画素列ＲＬは、複数配列されており、例えば２列置きに配列されている。同様に、緑色のサブ画素列ＧＬ及び青色のサブ画素列ＢＬも、それぞれ表示エリア１０２において複数配列されており、例えば２列置きに配列されている。
【００２５】
また、アレイ基板１００は、図２に示すように、表示エリア１０２において、各サブ画素列を区画する隔壁７０を備えている。この隔壁７０は、例えば樹脂材料をパターニングすることによって形成される。
【００２６】
次に、光活性層６４を形成するための液滴を塗布するための塗布装置について説明する。ここでは、インクジェット方式により液滴を選択的に塗布する塗布装置について説明する。例えば、図３に示すように、塗布装置１３０は、処理基板（すなわち第１電極６０を形成済みの配線基板１２０）ＳＵＢが載置されるステージ１３１と、ステージ１３１上方において処理基板ＳＵＢに対向して配置されたヘッド１３２と、ステージ１３１及びヘッド１３２の少なくとも一方を移動させる移動機構１３３と、を備えている。
【００２７】
ヘッド１３２は、処理基板ＳＵＢ上（より厳密にはサブ画素列ＲＬ、ＧＬ、ＢＬ）に向けてそれぞれ液滴を塗布する。このヘッド１３２は、光活性層６４を形成するための液滴を吐出するノズルを備えている。このような構成のヘッド１３２は、例えば各ノズルに対応して配置された圧電素子などを備えて構成されており、この圧電素子に印加する電圧を制御することにより液滴の吐出量や吐出タイミングなどを制御している。
【００２８】
移動機構１３３は、ステージ１３１上に載置された処理基板ＳＵＢとヘッド１３２とが対向した状態で、ヘッド１３２が処理基板ＳＵＢの所定領域に順次液滴を塗布するように相対移動させる機構である。この実施の形態では、移動機構１３３は、ステージ１３１のみを移動させる。すなわち、移動機構１３３は、ステージ１３１の下方において互いにほぼ直交するように配置され、Ｘ方向に延在するレール１３３Ｘ及びＹ方向に延在するレール１３３Ｙを備えている。移動機構１３３は、ステージ１３１をレール１３３Ｘに沿ってＸ方向に移動可能であるとともに、レール１３３Ｙに沿ってＹ方向に移動可能である。
【００２９】
このような選択塗布方式により液滴が塗布されるサブ画素列ＲＬ、ＧＬ、ＢＬは、それぞれのサブ画素列が延在する方向とは直交する方向の幅が広い有効部と、有効部より狭い幅であって隣接する有効部を連結する連結部とを有している。しかも、１画素内においては、１つのサブ画素列の有効部と他のサブ画素列の連結部とが互いに隣接すように配置されている。
【００３０】
図４に示した例では、赤色のサブ画素列ＲＬは、有効部ＲＥ及び連結部ＲＣを有している。同様に、緑色のサブ画素列ＧＬは、有効部ＧＥ及び連結部ＧＣを有しており、青色のサブ画素列ＢＬは、有効部ＢＥ及び連結部ＢＣを有している。しかも、図４に示したように、赤色のサブ画素列ＲＬ、緑色のサブ画素列ＧＬ、及び、青色のサブ画素列ＢＬがこの順番で配列されている場合、１画素ＰＸ内において、サブ画素列ＲＬ及びサブ画素列ＢＬのそれぞれの有効部ＲＥ及びＢＥは、サブ画素列ＧＬの連結部ＧＣに隣接している。また、１画素ＰＸ内において、サブ画素列ＧＬの有効部ＧＥは、サブ画素列ＲＬ及びサブ画素列ＢＬのそれぞれの連結部ＲＣ及びＢＣに隣接している。これらのサブ画素列ＲＬ、ＧＬ、ＢＬは、その間に配置された隔壁７０によって区画されている。なお、図４においては、破線で囲まれた部分が１画素ＰＸに相当し、各画素ＰＸにおいて、それぞれ１つの有効部ＲＥ、ＧＥ、ＢＥが配置されている。
【００３１】
また、それぞれの有効部ＲＥ、ＧＥ、ＢＥに対応して、有機ＥＬ素子４０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）がそれぞれ配置されている。すなわち、図４に示した例では、赤色に発光する有機ＥＬ素子４０Ｒは、赤色の有効部ＲＥに対応して配置されている。同様に、緑色に発光する有機ＥＬ素子４０Ｇは、緑色の有効部ＧＥに対応して配置され、青色に発光する有機ＥＬ素子４０Ｂは、青色の有効部ＢＥに対応して配置されている。なお、図４においては、有機ＥＬ素子４０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）を構成する第１電極６０のみを図示しており、各有効部に対応して１つの有機ＥＬ素子が配置されている。
【００３２】
このような構成によれば、サブ画素列における比較的幅広な有効部に液滴を塗布することが可能となる。このため、塗布位置のずれに対するマージンを拡大することが可能となり、互いに発光色の異なる隣接するサブ画素列間での混色といった表示不良の発生を防止することができる。
【００３３】
また、液滴の径は、有効部の寸法に対応する程度に制御すれば良い。このため、高精細化に伴って極端に液適量を少なくする必要はなく、少なくとも有効部において全体的に液滴が広がる程度の液適量で液滴を塗布することにより、有効部に配置された有機ＥＬ素子４０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）の光活性層６４を均一な膜厚分布で形成することが可能となる。
【００３４】
つまり、このような構成のサブ画素列からなる表示エリアを備えた表示装置によれば、表示品位の低下を招くことなく高精細化に対応可能となる。
【００３５】
また、図４に示した例においては、各サブ画素列の有効部は、略六角形に形成されている。つまり、１画素ＰＸ内に配置された赤色の有効部ＲＥ、緑色の有効部ＧＥ、及び、青色の有効部ＢＥは、全て略六角形状である。このため、１画素ＰＸ内に無駄なスペースを形成することなく各サブ画素列の有効部を高密度配置することが可能となり、開口率を向上することが可能となる。また、略六角形状の有効部は、塗布される液滴の着弾時の形状（真円あるいは楕円形状）に近い形状であるため、液滴の塗布位置のずれに対するマージンがサブ画素列の延在する方向のみならずサブ画素列の幅方向にも拡大する。また、このような形状の有効部によれば、液滴を塗布した際、液滴が有効部内に広がりやすく、膜厚分布の均一化に有効である。
【００３６】
また、図４に示した例においては、隣接するサブ画素列の有効部が互いに半画素分ずれて配置されている。このため、液滴を塗布する際、隣接する有効部に塗布される液滴との距離が広がり、混色の発生を抑制することが可能となる。
【００３７】
なお、各サブ画素列における有効部の形状は、図４に示した例に限定されず、種々変更可能である。例えば、図５に示した例では、各色のサブ画素列ＲＬ、ＧＬ、ＢＬは、それぞれ略四角形の有効部ＲＥ、ＧＥ、ＢＥを有している。各色のサブ画素列ＲＬ、ＧＬ、ＢＬにおいて、隣接する同一色の有効部はそれぞれ連結部ＲＣ、ＧＣ、ＢＣによって連結されている。しかも、図５に示したように、赤色のサブ画素列ＲＬ、緑色のサブ画素列ＧＬ、及び、青色のサブ画素列ＢＬがこの順番で配列されている場合、１画素ＰＸ内において、サブ画素列ＲＬ及びサブ画素列ＢＬのそれぞれの有効部ＲＥ及びＢＥは、サブ画素列ＧＬの連結部ＧＣに隣接している。また、１画素ＰＸ内において、サブ画素列ＧＬの有効部ＧＥは、サブ画素列ＲＬ及びサブ画素列ＢＬのそれぞれの連結部ＲＣ及びＢＣに隣接している。これらのサブ画素列ＲＬ、ＧＬ、ＢＬは、その間に配置された隔壁７０によって区画されている。
【００３８】
また、それぞれの有効部ＲＥ、ＧＥ、ＢＥに対応して、１つの有機ＥＬ素子４０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）がそれぞれ配置されている。
【００３９】
このような構成であっても、図４に示した例と同様の効果が得られる。
【００４０】
なお、各有効部に配置される有機ＥＬ素子の数は１つに限らない。例えば、図６に示した例では、各色のサブ画素列ＲＬ、ＧＬ、ＢＬは、それぞれ略四角形の有効部ＲＥ、ＧＥ、ＢＥを有している。各色のサブ画素列ＲＬ、ＧＬ、ＢＬにおいて、隣接する同一色の有効部はそれぞれ連結部ＲＣ、ＧＣ、ＢＣによって連結されている。しかも、図６に示したように、赤色のサブ画素列ＲＬ、緑色のサブ画素列ＧＬ、及び、青色のサブ画素列ＢＬがこの順番で配列されている場合、１画素ＰＸ内において、サブ画素列ＲＬ及びサブ画素列ＢＬのそれぞれの有効部ＲＥ及びＢＥは、サブ画素列ＧＬの連結部ＧＣに隣接している。また、１画素ＰＸ内において、サブ画素列ＧＬの有効部ＧＥは、サブ画素列ＲＬ及びサブ画素列ＢＬのそれぞれの連結部ＲＣ及びＢＣに隣接している。これらのサブ画素列ＲＬ、ＧＬ、ＢＬは、その間に配置された隔壁７０によって区画されている。なお、図６においても、破線で囲まれた部分が１画素ＰＸに相当し、各画素ＰＸにおいて、それぞれ１つの有効部ＲＥ、ＧＥ、ＢＥが配置されている。１画素ＰＸ内には、それぞれ１つずつの有機ＥＬ素子４０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）が配置されている。
