記録媒体用ガラス基板、記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体及び情報記録装置
【課題】 化学強化等の強化処理を行うことなく、垂直磁気記録方式に対応した機械的強度と化学的安定性のある記録媒体用ガラス基板を提供する。
【解決手段】 ガラス基板の外表面に、金属層、金属酸化物層若しくは金属含有有機物層を形成した後、高硬度ガラス層を形成することにより、記録媒体用ガラス基板の機械的強度と化学的安定性を向上させる。
【解決手段】 ガラス基板の外表面に、金属層、金属酸化物層若しくは金属含有有機物層を形成した後、高硬度ガラス層を形成することにより、記録媒体用ガラス基板の機械的強度と化学的安定性を向上させる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス基板、ガラス基板の製造方法、情報記録媒体及び情報記録装置に関し、より詳細には、垂直磁気記録方式に適した記録媒体用ガラス基板、記録媒体用ガラス基板の製造方法、該記録媒体用ガラス基板を用いた情報記録媒体及び情報記録装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、磁気ディスク用基板としては、デスクトップ用コンピュータやサーバなどの据え置き型にはアルミニウム合金基板が、他方ノート型コンピュータやモバイル型コンピュータなどの携帯型にはガラス基板が一般に使用されていたが、アルミニウム合金は変形しやすく、また硬さが不十分であるため研磨後の基板表面の平滑性が十分とは言えなかった。さらに、ヘッドが機械的に磁気ディスクに接触する際、磁性膜が基板から剥離しやすいという問題もあった。そこで、変形が少なく、平滑性が良好で、かつ機械的強度の大きいガラス基板が携帯型のみならず据え置き型の機器やその他の家庭用情報機器にも今後広く使用されていくものと予測されている。
【０００３】
一方、磁気ディスクの記録密度の向上と記録の安定性向上のために、従来の水平磁気記録方式に替わる方式として、垂直磁気記録方式が開発されている（例えば、特許文献１参照）。垂直磁気記録方式が実用化されると、従来よりも小型の磁気ディスクで大容量のディスクが実現できるため、半導体メモリに対抗するものとして、従来の１．８インチ型や１インチ型よりもさらに小型の０．８５インチ型の超小型磁気ディスクが計画されており、従来磁気ディスクが使用されていなかった携帯電話等へも磁気ディスクが搭載されていくことが期待されている。この実現のためには、より小型で高性能なガラス基板が不可欠となっている。
【０００４】
ガラス基板としては、基板表面のアルカリ元素を他のアルカリ元素と置換することにより圧縮歪みを発生させ、機械的強度を向上させた化学強化ガラスが知られている（例えば、特許文献２参照）。しかし化学強化ガラスは煩雑なイオン交換工程が必要であり、またイオン交換後の再加工が不可能であるため製造歩留まりを上げることが難しかった。また、ガラス基板にイオン交換性を持たせるために、アルカリイオンの基板中での移動が容易になるようにしていたので、基板表面のアルカリイオンが、磁性膜を成膜する際の加熱工程時に表面に移動して溶出したり、あるいは磁性膜を侵食したり、磁性膜の付着強度を劣化させるといった化学的信頼性の低下という問題があった。
【０００５】
一方、化学強化処理を行わない一般的なガラス基板としてはソーダライム基板があるが、ソーダライム基板を情報記録用基板として用いるには機械的強度、化学的耐久性が不十分であった。
【０００６】
さらには、ガラス基板を情報記録用として用いる場合に、情報記録用膜をガラス基板上に成膜する際、表面に加わえられる圧力や加熱、衝撃によりガラス基板にクラックが入り、製品の歩留まりが低下することがあった。また、ガラス基板の磁気ディスク装置への組み込み時の圧力や衝撃による傷やクラックでの歩留まり低下も問題であった。この問題は、磁気ディスクが小型化すればするほど、歩留まり向上ひいてはコストダウン上の大きな課題となってきており、ガラス基板の機械的強度向上が小型磁気ディスクの実現のキーポイントと言っても過言ではない課題である。
【特許文献１】特開平６−７６２０２号公報
【特許文献２】特開平５−３２４３１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、複雑な処理を行うことなく機械的強度の向上と化学的信頼性の向上を両立させることができ、小型の垂直磁気記録方式の磁気ディスクに適した情報記録媒体用ガラス基板を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の目的は、下記構成により達成することができる。
【０００９】
（請求項１）
ガラス基板の外表面に、前記ガラス基板に比べて硬度の高い高硬度ガラス層を有することを特徴とする記録媒体用ガラス基板。
【００１０】
（請求項２）
前記ガラス基板の外表面に、金属、金属酸化物若しくは金属含有有機化合物の少なくとも１つを含有する金属含有層を有することを特徴とする請求項１に記載の記録媒体用ガラス基板。
【００１１】
（請求項３）
前記記録媒体用ガラス基板は、強化処理を行っていないものであることを特徴とする請求項１または２に記載の記録媒体用ガラス基板。
【００１２】
（請求項４）
ガラス基板の外表面に、前記ガラス基板に比べて硬度の高い高硬度ガラス層を形成する高硬度ガラス層形成工程を有することを特徴とする記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【００１３】
（請求項５）
前記ガラス基板の外表面に、金属、金属酸化物若しくは金属含有有機化合物の少なくとも１つを含有する金属含有層を形成する工程を有することを特徴とする請求項４に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【００１４】
（請求項６）
前記金属含有層は、メッキ処理により形成されることを特徴とする請求項５に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【００１５】
（請求項７）
前記金属含有層は、気相成長法により形成されることを特徴とする請求項５に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【００１６】
（請求項８）
前記金属含有層は、塗布処理により形成されることを特徴とする請求項５に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【００１７】
（請求項９）
前記高硬度ガラス層形成工程は、前記ガラス基板の成分と前記金属含有層の成分とを相互に拡散させることにより前記高硬度ガラス層を形成することを特徴とする請求項５に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【００１８】
（請求項１０）
