説明

電界発光高分子およびこれを利用した有機電界発光素子

【課題】電界発光高分子及びこれを利用した有機電界発光素子を提供する。
【解決手段】炭素数6〜26の2価の芳香基、または炭素数4〜20のヘテロ芳香基を含有する炭素連結構造単位の含有量をAモル%とし、フェノキサジン、フェノチアジンまたはその類似基を含有する炭素連結構造単位の含有量をBモル%としたとき、1≦A≦99、1≦B≦99(ただし、A+B=100)であり、重合度が10〜2,000である電界発光高分子。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、電界発光高分子およびこれを利用した有機電界発光素子に関する。
【背景技術】
【0002】
有機物を利用した電界発光素子は、コダック社のC.W.Tangにより機能分離された多層構造の素子が発表されて以来、軽量化、薄膜化および多様な色相の実現が容易であり、速いスイッチング速度と低い駆動電圧とで高い輝度を得ることができるという長所を伸ばすように、これまで10年余りの間、多くの研究が進められてきた。その結果、多層薄膜構造の導入による素子の均衡的な電荷注入、ドーピングを介した色相調節と量子効率向上、合金などを利用した新しい電極材料の開発など、短期間に素子の性能においてめざましい成長がなされた。
【0003】
有機電界発光ディスプレイは、構成材料から、低分子を利用した素子と高分子を利用した素子とに大別される。これらの違いは製作工程に影響し、低分子を利用した素子製造時には、真空蒸着を介して薄膜を形成し、発光材料の精製と高純度化とが容易であって、カラー画素を容易に製造できるという長所を有しているが、量子効率の向上、薄膜の結晶化そして色純度の向上など解決しなければならない問題点が相変らず残っている。低分子を利用した電界発光ディスプレイは、日本とアメリカとを中心に多くの研究が進められてきており、出光興産株式会社は、1997年に色変換層を利用したカラー方式で10インチフルカラーの有機電界発光ディスプレイを初めて公開し、その後すぐパイオニア株式会社でも、受動駆動方式の5インチフルカラーの有機電界発光ディスプレイを発表した。最近、パイオニア株式会社およびモトローラ社は、有機電界発光ディスプレイを端末機に採用した携帯電話機の量産に合意し、近い将来に低分子電界発光ディスプレイの商品化の可能性を示唆している。
【0004】
一方、高分子を利用した電界発光素子についての研究は、1990年ケンブリッジグループにより、π−共役高分子であるポリ(1,4−フェニレンビニレン)(PPV)に電気を加えたときに光が発光するという事実が報告された後、活発な研究が進められている。π−共役高分子は、単結合(またはσ−結合)と二重結合(またはπ−結合)とが交互に繰り返す化学構造を有しており、偏在化されておらず、結合鎖によって比較的自由に動くことができるπ−電子を有している。π−共役高分子は、かような半導体的な性質により、これらを電界発光素子の発光層に適用するとき、HOMO−LUMOバンドギャップに該当する全可視光領域の光を分子設計により容易に得ることができ、スピンコーティングまたはプリンティング法によって簡単に薄膜を形成することができる。また、高分子を利用した電界発光素子は、素子の製造工程が簡単であってコストが低く、高いガラス転移温度を有しているために、機械的性質に優れた薄膜が提供されうるという長所を有している。したがって、長期的には、低分子電界発光ディスプレイよりも商業的な面でさらに需要が拡大するものと予想される。
【0005】
しかし、高分子を利用した電界発光素子の場合、色純度低下、高い駆動電圧、低効率などが問題になっており、現在かような問題点を克服するための研究が活発に進められている。その一例として、フルオレン含有高分子を共重合させたり(特許文献1および非特許文献1参照)、ブレンドする(非特許文献2参照)などして、電界発光特性を向上させる案が提案されたが、今のところその向上の程度はまだ不十分な状態である。
【特許文献1】米国特許第6,169,163号明細書
【非特許文献1】Synthetic Metals, Vol.106, pp.115〜119, 1999
【非特許文献2】Applied Physics Letters, Vol.76, No.14, p.1810, 2000
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
本発明は、前記技術的問題点を解決するためのものであり、電界発光特性を向上させうる電界発光高分子を提供することを第一の目的とする。
【0007】
また、本発明は、前記電界発光高分子を含む有機膜を有する有機電界発光素子を提供することを第二の目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明者らは、前記技術的問題点に鑑み、鋭意研究を積み重ねた結果、下記化学式1で表される繰り返し単位と、容易な電荷移動性および青色発光特性を有する下記化学式2で表される繰り返し単位とを含む高分子が、優れた発光特性および安定性を有する電界発光高分子となりうることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0009】
すなわち、本発明は、下記化学式1で表される繰り返し単位の含有量をAモル%とし、下記化学式2で表される繰り返し単位の含有量をBモル%としたとき、1≦A≦99、1≦B≦99(ただし、A+B=100)であり、重合度が10〜2,000である電界発光高分子である。
【0010】
【化1】

【0011】
前記化学式1中、Arは、炭素数6〜26の2価の芳香族基、または炭素数4〜20の2価のヘテロ芳香族基であって、前記芳香族基または前記ヘテロ芳香族基に含まれている1つ以上の水素原子は、炭素数1〜12の直鎖状もしくは分枝状のアルキル基、炭素数1〜12の直鎖状もしくは分枝状のアルコキシ基、または−N(R’)(R’’)(ただし、R’およびR’’は、互いに独立して、水素原子または炭素数1〜12の直鎖状もしくは分枝状のアルキル基である)で表される基で置換されていてもよく、前記化学式2中、Xは、酸素原子、硫黄原子、または下記化学式3で表される基であり、
【0012】
【化2】

【0013】
この際、前記化学式3中のRおよびRは、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜12の直鎖状のアルキル基、炭素数3〜12の分枝状のアルキル基、または炭素数1〜12の直鎖状もしくは分枝状のアルコキシ基であり、Yは、フェニレン基、ナフチレン基、またはアントラセニレン基であり(ただし、Xが酸素原子、硫黄原子、またはCHである場合には、フェニレン基は除く)、Rは、水素原子、炭素数1〜12の直鎖状のアルキル基、炭素数3〜12の分枝状のアルキル基、炭素数1〜12の直鎖状もしくは分枝状のアルコキシ基、炭素数3〜12の環状アルキル基、または炭素数6〜14のアリール基であり、前記Rがアリール基である場合、前記Rに含まれている1つ以上の水素原子は、炭素数1〜12の直鎖状もしくは分枝状のアルキル基、炭素数1〜12の直鎖状もしくは分枝状のアルコキシ基、または−N(R’)(R’’)(ただし、R’およびR’’は、互いに独立して、水素原子または炭素数1〜12の直鎖状もしくは分枝状のアルキル基である)で置換されていてもよい。
【0014】
また、本発明は、一対の電極間に有機膜を備える有機電界発光素子において、前記有機膜が前記電界発光高分子を含むことを特徴とする有機電界発光素子を提供する。
【発明の効果】
【0015】
本発明の電界発光高分子は、発光特性および安定性にすぐれ、かような電界発光高分子を利用して形成された有機膜を、特に発光層に採用することにより、色純度、輝度および効率特性が向上した有機電界発光素子が得られうる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0016】
以下、本発明についてさらに詳細に説明する。
【0017】
本発明は、下記化学式1で表される繰り返し単位の含有量をAモル%とし、下記化学式2で表される繰り返し単位の含有量をBモル%としたとき、1≦A≦99、1≦B≦99(ただし、A+B=100)であり、重合度が10〜2,000である電界発光高分子を提供する。下記化学式2で表される繰り返し単位は、電荷の移動性が大きく、かつ青色発光が同時に可能であり、これを本発明の電界発光高分子に導入することにより、高分子の青色電界発光特性を向上させることができる。
【0018】
下記化学式1で表される繰り返し単位の含有量は、1〜99モル%、好ましくは80〜99モル%である。
【0019】
本発明の電界発光高分子の重合度は10〜2,000であり、好ましくは150〜400である。重合度が10以上であると、前記電界発光高分子が結晶化し難いため好ましい。重合度が2,000以下であると、前記電界発光高分子を製造し易いため好ましい。
【0020】
【化3】

