電子源装置におけるスキャン方法および電子源装置
【目的】本発明は、電子源から放出されて加速された電子ビームを物質に照射した状態でスキャンして加熱し、対向して配置した基板上に当該物質を蒸着させる電子源装置におけるスキャン方法および電子源装置に関し、画面上で電子ビームのスキャン波形の１点を指定すると当該１点をもとにスキャン波形を作成したり、作成したスキャン波形が所望でないときは当該スキャン波形の１点を指定すると当該１点をもとにスキャン波形に部分修正を施し、顧客が簡易に試料（材料）の溶けあとが可及的に平坦で有効利用されるように調整可能にすることを目的とする。
【構成】 画面上でスキャンしようとするスキャン波形の１点が指定されると、当該１点をもとにスキャン波形を生成するステップと、生成したスキャン波形を波形発生器に送信してスキャン波形で電子ビームを物質に照射した状態でスキャンして加熱させるステップとを有する電子源装置におけるスキャン方法である。
【構成】 画面上でスキャンしようとするスキャン波形の１点が指定されると、当該１点をもとにスキャン波形を生成するステップと、生成したスキャン波形を波形発生器に送信してスキャン波形で電子ビームを物質に照射した状態でスキャンして加熱させるステップとを有する電子源装置におけるスキャン方法である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子源から放出されて加速された電子ビームを物質に照射した状態でスキャンして加熱し、対向して配置した基板上に当該物質を蒸着させる電子源装置におけるスキャン方法および電子源装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、電子源装置を構成する電子源から放出されて加速された電子ビームを１８０度、あるいは更に回転させてルツボ内の試料に照射して当該試料を加熱・溶解して蒸発させ、対向して配置した基板上に蒸着することが行われている。この際、電子源から加速された電子ビームを１８０度、あるいは更に回転させてルツボ内の試料を照射するときに、通常、Ｘ方向に５０Ｈｚ、Ｙ方向に５００Ｈｚでスキャンして均一に加熱して当該試料を溶解していた。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、試料のサイズを大きくして電子ビームでスキャンする面積を大きくしたりした場合、例えば単に電子ビームのスキャン長さと幅を大きくしてスキャンして試料を加熱・溶解すると、溶けあとが平坦にならなくなってしまい、試料（材料）が部分的に大きく解けてしまい、蒸着回数が少なくなり試料（材料）が無駄になってしまうなどの問題があった。
【０００４】
そのため、使用者が電子ビームのスキャン波形を画面上でリアルタイムに任意に作成あるいは修正を簡易に施して反映し、試料（材料）の溶けあとが可及的に平坦で有効利用されるようにすることが望まれている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、これらの問題を解決するため、画面上で電子ビームのスキャン波形の１点を指定すると当該１点をもとにスキャン波形を作成したり、作成したスキャン波形が所望でないときは当該スキャン波形の１点を指定すると当該１点をもとにスキャン波形に部分修正を施すことを目的としている。
【発明の効果】
【０００６】
本発明は、画面上で電子ビームのスキャン波形の１点を指定すると当該１点をもとにスキャン波形を作成したり、作成したスキャン波形が所望でないときは当該スキャン波形の１点を指定すると当該１点をもとにスキャン波形に部分修正を施し、使用者が簡易に試料（材料）の溶けあとが可及的に平坦で有効利用されるように調整することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
本発明は、画面上で電子ビームのスキャン波形の１点を指定すると当該１点をもとにスキャン波形を作成したり、作成したスキャン波形が所望でないときは当該スキャン波形の１点を指定すると当該１点をもとにスキャン波形に部分修正を施すことを実現した。
【実施例１】
【０００８】
図１は、本発明の１実施例構成図を示す。
図１の（ａ）は、スキャン波形を生成する１実施例構成図を示す。
【０００９】
図１の（ａ）において、ＰＣ１は、パーソナルコンピュータであって、プログラムに従い各種制御、スキャン波形計算などを行うものである（図２を用いて後述する）。
【００１０】
マスタ（ＣＰＵ１）３は、ＰＣ１からＲＳ２３２Ｃ信号線を介して送信されてきたスキャン波形を受信したり、受信したスキャン波形のうちＸ波形用のスキャン波形をバス４を介してＣＰＵ２に送信したり、Ｙ波形用のスキャン波形をバス４を介してＣＰＵ３に送信したりなどするものである。
【００１１】
ＣＰＵ２は、Ｘ波形用のスキャン波形をＤＡ１に設定したり、Ｘ周波数ＵＰ／ＤＯＷＮ ＳＷ６Ｘ、ＸスキャンＯＮ／ＯＦＦ ＳＷ７Ｘが操作されたときにスキャン周波数をアップ／ダウン、オン／オフしたりなどするものである。ＣＰＵ２を設けたことで、使用者はスキャン波形のＸ周波数を任意にアップしたり、ダウンしたり、ストップしたり、開始したり操作することが可能となる。Ｘ周波数のアップ／ダウンは、スキャン波形の各滞留する時間を短く、あるいは長くすることで周波数をアップあるいはダウンする（図６の（ｂ），（ｃ）参照）。Ｘスキャンの周波数は、例えば３７Ｈｚから５００Ｈｚの範囲内で増減可能である。
【００１２】
ＣＰＵ３は、Ｙ波形用のスキャン波形をＤＡ２に設定したり、Ｙ周波数ＵＰ／ＤＯＷＮ ＳＷ６Ｙ、ＹスキャンＯＮ／ＯＦＦ ＳＷ７Ｙが操作されたときにスキャン周波数をアップ／ダウン、オン／オフしたりなどするものである。ＣＰＵ３を設けたことで、使用者はスキャン波形のＹ周波数を任意にアップしたり、ダウンしたり，ストップしたり、開始したり操作することが可能となる。Ｙ周波数のアップ／ダウンは、スキャン波形の各滞留する時間を短く、あるいは長くすることで周波数をアップあるいはダウンする（図６の（ｂ），（ｃ）参照）。Ｙスキャンの周波数のアップ／ダウンは、例えば３４０Ｈｚから８００Ｈｚの範囲内で増減可能である。
