【課題】静翼に対するダストの多量付着を未然に防止し、長期間の連続運転時にも安定かつ効率のよい運転を継続することができるようにする。
【解決手段】タービンとこのタービンに連結された発電機を備えて高炉から供給される高炉ガスにより回転駆動されて上記発電機により発電を行なう炉頂圧回収タービンにおいて、タービンの静翼１１の表面上に親水性皮膜２６を形成する。この炉頂圧回収タービンは、湿式の炉頂圧回収タービン発電設備に配設されるものであり、上記静翼は第１段の静翼であり、親水性皮膜はその凸面２２上に形成する。親水性皮膜の下に耐腐食性皮膜２５が形成されている。 （もっと読む）

【課題】結晶性の高い微結晶シリコン薄膜を安定して基板上に成膜することができる薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】基板上に薄膜を形成する薄膜形成装置であって、成膜容器と、薄膜の原料であるシランガスを成膜容器に供給するシランガス供給部と、シランガスを希釈する希釈ガスを成膜容器に供給する希釈ガス供給部と、成膜容器の内部にプラズマを発生させるプラズマ発生部と、成膜容器の内部に配置されるシリコン基材と、シランガス供給部がシランガスを供給するタイミング、及び、希釈ガス供給部が希釈ガスを供給するタイミングを制御する制御部と、を備えることを特徴とする薄膜形成装置。 （もっと読む）

【課題】最大電力を出力すべきゾーンの安全運転を確保する。
【解決手段】近接して配置された複数の誘導加熱コイル１１，１２，１３と、各々に直列接続されたコンデンサ２１，２２，２３と、直流電圧から変換させられた高周波電圧を各々の前記誘導加熱コイル及びコンデンサの直列共振回路に印加する複数の逆変換装置３０，３５，３１と、複数の逆変換装置を周波数同一かつ、電流同期させるとともに、複数の誘導加熱コイルに最大電力を供給する特定の逆変換装置が発生する高周波電圧と直列共振回路に流れる共振電流との位相差が最小になるように制御し、複数の逆変換装置に印加される直流電源電圧Ｖｄｃは、逆変換装置の出力電圧（Ｖinv）が相互誘導電圧（Ｖｍ）を超える電圧に設定されている制御回路５０とを備える。 （もっと読む）

【課題】プロペラトルクが一定となる主機制御を行い、スラスト変動を抑え、推進効率を向上する。
【解決手段】主機関１１の実回転速度Ｎｅを検出し、時間遅れロジック１３および周期算出部１５に入力する。周期算出部１５において実回転速度Ｎｅの変動周期を検出し、時間遅れロジック１３において実回転速度Ｎｅを４分の１周期分の遅延して負帰還する。目標回転速度Ｎｏとフィードバック信号の偏差を比例制御部１４に入力し、周期算出部１５で求められた周期から算出される実回転速度Ｎｅの変動角速度ωに対応するゲインで比例演算を行う。Ｎ／ＦＩ変換部１２において目標回転速度Ｎｏに対応するフューエルインデックスＦＩｏを算出し、比例制御部１４からの出力と加算する。 （もっと読む）

【課題】運搬物を収容した運搬物収容体を動力により吊り上げ、かつ、上下方向および横方向に移動して荷役を行う起重機において、運搬物収容体を移動させるトロリの構造の簡単化および小型軽量化を実現する。
【解決手段】クレーン１において、主トロリ１０上にモッコ６の旋回用機構としてシーソー型のリンク機構３０Ａ，３０Ｂを設置した。シーソー型のリンク機構３０Ａ，３０Ｂは、リンク３１ａ，３１ｂと支持軸３２ａ，３２ｂとを備える簡単な構成なので、モッコ６の旋回用機構としてシリンダ装置を用いる場合に比べて、主トロリ１０の構造の簡単化および小型軽量化を実現することができる。 （もっと読む）

