【課題】フェノールノボラック樹脂（より具体的には、フェノール−ナフトールノボラック樹脂）とエポキシ樹脂とを含むエポキシ樹脂組成物であって、得られる硬化物の耐熱性や耐燃焼性が著しく改良されたエポキシ樹脂組成物、及び該エポキシ樹脂組成物に好適に用いることができるフェノールノボラック樹脂を提供すること
【解決手段】下記一般式（１）で表される化学構造によって構成されているフェノールノボラック樹脂。
【化１】


（式中、Ａは、それぞれ独立に、下記一般式（２）の１価若しくは２価のユニット、又は一般式（３）の１価若しくは２価のユニットを表し、ｎは０〜２０の整数であり、Ｒ１は、それぞれ独立に、炭素数１〜８のアルキル基を表し、ｐ及びｑは、それぞれ独立に、０〜２の整数である。） （もっと読む）

【課題】厚膜化しても、解像度、透明性、耐熱性、耐熱変色性及び耐溶媒性等の諸特性が十分優れた層間絶縁膜を形成しうるネガ型感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】下記一般式（１）で表される繰り返し単位：


（式中Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、各々独立して水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基若しくはアルコキシ基、又は、加水分解性シリル基、アルコキシカルボニル基、トリアルキルシロキシカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、アルケニルカルボニルオキシ基及びオキセタニル基から選ばれる置換基を示す。）を含む（Ａ）環状オレフィン樹脂と、（Ｂ）多官能性アクリルモノマーと、（Ｃ）光重合開始剤と、を含有するネガ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】環状オレフィンモノマーを開環メタセシス重合して得られる熱硬化性架橋環状オレフィン樹脂を含み、封止材、プリプレグ、接着剤に使用される樹脂との十分な離型性と、引張破断伸び、引張破断強度等の機械的強度を有するフィルムとその製造方法を提供する。
【解決手段】熱硬化性架橋環状オレフィン樹脂フィルムを、（ａ）環状オレフィンモノマー１００質量部及び（ｂ）石油樹脂０．２〜１３質量部を含有する重合性組成物を開環メタセシス重合して得る。 （もっと読む）

【課題】有機エレクトロニクス素子用の材料として有用な共役ポリマーの製造方法、共役ポリマー、並びにこれを用いてなる、電気的特性に優れた有機エレクトロニクス素子及び有機エレクトロルミネッセンス素子を提供する。
【解決手段】鈴木カップリング反応を用いた共役ポリマーの製造方法において、アルキルホスフィン類もしくはコーンアングル（θ）が１７０度以上１９０度以下のホスフィン類とパラジウムとからなる触媒を用いる、共役ポリマーの製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、レジスト下層膜に求められる屈折率及び減衰係数についての特性を満たすと共に、形成されるレジスト下層膜パターンの高い曲がり耐性を維持しつつ、高い耐熱性を有するレジスト下層膜を形成することができるレジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜及びその形成方法、並びにパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、［Ａ］下記式（１）で表される構造単位（Ｉ）を有する重合体を含有するレジスト下層膜形成用組成物である。下記式（１）中、Ａｒ¹及びＡｒ^２は、それぞれ独立して、下記式（２）で表される２価の基である。下記式（２）中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立して、２価の芳香族基である。Ｒ^３は、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−又は−ＳＯ_２−である。ａは、０〜３の整数である。但し、ａが２以上の場合、複数のＲ^２及びＲ^３は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
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【課題】保存安定性に優れ、かつ、品質安定性に優れた微小な樹脂成形体の工業生産を可能にする重合性組成物を提供すること。
【解決手段】ノルボルネン系モノマーとメタセシス重合触媒とを含む混合物を冷却固化してなる重合性組成物を提供する。好ましくは、前記ノルボルネン系モノマーの凝固点は２０℃以上であり、また、好ましくは、前記メタセシス重合触媒が、ルテニウムカルベン錯体である。 （もっと読む）

【課題】耐熱性及び耐薬品性を有し、かつ例えば不純物の捕集効率が高い濾過用フィルターとして、及びイオン等の透過抵抗が低くかつ絶縁性の高い電池用又はコンデンサ用のセパレータとして有用なポリケトン多孔膜の提供。
【解決手段】一酸化炭素と１種類以上のオレフィンとの共重合体であるポリケトンを１０〜１００質量％含むポリケトン多孔膜であって：ポリケトン多孔膜の最大孔径が１μｍ以下であること；ポリケトン多孔膜の空隙率が５〜９０％であること；及びポリケトン多孔膜が、膜厚方向に亘ってポリケトンのみによって形成されているポリケトン部を有し、該ポリケトン部は、ポリマー充填比率８０％以上を有する緻密層とポリマー充填比率８０％未満を有する非緻密層とを有し、該緻密層の厚みＴ１と該非緻密層の厚みＴ２との比Ｔ１：Ｔ２が１：９９〜５０：５０であること；を満足するポリケトン多孔膜。 （もっと読む）