【００４１】
特に、図６に示した例では、各サブ画素列ＲＬ、ＧＬ、ＢＬにおけるそれぞれの有効部ＲＥ、ＧＥ、ＢＥは、複数の有機ＥＬ素子４０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）を備えている。すなわち、各有効部ＲＥ、ＧＥ、ＢＥは、複数の画素ＰＸに跨って配置されている。例えば、サブ画素列ＲＬ１及びＢＬ１のそれぞれの有効部ＲＥ及びＢＥは、４つの画素ＰＸに跨るように配置されている。有効部ＲＥは、それぞれの画素ＰＸに配置された４つの有機ＥＬ素子４０Ｒを備えている。また、有効部ＢＥは、それぞれの画素ＰＸに配置された４つの有機ＥＬ素子４０Ｂを備えている。また、サブ画素列ＧＬ１の有効部ＧＥは、サブ画素列Ｇ１が延在する方向に並んだ２つの画素ＰＸに跨るように配置されている。有効部ＧＥは、それぞれの画素ＰＸに配置された２つの有機ＥＬ素子４０Ｇを備えている。同様にして、サブ画素列ＲＬ２及びＢＬ２のそれぞれの有効部ＲＥ及びＢＥは、２つの画素ＰＸに跨るように配置され、サブ画素列ＧＬ２の有効部ＧＥは、４つの画素ＰＸに跨るように配置されている。
【００４２】
このような構成であっても、図４に示した例と同様の効果が得られる。さらに、隣接する画素ＰＸについて、有機ＥＬ素子を対称に配置可能とするように有効部を形成することにより、液滴の塗布位置のずれに対するマージンをさらに拡大することが可能となる。
【００４３】
また、図７に示した例では、各色のサブ画素列ＲＬ、ＧＬ、ＢＬは、それぞれ略六角形の有効部ＲＥ、ＧＥ、ＢＥを有している。特に、図７に示した例のサブ画素列ＲＬ、ＧＬ、ＢＬでは、有効部が連続して繋がっており、それぞれの幅の狭い部分が連結部ＲＣ、ＧＣ、ＢＣに相当する。図７に示したように、赤色のサブ画素列ＲＬ、緑色のサブ画素列ＧＬ、及び、青色のサブ画素列ＢＬがこの順番で配列されている場合、１画素ＰＸ内において、サブ画素列ＲＬ及びサブ画素列ＢＬのそれぞれの有効部ＲＥ及びＢＥは、サブ画素列ＧＬの連結部ＧＣに隣接している。また、１画素ＰＸ内において、サブ画素列ＧＬの有効部ＧＥは、サブ画素列ＲＬ及びサブ画素列ＢＬのそれぞれの連結部ＲＣ及びＢＣに隣接している。これらのサブ画素列ＲＬ、ＧＬ、ＢＬは、その間に配置された隔壁７０によって区画されている。
【００４４】
図７に示した例において、サブ画素列ＧＬ１、ＲＬ２、ＢＬ２におけるそれぞれの有効部ＧＥ、ＲＥ、ＢＥは、対応する色の１つの有機ＥＬ素子を備えている。また、サブ画素列ＲＬ１、ＢＬ１、ＧＬ２におけるそれぞれの有効部ＲＥ、ＢＥ、ＧＥは、複数の画素ＰＸに跨って配置されている。例えば、サブ画素列ＲＬ１、ＢＬ１、ＧＬ２のそれぞれの有効部ＲＥ、ＢＥ、ＧＥは、４つの画素ＰＸに跨るように配置されている。有効部ＲＥは、それぞれの画素ＰＸに配置された４つの有機ＥＬ素子４０Ｒを備えている。同様に、有効部ＢＥは、それぞれの画素ＰＸに配置された４つの有機ＥＬ素子４０Ｂを備え、有効部ＧＥは、それぞれの画素ＰＸに配置された４つの有機ＥＬ素子４０Ｇを備えている。
【００４５】
このような構成であっても、図６に示した例と同様の効果が得られる。
【００４６】
なお、各サブ画素列が延在する方向は、画素ＰＸの配列方向と平行でなくても良い。例えば、図８に示した例では、各色のサブ画素列ＲＬ、ＧＬ、ＢＬは、それぞれ略六角形の有効部ＲＥ、ＧＥ、ＢＥを有している。特に、図８に示した例のサブ画素列ＲＬ、ＧＬ、ＢＬでは、有効部が連続して繋がっており、それぞれの幅の狭い部分が連結部ＲＣ、ＧＣ、ＢＣに相当する。これらの各サブ画素列ＲＬ、ＧＬ、ＢＬは、画素ＰＸの配列方向に対して斜め方向に延在している。
【００４７】
図８に示したように、赤色のサブ画素列ＲＬ、緑色のサブ画素列ＧＬ、及び、青色のサブ画素列ＢＬがこの順番で配列されている場合、１画素ＰＸ内において、サブ画素列ＲＬ及びサブ画素列ＢＬのそれぞれの有効部ＲＥ及びＢＥは、サブ画素列ＧＬの連結部ＧＣに隣接している。また、１画素ＰＸ内において、サブ画素列ＧＬの有効部ＧＥは、サブ画素列ＲＬ及びサブ画素列ＢＬのそれぞれの連結部ＲＣ及びＢＣに隣接している。これらのサブ画素列ＲＬ、ＧＬ、ＢＬは、その間に配置された隔壁７０によって区画されている。
【００４８】
図８に示した例において、各サブ画素列ＲＬ、ＢＬ、ＧＬにおけるそれぞれの有効部ＲＥ、ＢＥ、ＧＥは、複数の画素ＰＸに跨って配置されている。例えば、サブ画素列ＲＬ、ＢＬ、ＧＬのそれぞれの有効部ＲＥ、ＢＥ、ＧＥは、４つの画素ＰＸに跨るように配置されている。有効部ＲＥは、それぞれの画素ＰＸに配置された４つの有機ＥＬ素子４０Ｒを備えている。同様に、有効部ＢＥは、それぞれの画素ＰＸに配置された４つの有機ＥＬ素子４０Ｂを備え、有効部ＧＥは、それぞれの画素ＰＸに配置された４つの有機ＥＬ素子４０Ｇを備えている。
【００４９】
このような構成であっても、図６に示した例と同様の効果が得られる。
【００５０】
図９に示した例では、各色のサブ画素列ＲＬ、ＧＬ、ＢＬは、それぞれ略六角形の有効部ＲＥ、ＧＥ、ＢＥを有している。各色のサブ画素列ＲＬ、ＧＬ、ＢＬにおいて、隣接する同一色の有効部はそれぞれ連結部ＲＣ、ＧＣ、ＢＣによって連結されている。しかも、図９に示したように、赤色のサブ画素列ＲＬ、緑色のサブ画素列ＧＬ、及び、青色のサブ画素列ＢＬがこの順番で配列されている場合、１画素ＰＸ内において、サブ画素列ＲＬ及びサブ画素列ＢＬのそれぞれの有効部ＲＥ及びＢＥは、サブ画素列ＧＬの連結部ＧＣに隣接している。また、１画素ＰＸ内において、サブ画素列ＧＬの有効部ＧＥは、サブ画素列ＲＬ及びサブ画素列ＢＬのそれぞれの連結部ＲＣ及びＢＣに隣接している。これらのサブ画素列ＲＬ、ＧＬ、ＢＬは、その間に配置された隔壁７０によって区画されている。
【００５１】
また、サブ画素列ＲＬ及びＢＬにおけるそれぞれの有効部ＲＥ及びＢＥは、サブ画素列が延在する方向に並んだ２つの画素ＰＸに跨るように配置されている。有効部ＲＥは、それぞれの画素ＰＸに配置された略五角形状の２つの有機ＥＬ素子４０Ｒを備えている。有効部ＢＥは、それぞれの画素ＰＸに配置された略五角形の２つの有機ＥＬ素子４０Ｂを備えている。サブ画素列ＧＬにおける有効部ＧＥは、各画素ＰＸに対応して１つずつ配置されている。有効部ＧＥは、画素ＰＸに配置された略六角形の１つの有機ＥＬ素子４０Ｇを備えている。
【００５２】
この図９に示した例では、図の上下に隣接した画素ＰＸに着目すると、これらの画素ＰＸ間において、各画素ＰＸを構成するサブ画素の配置位置は、これらの画素ＰＸの境界線ＢＤＬに対して対称である。つまり、上下に隣接する画素ＰＸについて、赤色のサブ画素を構成する有機ＥＬ素子４０Ｒ、緑色のサブ画素を構成する有機ＥＬ素子４０Ｇ、及び、青色のサブ画素を構成する有機ＥＬ素子４０Ｂは、境界線ＢＤＬに対して線対称な位置に配置されている。
【００５３】
このような構成であっても、図４に示した例と同様の効果が得られる。
【００５４】
なお、図４乃至図９に示した例のように、赤色のサブ画素ＰＸＲを備えたサブ画素列ＲＬ、緑色のサブ画素ＰＸＧを備えたサブ画素列ＧＬ、及び、青色のサブ画素ＰＸＢを備えたサブ画素列ＲＢがすべてストライプ状に伸びた構造でなくても良い。例えば、図１０乃至図１２に示すように、少なくとも１つのサブ画素列（ここでは赤色に対応したサブ画素列ＲＬ）がストライプ状に伸びた構造であり、しかも、有効部ＲＥ及び連結部ＲＣを有する構造であっても良い。ここでは、有効部ＲＥは、略五角形であって連続して繋がっている。このサブ画素列ＲＬにおいて、幅の狭い部分が連結部ＲＣに相当する。有効部ＲＥは、それぞれの画素ＰＸに対応して配置され、各画素ＰＸにおいて１つの有機ＥＬ素子４０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）を備えている。
【００５５】
また、他の色のサブ画素、すなわち緑色サブ画素ＰＸＧ及び青色サブ画素ＰＸＢは島状に構成されている。図１０及び図１１に示した例では、緑色サブ画素ＰＸＧ及び青色サブ画素ＰＸＢのそれぞれは、１つの島状パターンが隣接する２つの画素に跨って配置されている。
【００５６】
図１０に示した例では、緑色サブ画素ＰＸＧの島状パターンは、一方の画素ＰＸに配置された三角形の有機ＥＬ素子４０Ｇ及び他方の画素ＰＸに配置された四角形の有機ＥＬ素子４０Ｇを備えている。同様に、青色サブ画素ＰＸＢの島状パターンは、三角形の有機ＥＬ素子４０Ｂ及び四角形の有機ＥＬ素子４０Ｂを備えている。
【００５７】
図１１に示した例では、緑色サブ画素ＰＸＧの島状パターンは、それぞれの画素ＰＸに配置された四角形の有機ＥＬ素子４０Ｇを備えている。同様に、青色サブ画素ＰＸＢの島状パターンは、四角形の有機ＥＬ素子４０Ｂを備えている。
【００５８】
