【課題】レジスト残りを抑制し、歩留まりの向上を図ることができる配線基板の製造方法及び液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】フォトリソグラフィ工程と、ホルダ１２０を用い、レジスト１６０をマスクとしてパターン形成するドライエッチング工程と、を複数回繰り返し、多層配線構造体を形成する流路形成基板の製造方法であって、上記ドライエッチング工程において、ホルダ１２０とレジスト１６０との一部がウェハ１０１の表面に沿う方向において重複状態でパターン形成するパターン形成工程と、上記フォトリソグラフィ工程と上記ドライエッチング工程とを複数回繰り返すうち、少なくとも１回は、上記フォトリソグラフィ工程の後、上記ドライエッチング工程の前に、上記重複状態となる領域を含む領域のレジスト１６０を除去するレジスト除去工程と、を含むという手法を採用する。 （もっと読む）

【課題】安定した払拭動作が可能な液体噴射装置を提供すること。
【解決手段】液体を噴射する複数のノズルが形成されたノズル形成面を有する液体噴射ヘッドと、前記ノズル形成面のうちそれぞれ異なる領域を被う複数のキャップ部と、前記ノズル形成面に当接された状態で、前記ノズル形成面のうち異なる前記キャップ部によって覆われる前記領域をそれぞれ異なる方向に払拭する払拭動作を行う払拭部と、前記払拭動作に先立ち、前記液体噴射ヘッド及び前記払拭部のうち少なくとも一方の姿勢を前記払拭部の払拭方向に応じて調整する制御部とを備える。 （もっと読む）

【課題】キャップ部の大気開放動作の信頼性を高めることができる液体噴射装置を提供すること。
【解決手段】液体を噴射するノズルが形成されたノズル形成面を有する液体噴射ヘッドと、前記ノズルを囲うようにして前記液体噴射ヘッドに当接するキャップ部と、前記ノズル形成面と前記キャップ部とで形成される前記空間を吸引する吸引部と、前記キャップ部に形成され前記空間と外部とを連通する開口部を有し、前記開口部を開閉する開閉弁が前記キャップ部に取り付けられた大気開放部とを備える。 （もっと読む）

【課題】配線部の配線不良を抑制することができる液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】リザーバ形成基板用ウェハ１３０側に接続配線が形成されている基板構造体１０１の流路形成基板用ウェハ１１０側にウェットエッチング法によって液体流路を形成する液体流路形成工程と、液体流路形成の後、ＣＶＤ法によって液体流路に臨む壁面部に保護膜を形成する保護膜形成工程と、を有するインクジェット式記録ヘッドの製造方法であって、液体流路形成工程の後、保護膜形成工程の前に、上記ＣＶＤ法における温度条件に応じた耐熱性を有する耐熱性シート１０６を、上記ＣＶＤ法における負圧条件に応じた負圧雰囲気下で、リザーバ形成基板用ウェハ１３０側における接続配線を含む領域に貼付する耐熱性シート貼付工程を有するという手法を採用する。 （もっと読む）

【課題】低コスト且つ品質の向上を図ることのできる液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】液体室となるリザーバの一部を構成するリザーバ部３１を有するリザーバ形成基板用ウェハ１３０と、リザーバ部３１と連通してリザーバを構成する連通部１３を含む液体流路及びリザーバ部３１と連通部１３との間を閉塞する配線層１９０を有する流路形成基板用ウェハ１１０と、が接合状態となった後に、上記液体流路に臨む壁面部に保護膜１６を形成する保護膜形成工程を有するインクジェット式記録ヘッドの製造方法であって、上記壁面部は、シリコンまたはシリコン化合物からなり、保護膜形成工程は、上記壁面部をシリサイド化させる金属膜１７を上記壁面部に成膜し、保護膜１６としてシリサイド膜を形成するシリサイド膜形成工程を有するという手法を採用する。 （もっと読む）

【課題】寸法精度を確保でき、さらに、品質の向上を図ることのできる液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】シリコン基板からなる流路形成基板用ウェハ１１０の表面をシリサイド化させて形成したシリサイド膜１６を含む所定形状のメタルマスク１９を形成するメタルマスク形成工程と、メタルマスク１９をマスクとして流路形成基板用ウェハ１１０を異方性エッチングすることにより液体流路を形成する液体流路形成工程と、を有するインクジェット式記録ヘッドの製造方法を採用する。 （もっと読む）

【課題】圧電素子の駆動を効率的に行う液体噴射ヘッド及び液体噴射装置を提供する。
【解決手段】流路形成基板１０の一方面側に圧力発生室１２に対応して設けられた第１電極６０、第１電極上に設けられた圧電体層７０及び圧電体層上に設けられた第２電極８０を有する圧力発生素子３００と、圧力発生素子３００毎に対して個別に設けられた第１電極６０に電気的に接続されるリード電極９０と、第２電極８０が形成されておらず前記圧電体層７０が露出している領域の、前記第１電極６０が部分的に露出されている領域に、前記第１電極６０に少なくとも一部が接して設けられている導電層８１と、を具備し、リード電極９０は、前記導電層８１を介して前記第１電極６０に接続されている。 （もっと読む）

【課題】小型化及び高解像度化を実現する液体噴射ヘッド及び液体噴射装置を提供する。
【解決手段】圧力発生室１２の列が複数設けられた流路形成基板１０と、該流路形成基板の一方面側に形成される複数列の圧力発生素子３００とを具備し、流路形成基板の圧力発生室の列の並設方向に交差する方向の両側に配置された列の圧力発生素子のそれぞれに対応して形成された個別電極に接続される個別電極用の端子９１が、前記列の中央部に設けられ、個別電極用の端子上に、外部からの電気信号を個別電極に電気的に接続させる駆動回路２００が実装されており、駆動回路と重畳するように下側に配置され、圧力発生素子に対して共通の電極となる共通電極に接続する共通電極用配線９５と、駆動回路に外部から電気信号を供給するための端子及び共通電極用配線の端子とからなる可撓性のテープ基板４００が接続される実装部４１０と、が設けられている。 （もっと読む）

【課題】圧電素子の応力集中を低減して破壊を抑制する。
【解決手段】圧力発生室１２が複数並設された流路形成基板１０と、流路形成基板の一方面側に圧力発生室に対応して設けられて、第１電極６０、圧電体層７０及び第２電極８０を有する圧電素子３００とを具備し、第１電極が、圧力発生室毎に設けられて並設方向の幅が圧力発生室の幅より小さい個別電極であると共に、第２電極が複数の圧電素子に亘って連続して設けられた共通電極であり、圧力発生室の並設方向と交差する方向の少なくとも一方の端部において、第１及び第２電極の両者に挟まれて電界が発生される活性部３２０と第１及び第２電極の何れかが存在しない非活性部３３０との境界Ａが、第２電極の端部８１によって規定され、この境界Ａに対応する領域の第１電極には並設方向の幅が圧力発生室の幅より大きい部分６７があり、境界Ａに対応する領域の圧力発生室には深さが浅くなった段差部１１０がある。 （もっと読む）

【課題】均一に形成でき、液体吐出特性を長期間一定に維持することができる液体噴射ヘッド、液体噴射ヘッドの製造方法及び液体噴射装置を提供する。
【解決手段】シリコンからなり、液体を噴射するノズル２１に連通する圧力発生室１２が形成された流路形成基板１０を具備し、前記流路形成基板の、前記圧力発生室が形成され前記液体の流路となる面に、金属シリサイドからなる保護膜が設けられている。 （もっと読む）