説明

住友金属鉱山株式会社により出願された特許

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【課題】摺動性、光沢性の劣化が無く、導電性に優れ、さらに従来よりも軽量であって、液晶プロジェクタの光量調整用羽根やカメラのシャッター羽根などの光学機器部品として用いることができる遮光フィルムとその製造方法を提供する。
【解決手段】樹脂フィルム基材(A)の片面もしくは両面に50〜150nmの膜厚を有する金属遮光膜(B)と、この金属遮光膜(B)上に、20〜140nmの膜厚を有する低反射性の金属酸化物膜(C)が形成された表面粗さが0.1〜0.7μm(算術平均高さRa)の遮光フィルムであって、前記樹脂フィルム基材(A)は、内部に10〜50体積%の空洞を含有する樹脂フィルムであり、前記金属遮光膜(B)と低反射性の金属酸化物膜(C)が、いずれもニッケル、チタン、タンタル、タングステン、バナジウム、モリブデン、コバルト、ニオブ、マンガン、及びアルミニウムからなる群より選ばれた1種類以上の元素を含有することを特徴とする遮光フィルムなどにより提供する。 (もっと読む)


【課題】 使用済みニッケル水素電池から、高い浸出率でかつ効率的にニッケルを浸出させることができ、また廃液処理に際して中和剤の使用量を効果的に低減させることができるニッケルの浸出方法を提供する。
【解決手段】 使用済みニッケル水素電池の正極材から、発泡ニッケル板と活物質粉末とを分離する分離工程S1と、分離した発泡ニッケル板を硫酸溶液に投入して溶解し、ニッケルの浸出スラリーを得る第1の浸出工程S2と、第1の浸出工程S2にて得られた浸出スラリーに活物質粉末を投入して溶解し、ニッケル浸出液と浸出残渣とを得る第2の浸出工程S3と、第2の浸出工程S3にて得られたニッケル浸出液と浸出残渣とを固液分離する固液分離工程S4とを有し、固液分離工程S4にて分離された浸出残渣を、第1の浸出工程S1における硫酸溶液に投入し繰り返し浸出する。 (もっと読む)


【課題】 厚膜抵抗体の形成用ペーストに好適な、粗大粒を含まないルテニウム酸鉛微粉末を再現良く製造する方法を提供する。
【解決手段】 カリウムやナトリウムなどの不純物を実質的に含まないルテニウム酸鉛水酸化物に硫黄を添加した後、必要に応じて乾燥し、例えば温度700〜800℃×2時間の条件で空気中で焼成する。硫黄は、ルテニウム酸鉛水酸化物に対して800質量ppm以上1300質量ppm以下となるように添加するのが好ましい。 (もっと読む)


【課題】半導体ウエハの面粗化処理と反り矯正処理との両立を、ショットブラスト加工により達成する。
【解決手段】半導体ウエハ1の面粗化および形状矯正の加工方法であって、半導体ウエハ1の少なくとも一面に、表面粗さ調整用の投射材として反り矯正用の投射材よりも相対的に硬度が高く粒径が小さい粒子を用いてショットブラスト処理を行うことにより半導体ウエハ1の表面粗さを調整するとともに、反り矯正用の投射材として表面粗さ調整用の投射材よりも相対的に硬度が低く粒径が大きい粒子を用いて部分的にショットブラスト処理を行うことにより半導体ウエハ1の反りを矯正する。 (もっと読む)


【課題】高容量、高出力かつサイクル特性が良好な非水系電解質二次電池を得るための、小粒径で均一な粒径を有し、中空構造を有するリチウムニッケルマンガン複合酸化物からなる正極活物質の前駆体となる、ニッケルマンガン複合水酸化物粒子を提供する。
【解決手段】晶折反応によってニッケルマンガン複合水酸化物粒子を得る際に、少なくともNi化合物とMn化合物を含み、ニッケル、マンガンおよびコバルトと錯イオンを形成する錯イオン形成剤を含まない核生成用水溶液を、液温が60℃以上、液温25℃基準のpH値が11.5〜13.5となるように制御し、核生成を行った後、該形成された核を含有する粒子成長用水溶液を、液温が60℃以上、液温25℃基準のpH値が9.5〜11.5、かつ核生成工程におけるpH値よりも低いpH値となるように制御して前記核を成長させる。 (もっと読む)