請求項１または２に記載の記録媒体用ガラス基板の主表面上に記録層を有することを特徴とする垂直磁気記録方式向け情報記録媒体。
【００１９】
（請求項１１）
請求項１０に記載の情報記録媒体を有することを特徴とする情報記録装置。
【発明の効果】
【００２０】
請求項１及び請求項４に記載の発明によれば、ガラス基板の外表面に高硬度ガラス層を形成することで、機械的強度と化学的信頼性の向上を両立させることが可能になり、小型の垂直磁気記録方式の磁気ディスクに適した記録媒体用ガラス基板を提供することができる。
【００２１】
請求項２に記載の発明によれば、ガラス基板の外表面に金属含有層と高硬度ガラス層を形成することで、機械的強度と化学的信頼性の向上を両立させることが行え、小型の垂直磁気記録方式の磁気ディスクに適した記録媒体用ガラス基板を提供することができる。
【００２２】
請求項３に記載の発明によれば、ガラス基板に強化処理を行っていないものでも記録媒体用基板として使用可能な強度が得られるので、請求項１や請求項２で得られた効果に加えて、製造時の歩留まりアップを実現するとともに化学的信頼性を向上することを可能にした。その結果、小型の垂直磁気記録方式の磁気ディスクに適した記録媒体用ガラス基板をより効率よく提供することができる。
【００２３】
請求項５に記載の発明によれば、ガラス基板の外表面に金属含有層を形成した後に高硬度ガラス層を形成する製造方法により、機械的強度と化学的信頼性の向上を両立させた記録媒体用ガラス基板を製造することができ、小型の垂直磁気記録方式の磁気ディスクに適した情報記録媒体用ガラス基板を提供することができる。
【００２４】
請求項６乃至請求項８のいずれか１項に記載の発明によれば、従来から知られた方法により、簡単にガラス基板の外表面に金属含有層を形成することができ、機械的強度と化学的信頼性の向上を両立させた記録媒体用ガラス基板を製造することができ、小型の垂直磁気記録方式の磁気ディスクに適した情報記録媒体用ガラス基板を提供することができる。
【００２５】
請求項９に記載の発明によれば、ガラス基板の成分と金属含有層の成分とを相互に拡散させることにより、簡単に高硬度ガラス層を形成することができ、機械的強度と化学的信頼性の向上を両立させた記録媒体用ガラス基板を製造することができ、小型の垂直磁気記録方式の磁気ディスクに適した情報記録媒体用ガラス基板を提供することができる。
【００２６】
請求項１０または１１に記載の発明によれば、請求項１または２に記載の記録媒体用ガラス基板を情報記録媒体または情報記録装置に用いることで、機械的強度と化学的信頼性の向上した小型の垂直磁気記録方式の情報記録媒体または情報記録装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下、図面に基づき本発明の実施の形態を説明する。
【００２８】
図１は、本発明に係る記録媒体用ガラス基板１０の構成を示す模式図である。
【００２９】
図１（ａ）に示すように、記録媒体用ガラス基板１０は、中央に穴部４を持つ、外径φ１、内径φ２の円盤形状をしている。記録媒体用ガラス基板１０の断面は、図１（ｂ）に示すように、ガラス基板１を取り囲むように高硬度ガラス層３が形成され、高硬度ガラス層３を取り囲むように金属含有層２が形成されている。
【００３０】
【表１】
【００３１】
ガラス基板１は、材質に特に制限なく、従来公知の各種ガラス若しくはガラスセラミックスを用いることができる。表１に、各種のガラスをグループ分けして示した。例えば、１）ケイ酸塩ガラスとしてアルミノケイ酸塩ガラス、ソーダライムガラス、ソーダシリケートガラス、硼硅酸ガラス、石英ガラス、バイコールガラス等があり、２）非ケイ酸塩ガラスとして硼酸ガラス、鉛ガラス、燐酸塩ガラス、テルライトガラス、フッ化物ガラス、フツ燐酸ガラス、３）ガラスセラミックスとして結晶化ガラス、複合ガラス等が挙げられる。これらは、強化処理を行っていないガラスでよい。また、ガラス基板表面がイオン交換、風冷強化、脱アルカリ処理等の強化処理をなされたガラス基板であってもよい。
【００３２】
表２に、金属含有層２を構成する成分をグループ分けして示した。金属含有層２を構成する金属元素は、１）アルカリ土類金属、２）第１遷移金属元素群、３）第２遷移金属元素群、４）第３遷移金属元素群、５）ランタノイド金属、６）アルミニウム族、７）炭素族に分類され、表２中の１つ若しくは２つ以上の金属元素を含む金属層、金属酸化物層及び金属含有有機物層であればよい。
【００３３】
【表２】
【００３４】
高硬度ガラス層３には、ガラス層１と金属含有層２の両方の成分が含まれており、ガラス層１よりも高い硬度を持ち、その厚みｔは、数十ｎｍ程度と非常に薄い層である。高硬度ガラス層３の硬度は、Ｘ線や短波長の電磁波等を用いた密度測定法により算出可能である。また、断面を極微小硬度計（ナノインデンテーション）を用いて直接測定できる。
【００３５】
次に、図１に示した記録媒体用ガラス基板１０の製造方法について、図２を用いて説明する。図２は、本発明に係る記録媒体用ガラス基板１０の製造工程を示す模式図である。図中、図１と同じ部分には同じ番号を付与した。
【００３６】
図２（ａ）は記録媒体用ガラス基板１０の基になる、中央に穴部４を持つガラス基板１の断面図である。ガラス基板１の上面、下面、外周端面、内周端面を総称して外表面５という。
【００３７】
金属含有層形成工程６で、ガラス基板１の外表面５上に、金属層あるいは金属酸化物層の場合は、メッキ処理、気相成長法（スパッタリング、ＣＶＤ等）、あるいは塗布処理（スピンコート、ディッピング、スプレーコート、印刷等）等の方法により、金属含有有機物層の場合は塗布処理等の方法により、金属含有層２を積層形成する（図２（ｂ））。
【００３８】
次に、高硬度ガラス層形成工程７で、図２（ｂ）の金属含有層２を積層したガラス基板１を、大気雰囲気の加熱炉にて所定の温度および所定の時間で加熱する。これによって、ガラス基板１と金属含有層２の双方の成分が相互に拡散し、その中間領域に高硬度ガラス層３が形成される（図２（ｃ））。但し、ガラス基板１と金属含有層２の双方の成分の濃度と拡散速度の違いにより、高硬度ガラス層３は、図２（ｃ）に矢印で示したように、主にガラス基板１側に形成される。
【００３９】
高硬度ガラス層は、大気雰囲気の加熱炉での加熱の他、窒素雰囲気あるいは高真空中の加熱炉での加熱、紫外線照射、赤外線照射等の方法でも形成可能である。
【００４０】
次に、図２に示した製造方法によって製造された記録媒体用ガラス基板１０の特性評価について、図３を用いて説明する。図３は、本発明に係る記録媒体用ガラス基板１０の評価方法を示す模式図である。図中、図１、２と同じ部分には同じ番号を付与した。
【００４１】
図３（ａ）は、記録媒体用ガラス基板１０の評価用サンプルの形状を示す模式図である。サンプルは、外径φ１＝６５ｍｍ、内径φ２＝２０ｍｍ、板厚ｄ＝０．６３５ｍｍのディスク状ガラス基板で、通常の２．５インチ型ハードディスクに用いられるガラス基板と同等のサイズである。