【００１３】
ＤＡ１は、設定されたスキャン波形のデータに従い、Ｘ波形用のアナログのＸスキャン信号を生成するものである。
【００１４】
ＤＡ２は、設定されたスキャン波形のデータに従い、Ｙ波形用のアナログのＹスキャン信号を生成するものである。
【００１５】
ＥＢスキャン回路１０は、ＤＡ１、ＤＡ２から信号線９を介して送られてきたアナログのスキャン波形信号（Ｘ，Ｙ）に従い、Ｘスキャンコイル１３，Ｙスキャンコイル１２にスキャン電流（Ｘ，Ｙ）をそれぞれ供給し、電子ビーム１５がルツボ１８内の材料を走査して加熱させるためのものである。
【００１６】
図１の（ｂ）は、電子源装置の概略模式図を示す。
図１の（ｂ）において、チャンバ１１は、ルツボ１８などの図示のものを真空中に保持するための部屋である。
【００１７】
Ｘスキャンコイル１３、Ｙスキャンコイル１２は、図１の（ａ）で上述したＥＢスキャン回路１０から供給されたスキャン電流（Ｘ、Ｙ）でそれぞれ駆動され、電子ビーム１５がルツボ内の材料をＸ方向およびＹ方向に走査して加熱し、当該材料を溶解して蒸発させるためのものである。
【００１８】
フィラメント１４は、電子ビーム１５を発生するものであって、公知のヘアピン型のタングステンフィラメントであり、加熱して先端から熱電子を放出するものである。
【００１９】
電子ビーム１５は、フィラメント１４から図示外のアノードに印加した電圧で加速されて放出された細く絞られた電子ビームである。電子ビーム１５は、フィラメント１４から放出され、図示外の静磁界によりここでは、約２７０°回転し、ルツボ１５内の材料に照射し、加熱する。
【００２０】
カメラ１６は、ルツボ１８内に設置した材料が電子ビーム１５で溶かされて蒸発した状態を撮影し、図１の（ａ）のＰＣ１の画面上に当該材料の溶けあとの画像を表示し、使用者に当該溶けあとの画像を見て、後述する図２から図６に従い、スキャン波形（Ｘ、Ｙ）を適切に調整し、当該材料の溶けあとが可及的に平坦になるように調整するためのものである。カメラ１６は、電子ビーム１５で材料を照射しつつ走査して加熱しているときは、当該材料が蒸発しても当該カメラ１６に付着しないように、カメラ移動機構１７によって材料から見えない位置に移動したり、あるいはチャンバ１１に窓を設けて当該窓の外側に配置したりする。窓の外側にカメラ１６を設けたときは、電子ビーム１５で材料を加熱時は窓に設けたシャッターを閉じ、加熱終了後にシャッターを開けてカメラ１６で材料の溶けあとの画像を撮影する。
【００２１】
蒸着材料２１は、電子ビーム１５を照射しつつ走査し、加熱して対向して配置した基板に蒸着するための材料である。
【００２２】
次に、図２のフローチャートの順番に従い、図１の構成の動作を詳細に説明する。
図２は、本発明の動作説明フローチャートを示す。
【００２３】
図２において、Ｓ１は、波形作成画面を表示する。これは、例えば後述する図３の波形作成画面を表示する。
【００２４】
Ｓ２は、材料を選択する。これは、電子ビーム１５で照射して加熱する材料を選択する。これは、図３の波形作成画面の図示外の材料一覧から材料を選択する。選択された材料が既知の材料（既にスキャン波形を作成済みの材料）と判明した場合には、既知の材料のデフォルト波形（既に作成されたスキャン波形）を使用し、終了する。一方、新規の材料の場合には、当該新規の材料に適したスキャン波形を使用者が作成するために、Ｓ３以降に進む。
【００２５】
Ｓ３は、基本波形作成画面上で、任意の場所をマウスでクリックし、半周期分の波形作成に必要なｘ，ｙデータを取得する。これは、図３の下左の基本波形画面（ここでは、半周期を４分割したメッシュを表示した基本波形画面）上で、スキャン波形が通る１点（あるいは近傍の１点）をマウスでクリックし、当該クリックしたｘ，ｙデータを取り込む。
【００２６】
Ｓ４は、ｘ，ｙデータを式に代入し、半周期波形計算する。これにより、Ｓ３でクリックしたｘ，ｙデータを通る（あるいは近傍を通る、以下同一）半周期のスキャン波形、例えば後述する図５の左端の半周期のスキャン波形が計算されたこととなる。
【００２７】
Ｓ５は、半周期波形を基本波形作成画面に表示する。これは、Ｓ４で計算した半周期波形を、図３の下左の基本画面上に表示する。
【００２８】
Ｓ６は、半周期波形をミラーコピーし、右側のミラーコピー画面に表示する。これは、Ｓ５で図３の下左の基本画面上に半周期のスキャン波形を表示し、これをミラーコピーして右側のミラーコピー画面に表示し、結果として後述する図５の右側の１周期分のスキャン波形を表示する。
【００２９】
Ｓ７は、ＯＫか判別する。これは、Ｓ６で表示した１周期分のスキャン波形を使用者が見てＯＫか判別する。ＹＥＳの場合には、Ｓ８に進む。ＮＯの場合には、Ｓ３に戻り繰り返す。
【００３０】
Ｓ８は、波形発生部にデータ転送する。
Ｓ９は、材料を蒸着する。これらＳ８、Ｓ９は、ＯＫとなったスキャン波形をＤＡ１，ＤＡ２に設定し、アナログのスキャン信号に変換してＥＢスキャン回路１０に入力し、当該スキャン波形で電子ビーム１５を走査して材料を加熱し、対向して配置した基板の上に蒸着する。
【００３１】
Ｓ１０は、溶融面を観察（肉眼あるいはカメラ画像）する。これは、蒸着を終了した後、材料の溶融面を観察してその平坦からのずれを認識したり、カメラ１６で撮影した材料の溶融面の画像を画面上に表示し、これを使用者が見て平坦からのずれを認識する。
【００３２】
Ｓ１１は、ＯＫか判別する。これは、Ｓ１０で材料の溶融面がほぼ平坦でスキャン波形が適切でＯＫか判別する。ＹＥＳの場合には、終了する。ＮＯの場合には、Ｓ３に戻り繰り返したり、あるいは、後述する図６に示すように、ミラーコピー画面上でスキャン波形を表示して修正したい点をマスクでクリックして当該クリックした点（あるいは近傍の点）になるようにスキャン波形を部分的に修正し、Ｓ７に戻り繰り返す。
【００３３】