【課題】回転乾燥機本体の回転時の軸方向変形を抑制することにより、回転乾燥機本体内で加熱管を支持する支持部材の付け根部分における疲労亀裂の発生を抑制することができる横型回転乾燥機を提供すること。
【解決手段】筒状の回転乾燥機本体２内に軸方向に沿う多数の加熱管が、該回転乾燥機本体２の内面から突出する多数の支持部材によって支持され、該回転乾燥機本体２の一端から受け入れた被乾燥物を回転しながら前記加熱管の熱によって乾燥させ、他端から排出する横型回転乾燥機１であって、前記回転乾燥機本体２の外周面に、該回転乾燥機本体２の軸方向に沿う複数の補強部材２３が、周方向に一定の間隔をおいて設けられていることを特徴とする横型回転乾燥機。 （もっと読む）

【課題】必要最小限の水によってペレタイザを収納している収納容器内の温度管理を行なう一方、成形ロールの圧搾部から漏れ出るガスハイドレートスラリーを排出させる。
【解決手段】ペレタイザ３から漏れ出るガスハイドレートスラリーｓを受ける収納容器１内の受け皿４に所定の温度に調整された水ｗを給水し、この給水ｗの水温ｔ₁ （℃）と受け皿４から流出した混合水ｗ’の水温ｔ₂ （℃）の温度差Δｔ（℃）による通水の熱量変化Δｑ（Ｊ／ｓｅｃ）から、ペレタイザ３から漏れ出たガスハイドレートスラリーｓ中のガスハイドレート量Ｑ（ｇ／ｓｅｃ）を検知し、このガスハイドレート量に見合うように受け皿４に供給する給水量Ｍ（ｍ³ ／ｍｉｎ）を制御する。 （もっと読む）

【課題】簀の子状のシュート上にガスハイドレートペレットのバリや欠片等の堆積物が堆積しにくいようにする。
【解決手段】ペレタイザ１から排出されたガスハイドレートペレット９を誘導する下り勾配の誘導管１１と、該誘導管１１内に設置されてガスハイドレートペレット９に同伴するバリや欠片１９を重力を利用して分離する簀の子状のシュート１２と、少なくとも前記シュート１２を振動させる加振手段１３と、前記シュート１２で分離されたバリや欠片１９を誘導管１１の外に排出する排出口１４とを有する振動式ペレット分離器において、簀の子状のシュート１２を構成している簀の子材２２と横桟２３とが交差している交差点に所定の長さの脚材２４を介在させる。 （もっと読む）

【課題】長期間使用しても均一な薄膜の形成を維持することができ、さらに、形成される薄膜に薄膜の特性を低下するような不純物が含まれ難い薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】薄膜形成装置は、成膜容器と、前記成膜容器の成膜空間内に薄膜形成に用いるガスを導入するガス導入部と、前記成膜空間内の基板を載置する載置台の上部に、電流が一方の端面から他方の端面に流れ、主面が前記成膜空間に向くプラズマ生成用電極板が設けられ、前記成膜空間内の前記ガスを用いて前記成膜空間内でプラズマを生成させるプラズマ電極部と、前記成膜空間に向く前記電極板の面の一部を遮蔽する第１の誘電体板と、前記電極板の面の残りの部分を遮蔽する交換可能な第２の誘電体板と、を含む電極板遮蔽部と、を有する。前記第２の誘電体板は、前記電極板の電流が流れる端面間の経路長の中央の位置に対して少なくとも上流側に位置する領域に設けられる。 （もっと読む）

【課題】従来よりも高い精度でＳｉＨ_４ガスなどのガスの濃度を測定することができる薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】基板上に薄膜を形成する薄膜形成装置であって、レーザ光照射窓を備える成膜容器と、薄膜の原料である原料ガスを成膜容器に供給する原料ガス供給部と、原料ガスに希ガスを添加する希ガス添加部と、成膜容器の内部にプラズマを発生させるプラズマ発生部と、レーザ光照射窓から成膜容器の内部にレーザ光を照射するレーザ光照射部と、レーザ光照射部から照射されたレーザ光による、成膜容器の内部の空間の応答を検出する検出部と、検出部が検出した結果に基づいて、原料ガス供給部が供給する原料ガスの流量を制御する制御部と、を備えることを特徴とする薄膜形成装置。 （もっと読む）