この図１１に示した例では、図の上下に隣接した画素ＰＸに着目すると、これらの画素ＰＸ間において、各画素ＰＸを構成するサブ画素の配置位置は、これらの画素ＰＸの境界線ＢＤＬに対して対称である。つまり、上下に隣接する画素ＰＸについて、赤色のサブ画素ＰＸＲを構成する有機ＥＬ素子４０Ｒ、緑色のサブ画素ＰＸＧを構成する有機ＥＬ素子４０Ｇ、及び、青色のサブ画素ＰＸＢを構成する有機ＥＬ素子４０Ｂは、境界線ＢＤＬに対して線対称な位置に配置されている。
【００５９】
図１２に示した例では、各画素ＰＸにおいて、島状の緑色サブ画素ＰＸＧ及び青色サブ画素ＰＸＢは、各画素に対応して配置され、それぞれ１つの有機ＥＬ素子４０Ｇ及び４０Ｂを備えている。
【００６０】
このような構成であっても、ストライプ状のサブ画素列においては、有効部に液滴を塗布し、また、島状のサブ画素列においては、比較的幅広の部分に液滴を塗布することで、上述した例と同様の効果が得られる。
【００６１】
次に、上述したような構成の表示装置の製造方法について説明する。なお、ここでは、光活性層６４は高分子系材料を用いてインクジェットによる選択塗布法により形成されるものとする。
【００６２】
すなわち、金属膜及び絶縁膜の成膜、パターニングなどの処理を繰り返し、縦４８０画素、横６４０×３（Ｒ、Ｇ、Ｂ）画素の合計９２万画素からなる表示エリア１０２を有した配線基板１２０を用意する。そして、図１３Ａに示すように、配線基板１２０上の表示エリア１０２においてサブ画素毎に第１電極６０を形成する。この第１電極６０の形成方法については、一般的はフォトリソグラフィプロセスで形成しても良いし、第１電極のパターンを有するマスクを介したマスクスパッタ法で形成しても良い。
【００６３】
続いて、図１３Ｂに示すように、表示エリア１０２において第１電極６０を露出する隔壁７０を形成する。すなわち、感光性樹脂材料例えばアクリルタイプのポジティブトーンのレジストを成膜した後に一般的なフォトリソグラフィプロセスなどでパターニングした後に、２２０℃で３０分間の焼成処理を行う。これにより、表示エリア１０２において互いに隣接する異なる色のサブ画素の間を分離する隔壁７０が形成される。
【００６４】
続いて、サブ画素毎に第１電極６０上に対応する色に発光する発光層を含む光活性層６４を形成する。すなわち、図１３Ｃに示すように、塗布装置１３０において、隔壁７０を備えた配線基板１２０を塗布装置１３０のステージ１３１上に載置した後、ヘッド１３２を配線基板１２０に対向配置する。
【００６５】
その後、各ヘッド１３２から対応する色のサブ画素列における有効部に向けて発光層の他にホールバッファ層などを形成するための高分子系材料の液滴を塗布する。この液滴の塗布工程は、移動機構１３３により、各ヘッド１３２を対応する領域の全体にわたって相対的にスキャンしながら行う。このような塗布工程により塗布された液滴は、有効部の全体に広がるだけでなく連結部にも広がり、サブ画素列の全体にわたって略均一な膜厚となる。
【００６６】
このようにして塗布した液滴を乾燥することにより、赤色のサブ画素ＰＸＲの第１電極６０上に光活性層６４Ｒが形成される。同様の塗布方法により緑色のサブ画素ＰＸＧの第１電極６０上に光活性層６４Ｇが形成される。同様の塗布方法により青色のサブ画素ＰＸＢの第１電極６０上に光活性層６４Ｂが形成される。
【００６７】
続いて、図１３Ｄに示すように、表示エリア１０２において各サブ画素の光活性層６４（Ｒ、Ｇ、Ｂ）を覆うように第２電極６６を形成する。この第２電極６６は、先に形成された光活性層６４（Ｒ、Ｇ、Ｂ）が水分の影響によりダメージを受けないようにドライプロセスで形成されることが望ましく、例えば、蒸着法によって形成される。
【００６８】
一方で、アレイ基板１００上の表示エリア１０２を封止するために、封止体の外周に沿って紫外線硬化型のシール材を塗布し、窒素ガスやアルゴンガスなどの不活性ガス雰囲気中において、アレイ基板１００と封止体とを貼り合わせる。これにより、有機ＥＬ素子４０は、不活性ガス雰囲気の密閉空間内に封入される。その後、紫外線を照射して、シール材を硬化させる。
【００６９】
上述した製造方法によれば、良好な表示品位の表示装置が得られた。
【００７０】
なお、この発明は、上記実施形態そのままに限定されるものではなく、その実施の段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１】図１は、この発明の一実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置の構成を概略的に示す図である。
【図２】図２は、図１に示したアレイ基板の表示エリアをＹ方向で切断したときの構造を概略的に示す断面図である。
【図３】図３は、光活性層を形成する際に適用可能な塗布装置の構成を概略的に示す図である。
【図４】図４は、図１に示した有機ＥＬ表示装置の表示エリアを構成するサブ画素列の構造例を示す図である。
【図５】図５は、図１に示した有機ＥＬ表示装置の表示エリアを構成するサブ画素列の他の構造例を示す図である。
【図６】図６は、図１に示した有機ＥＬ表示装置の表示エリアを構成するサブ画素列の他の構造例を示す図である。
【図７】図７は、図１に示した有機ＥＬ表示装置の表示エリアを構成するサブ画素列の他の構造例を示す図である。
【図８】図８は、図１に示した有機ＥＬ表示装置の表示エリアを構成するサブ画素列の他の構造例を示す図である。
【図９】図９は、図１に示した有機ＥＬ表示装置の表示エリアを構成するサブ画素列の他の構造例を示す図である。
【図１０】図１０は、図１に示した有機ＥＬ表示装置の表示エリアを構成するサブ画素列及び島状のサブ画素の配置例を示す図である。
【図１１】図１１は、図１に示した有機ＥＬ表示装置の表示エリアを構成するサブ画素列及び島状のサブ画素の他の配置例を示す図である。
【図１２】図１２は、図１に示した有機ＥＬ表示装置の表示エリアを構成するサブ画素列及び島状のサブ画素の他の配置例を示す図である。
【図１３Ａ】図１３Ａは、有機ＥＬ素子を形成するための製造工程を説明するための図であり、第１電極を形成する工程を示す図である。
【図１３Ｂ】図１３Ｂは、有機ＥＬ素子を形成するための製造工程を説明するための図であり、隔壁を形成する工程を示す図である。
【図１３Ｃ】図１３Ｃは、有機ＥＬ素子を形成するための製造工程を説明するための図であり、光活性層を形成する工程を示す図である。
【図１３Ｄ】図１３Ｄは、有機ＥＬ素子を形成するための製造工程を説明するための図であり、第２電極を形成する工程を示す図である。
【符号の説明】
【００７２】
１…有機ＥＬ表示装置、１０…画素スイッチ、２０…駆動トランジスタ、３０…蓄積容量素子、４０…有機ＥＬ素子、６０…第１電極、６４（Ｒ、Ｇ、Ｂ）…光活性層、６６…第２電極、７０…隔壁、１００…アレイ基板、１０２…表示エリア、１２０…配線基板、ＰＸ…画素、ＰＸ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）…サブ画素
【技術分野】
【０００１】
この発明は、表示装置及び表示装置の製造方法に係り、特に、インクジェット方式などの選択塗布方式により塗布された液滴により光活性層を形成した表示装置、及び、この表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、平面表示装置として、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置が注目されている。この有機ＥＬ表示装置は、自発光性素子であることから、視野角が広く、バックライトを必要とせず薄型化が可能であり、消費電力が抑えられ、且つ応答速度が速いといった特徴を有している。
【０００３】
これらの特徴から、有機ＥＬ表示装置は、液晶表示装置に代わる、次世代平面表示装置の有力候補として注目を集めている。このような有機ＥＬ表示装置は、陽極と陰極との間に発光機能を有する有機化合物を含む光活性層を挟持した有機ＥＬ素子をマトリックス状に配置することにより構成されたアレイ基板を備えている。光活性層は、例えば、高分子系材料を用いてインクジェット法などの選択塗布方式により形成される。
【０００４】
このような選択塗布方式を採用することにより、材料利用効率を向上することができ、製造コストを低下することが可能となる。この選択塗布方式において、特に、カラー表示タイプの有機ＥＬ表示装置を形成する場合、画素毎に対応した発光色の液滴を塗布する必要がある。このため、塗布位置及び液適量を高精度に制御することが要求される。
【０００５】
特許文献１に記載のように、同一発光色の有機ＥＬ素子を一方向に並べて配列した均一幅のストライプ構造を適用した場合、塗布された液滴がストライプの伸びる方向に広がり、膜厚分布の均一化が期待できる。
【特許文献１】特開２００２−２２１９１７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、高精細化しようとした場合、ストライプの幅が狭くなり、塗布位置のずれに対するマージンが小さくなる。このため、塗布された液滴が隣接する画素間を区画する隔壁を乗り越えてしまい、対応する発光色以外の液滴が混入し、混色といった表示不良を生ずるおそれがある。