【0021】
前記化学式1中、Arは、炭素数6〜26の2価の芳香族基、または炭素数4〜20の2価のヘテロ芳香族基であって、前記芳香族基または前記ヘテロ芳香族基に含まれる1つ以上の水素原子は、炭素数1〜12の直鎖状もしくは分枝状のアルキル基、炭素数1〜12の直鎖状もしくは分枝状のアルコキシ基、または−N(R’)(R’’)(ただし、R’およびR’’は、互いに独立して、水素原子または炭素数1〜12の直鎖状もしくは分枝状のアルキル基である)で表される基で置換されていてもよい。
【0022】
前記化学式2中、Xは、酸素原子、硫黄原子、または下記化学式3で表される基であり、
【0023】
【化4】

【0024】
この際、前記化学式3中のRおよびRは、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜12の直鎖状のアルキル基、炭素数3〜12の分枝状のアルキル基、または炭素数1〜12の直鎖状もしくは分枝状のアルコキシ基であり、Yは、フェニレン基、ナフチレン基、またはアントラセニレン基であり(ただし、Xが酸素原子、硫黄原子、またはCHである場合には、フェニレン基は除く)、Rは、水素原子、炭素数1〜12の直鎖状のアルキル基、炭素数3〜12の分枝状のアルキル基、炭素数1〜12の直鎖状もしくは分枝状のアルコキシ基、炭素数3〜12の環状アルキル基、または炭素数6〜14のアリール基であり、前記Rがアリール基である場合、前記Rに含まれている1つ以上の水素原子は、炭素数1〜12の直鎖状もしくは分枝状のアルキル基、炭素数1〜12の直鎖状もしくは分枝状のアルコキシ基、または−N(R’)(R’’)(ただし、R’およびR’’は、互いに独立して、水素原子または炭素数1〜12の直鎖状もしくは分枝状のアルキル基である)で置換されていてもよい。
【0025】
前記化学式2中のXは、酸素原子または下記化学式3aで表される基であることが好ましい。
【0026】
【化5】

【0027】
前記化学式3a中、Rは、互いに独立して、水素原子、炭素数1〜12の直鎖状のアルキル基、炭素数3〜12の分枝状のアルキル基、または炭素数1〜12の直鎖状もしくは分枝状のアルコキシ基である。前記化学式1で表される繰り返し単位は、単独であってもよいし、2種以上併用してもよい。また、前記化学式2で表される繰り返し単位は、単独であってもよいし、2種以上併用してもよい。
【0028】
また、本発明の電界発光高分子は、前記化学式1および前記化学式2で表される繰り返し単位以外に、下記化学式4で表される繰り返し単位を含むことが好ましい。
【0029】
前記化学式1で表される繰り返し単位の含有量をAモル%とし、前記化学式2で表される繰り返し単位の含有量をBモル%とし、下記化学式4で表される繰り返し単位の含有量をCモル%としたとき、1≦A≦99、1≦B≦99、1≦C≦98(ただし、A+B+C=100)の関係であることが好ましく、1≦A≦94、1≦B≦94、5≦C≦10(ただし、A+B+C=100)の関係であることがより好ましい。下記化学式4で表される繰り返し単位を1モル%以上含むと発光効率および発光効率が向上するため好ましい。
【0030】
【化6】

【0031】
前記化学式4中、X’は、酸素原子または硫黄原子であり、YおよびRの定義は、前記化学式2におけるYおよびRの定義と同じである。
【0032】
本発明の電界発光高分子の主鎖を構成する、前記化学式1で表される2価の芳香族基または2価のヘテロ芳香族基は、下記化学式1a〜1aaで表される基からなる群より選択される少なくとも1つの基であることが好ましく、下記化学式1o、1q、および1rで表される基からなる群より選択される少なくとも1つの基であることがより好ましい。
【0033】
【化7−1】