以上によって、使用者は図３の基本波形画面上でスキャン波形の通る１点（あるいは近傍の１点）をマスクでクリックすると、自動的に当該１点（あるいは近傍）を通る半周期のスキャン波形を作成し、更に、これをミラーコピーして１周期分のスキャン波形を自動作成して表示し、使用者がＯＫとしたときに当該スキャン波形で電子ビーム１５をスキャンして材料を加熱し、蒸着する。蒸着終了後に、材料の溶融面を直接に肉眼で見る、あるいはカメラで撮影した画像を見て、材料の溶融面が平坦でなく不適切と判明したときは、図３の下段の基本波形画面上でスキャン波形を再度作成しなおす、あるいは、図３の下段のミラーコピー画面上で図６に示すようにしてスキャン波形の修正したい近傍をマウスでクリックすると当該クリックした点（あるいは近傍）を通るように一部分を修正した半周期のスキャン波形を生成し、左側にミラーコピーして１周期分のスキャン波形に修正する。そして、再作成したスキャン波形あるいは１部分を修正したスキャン波形をもとに、電子ビーム１５をスキャンして材料を加熱し、蒸着することが可能となる。
【００３４】
図３は、本発明の画面例を示す。これは、使用者がスキャン波形を作成したり、作成したスキャン波形を修正したりなどする画面例である。
【００３５】
図３において、振幅調整ボタンは、スキャン波形（Ｘ，Ｙ）の振幅（電子ビーム１５の走査幅（Ｘ，Ｙ））を調整するためのものである。
【００３６】
データ送信ボタンは、作成あるいは修正した後のスキャン波形（Ｘ、Ｙ）をスキャン発生部に送信し、実際に反映するためのものである。
【００３７】
データ保存／読込ボタンは、材料毎の作成あるいは修正した後のスキャン波形（Ｘ，Ｙ）を保存したり、保存したデータを読み込んだりするものである。
【００３８】
上段のＸスキャンの部分は、作成あるいは修正したＸスキャン波形、振幅、周波数などを表示したり、修正したりなどするための画面である。
【００３９】
中段のＹスキャンの部分は、作成あるいは修正したＹスキャン波形、振幅、周波数などを表示したり、修正したりなどするための画面である。
【００４０】
下段の左側の基本波形画面は、使用者がマスクでクリックして作成したいスキャン波形が通る１点を指定したり、当該指定した１点（あるいは近傍）を通る半分の作成したスキャン波形を表示したりなどするものである。
【００４１】
下段の右側のミラーコピー画面は、左側の半分のスキャン波形をミラーコピーしたスキャン波形を表示したり、表示されたスキャン波形について修正したいときにマスクでクリックした１点を通る（あるいは近傍を通る）スキャン波形になるように部分修正して表示およびこれをミラーコピーして左側の基本波形画面に表示したりなどするためのものである（図６参照）。
【００４２】
以上のように、使用者は基本波形画面上で１点を指定すると当該１点（あるいは近傍）を通る半分のスキャン波形を作成および右側にミラーコピーしてスキャン波形を作成して表示し、データ送信ボタンを押下して波形発生部に送信して実際のスキャン波形に反映することが可能となる。そして、スキャン波形で実際に電子ビーム１５を材料に照射し走査して溶解して蒸着し、蒸着終了後などに材料の溶融面を肉眼で観察、あるいはカメラで撮影した溶融面の画像を観察し、溶融面が平坦でなく不適切の場合には、ミラーコピー画面上でスキャン波形の１点をマウスでクリックしてその近傍のスキャン波形を修正および基本波形画面にミラーコピーして１周期分のスキャン波形を作成したり、基本波形画面上で再度、１点をマウスでクリックして再作成させたりすることが極めて容易に可能となった。
【００４３】
尚、必要に応じて、上段のＸスキャンの部分の振幅調整ボタンを押下してＸスキャンの振幅を増減したり、中段のＹスキャンの部分の振幅調整ボタンを押下してＹスキャンの振幅を増減したり、更に、図示外の周波数ボタンを押下してそれぞれの周波数を増減したりすることが可能である。
【００４４】
図４は、本発明の説明図（スキャン波形の生成）を示す。これは、図３の下左の基本波形画面上で使用者が１点をマウスでクリックして指定すると、当該１点を通る半分のスキャン波形を算出する手順の例を説明したものである。
【００４５】
式（１）は、本実施例で用いるスキャン波形を計算する計算式の例を示す。図示の式（１）は、円を描く式であって、ここでは、（ａ）に示すように、１／４の部分を用いる。式（１）を変形すると、式（２）、式（３）に示すようになる。
【００４６】
式（２）、式（３）を直感的に扱い易くかつ直感的に波形を生成するために、式（１）のａ，ｂを式（４）、式（５）と置き、当該式（１）に代入してｙ，ｘについて変形すると式（６）、式（７）が得られる。
【００４７】
ここで、既述した図３の下左の基本波形画面上で、（ｂ）に示すように、任意の１点をマウスでクリックすると、左下を原点とし、ｘ座標のｎ，ｙ座標のｍを得る（ｎ，ｍは０から１の間の値）。式（６）のｘ１には、ｘ座標の０から１までの間を２５分割した値を代入し、ｙを式（７）のｙに代入する。マウスでクリックした点のｎ，ｍはそれぞれ式（４）、式（５）に代入する。
【００４８】
以上の手順により、スキャン波形の半周期分の波形（ｃ−１）を作成する（図３の基本波形画面）。作成した（ｃ−１）の半周期分の波形を、ミラーコピーして（ｃ−２）の波形を生成し（図３のミラーコピー画面）、全体で１周期分のスキャン波形を生成する。
【００４９】
以上のように、使用者が図３の基本波形画面上でマスクをクリックして１点を指定する（図４の（ｂ））と、当該１点（あるいは近傍）を通る半分のスキャン波形を作成し（図４の（ｃ−１）、図３の基本波形画面）、これをミラーコピーして残りの半分のスキャン波形を作成し（図４の（ｃ−２）、図３のミラーコピー画面）、両者を合わせて１周期分のスキャン波形を自動作成することが可能となる。
【００５０】
図５は、本発明のスキャン波形の生成例を示す。
左側は、図３の基本波形画面上で使用者がマスクでクリックして１点を指定する位置の例および当該１点（あるいは近傍）を通る半分の生成したスキャン波形の例を（ａ）から（ｅ）にそれぞれ示す。
【００５１】
中央は、左側の半分のスキャン波形をミラーコピーした半分のスキャン波形の例を（ａ）から（ｅ）にそれぞれ示す。
【００５２】
右側は、左側と中央とを合わせて１周期のスキャン波形の例を（ａ）から（ｅ）にそれぞれ示す。
【００５３】