【課題】エポキシ硬化剤として有用な新規なフェノール樹脂、該フェノール樹脂の製造方法、及び該フェノール樹脂の使用を提案すること。
【解決手段】一般式（１）で表されるフェノール樹脂、及び該フェノール樹脂をエポキシ樹脂硬化剤として含有するエポキシ樹脂組成物。


（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、アリール基又は水酸基のいずれかであり、ｎ、ｑは、それぞれ独立して、０〜４の整数であり、ｐは、それぞれ独立して、０〜３の整数であり、Ｘは、置換基を有してよいアルキレン基であり、ｍは、０〜３０の整数である） （もっと読む）

【課題】有機デバイスに好適に応用可能な高分子化合物を提供する。
【解決手段】繰り返し単位の少なくとも一部が炭素クラスター構造を含む基を有する高分子化合物。 （もっと読む）

【課題】水性現像性を残しながら、顕著な水分吸収の問題を回避する、光スイッチ性ベンゾシクロブテン系ポリマーであるポリマー主鎖、ベンゾシクロブテン反応性基及び光スイッチ性側鎖基を含む、オリゴマー又はポリマーの製造方法の提供。
【解決手段】下記式で代表される、少なくとも３個の反応性基を有する第一の多官能性ベンゾシクロブテンモノマーを第二のヒドロキシ置換ベンゾシクロブテンモノマーと部分的に重合し、ジアゾキノン基を含むハロゲン置換化合物をヒドロキシ置換基でカップリングさせることを含んでなる、硬化性オリゴマー又はポリマーの製造方法。


［Ｒ_１は、１，２−ナフタキノン−２−ジアジド等。Ｘは、追加のヘテロ原子（例えば、Ｏ、Ｓ、Ｎ、Ｓｉ等）を含む基を有するヒドロカルビル基等である。］ （もっと読む）

【課題】半導体装置に適用して例えば２５０℃以下のような低温で硬化させた場合にも高い信頼性を与え、ポリイミド樹脂又はポリベンゾオキサゾール樹脂の代替材料となり得るフェノール樹脂組成物の提供。
【解決手段】特定構造のフェノール樹脂（Ａ）、及び感光剤（Ｂ）を含む感光性フェノール樹脂組成物であって、該フェノール樹脂（Ａ）において、ポリスチレン換算での分子量が７００以下である低分子量成分の含有率が１０質量％以下である、フェノール樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】組成物の流動性に優れると共に、近年の電子部品関連材料に適する耐湿信頼性と、環境調和のためハロゲンフリーで高い難燃性を実現する熱硬化性樹脂組成物、その硬化物、及び該組成物を用いた半導体封止材料、並びにこれらの性能を与えるフェノール系樹脂、及びエポキシ樹脂を提供する。
【解決手段】複数のフェノール性水酸基含有芳香族骨格（ｐｈ）が
下記一般式１
【化１】


（式中、Ａｒはフェニレン基又はビフェニレン基を表し、Ｒは独立的に水素原子又はメチル基を表す。）で表される２価のアラルキル基を介して結合した樹脂構造（α）の芳香核にナフチルメチル基又はアントニルメチル基を有し、かつ、
該樹脂構造（α）のフェノール性水酸基の５〜５０モル％がナフチルメチルエーテル化又はアントニルメチルエーテル化した樹脂構造を有するフェノール樹脂をエポキシ樹脂原料又はエポキシ樹脂用硬化剤として使用する。 （もっと読む）

【課題】高い耐熱性と低い複屈折とを有する光学成形体を提供する。
【解決手段】脂環構造含有重合体と、ヒンダードフェノール系酸化防止剤と、シロキサン化合物とを含有する樹脂組成物であって、前記フェノール系酸化防止剤が、両ヒンダードフェノール系酸化防止剤であり、前記シロキサン化合物が、置換基として炭化水素基を有し、１分子中のケイ素原子と酸素原子の合計重量割合が２０〜６０重量％であることを特徴とする樹脂組成物からなる光学成形体を得る。 （もっと読む）