【0034】
【化7−2】

【0035】
前記化学式1a、前記化学式1b、前記化学式1i、前記化学式1l、前記化学式1m、前記化学式1n、前記化学式1o、前記化学式1q、前記化学式1r、前記化学式1s、または前記化学式1uにおいて、R、R、R、およびRは、互いに独立して、水素原子、炭素数1〜12の直鎖状もしくは分枝状のアルキル基、炭素数1〜12の直鎖状もしくは分枝状のアルコキシ基、炭素数6〜20のアリール基、または−N(R’)(R’’)(ただし、R’およびR’’は、互いに独立して、水素原子または炭素数1〜12の直鎖状もしくは分枝状のアルキル基である)で表される基である。
【0036】
前記化学式2および前記化学式4中のR、前記化学式3および前記化学式3a中のRおよびR、ならびに前記化学式1a、前記化学式1b、前記化学式1i、前記化学式1l、前記化学式1m、前記化学式1n、前記化学式1o、前記化学式1q、前記化学式1r、前記化学式1s、および前記化学式1u中の、R、R、R、およびRで用いられうる炭素数1〜12の直鎖状または分枝状のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、iso−アミル基、tert−ペンチル基、ネオペンチル基、n−へキシル基、3−メチルペンタン−2−イル基、3−メチルペンタン−3−イル基、4−メチルペンチル基、4−メチルペンタン−2−イル基、1,3−ジメチルブチル基、3,3−ジメチルブチル基、3,3−ジメチルブタン−2−イル基、n−ヘプチル基、1−メチルヘキシル基、3−メチルヘキシル基、4−メチルヘキシル基、5−メチルヘキシル基、1−エチルペンチル基、1−(n−プロピル)ブチル基、1,1−ジメチルペンチル基、1,4−ジメチルペンチル基、1,1−ジエチルプロピル基、1,3,3−トリメチルブチル基、1−エチル−2,2−ジメチルプロピル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキサン−2−イル基、2,4−ジメチルペンタン−3−イル基、1,1−ジメチルペンタン−1−イル基、2,2−ジメチルヘキサン−3−イル基、2,3−ジメチルヘキサン−2−イル基、2,5−ジメチルヘキサン−2−イル基、2,5−ジメチルヘキサン−3−イル基、3,4−ジメチルヘキサン−3−イル基、3,5−ジメチルヘキサン−3−イル基、1−メチルヘプチル基、2−メチルヘプチル基、5−メチルヘプチル基、2−メチルヘプタン−2−イル基、3−メチルヘプタン−3−イル基、4−メチルヘプタン−3−イル基、4−メチルヘプタン−4−イル基、1−エチルヘキシル基、2−エチルヘキシル基、1−プロピルペンチル基、2−プロピルペンチル基、1,1−ジメチルヘキシル基、1,4−ジメチルヘキシル基、1,5−ジメチルヘキシル基、1−エチル−1−メチルペンチル基、1−エチル−4−メチルペンチル基、1,1,4−トリメチルペンチル基、2,4,4−トリメチルペンチル基、1−イソプロピル−1,2−ジメチルプロピル基、1,1,3,3−テトラメチルブチル基、n−ノニル基、1−メチルオクチル基、6−メチルオクチル基、1−エチルヘプチル基、1−(n−ブチル)ペンチル基、4−メチル−1−(n−プロピル)ペンチル基、1,5,5−トリメチルヘキシル基、1,1,5−トリメチルヘキシル基、2−メチルオクタン−3−イル基、n−デシル基、1−メチルノニル基、1−エチルオクチル基、1−(n−ブチル)ヘキシル基、1,1−ジメチルオクチル基、3,7−ジメチルオクチル基、n−ウンデシル基、1−メチルデシル基、1−エチルノニル基、n−ドデシル基、または1−メチルウンデシル基などが好ましく挙げられる。前記アルキル基中の1つ以上の水素原子は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、−N(R’)(R’’)(ただし、R’およびR’’は、互いに独立して、水素原子または炭素数1〜12の直鎖状もしくは分枝状のアルキル基である)で表される基、アミジノ基、ヒドラジン基、ヒドラゾン基、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素数1〜20のアルケニル基、炭素数1〜20のアルキニル基、炭素数1〜20のヘテロアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数6〜20のアリールアルキル基、炭素数6〜20のヘテロアリール基、または炭素数6〜20のヘテロアリールアルキル基で置換されうる。
【0037】
前記アルキル基としては、メチル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−オクチル基、または2−エチルヘキシル基がより好ましい。
【0038】
前記化学式2および前記化学式4中のR、前記化学式3および前記化学式3a中のRおよびR、ならびに前記化学式1a、前記化学式1b、前記化学式1i、前記化学式1l、前記化学式1m、前記化学式1n、前記化学式1o、前記化学式1q、前記化学式1r、前記化学式1s、および前記化学式1u中の、R、R、R、およびRで用いられうる炭素数1〜12の直鎖状または分枝状のアルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、1,2−ジメチル−プロポキシ基、n−へキシルオキシ基、3−メチルペンタン−2−イルオキシ基、3−メチルペンタン−3−イルオキシ基、4−メチルペンチルオキシ基、4−メチルペンタン−2−イルオキシ基、1,3−ジメチルブチルオキシ基、3,3−ジメチルブチルオキシ基、3,3−ジメチルブタン−2−イルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、1−メチルヘキシルオキシ基、3−メチルヘキシルオキシ基、4−メチルヘキシルオキシ基、5−メチルヘキシルオキシ基、1−エチルペンチルオキシ基、1−(n−プロピル)ブチルオキシ基、1,1−ジメチルペンチルオキシ基、1,4−ジメチルペンチルオキシ基、1,1−ジエチルプロピルオキシ基、1,3,3−トリメチルブチルオキシ基、1−エチル−2,2−ジメチルプロピルオキシ基、n−オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、2−メチルヘキサン−2−イルオキシ基、2,4−ジメチルペンタン−3−イルオキシ基、1,1−ジメチルペンタン−1−イルオキシ基、2,2−ジメチルヘキサン−3−イルオキシ基、2,3−ジメチルヘキサン−2−イルオキシ基、2,5−ジメチルヘキサン−2−イルオキシオキシ基、2,5−ジメチルヘキサン−3−イルオキシ基、3,4−ジメチルヘキサン−3−イルオキシ基、3,5−ジメチルヘキサン−3−イルオキシ基、1−メチルヘプチルオキシ基、2−メチルヘプチルオキシ基、5−メチルヘプチルオキシ基、2−メチルヘプタン−2−イルオキシ基、3−メチルヘプタン−3−イルオキシ基、4−メチルヘプタン−3−イルオキシ基、4−メチルヘプタン−4−イルオキシ基、1−エチルヘキシルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、1−プロピルペンチルオキシ基、2−プロピルペンチルオキシ基、1,1−ジメチルヘキシルオキシ基、1,4−ジメチルヘキシルオキシ基、1,5−ジメチルヘキシルオキシ基、1−エチル−1−メチルペンチルオキシ基、1−エチル−4−メチルペンチルオキシ基、1,1,4−トリメチルペンチルオキシ基、2,4,4−トリメチルペンチルオキシ基、1−イソプロピル−1,2−ジメチルプロピルオキシ基、1,1,3,3−テトラメチルブチルオキシ基、n−ノニルオキシ基、1−メチルオクチルオキシ基、6−メチルオクチルオキシ基、1−エチルヘプチルオキシ基、1−(n−ブチル)ペンチルオキシ基、4−メチル−1−(n−プロピル)ペンチルオキシ基、1,5,5−トリメチルヘキシルオキシ基、1,1,5−トリメチルヘキシルオキシ基、2−メチルオクタン−3−イルオキシ基、n−デシルオキシ基、1−メチルノニルオキシ基、1−エチルオクチルオキシ基、1−(n−ブチル)ヘキシルオキシ基、1,1−ジメチルオクチルオキシ基、3,7−ジメチルオクチルオキシ基、n−ウンデシルオキシ基、1−メチルデシルオキシ基、1−エチルノニルオキシ基、n−ドデシルオキシ基、または1−メチルウンデシルオキシ基などを好ましく挙げられる。前記アルコキシ基中の1つ以上の水素原子は、前記アルキル基の場合と同様の置換基で置換されうる。
【0039】
前記アルコキシ基としては、メトキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、n−オクチルオキシ基、または2−エチルヘキシルオキシ基がより好ましい。
【0040】
前記化学式2中のRで用いられる炭素数3〜12の環状アルキル基の具体的な例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロへプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、シクロウンデシル基、またはシクロドデシル基などが好ましく挙げられる。前記環状アルキル基中の1つ以上の水素原子は、前記アルキル基の場合と同様の置換基で置換されうる。
【0041】
前記化学式2中のR、ならびに前記化学式1a、前記化学式1b、前記化学式1i、前記化学式1l、前記化学式1m、前記化学式1n、前記化学式1o、前記化学式1q、前記化学式1r、前記化学式1s、および前記化学式1u中の、R、R、R、およびRで用いられうる炭素数6〜20のアリール基は、芳香族単環または芳香族縮合環を有する基である。前記アリール基の具体的な例としては、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、テトラヒドロナフチル基、1−アントリル基、2−アントリル基、9−アントリル基、1−フェナントリル基、2−フェナントリル基、3−フェナントリル基、4−フェナントリル基、9−フェナントリル基、またはピレニル基などが好ましく挙げられる。前記アリール基中の1つ以上の水素原子は、前記アルキル基の場合と同様の置換基で置換されうる。
【0042】
前記アリール基としては、1−ナフチル基、2−ナフチル基、テトラヒドロナフチル基、またはピレニル基がより好ましい。
【0043】
前記化学式2中のR、ならびに前記化学式1a、前記化学式1b、前記化学式1i、前記化学式1l、前記化学式1m、前記化学式1n、前記化学式1o、前記化学式1q、前記化学式1r、前記化学式1s、および前記化学式1u中の、R、R、R、およびRで用いられうる、−N(R’)(R’’)で表される基において、R’およびR’’は、互いに独立して、水素原子または炭素数1〜12のアルキル基である。−N(R’)(R’’)で表される基の具体的な例としては、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、n−プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、n−ブチルアミノ基、イソブチルアミノ基、sec−ブチルアミノ基、tert−ブチルアミノ基、n−ペンチルアミノ基、iso−アミルアミノ基、tert−ペンチルアミノ基、ネオペンチルアミノ基、n−へキシルアミノ基、3−メチルペンタン−2−イルアミノ基、3−メチルペンタン−3−イルアミノ基、4−メチルペンチルアミノ基、4−メチルペンタン−2−イルアミノ基、1,3−ジメチルブチルアミノ基、3,3−ジメチルブチルアミノ基、3,3−ジメチルブタン−2−イルアミノ基、n−ヘプチルアミノ基、1−メチルヘキシルアミノ基、3−メチルヘキシルアミノ基、4−メチルヘキシルアミノ基、5−メチルヘキシルアミノ基、1−エチルペンチルアミノ基、1−(n−プロピル)ブチルアミノ基、1,1−ジメチルペンチルアミノ基、1,4−ジメチルペンチルアミノ基、1,1−ジエチルプロピルアミノ基、1,3,3−トリメチルブチルアミノ基、1−エチル−2,2−ジメチルプロピルアミノ基、n−オクチルアミノ基、2−エチルヘキシルアミノ基、2−メチルヘキサン−2−イルアミノ基、2,4−ジメチルペンタン−3−イルアミノ基、1,1−ジメチルペンタン−1−イルアミノ基、2,2−ジメチルヘキサン−3−イルアミノ基、2,3−ジメチルヘキサン−2−イルアミノ基、2,5−ジメチルヘキサン−2−イルアミノ基、2,5−ジメチルヘキサン−3−イルアミノ基、3,4−ジメチルヘキサン−3−イルアミノ基、3,5−ジメチルヘキサン−3−イルアミノ基、1−メチルヘプチルアミノ基、2−メチルヘプチルアミノ基、5−メチルヘプチルアミノ基、2−メチルヘプタン−2−イルアミノ基、3−メチルヘプタン−3−イルアミノ基、4−メチルヘプタン−3−イルアミノ基、4−メチルヘプタン−4−イルアミノ基、1−エチルヘキシルアミノ基、2−エチルヘキシルアミノ基、1−プロピルペンチルアミノ基、2−プロピルペンチルアミノ基、1,1−ジメチルヘキシルアミノ基、1,4−ジメチルヘキシルアミノ基、1,5−ジメチルヘキシルアミノ基、1−エチル−1−メチルペンチルアミノ基、1−エチル−4−メチルペンチルアミノ基、1,1,4−トリメチルペンチルアミノ基、2,4,4−トリメチルペンチルアミノ基、1−イソプロピル−1,2−ジメチルプロピルアミノ基、1,1,3,3−テトラメチルブチルアミノ基、n−ノニルアミノ基、1−メチルオクチルアミノ基、6−メチルオクチルアミノ基、1−エチルヘプチルアミノ基、1−(n−ブチル)ペンチルアミノ基、4−メチル−1−(n−プロピル)ペンチルアミノ基、1,5,5−トリメチルヘキシルアミノ基、1,1,5−トリメチルヘキシルアミノ基、2−メチルオクタン−3−イルアミノ基、n−デシルアミノ基、1−メチルノニルアミノ基、1−エチルオクチルアミノ基、1−(n−ブチル)ヘキシルアミノ基、1,1−ジメチルオクチルアミノ基、3,7−ジメチルオクチルアミノ基、n−ウンデシルアミノ基、1−メチルデシルアミノ基、1−エチルノニルアミノ基、n−ドデシルアミノ基、または1−メチルウンデシルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−n−プロピルアミノ基、ジ−イソプロピルアミノ基、エチルメチルアミノ基、またはメチルプロピルアミノ基などが好ましく挙げられる。
【0044】
前記アリールアルキル基は、メチル基、エチル基、またはプロピル基などの低級アルキル基中の1つ以上の水素原子がアリール基で置換された基であり、その具体例としては、ベンジル基、またはフェニルエチル基などが好ましく挙げられる。
【0045】
前記ヘテロアリールアルキル基は、メチル基、エチル基、またはプロピル基などの低級アルキル基中の1つ以上の水素原子がヘテロアリール基で置換された基であり、その具体例としては、2−ピロリルメチル基、2−ピリジルメチル基、3−ピリジルメチル基、4−ピリジルメチル基、2−チエニルメチル基、2−(2−ピリジル)エチル基、2−(3−ピリジル)エチル基、2−(4−ピリジル)エチル基、または3−(2−ピロリル)プロピル基などが好ましく挙げられる。
【0046】
本発明の電界発光高分子は、前記化学式1で表される基がフルオレン構造を有することがより好ましい。その理由は、フルオレン構造が他の芳香族の構造に比べて優れた蛍光特性を示すだけではなく、フルオレンの9および9’の位置に、電界発光高分子に溶媒可溶性を与えうるアルキル基をはじめとする多様な置換基を容易に導入することができるという利点があるためである。
【0047】
本発明の電界発光高分子のうち、前記化学式1で表される2価の芳香族基として2’,3’,6’,7’−テトラオクチルオキシスピロフルオレンが導入された電界発光高分子の合成スキームの例を、後述の反応式1〜3に示す。
【0048】
本発明の電界発光高分子の重量平均分子量(Mw)は、10,000〜2,000,000であることが好ましい。電界発光高分子の分子量は、薄膜形成特性および素子の寿命に対して影響を及ぼすが、前記重量平均分子量が10,000未満であると、電界発光素子の製作および駆動時に、結晶化などの原因になる場合がある。一方、Pd(0)またはNi(0)を媒介とするアリールカップリング反応により得られる高分子は、その重量平均分子量が2,000,000を超え難い。
【0049】
一方、発光高分子の分子量分布(MWD)は、狭いほどさまざまな電界発光特性(特に、素子の寿命)に有利であるため、前記分子量分布は、1.5〜5であることが好ましい。
【0050】
本発明による電界発光高分子は、特に、下記化学式5〜7で表される高分子であることが好ましい。
【0051】
【化8】