以上のように、使用者が図３の左下の基本波形画面上でマスクでクリックして１点を指定すると、当該１点（あるいは近傍）を通る半分のスキャン波形を図４に従い自動作成して表示およびミラーコピーして１周期分の任意形状のスキャン波形を自動作成することが可能となる。
【００５４】
図６は、本発明の説明図を示す。
図６の（ａ）は、修正例を示す。これは、既述した図２のフローチャートに従い作成した１周期分のスキャン波形について、右側のミラーコピー画面上で、修正したい場所をマスクでクリックして指定すると、図示ように、クリックした１点の近傍の波形を部分的に図示のように修正（図では持ち上げ）し、これを左側の基本波形画面にミラーコピーし、１周期分のスキャン波形を修正する。尚、修正時は、図示のように、振幅は例えば１７５分割、１周期は例えば５０分割し、マスクでクリックした１点が最も近い分割点と判定し、各分割点の位置を図示のように部分的に修正する（例では、図示の角度の三角形の頂点をマスクでクリックした１点としてスキャン波形を持ち上げた形で修正する（三角形の頂点の角度は予め実験で求めて決めておく））。
【００５５】
図６の（ｂ）は、周波数を低くする例を示す。スキャン波形の周波数を低くするには、ここでは、各分割点で滞在する時間をそれぞれ図示の斜線のように長くして調整する。
【００５６】
図６の（ｃ）は、周波数を高くする例を示す。スキャン波形の周波数を高くするには、ここでは、各分割点で滞在する時間をそれぞれ図示の斜線のように短くして調整する。
【００５７】
図７は、本発明の説明図（画像）を示す。
図７において、蒸着材料は、電子ビーム１５で照射しつつ走査して加熱し、図示外の対向して配置した基板上に蒸着するための材料である。
【００５８】
カメラ１６は、蒸着材料のほぼ真上から当該蒸着材料の溶融面を撮影して画像を生成し、既述した図１のＰＣ１の画面上に表示するものである。
【００５９】
以上の構成のもとで、蒸着を終了した後の蒸着材料２１をカメラ１６で撮影してその画像をＰＣ１の画面上に表示（例えば図３の上段の左側に表示）し、この表示された蒸着材料の溶融面の画像を使用者が見て、図３の下段の基本波形画面でスキャン波形を再作成したり、図３の下段のミラーコピー画面上で現在のスキャン波形を表示して修正したり（図６の（ａ））し、当該画像上で蒸着材料の溶融面が可及的に平坦で有効利用できるように修正することが可能となる。
【００６０】
尚、実施例では基本波形画面上で１点を指定し、指定された１点を通る半分のスキャン波形を図４に従い作成するとしたが、これに限られることなく、指定された１点の含まれる分割点を通るとしたり、いずれにしても指定された１点の座標で決まる半分のスキャン波形を作成できればよい。
【産業上の利用可能性】
【００６１】
本発明は、使用者が簡易に試料（材料）の溶けあとが可及的に平坦で有効利用されるように調整可能にする電子源装置におけるスキャン方法および電子源装置に関するものである。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】本発明の１実施例構成図である。
【図２】本発明の動作説明フローチャートである。
【図３】本発明の画面例である。
【図４】本発明の説明図（スキャン波形の生成）である。
【図５】本発明のスキャン波形の生成例である。
【図６】本発明の説明図である。
【図７】本発明の説明図（画像）である。
【符号の説明】
【００６３】
１：ＰＣ
３：ＣＰＵ
４：バス
６Ｘ：Ｘ周波数ＵＰ／ＤＯＷＮ ＳＷ
６Ｙ：Ｙ周波数ＵＰ／ＤＯＷＮ ＳＷ
７Ｘ：ＸスキャンＯＮ／ＯＦＦ ＳＷ
７Ｙ：ＹスキャンＯＮ／ＯＦＦ ＳＷ
９：信号線
１０：ＥＢスキャン回路
１１：チャンバ
１２：Ｙスキャンコイル
１３：Ｘスキャンコイル
１４：フィラメント
１５：電子ビーム
１６：カメラ
１７：カメラ移動機構
１８：ルツボ
２１：蒸着材料
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子源から放出されて加速された電子ビームを物質に照射した状態でスキャンして加熱し、対向して配置した基板上に当該物質を蒸着させる電子源装置におけるスキャン方法および電子源装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、電子源装置を構成する電子源から放出されて加速された電子ビームを１８０度、あるいは更に回転させてルツボ内の試料に照射して当該試料を加熱・溶解して蒸発させ、対向して配置した基板上に蒸着することが行われている。この際、電子源から加速された電子ビームを１８０度、あるいは更に回転させてルツボ内の試料を照射するときに、通常、Ｘ方向に５０Ｈｚ、Ｙ方向に５００Ｈｚでスキャンして均一に加熱して当該試料を溶解していた。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、試料のサイズを大きくして電子ビームでスキャンする面積を大きくしたりした場合、例えば単に電子ビームのスキャン長さと幅を大きくしてスキャンして試料を加熱・溶解すると、溶けあとが平坦にならなくなってしまい、試料（材料）が部分的に大きく解けてしまい、蒸着回数が少なくなり試料（材料）が無駄になってしまうなどの問題があった。
【０００４】
そのため、使用者が電子ビームのスキャン波形を画面上でリアルタイムに任意に作成あるいは修正を簡易に施して反映し、試料（材料）の溶けあとが可及的に平坦で有効利用されるようにすることが望まれている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、これらの問題を解決するため、画面上で電子ビームのスキャン波形の１点を指定すると当該１点をもとにスキャン波形を作成したり、作成したスキャン波形が所望でないときは当該スキャン波形の１点を指定すると当該１点をもとにスキャン波形に部分修正を施すことを目的としている。
【発明の効果】
【０００６】
本発明は、画面上で電子ビームのスキャン波形の１点を指定すると当該１点をもとにスキャン波形を作成したり、作成したスキャン波形が所望でないときは当該スキャン波形の１点を指定すると当該１点をもとにスキャン波形に部分修正を施し、使用者が簡易に試料（材料）の溶けあとが可及的に平坦で有効利用されるように調整することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
