説明

非接触ICカード及びその製造方法

【課題】使用済みの非接触ICカードを用い、元の非接触ICカードとしては使用不能であるが、新たな非接触ICカードとして、安価に再利用、再使用することができる非接触ICカードの製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】アンテナ及びアンテナに接続されたICチップを有する非接触ICカード本体の横寸法及び縦寸法をダウンサイジングする工程、該非接触ICカード本体の一方の面に隠蔽層と第一のパウチシートをこの順に配し、もう一方の面に隠蔽層と第二のパウチシートをこの順に配し貼り合わせる工程、を有することを特徴とする非接触ICカードの製造方法とする。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は非接触ICカード及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【0002】
従来、非接触ICカードは、交通機関での乗車券や電子マネー分野などで使用されている。これらの非接触ICカードは、途中で仕様が変更されたり、利用者が不用になったりして返却されるものがある。そして、近年これらの不用となったカードはかなりの数になると推定されている。
これらの不用となったカードは、カード事業会社で保管されることが多く、その数は増える一方である。そして、これらのカードは、管理しているサーバー内のデータは削除されているが、ICの通信や演算等の処理機能は正常のままである。
【0003】
一方、従来の電子マネーとは異なるオリジナルのポイントカードを導入してポイントラリーを行ったり、オリジナル電子マネーを発行したりしてサービスの差別化を図りたいという要望が増加してきている。
【0004】
しかし、現状非接触ICカードは高価である。例えば、セキュリティの高いものでは、新規デザインのものを10万枚以上の数量で生産する場合で約500円/枚、1000枚程度の少量生産では1000円/枚となり、価格面で導入を敬遠されることが多い。
【0005】
また、ICカードのリサイクルに関しては、下記特許文献にあるように、カードの情報を書き換えてリサイクルする方法や、カードの表面に張替え可能なシールを用いてシールを貼りかえることでカードを使いまわすことは知られている。
しかし、使用済みカードを再利用する場合など、容易に元のカードとして復元できると元のカードとして不正利用される可能性などがある。現状、カードの不正利用を防止するため、外観を改変させ、容易に書き換え、張替えのできないカードとする方法はなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
【特許文献1】特開2003−58852号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
本発明は、前述の問題に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、使用済みの非接触ICカードを用い、安価に再利用することができる非接触ICカードを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明は、アンテナ及びアンテナに接続されたICチップを有するIC非接触ICカード本体と、該非接触ICカード本体の表裏に隠蔽層を有し、さらに両面をパウチシートで被覆されてなる非接触ICカードであって、パウチシートの縦寸法及び横寸法が、非接触ICカード本体より大きく、かつ非接触ICカード本体の横寸法が53.92mm以下、縦寸法が85.47mm以下であることを特徴とする非接触ICカードである。
【0009】
また、前記非接触ICカード本体の外周に切り込み加工及び/又は内部に打ちぬき加工を施すことを特徴とする非接触ICカードである。
【0010】
また、アンテナ及びアンテナに接続されたICチップを有する非接触ICカード本体の横寸法及び縦寸法をダウンサイジングする工程、該非接触ICカード本体の一方の面に隠蔽層と第一のパウチシートをこの順に配し、もう一方の面に隠蔽層と第二のパウチシートをこの順に配し貼り合わせる工程、を有することを特徴とする非接触ICカードの製造方法である。
【0011】