【００４２】
図３（ｂ）は、図３（ａ）に示した記録媒体用ガラス基板１０の破壊強度を測定するための円環曲げ強度試験と呼ばれる試験に用いられる円環曲げ試験機２０の模式図である。
【００４３】
円環曲げ試験機２０は、支持台２３上に記録媒体用ガラス基板１０の評価用サンプルを乗せて外周８を円環状に支持し、鉄球２２を記録媒体用ガラス基板１０の穴部４の内周９に乗せ、鉄球２２を介してロード２１で記録媒体用ガラス基板１０の内周９に力を加えることによって加圧−破壊試験を行う。表１で後述する本実施例においては、記録媒体用ガラス基板１０の破壊時の破壊加重を破壊強度として定義している。この方法は、ハードディスク用記録媒体の強度試験として業界で一般的に用いられている方法と同じである。
【００４４】
支持台２３は、外径φ５＝７０ｍｍ、内径φ６＝６３ｍｍ、高さｈ＝５０ｍｍの円筒形で、円筒の上部に記録媒体用ガラス基板１０の評価用サンプルを乗せ、外周８を円環状に支持する。
【００４５】
鉄球２２は、直径φ４＝２８．５７ｍｍの鉄製の球で、質量は１００グラム程度で、ロード２１によって印加される圧力に比べて無視できる程度の質量である。鉄球２２は、記録媒体用ガラス基板１０の評価用サンプルの内周９に当接して圧力を加えることで、支持台２３に外周８を支持された記録媒体用ガラス基板１０の評価用サンプルに曲げ応力を加える。
【００４６】
ロード２１は、外径φ３＝３０ｍｍの円筒形で、鉄球２２を介して記録媒体用ガラス基板１０の評価用サンプルの内周９に曲げ応力を加えることで、破壊強度を測定することができる。ロード２１の押し下げ速度は、０．５ｍｍ／分程度である。
【００４７】
次に、図３に示した試験方法を用いた実施例について説明する。本実施例においては、高硬度ガラス層３を形成したサンプル６種類と、比較のために高硬度ガラス層３を形成しないサンプル３種類についての評価を行った。その結果を、表３にまとめた。
【００４８】
ガラス基板１の種類としては、１）ケイ酸塩ガラスの代表としてアルミノボロシリケートガラスとアルミノシリケートガラスを、２）非ケイ酸塩ガラスの代表として硼酸ガラスを、３）ガラスセラミックスの代表として結晶化ガラスを選定した。
【００４９】
金属含有層２の種類としては、１）アルカリ土類金属の代表としてＭｇを、２）第１遷移金属元素群の代表としてＣｒ、Ｃｏ、Ｎｉを、３）第２遷移金属元素群の代表としてＡｇを、４）第３遷移金属元素群の代表としてＡｕを、５）アルミニウム族の代表としてＡｌを、６）炭素族の代表としてＳｎを選んだ。
【００５０】
このようにして、ガラス種類、金属元素共に、各グループの代表例を用いて実験を行うことで、全てのガラス種類と金属元素を網羅的に実験しなくても、各グループ内のガラス種類乃至は金属元素を用いた場合の性能の類推が可能である。
【００５１】
尚、表中、製法の「スパッタ」とあるのは、「ＲＦマグネトロンスパッタ法」のことである。また、金属含有層の厚みは、サンプルの断面形状を光学的あるいは電子的に観察することで測定可能である。
【００５２】
【表３】
【００５３】
表３の結果からわかるように、アルミノボロシリケートガラス基板に高硬度ガラス層３を形成した場合には、形成しない場合に比べて１．３２倍から１．５９倍の強度向上が達成され、同様に、結晶化ガラス基板の場合は１．２３倍、アルミノシリケートガラス基板の場合は１．５５倍から１．６８倍の強度向上が達成され、硼酸ガラスを含む何れの場合にも１００Ｎ（ニュートン）を超える破壊強度が達成されている。従来の経験によれば、破壊強度が１００Ｎを境に記録媒体用ガラス基板１０の歩留まりが大きく変わり、生産性向上に大きな影響を持つことが分かっている。したがって、本発明により、記録媒体用ガラス基板１０の生産性向上に大きく寄与できる。
また、表３に示したように、高硬度ガラス層３を形成したガラス基板は全て、化学強化等の強化処理を行っていないにも関わらず、１００Ｎを超える破壊強度を持つ。これから、強化処理を行っていないガラス基板でも高硬度ガラス層３を形成すれば記録媒体用基板として使用可能な強度が得られることがわかる。したがって、煩雑な強化処理が不要になるため、製造時の歩留まりアップを実現することができ、小型の垂直磁気記録方式の磁気ディスクに適した記録媒体用ガラス基板をより効率よく安価に提供することができる。
【００５４】
さらに、表３には前述した化学的安定性の尺度として、アルカリ溶出量の測定結果も並記した。アルカリ溶出量については、８０℃の純水５０ｍｌ中に２４時間試料ガラスを浸漬した後、ＩＣＰ発光分光分析装置で溶出量を分析した。試料ガラスは、２．５インチ型ディスク基板とし、試料表面を酸化セリウムで研磨してＲａ値２ｎｍ以下の平滑面に整えた後、表面を清浄になるよう洗浄し、試験用試料とした。アルカリ溶出量は、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ溶出量の合計とした。
【００５５】
表３の結果からわかるように、アルカリ溶出量については、高硬度ガラス層３を形成したサンプルは全て、形成しないサンプルに比べて桁違いの溶出量の少なさを示しており、高硬度ガラス層３を形成することで、化学的安定性が格段に向上したことを示している。尚、アルカリ溶出量抑制には、金属含有層２の存在も効果を発揮していると考えられる。
【００５６】
以上に述べたように、通常のガラス基板１の外表面上に高硬度ガラス層３及び金属含有層２を形成することで、機械的強度と化学的安定性の向上を達成することができた。
【００５７】
次に、図１に示した記録媒体用ガラス基板１０を用いた情報記録媒体１１の構成について、図４を用いて説明する。図４は、本発明に係る記録媒体用ガラス基板１０を用いた情報記録媒体１１の構成を示す模式図である。図中、図１、２、３と同じ部分には同じ番号を付与した。
【００５８】
図４（ａ）で、記録媒体用ガラス基板１０は、ガラス基板１の外表面５上に、高硬度ガラス層３が形成され、さらにその上部に金属含有層２が形成されてなる。情報記録媒体１１は、記録媒体用ガラス基板１０の金属含有層２の上面である主表面１２上に、磁性体等からなる記録層１３を積層することで構成される。本例では、記録媒体用ガラス基板１０の両面に記録層１３が形成されている。本構成の情報記録媒体１１は、機械的強度と化学的安定性に優れているため、記録用磁気ヘッドをより情報記録媒体に近づける必要のある垂直磁気記録方式等の大容量あるいは超小型磁気記録媒体として最適である。
【００５９】
図４（ｂ）には、垂直磁気記録方式に用いられる記録層１３の構成を模式的に示した。記録層１３は、実際の記録を担う磁気記録層１３ａ、図示しない記録再生用ヘッドの磁気回路の一部をなす裏打ち軟磁性層１３ｃ、磁気記録層１３ａの結晶性と磁気特性の改善および磁気記録層１３ａと裏打ち軟磁性層１３ｃの時期的相互作用の制御を担う中間層１３ｂの３層からなる。
【００６０】