本発明は、画面上で電子ビームのスキャン波形の１点を指定すると当該１点をもとにスキャン波形を作成したり、作成したスキャン波形が所望でないときは当該スキャン波形の１点を指定すると当該１点をもとにスキャン波形に部分修正を施すことを実現した。
【実施例１】
【０００８】
図１は、本発明の１実施例構成図を示す。
図１の（ａ）は、スキャン波形を生成する１実施例構成図を示す。
【０００９】
図１の（ａ）において、ＰＣ１は、パーソナルコンピュータであって、プログラムに従い各種制御、スキャン波形計算などを行うものである（図２を用いて後述する）。
【００１０】
マスタ（ＣＰＵ１）３は、ＰＣ１からＲＳ２３２Ｃ信号線を介して送信されてきたスキャン波形を受信したり、受信したスキャン波形のうちＸ波形用のスキャン波形をバス４を介してＣＰＵ２に送信したり、Ｙ波形用のスキャン波形をバス４を介してＣＰＵ３に送信したりなどするものである。
【００１１】
ＣＰＵ２は、Ｘ波形用のスキャン波形をＤＡ１に設定したり、Ｘ周波数ＵＰ／ＤＯＷＮ ＳＷ６Ｘ、ＸスキャンＯＮ／ＯＦＦ ＳＷ７Ｘが操作されたときにスキャン周波数をアップ／ダウン、オン／オフしたりなどするものである。ＣＰＵ２を設けたことで、使用者はスキャン波形のＸ周波数を任意にアップしたり、ダウンしたり、ストップしたり、開始したり操作することが可能となる。Ｘ周波数のアップ／ダウンは、スキャン波形の各滞留する時間を短く、あるいは長くすることで周波数をアップあるいはダウンする（図６の（ｂ），（ｃ）参照）。Ｘスキャンの周波数は、例えば３７Ｈｚから５００Ｈｚの範囲内で増減可能である。
【００１２】
ＣＰＵ３は、Ｙ波形用のスキャン波形をＤＡ２に設定したり、Ｙ周波数ＵＰ／ＤＯＷＮ ＳＷ６Ｙ、ＹスキャンＯＮ／ＯＦＦ ＳＷ７Ｙが操作されたときにスキャン周波数をアップ／ダウン、オン／オフしたりなどするものである。ＣＰＵ３を設けたことで、使用者はスキャン波形のＹ周波数を任意にアップしたり、ダウンしたり，ストップしたり、開始したり操作することが可能となる。Ｙ周波数のアップ／ダウンは、スキャン波形の各滞留する時間を短く、あるいは長くすることで周波数をアップあるいはダウンする（図６の（ｂ），（ｃ）参照）。Ｙスキャンの周波数のアップ／ダウンは、例えば３４０Ｈｚから８００Ｈｚの範囲内で増減可能である。
【００１３】
ＤＡ１は、設定されたスキャン波形のデータに従い、Ｘ波形用のアナログのＸスキャン信号を生成するものである。
【００１４】
ＤＡ２は、設定されたスキャン波形のデータに従い、Ｙ波形用のアナログのＹスキャン信号を生成するものである。
【００１５】
ＥＢスキャン回路１０は、ＤＡ１、ＤＡ２から信号線９を介して送られてきたアナログのスキャン波形信号（Ｘ，Ｙ）に従い、Ｘスキャンコイル１３，Ｙスキャンコイル１２にスキャン電流（Ｘ，Ｙ）をそれぞれ供給し、電子ビーム１５がルツボ１８内の材料を走査して加熱させるためのものである。
【００１６】
図１の（ｂ）は、電子源装置の概略模式図を示す。
図１の（ｂ）において、チャンバ１１は、ルツボ１８などの図示のものを真空中に保持するための部屋である。
【００１７】
Ｘスキャンコイル１３、Ｙスキャンコイル１２は、図１の（ａ）で上述したＥＢスキャン回路１０から供給されたスキャン電流（Ｘ、Ｙ）でそれぞれ駆動され、電子ビーム１５がルツボ内の材料をＸ方向およびＹ方向に走査して加熱し、当該材料を溶解して蒸発させるためのものである。
【００１８】
フィラメント１４は、電子ビーム１５を発生するものであって、公知のヘアピン型のタングステンフィラメントであり、加熱して先端から熱電子を放出するものである。
【００１９】
電子ビーム１５は、フィラメント１４から図示外のアノードに印加した電圧で加速されて放出された細く絞られた電子ビームである。電子ビーム１５は、フィラメント１４から放出され、図示外の静磁界によりここでは、約２７０°回転し、ルツボ１５内の材料に照射し、加熱する。
【００２０】
カメラ１６は、ルツボ１８内に設置した材料が電子ビーム１５で溶かされて蒸発した状態を撮影し、図１の（ａ）のＰＣ１の画面上に当該材料の溶けあとの画像を表示し、使用者に当該溶けあとの画像を見て、後述する図２から図６に従い、スキャン波形（Ｘ、Ｙ）を適切に調整し、当該材料の溶けあとが可及的に平坦になるように調整するためのものである。カメラ１６は、電子ビーム１５で材料を照射しつつ走査して加熱しているときは、当該材料が蒸発しても当該カメラ１６に付着しないように、カメラ移動機構１７によって材料から見えない位置に移動したり、あるいはチャンバ１１に窓を設けて当該窓の外側に配置したりする。窓の外側にカメラ１６を設けたときは、電子ビーム１５で材料を加熱時は窓に設けたシャッターを閉じ、加熱終了後にシャッターを開けてカメラ１６で材料の溶けあとの画像を撮影する。
【００２１】
蒸着材料２１は、電子ビーム１５を照射しつつ走査し、加熱して対向して配置した基板に蒸着するための材料である。
【００２２】
次に、図２のフローチャートの順番に従い、図１の構成の動作を詳細に説明する。
図２は、本発明の動作説明フローチャートを示す。
【００２３】
図２において、Ｓ１は、波形作成画面を表示する。これは、例えば後述する図３の波形作成画面を表示する。
【００２４】
Ｓ２は、材料を選択する。これは、電子ビーム１５で照射して加熱する材料を選択する。これは、図３の波形作成画面の図示外の材料一覧から材料を選択する。選択された材料が既知の材料（既にスキャン波形を作成済みの材料）と判明した場合には、既知の材料のデフォルト波形（既に作成されたスキャン波形）を使用し、終了する。一方、新規の材料の場合には、当該新規の材料に適したスキャン波形を使用者が作成するために、Ｓ３以降に進む。
【００２５】
Ｓ３は、基本波形作成画面上で、任意の場所をマウスでクリックし、半周期分の波形作成に必要なｘ，ｙデータを取得する。これは、図３の下左の基本波形画面（ここでは、半周期を４分割したメッシュを表示した基本波形画面）上で、スキャン波形が通る１点（あるいは近傍の１点）をマウスでクリックし、当該クリックしたｘ，ｙデータを取り込む。