【課題】耐熱性および他の材料との密着性に優れる、シクロオレフィンポリマー系の結晶性重合体を提供すること。
【解決手段】ジシクロペンタジエンとオキシシリル基を有するノルボルネン系化合物とを開環共重合した後、水素添加することにより得ることができる、ジシクロペンタジエンに由来する繰り返し単位Ａ９８〜９９．９９９９モル％とオキシシリル基を有するノルボルネン系化合物に由来する繰り返し単位Ｂ０．０００１〜２モル％とを含んでなる、結晶性を有する重合体。 （もっと読む）

【課題】発光素子の作製に用いた場合に、得られる発光素子の色純度が優れる高分子化合物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される構成単位を含む高分子化合物。
【化１】


［式（１）中、Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ独立に、非置換若しくは置換のアルキル基、非置換若しくは置換のアルコキシ基、非置換若しくは置換のアリール基、非置換若しくは置換のアリールオキシ基、非置換若しくは置換のシリル基、フッ素原子、アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、又は、シアノ基を表す。ａ及びｂはそれぞれ独立に０〜４の整数を表す。Ｒ¹及びＲ²が複数存在する場合には、同一でも異なっていてもよい。］ （もっと読む）

【課題】発光効率に優れる発光素子の製造に有用な高分子化合物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される構成単位及び芳香族アミンを構成単位を有する高分子化合物。


式中、ｎ^１及びｎ^２は１〜５の整数を示し、Ｒ^１〜Ｒ^１０は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基又は１価の複素環基を示し、Ｒ^１〜Ｒ^４のうち隣接する基同士は互いに連結して環構造を形成していてもよく、Ｒ^７〜Ｒ^１０のうち隣接する基同士は互いに連結して環構造を形成していてもよい。］ （もっと読む）

【課題】高硬度で、ヘイズが低く、かつ帯電防止性、耐水性、透明性に優れた積層フィルムの提供。
【解決手段】基材フィルム１１の少なくとも片面に、スルホン酸基および／またはカルボキシル基を有する水溶性導電性高分子（Ａ）と、水溶性高分子（ただし、前記水溶性導電性高分子（Ａ）を除く。）および水系エマルションを形成する高分子からなる群より選ばれた少なくとも１種の高分子（Ｂ）とを含む帯電防止層１２と、保護層１３とが順次積層したことを特徴とする積層フィルム１０。 （もっと読む）

【課題】加工性に優れ、かつ、プロトン伝導度、特に水分の少ない状況で優れたプロトン伝導度を持つ炭化水素系高分子電解質およびその膜を提供する。
【解決手段】下記式（１）：
［化１］


（式中、Ａｒはベンゼン環、ナフタレン環、またはそれらの環を形成する炭素がヘテロ原子へと置換されたものを示し、Ｘはプロトンまたは陽イオンを示す。ａおよびｂは、それぞれ０〜４の整数である。また、いくつかあるａとｂの合計は１以上である。ｍは１以上の整数を示し、ｎは０以上の整数を示す。）
で示される構造を主鎖に有する高分子電解質に関する。 （もっと読む）

【課題】製造コストが安く、高解像度、高感度でパターンを形成できる組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）（式中、Ｒ^１、及びＲ^２は、それぞれ、アルキル基、アセチル基、又はアリル基であり、ｎは、０〜３の整数である。）と下記式（２）（式中、Ｒ^３は、Ｒ^２と同様の基を表す。）で示されるカリックス［４］アレーン誘導体を含む組成物。


（もっと読む）

【解決手段】酸不安定基によりカルボキシル基が保護された部分構造を有する繰り返し単位とラクトン構造を有する繰り返し単位とから構成される開環メタセシス重合体水素添加物をベース樹脂として含有するレジスト組成物を基板上に塗布し、塗布後加熱処理をして作製したレジスト膜を高エネルギー線で露光し、露光後加熱処理を施した後に、有機溶剤含有現像液によりレジスト膜の未露光部分を選択的に溶解させるネガ型パターン形成方法。
【効果】本発明の開環メタセシス重合体水素添加物を含むレジスト組成物は、有機溶剤現像における溶解コントラストが高く、露光、加熱処理により酸不安定基が脱保護した状態においても高い耐ドライエッチング性を示す。このレジスト組成物を用いて有機溶剤現像によるネガ型パターン形成を行うことで、微細トレンチパターンやホールパターンの解像性能を向上させると共に、高い耐ドライエッチング性を発揮することが可能となる。 （もっと読む）