また、前記ダウンサイジングする工程が、切削加工により行われること特徴とする非接触ICカードの製造方法である。
【0012】
また、前記ダウンサイジングする工程が、打ち抜き加工により行われること特徴とする非接触ICカードの製造方法である。
【0013】
また、前記ダウンサイジングする工程が、横寸法及び縦寸法をそれぞれ1〜10mmの範囲内でダウンサイジングすることを特徴とする非接触ICカードの製造方法である。
【0014】
また、前記ダウンサイジング工程で非接触ICカード本体の外周に切り込み加工及び/又は内部に打ちぬき加工を施すことを特徴とする記載の非接触ICカードの製造方法である。
【発明の効果】
【0015】
本発明によれば、使用済みの非接触ICカードを用いて、安価に新たな非接触ICカードを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【0016】
【図1】本発明の非接触ICカードの一例を示す説明図である。
【図2】従来のパウチ加工カードの一例を示す説明図である。
【図3】本発明の非接触ICカードの一例を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【0017】
以下、本発明を詳細に説明する。
図1は本発明の非接触ICカードの製法の一例を示す、断面図、平面図である。
図1において、まず非接触ICカード本体2をダウンサイジング工程で縦寸法、横寸法を小さくする。そしてダウンサイジングされた非接触ICカード本体2の表裏に隠蔽層3を形成し、さらに第一のパウチシート4と第二のパウチシート5でパウチ加工することで非接触ICカードとする。
パウチ加工することにより安価に再利用できると共に、元のカードとしての不正利用を防ぐことができる。また、物理的特性、耐久性に優れるものとすることができる。
また、本発明では、非接触ICカード本体として使用済みのものを用いることができる。
【0018】
本発明では、パウチ加工すると生じる耳部の分を予め考慮してダウンサイジングすることで従来のカードのパウチ加工のように耳部の分大きくなることなく、元の非接触ICカード本体と同等のサイズの非接触ICカードとして再生利用することができる。
非接触ICカード本体と同等のサイズであれば、汎用のカードケース、財布等に入れることができ、使い勝手の点で好ましいものとなる。
【0019】
非接触ICカード本体としては、既存のICカードを用いることができる。
一般的な非接触ICカードの構成としては、アンテナ基材上にICモジュール、アンテナコイルを有するインレットと、インレットの両側にそれぞれコアシート、オーバーシートからなるものがあげられるがこれに限るものではない。
非接触ICカードのサイズはISO規格で横寸法が53.92〜54.03mmの範囲内、縦寸法が85.47〜85.72mmの範囲内、厚みが0.68〜0.84mmの範囲内とされているがこれらに限るものではない。
【0020】
パウチシートとしては、既存のパウチシートと同様のものを用いることができ、例えば基材上にシーラントフィルムを積層したものを用いることができる。
基材としてはポリエチレンテレフタレート(PET)、二軸延伸ナイロンフィルム(ONy)、無延伸ナイロンフィルム(CNy)、延伸ポリプロピレン(OPP)等のプラスチックフィルム又はこれらを積層した多層構造のものを用いることができる。
基材の厚みは特に限定するものではないが一般的には10〜50μm程度である。
シーラントフィルムとしては無延伸ポリプロピレン(CPP)、低密度ポリエチレン(LLDPE)、中密度ポリエチレン(MDPE)等の無延伸ポリオレフィン系フィルムやエチレン酢酸ビニル共重合体フィルム(EVAフィルム)、を用いることができる。
シーラントの厚みは特に限定するものではないが一般的には40〜70μm程度である。
その他基材の機能を強化、補強するために各種高ヤング率フィルム、高バリヤー性フィルムを積層してもよい。さらに開封性等を考慮して延伸高密度ポリエチレンフィルム、セロハン等を積層してもよい。
また、印刷を施したり有色フィルム等、不透明なフィルムを積層することで隠蔽層を兼ねてもよい。
【0021】
パウチシートの厚みは限定するものではないが、10〜100μmの範囲内であることが好ましい。10μmより薄いと製造工程時のハンドリングが困難でかつ十分な密着が得られない。100μmより厚いと最終的な非接触ICカードの厚みが大きくなり使用する際のハンドリングに影響がある。