【0052】
前記化学式5中、xは0.01〜0.99の実数であり、好ましくは、0.01〜0.20の実数である。
【0053】
【化9】

【0054】
前記化学式6中、xは0.01〜0.99の実数であり、好ましくは、0.01〜0.20の実数である。
【0055】
【化10】

【0056】
前記化学式7中、xおよびyの合計は0.02〜0.99の実数であり、xは0.01〜0.98の実数である。さらに、xは0.01〜0.20の実数であることが好ましく、この際、yは0.79〜0.98の実数であることが好ましい。
【0057】
上述の電界発光高分子は、一対の電極間に有機膜を備える有機電界発光素子に含まれることが好ましい。さらに、前記有機膜は、発光層であることが好ましい。
【0058】
以下、前記化学式1および前記化学式2の繰り返し単位を含む高分子を採用した有機電界発光素子と、その製造方法について述べる。
【0059】
図1A〜図1Fは、本発明の好ましい有機電界発光素子の積層構造を概略的に表した図面である。
【0060】
図1Aを参照すれば、第1電極10の上部に、前記発光高分子を含んだ発光層12が積層され、前記発光層12の上部には、第2電極14が形成される。
【0061】
図1Bを参照すれば、第1電極10の上部に、前記発光高分子を含んだ発光層12が積層され、前記発光層12の上部に、正孔抑制層13が積層されており、その上部には、第2電極14が形成される。
【0062】
図1Cの有機電界発光素子は、第1電極10と発光層12との間に正孔注入層(または、「バッファ層」とも称する)11が形成されることを除いては、図1Bの場合と同一の積層構造を有する。
【0063】
図1Dの有機電界発光素子は、発光層12の上部に形成された正孔抑制層13の代わりに、電子輸送層15が形成されたことを除いては、図1Cの場合と同一の積層構造を有する。
【0064】
図1Eの有機電界発光素子は、正孔抑制層13の代わりに、正孔抑制層13と電子輸送層15とが順次に積層された二層が形成されたことを除いては、図1Cの場合と同一の積層構造を有する。
【0065】
図1Fの有機電界発光素子は、正孔注入層11と発光層12との間に正孔輸送層16をさらに形成したことを除いては、図1Eの有機電界発光素子と同じ構造を有している。このとき、正孔輸送層16は、正孔注入層11から発光層12への不純物侵入を抑制する役割を果たす。
【0066】
前述の図1A〜図1Fの積層構造を有する有機電界発光素子は、一般的な方法によって形成可能であり、その製作方法は特に限定されるものではない。
【0067】
以下、本発明の一実施形態による有機電界発光素子の製造方法について述べる。
【0068】
まず、基板(図示せず)上部にパターニングされた第1電極10を形成する。ここで、前記基板としては、一般的な有機電界発光素子で使われる基板が使用されうるが、透明性、表面平滑性、取扱の容易さ、または防水性を考慮すると、ガラス基板または透明プラスチック基板が好ましい。前記基板の厚さは0.3〜1.1mmであることが好ましい。
【0069】
前記第1電極10の形成材料は、特に制限されない。もし、第1電極がアノードである場合、アノードは、正孔注入の容易な導電性を有する金属またはその酸化物から形成されることが好ましく、その具体例としては、ITO(Indium Tin Oxide)、IZO(Indium Zinc Oxide)、Ni、Pt、Au、またはIrなどが挙げられる。
【0070】
前記第1電極10の形成された基板を洗浄した後、UV/オゾン処理を実施する。このとき、洗浄には、イソプロパノール(IPA)、またはアセトンなどの有機溶媒を使用することができる。
【0071】
洗浄された基板の第1電極10の上部に、正孔注入層11が選択的に形成される。このように正孔注入層11を形成すると、第1電極10と発光層12との間の接触抵抗を低減させると同時に、発光層12に対する第1電極10の正孔輸送能力が向上し、本発明の電界発光素子の駆動電圧および寿命特性が改善されうる。かような正孔注入層11は、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)(PEDOT)/ポリスチレンパラスルホン酸(PSS)、スターバースト系物質、銅フタロシアニン、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリアセチレン、ポリピロール、ポリフェニレンビニレン、またはそれらの誘導体など、従来使用されている物質から形成されうる。このような物質を用いて、第1電極10の上部にスピンコーティングした後、これを乾燥して正孔注入層11を形成する。ここで、正孔注入層11の厚さは、30〜200nm(300〜2,000Å)であることが好ましく、50〜110nm(500〜1,100Å)であることがより好ましい。前記正孔注入層の厚さが前記範囲内にあると、正孔注入特性に優れるため好ましい。前記乾燥温度は、100〜250℃であることが好ましい。
【0072】
前記正孔注入層11の上部に、発光層形成用の組成物を、スピンコーティング法などを利用してコーティングし、その後乾燥させ、発光層12を形成する。ここで、前記発光層形成用の組成物は、上述の電界発光高分子0.5〜20質量%と溶媒99.5〜80質量%とから形成されることが好ましい。
【0073】
前記溶媒は、本発明の電界発光高分子を溶解させることができるものであれば、いずれの溶媒も使用可能であり、その具体例としては、トルエン、クロロベンゼン、またはキシレンなどが挙げられる。
【0074】
場合によっては、前記発光層形成用の組成物にドーパントをさらに加えてもよい。このとき、ドーパントの含有量は、発光層の形成材料によって変わりうるが、一般的には、発光層の形成材料(ホストとドーパントとの総質量)100質量部を基準として30〜80質量部であることが好ましい。もしドーパントの含有量が前記範囲を外れれば、電界発光素子の発光特性が低下して好ましくない。前記ドーパントの具体例としては、アリールアミン、ペリレン系化合物、ピロール系化合物、ヒドラゾン系化合物、カルバゾール系化合物、スチルベン系化合物、スターバースト系化合物、またはオキサジアゾール系化合物などを挙げることができる。
【0075】
前記発光層12の膜厚は、発光層形成用の組成物の濃度と、スピンコーティング時のスピン速度とを調節することにより、10〜100nm(100〜1,000Å)の範囲の厚さとなるように調節することが好ましく、さらに好ましくは、50〜100nm(500〜1,000Å)である。発光層12の厚さが10nm(100Å)以上である場合には、発光効率が向上し、100nm(1,000Å)以下である場合には、駆動電圧が上昇し難いため好ましい。
【0076】
前記正孔注入層11と前記発光層12との間には、正孔輸送層16が選択的に形成されうる。ここで、正孔輸送層の形成材料は、正孔輸送性を有するいかなる材料でも使用可能であり、その具体例としては、ポリトリフェニルアミンなどが挙げられる。前記正孔輸送層の厚さは、10〜100nm(100〜1,000Å)であることが好ましい。
【0077】
前記発光層12の上部には、蒸着またはスピンコーティング法を利用して正孔抑制層13および/または電子輸送層15が形成される。ここで、前記正孔抑制層13は、発光物質から形成される励起子が電子輸送層15に移動することを防ぐか、または正孔が電子輸送層15に移動することを防ぐ役割を果たす。
【0078】
前記正孔抑制層13の形成材料としては、LiF、BaF、MgF、下記化学式8に示すフェナントロリン系化合物(例えばUDC社製のBCP)、イミダゾール系化合物、トリアゾール系化合物、オキサジアゾール系化合物(例えばPBD)、BAlq、またはアルミニウム錯体(UDC社から入手可能)などを使用することができる。
【0079】
【化11】