【０００７】
また、ストライプの幅に合わせて液滴の径を小さくした場合、液適量が少なくなり、しかも、画素のアスペクト比（画素の幅方向の長さに対するストライプの伸びる方向の長さの比）が高くなるため、塗布された液滴が十分に広がらず、画素内での膜厚分布が不均一になるおそれがある。このような不均一な膜厚分布の光活性層は、発光特性の低下を招き、表示不良を生ずるおそれがある。なお、液滴の径を小さくして、液適量を増やすために複数回にわたって同一画素に液滴を塗布するように構成した場合、塗布に要する時間が長くなり、結果的に製造コストの増大を招いてしまう。
【０００８】
この発明は、上述した問題点に鑑みなされたものであって、その目的は、表示品位が良好であって、且つ、高精細化に対応可能な表示装置及びこの表示装置を製造するための製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
この発明の第１の態様による表示装置は、
複数の画素によって構成され、かつ、１画素内に発光色の異なる複数種類の表示素子からなるサブ画素を備えて構成され、
第１表示素子が配列されたストライプ状の第１サブ画素列と、
前記第１表示素子とは発光色が異なる第２表示素子が配列されたストライプ状の第２サブ画素列と、を備え、
前記第１サブ画素列及び前記第２サブ画素列は、それぞれのサブ画素列が延在する方向とは直交する方向の幅が広い有効部と、有効部より狭い幅であって隣接する有効部を連結する連結部と、を有し、
１画素内において、前記第１サブ画素列の有効部と前記第２サブ画素列の連結部とが隣接することを特徴とする。
【００１０】
この発明の第２の態様による表示装置の製造方法は、
複数の画素によって構成され、かつ、１画素内に発光色の異なる複数種類の表示素子からなるサブ画素を備えて構成され、
第１表示素子が配列されたストライプ状の第１サブ画素列と、
前記第１表示素子とは発光色が異なる第２表示素子が配列されたストライプ状の第２サブ画素列と、を備え、
前記第１サブ画素列及び前記第２サブ画素列は、それぞれのサブ画素列が延在する方向とは直交する方向の幅が広い有効部と、有効部より狭い幅であって隣接する有効部を連結する連結部と、を有する表示装置の製造方法であって、
前記第１表示素子及び前記第２表示素子を構成する光活性層を形成するための液滴を、それぞれ前記第１サブ画素列及び前記第２サブ画素列の有効部に塗布することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
この発明によれば、表示品位が良好であって、且つ、高精細化に対応可能な表示装置及びこの表示装置を製造するための製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、この発明の一実施の形態に係る表示装置及びこの表示装置の製造方法について図面を参照して説明する。なお、この実施の形態では、表示装置として、自己発光型表示装置、例えば有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置を例にして説明する。
【００１３】
有機ＥＬ表示装置１は、図１に示すように、画像を表示する表示エリア１０２を有するアレイ基板１００を備えている。表示エリア１０２は、複数の画素ＰＸによって構成されている。
【００１４】
また、アレイ基板１００は、画素ＰＸの略行方向（すなわち図１のＹ方向）に沿って配置された複数の走査線Ｙｍ（ｍ＝１、２、…）と、走査線Ｙｍと直交する略列方向（すなわち図１のＸ方向）に沿って配置された複数の信号線Ｘｎ（ｎ＝１、２、…）と、有機ＥＬ素子４０の第１電極６０側に電源を供給するための電源供給線Ｐと、を備えている。
【００１５】
さらに、アレイ基板１００は、表示エリア１０２の外周に沿った周辺エリア１０４に、走査線Ｙｍのそれぞれに走査信号を供給する走査線駆動回路１０７の少なくとも一部と、信号線Ｘｎのそれぞれに映像信号を供給する信号線駆動回路１０８の少なくとも一部と、を備えている。すべての走査線Ｙｍは、走査線駆動回路１０７に接続されている。また、すべての信号線Ｘｎは、信号線駆動回路１０８に接続されている。
【００１６】
各画素ＰＸは、発光色の異なる複数種類の表示素子からなるサブ画素を備えて構成されている。すなわち、表示素子は、自発光素子である有機ＥＬ素子４０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）によって構成されている。つまり、赤色のサブ画素ＰＸＲは、主に赤色波長に対応した光を出射する有機ＥＬ素子４０Ｒを備えている。緑色のサブ画素ＰＸＧは、主に緑色波長に対応した光を出射する有機ＥＬ素子４０Ｇを備えている。青色のサブ画素ＰＸＢは、主に青色波長に対応した光を出射する有機ＥＬ素子４０Ｂを備えている。このように、各画素ＰＸは、サブ画素ＰＸ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）を備えている。
【００１７】
各サブ画素ＰＸ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）は、それぞれ有機ＥＬ素子４０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）を駆動制御する画素回路を備えている。画素回路は、オン画素とオフ画素とを電気的に分離しかつオン画素への映像信号を保持する機能を有する画素スイッチ１０と、画素スイッチ１０を介して供給される映像信号に基づき有機ＥＬ素子４０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）へ所望の駆動電流を供給する駆動トランジスタ２０と、駆動トランジスタ２０のゲート−ソース間電位を所定期間保持する蓄積容量素子３０とを有している。これら画素スイッチ１０及び駆動トランジスタ２０は、例えば薄膜トランジスタにより構成され、ここでは、半導体層にポリシリコンを用いている。
【００１８】
各種有機ＥＬ素子４０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）は、基本的に同一構成であり、例えば、図２に示すように、サブ画素ＰＸ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）に対応して独立島状に形成された第１電極６０と、第１電極６０に対向して配置され全画素ＰＸに共通に形成された第２電極６６と、これら第１電極６０と第２電極６６との間に保持された光活性層６４と、によって構成されている。
【００１９】
画素スイッチ１０は、ここでは走査線Ｙｍと信号線Ｘｎとの交差部近傍に配置されている。画素スイッチ１０のゲート電極は走査線Ｙｍに接続され、ソース電極は信号線Ｘｎに接続され、ドレイン電極は蓄積容量素子３０を構成する一方の電極及び駆動トランジスタ２０のゲート電極に接続されている。駆動トランジスタ２０のソース電極は蓄積容量素子３０を構成する他方の電極及び電源供給線Ｐに接続され、ドレイン電極は有機ＥＬ素子４０の第１電極６０に接続されている。電源供給線Ｐは、表示エリア１０２の周囲に配置された図示しない第１電極電源線に接続されている。有機ＥＬ素子４０の第２電極６６は、表示エリア１０２の周囲に配置されコモン電位ここでは接地電位を供給する図示しない第２電極電源線に接続されている。
【００２０】
図２に示すように、アレイ基板１００は、配線基板１２０上に配置された複数の有機ＥＬ素子４０を備えている。なお、配線基板１２０は、ガラス基板やプラスチックシートなどの絶縁性支持基板上に、画素スイッチ１０、駆動トランジスタ２０、蓄積容量素子３０、走査線駆動回路１０７、信号線駆動回路１０８、各種配線（走査線、信号線、電源供給線等）などを備えて構成されたものとする。
【００２１】
有機ＥＬ素子４０を構成する第１電極６０は、配線基板１２０表面の絶縁膜（例えば平坦化層）上に配置され、陽極として機能する。
【００２２】
光活性層６４は、少なくとも発光層を含んでいる。この光活性層６４は、発光層以外の層として、例えば、各色共通に形成される正孔輸送層を備え、各サブ画素ＰＸ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）に形成される発光層と積層した２層構造で構成されても良いし、正孔注入層、ブロッキング層、電子輸送層、電子注入層、バッファ層などを含んでも良いし、またこれらを機能的に複合した層を含んでもよい。光活性層６２においては、発光層が有機系材料であればよく、発光層以外の層は無機系材料でも有機系材料でも構わない。発光層は、赤、緑、または青に発光する発光機能を有する有機化合物によって形成される。すなわち、赤色のサブ画素ＰＸＲの有機ＥＬ素子４０Ｒは、主に赤色に発光する光活性層６４Ｒを備えている。緑色のサブ画素ＰＸＧの有機ＥＬ素子４０Ｇは、主に緑色に発光する光活性層６４Ｇを備えている。青色のサブ画素ＰＸＢの有機ＥＬ素子４０Ｂは、主に青色に発光する光活性層６４Ｂを備えている。