【００２６】
Ｓ４は、ｘ，ｙデータを式に代入し、半周期波形計算する。これにより、Ｓ３でクリックしたｘ，ｙデータを通る（あるいは近傍を通る、以下同一）半周期のスキャン波形、例えば後述する図５の左端の半周期のスキャン波形が計算されたこととなる。
【００２７】
Ｓ５は、半周期波形を基本波形作成画面に表示する。これは、Ｓ４で計算した半周期波形を、図３の下左の基本画面上に表示する。
【００２８】
Ｓ６は、半周期波形をミラーコピーし、右側のミラーコピー画面に表示する。これは、Ｓ５で図３の下左の基本画面上に半周期のスキャン波形を表示し、これをミラーコピーして右側のミラーコピー画面に表示し、結果として後述する図５の右側の１周期分のスキャン波形を表示する。
【００２９】
Ｓ７は、ＯＫか判別する。これは、Ｓ６で表示した１周期分のスキャン波形を使用者が見てＯＫか判別する。ＹＥＳの場合には、Ｓ８に進む。ＮＯの場合には、Ｓ３に戻り繰り返す。
【００３０】
Ｓ８は、波形発生部にデータ転送する。
Ｓ９は、材料を蒸着する。これらＳ８、Ｓ９は、ＯＫとなったスキャン波形をＤＡ１，ＤＡ２に設定し、アナログのスキャン信号に変換してＥＢスキャン回路１０に入力し、当該スキャン波形で電子ビーム１５を走査して材料を加熱し、対向して配置した基板の上に蒸着する。
【００３１】
Ｓ１０は、溶融面を観察（肉眼あるいはカメラ画像）する。これは、蒸着を終了した後、材料の溶融面を観察してその平坦からのずれを認識したり、カメラ１６で撮影した材料の溶融面の画像を画面上に表示し、これを使用者が見て平坦からのずれを認識する。
【００３２】
Ｓ１１は、ＯＫか判別する。これは、Ｓ１０で材料の溶融面がほぼ平坦でスキャン波形が適切でＯＫか判別する。ＹＥＳの場合には、終了する。ＮＯの場合には、Ｓ３に戻り繰り返したり、あるいは、後述する図６に示すように、ミラーコピー画面上でスキャン波形を表示して修正したい点をマスクでクリックして当該クリックした点（あるいは近傍の点）になるようにスキャン波形を部分的に修正し、Ｓ７に戻り繰り返す。
【００３３】
以上によって、使用者は図３の基本波形画面上でスキャン波形の通る１点（あるいは近傍の１点）をマスクでクリックすると、自動的に当該１点（あるいは近傍）を通る半周期のスキャン波形を作成し、更に、これをミラーコピーして１周期分のスキャン波形を自動作成して表示し、使用者がＯＫとしたときに当該スキャン波形で電子ビーム１５をスキャンして材料を加熱し、蒸着する。蒸着終了後に、材料の溶融面を直接に肉眼で見る、あるいはカメラで撮影した画像を見て、材料の溶融面が平坦でなく不適切と判明したときは、図３の下段の基本波形画面上でスキャン波形を再度作成しなおす、あるいは、図３の下段のミラーコピー画面上で図６に示すようにしてスキャン波形の修正したい近傍をマウスでクリックすると当該クリックした点（あるいは近傍）を通るように一部分を修正した半周期のスキャン波形を生成し、左側にミラーコピーして１周期分のスキャン波形に修正する。そして、再作成したスキャン波形あるいは１部分を修正したスキャン波形をもとに、電子ビーム１５をスキャンして材料を加熱し、蒸着することが可能となる。
【００３４】
図３は、本発明の画面例を示す。これは、使用者がスキャン波形を作成したり、作成したスキャン波形を修正したりなどする画面例である。
【００３５】
図３において、振幅調整ボタンは、スキャン波形（Ｘ，Ｙ）の振幅（電子ビーム１５の走査幅（Ｘ，Ｙ））を調整するためのものである。
【００３６】
データ送信ボタンは、作成あるいは修正した後のスキャン波形（Ｘ、Ｙ）をスキャン発生部に送信し、実際に反映するためのものである。
【００３７】
データ保存／読込ボタンは、材料毎の作成あるいは修正した後のスキャン波形（Ｘ，Ｙ）を保存したり、保存したデータを読み込んだりするものである。
【００３８】
上段のＸスキャンの部分は、作成あるいは修正したＸスキャン波形、振幅、周波数などを表示したり、修正したりなどするための画面である。
【００３９】
中段のＹスキャンの部分は、作成あるいは修正したＹスキャン波形、振幅、周波数などを表示したり、修正したりなどするための画面である。
【００４０】
下段の左側の基本波形画面は、使用者がマスクでクリックして作成したいスキャン波形が通る１点を指定したり、当該指定した１点（あるいは近傍）を通る半分の作成したスキャン波形を表示したりなどするものである。
【００４１】
下段の右側のミラーコピー画面は、左側の半分のスキャン波形をミラーコピーしたスキャン波形を表示したり、表示されたスキャン波形について修正したいときにマスクでクリックした１点を通る（あるいは近傍を通る）スキャン波形になるように部分修正して表示およびこれをミラーコピーして左側の基本波形画面に表示したりなどするためのものである（図６参照）。
【００４２】
以上のように、使用者は基本波形画面上で１点を指定すると当該１点（あるいは近傍）を通る半分のスキャン波形を作成および右側にミラーコピーしてスキャン波形を作成して表示し、データ送信ボタンを押下して波形発生部に送信して実際のスキャン波形に反映することが可能となる。そして、スキャン波形で実際に電子ビーム１５を材料に照射し走査して溶解して蒸着し、蒸着終了後などに材料の溶融面を肉眼で観察、あるいはカメラで撮影した溶融面の画像を観察し、溶融面が平坦でなく不適切の場合には、ミラーコピー画面上でスキャン波形の１点をマウスでクリックしてその近傍のスキャン波形を修正および基本波形画面にミラーコピーして１周期分のスキャン波形を作成したり、基本波形画面上で再度、１点をマウスでクリックして再作成させたりすることが極めて容易に可能となった。
【００４３】
尚、必要に応じて、上段のＸスキャンの部分の振幅調整ボタンを押下してＸスキャンの振幅を増減したり、中段のＹスキャンの部分の振幅調整ボタンを押下してＹスキャンの振幅を増減したり、更に、図示外の周波数ボタンを押下してそれぞれの周波数を増減したりすることが可能である。
【００４４】
