【課題】ＭＯＰＡ方式ファイバレーザ加工装置に用いる励起用レーザダイオード電源装置において、電流リップルが無くて応答性に優れ、しかも十分大きな駆動電流を励起用レーザダイオードに安定に供給する。
【解決手段】このポンプＬＤ電源回路３２は、直流電源５２に対して、互いに並列に接続され、ポンプＬＤ３６（３８）とは直列に接続される複数の駆動トランジスタ５４(1)，５４(2)，５４(3)および複数の出力抵抗５６(1)，５６(2)，５６(3)を有している。駆動トランジスタ５４(1)，５４(2)，５４(3)のエミッタ端子は、モニタ抵抗５４(1)，５４(2)，５４(3)を介して出力測定回路６４の入力端子に接続されている。制御部５８は、出力測定回路６４からの出力測定値ＭＩが設定値に一致するように、駆動トランジスタ５４(1)，５４(2)，５４(3)のベース端子に与える制御電圧Ｖ_C（または制御電流）を可変制御する。 （もっと読む）

【課題】冷却機構の異常が発生した際に、レーザ発振部が故障することを可及的に抑えることができ、且つ、仮に前記レーザ発振部内で漏水が発生した場合であっても該漏水を可及的に抑えることができるレーザ装置及びその制御方法を提供する。
【解決手段】レーザ装置１０Ａは、レーザ光を発振するレーザ発振部１８と、レーザ発振部１８を冷却する冷却機構１４を備える。冷却機構１４は、レーザ発振部１８内に設けられた発振部冷却流路４２と、発振部冷却流路４２に冷却水を導く冷却水供給流路３８と、発振部冷却流路４２から導かれた前記冷却水が流通する冷却水排出流路４０を有しており、冷却水供給流路３８には、開閉弁４６が設けられる。そして、冷却水供給流路３８の圧力を圧力検出部４８にて検出し、検出された圧力が所定範囲外にあると圧力判定部６２にて判定された場合に、開閉弁４６を閉じ、且つ、レーザ光の発振を停止する。 （もっと読む）

【課題】ポンプパワーの供給状態及びシードレーザ光の出力状態を容易に制御して、増幅レーザ光の立ち上がり特性を向上する。
【解決手段】レーザ出射方法は、ポンプパワーＰＢが、加工処理の開始後の定常状態において増幅レーザ光ＡＢが加工処理を行う出力量となる基準量で供給される。また、シードレーザ光ＳＢが継続的に発振出力される期間において、基準量よりも小さく、且つ増幅レーザ光ＡＢによって被対象物が加工処理されないようにポンプパワーＰＢを供給する待機時供給ステップと、加工処理の開始時に、基準量よりも大きなポンプパワーＰＢとなるように供給する処理開始時供給ステップと、加工処理の開始後の定常状態において、基準量となるポンプパワーＰＢを供給する処理時供給ステップと、を順次実施する。これにより、ポンプパワーＰＢの供給量を制御するだけで、増幅レーザ光ＡＢの立ち上がり特性を向上することができる。 （もっと読む）

【課題】データテーブルを有することなく、簡易に可視光レーザの照射位置の補正精度を向上させることができるレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】加工用レーザをｆθレンズ２０によって収束させて加工対象物Ｗに照射することにより加工対象物Ｗに対して加工を行うレーザ加工装置１０であって、ガイド用レーザを出射するガイド用レーザ光源１４と、加工用レーザとガイド用レーザとが同軸上になるように、ガイド用レーザを案内するビームコンバイナ１６と、加工用レーザ及びガイド用レーザを走査させる光走査部１８と、光走査部１８を駆動制御させる光走査制御部５８と、ｆθレンズ２０の中心に入射する加工用レーザの加工対象物Ｗ上の照射位置を原点として、半径方向にずれる加工用レーザの照射位置とガイド用レーザの照射位置とのズレ量を算出するズレ量算出部５４と、算出されたズレ量を用いてガイド用レーザの照射位置を補正する補正部５６とを備える。 （もっと読む）