【0080】
前記電子輸送層15の形成材料としては、オキサゾール系化合物、イソオキサゾール系化合物、トリアゾール系化合物、イソチアゾール系化合物、オキサジアゾール系化合物、チアジアゾール系化合物、下記化学式9に示すペリレン系化合物、アルミニウム錯体(例:下記化学式9に示すトリス(8−キノリノラート)−アルミニウム(Alq3)、BAlq、SAlq、Almq3)、またはガリウム錯体(例:Gaq’2OPiv、Gaq’2OAc、2(Gaq’2))を使用することができる。
【0081】
【化12】

【0082】
前記正孔抑制層の厚さは、10〜100nm(100〜1,000Å)であることが好ましく、前記電子輸送層の厚さは、10〜100nm(100〜1,000Å)であることが好ましい。前記正孔抑制層の厚さが前記範囲内にあると正孔輸送能力に優れ、前記電子輸送層の厚さが前記範囲内にあると電子輸送能力に優れるため、好ましい。
【0083】
次に、前記結果物に第2電極14を形成し、前記結果物を封止して有機電界発光素子を完成する。
【0084】
前記第2電極14の形成材料は、特に制限されず、仕事関数の小さな金属、例えば、Li、Ca、Ca/Al、LiF/Ca、BaF/Ca、LiF/Al、Al、Mg、またはMg合金を利用することができ、これらを蒸着することにより、第2電極14が形成されうる。前記第2電極14の厚さは、5〜300nm(50〜3,000Å)であることが好ましい。
【0085】
本発明による前記化学式1で表される繰り返し単位を含む高分子は、前記有機電界発光素子の製作時に発光層形成材料として用いられうるが、その化学的特性上、正孔輸送層の形成材料としても利用可能である。また、バイオの分野で用いられる化合物の中間体としても利用可能である。
【0086】
本発明の有機電界発光素子の製造は、特別な装置や方法を必要とせず、通常の発光高分子を利用した有機電界発光素子の製造方法によって製作されうる。
【実施例】
【0087】
以下、本発明を、下記の実施例によりさらに詳細に説明するが、下記の実施例は、単に説明する目的のためのものであって、本発明を制限するものではない。
【0088】
(製造例1:イミノジベンジル系単量体(下記反応式1中の化合物(C))の合成)
【0089】
【化13】

【0090】
[1)前記反応式1中の化合物(B)の製造]
2−ブロモ−6−メトキシナフタレン(前記反応式1中の化合物(A))7.5g(32mmol)、イミノジベンジル4.8g(25mmol)、ナトリウムtert−ブトキシド3.7g(38mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)(Pd(dba))0.3g(0.33mmol)、およびトリ(tert−ブチル)ホスフィン0.11g(0.55mmol)をトルエン125mLに溶解させた後、80℃で12時間反応させた。
【0091】
反応終了後、反応混合物を室温まで冷却し、蒸留水200mlを添加して反応混合物を失活させ、キシレン:水=1:1(体積比)の混合物を用いて抽出を行った。有機層をMgSOで乾燥させた後に濃縮し、トルエン:ヘキサン=1:2(体積比)の混合溶媒を溶離液として使用してシリカゲルカラムクロマトグラフィを実施した。得られた溶出液を濃縮し、乾燥させて、7.6g(収率:87%)の化合物(B)を得た。化合物(B)の構造は、H−NMRにより確認した。
【0092】
[2)前記反応式1中の化合物(C)の製造]
得られた化合物(B)3.51g(10mmol)をCHCl 150mLに溶解させた後、反応系内の温度を0℃に維持しながら、化合物(B)に対して2.1当量の臭素をゆっくり添加した。薄層クロマトグラフィ(TLC)により出発物質が完全に消費されたことを確認した後、臭素の添加を止め、反応混合物を10分間撹拌した。
【0093】
前記反応混合物に少量のアセトンを添加して臭素を失活させた後、水:CHCl=2:1(体積比)の混合物を用いて抽出を実施した。有機層をMgSOで乾燥させた後濃縮し、MeOHで再沈殿させることにより、4.7g(収率:90%)の化合物(C)を得た。化合物(C)の構造は、H−NMRにより確認した。化合物(C)のH−NMRのスペクトルデータを下記表1に示す。
【0094】
【表1】

【0095】
(製造例2:前記反応式1中の化合物(F)(2,7−ジブロモ−2’,3’,6’,7’−ジオクチルオキシスピロフルオレン)の合成)
[1)前記反応式1中の化合物(E)の製造]
2,7−ジブロモ−9−フルオレン3.36g(10mmol)をエーテル50mlに溶かした溶液に、前記反応式1中の化合物(D)8.45g(11mmol)をエーテル50mlに溶かした溶液を添加した後、一晩還流しながら撹拌した。反応終了後、反応溶液を冷却し黄色の固体粉末を濾過し、エーテルで3回洗浄した。その後、塩化アンモニウムを生成物に添加して10時間撹拌した後、濾過した。ろ過ケーキを水で三回洗浄し、エタノールで再結晶して黄色固体の化合物(E)を得た(収率83%)。
【0096】
[2)前記反応式1中の化合物(F)の製造]
上記で得られた化合物(E)5.0g(5mmol)を酢酸15mlに添加して穏やかに還流および撹拌させた後、塩酸0.5mlを反応溶液に加えて1時間還流させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却させて固体粉末を濾過した。ろ過ケーキを水で三回洗浄した後、エタノールで再結晶し、白色粉末の化合物(F)1.42g(1.44mmol)を得た(収率29%)。化合物(F)の構造は、H−NMRにより確認した。化合物(F)のH−NMRのスペクトルデータを下記表2に示す。
【0097】
【表2】