【００２３】
第２電極６６は、光活性層６４（Ｒ、Ｇ、Ｂ）上に各有機ＥＬ素子４０に共通に配置される。この第２電極６６は、電子注入機能を有する金属材料によって形成され、陰極として機能している。
【００２４】
ところで、この実施の形態では、表示エリア１０２は、同一色のサブ画素つまり同一種類の有機ＥＬ素子が配列されたストライプ状のサブ画素列を備えている。例えば、図１に示すように、表示エリア１０２は、複数の赤色のサブ画素ＰＸＲが配列された赤色のサブ画素列ＲＬ、複数の緑色のサブ画素ＰＸＧが配列された緑色のサブ画素列ＧＬ、及び、複数の青色のサブ画素ＰＸＢが配列された青色のサブ画素列ＢＬを備えている。これらのサブ画素列は、サブ画素列の延びる方向（図１に示した例ではＸ方向）に直交する方向（図１に示した例ではＹ方向）に並んでいる。また、表示エリア１０２において、赤色のサブ画素列ＲＬは、複数配列されており、例えば２列置きに配列されている。同様に、緑色のサブ画素列ＧＬ及び青色のサブ画素列ＢＬも、それぞれ表示エリア１０２において複数配列されており、例えば２列置きに配列されている。
【００２５】
また、アレイ基板１００は、図２に示すように、表示エリア１０２において、各サブ画素列を区画する隔壁７０を備えている。この隔壁７０は、例えば樹脂材料をパターニングすることによって形成される。
【００２６】
次に、光活性層６４を形成するための液滴を塗布するための塗布装置について説明する。ここでは、インクジェット方式により液滴を選択的に塗布する塗布装置について説明する。例えば、図３に示すように、塗布装置１３０は、処理基板（すなわち第１電極６０を形成済みの配線基板１２０）ＳＵＢが載置されるステージ１３１と、ステージ１３１上方において処理基板ＳＵＢに対向して配置されたヘッド１３２と、ステージ１３１及びヘッド１３２の少なくとも一方を移動させる移動機構１３３と、を備えている。
【００２７】
ヘッド１３２は、処理基板ＳＵＢ上（より厳密にはサブ画素列ＲＬ、ＧＬ、ＢＬ）に向けてそれぞれ液滴を塗布する。このヘッド１３２は、光活性層６４を形成するための液滴を吐出するノズルを備えている。このような構成のヘッド１３２は、例えば各ノズルに対応して配置された圧電素子などを備えて構成されており、この圧電素子に印加する電圧を制御することにより液滴の吐出量や吐出タイミングなどを制御している。
【００２８】
移動機構１３３は、ステージ１３１上に載置された処理基板ＳＵＢとヘッド１３２とが対向した状態で、ヘッド１３２が処理基板ＳＵＢの所定領域に順次液滴を塗布するように相対移動させる機構である。この実施の形態では、移動機構１３３は、ステージ１３１のみを移動させる。すなわち、移動機構１３３は、ステージ１３１の下方において互いにほぼ直交するように配置され、Ｘ方向に延在するレール１３３Ｘ及びＹ方向に延在するレール１３３Ｙを備えている。移動機構１３３は、ステージ１３１をレール１３３Ｘに沿ってＸ方向に移動可能であるとともに、レール１３３Ｙに沿ってＹ方向に移動可能である。
【００２９】
このような選択塗布方式により液滴が塗布されるサブ画素列ＲＬ、ＧＬ、ＢＬは、それぞれのサブ画素列が延在する方向とは直交する方向の幅が広い有効部と、有効部より狭い幅であって隣接する有効部を連結する連結部とを有している。しかも、１画素内においては、１つのサブ画素列の有効部と他のサブ画素列の連結部とが互いに隣接すように配置されている。
【００３０】
図４に示した例では、赤色のサブ画素列ＲＬは、有効部ＲＥ及び連結部ＲＣを有している。同様に、緑色のサブ画素列ＧＬは、有効部ＧＥ及び連結部ＧＣを有しており、青色のサブ画素列ＢＬは、有効部ＢＥ及び連結部ＢＣを有している。しかも、図４に示したように、赤色のサブ画素列ＲＬ、緑色のサブ画素列ＧＬ、及び、青色のサブ画素列ＢＬがこの順番で配列されている場合、１画素ＰＸ内において、サブ画素列ＲＬ及びサブ画素列ＢＬのそれぞれの有効部ＲＥ及びＢＥは、サブ画素列ＧＬの連結部ＧＣに隣接している。また、１画素ＰＸ内において、サブ画素列ＧＬの有効部ＧＥは、サブ画素列ＲＬ及びサブ画素列ＢＬのそれぞれの連結部ＲＣ及びＢＣに隣接している。これらのサブ画素列ＲＬ、ＧＬ、ＢＬは、その間に配置された隔壁７０によって区画されている。なお、図４においては、破線で囲まれた部分が１画素ＰＸに相当し、各画素ＰＸにおいて、それぞれ１つの有効部ＲＥ、ＧＥ、ＢＥが配置されている。
【００３１】
また、それぞれの有効部ＲＥ、ＧＥ、ＢＥに対応して、有機ＥＬ素子４０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）がそれぞれ配置されている。すなわち、図４に示した例では、赤色に発光する有機ＥＬ素子４０Ｒは、赤色の有効部ＲＥに対応して配置されている。同様に、緑色に発光する有機ＥＬ素子４０Ｇは、緑色の有効部ＧＥに対応して配置され、青色に発光する有機ＥＬ素子４０Ｂは、青色の有効部ＢＥに対応して配置されている。なお、図４においては、有機ＥＬ素子４０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）を構成する第１電極６０のみを図示しており、各有効部に対応して１つの有機ＥＬ素子が配置されている。
【００３２】
このような構成によれば、サブ画素列における比較的幅広な有効部に液滴を塗布することが可能となる。このため、塗布位置のずれに対するマージンを拡大することが可能となり、互いに発光色の異なる隣接するサブ画素列間での混色といった表示不良の発生を防止することができる。
【００３３】
また、液滴の径は、有効部の寸法に対応する程度に制御すれば良い。このため、高精細化に伴って極端に液適量を少なくする必要はなく、少なくとも有効部において全体的に液滴が広がる程度の液適量で液滴を塗布することにより、有効部に配置された有機ＥＬ素子４０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）の光活性層６４を均一な膜厚分布で形成することが可能となる。
【００３４】
つまり、このような構成のサブ画素列からなる表示エリアを備えた表示装置によれば、表示品位の低下を招くことなく高精細化に対応可能となる。
【００３５】
また、図４に示した例においては、各サブ画素列の有効部は、略六角形に形成されている。つまり、１画素ＰＸ内に配置された赤色の有効部ＲＥ、緑色の有効部ＧＥ、及び、青色の有効部ＢＥは、全て略六角形状である。このため、１画素ＰＸ内に無駄なスペースを形成することなく各サブ画素列の有効部を高密度配置することが可能となり、開口率を向上することが可能となる。また、略六角形状の有効部は、塗布される液滴の着弾時の形状（真円あるいは楕円形状）に近い形状であるため、液滴の塗布位置のずれに対するマージンがサブ画素列の延在する方向のみならずサブ画素列の幅方向にも拡大する。また、このような形状の有効部によれば、液滴を塗布した際、液滴が有効部内に広がりやすく、膜厚分布の均一化に有効である。
【００３６】
また、図４に示した例においては、隣接するサブ画素列の有効部が互いに半画素分ずれて配置されている。このため、液滴を塗布する際、隣接する有効部に塗布される液滴との距離が広がり、混色の発生を抑制することが可能となる。
【００３７】
なお、各サブ画素列における有効部の形状は、図４に示した例に限定されず、種々変更可能である。例えば、図５に示した例では、各色のサブ画素列ＲＬ、ＧＬ、ＢＬは、それぞれ略四角形の有効部ＲＥ、ＧＥ、ＢＥを有している。各色のサブ画素列ＲＬ、ＧＬ、ＢＬにおいて、隣接する同一色の有効部はそれぞれ連結部ＲＣ、ＧＣ、ＢＣによって連結されている。しかも、図５に示したように、赤色のサブ画素列ＲＬ、緑色のサブ画素列ＧＬ、及び、青色のサブ画素列ＢＬがこの順番で配列されている場合、１画素ＰＸ内において、サブ画素列ＲＬ及びサブ画素列ＢＬのそれぞれの有効部ＲＥ及びＢＥは、サブ画素列ＧＬの連結部ＧＣに隣接している。また、１画素ＰＸ内において、サブ画素列ＧＬの有効部ＧＥは、サブ画素列ＲＬ及びサブ画素列ＢＬのそれぞれの連結部ＲＣ及びＢＣに隣接している。これらのサブ画素列ＲＬ、ＧＬ、ＢＬは、その間に配置された隔壁７０によって区画されている。
【００３８】
また、それぞれの有効部ＲＥ、ＧＥ、ＢＥに対応して、１つの有機ＥＬ素子４０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）がそれぞれ配置されている。
【００３９】
このような構成であっても、図４に示した例と同様の効果が得られる。
【００４０】