最終的な非接触ICカードのサイズは必ずしもISO規格の横寸法が53.92〜54.03mmの範囲内、縦寸法が85.47〜85.72mmの範囲内、厚みが0.68〜0.84mmの範囲内に収まる必要はなく、汎用のカードケース等に入る程度であれば問題ないが、好ましくはISO規格の範囲内に収まるものであるとよい。
【0022】
隠蔽層は、非接触ICカード本体の表面の絵柄、文字等を隠蔽できるものであれば特に限定するものではない。
例えば白色のPET等の不透明なプラスチックフィルムや金属箔を用いることができる。
フィルム状の隠蔽層を用いる場合、後述するように貼り合わせ工程(パウチ加工工程)で他の層と同時に積層してもよいし、貼り合わせ工程(パウチ加工工程)の前に積層しておいてもよい。また、隠蔽性の顔料を含むインキを用いて隠蔽層を形成しても良い。
これらの隠蔽層上には絵柄層を設けることができる。
絵柄層としては、任意の文字、絵柄を印刷法により形成したり、転写法により形成したりしてもかまわない。さらに、ホログラム加工等を施してもよい。
【0023】
次に本発明の非接触ICカードの製法について詳細に説明する。
まず、非接触ICカード本体のダウンサイジング加工を施す。
ダウンサイジング加工としては、特に限定するものではないが、打ちぬき加工や切削加工があげられる。
打ちぬき加工は例えばトムソン刃型などを用いて打ち抜く方法があげられる。打ちぬき加工は、複数枚同時に加工でき、また加工時間が短いので生産効率の点で有利である。
切削加工はルーター加工など公知の手法を用いることができる。切削加工においても複数枚同時に加工できる。ルーター加工等の切削加工を用いれば打ち抜き型等を用意する必要が無いので様々なサイズの加工をする際に有利である。
【0024】
一般的なICカードのサイズが上述のように横寸法が53.92〜54.03mmの範囲内、縦寸法が85.47〜85.72mmの範囲内であり、またアンテナサイズはいろいろなサイズ、形状があるが一般的には横寸法が約45〜50mm、縦寸法が75〜80mm程度である。
そしてパウチ加工をする際、非接触ICカード本体を挟んではみ出た端部でパウチシート同士を接触させ貼り合わせ加工するが、非接触ICカード本体からはみ出た耳部は約1〜10mm程度である。
そのため、ダウンサイジング工程ではおおよそ横寸法がやく5〜10mmの範囲内、縦寸法が5〜10mmの範囲内小さくなるよう加工すればよい。
これ以上小さくするとアンテナを断線してしまい非接触通信機能が失われる可能性がある。これ以上大きくするとカードの規格サイズより大幅に大きくなるためハンドリングの点で不利である。
【0025】
またダウンサイジング工程では、非接触ICカード本体の外周に、切り込み加工を施してもよい。切り込み加工を施すことで、元の非接触ICカードから改変したことを物理的な形状として示すことができ、不正利用を防止することができる。切り込み加工の方法としてはルーター加工や打ちぬき加工等を用いることができる。
また、非接触ICカード本体の内部に打ちぬき加工を施してもよい。打ちぬき加工を施すことで、元の非接触ICカードから改変したことを物理的な形状として示すことができ、不正利用を防止することができる。打ちぬき加工の方法としては前述と同様、トムソン刃型などを用いて打ち抜く方法があげられる。
これら切り込み、打ちぬき加工はアンテナを断線することがないようなものであれば様々な形状をとることができる。また切り込み、打ちぬき部は複数設けてもよく、またこれらを組み合わせてもよい。
【0026】
次にダウンサイジングした非接触ICカード本体の両面に隠蔽層を配し、さらに第一のパウチシートと第二のパウチシートで挟み、熱ラミネートすることにより貼り合わせる(パウチ加工)ことができる。
熱ラミネートの温度は約100〜200℃ぐらいである。
【0027】
また、パウチシートのサイズは前述の範囲内が好ましいが、大面積のパウチシートを用意し、非接触ICカードを複数面付けし、一度に熱ラミネートし、その後打ち抜くことにより非接触ICカードを作成してもよい。
【実施例】
【0028】
<実施例1>