【0098】
(実施例1:前記反応式1中の化学式10で表される2’,3’,6’,7’−テトラオクチルオキシスピロフルオレンとイミノジベンジル系単量体との共重合体(90:10のモル比)[NTSID9]の合成)
シュレンクフラスコ内部を真空化し、窒素還流させて水分を完全に除去した。Ni(COD) 330mg(1.2mmol)とビピリジン187mg(1.2mmol)とをグローブボックス内でシュレンクフラスコに投入した。さらに、シュレンクフラスコ内部を真空化し、窒素還流させた。次に、窒素気流下で反応混合物に無水DMF5ml、1,5−シクロオクタジエン(COD)0.13ml(1.2mmol)および無水トルエン5mlを添加した。反応混合物を80℃で30分間撹拌した後、前記製造例1で得られた化合物(C)20mg(0.04mmol)と、前記製造例2で得られた化合物(F)、すなわち、2,7−ジブロモ2’,3’,6’,7’−ジオクチルオキシスピロフルオレン0.355g(0.36mmol)とをトルエン10mlに希釈して添加して撹拌した。20分後、ブロモペンタフルオロベンゼン0.1mlを添加して80℃で1日撹拌した。
【0099】
反応終了後、反応混合物の温度を60℃に下げ、HCl:アセトン:メタノール=1:1:2(体積比)の混合物を溶液に注いで沈殿物を形成させた。得られた沈殿物をクロロホルムに溶解させた後、メタノールで沈殿を形成させ、ソックスレー抽出を実施し、2’,3’,6’,7’−テトラオクチルオキシスピロフルオレンとイミノジベンジル系単量体との共重合体(90:10のモル比)(前記反応式1中の化学式10の共重合体)を250mg(収率:60%)得た。得られた共重合体をGPCで分析した結果、重量平均分子量(Mw)は、89,000であり、分子量分布(MWD)は、1.57であった。
【0100】
(製造例3:フェノキサジン単量体(下記反応式2中の化合物(H))の合成)
【0101】
【化14】

【0102】
前記化学式11中、xは0.9である。
【0103】
[1)前記反応式2中の化合物(G)の製造]
2−ブロモ−6−メトキシナフタレン(前記反応式2中の化合物(A))7.5g(32mmol)、フェノキサジン4.6g(25mmol)、ナトリウムtert−ブトキシド3.7g(38mmol)、Pd(dba)0.3g(0.33mmol)、およびトリ(tert−ブチル)ホスフィン0.11g(0.55mmol)をトルエン125mLに溶解させた後、80℃で12時間反応させた。
【0104】
反応終了後、反応混合物を室温まで冷却し、蒸留水200mlを添加して反応混合物を失活させ、キシレン:水=1:1(体積比)の混合物を用いて抽出を行った。有機層をMgSOで乾燥させた後に濃縮し、トルエン:ヘキサン=1:2(体積比)の混合溶媒を溶離液として使用してシリカゲルカラムクロマトグラフィを実施した。得られた溶出液を濃縮し、乾燥させて、6.8g(収率:80%)の化合物(G)を得た。化合物(G)の構造は、H−NMRにより確認した。
【0105】
[2)前記反応式2中の化合物(H)の製造]
得られた化合物(G)3.39g(10mmol)をCHCl 150mLに溶解させた後、反応系内を0℃に維持しながら、化合物(G)に対して2.1当量の臭素をゆっくり添加した。TLCにより出発物質が完全に消費されたことを確認した後、臭素の添加を止め、反応混合物を10分間撹拌した。
【0106】
前記反応混合物に少量のアセトンを添加して臭素を失活させた後、水:CHCl=2:1(体積比)の混合物を用いて抽出を実施した。有機層をMgSOで乾燥させた後に濃縮し、MeOHで再沈殿させることにより、4.2g(収率:85%)の化合物(H)を得た。化合物(H)の構造は、H−NMRにより確認した。化合物(C)のH−NMRのスペクトルデータを下記表3に示す。
【0107】
【表3】

【0108】
(実施例2:前記反応式2中の化学式11で表される2’,3’,6’,7’−テトラオクチルオキシスピロフルオレンとフェノキサジン系単量体との共重合体(90:10のモル比)[NTS9]の合成)
シュレンクフラスコ内部を真空化し、窒素還流させて水分を完全に除去した。Ni(COD) 330mg(1.2mmol)とビピリジン187mg(1.2mmol)とをグローブボックス内でシュレンクフラスコに投入した。さらに、シュレンクフラスコ内部を真空化し、窒素還流させた。次に、窒素気流下で反応混合物に無水DMF5ml、1,5−シクロオクタジエン(COD)0.13ml(1.2mmol)および無水トルエン5mlを添加した。反応混合物を80℃で30分間撹拌した後、前記製造例3で得られた化合物(H)20mg(0.04mmol)と、前記製造例2で得られた化合物(F)、すなわち、2,7−ジブロモ2’,3’,6’,7’−ジオクチルオキシスピロフルオレン0.355g(0.36mmol)とをトルエン10mlに希釈して添加して撹拌した。20分後、ブロモペンタフルオロベンゼン0.1mlを添加して80℃で1日撹拌した。
【0109】
反応終了後、反応混合物の温度を60℃に下げ、HCl:アセトン:メタノール=1:1:2(体積比)の混合物を溶液に注いで沈殿物を形成させた。得られた沈殿物をクロロホルムに溶解させた後、メタノールで沈殿を形成させ、ソックスレー抽出を実施し、2’,3’,6’,7’−テトラオクチルオキシスピロフルオレンとフェノキサジン系単量体との共重合体(90:10のモル比)(前記反応式2中の化学式12の共重合体)を300mg(収率:75%)収得した。得られた共重合体をGPCで分析した結果、重量平均分子量(Mw)は、300,000であり、分子量分布(MWD)は、1.74であった。
【0110】
(実施例3:下記反応式3中の化学式12で表される2’,3’,6’,7’−テトラオクチルオキシスピロフルオレンとイミノジベンジル系単量体とフェノキサジン系単量体との共重合体(90:5:5のモル比)[NTS29]の合成)
【0111】
【化15】

【0112】
前記化学式12中、xは0.9であり、yは0.05である。
【0113】
シュレンクフラスコ内部を真空化し、窒素還流させて水分を完全に除去した。Ni(COD) 330mg(1.2mmol)とビピリジン187mg(1.2mmol)とをグローブボックス内でシュレンクフラスコに投入した。さらにシュレンクフラスコ内部を真空化し、窒素還流させた。次に、窒素気流下で反応混合物に無水DMF5ml、COD 0.13ml(1.2mmol)および無水トルエン5mlを添加した。反応混合物を80℃で30分間撹拌した後、前記製造例1で得られた化合物(C)10mg(0.02mmol)、前記製造例3で得られた化合物(H)10mg(0.02mmol)、および前記製造例2で得られた化合物(F)、すなわち、2,7−ジブロモ−2’,3’,6’,7’−ジオクチルオキシスピロフルオレン0.355g(0.36mmol)をトルエン10mlに希釈して添加して撹拌した。20分後、ブロモペンタフルオロベンゼン0.1mlを添加して80℃で1日撹拌した。
【0114】
反応終了後、反応混合物の温度を60℃に下げた後、HCl:アセトン:メタノール=1:1:2(体積比)の混合物を溶液に注いで沈殿物を形成させた。得られた沈殿物をクロロホルムに溶解させた後、メタノールで沈殿を形成させ、ソックスレー抽出を実施し、2’,3’,6’,7’−テトラオクチルオキシスピロフルオレンとイミノジベンジル系単量体とフェノキサジン単量体との共重合体(90:5:5のモル比)(前記反応式3中の化学式12の共重合体)を230mg(収率:57%)得た。得られた共重合体をGPCで分析した結果、重量平均分子量(Mw)は、73,000であり、分子量分布(MWD)は、2.5であった。
【0115】
(比較例1:ポリ(2’,3’,6’,7’−テトラオクチルオキシスピロフルオレン)の合成)
シュレンクフラスコ内部を真空化し、窒素還流させて水分を完全に除去した。Ni(COD) 330mg(1.2mmol)とビピリジン187mg(1.2mmol)とをグローブボックス内でシュレンクフラスコに投入した。さらにシュレンクフラスコ内部を真空化し、窒素還流させた。次に、窒素気流下で反応混合物に無水DMF5ml、COD 0.13ml(1.2mmol)および無水トルエン5mlを添加した。反応混合物を80℃で30分間撹拌した後、前記製造例2で得られた化合物(F)、すなわち、2,7−ジブロモ2’,3’,6’,7’−ジオクチルオキシスピロフルオレン0.395g(0.40mmol)をトルエン10mlに希釈して添加して撹拌した。20分後、ブロモペンタフルオロベンゼン0.1mlを添加して80℃で1日撹拌した。
【0116】
反応終了後、前記反応混合物の温度を60℃に下げた後、HCl:アセトン:メタノール=1:1:2(体積比)の混合物を溶液に注いで沈殿物を形成させた。得られた沈殿物をクロロホルムに溶解させた後、メタノールで沈殿を形成させ、ソックスレー抽出を実施し、ポリ(2’,3’,6’,7’−テトラオクチルオキシスピロフルオレン)を290mg(収率:74%)得た。得られた重合体をGPCで分析した結果、重量平均分子量(Mw)は、360,000であり、分子量分布(MWD)は、2.3であった。
【0117】
(比較例2:下記化学式13で表される2’,3’,6’,7’−テトラオクチルオキシスピロフルオレンとフェノキサジン系単量体との共重合体(90:10のモル比)の合成)
【0118】
【化16】