なお、各有効部に配置される有機ＥＬ素子の数は１つに限らない。例えば、図６に示した例では、各色のサブ画素列ＲＬ、ＧＬ、ＢＬは、それぞれ略四角形の有効部ＲＥ、ＧＥ、ＢＥを有している。各色のサブ画素列ＲＬ、ＧＬ、ＢＬにおいて、隣接する同一色の有効部はそれぞれ連結部ＲＣ、ＧＣ、ＢＣによって連結されている。しかも、図６に示したように、赤色のサブ画素列ＲＬ、緑色のサブ画素列ＧＬ、及び、青色のサブ画素列ＢＬがこの順番で配列されている場合、１画素ＰＸ内において、サブ画素列ＲＬ及びサブ画素列ＢＬのそれぞれの有効部ＲＥ及びＢＥは、サブ画素列ＧＬの連結部ＧＣに隣接している。また、１画素ＰＸ内において、サブ画素列ＧＬの有効部ＧＥは、サブ画素列ＲＬ及びサブ画素列ＢＬのそれぞれの連結部ＲＣ及びＢＣに隣接している。これらのサブ画素列ＲＬ、ＧＬ、ＢＬは、その間に配置された隔壁７０によって区画されている。なお、図６においても、破線で囲まれた部分が１画素ＰＸに相当し、各画素ＰＸにおいて、それぞれ１つの有効部ＲＥ、ＧＥ、ＢＥが配置されている。１画素ＰＸ内には、それぞれ１つずつの有機ＥＬ素子４０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）が配置されている。
【００４１】
特に、図６に示した例では、各サブ画素列ＲＬ、ＧＬ、ＢＬにおけるそれぞれの有効部ＲＥ、ＧＥ、ＢＥは、複数の有機ＥＬ素子４０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）を備えている。すなわち、各有効部ＲＥ、ＧＥ、ＢＥは、複数の画素ＰＸに跨って配置されている。例えば、サブ画素列ＲＬ１及びＢＬ１のそれぞれの有効部ＲＥ及びＢＥは、４つの画素ＰＸに跨るように配置されている。有効部ＲＥは、それぞれの画素ＰＸに配置された４つの有機ＥＬ素子４０Ｒを備えている。また、有効部ＢＥは、それぞれの画素ＰＸに配置された４つの有機ＥＬ素子４０Ｂを備えている。また、サブ画素列ＧＬ１の有効部ＧＥは、サブ画素列Ｇ１が延在する方向に並んだ２つの画素ＰＸに跨るように配置されている。有効部ＧＥは、それぞれの画素ＰＸに配置された２つの有機ＥＬ素子４０Ｇを備えている。同様にして、サブ画素列ＲＬ２及びＢＬ２のそれぞれの有効部ＲＥ及びＢＥは、２つの画素ＰＸに跨るように配置され、サブ画素列ＧＬ２の有効部ＧＥは、４つの画素ＰＸに跨るように配置されている。
【００４２】
このような構成であっても、図４に示した例と同様の効果が得られる。さらに、隣接する画素ＰＸについて、有機ＥＬ素子を対称に配置可能とするように有効部を形成することにより、液滴の塗布位置のずれに対するマージンをさらに拡大することが可能となる。
【００４３】
また、図７に示した例では、各色のサブ画素列ＲＬ、ＧＬ、ＢＬは、それぞれ略六角形の有効部ＲＥ、ＧＥ、ＢＥを有している。特に、図７に示した例のサブ画素列ＲＬ、ＧＬ、ＢＬでは、有効部が連続して繋がっており、それぞれの幅の狭い部分が連結部ＲＣ、ＧＣ、ＢＣに相当する。図７に示したように、赤色のサブ画素列ＲＬ、緑色のサブ画素列ＧＬ、及び、青色のサブ画素列ＢＬがこの順番で配列されている場合、１画素ＰＸ内において、サブ画素列ＲＬ及びサブ画素列ＢＬのそれぞれの有効部ＲＥ及びＢＥは、サブ画素列ＧＬの連結部ＧＣに隣接している。また、１画素ＰＸ内において、サブ画素列ＧＬの有効部ＧＥは、サブ画素列ＲＬ及びサブ画素列ＢＬのそれぞれの連結部ＲＣ及びＢＣに隣接している。これらのサブ画素列ＲＬ、ＧＬ、ＢＬは、その間に配置された隔壁７０によって区画されている。
【００４４】
図７に示した例において、サブ画素列ＧＬ１、ＲＬ２、ＢＬ２におけるそれぞれの有効部ＧＥ、ＲＥ、ＢＥは、対応する色の１つの有機ＥＬ素子を備えている。また、サブ画素列ＲＬ１、ＢＬ１、ＧＬ２におけるそれぞれの有効部ＲＥ、ＢＥ、ＧＥは、複数の画素ＰＸに跨って配置されている。例えば、サブ画素列ＲＬ１、ＢＬ１、ＧＬ２のそれぞれの有効部ＲＥ、ＢＥ、ＧＥは、４つの画素ＰＸに跨るように配置されている。有効部ＲＥは、それぞれの画素ＰＸに配置された４つの有機ＥＬ素子４０Ｒを備えている。同様に、有効部ＢＥは、それぞれの画素ＰＸに配置された４つの有機ＥＬ素子４０Ｂを備え、有効部ＧＥは、それぞれの画素ＰＸに配置された４つの有機ＥＬ素子４０Ｇを備えている。
【００４５】
このような構成であっても、図６に示した例と同様の効果が得られる。
【００４６】
なお、各サブ画素列が延在する方向は、画素ＰＸの配列方向と平行でなくても良い。例えば、図８に示した例では、各色のサブ画素列ＲＬ、ＧＬ、ＢＬは、それぞれ略六角形の有効部ＲＥ、ＧＥ、ＢＥを有している。特に、図８に示した例のサブ画素列ＲＬ、ＧＬ、ＢＬでは、有効部が連続して繋がっており、それぞれの幅の狭い部分が連結部ＲＣ、ＧＣ、ＢＣに相当する。これらの各サブ画素列ＲＬ、ＧＬ、ＢＬは、画素ＰＸの配列方向に対して斜め方向に延在している。
【００４７】
図８に示したように、赤色のサブ画素列ＲＬ、緑色のサブ画素列ＧＬ、及び、青色のサブ画素列ＢＬがこの順番で配列されている場合、１画素ＰＸ内において、サブ画素列ＲＬ及びサブ画素列ＢＬのそれぞれの有効部ＲＥ及びＢＥは、サブ画素列ＧＬの連結部ＧＣに隣接している。また、１画素ＰＸ内において、サブ画素列ＧＬの有効部ＧＥは、サブ画素列ＲＬ及びサブ画素列ＢＬのそれぞれの連結部ＲＣ及びＢＣに隣接している。これらのサブ画素列ＲＬ、ＧＬ、ＢＬは、その間に配置された隔壁７０によって区画されている。
【００４８】
図８に示した例において、各サブ画素列ＲＬ、ＢＬ、ＧＬにおけるそれぞれの有効部ＲＥ、ＢＥ、ＧＥは、複数の画素ＰＸに跨って配置されている。例えば、サブ画素列ＲＬ、ＢＬ、ＧＬのそれぞれの有効部ＲＥ、ＢＥ、ＧＥは、４つの画素ＰＸに跨るように配置されている。有効部ＲＥは、それぞれの画素ＰＸに配置された４つの有機ＥＬ素子４０Ｒを備えている。同様に、有効部ＢＥは、それぞれの画素ＰＸに配置された４つの有機ＥＬ素子４０Ｂを備え、有効部ＧＥは、それぞれの画素ＰＸに配置された４つの有機ＥＬ素子４０Ｇを備えている。
【００４９】
このような構成であっても、図６に示した例と同様の効果が得られる。
【００５０】
図９に示した例では、各色のサブ画素列ＲＬ、ＧＬ、ＢＬは、それぞれ略六角形の有効部ＲＥ、ＧＥ、ＢＥを有している。各色のサブ画素列ＲＬ、ＧＬ、ＢＬにおいて、隣接する同一色の有効部はそれぞれ連結部ＲＣ、ＧＣ、ＢＣによって連結されている。しかも、図９に示したように、赤色のサブ画素列ＲＬ、緑色のサブ画素列ＧＬ、及び、青色のサブ画素列ＢＬがこの順番で配列されている場合、１画素ＰＸ内において、サブ画素列ＲＬ及びサブ画素列ＢＬのそれぞれの有効部ＲＥ及びＢＥは、サブ画素列ＧＬの連結部ＧＣに隣接している。また、１画素ＰＸ内において、サブ画素列ＧＬの有効部ＧＥは、サブ画素列ＲＬ及びサブ画素列ＢＬのそれぞれの連結部ＲＣ及びＢＣに隣接している。これらのサブ画素列ＲＬ、ＧＬ、ＢＬは、その間に配置された隔壁７０によって区画されている。
【００５１】
また、サブ画素列ＲＬ及びＢＬにおけるそれぞれの有効部ＲＥ及びＢＥは、サブ画素列が延在する方向に並んだ２つの画素ＰＸに跨るように配置されている。有効部ＲＥは、それぞれの画素ＰＸに配置された略五角形状の２つの有機ＥＬ素子４０Ｒを備えている。有効部ＢＥは、それぞれの画素ＰＸに配置された略五角形の２つの有機ＥＬ素子４０Ｂを備えている。サブ画素列ＧＬにおける有効部ＧＥは、各画素ＰＸに対応して１つずつ配置されている。有効部ＧＥは、画素ＰＸに配置された略六角形の１つの有機ＥＬ素子４０Ｇを備えている。
【００５２】
この図９に示した例では、図の上下に隣接した画素ＰＸに着目すると、これらの画素ＰＸ間において、各画素ＰＸを構成するサブ画素の配置位置は、これらの画素ＰＸの境界線ＢＤＬに対して対称である。つまり、上下に隣接する画素ＰＸについて、赤色のサブ画素を構成する有機ＥＬ素子４０Ｒ、緑色のサブ画素を構成する有機ＥＬ素子４０Ｇ、及び、青色のサブ画素を構成する有機ＥＬ素子４０Ｂは、境界線ＢＤＬに対して線対称な位置に配置されている。
【００５３】
このような構成であっても、図４に示した例と同様の効果が得られる。
【００５４】
なお、図４乃至図９に示した例のように、赤色のサブ画素ＰＸＲを備えたサブ画素列ＲＬ、緑色のサブ画素ＰＸＧを備えたサブ画素列ＧＬ、及び、青色のサブ画素ＰＸＢを備えたサブ画素列ＲＢがすべてストライプ状に伸びた構造でなくても良い。例えば、図１０乃至図１２に示すように、少なくとも１つのサブ画素列（ここでは赤色に対応したサブ画素列ＲＬ）がストライプ状に伸びた構造であり、しかも、有効部ＲＥ及び連結部ＲＣを有する構造であっても良い。ここでは、有効部ＲＥは、略五角形であって連続して繋がっている。このサブ画素列ＲＬにおいて、幅の狭い部分が連結部ＲＣに相当する。有効部ＲＥは、それぞれの画素ＰＸに対応して配置され、各画素ＰＸにおいて１つの有機ＥＬ素子４０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）を備えている。