横寸法が54.00mm、縦寸法が85.55mm、厚みが0.68mmの使用済み非接触ICカードを用いた。なおこの非接触ICカードのアンテナサイズは横寸法が47.00mm、縦寸法が78.50mmであった。
第一、第二のパウチシートとして厚み15μmのポリエチレンテレフタレート(PET)基材上に、厚み40μmの無延伸ポリプロピレン(CPP)を積層したものを用いた。
なお、第一、第二のパウチシートの形状は横寸法が53.92mm、縦寸法が85.47mmのとした。
隠蔽層としては、表面用絵柄を印刷した白色PET(厚み25μm)と裏面用絵柄を印刷した白色PET(厚み25μm)を用いた。
【0029】
まず非接触ICカード本体をトムソン刃を用いて打ちぬき加工を施し、横寸法が50.00mm、縦寸法が81.55mmの非接触ICカード本体を得た。
次に第一のパウチシート上に裏面用絵柄を印刷した白色PET、ダウンサイジングした非接触ICカード本体、表面用絵柄を印刷した白色PET、第二のパウチシートを重ね、120℃で熱ラミネートした。
得られた非接触ICカードは、は横寸法が53.92mm、縦寸法が85.47mm、厚みが0.84mmで、元の絵柄は見えないものとなった。
また、得られたサンプルは横寸法、縦寸法はICカードの規格に入るものの、厚みが規格の値より少し厚くなったが、開口部の横寸法52mm、縦寸法が95mmのカードケースに入れたところスムーズに出し入れすることができた。
なお、隠蔽層、パウチシートの厚みを制御することによりICカードの規格の値の範囲内に収めることも可能である。
【符号の説明】
【0030】
1・・・非接触ICカード
2・・・非接触ICカード本体
2’・・非接触ICカード本体(ダウンサイジング加工後)
3・・・隠蔽層
4・・・第一のパウチシート
5・・・第二のパウチシート
6・・・元の非接触ICカード本体寸法
7・・・カード
8・・・カード本体
9・・・パウチシート
10・・耳部
11・・切込み部
12・・打ちぬき部
13・・ICチップ
14・・アンテナ

【特許請求の範囲】
【請求項1】
アンテナ及びアンテナに接続されたICチップを有するIC非接触ICカード本体と、該非接触ICカード本体の表裏に隠蔽層を有し、
さらに両面をパウチシートで被覆されてなる非接触ICカードであって、
パウチシートの縦寸法及び横寸法が、非接触ICカード本体より大きく、
かつ非接触ICカード本体の横寸法が53.92mm以下、縦寸法が85.47mm以下であることを特徴とする非接触ICカード。
【請求項2】
前記非接触ICカード本体の外周に切り込み加工及び/又は内部に打ちぬき加工を施すことを特徴とする請求項請求項1に記載の非接触ICカード。
【請求項3】
アンテナ及びアンテナに接続されたICチップを有する非接触ICカード本体の横寸法及び縦寸法をダウンサイジングする工程、
該非接触ICカード本体の一方の面に隠蔽層と第一のパウチシートをこの順に配し、もう一方の面に隠蔽層と第二のパウチシートをこの順に配し貼り合わせる工程、
を有することを特徴とする非接触ICカードの製造方法。
【請求項4】
前記ダウンサイジングする工程が、切削加工により行われること特徴とする請求項3に記載の非接触ICカードの製造方法。
【請求項5】
前記ダウンサイジングする工程が、打ち抜き加工により行われること特徴とする請求項3に記載の非接触ICカードの製造方法。
【請求項6】
前記ダウンサイジングする工程が、横寸法及び縦寸法をそれぞれ1〜10mmの範囲内でダウンサイジングすることを特徴とする請求項3〜5のいずれかに記載の非接触ICカードの製造方法。
【請求項7】
前記ダウンサイジング工程で非接触ICカード本体の外周に切り込み加工及び/又は内部に打ちぬき加工を施すことを特徴とする請求項3〜6のいずれかに記載の非接触ICカードの製造方法。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【公開番号】特開2010−211716(P2010−211716A)
【公開日】平成22年9月24日(2010.9.24)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2009−59632(P2009−59632)
【出願日】平成21年3月12日(2009.3.12)
【出願人】(000003193)凸版印刷株式会社 (10,630)
【Fターム(参考)】