図４は、本発明の説明図（スキャン波形の生成）を示す。これは、図３の下左の基本波形画面上で使用者が１点をマウスでクリックして指定すると、当該１点を通る半分のスキャン波形を算出する手順の例を説明したものである。
【００４５】
式（１）は、本実施例で用いるスキャン波形を計算する計算式の例を示す。図示の式（１）は、円を描く式であって、ここでは、（ａ）に示すように、１／４の部分を用いる。式（１）を変形すると、式（２）、式（３）に示すようになる。
【００４６】
式（２）、式（３）を直感的に扱い易くかつ直感的に波形を生成するために、式（１）のａ，ｂを式（４）、式（５）と置き、当該式（１）に代入してｙ，ｘについて変形すると式（６）、式（７）が得られる。
【００４７】
ここで、既述した図３の下左の基本波形画面上で、（ｂ）に示すように、任意の１点をマウスでクリックすると、左下を原点とし、ｘ座標のｎ，ｙ座標のｍを得る（ｎ，ｍは０から１の間の値）。式（６）のｘ１には、ｘ座標の０から１までの間を２５分割した値を代入し、ｙを式（７）のｙに代入する。マウスでクリックした点のｎ，ｍはそれぞれ式（４）、式（５）に代入する。
【００４８】
以上の手順により、スキャン波形の半周期分の波形（ｃ−１）を作成する（図３の基本波形画面）。作成した（ｃ−１）の半周期分の波形を、ミラーコピーして（ｃ−２）の波形を生成し（図３のミラーコピー画面）、全体で１周期分のスキャン波形を生成する。
【００４９】
以上のように、使用者が図３の基本波形画面上でマスクをクリックして１点を指定する（図４の（ｂ））と、当該１点（あるいは近傍）を通る半分のスキャン波形を作成し（図４の（ｃ−１）、図３の基本波形画面）、これをミラーコピーして残りの半分のスキャン波形を作成し（図４の（ｃ−２）、図３のミラーコピー画面）、両者を合わせて１周期分のスキャン波形を自動作成することが可能となる。
【００５０】
図５は、本発明のスキャン波形の生成例を示す。
左側は、図３の基本波形画面上で使用者がマスクでクリックして１点を指定する位置の例および当該１点（あるいは近傍）を通る半分の生成したスキャン波形の例を（ａ）から（ｅ）にそれぞれ示す。
【００５１】
中央は、左側の半分のスキャン波形をミラーコピーした半分のスキャン波形の例を（ａ）から（ｅ）にそれぞれ示す。
【００５２】
右側は、左側と中央とを合わせて１周期のスキャン波形の例を（ａ）から（ｅ）にそれぞれ示す。
【００５３】
以上のように、使用者が図３の左下の基本波形画面上でマスクでクリックして１点を指定すると、当該１点（あるいは近傍）を通る半分のスキャン波形を図４に従い自動作成して表示およびミラーコピーして１周期分の任意形状のスキャン波形を自動作成することが可能となる。
【００５４】
図６は、本発明の説明図を示す。
図６の（ａ）は、修正例を示す。これは、既述した図２のフローチャートに従い作成した１周期分のスキャン波形について、右側のミラーコピー画面上で、修正したい場所をマスクでクリックして指定すると、図示ように、クリックした１点の近傍の波形を部分的に図示のように修正（図では持ち上げ）し、これを左側の基本波形画面にミラーコピーし、１周期分のスキャン波形を修正する。尚、修正時は、図示のように、振幅は例えば１７５分割、１周期は例えば５０分割し、マスクでクリックした１点が最も近い分割点と判定し、各分割点の位置を図示のように部分的に修正する（例では、図示の角度の三角形の頂点をマスクでクリックした１点としてスキャン波形を持ち上げた形で修正する（三角形の頂点の角度は予め実験で求めて決めておく））。
【００５５】
図６の（ｂ）は、周波数を低くする例を示す。スキャン波形の周波数を低くするには、ここでは、各分割点で滞在する時間をそれぞれ図示の斜線のように長くして調整する。
【００５６】
図６の（ｃ）は、周波数を高くする例を示す。スキャン波形の周波数を高くするには、ここでは、各分割点で滞在する時間をそれぞれ図示の斜線のように短くして調整する。
【００５７】
図７は、本発明の説明図（画像）を示す。
図７において、蒸着材料は、電子ビーム１５で照射しつつ走査して加熱し、図示外の対向して配置した基板上に蒸着するための材料である。
【００５８】
カメラ１６は、蒸着材料のほぼ真上から当該蒸着材料の溶融面を撮影して画像を生成し、既述した図１のＰＣ１の画面上に表示するものである。
【００５９】
以上の構成のもとで、蒸着を終了した後の蒸着材料２１をカメラ１６で撮影してその画像をＰＣ１の画面上に表示（例えば図３の上段の左側に表示）し、この表示された蒸着材料の溶融面の画像を使用者が見て、図３の下段の基本波形画面でスキャン波形を再作成したり、図３の下段のミラーコピー画面上で現在のスキャン波形を表示して修正したり（図６の（ａ））し、当該画像上で蒸着材料の溶融面が可及的に平坦で有効利用できるように修正することが可能となる。
【００６０】
尚、実施例では基本波形画面上で１点を指定し、指定された１点を通る半分のスキャン波形を図４に従い作成するとしたが、これに限られることなく、指定された１点の含まれる分割点を通るとしたり、いずれにしても指定された１点の座標で決まる半分のスキャン波形を作成できればよい。
【産業上の利用可能性】
【００６１】
本発明は、使用者が簡易に試料（材料）の溶けあとが可及的に平坦で有効利用されるように調整可能にする電子源装置におけるスキャン方法および電子源装置に関するものである。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】本発明の１実施例構成図である。
【図２】本発明の動作説明フローチャートである。
【図３】本発明の画面例である。
【図４】本発明の説明図（スキャン波形の生成）である。
【図５】本発明のスキャン波形の生成例である。
【図６】本発明の説明図である。
【図７】本発明の説明図（画像）である。
【符号の説明】
【００６３】
１：ＰＣ
３：ＣＰＵ
４：バス
６Ｘ：Ｘ周波数ＵＰ／ＤＯＷＮ ＳＷ
６Ｙ：Ｙ周波数ＵＰ／ＤＯＷＮ ＳＷ
７Ｘ：ＸスキャンＯＮ／ＯＦＦ ＳＷ
７Ｙ：ＹスキャンＯＮ／ＯＦＦ ＳＷ
９：信号線
１０：ＥＢスキャン回路
１１：チャンバ
１２：Ｙスキャンコイル
１３：Ｘスキャンコイル
１４：フィラメント