【００５５】
また、他の色のサブ画素、すなわち緑色サブ画素ＰＸＧ及び青色サブ画素ＰＸＢは島状に構成されている。図１０及び図１１に示した例では、緑色サブ画素ＰＸＧ及び青色サブ画素ＰＸＢのそれぞれは、１つの島状パターンが隣接する２つの画素に跨って配置されている。
【００５６】
図１０に示した例では、緑色サブ画素ＰＸＧの島状パターンは、一方の画素ＰＸに配置された三角形の有機ＥＬ素子４０Ｇ及び他方の画素ＰＸに配置された四角形の有機ＥＬ素子４０Ｇを備えている。同様に、青色サブ画素ＰＸＢの島状パターンは、三角形の有機ＥＬ素子４０Ｂ及び四角形の有機ＥＬ素子４０Ｂを備えている。
【００５７】
図１１に示した例では、緑色サブ画素ＰＸＧの島状パターンは、それぞれの画素ＰＸに配置された四角形の有機ＥＬ素子４０Ｇを備えている。同様に、青色サブ画素ＰＸＢの島状パターンは、四角形の有機ＥＬ素子４０Ｂを備えている。
【００５８】
この図１１に示した例では、図の上下に隣接した画素ＰＸに着目すると、これらの画素ＰＸ間において、各画素ＰＸを構成するサブ画素の配置位置は、これらの画素ＰＸの境界線ＢＤＬに対して対称である。つまり、上下に隣接する画素ＰＸについて、赤色のサブ画素ＰＸＲを構成する有機ＥＬ素子４０Ｒ、緑色のサブ画素ＰＸＧを構成する有機ＥＬ素子４０Ｇ、及び、青色のサブ画素ＰＸＢを構成する有機ＥＬ素子４０Ｂは、境界線ＢＤＬに対して線対称な位置に配置されている。
【００５９】
図１２に示した例では、各画素ＰＸにおいて、島状の緑色サブ画素ＰＸＧ及び青色サブ画素ＰＸＢは、各画素に対応して配置され、それぞれ１つの有機ＥＬ素子４０Ｇ及び４０Ｂを備えている。
【００６０】
このような構成であっても、ストライプ状のサブ画素列においては、有効部に液滴を塗布し、また、島状のサブ画素列においては、比較的幅広の部分に液滴を塗布することで、上述した例と同様の効果が得られる。
【００６１】
次に、上述したような構成の表示装置の製造方法について説明する。なお、ここでは、光活性層６４は高分子系材料を用いてインクジェットによる選択塗布法により形成されるものとする。
【００６２】
すなわち、金属膜及び絶縁膜の成膜、パターニングなどの処理を繰り返し、縦４８０画素、横６４０×３（Ｒ、Ｇ、Ｂ）画素の合計９２万画素からなる表示エリア１０２を有した配線基板１２０を用意する。そして、図１３Ａに示すように、配線基板１２０上の表示エリア１０２においてサブ画素毎に第１電極６０を形成する。この第１電極６０の形成方法については、一般的はフォトリソグラフィプロセスで形成しても良いし、第１電極のパターンを有するマスクを介したマスクスパッタ法で形成しても良い。
【００６３】
続いて、図１３Ｂに示すように、表示エリア１０２において第１電極６０を露出する隔壁７０を形成する。すなわち、感光性樹脂材料例えばアクリルタイプのポジティブトーンのレジストを成膜した後に一般的なフォトリソグラフィプロセスなどでパターニングした後に、２２０℃で３０分間の焼成処理を行う。これにより、表示エリア１０２において互いに隣接する異なる色のサブ画素の間を分離する隔壁７０が形成される。
【００６４】
続いて、サブ画素毎に第１電極６０上に対応する色に発光する発光層を含む光活性層６４を形成する。すなわち、図１３Ｃに示すように、塗布装置１３０において、隔壁７０を備えた配線基板１２０を塗布装置１３０のステージ１３１上に載置した後、ヘッド１３２を配線基板１２０に対向配置する。
【００６５】
その後、各ヘッド１３２から対応する色のサブ画素列における有効部に向けて発光層の他にホールバッファ層などを形成するための高分子系材料の液滴を塗布する。この液滴の塗布工程は、移動機構１３３により、各ヘッド１３２を対応する領域の全体にわたって相対的にスキャンしながら行う。このような塗布工程により塗布された液滴は、有効部の全体に広がるだけでなく連結部にも広がり、サブ画素列の全体にわたって略均一な膜厚となる。
【００６６】
このようにして塗布した液滴を乾燥することにより、赤色のサブ画素ＰＸＲの第１電極６０上に光活性層６４Ｒが形成される。同様の塗布方法により緑色のサブ画素ＰＸＧの第１電極６０上に光活性層６４Ｇが形成される。同様の塗布方法により青色のサブ画素ＰＸＢの第１電極６０上に光活性層６４Ｂが形成される。
【００６７】
続いて、図１３Ｄに示すように、表示エリア１０２において各サブ画素の光活性層６４（Ｒ、Ｇ、Ｂ）を覆うように第２電極６６を形成する。この第２電極６６は、先に形成された光活性層６４（Ｒ、Ｇ、Ｂ）が水分の影響によりダメージを受けないようにドライプロセスで形成されることが望ましく、例えば、蒸着法によって形成される。
【００６８】
一方で、アレイ基板１００上の表示エリア１０２を封止するために、封止体の外周に沿って紫外線硬化型のシール材を塗布し、窒素ガスやアルゴンガスなどの不活性ガス雰囲気中において、アレイ基板１００と封止体とを貼り合わせる。これにより、有機ＥＬ素子４０は、不活性ガス雰囲気の密閉空間内に封入される。その後、紫外線を照射して、シール材を硬化させる。
【００６９】
上述した製造方法によれば、良好な表示品位の表示装置が得られた。
【００７０】
なお、この発明は、上記実施形態そのままに限定されるものではなく、その実施の段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１】図１は、この発明の一実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置の構成を概略的に示す図である。
【図２】図２は、図１に示したアレイ基板の表示エリアをＹ方向で切断したときの構造を概略的に示す断面図である。
【図３】図３は、光活性層を形成する際に適用可能な塗布装置の構成を概略的に示す図である。
【図４】図４は、図１に示した有機ＥＬ表示装置の表示エリアを構成するサブ画素列の構造例を示す図である。
【図５】図５は、図１に示した有機ＥＬ表示装置の表示エリアを構成するサブ画素列の他の構造例を示す図である。
【図６】図６は、図１に示した有機ＥＬ表示装置の表示エリアを構成するサブ画素列の他の構造例を示す図である。
【図７】図７は、図１に示した有機ＥＬ表示装置の表示エリアを構成するサブ画素列の他の構造例を示す図である。
【図８】図８は、図１に示した有機ＥＬ表示装置の表示エリアを構成するサブ画素列の他の構造例を示す図である。
【図９】図９は、図１に示した有機ＥＬ表示装置の表示エリアを構成するサブ画素列の他の構造例を示す図である。
【図１０】図１０は、図１に示した有機ＥＬ表示装置の表示エリアを構成するサブ画素列及び島状のサブ画素の配置例を示す図である。
【図１１】図１１は、図１に示した有機ＥＬ表示装置の表示エリアを構成するサブ画素列及び島状のサブ画素の他の配置例を示す図である。
【図１２】図１２は、図１に示した有機ＥＬ表示装置の表示エリアを構成するサブ画素列及び島状のサブ画素の他の配置例を示す図である。
【図１３Ａ】図１３Ａは、有機ＥＬ素子を形成するための製造工程を説明するための図であり、第１電極を形成する工程を示す図である。
【図１３Ｂ】図１３Ｂは、有機ＥＬ素子を形成するための製造工程を説明するための図であり、隔壁を形成する工程を示す図である。
【図１３Ｃ】図１３Ｃは、有機ＥＬ素子を形成するための製造工程を説明するための図であり、光活性層を形成する工程を示す図である。
【図１３Ｄ】図１３Ｄは、有機ＥＬ素子を形成するための製造工程を説明するための図であり、第２電極を形成する工程を示す図である。
【符号の説明】
【００７２】
１…有機ＥＬ表示装置、１０…画素スイッチ、２０…駆動トランジスタ、３０…蓄積容量素子、４０…有機ＥＬ素子、６０…第１電極、６４（Ｒ、Ｇ、Ｂ）…光活性層、６６…第２電極、７０…隔壁、１００…アレイ基板、１０２…表示エリア、１２０…配線基板、ＰＸ…画素、ＰＸ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）…サブ画素
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素によって構成され、かつ、１画素内に発光色の異なる複数種類の表示素子からなるサブ画素を備えて構成され、
第１表示素子が配列されたストライプ状の第１サブ画素列と、
前記第１表示素子とは発光色が異なる第２表示素子が配列されたストライプ状の第２サブ画素列と、を備え、
前記第１サブ画素列及び前記第２サブ画素列は、それぞれのサブ画素列が延在する方向とは直交する方向の幅が広い有効部と、有効部より狭い幅であって隣接する有効部を連結する連結部と、を有し、