本発明の記録媒体用ガラス基板１０は、その主表面１２の直下に金属含有層２を有することで、裏打ち軟磁性層１３ｃの形成が行いやすいという特徴がある。また、金属含有層として裏打ち軟磁性層に用いられる材料（例えば、Ｎｉ、Ｆｅ等）を用いれば、金属含有層を裏打ち軟磁性層として用いることも可能である。もちろん、記録層１３の構成によっては、金属含有層２を研磨、エッチング等で除去して、高硬度層３の上に記録層１３を形成してもよい。
【００６１】
次に、本発明に係る情報記録媒体１１を搭載した情報記録装置について、図５を用いて説明する。図５は、本発明に係る情報記録媒体１１を搭載した情報記録装置であるロード・アンロード方式のハードディスク装置５０を示す斜視模式図である。図中、図１から４と同じ部分には同じ番号を付与した。
【００６２】
ハードディスク装置５０は、情報記録媒体１１、記録再生ヘッド５２、記録再生ヘッド５２を支持するサスペンション５４、サスペンション５４を固定するアーム５６を含むヘッドアクチュエータ５９を備えている。
【００６３】
ヘッドアクチュエータ５９は、アーム５６がピボット５７を軸に筐体５１に対して回転可能に取り付けられる。また、ヘッドアクチュエータ５９は、ピボット５７を挟んでサスペンション５４と反対側に設けられるボイスコイルモータ５８によって回転駆動される。さらにヘッドアクチュエータ５９への電力の供給と記録再生ヘッド５２との信号のやり取りは、アーム５６に固定されたフレキシブルプリント基板５５を介して行われる。
【００６４】
ハードディスク装置５０では、サスペンション５４の先端にリフトタブ５３が設けられ、情報記録媒体１１の端部と重なるように筐体５１に取り付けられた位置規制ランプ６０にリフトタブ５３が誘導されることで、記録再生ヘッド５２を情報記録媒体１１の面上から外側へと退避させるアンロード、ヘッド５２を情報記録媒体１１の外側から面上へランディングさせるロードが行われる。
【００６５】
リフトタブ５３は、サスペンション５４の先端に設けられる突起で、ヘッド５２より先端側に位置する。位置規制ランプ６０は、リフトタブ５３が接触する斜面を有し、リフトタブ５３がランプ６０の斜面に接触している間は、２枚のサスペンション５４の間隔が規制され、ヘッド５２同士の接触およびヘッド５２と情報記録媒体１１の接触が防止される。
【００６６】
ヘッド５２は、回転スピンドルに装着された情報記録媒体１１の回転によって発生する空気流で情報記録媒体１１の面上より浮上する。このため、ヘッド５２を情報記録媒体１１の面上へロードさせるときは、ヘッド５２が情報記録媒体１１の面上に到達するまで、位置規制ランプ６０でリフトタブ５３を支持する。また、ヘッド５２を情報記録媒体１１の外側へアンロードさせるときは、ヘッド５２が情報記録媒体１１の外側に出る前に、位置規制ランプ６０でリフトタブ５３を支持する。
【００６７】
本ハードディスク装置５０の記録媒体として、本発明の情報記録媒体１１を用いることで、高性能で高密度な記録を行うことが可能となり、将来的には、超小型高密度記録装置の市場化が可能となる。
【００６８】
その他、本発明に係る記録媒体用ガラス基板、記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体及び情報記録装置を構成する各構成の細部構成及び細部動作に関しても、本発明の趣旨を逸脱することのない範囲で適宜変更可能である。
【図面の簡単な説明】
【００６９】
【図１】本発明に係る記録媒体用ガラス基板の構成を示す模式図である。
【図２】本発明に係る記録媒体用ガラス基板の製造方法を示す模式図である。
【図３】本発明に係る記録媒体用ガラス基板の評価方法を示す模式図である。
【図４】本発明に係る記録媒体用ガラス基板を用いた情報記録媒体の構成を示す模式図である。
【図５】本発明に係る情報記録媒体を搭載した情報記録装置の斜視模式図である。
【符号の説明】
【００７０】
１ ガラス基板
２ 金属含有層
３ 高硬度ガラス層
４ 穴部
５ 外表面
６ 金属含有層形成工程
７ 高硬度ガラス層形成工程
８ 外周
９ 内周
１０ 記録媒体用ガラス基板
１１ 情報記録媒体
１２ 主表面
１３ 記録層
１３ａ 磁気記録層
１３ｂ 中間層
１３ｃ 裏打ち軟磁性層
２０ 円環曲げ試験機
２１ ロード
２２ 鉄球
２３ 支持台
５０ ハードディスク装置
５１ 筐体
５２ 記録再生ヘッド
５３ リフトタブ
５４ サスペンション
５５ フレキシブルプリント基板
５６ アーム
５７ ピボット
５８ ボイスコイルモータ
５９ ヘッドアクチュエータ
６０ 位置規制ランプ
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス基板、ガラス基板の製造方法、情報記録媒体及び情報記録装置に関し、より詳細には、垂直磁気記録方式に適した記録媒体用ガラス基板、記録媒体用ガラス基板の製造方法、該記録媒体用ガラス基板を用いた情報記録媒体及び情報記録装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、磁気ディスク用基板としては、デスクトップ用コンピュータやサーバなどの据え置き型にはアルミニウム合金基板が、他方ノート型コンピュータやモバイル型コンピュータなどの携帯型にはガラス基板が一般に使用されていたが、アルミニウム合金は変形しやすく、また硬さが不十分であるため研磨後の基板表面の平滑性が十分とは言えなかった。さらに、ヘッドが機械的に磁気ディスクに接触する際、磁性膜が基板から剥離しやすいという問題もあった。そこで、変形が少なく、平滑性が良好で、かつ機械的強度の大きいガラス基板が携帯型のみならず据え置き型の機器やその他の家庭用情報機器にも今後広く使用されていくものと予測されている。
【０００３】
一方、磁気ディスクの記録密度の向上と記録の安定性向上のために、従来の水平磁気記録方式に替わる方式として、垂直磁気記録方式が開発されている（例えば、特許文献１参照）。垂直磁気記録方式が実用化されると、従来よりも小型の磁気ディスクで大容量のディスクが実現できるため、半導体メモリに対抗するものとして、従来の１．８インチ型や１インチ型よりもさらに小型の０．８５インチ型の超小型磁気ディスクが計画されており、従来磁気ディスクが使用されていなかった携帯電話等へも磁気ディスクが搭載されていくことが期待されている。この実現のためには、より小型で高性能なガラス基板が不可欠となっている。
【０００４】
ガラス基板としては、基板表面のアルカリ元素を他のアルカリ元素と置換することにより圧縮歪みを発生させ、機械的強度を向上させた化学強化ガラスが知られている（例えば、特許文献２参照）。しかし化学強化ガラスは煩雑なイオン交換工程が必要であり、またイオン交換後の再加工が不可能であるため製造歩留まりを上げることが難しかった。また、ガラス基板にイオン交換性を持たせるために、アルカリイオンの基板中での移動が容易になるようにしていたので、基板表面のアルカリイオンが、磁性膜を成膜する際の加熱工程時に表面に移動して溶出したり、あるいは磁性膜を侵食したり、磁性膜の付着強度を劣化させるといった化学的信頼性の低下という問題があった。