【0119】
前記化学式13中、nは0.9である。
【0120】
前記化学式13で表される2’,3’,6’,7’−テトラオクチルオキシスピロフルオレンとフェノキサジン系単量体との共重合体の概略的な合成スキームは、下記反応式4の通りである。
【0121】
【化17】

【0122】
前記化学式13中、nは0.9である。
【0123】
(フェノキサジン系単量体(前記反応式4中の化合物(比較C))の合成)
[1)前記反応式4中の化合物(比較A)の製造]
4−ブロモフェノール50g(0.29mmol)をアセトン(500mL)に溶解させた後、KCO 48.4g(0.35mmol)を添加した。次に、1−ブロモオクタン73.3g(0.38mmol)を添加して24時間還流させた。
【0124】
反応終了後、水:CHCl=2:1(体積比)の混合物で抽出してKCOを除去した。有機層をMgSOで乾燥させた後に濃縮し、ヘキサンを溶離液として使用してシリカゲルカラムクロマトグラフィを実施した。ここで得られた溶出液を減圧蒸留し、未反応の1−ブロモオクタンを除去して化合物(比較A)80g(収率:96%)を得た。化合物(比較A)の構造は、H−NMRにより確認した。
【0125】
[2)前記反応式4中の化合物(比較B)の製造]
化合物(比較A)18g(64mmol)、フェノキサジン10g(54mmol)、ナトリウムtert−ブトキシド7.4g(77mmol)、Pd(dba)0.61g(1.1mmol)、およびトリ(tert−ブチル)ホスフィン0.22g(1.1mmol)をキシレン250mLに溶解させた後、80℃で12時間反応させた。
【0126】
反応終了後、反応混合物を室温まで冷却し、蒸留水200mlを添加して反応混合物を失活させ、キシレン:水=1:1(体積比)の混合物を用いて抽出を行った。有機層をMgSOで乾燥させた後に濃縮し、トルエン:ヘキサン=1:2(体積比)の混合溶媒を溶離液として使用してシリカゲルカラムクロマトグラフィを実施した。得られた溶出液を濃縮し、乾燥させて、18.5g(収率:88%)の化合物(比較B)を得た。化合物(比較B)の構造は、H−NMRにより確認した。
【0127】
[3)前記反応式4中の化合物(比較C)の製造]
得られた化合物(比較B)5g(13mmol)をCHCl 150mLに溶解させた後、反応系内を0℃に維持しながら、化合物(比較B)に対して2.1当量の臭素をゆっくり添加した。TLCにより出発物質が完全に消費されたことを確認した後、臭素の添加を止め、反応混合物を10分間撹拌した。
【0128】
前記反応混合物に少量のアセトンを添加して臭素を失活させた後、水:CHCl=2:1(体積比)の混合物を用いて抽出を実施した。有機層をMgSOで乾燥させた後に濃縮し、MeOHで再沈殿させることにより、6g(収率:85%)の化合物(比較C)を得た。化合物(比較C)の構造は、H−NMRにより確認した。化合物(比較C)のH−NMRのスペクトルデータを下記表4に示す。
【0129】
【表4】

【0130】
(比較例2:前記化学式13で表される2’,3’,6’,7’−テトラオクチルオキシスピロフルオレンとフェノキサジン系単量体との共重合体(90:10のモル比)の合成)
シュレンクフラスコ内部を真空化し、窒素還流させて水分を完全に除去した。Ni(COD) 880mg(3.2mmol)とビピリジン500mg(3.2mmol)とをグローブボックス内でシュレンクフラスコ内に投入した。さらにシュレンクフラスコ内部を真空化し、窒素還流させた。次に、窒素気流下で反応混合物に無水DMF10ml、COD 346mg(3.2mmol)および無水トルエン10mlを添加した。反応混合物を80℃で30分間撹拌した後、前記で得られた化合物(比較C)87mg(0.16mmol)と、前記製造例2で得られた化合物(F)、すなわち、2,7−ジブロモ2’,3’,6’,7’−ジオクチルオキシスピロフルオレン1.42g(1.44mmol)とをトルエン10mlに希釈して添加した。次に、容器の内壁についている物質をきれいに洗い落としながら、トルエン10mlを添加した後、80℃で4日間撹拌した。4日後、ブロモペンタフルオロベンゼン1mlを添加して80℃で1日撹拌した。
【0131】
反応終了後、反応混合物の温度を60℃に下げ、HCl:アセトン:メタノール=1:1:2(体積比)の混合物を溶液に注いで沈殿物を形成させた。得られた沈殿物をクロロホルムに溶解させた後、メタノールで沈殿を形成させ、ソックスレー抽出を実施し、2’,3’,6’,7’−テトラオクチルオキシスピロフルオレンとフェノキサジン系単量体との共重合体(90:10のモル比)を620mg(収率:80%)得た。得られた共重合体をGPCで分析した結果、重量平均分子量(Mw)は、198,000であり、分子量分布(MWD)は、2.07であった。
【0132】
(実施例4:電界発光素子の製造)
ガラス基板の上部にITOをコーティングして透明電極層を形成させ、これをきれいに洗浄した。ITO膜を、フォトレジストとエッチャントとを用いて、所望の形にパターニングし、これをさらにきれいに洗浄した。次に、前記ITO膜上に、Bayer社製のBaytron(登録商標) P 4083を80nm(800Å)の厚さにコーティングして導電性バッファ層を形成させた後、180℃で約1時間ベーキングした。次に、前記実施例1によって製造されたNTSID9 0.05gをトルエン5gに溶解させて電界発光高分子溶液を得た。これを前記導電性バッファ層上にスピンコーティングし、ベーキング処理後に真空オーブン内で溶媒を完全に除去して発光層を形成させた。この際、前記電界発光高分子溶液は、スピンコーティングに適用する前に、0.2mmフィルタで濾過された。前記電界発光高分子溶液の濃度とスピン速度とを調節することにより、約80nmの厚さを有する発光層を形成させた。
【0133】
その後、前記発光層上に真空蒸着チャンバ内で、5.33×10−4Pa(4×10−6Torr)の真空度で、CaとAlとを順次に蒸着して電界発光素子を完成させた。この際、蒸着時の膜の厚さおよび膜の成長速度は、クリスタルセンサーを用いて調節した。
【0134】
前記の工程によって製作された電界発光素子は、ITO/PEDOT/電界発光高分子/Ca/Alの構造を有する単層型素子であり、発光面積は4mmであった。
【0135】
(実施例5:電界発光素子の製造)
NTSID9 0.05gの代わりに、実施例2で得られたNTS9 0.05gを用いたことを除いては、実施例4と同様の方法により、電界発光素子を製造した。
【0136】
(実施例6:電界発光素子の製造)
NTSID9 0.05gの代わりに、実施例3で得られたNTS29 0.05gを用いたことを除いては、実施例4と同様の方法により、電界発光素子を製造した。
【0137】
(比較例3:電界発光素子の製造)
NTSID9 0.05gの代わりに、比較例1で得られたポリ(2’,3’,6’,7’−テトラオクチルオキシスピロフルオレン)0.05gを用いたことを除いては、実施例4と同様の方法により、電界発光素子を製造した。
【0138】
(比較例4:電界発光素子の製造)
NTSID9 0.05gの代わりに、比較例2で得られた2’,3’,6’,7’−テトラオクチルオキシスピロフルオレンとフェノキサジン系単量体との共重合体(90:10のモル比)0.05gを用いたことを除いては、実施例4と同様の方法により、電界発光素子を製造した。
【0139】
前記実施例4〜実施例6、比較例3、および比較例4で得られた電界発光素子の電界発光特性を評価した。電界発光特性評価時の駆動電圧としては、直流電圧であって順方向バイアス電圧を使用した。結果を下記表5に示す。
【0140】
【表5】