【課題】正極中の活物質の分散性の改善が可能な表面Mn/Ni比が高く粒径均一性が高いニッケルマンガン複合水酸化物粒子、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】晶折反応によってニッケルマンガン複合水酸化物を得る際に、ニッケルを含有する金属化合物およびマンガンを含有する金属化合物とアンモニウムイオン供給体とを含む核生成用水溶液を、液温25℃基準のpH値が12.0〜13.4となるように制御して核生成を行った後、該形成された核を含有する粒子成長用水溶液を、液温25℃基準のpH値が10.5〜12.0かつ、核生成工程におけるpH値よりも低いpH値となるように制御して前記核を成長させるとともに、晶析途中から水溶液中の液体部のMn/Ni比を高くする。 (もっと読む)


【課題】金属精製工程で用いられる工程液等、高濃度の金属元素若しくは非金属元素を含んだ試料中の全有機炭素量(TOC)を定量分析する際、広範囲の有機物濃度の試料であっても特段の処理を行うこと無しにTOCの定量分析が可能な分析法を提供する。
【解決手段】この分析法は、有機物、金属元素および非金属元素を含有する溶液中の全有機炭素量を測定する方法であって、ICP発光分光分析装置を用いて全有機炭素量を定量することを特徴とする。そして、ICP発光分光分析装置を用いた本発明方法によれば、乾式酸化赤外線分析、湿式酸化赤外線分析等の従来のTOC分析法では困難であった広い定量範囲の測定が可能となり、かつ、ICP質量分析法では定量分析が困難であった高マトリックス試料液中に含まれるTOCの測定も可能となる。 (もっと読む)


【課題】 はんだ接合部の接合強度が高くて信頼性が高い半導体装置を提供する。
【解決手段】 厚さ0.01μm以上4.0μm以下、好ましくは0.01μm以上1.0μm以下のAg層を備えたはんだ接合面における接合に、Biを84質量%以上含有し、Znを0.2質量%以上13.5質量%以下含有し、Al若しくはSn又はそれら両方を合計して2.0質量%を超えて含有しておらず、Pを0.500質量%を超えて含有していないはんだが用いられている。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ローラーなどの円筒形状物又は円柱形状物の表面にフィルム状回路基板を貼り付けする際に、回路基板の伸びを抑え、配線間隔を一定に保ち、かつ回路基板端部間の段差を抑制する立体的回路基板実装体の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】円筒形状又は円柱形状の部材30の曲面に、フィルム状の回路基板10を接着して実装させた立体的回路基板実装体の製造方法であって、
絶縁性フィルム11の一方の面に配線回路12が形成された回路基板の他方の面に、接着剤層20を形成する工程と、
前記部材の外周曲面を前記接着剤層が包囲するように、前記部材の周囲に前記回路基板を配置して前記部材及び前記回路基板を円筒形状の熱収縮樹脂チューブ40に挿入する工程と、
加熱により前記熱収縮樹脂チューブを収縮させ、前記回路基板を前記部材に押圧保持する工程と、を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】極めて容易に短時間で軟質合金の分析用試料を作製することを可能とする。
【解決手段】成型容器1に入れられた軟質合金2を表面3Aが鏡面仕上げされた成型部材3の表面3Aに接した状態で加圧成型することにより、軟質合金2の分析用試料2を作製する。成型部材1は、表面の凹凸が1μm以下に鏡面仕上げされている。軟質合金2を加圧成型する際の加圧力が、60kg重/cm2以上である。軟質合金2は、展性を有する金属材料である。 (もっと読む)


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