【０００５】
一方、化学強化処理を行わない一般的なガラス基板としてはソーダライム基板があるが、ソーダライム基板を情報記録用基板として用いるには機械的強度、化学的耐久性が不十分であった。
【０００６】
さらには、ガラス基板を情報記録用として用いる場合に、情報記録用膜をガラス基板上に成膜する際、表面に加わえられる圧力や加熱、衝撃によりガラス基板にクラックが入り、製品の歩留まりが低下することがあった。また、ガラス基板の磁気ディスク装置への組み込み時の圧力や衝撃による傷やクラックでの歩留まり低下も問題であった。この問題は、磁気ディスクが小型化すればするほど、歩留まり向上ひいてはコストダウン上の大きな課題となってきており、ガラス基板の機械的強度向上が小型磁気ディスクの実現のキーポイントと言っても過言ではない課題である。
【特許文献１】特開平６−７６２０２号公報
【特許文献２】特開平５−３２４３１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、複雑な処理を行うことなく機械的強度の向上と化学的信頼性の向上を両立させることができ、小型の垂直磁気記録方式の磁気ディスクに適した情報記録媒体用ガラス基板を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の目的は、下記構成により達成することができる。
【０００９】
（請求項１）
ガラス基板の外表面に、前記ガラス基板に比べて硬度の高い高硬度ガラス層を有することを特徴とする記録媒体用ガラス基板。
【００１０】
（請求項２）
前記ガラス基板の外表面に、金属、金属酸化物若しくは金属含有有機化合物の少なくとも１つを含有する金属含有層を有することを特徴とする請求項１に記載の記録媒体用ガラス基板。
【００１１】
（請求項３）
前記記録媒体用ガラス基板は、強化処理を行っていないものであることを特徴とする請求項１または２に記載の記録媒体用ガラス基板。
【００１２】
（請求項４）
ガラス基板の外表面に、前記ガラス基板に比べて硬度の高い高硬度ガラス層を形成する高硬度ガラス層形成工程を有することを特徴とする記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【００１３】
（請求項５）
前記ガラス基板の外表面に、金属、金属酸化物若しくは金属含有有機化合物の少なくとも１つを含有する金属含有層を形成する工程を有することを特徴とする請求項４に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【００１４】
（請求項６）
前記金属含有層は、メッキ処理により形成されることを特徴とする請求項５に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【００１５】
（請求項７）
前記金属含有層は、気相成長法により形成されることを特徴とする請求項５に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【００１６】
（請求項８）
前記金属含有層は、塗布処理により形成されることを特徴とする請求項５に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【００１７】
（請求項９）
前記高硬度ガラス層形成工程は、前記ガラス基板の成分と前記金属含有層の成分とを相互に拡散させることにより前記高硬度ガラス層を形成することを特徴とする請求項５に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【００１８】
（請求項１０）
請求項１または２に記載の記録媒体用ガラス基板の主表面上に記録層を有することを特徴とする垂直磁気記録方式向け情報記録媒体。
【００１９】
（請求項１１）
請求項１０に記載の情報記録媒体を有することを特徴とする情報記録装置。
【発明の効果】
【００２０】
請求項１及び請求項４に記載の発明によれば、ガラス基板の外表面に高硬度ガラス層を形成することで、機械的強度と化学的信頼性の向上を両立させることが可能になり、小型の垂直磁気記録方式の磁気ディスクに適した記録媒体用ガラス基板を提供することができる。
【００２１】
請求項２に記載の発明によれば、ガラス基板の外表面に金属含有層と高硬度ガラス層を形成することで、機械的強度と化学的信頼性の向上を両立させることが行え、小型の垂直磁気記録方式の磁気ディスクに適した記録媒体用ガラス基板を提供することができる。
【００２２】
請求項３に記載の発明によれば、ガラス基板に強化処理を行っていないものでも記録媒体用基板として使用可能な強度が得られるので、請求項１や請求項２で得られた効果に加えて、製造時の歩留まりアップを実現するとともに化学的信頼性を向上することを可能にした。その結果、小型の垂直磁気記録方式の磁気ディスクに適した記録媒体用ガラス基板をより効率よく提供することができる。
【００２３】
請求項５に記載の発明によれば、ガラス基板の外表面に金属含有層を形成した後に高硬度ガラス層を形成する製造方法により、機械的強度と化学的信頼性の向上を両立させた記録媒体用ガラス基板を製造することができ、小型の垂直磁気記録方式の磁気ディスクに適した情報記録媒体用ガラス基板を提供することができる。
【００２４】
請求項６乃至請求項８のいずれか１項に記載の発明によれば、従来から知られた方法により、簡単にガラス基板の外表面に金属含有層を形成することができ、機械的強度と化学的信頼性の向上を両立させた記録媒体用ガラス基板を製造することができ、小型の垂直磁気記録方式の磁気ディスクに適した情報記録媒体用ガラス基板を提供することができる。
【００２５】
請求項９に記載の発明によれば、ガラス基板の成分と金属含有層の成分とを相互に拡散させることにより、簡単に高硬度ガラス層を形成することができ、機械的強度と化学的信頼性の向上を両立させた記録媒体用ガラス基板を製造することができ、小型の垂直磁気記録方式の磁気ディスクに適した情報記録媒体用ガラス基板を提供することができる。
【００２６】
請求項１０または１１に記載の発明によれば、請求項１または２に記載の記録媒体用ガラス基板を情報記録媒体または情報記録装置に用いることで、機械的強度と化学的信頼性の向上した小型の垂直磁気記録方式の情報記録媒体または情報記録装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下、図面に基づき本発明の実施の形態を説明する。
【００２８】
図１は、本発明に係る記録媒体用ガラス基板１０の構成を示す模式図である。
【００２９】
図１（ａ）に示すように、記録媒体用ガラス基板１０は、中央に穴部４を持つ、外径φ１、内径φ２の円盤形状をしている。記録媒体用ガラス基板１０の断面は、図１（ｂ）に示すように、ガラス基板１を取り囲むように高硬度ガラス層３が形成され、高硬度ガラス層３を取り囲むように金属含有層２が形成されている。
