説明

日産化学工業株式会社により出願された特許

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【課題】
新規な感光性レジスト下層膜形成組成物を提供する。
【解決手段】
ヒドロキシ基若しくはカルボキシル基を置換基として有してもよい芳香環又は窒素原子を少なくとも1つ有する複素環を有するポリマー、架橋性化合物、光酸発生剤、光ラジカル重合開始剤及び有機溶剤を含む、感光性レジスト下層膜形成組成物。前記光酸発生剤の含有量は、好ましくは前記ポリマーの含有量に対し0.5質量%乃至25質量%であり、前記光ラジカル重合開始剤の含有量は、好ましくは前記ポリマーの含有量に対し0.3質量%乃至45質量%である。 (もっと読む)











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