１画素内において、前記第１サブ画素列の有効部と前記第２サブ画素列の連結部とが隣接することを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記第１表示素子は、前記第１サブ画素列の前記有効部に対応して配置されたことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記第１サブ画素列の前記有効部は、複数の前記第１表示素子を備えたことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項４】
前記第１サブ画素列の前記有効部は、複数の画素に跨って配置され、画素毎に配置された前記第１表示素子を備えたことを特徴とする請求項３に記載の表示装置。
【請求項５】
前記第１サブ画素列の前記有効部は、略四角形または略六角形であることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項６】
１画素内において、前記第１表示素子からなるサブ画素の形状は、前記第２表示素子からなるサブ画素の形状とは異なることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項７】
隣接する画素間において、前記第１表示素子からなるサブ画素の形状が異なることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項８】
前記第１表示素子は、各サブ画素に対応して独立島状に配置された第１電極と、
前記第１電極上において前記第１サブ画素列の全体にわたって配置された光活性層と、
前記光活性層を覆うように配置された第２電極と、を備えて構成されたことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項９】
さらに、前記第１サブ画素列と前記第２サブ画素列とを区画する隔壁を備えたことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項１０】
複数の画素によって構成され、かつ、１画素内に発光色の異なる複数種類の表示素子からなるサブ画素を備えて構成され、
隣接する画素間において、各画素を構成するサブ画素の配置位置は、これらの画素の境界線に対して対称であることを特徴とする表示装置。
【請求項１１】
複数の画素によって構成され、かつ、１画素内に発光色の異なる複数種類の表示素子からなるサブ画素を備えて構成され、
第１表示素子が配列されたストライプ状の第１サブ画素列と、
前記第１表示素子とは発光色が異なる第２表示素子が配列されたストライプ状の第２サブ画素列と、を備え、
前記第１サブ画素列及び前記第２サブ画素列は、それぞれのサブ画素列が延在する方向とは直交する方向の幅が広い有効部と、有効部より狭い幅であって隣接する有効部を連結する連結部と、を有する表示装置の製造方法であって、
前記第１表示素子及び前記第２表示素子を構成する光活性層を形成するための液滴を、それぞれ前記第１サブ画素列及び前記第２サブ画素列の有効部に塗布することを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項１２】
前記第１表示素子を構成する光活性層を形成するための液滴を前記第１サブ画素列の有効部に塗布した後に、前記第２表示素子を構成する光活性層を形成するための液滴を前記第２サブ画素列の有効部に塗布するまで０．５秒以上の間隔をあけることを特徴とする請求項１１に記載の表示装置の製造方法。
【請求項１】
複数の画素によって構成され、かつ、１画素内に発光色の異なる複数種類の表示素子からなるサブ画素を備えて構成され、
第１表示素子が配列されたストライプ状の第１サブ画素列と、
前記第１表示素子とは発光色が異なる第２表示素子が配列されたストライプ状の第２サブ画素列と、を備え、
前記第１サブ画素列及び前記第２サブ画素列は、それぞれのサブ画素列が延在する方向とは直交する方向の幅が広い有効部と、有効部より狭い幅であって隣接する有効部を連結する連結部と、を有し、
１画素内において、前記第１サブ画素列の有効部と前記第２サブ画素列の連結部とが隣接することを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記第１表示素子は、前記第１サブ画素列の前記有効部に対応して配置されたことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記第１サブ画素列の前記有効部は、複数の前記第１表示素子を備えたことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項４】
前記第１サブ画素列の前記有効部は、複数の画素に跨って配置され、画素毎に配置された前記第１表示素子を備えたことを特徴とする請求項３に記載の表示装置。
【請求項５】
前記第１サブ画素列の前記有効部は、略四角形または略六角形であることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項６】
１画素内において、前記第１表示素子からなるサブ画素の形状は、前記第２表示素子からなるサブ画素の形状とは異なることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項７】
隣接する画素間において、前記第１表示素子からなるサブ画素の形状が異なることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項８】
前記第１表示素子は、各サブ画素に対応して独立島状に配置された第１電極と、
前記第１電極上において前記第１サブ画素列の全体にわたって配置された光活性層と、
前記光活性層を覆うように配置された第２電極と、を備えて構成されたことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項９】
さらに、前記第１サブ画素列と前記第２サブ画素列とを区画する隔壁を備えたことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項１０】
複数の画素によって構成され、かつ、１画素内に発光色の異なる複数種類の表示素子からなるサブ画素を備えて構成され、
隣接する画素間において、各画素を構成するサブ画素の配置位置は、これらの画素の境界線に対して対称であることを特徴とする表示装置。
【請求項１１】
複数の画素によって構成され、かつ、１画素内に発光色の異なる複数種類の表示素子からなるサブ画素を備えて構成され、
第１表示素子が配列されたストライプ状の第１サブ画素列と、
前記第１表示素子とは発光色が異なる第２表示素子が配列されたストライプ状の第２サブ画素列と、を備え、
前記第１サブ画素列及び前記第２サブ画素列は、それぞれのサブ画素列が延在する方向とは直交する方向の幅が広い有効部と、有効部より狭い幅であって隣接する有効部を連結する連結部と、を有する表示装置の製造方法であって、
前記第１表示素子及び前記第２表示素子を構成する光活性層を形成するための液滴を、それぞれ前記第１サブ画素列及び前記第２サブ画素列の有効部に塗布することを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項１２】
前記第１表示素子を構成する光活性層を形成するための液滴を前記第１サブ画素列の有効部に塗布した後に、前記第２表示素子を構成する光活性層を形成するための液滴を前記第２サブ画素列の有効部に塗布するまで０．５秒以上の間隔をあけることを特徴とする請求項１１に記載の表示装置の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３Ａ】
【図１３Ｂ】
【図１３Ｃ】
【図１３Ｄ】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３Ａ】
【図１３Ｂ】
【図１３Ｃ】
【図１３Ｄ】
【公開番号】特開２００７−１１５５２９（Ｐ２００７−１１５５２９Ａ）
【公開日】平成１９年５月１０日（２００７．５．１０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−３０５６９２（Ｐ２００５−３０５６９２）
【出願日】平成１７年１０月２０日（２００５．１０．２０）
【出願人】（３０２０２０２０７）東芝松下ディスプレイテクノロジー株式会社 (2,170)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年５月１０日（２００７．５．１０）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年１０月２０日（２００５．１０．２０）
【出願人】（３０２０２０２０７）東芝松下ディスプレイテクノロジー株式会社 (2,170)
【Ｆターム（参考）】
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