【００３０】
【表１】
【００３１】
ガラス基板１は、材質に特に制限なく、従来公知の各種ガラス若しくはガラスセラミックスを用いることができる。表１に、各種のガラスをグループ分けして示した。例えば、１）ケイ酸塩ガラスとしてアルミノケイ酸塩ガラス、ソーダライムガラス、ソーダシリケートガラス、硼硅酸ガラス、石英ガラス、バイコールガラス等があり、２）非ケイ酸塩ガラスとして硼酸ガラス、鉛ガラス、燐酸塩ガラス、テルライトガラス、フッ化物ガラス、フツ燐酸ガラス、３）ガラスセラミックスとして結晶化ガラス、複合ガラス等が挙げられる。これらは、強化処理を行っていないガラスでよい。また、ガラス基板表面がイオン交換、風冷強化、脱アルカリ処理等の強化処理をなされたガラス基板であってもよい。
【００３２】
表２に、金属含有層２を構成する成分をグループ分けして示した。金属含有層２を構成する金属元素は、１）アルカリ土類金属、２）第１遷移金属元素群、３）第２遷移金属元素群、４）第３遷移金属元素群、５）ランタノイド金属、６）アルミニウム族、７）炭素族に分類され、表２中の１つ若しくは２つ以上の金属元素を含む金属層、金属酸化物層及び金属含有有機物層であればよい。
【００３３】
【表２】
【００３４】
高硬度ガラス層３には、ガラス層１と金属含有層２の両方の成分が含まれており、ガラス層１よりも高い硬度を持ち、その厚みｔは、数十ｎｍ程度と非常に薄い層である。高硬度ガラス層３の硬度は、Ｘ線や短波長の電磁波等を用いた密度測定法により算出可能である。また、断面を極微小硬度計（ナノインデンテーション）を用いて直接測定できる。
【００３５】
次に、図１に示した記録媒体用ガラス基板１０の製造方法について、図２を用いて説明する。図２は、本発明に係る記録媒体用ガラス基板１０の製造工程を示す模式図である。図中、図１と同じ部分には同じ番号を付与した。
【００３６】
図２（ａ）は記録媒体用ガラス基板１０の基になる、中央に穴部４を持つガラス基板１の断面図である。ガラス基板１の上面、下面、外周端面、内周端面を総称して外表面５という。
【００３７】
金属含有層形成工程６で、ガラス基板１の外表面５上に、金属層あるいは金属酸化物層の場合は、メッキ処理、気相成長法（スパッタリング、ＣＶＤ等）、あるいは塗布処理（スピンコート、ディッピング、スプレーコート、印刷等）等の方法により、金属含有有機物層の場合は塗布処理等の方法により、金属含有層２を積層形成する（図２（ｂ））。
【００３８】
次に、高硬度ガラス層形成工程７で、図２（ｂ）の金属含有層２を積層したガラス基板１を、大気雰囲気の加熱炉にて所定の温度および所定の時間で加熱する。これによって、ガラス基板１と金属含有層２の双方の成分が相互に拡散し、その中間領域に高硬度ガラス層３が形成される（図２（ｃ））。但し、ガラス基板１と金属含有層２の双方の成分の濃度と拡散速度の違いにより、高硬度ガラス層３は、図２（ｃ）に矢印で示したように、主にガラス基板１側に形成される。
【００３９】
高硬度ガラス層は、大気雰囲気の加熱炉での加熱の他、窒素雰囲気あるいは高真空中の加熱炉での加熱、紫外線照射、赤外線照射等の方法でも形成可能である。
【００４０】
次に、図２に示した製造方法によって製造された記録媒体用ガラス基板１０の特性評価について、図３を用いて説明する。図３は、本発明に係る記録媒体用ガラス基板１０の評価方法を示す模式図である。図中、図１、２と同じ部分には同じ番号を付与した。
【００４１】
図３（ａ）は、記録媒体用ガラス基板１０の評価用サンプルの形状を示す模式図である。サンプルは、外径φ１＝６５ｍｍ、内径φ２＝２０ｍｍ、板厚ｄ＝０．６３５ｍｍのディスク状ガラス基板で、通常の２．５インチ型ハードディスクに用いられるガラス基板と同等のサイズである。
【００４２】
図３（ｂ）は、図３（ａ）に示した記録媒体用ガラス基板１０の破壊強度を測定するための円環曲げ強度試験と呼ばれる試験に用いられる円環曲げ試験機２０の模式図である。
【００４３】
円環曲げ試験機２０は、支持台２３上に記録媒体用ガラス基板１０の評価用サンプルを乗せて外周８を円環状に支持し、鉄球２２を記録媒体用ガラス基板１０の穴部４の内周９に乗せ、鉄球２２を介してロード２１で記録媒体用ガラス基板１０の内周９に力を加えることによって加圧−破壊試験を行う。表１で後述する本実施例においては、記録媒体用ガラス基板１０の破壊時の破壊加重を破壊強度として定義している。この方法は、ハードディスク用記録媒体の強度試験として業界で一般的に用いられている方法と同じである。
【００４４】
支持台２３は、外径φ５＝７０ｍｍ、内径φ６＝６３ｍｍ、高さｈ＝５０ｍｍの円筒形で、円筒の上部に記録媒体用ガラス基板１０の評価用サンプルを乗せ、外周８を円環状に支持する。
【００４５】
鉄球２２は、直径φ４＝２８．５７ｍｍの鉄製の球で、質量は１００グラム程度で、ロード２１によって印加される圧力に比べて無視できる程度の質量である。鉄球２２は、記録媒体用ガラス基板１０の評価用サンプルの内周９に当接して圧力を加えることで、支持台２３に外周８を支持された記録媒体用ガラス基板１０の評価用サンプルに曲げ応力を加える。
【００４６】
ロード２１は、外径φ３＝３０ｍｍの円筒形で、鉄球２２を介して記録媒体用ガラス基板１０の評価用サンプルの内周９に曲げ応力を加えることで、破壊強度を測定することができる。ロード２１の押し下げ速度は、０．５ｍｍ／分程度である。
【００４７】
次に、図３に示した試験方法を用いた実施例について説明する。本実施例においては、高硬度ガラス層３を形成したサンプル６種類と、比較のために高硬度ガラス層３を形成しないサンプル３種類についての評価を行った。その結果を、表３にまとめた。
【００４８】
ガラス基板１の種類としては、１）ケイ酸塩ガラスの代表としてアルミノボロシリケートガラスとアルミノシリケートガラスを、２）非ケイ酸塩ガラスの代表として硼酸ガラスを、３）ガラスセラミックスの代表として結晶化ガラスを選定した。
【００４９】
金属含有層２の種類としては、１）アルカリ土類金属の代表としてＭｇを、２）第１遷移金属元素群の代表としてＣｒ、Ｃｏ、Ｎｉを、３）第２遷移金属元素群の代表としてＡｇを、４）第３遷移金属元素群の代表としてＡｕを、５）アルミニウム族の代表としてＡｌを、６）炭素族の代表としてＳｎを選んだ。
【００５０】
このようにして、ガラス種類、金属元素共に、各グループの代表例を用いて実験を行うことで、全てのガラス種類と金属元素を網羅的に実験しなくても、各グループ内のガラス種類乃至は金属元素を用いた場合の性能の類推が可能である。
【００５１】
尚、表中、製法の「スパッタ」とあるのは、「ＲＦマグネトロンスパッタ法」のことである。また、金属含有層の厚みは、サンプルの断面形状を光学的あるいは電子的に観察することで測定可能である。
【００５２】
【表３】
【００５３】