【課題】ＭＯＰＡ方式ファイバレーザ加工装置に用いるシード用レーザダイオード電源装置において高ピークパワーでパルス幅の短いシード光を安定に発振出力すること。
【解決手段】このシード用ＬＤ電源回路３２は、シードＬＤ３０に供給する電力を蓄積するコンデンサ５０と、このコンデンサ５０を所定電圧に充電する充電部５２とを有している。そして、充電部５２とコンデンサ５０との間に充電用スイッチン素子５４を接続し、コンデンサ５０に対してシードＬＤ３０と直列に放電用スイッチング素子５６を接続している。さらに、放電用スイッチング素子５６を介さずに、シードＬＤ３０と直列に順方向の向きで１個または複数個（Ｎ個）の整流用ダイオード５８を接続するとともに、シードＬＤ３０およびダイオード５８の直列回路と並列に放電バイパス用の抵抗６０を接続している。 （もっと読む）

【課題】ガルバノスキャナのミラーホルダの温度を簡便に監視してその過昇温を確実に防止し、ガルバノミラーの機能を安定に保つ。
【解決手段】このレーザ加工装置における温度監視部は、スキャナ匡体６０内でＸ軸ミラーホルダ７８_XおよびＹ軸ミラーホルダ７８_Yにそれぞれ近接してそれらの回転（首振り）運動に干渉しないように配置される棒状またはプローブ型のＸ軸サーマルインターロック部９０_XおよびＹ軸サーマルインターロック部９０_Yを備えている。Ｘ軸サーマルインターロック部９０_X（Ｙ軸サーマルインターロック部９０_Y）は、筒状のケーシングの内奥に感温素子としてサーマルスイッチを収容し、電気ケーブル９６_X（９６_Y）を介して内部のサーマルスイッチと外部の制御回路とを電気的に接続している。 （もっと読む）

【課題】冷却効率が高く、アクティブファイバを取付ける作業が容易であり、アクティブファイバに付与される外的要因の振動を吸収することができ、ひいては高出力のレーザ光を発振することのできるアクティブファイバ冷却装置およびそれを備えたファイバレーザ発振器を提供すること。
【解決手段】
長手方向の両端面３、４の間において前記端面から入射された励起光を用いてレーザ光を発振するアクティブファイバ２を冷却するアクティブファイバ冷却装置３１であって、外部から内部に給排される冷媒によって冷却されるヒートシンク３２の表面に対して、アクティブファイバ２の全体を覆う粘着性を有する薄膜状の金属製放熱部材３５によってアクティブファイバ２を密着させるようにして貼り付けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】シード用のレーザダイオードよりパルス波形のシード光を増幅用光ファイバに注入するＭＯＰＡ方式において、アンプの利得を十分高くしてもスバイクノイズの発生を確実に防止または抑制すること。
【解決手段】このＭＯＰＡ方式ファイバレーザ加工装置は、シード光発生部１０、第１および第２の増幅用光ファイバ１２，１４および光ビーム照射部１６をアイソレータ１８，２０，２２および光結合器２４，２６を介して光学的に縦続接続している。ここで、シード光発生部１０より出力されるパルス波形のシード光のスペクトル中心波長は１０５４〜１０５７ｎｍの範囲にあり、ひいては被加工物Ｗの表面に照射される増幅パルスの光ビームＬＢのスペクトル中心波長も１０５４〜１０５７ｎｍの範囲にある。 （もっと読む）

【課題】
溶接仕上がりが良好なレーザシーム溶接を実現することができるレーザ溶接方法を提供すること。
【解決手段】レーザ光としての連続発振のＣＷレーザ光を、ガルバノメータ・スキャナを用いて溶接部位に沿って走査し、その際に、ＣＷレーザ光の出力を一定に制御しつつ、ＣＷレーザ光の走査速度を可変制御すること。 （もっと読む）

【課題】育成すべき素材の融点、直径などが異なる場合であっても、単結晶の安定成長の条件を得ることができ、これにより、望まれる直径の高品質単結晶の育成を図ることができ、しかも加熱強度分布の変動を少なくし、結晶育成が容易な単結晶育成装置および単結晶育成方法を提供する。
【解決手段】上結晶駆動軸８に支持された原料棒１４と、下結晶駆動軸１２に支持された種結晶棒１６と、加熱手段とを有し、原料棒１４と種結晶棒１６との接触部分を加熱手段で加熱して溶融帯域１８を形成して単結晶を育成する単結晶育成装置において、加熱手段が同等の照射強度のレーザ光を放射する複数の矩形レーザ２ａ、…２ｅと光学手段とから構成されるとともに、溶融帯域１８の円周方向に配設されることを特徴とする。 （もっと読む）