【0141】
電界発光特性評価の結果、実施例4〜実施例6、比較例3、および比較例4で得られた製造された電界発光素子は、いずれも典型的な整流ダイオード特性を示した。特に、実施例1、実施例2、または実施例3の高分子を含む電界発光素子は、3回の繰り返し駆動後でも、初期の電圧−電流密度特性をそのまま維持する優れた安定性を示した。
【0142】
酸素原子を含むフェノキサジン系単量体とは違って、イミノジベンジル系単量体はエチレン基を有するため、得られる重合体の主鎖がねじれた構造を有する。したがって、最大発光波長を、さらに短波長側にシフトさせることができる。また、同じフェノキサジン系単量体でも、窒素原子に嵩高い芳香族縮合環構造が導入された単量体から得られる重合体は、低い界面効果および高い膜充填密度を有するため、長い寿命特性を有することが確認できた。
【0143】
特に、色純度の点において、実施例1、実施例2、または実施例3の電界発光高分子を含む電界発光素子は、比較例2の場合よりy値が小さくなり、広い青色領域を表しうるということが分かった。
【図面の簡単な説明】
【0144】
【図1A】本発明の好ましい実施形態による有機電界発光素子の構造を表した断面概略図である。
【図1B】本発明の好ましい実施形態による有機電界発光素子の構造を表した断面概略図である。
【図1C】本発明の好ましい実施形態による有機電界発光素子の構造を表した断面概略図である。
【図1D】本発明の好ましい実施形態による有機電界発光素子の構造を表した断面概略図である。
【図1E】本発明の好ましい実施形態による有機電界発光素子の構造を表した断面概略図である。
【図1F】本発明の好ましい実施形態による有機電界発光素子の構造を表した断面概略図である。
【符号の説明】
【0145】
10 第1電極、
11 正孔注入層、
12 発光層、
13 正孔抑制層、
14 第2電極、
15 電子輸送層、
16 正孔輸送層。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
下記化学式1で表される繰り返し単位の含有量をAモル%とし、下記化学式2で表される繰り返し単位の含有量をBモル%としたとき、1≦A≦99、1≦B≦99(ただし、A+B=100)であり、重合度が10〜2,000である電界発光高分子:
【化1】

前記化学式1中、Arは、炭素数6〜26の2価の芳香族基、または炭素数4〜20の2価のヘテロ芳香族基であり、前記芳香族基または前記ヘテロ芳香族基に含まれている1つ以上の水素原子は、炭素数1〜12の直鎖状もしくは分枝状のアルキル基、炭素数1〜12の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシ基、または−N(R’)(R’’)(ただし、R’およびR’’は、互いに独立して、水素原子または炭素数1〜12の直鎖状もしくは分枝状のアルキル基である)で表される基で置換されていてもよく、
前記化学式2中、Xは、酸素原子、硫黄原子、または下記化学式3で表される基であり、
【化2】

この際、前記化学式3中のRおよびRは、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜12の直鎖状のアルキル基、炭素数3〜12の分枝状のアルキル基、または炭素数1〜12の直鎖状もしくは分枝状のアルコキシ基であり、
Yは、フェニレン基、ナフチレン基、またはアントラセニレン基であり(ただし、Xが酸素原子、硫黄原子、またはCHである場合には、フェニレン基は除く)、
Rは、水素原子、炭素数1〜12の直鎖状のアルキル基、炭素数3〜12の分枝状のアルキル基、炭素数1〜12の直鎖状もしくは分枝状のアルコキシ基、炭素数3〜12の環状アルキル基、または炭素数6〜14のアリール基であり、
前記Rがアリール基である場合、前記アリール基に含まれている1つ以上の水素原子は、炭素数1〜12の直鎖状もしくは分枝状のアルキル基、炭素数1〜12の直鎖状もしくは分枝状のアルコキシ基、または−N(R’)(R’’)(ただし、R’およびR’’は、互いに独立して、水素原子または炭素数1〜12の直鎖状もしくは分枝状のアルキル基である)で表される基で置換されていてもよい。
【請求項2】
下記化学式4で表される繰り返し単位をさらに含み、
前記化学式1で表される繰り返し単位の含有量をAモル%とし、前記化学式2で表される繰り返し単位の含有量をBモル%とし、下記化学式4で表される繰り返し単位の含有量をCモル%としたとき、1≦A≦99、1≦B≦99、1≦C≦98(ただし、A+B+C=100)であることを特徴とする、請求項1に記載の電界発光高分子:
【化3】

前記化学式4中、X’は、酸素原子または硫黄原子であり、
YおよびRの定義は、前記化学式2におけるYおよびRの定義と同じである。
【請求項3】
前記化学式1中のArは、下記化学式1a〜1aaで表される基からなる群より選択される少なくとも1つの基であることを特徴とする、請求項1または2に記載の電界発光高分子:
【化4−1】

【化4−2】

i 前記化学式1a、前記化学式1b、前記化学式1i、前記化学式1l、前記化学式1m、前記化学式1n、前記化学式1o、前記化学式1q、前記化学式1r、前記化学式1s、または前記化学式1uにおいて、R、R、RおよびRは、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜12の直鎖状もしくは分枝状のアルキル基、炭素数1〜12の直鎖状もしくは分枝状のアルコキシ基、炭素数6〜20のアリール基、または−N(R’)(R’’)(ただし、R’およびR’’は、互いに独立して、水素原子または炭素数1〜12の直鎖状もしくは分枝状のアルキル基である)で表される基である。
【請求項4】
前記化学式1のArが、前記化学式1o、前記化学式1q、および前記化学式1rで表される基からなる群より選択される少なくとも1つの基であることを特徴とする、請求項3に記載の電界発光高分子。
【請求項5】
前記高分子の重量平均分子量が10,000〜2,000,000であり、分子量分布が1.5〜5であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載の電界発光高分子。
【請求項6】
下記化学式5で表される高分子であることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか1項に記載の電界発光高分子:
【化5】

前記化学式5中、xは、0.01〜0.99の実数である。
【請求項7】
下記化学式6で表される高分子であることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか1項に記載の電界発光高分子:
【化6】

前記化学式6中、xは0.01〜0.99の実数である。
【請求項8】
下記化学式7で表される高分子であることを特徴とする、請求項2〜5のいずれか1項に記載の電界発光高分子:
【化7】

前記化学式7中、xおよびyの合計は0.02〜0.99の実数であり、xは0.01〜0.98の実数である。
【請求項9】
一対の電極間に有機膜を備える有機電界発光素子において、前記有機膜が請求項1〜8のいずれか1項に記載の電界発光高分子を含むことを特徴とする、有機電界発光素子。
【請求項10】
前記有機膜が発光層であることを特徴とする、請求項9に記載の有機電界発光素子。

【図1A】
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【図1B】
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【図1C】
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【図1D】
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【図1E】
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【図1F】
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【公開番号】特開2007−204748(P2007−204748A)
【公開日】平成19年8月16日(2007.8.16)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2007−14343(P2007−14343)
【出願日】平成19年1月24日(2007.1.24)
【出願人】(590002817)三星エスディアイ株式会社 (2,784)
【Fターム(参考)】