表３の結果からわかるように、アルミノボロシリケートガラス基板に高硬度ガラス層３を形成した場合には、形成しない場合に比べて１．３２倍から１．５９倍の強度向上が達成され、同様に、結晶化ガラス基板の場合は１．２３倍、アルミノシリケートガラス基板の場合は１．５５倍から１．６８倍の強度向上が達成され、硼酸ガラスを含む何れの場合にも１００Ｎ（ニュートン）を超える破壊強度が達成されている。従来の経験によれば、破壊強度が１００Ｎを境に記録媒体用ガラス基板１０の歩留まりが大きく変わり、生産性向上に大きな影響を持つことが分かっている。したがって、本発明により、記録媒体用ガラス基板１０の生産性向上に大きく寄与できる。
また、表３に示したように、高硬度ガラス層３を形成したガラス基板は全て、化学強化等の強化処理を行っていないにも関わらず、１００Ｎを超える破壊強度を持つ。これから、強化処理を行っていないガラス基板でも高硬度ガラス層３を形成すれば記録媒体用基板として使用可能な強度が得られることがわかる。したがって、煩雑な強化処理が不要になるため、製造時の歩留まりアップを実現することができ、小型の垂直磁気記録方式の磁気ディスクに適した記録媒体用ガラス基板をより効率よく安価に提供することができる。
【００５４】
さらに、表３には前述した化学的安定性の尺度として、アルカリ溶出量の測定結果も並記した。アルカリ溶出量については、８０℃の純水５０ｍｌ中に２４時間試料ガラスを浸漬した後、ＩＣＰ発光分光分析装置で溶出量を分析した。試料ガラスは、２．５インチ型ディスク基板とし、試料表面を酸化セリウムで研磨してＲａ値２ｎｍ以下の平滑面に整えた後、表面を清浄になるよう洗浄し、試験用試料とした。アルカリ溶出量は、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ溶出量の合計とした。
【００５５】
表３の結果からわかるように、アルカリ溶出量については、高硬度ガラス層３を形成したサンプルは全て、形成しないサンプルに比べて桁違いの溶出量の少なさを示しており、高硬度ガラス層３を形成することで、化学的安定性が格段に向上したことを示している。尚、アルカリ溶出量抑制には、金属含有層２の存在も効果を発揮していると考えられる。
【００５６】
以上に述べたように、通常のガラス基板１の外表面上に高硬度ガラス層３及び金属含有層２を形成することで、機械的強度と化学的安定性の向上を達成することができた。
【００５７】
次に、図１に示した記録媒体用ガラス基板１０を用いた情報記録媒体１１の構成について、図４を用いて説明する。図４は、本発明に係る記録媒体用ガラス基板１０を用いた情報記録媒体１１の構成を示す模式図である。図中、図１、２、３と同じ部分には同じ番号を付与した。
【００５８】
図４（ａ）で、記録媒体用ガラス基板１０は、ガラス基板１の外表面５上に、高硬度ガラス層３が形成され、さらにその上部に金属含有層２が形成されてなる。情報記録媒体１１は、記録媒体用ガラス基板１０の金属含有層２の上面である主表面１２上に、磁性体等からなる記録層１３を積層することで構成される。本例では、記録媒体用ガラス基板１０の両面に記録層１３が形成されている。本構成の情報記録媒体１１は、機械的強度と化学的安定性に優れているため、記録用磁気ヘッドをより情報記録媒体に近づける必要のある垂直磁気記録方式等の大容量あるいは超小型磁気記録媒体として最適である。
【００５９】
図４（ｂ）には、垂直磁気記録方式に用いられる記録層１３の構成を模式的に示した。記録層１３は、実際の記録を担う磁気記録層１３ａ、図示しない記録再生用ヘッドの磁気回路の一部をなす裏打ち軟磁性層１３ｃ、磁気記録層１３ａの結晶性と磁気特性の改善および磁気記録層１３ａと裏打ち軟磁性層１３ｃの時期的相互作用の制御を担う中間層１３ｂの３層からなる。
【００６０】
本発明の記録媒体用ガラス基板１０は、その主表面１２の直下に金属含有層２を有することで、裏打ち軟磁性層１３ｃの形成が行いやすいという特徴がある。また、金属含有層として裏打ち軟磁性層に用いられる材料（例えば、Ｎｉ、Ｆｅ等）を用いれば、金属含有層を裏打ち軟磁性層として用いることも可能である。もちろん、記録層１３の構成によっては、金属含有層２を研磨、エッチング等で除去して、高硬度層３の上に記録層１３を形成してもよい。
【００６１】
次に、本発明に係る情報記録媒体１１を搭載した情報記録装置について、図５を用いて説明する。図５は、本発明に係る情報記録媒体１１を搭載した情報記録装置であるロード・アンロード方式のハードディスク装置５０を示す斜視模式図である。図中、図１から４と同じ部分には同じ番号を付与した。
【００６２】
ハードディスク装置５０は、情報記録媒体１１、記録再生ヘッド５２、記録再生ヘッド５２を支持するサスペンション５４、サスペンション５４を固定するアーム５６を含むヘッドアクチュエータ５９を備えている。
【００６３】
ヘッドアクチュエータ５９は、アーム５６がピボット５７を軸に筐体５１に対して回転可能に取り付けられる。また、ヘッドアクチュエータ５９は、ピボット５７を挟んでサスペンション５４と反対側に設けられるボイスコイルモータ５８によって回転駆動される。さらにヘッドアクチュエータ５９への電力の供給と記録再生ヘッド５２との信号のやり取りは、アーム５６に固定されたフレキシブルプリント基板５５を介して行われる。
【００６４】
ハードディスク装置５０では、サスペンション５４の先端にリフトタブ５３が設けられ、情報記録媒体１１の端部と重なるように筐体５１に取り付けられた位置規制ランプ６０にリフトタブ５３が誘導されることで、記録再生ヘッド５２を情報記録媒体１１の面上から外側へと退避させるアンロード、ヘッド５２を情報記録媒体１１の外側から面上へランディングさせるロードが行われる。
【００６５】
リフトタブ５３は、サスペンション５４の先端に設けられる突起で、ヘッド５２より先端側に位置する。位置規制ランプ６０は、リフトタブ５３が接触する斜面を有し、リフトタブ５３がランプ６０の斜面に接触している間は、２枚のサスペンション５４の間隔が規制され、ヘッド５２同士の接触およびヘッド５２と情報記録媒体１１の接触が防止される。
【００６６】
ヘッド５２は、回転スピンドルに装着された情報記録媒体１１の回転によって発生する空気流で情報記録媒体１１の面上より浮上する。このため、ヘッド５２を情報記録媒体１１の面上へロードさせるときは、ヘッド５２が情報記録媒体１１の面上に到達するまで、位置規制ランプ６０でリフトタブ５３を支持する。また、ヘッド５２を情報記録媒体１１の外側へアンロードさせるときは、ヘッド５２が情報記録媒体１１の外側に出る前に、位置規制ランプ６０でリフトタブ５３を支持する。
【００６７】
本ハードディスク装置５０の記録媒体として、本発明の情報記録媒体１１を用いることで、高性能で高密度な記録を行うことが可能となり、将来的には、超小型高密度記録装置の市場化が可能となる。
【００６８】
その他、本発明に係る記録媒体用ガラス基板、記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体及び情報記録装置を構成する各構成の細部構成及び細部動作に関しても、本発明の趣旨を逸脱することのない範囲で適宜変更可能である。