１５：電子ビーム
１６：カメラ
１７：カメラ移動機構
１８：ルツボ
２１：蒸着材料
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子源から放出されて加速された電子ビームを物質に照射した状態でスキャンして加熱し、対向して配置した基板上に当該物質を蒸着させる電子源装置におけるスキャン方法において、
画面上で前記スキャンしようとするスキャン波形の１点が指定されると、当該１点をもとにスキャン波形を生成するステップと、
前記生成したスキャン波形を波形発生器に送信して当該スキャン波形で前記電子ビームを物質に照射した状態でスキャンして加熱させるステップと
を有する電子源装置におけるスキャン方法。
【請求項２】
前記画面上でスキャンしようとするスキャン波形の１点の指定として、画面上でスキャンしようとするスキャン波形の半分のスキャン波形の１点を指定し、当該１点をもとに半分のスキャン波形を生成した後、当該生成した半分のスキャン波形をミラーコピーして全体のスキャン波形を生成することを特徴とする請求項１記載の電子源装置におけるスキャン方法。
【請求項３】
前記生成したスキャン波形が表示された画面上で当該スキャン波形を修正しようとする１点が指定されると、当該１点をもとにスキャン波形に部分修正するステップを更に有することを特徴とする請求項１あるいは請求項２記載の電子源装置におけるスキャン方法。
【請求項４】
前記スキャン波形は、Ｘ方向のスキャン波形およびＹ方向のスキャン波形のいずれか１方あるいは両方について画面上でスキャンしようとするスキャン波形の１点を指定することを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載の電子源装置におけるスキャン方法。
【請求項５】
前記電子ビームを物質に照射して加熱した後の当該物質の溶けあとをカメラで撮影してその画像を表示し、当該表示した画像を見せて前記１点を指定させることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載の電子源装置におけるスキャン方法。
【請求項６】
電子源から放出されて加速された電子ビームを物質に照射して加熱し、対向して配置した基板上に当該物質を蒸着させる電子源装置において、
画面上でスキャンしようとするスキャン波形の１点が指定されると、当該１点をもとにスキャン波形を生成する手段と、
前記生成したスキャン波形を波形発生器に送信して当該スキャン波形で前記電子ビームを物質に照射した状態でスキャンして加熱させる手段と
を備えたことを特徴とする電子源装置。
【請求項１】
電子源から放出されて加速された電子ビームを物質に照射した状態でスキャンして加熱し、対向して配置した基板上に当該物質を蒸着させる電子源装置におけるスキャン方法において、
画面上で前記スキャンしようとするスキャン波形の１点が指定されると、当該１点をもとにスキャン波形を生成するステップと、
前記生成したスキャン波形を波形発生器に送信して当該スキャン波形で前記電子ビームを物質に照射した状態でスキャンして加熱させるステップと
を有する電子源装置におけるスキャン方法。
【請求項２】
前記画面上でスキャンしようとするスキャン波形の１点の指定として、画面上でスキャンしようとするスキャン波形の半分のスキャン波形の１点を指定し、当該１点をもとに半分のスキャン波形を生成した後、当該生成した半分のスキャン波形をミラーコピーして全体のスキャン波形を生成することを特徴とする請求項１記載の電子源装置におけるスキャン方法。
【請求項３】
前記生成したスキャン波形が表示された画面上で当該スキャン波形を修正しようとする１点が指定されると、当該１点をもとにスキャン波形に部分修正するステップを更に有することを特徴とする請求項１あるいは請求項２記載の電子源装置におけるスキャン方法。
【請求項４】
前記スキャン波形は、Ｘ方向のスキャン波形およびＹ方向のスキャン波形のいずれか１方あるいは両方について画面上でスキャンしようとするスキャン波形の１点を指定することを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載の電子源装置におけるスキャン方法。
【請求項５】
前記電子ビームを物質に照射して加熱した後の当該物質の溶けあとをカメラで撮影してその画像を表示し、当該表示した画像を見せて前記１点を指定させることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載の電子源装置におけるスキャン方法。
【請求項６】
電子源から放出されて加速された電子ビームを物質に照射して加熱し、対向して配置した基板上に当該物質を蒸着させる電子源装置において、
画面上でスキャンしようとするスキャン波形の１点が指定されると、当該１点をもとにスキャン波形を生成する手段と、
前記生成したスキャン波形を波形発生器に送信して当該スキャン波形で前記電子ビームを物質に照射した状態でスキャンして加熱させる手段と
を備えたことを特徴とする電子源装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【公開番号】特開２００７−４８６４８（Ｐ２００７−４８６４８Ａ）
【公開日】平成１９年２月２２日（２００７．２．２２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−２３３０１４（Ｐ２００５−２３３０１４）
【出願日】平成１７年８月１１日（２００５．８．１１）
【出願人】（５９２１１５８２５）日新技研株式会社 (10)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年２月２２日（２００７．２．２２）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年８月１１日（２００５．８．１１）
【出願人】（５９２１１５８２５）日新技研株式会社 (10)
【Ｆターム（参考）】
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