【図面の簡単な説明】
【００６９】
【図１】本発明に係る記録媒体用ガラス基板の構成を示す模式図である。
【図２】本発明に係る記録媒体用ガラス基板の製造方法を示す模式図である。
【図３】本発明に係る記録媒体用ガラス基板の評価方法を示す模式図である。
【図４】本発明に係る記録媒体用ガラス基板を用いた情報記録媒体の構成を示す模式図である。
【図５】本発明に係る情報記録媒体を搭載した情報記録装置の斜視模式図である。
【符号の説明】
【００７０】
１ ガラス基板
２ 金属含有層
３ 高硬度ガラス層
４ 穴部
５ 外表面
６ 金属含有層形成工程
７ 高硬度ガラス層形成工程
８ 外周
９ 内周
１０ 記録媒体用ガラス基板
１１ 情報記録媒体
１２ 主表面
１３ 記録層
１３ａ 磁気記録層
１３ｂ 中間層
１３ｃ 裏打ち軟磁性層
２０ 円環曲げ試験機
２１ ロード
２２ 鉄球
２３ 支持台
５０ ハードディスク装置
５１ 筐体
５２ 記録再生ヘッド
５３ リフトタブ
５４ サスペンション
５５ フレキシブルプリント基板
５６ アーム
５７ ピボット
５８ ボイスコイルモータ
５９ ヘッドアクチュエータ
６０ 位置規制ランプ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板の外表面に、前記ガラス基板に比べて硬度の高い高硬度ガラス層を有することを特徴とする記録媒体用ガラス基板。
【請求項２】
前記ガラス基板の外表面に、金属、金属酸化物若しくは金属含有有機化合物の少なくとも１つを含有する金属含有層を有することを特徴とする請求項１に記載の記録媒体用ガラス基板。
【請求項３】
前記記録媒体用ガラス基板は、強化処理を行っていないものであることを特徴とする請求項１または２に記載の記録媒体用ガラス基板。
【請求項４】
ガラス基板の外表面に、前記ガラス基板に比べて硬度の高い高硬度ガラス層を形成する高硬度ガラス層形成工程を有することを特徴とする記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項５】
前記ガラス基板の外表面に、金属、金属酸化物若しくは金属含有有機化合物の少なくとも１つを含有する金属含有層を形成する工程を有することを特徴とする請求項４に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項６】
前記金属含有層は、メッキ処理により形成されることを特徴とする請求項５に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項７】
前記金属含有層は、気相成長法により形成されることを特徴とする請求項５に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項８】
前記金属含有層は、塗布処理により形成されることを特徴とする請求項５に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項９】
前記高硬度ガラス層形成工程は、前記ガラス基板の成分と前記金属含有層の成分とを相互に拡散させることにより前記高硬度ガラス層を形成することを特徴とする請求項５に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項１０】
請求項１または２に記載の記録媒体用ガラス基板の主表面上に記録層を有することを特徴とする垂直磁気記録方式向け情報記録媒体。
【請求項１１】
請求項１０に記載の情報記録媒体を有することを特徴とする情報記録装置。
【請求項１】
ガラス基板の外表面に、前記ガラス基板に比べて硬度の高い高硬度ガラス層を有することを特徴とする記録媒体用ガラス基板。
【請求項２】
前記ガラス基板の外表面に、金属、金属酸化物若しくは金属含有有機化合物の少なくとも１つを含有する金属含有層を有することを特徴とする請求項１に記載の記録媒体用ガラス基板。
【請求項３】
前記記録媒体用ガラス基板は、強化処理を行っていないものであることを特徴とする請求項１または２に記載の記録媒体用ガラス基板。
【請求項４】
ガラス基板の外表面に、前記ガラス基板に比べて硬度の高い高硬度ガラス層を形成する高硬度ガラス層形成工程を有することを特徴とする記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項５】
前記ガラス基板の外表面に、金属、金属酸化物若しくは金属含有有機化合物の少なくとも１つを含有する金属含有層を形成する工程を有することを特徴とする請求項４に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項６】
前記金属含有層は、メッキ処理により形成されることを特徴とする請求項５に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項７】
前記金属含有層は、気相成長法により形成されることを特徴とする請求項５に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項８】
前記金属含有層は、塗布処理により形成されることを特徴とする請求項５に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項９】
前記高硬度ガラス層形成工程は、前記ガラス基板の成分と前記金属含有層の成分とを相互に拡散させることにより前記高硬度ガラス層を形成することを特徴とする請求項５に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項１０】
請求項１または２に記載の記録媒体用ガラス基板の主表面上に記録層を有することを特徴とする垂直磁気記録方式向け情報記録媒体。
【請求項１１】
請求項１０に記載の情報記録媒体を有することを特徴とする情報記録装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２００６−２２１６８０（Ｐ２００６−２２１６８０Ａ）
【公開日】平成１８年８月２４日（２００６．８．２４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−３１４５９（Ｐ２００５−３１４５９）
【出願日】平成１７年２月８日（２００５．２．８）
【出願人】（３０３０００４０８）コニカミノルタオプト株式会社 (3,255)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年８月２４日（２００６．８．２４）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年２月８日（２００５．２．８）
【出願人】（３０３０００４０８）コニカミノルタオプト株式会社 (3,255)
【Ｆターム（参考）】
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